NL8401002A - Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. - Google Patents
Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8401002A NL8401002A NL8401002A NL8401002A NL8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- mirror members
- image
- reference axis
- concave mirror
- imaging system
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0605—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors
- G02B17/0615—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors off-axis or unobscured systems in wich all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0626—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors
- G02B17/0636—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
- G02B23/02—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices involving prisms or mirrors
- G02B23/06—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices involving prisms or mirrors having a focussing action, e.g. parabolic mirror
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Astronomy & Astrophysics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
. * ' * - 1 -
Buitenassig optisch, afbeeldingsstelsel.
De uitvinding heeft betrekking op een buitenassig, optisch afbeeldingsstelsel, omvattende concave spiegel-organen en convexe spiegelorganen, die beide rotatie-symmetrisch ten opzichte van een referentie-as gelegen 5 zijn, waarbij de concave spiegelorganen en de convexe spiegelorganen zodanig zijn aangebracht, dat lichtstralen bij doorgang door het afbeeldingsstelsel afwisselend aan de concave en de convexe spiegelorganen worden gereflecteerd.
10 Er zijn verschillende optische systemen bekend voor het opwekken van beelden met vergroting een of andere vergrotingen. Bij catoptrische systemen is normaliter een deel van de opening afgedekt. Dit leidt tot een verlies aan contrast van de door deze systemen opgewekte 15 beelden. Men heeft voorgesteld om straaldelers toe te passen ter vermijding van de werkingen van deze centrale afdekking bij catoptrische systemen. Het is evenwel moeilijk deze straaldeler met grote afmetingen in een geschikte kwaliteit te vervaardigen, en de /storing, die 20 door dergelijke straaldelers ingevoerd wordt, vermindert het contrast van het beeld.
Uit het Amerikaanse octrooischrift 3.190.171 is een simulator bekend, door middel waarvan piloten kunnen oefenen in het landen op een vliegdekschip. Deze simulator 25 bevat een optisch stelsel, waardoor een virtueel beeld van een zich in het eindige bevindend voorwerp, namelijk het model van een vliegdekschip, kan worden opgewekt in het oneindige.
Dit optische stelsel is een buitenassig optisch 30 afbeeldingssysteem met een holle spiegel en een convexe spiegel, die beide rotatiesymmetrisch ten opzichte van de referentie-as naar elkaar toegekeerd zijn aangebracht.
De lichtstralen worden bij doorgang door het afbeeldingssysteem eerst aan de holle spiegel, vervolgens aan de 35 convexe spiegel en ten slotte weer aan de holle spiegel gereflecteerd. De spiegels zijn daarbij concentrisch ten opzichte van elkaar. De afstand tussen holle spiegel 8401002 ί Ί - 2 - convexe spiegel is gelijk aan de brandpuntsafstand van de bolle spiegel, dat wil zeggen de straal van de convexe spiegel is gelijk aan de halve straal van de holle spiegel. Daarbij wordt de uittreepupil, namelijk het oog van de 5 piloot, door het afbeeldingsstelsel met de vergroting een afgeheeld op een plaats, die in hetzelfde ten opzichte van de referentie-as loodrechte vlak gelegen is als de uittreepupil zelf, en centraal-symmetrisch ten opzichte van deze laatste. Het gaat daarbij evenwel niet om een 10 afbeeldingsfouten-vrije afbeelding van de uittreepupil.
Een optisch systeem van de in het Amerikaanse octrooischrift 3.190.171 toegepaste soort is bij het opwekken van een afbeelding in het genoemde, loodrecht ten opzichte van de referentie-as gelegen vlak ten op-15 zichte van alle afbeeldingsfouten van derde orde gecorrigeerd. Er blijft evenwel als afbeeldingsfout van vijfde orde een tangentiale beeldveldkromming over.
Aan de uitvinding ligt nu het doel ten grondslag een vervormingsvrij, uitsluitend reflecterend optisch 20 stelsel met de vergroting een te verschaffen, waarbij voorwerps- en beeldvlakken toegankelijk zijn, waarbij het contrast tegelijk hoog en in wezen in alle delen van het formaat constant is, en waarbij het uitrichten van het stelsel onafhankelijk is van het spectraalgebied, dat 25 bij de heeldopwekking wordt gebruikt.
Volgens de uitvinding wordt dit doel bereikt door het verschaffen van een buitenassig, optisch afbeel-dingssysteem zoals in de aanhef omschreven, met het kenmerk, dat 30 ai twee reflecties aan de convexe spiegelorganen en drie reflecties aan de concave spiegelorganen plaatsvinden, bl het afbeeldingsstelsel op aan elkaar geconjugeerde plaatsen op gelijke afstanden van de referentie-35 as een voorwerpsplaats in een ten opzichte van de referentie-as loodrecht vlak, en een beeldplaats eveneens in een ten opzichte van de referentie-as loodrecht vlak bezit, en cl de kromtestraal van de convexe spiegelorganen 40 in wezen tweederde is van de kromtestraal van de holle 8401002 -3-.
r » spiegelorganen.
Bij het optische stelsel volgens de uitvinding gaat het er om een in een ten opzichte van de referentie-as loodrecht vlak aangebracht voorwerp vrij van afbeeldings-5 fouten af te beelden in hetzelfde vlak, een probleem, dat bij het Amerikaanse octrooischrift 3-190.171 geen rol speelt.
Bij het optische systeem volgens de uitvinding wordt een tangentiale beeldveldkromming van derde orde 10 ingevoerd, die het tegengestelde teken heeft van de genoemde overblijvende tangentiale beeldveldkromming van vijfde orde. Zodoende wordt deze tangentiale beeldveldkromming van vijfde orde gecompenseerd.
Deze compensatie kan steeds slechts voor een 15 bepaalde straal geschieden. Daarom verdient het de voorkeur, dat middelen voorhanden zijn voor het begrenzen van het beeld- en voorwerpsveld op een in wezen ten opzichte van de referentie-as gecentreerd boogvormig gebied of een deel daarvan. Door er daarbij verder voor 20 te zorgen, dat de convexe spiegelorganen zodanig zijn aangebracht, dat het toppunt ervan ligt op een afstand van het toppunt van de concave spiegelorganen ongeveer gelijk aan eenderde van de kromtestraal van dê concave spiegelorganen minus een waarde, die gelijk is aan de 25 longitudinale sferische aberratie van derde orde van de concave spiegelorganen voor een aan de optische referentie-as parallelle, op de genoemde voorvastgestelde afstand daarvan lopende straal, zodat aan de beeldplaats een in wezen afbeeldingsfouten-vrij beeld wordt opgewekt 30 van een voorwerp, dat zich op de door de veldbegrenzings-middelen begrensde voorwerpsplaats bevindt, wordt er voor gezorgd, dat een afbeeldingsfouten-vrije afbeelding wordt opgewekt. Bij voorkeur is er verder in voorzien, dat middelen aanwezig zijn voor het gelijktijdig langs-35 voeren van een uitgebreid voorwerp aan de voorwerpsplaats en een beeldontvangend oppervlak aan de beeldplaats.
Hierdoor kan het beeld streepsgewijs worden afgetast, waarbij de afbeelding van de boogvormige streep op de beschreven wijze steeds vrij van afbeeldingsfouten 40 plaatsvindt.
8401002 i ï - 4 -
Een dergelijke afbeeldingsfouten-vrije afbeelding van een voorwerp in een boogvormige streep vindt bij het optische stelsel volgens het Amerikaanse octrooischrift 3.190.171 niet plaats, en is daar ook niet mogelijk. Er 5 zijn daarbij ook geen speciale kritische voorwaarden, zoals in het bovenstaande omschreven, gesteld, en evenmin is er sprake van een streepsgewijze aftasting.
De uitvinding zal thans nader worden toegelicht aan de hand van een uitvoeringsvoorbeeld onder verwijzing 10 naar de tekening. In de tekening toont: fig. 1 schematisch in..zijaanzicht een afbeeldings-stelsel volgens de uitvinding, en fig. 2 een aanzicht langs de lijn 2“2 van fig. 1.
15 Het afbeeldingsstelsel., getoond in de tekening, bevat twee sferische spiegels, namelijk een convexe spiegel 40 en een concave spiegel 41. De beide spiegels, zijn gelijkassig, dat wil zeggen rotatiesymmetrisch ten opzichte van een referentie-as SA aangebracht. De convexe 20 spiegel is toegekeerd naar de concave spiegel. Beide spiegels 40 en 41 bezitten een •gemeenschappelijk, kromtepunt P, dat op referentie-as is gelegen. De straal van de convexe spiegel 40 bedraagt tweederde van de straal van de concave spiegel 41.
25 In het door het punt P gaande, ten opzichte van de referentie-as SA loodrechte vlak zijn op ten opzichte van elkaar geconjugeerde plaatsen op gelijke afstanden H van de referentie-as SA een voorwerpsplaats O en een beeldplaats I gedefinieerd.
30 Zoals uit fig. 1 blijkt, worden de van de voorwerpsplaats O uitgaande stralen bij 42 een eerste maal gereflecteerd aan de concave spiegel 41 en op de convexe spiegel 40 geworpen. Aan de convexe spiegel 4Q worden zij een eerste maal bij 43 gereflecteerd. De 35 stralen vallen dan weer op de concave spiegel 41. Er vindt een tweede reflectie plaats aan de concave spiegel 41 bij 44, waardoor de stralen een tweede maal op de convexe spiegel 40 worden geleid. Door deze worden zij bij 45 gereflecteerd en teruggekaatst naar de concave 40 spiegel 41. Daar ondergaan zij bij 46 een derde reflectie 8401002 * - 5 - ff % en wekken dan aan de beeldplaats I een beeld van de voorwerpsplaats O op. De lichtstralen worden zodoende bij doorgang door het afbeeldingsstelsel afwisselend aan de concave en convexe spiegels 40, 41 gereflecteerd, 5 waarbij twee reflecties aan de convexe spiegel 40 en drie reflecties aan de concave spiegel 41 plaatsvinden.
Bij de aangegeven keuze van de stralen en het beschreven aantal reflecties is de algebraïsche som. van brekings-krachten van de toegepaste reflecterende oppervlakken nul.
10 Zoals in fig. 2 is weergegeven, is in het, het punt P en voorwerps- en beeldplaats O resp. X bevattende, ten opzichte van de referentie-as loodrechte vlak een masker 47 aangebracht, dat een gekromde spleet met de straal H vertoont. Het masker 47 is zodanig aangebracht, 15 dat het kromtemiddelpunt van de spleet samenvalt met het punt P, waarover de reflecterende vlakken van de spiegels 40, 41 zijn gekromd. Daardoor wordt het beeld- en voorwerpsveld op een de beeldplaats I resp. de voorwerpsplaats O bevattend, ten opzichte van de referentie-as SA 20 gecentreerd, boogvormig gebied begrensd. Het door het masker 47 vrijgegeven deel van het voorwerpsveld wordt stigmatisch op een overeenkomstig gekromd, de beeldplaats I bevattend vlak in het beeldveld af geheeld. Dat komt, omdat alle delen van het voorwerp en het beeld, die in 25 de spleet of in het beeld van de spleet liggen, op dezelfde afstand H van het punt P gelegen zijn, voor welk het afbeeldingssysteem is gecorrigeerd. Het masker 47 kan ook zijn aangebracht in een beeldveld bij I, ook is het mogelijk om een masker aan te brengen zowel aan de 30 voorwerpsplaats Q als aan de beeldplaats I.
Zoals uit fig. X te zien is, is onder de in het bovenstaande aangegeven condities de convexe spiegel 40 op een zodanige plaats aangebracht, dat lichtstralen 48, die op de referentie-as SA bij 49 op de concave 35 spiegel vallen en in de ruimte tussen de concave spiegel 41 en de voorwerpsplaats 0 of de beeldplaats I parallel een de referentie-as SA zijn, door het door het masker 47 begrensde beeld- en voorwerpsveld heen treden. Zodoende wordt het afbeeldingsstelsel voor de voorwerpsplaats 40 avocaal. Aan de beeldplaats I wordt een in wezen afbeel- 8401002 - 6 - . «· -¾ dingsfouten-vrij beeld van een zich aan de voorwerps-plaats 0 bevindend voorwerp opgewekt.
- conclusies - 8401002
Claims (2)
1. Buitenassig, optisch, afbeeldingsstelsel, omvattende concave spiegelorganen en convexe spiegelorganen, die beide rotatiesymmetrisch. ten opzichte van een referentie-as gelegen zijn, waarbij de concave spiegelorganen en de 5 convexe spiegelorganen zodanig zijn aangebracht, dat lichtstralen bij doorgang door het afbeeldingsstelsel afwisselend aan de concave en de convexe spiegelorganen worden gereflecteerd, met het kenmerk, dat a) twee reflecties aan de convexe spiegelorganen 10 en drie reflecties aan de concave spiegelorganen plaatsvinden, b) het afbeeldingsstelsel op aan elkaar geconjugeerde plaatsen op gelijke afstanden van de referentie-as (SA} een voorwerpsplaats (0) in een ten opzichte 15 van de referentie-as (SA) loodrecht vlak, en een beeldplaats (L) eveneens in een ten opzichte van de referentie-as (SA) loodrecht vlak bezit, en c) de kromtestraal van de convexe spiegelorganen (40) in wezen tweederde is van de kromtestraal van de 20 holle spiegelorganen (41).
2. Buitenassig, optisch afbeeldingsstelsel volgens conclusie l,met het kenmerk, dat a) middelen (15) voorhanden zijn voor het begrenzen van het beeld- en voorwerpsveld op een in wezen 25 ten opzichte van referentie-as (SA) gecentreerd boogvormig gebied of een deel daarvan, b) de convexe spiegelorganen (40) zodanig zijn aangebracht, dat het toppunt ervan ligt op een afstand van het toppunt van de concave spiegelorganen (41) 30 ongeveer gelijk aan eenderde van de kromtestraal van de concave spiegelorganen minus een waarde, die gelijk is aan de longitudinale sferische aberratie van derde orde van de concave spiegelorganen (41) voor een aan de optische referentie-as (SA) parallelle, op de genoemde 35 voorvastgestelde afstand (H) daarvan lopende straal, zodat aan de beeldplaats (L) een in wezen afbeeldings-fouten-vrij beeld wordt opgewekt van een voorwerp, 8401002 v*· ^ r - 8 - dat zich op de door de veldbegrenzingsmiddelen (15) begrensde voorwerpsplaats (0) bevindt, en c) middelen aanwezig zijn voor het gelijktijdig langsvoeren van een uitgebreid voorwerp aan de voorwerps-5 plaats (0) en een beeldontvangend oppervlak aan de beeldplaats (L) . 8401002
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15494871A | 1971-06-21 | 1971-06-21 | |
US15494871 | 1971-06-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8401002A true NL8401002A (nl) | 1984-07-02 |
Family
ID=22553496
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE7208478,A NL176711C (nl) | 1971-06-21 | 1972-06-21 | Buitenassig catoptrisch optisch afbeeldingsstelsel. |
NL8401001A NL8401001A (nl) | 1971-06-21 | 1984-03-29 | Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. |
NL8401002A NL8401002A (nl) | 1971-06-21 | 1984-03-29 | Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE7208478,A NL176711C (nl) | 1971-06-21 | 1972-06-21 | Buitenassig catoptrisch optisch afbeeldingsstelsel. |
NL8401001A NL8401001A (nl) | 1971-06-21 | 1984-03-29 | Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3748015A (nl) |
JP (3) | JPS5751083B1 (nl) |
KR (1) | KR790000468B1 (nl) |
BR (1) | BR7203998D0 (nl) |
CA (1) | CA970611A (nl) |
CH (1) | CH552222A (nl) |
DE (1) | DE2230002C2 (nl) |
FR (1) | FR2143493B1 (nl) |
GB (1) | GB1401687A (nl) |
IL (1) | IL39693A (nl) |
IT (1) | IT956732B (nl) |
NL (3) | NL176711C (nl) |
SE (1) | SE383423B (nl) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111665688A (zh) * | 2016-10-14 | 2020-09-15 | 佳能株式会社 | 投影光学***、曝光装置及物品制造方法 |
Families Citing this family (192)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4011011A (en) * | 1973-03-09 | 1977-03-08 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical projection apparatus |
US3951546A (en) * | 1974-09-26 | 1976-04-20 | The Perkin-Elmer Corporation | Three-fold mirror assembly for a scanning projection system |
JPS6039205B2 (ja) * | 1975-07-02 | 1985-09-05 | キヤノン株式会社 | 反射光学系 |
CA1090183A (en) * | 1976-09-22 | 1980-11-25 | David A. Markle | System for illuminating an annular field |
US4293186A (en) * | 1977-02-11 | 1981-10-06 | The Perkin-Elmer Corporation | Restricted off-axis field optical system |
CA1103498A (en) * | 1977-02-11 | 1981-06-23 | Abe Offner | Wide annulus unit power optical system |
JPS5453867A (en) * | 1977-10-06 | 1979-04-27 | Canon Inc | Printing device |
JPS5467443A (en) * | 1977-11-09 | 1979-05-30 | Canon Inc | Observer |
US4241390A (en) * | 1978-02-06 | 1980-12-23 | The Perkin-Elmer Corporation | System for illuminating an annular field |
US4205902A (en) * | 1978-10-12 | 1980-06-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Laser beam expander |
US4226501A (en) * | 1978-10-12 | 1980-10-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Four mirror unobscurred anastigmatic telescope with all spherical surfaces |
US4240707A (en) * | 1978-12-07 | 1980-12-23 | Itek Corporation | All-reflective three element objective |
US4288148A (en) * | 1979-08-29 | 1981-09-08 | The Perkin-Elmer Corporation | Beam-splitting optical system |
FR2466786A1 (fr) * | 1979-10-05 | 1981-04-10 | Thomson Csf | Dispositif catadioptre et systeme comportant un tel dispositif |
US4331390A (en) * | 1979-10-09 | 1982-05-25 | The Perkin-Elmer Corporation | Monocentric optical systems |
US4272152A (en) * | 1979-10-15 | 1981-06-09 | The Perkin-Elmer Corporation | Unit magnification relay systems |
JPS5677815A (en) * | 1979-11-28 | 1981-06-26 | Canon Inc | Optical reflection system |
US4362384A (en) * | 1981-05-01 | 1982-12-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Means for providing uniform illumination to a light sensitive element |
US4391494A (en) * | 1981-05-15 | 1983-07-05 | General Signal Corporation | Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer |
CA1171555A (en) | 1981-05-15 | 1984-07-24 | Ronald S. Hershel | Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer |
JPS57192929A (en) * | 1981-05-25 | 1982-11-27 | Hitachi Ltd | Projector provided with automatic focusing function |
JPS58173836A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | コントロ−ル・デ−タ・コ−ポレ−シヨン | 投影整列装置 |
US4444492A (en) * | 1982-05-15 | 1984-04-24 | General Signal Corporation | Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer |
US4469414A (en) * | 1982-06-01 | 1984-09-04 | The Perkin-Elmer Corporation | Restrictive off-axis field optical system |
JPS6093410A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-25 | Canon Inc | 反射光学系 |
JPS612124A (ja) * | 1984-06-14 | 1986-01-08 | Canon Inc | 結像光学系 |
US4812028A (en) * | 1984-07-23 | 1989-03-14 | Nikon Corporation | Reflection type reduction projection optical system |
JPS61110214A (ja) * | 1984-11-05 | 1986-05-28 | Yoshida Kogyo Kk <Ykk> | 自動扉の開口幅制御装置 |
US4779966A (en) * | 1984-12-21 | 1988-10-25 | The Perkin-Elmer Corporation | Single mirror projection optical system |
US4711535A (en) * | 1985-05-10 | 1987-12-08 | The Perkin-Elmer Corporation | Ring field projection system |
JPH0524404Y2 (nl) * | 1985-08-23 | 1993-06-22 | ||
JPS6235732U (nl) * | 1985-08-23 | 1987-03-03 | ||
US4734829A (en) * | 1985-11-12 | 1988-03-29 | The Perkin-Elmer Corporation | Short arc lamp image transformer |
EP0237041B1 (en) * | 1986-03-12 | 1993-08-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Projection optical system for use in precise copy |
US4757354A (en) * | 1986-05-02 | 1988-07-12 | Matsushita Electrical Industrial Co., Ltd. | Projection optical system |
US4707711A (en) * | 1986-05-15 | 1987-11-17 | Lumonics Inc. | Character imaging system |
GB8612609D0 (en) * | 1986-05-23 | 1986-07-02 | Wynne C G | Optical imaging systems |
EP0252734B1 (en) * | 1986-07-11 | 2000-05-03 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray reduction projection exposure system of reflection type |
US4747678A (en) * | 1986-12-17 | 1988-05-31 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical relay system with magnification |
US4746205A (en) * | 1987-01-30 | 1988-05-24 | Westinghouse Electric Corp. | High energy laser beam replica producing method and system |
JPS6450004U (nl) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | ||
JPH01226684A (ja) * | 1988-03-04 | 1989-09-11 | Toshiba Corp | エレベーター装置 |
US4913524A (en) * | 1988-05-12 | 1990-04-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Synthetic imaging technique |
US4933714A (en) * | 1988-05-31 | 1990-06-12 | The Perkin-Elmer Corporation | Apparatus and method for reproducing a pattern in an annular area |
US5040882A (en) * | 1988-11-07 | 1991-08-20 | General Signal Corporation | Unit magnification optical system with improved reflective reticle |
US4964705A (en) * | 1988-11-07 | 1990-10-23 | General Signal Corporation | Unit magnification optical system |
US5078502A (en) * | 1990-08-06 | 1992-01-07 | Hughes Aircraft Company | Compact afocal reimaging and image derotation device |
US5315629A (en) * | 1990-10-10 | 1994-05-24 | At&T Bell Laboratories | Ringfield lithography |
US5212588A (en) * | 1991-04-09 | 1993-05-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Reflective optical imaging system for extreme ultraviolet wavelengths |
JPH04333011A (ja) * | 1991-05-09 | 1992-11-20 | Nikon Corp | 反射縮小投影光学装置 |
US5298939A (en) * | 1991-11-04 | 1994-03-29 | Swanson Paul A | Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning |
JPH06118341A (ja) * | 1991-11-11 | 1994-04-28 | Topcon Corp | 走査型投影装置 |
US5221975A (en) * | 1991-11-12 | 1993-06-22 | Eastman Kodak Company | High resolution scanner |
US5255114A (en) * | 1991-11-12 | 1993-10-19 | Eastman Kodak Company | High resolution scanner |
US5225678A (en) * | 1991-11-13 | 1993-07-06 | Connecticut Instrument Corporation | Spectoscopic sampling accessory having dual measuring and viewing systems |
JPH05249379A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Topcon Corp | 広フィールド露光光学系 |
IL101570A0 (en) * | 1992-04-10 | 1992-12-30 | Amir Alon | Method and apparatus for reading data |
US5822042A (en) * | 1992-11-12 | 1998-10-13 | International Business Machines Corporation | Three dimensional imaging system |
US5323263A (en) * | 1993-02-01 | 1994-06-21 | Nikon Precision Inc. | Off-axis catadioptric projection system |
IL106009A0 (en) * | 1993-06-14 | 1993-10-20 | Amir Alon | Method and apparatus for the simultaneous writing of data on an optical disk |
JPH0756090A (ja) * | 1993-08-17 | 1995-03-03 | Topcon Corp | 走査型投影光学系 |
IL107181A0 (en) * | 1993-10-04 | 1994-01-25 | Nogatech Ltd | Optical disk reader |
US5515207A (en) * | 1993-11-03 | 1996-05-07 | Nikon Precision Inc. | Multiple mirror catadioptric optical system |
JPH07191274A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Canon Inc | 画像表示装置 |
IL113789A (en) * | 1994-05-23 | 1999-01-26 | Hughes Aircraft Co | A non-focusing device with three hinged mirrors and a corrective mirror |
US5548394A (en) * | 1995-03-16 | 1996-08-20 | Printrak International Inc. | Scanning fingerprint reading |
US5625448A (en) * | 1995-03-16 | 1997-04-29 | Printrak International, Inc. | Fingerprint imaging |
JP2565149B2 (ja) * | 1995-04-05 | 1996-12-18 | キヤノン株式会社 | 回路の製造方法及び露光装置 |
US5512759A (en) * | 1995-06-06 | 1996-04-30 | Sweatt; William C. | Condenser for illuminating a ringfield camera with synchrotron emission light |
US7317529B1 (en) | 1999-10-18 | 2008-01-08 | J.A. Woollam Co., Inc. | Aspects of producing, directing, conditioning, impinging and detecting spectroscopic electromagnetic radiation from small spots on samples |
US7317530B2 (en) * | 2003-08-28 | 2008-01-08 | J.A. Woollam Co., Inc. | Combined spatial filter and relay systems |
US7304792B1 (en) | 2003-08-25 | 2007-12-04 | J.A. Woollam Co., Inc. | System for sequentially providing aberation corrected electromagnetic radiation to a spot on a sample at multiple angles of incidence |
US7245376B2 (en) * | 1995-09-20 | 2007-07-17 | J. A. Woollam Co., Inc. | Combined spatial filter and relay systems in rotating compensator ellipsometer/polarimeter |
US7304737B1 (en) | 1995-09-20 | 2007-12-04 | J.A. Woollam Co., Inc | Rotating or rotatable compensator system providing aberation corrected electromagnetic raadiation to a spot on a sample at multiple angles of a incidence |
US5805365A (en) * | 1995-10-12 | 1998-09-08 | Sandia Corporation | Ringfield lithographic camera |
US5883703A (en) * | 1996-02-08 | 1999-03-16 | Megapanel Corporation | Methods and apparatus for detecting and compensating for focus errors in a photolithography tool |
US5748365A (en) * | 1996-03-26 | 1998-05-05 | Hughes Electronics | Catadioptric one-to-one telecentric image combining system |
US5717518A (en) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Kla Instruments Corporation | Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system |
US6403124B1 (en) * | 1997-04-16 | 2002-06-11 | Sigma-Tau Industrie Farmaceutiche Riunite S.P.A. | Storage and maintenance of blood products including red blood cells and platelets |
US5960016A (en) * | 1997-06-05 | 1999-09-28 | The Regents Of The University Of California | Aberration-free, all-reflective laser pulse stretcher |
US5956192A (en) * | 1997-09-18 | 1999-09-21 | Svg Lithography Systems, Inc. | Four mirror EUV projection optics |
US5917594A (en) * | 1998-04-08 | 1999-06-29 | Kla-Tencor Corporation | Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements |
DE19923609A1 (de) * | 1998-05-30 | 1999-12-02 | Zeiss Carl Fa | Ringfeld-4-Spiegelsysteme mit konvexem Primärspiegel für die EUV-Lithographie |
US6577443B2 (en) | 1998-05-30 | 2003-06-10 | Carl-Zeiss Stiftung | Reduction objective for extreme ultraviolet lithography |
US6331904B1 (en) | 1998-07-16 | 2001-12-18 | Siros Technologies, Inc. | Reflection optics reference beam telescope |
US6104511A (en) * | 1998-07-16 | 2000-08-15 | Siros Technologies, Inc. | Reflector-based off-axis optical system for holographic storage |
US6426506B1 (en) * | 1999-05-27 | 2002-07-30 | The Regents Of The University Of California | Compact multi-bounce projection system for extreme ultraviolet projection lithography |
US6304315B2 (en) | 1999-08-31 | 2001-10-16 | Eastman Kodak Company | High speed high resolution continuous optical film printer for duplicating motion films |
US6542307B2 (en) | 2000-10-20 | 2003-04-01 | Three-Five Systems, Inc. | Compact near-eye illumination system |
US6563648B2 (en) | 2000-10-20 | 2003-05-13 | Three-Five Systems, Inc. | Compact wide field of view imaging system |
US6522403B2 (en) | 2000-12-04 | 2003-02-18 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Computed tomography imaging spectrometer (CTIS) with 2D reflective grating for ultraviolet to long-wave infrared detection especially useful for surveying transient events |
US6416181B1 (en) | 2000-12-15 | 2002-07-09 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic optical apparatus and method |
CN100439964C (zh) | 2000-12-21 | 2008-12-03 | 泽泰迪克研究所 | 反射和反折射成象*** |
DE10115875A1 (de) * | 2001-03-30 | 2002-10-10 | Heidelberger Druckmasch Ag | Bebilderungseinrichtung für eine Druckform mit einer Makrooptik vom Offner-Typ |
NZ511257A (en) * | 2001-04-20 | 2003-05-30 | Ind Res Ltd | Imaging system having a dual cassegrain-like format |
US6752498B2 (en) | 2001-05-14 | 2004-06-22 | Eastman Kodak Company | Adaptive autostereoscopic display system |
US6702442B2 (en) * | 2002-03-08 | 2004-03-09 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic optical apparatus using resonant fiber-optic image generation |
US6550918B1 (en) | 2002-03-19 | 2003-04-22 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic viewing apparatus using resonant fiber-optic image generation |
US6768585B2 (en) | 2002-05-02 | 2004-07-27 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic optical apparatus using a scanned linear electromechanical modulator |
JP2004004256A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Sony Corp | 光走査装置及び2次元画像形成装置 |
US20030226968A1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-11 | Steve Montellese | Apparatus and method for inputting data |
US6779892B2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-24 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic optical display having an expanded color gamut |
US6678308B1 (en) | 2002-09-06 | 2004-01-13 | The Boeing Company | Laser resonator system using offner relay |
DE10245559A1 (de) * | 2002-09-30 | 2004-04-08 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Kamera |
US7199876B2 (en) * | 2002-12-31 | 2007-04-03 | Wavefront Research, Inc. | Compact hyperspectral imager |
US7061611B2 (en) * | 2002-12-31 | 2006-06-13 | Wavefront Research, Inc. | Refractive relay spectrometer |
US7084983B2 (en) * | 2003-01-27 | 2006-08-01 | Zetetic Institute | Interferometric confocal microscopy incorporating a pinhole array beam-splitter |
KR20050098268A (ko) * | 2003-01-27 | 2005-10-11 | 제테틱 인스티튜트 | 트렌치의 특성을 측정하는 간섭 공초점 현미경에 사용되는누설 유도파 모드 |
US7164480B2 (en) * | 2003-02-04 | 2007-01-16 | Zetetic Institute | Compensation for effects of mismatch in indices of refraction at a substrate-medium interface in non-confocal, confocal, and interferometric confocal microscopy |
US6717736B1 (en) | 2003-02-13 | 2004-04-06 | Zetetic Institute | Catoptric and catadioptric imaging systems |
US7133139B2 (en) * | 2003-02-19 | 2006-11-07 | Zetetic Institute | Longitudinal differential interferometric confocal microscopy |
JP2006518488A (ja) * | 2003-02-19 | 2006-08-10 | ゼテテック インスティテュート | 暗視野干渉共焦点顕微鏡使用の方法及び装置 |
US7054077B2 (en) | 2003-04-01 | 2006-05-30 | Zetetic Institute | Method for constructing a catadioptric lens system |
WO2004090465A2 (en) * | 2003-04-01 | 2004-10-21 | Zetetic Institute | Apparatus and method for joint measurement of fields of scattered/reflected or transmitted orthogonally polarized beams by an object in interferometry |
US7064838B2 (en) * | 2003-04-03 | 2006-06-20 | Zetetic Institute | Apparatus and method for measurement of fields of backscattered and forward scattered/reflected beams by an object in interferometry |
US6940645B2 (en) * | 2003-04-22 | 2005-09-06 | Eastman Kodak Company | Monocentric autostereoscopic optical apparatus with a spherical gradient-index ball lens |
US7130020B2 (en) * | 2003-04-30 | 2006-10-31 | Whitney Theodore R | Roll printer with decomposed raster scan and X-Y distortion correction |
US7158215B2 (en) | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
WO2005008334A2 (en) | 2003-07-07 | 2005-01-27 | Zetetic Institute | Apparatus and method for high speed scan for detection and measurement of properties of sub-wavelength defects and artifacts in semiconductor and mask metrology |
US7324209B2 (en) * | 2003-07-07 | 2008-01-29 | Zetetic Institute | Apparatus and method for ellipsometric measurements with high spatial resolution |
US7355722B2 (en) * | 2003-09-10 | 2008-04-08 | Zetetic Institute | Catoptric and catadioptric imaging systems with adaptive catoptric surfaces |
WO2005031397A2 (en) * | 2003-09-26 | 2005-04-07 | Zetetic Institute | Catoptric and catadioptric imaging systems with pellicle and aperture-array beam-splitters and non-adaptive and adaptive catoptric surfaces |
WO2005033747A2 (en) * | 2003-10-01 | 2005-04-14 | Zetetic Institute | Method and apparatus for enhanced resolution of high spatial frequency components of images using standing wave beams in non-interferometric and interferometric microscopy |
US7245408B1 (en) | 2003-10-10 | 2007-07-17 | Zebra Imaging, Inc. | Systems and methods for producing wide field-of-view holographic displays |
US7345771B2 (en) * | 2004-05-06 | 2008-03-18 | Zetetic Institute | Apparatus and method for measurement of critical dimensions of features and detection of defects in UV, VUV, and EUV lithography masks |
TW200538704A (en) * | 2004-05-21 | 2005-12-01 | Zetetic Inst | Apparatus and methods for overlay, alignment mark, and critical dimension metrologies based on optical interferometry |
FR2872592B1 (fr) * | 2004-07-02 | 2006-09-15 | Thales Sa | Chaine amplificatrice pour la generation d'impulsions lumineuses ultracourtes de durees d'impulsions differentes |
US7161680B2 (en) * | 2004-08-16 | 2007-01-09 | Zetetic Institute | Apparatus and method for joint and time delayed measurements of components of conjugated quadratures of fields of reflected/scattered and transmitted/scattered beams by an object in interferometry |
WO2006023612A2 (en) * | 2004-08-19 | 2006-03-02 | Zetetic Institute | Sub-nanometer overlay, critical dimension, and lithography tool projection optic metrology systems based on measurement of exposure induced changes in photoresist on wafers |
US7315352B2 (en) * | 2004-09-02 | 2008-01-01 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Offner imaging system with reduced-diameter reflectors |
US7173686B2 (en) * | 2004-09-02 | 2007-02-06 | Agilent Technologies, Inc. | Offner imaging system with reduced-diameter reflectors |
US7145663B2 (en) * | 2004-09-20 | 2006-12-05 | Zetetic Institute | Catoptric imaging systems comprising pellicle and/or aperture-array beam-splitters and non-adaptive and/or adaptive catoptric surfaces |
US7199877B2 (en) * | 2004-10-20 | 2007-04-03 | Resonon Inc. | Scalable imaging spectrometer |
US7184124B2 (en) * | 2004-10-28 | 2007-02-27 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus having an adjustable projection system and device manufacturing method |
CN100386662C (zh) * | 2005-03-14 | 2008-05-07 | 上海理工大学 | 全息凸面光栅光刻光路设计方法 |
US7359050B1 (en) | 2005-04-08 | 2008-04-15 | Wavefront Research, Inc. | Compact triple pass hyperspectral imager |
US7330258B2 (en) * | 2005-05-27 | 2008-02-12 | Innovative Technical Solutions, Inc. | Spectrometer designs |
WO2007016502A2 (en) * | 2005-08-02 | 2007-02-08 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Synthesis of arrays of oligonucleotides and other chain molecules |
US7545446B2 (en) * | 2005-08-27 | 2009-06-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Offner relay for projection system |
DE102005044910B3 (de) * | 2005-09-14 | 2007-03-15 | Jena-Optronik Gmbh | Schiefspiegler-Teleskop mit drei Spiegelflächen |
US20070109520A1 (en) * | 2005-11-17 | 2007-05-17 | Whitney Theodore R | Modular illuminator for a scanning printer |
US8203710B1 (en) | 2006-06-12 | 2012-06-19 | Wavefront Research, Inc. | Compact wide field fast hyperspectral imager |
DE102007033967A1 (de) * | 2007-07-19 | 2009-01-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv |
DE102008049588B4 (de) * | 2008-09-30 | 2018-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Abbildungseinrichtung, Mikroskop und Abbildungsverfahren für die Mikroskopie |
DE102008049589A1 (de) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Abbildungseinrichtung und Abbildungsverfahren für die Mikroskopie |
US8274720B2 (en) * | 2009-02-15 | 2012-09-25 | Kessler Optics and Photonics Solutions, Ltd. | Concentric afocal beam relay |
US8531750B2 (en) | 2009-02-15 | 2013-09-10 | Kessler Optics & Photonics Solutions, Ltd. | Afocal beam relay |
US7929129B2 (en) * | 2009-05-22 | 2011-04-19 | Corning Incorporated | Inspection systems for glass sheets |
US8271120B2 (en) * | 2009-08-03 | 2012-09-18 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Method and system for processing optical elements using magnetorheological finishing |
US8780440B2 (en) * | 2009-08-03 | 2014-07-15 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Dispersion compensation in chirped pulse amplification systems |
DE102009037815B4 (de) | 2009-08-18 | 2016-06-09 | Sintermask Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines dreidimensionalen Objektes |
DE102009050163A1 (de) * | 2009-10-21 | 2011-04-28 | Lfk-Lenkflugkörpersysteme Gmbh | Optische Einrichtung für ein Visier |
US7933067B1 (en) | 2010-03-09 | 2011-04-26 | Raytheon Company | Flat field Schmidt telescope with extended field of view |
US8139289B2 (en) | 2010-07-27 | 2012-03-20 | Corning Incorporated | Precision optical mount |
US8493670B2 (en) | 2010-09-10 | 2013-07-23 | Coherent, Inc. | Large-field unit-magnification catadioptric projection system |
GB201019181D0 (en) * | 2010-11-12 | 2010-12-29 | Univ Leicester | Improved optical arrangement |
EP2646803B1 (en) * | 2010-12-01 | 2024-01-17 | Siemens Healthineers Nederland B.V. | Sensor device with double telecentric optical system |
US9429742B1 (en) * | 2011-01-04 | 2016-08-30 | Nlight, Inc. | High power laser imaging systems |
US9409255B1 (en) * | 2011-01-04 | 2016-08-09 | Nlight, Inc. | High power laser imaging systems |
US10095016B2 (en) | 2011-01-04 | 2018-10-09 | Nlight, Inc. | High power laser system |
US8823932B2 (en) | 2011-04-04 | 2014-09-02 | Corning Incorporated | Multi field of view hyperspectral imaging device and method for using same |
US8659823B2 (en) | 2011-04-22 | 2014-02-25 | Coherent, Inc. | Unit-magnification catadioptric and catoptric projection optical systems |
US9720244B1 (en) | 2011-09-30 | 2017-08-01 | Nlight, Inc. | Intensity distribution management system and method in pixel imaging |
US8786943B2 (en) | 2011-10-27 | 2014-07-22 | Eastman Kodak Company | Low thermal stress catadioptric imaging system |
US8830580B2 (en) | 2011-10-27 | 2014-09-09 | Eastman Kodak Company | Low thermal stress catadioptric imaging optics |
DE102012200851B3 (de) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | Bruker Optik Gmbh | Infrarot(=IR)-Mikroskop mit Bildfeldkrümmungs-Kompensation und zusätzlicher Ausleuchtungsoptimierung im Beobachtunqsstrahlenqang des sichtbaren Lichts |
JP5650157B2 (ja) * | 2012-05-23 | 2015-01-07 | 東芝テック株式会社 | 結像素子アレイ及び画像形成装置 |
US9810825B2 (en) | 2012-07-13 | 2017-11-07 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Curved volume phase holographic (VPH) diffraction grating with tilted fringes and spectrographs using same |
US9310248B2 (en) | 2013-03-14 | 2016-04-12 | Nlight, Inc. | Active monitoring of multi-laser systems |
DE102013105205B4 (de) | 2013-05-22 | 2020-06-10 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Abbildungsoptik für Laserstrahlen, Vorrichtung zur Werkstückbearbeitung sowie Verfahren zur Herstellung einer Abbildungsoptik |
EP2857810A1 (en) * | 2013-10-02 | 2015-04-08 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Monolith spectrometer |
KR102099722B1 (ko) | 2014-02-05 | 2020-05-18 | 엔라이트 인크. | 단일-이미터 라인 빔 시스템 |
JP6344933B2 (ja) * | 2014-03-03 | 2018-06-20 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
DE102014005790A1 (de) | 2014-04-16 | 2015-10-22 | Carl Zeiss Ag | Abbildungsoptik für Laserstrahlen |
DE102014118880A1 (de) | 2014-12-17 | 2016-06-23 | Rofin-Baasel Lasertech Gmbh & Co. Kg | Optische Einrichtung zur Modulation der spektralen Phase von Laserpulsen |
GB2543592B (en) * | 2016-03-30 | 2018-08-01 | The Science And Tech Facilities Council | Imaging a retina of an eye |
US20170329113A1 (en) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | Raytheon Company | Compact five-reflection optical system as a unity magnification finite conjugate relay |
US10816795B2 (en) | 2016-11-28 | 2020-10-27 | Amalgamated Vision, Llc | Wearable display for near-to-eye viewing |
US10345562B2 (en) | 2017-02-07 | 2019-07-09 | Raytheon Company | All-reflective solar coronagraph sensor and thermal control subsystem |
US10845582B2 (en) | 2018-06-07 | 2020-11-24 | Raytheon Company | All-reflective solar coronagraph sensor and thermal control subsystem |
GB201811903D0 (en) | 2018-07-20 | 2018-09-05 | Univ Oxford Innovation Ltd | Scanning laser ophthalmoscopes |
DE102019203560A1 (de) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | Bruker Optik Gmbh | IR-Mikroskop |
US11340451B2 (en) | 2019-06-19 | 2022-05-24 | Amalgamated Vision, Llc | Wearable display for near-to-eye viewing with expanded beam |
US11719576B2 (en) | 2019-11-01 | 2023-08-08 | California Institute Of Technology | Mid-wave and long-wave infrared point spectrometer |
US11762181B2 (en) | 2019-12-26 | 2023-09-19 | Kessler Optics and Photonics Solutions Ltd. | Scanning microscope with enhanced FOV and NA |
EP4091012A4 (en) | 2020-01-16 | 2023-07-26 | Magic Leap, Inc. | SCANNING MIRROR SYSTEMS AND METHODS OF MANUFACTURING |
DE102020122449A1 (de) | 2020-08-27 | 2022-03-03 | Carl Zeiss Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen von Abbildern eines Lichtquellenarrays |
DE102020216123A1 (de) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | Carl Zeiss Ag | Belichtungseinrichtung, Vorrichtung und Verfahren zur additiven Fertigung eines Werkstücks |
WO2022211789A1 (en) | 2021-03-30 | 2022-10-06 | Qioptiq Photonics Gmbh & Co. Kg | Panel inspection device and method for inspecting a panel |
DE102021111728A1 (de) | 2021-05-05 | 2022-11-10 | General Atomics Synopta GmbH | Sphärisches Spiegelsystem für eine Freiraumkommunikation mit Satelliten mit beugungsbegrenzter Abbildungsqualität und hoher Transmission |
KR20230099850A (ko) * | 2021-12-28 | 2023-07-05 | 삼성전자주식회사 | 이미징 어셈블리 및 이를 포함하는 분광 영상 타원분광기 |
DE102022201002A1 (de) | 2022-01-31 | 2023-08-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3062101A (en) * | 1959-05-29 | 1962-11-06 | Perkin Elmer Corp | Anastigmatic catoptric systems |
US3190171A (en) * | 1960-06-07 | 1965-06-22 | Oxford Corp | Viewing device having optical arrangement producing virtual image at infinity |
US3527526A (en) * | 1965-05-26 | 1970-09-08 | Ernest W Silvertooth | Catoptric image-forming system in which light is reflected twice from each surface |
NL6701520A (nl) * | 1967-02-01 | 1968-08-02 | ||
US3508813A (en) * | 1967-03-24 | 1970-04-28 | Instrumentation Labor Inc | Adjustable slit system for use in spectroanalysis apparatus |
-
1971
- 1971-06-21 US US00154948A patent/US3748015A/en not_active Expired - Lifetime
-
1972
- 1972-06-15 IL IL39693A patent/IL39693A/xx unknown
- 1972-06-19 CH CH912972A patent/CH552222A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-06-19 CA CA145,065A patent/CA970611A/en not_active Expired
- 1972-06-20 SE SE7208106A patent/SE383423B/xx unknown
- 1972-06-20 BR BR3998/72A patent/BR7203998D0/pt unknown
- 1972-06-20 DE DE2230002A patent/DE2230002C2/de not_active Expired
- 1972-06-20 KR KR7200961A patent/KR790000468B1/ko active
- 1972-06-20 FR FR7223254A patent/FR2143493B1/fr not_active Expired
- 1972-06-21 NL NLAANVRAGE7208478,A patent/NL176711C/nl not_active IP Right Cessation
- 1972-06-21 IT IT25968/72A patent/IT956732B/it active
- 1972-06-21 GB GB2914072A patent/GB1401687A/en not_active Expired
- 1972-06-21 JP JP47062278A patent/JPS5751083B1/ja active Pending
-
1979
- 1979-06-21 JP JP54077620A patent/JPS5817932B2/ja not_active Expired
- 1979-06-21 JP JP54077621A patent/JPS5817933B2/ja not_active Expired
-
1984
- 1984-03-29 NL NL8401001A patent/NL8401001A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-03-29 NL NL8401002A patent/NL8401002A/nl not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111665688A (zh) * | 2016-10-14 | 2020-09-15 | 佳能株式会社 | 投影光学***、曝光装置及物品制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL39693A0 (en) | 1972-08-30 |
NL176711C (nl) | 1985-05-17 |
FR2143493B1 (nl) | 1977-12-23 |
GB1401687A (en) | 1975-07-30 |
US3748015A (en) | 1973-07-24 |
IL39693A (en) | 1975-02-10 |
IT956732B (it) | 1973-10-10 |
NL7208478A (nl) | 1972-12-27 |
DE2230002A1 (de) | 1973-01-11 |
CA970611A (en) | 1975-07-08 |
NL176711B (nl) | 1984-12-17 |
KR790000468B1 (en) | 1979-05-20 |
CH552222A (de) | 1974-07-31 |
JPS5517197A (en) | 1980-02-06 |
JPS5817932B2 (ja) | 1983-04-11 |
BR7203998D0 (pt) | 1973-06-05 |
JPS5751083B1 (nl) | 1982-10-30 |
JPS5517196A (en) | 1980-02-06 |
FR2143493A1 (nl) | 1973-02-02 |
DE2230002C2 (de) | 1984-11-22 |
JPS5817933B2 (ja) | 1983-04-11 |
SE383423B (sv) | 1976-03-08 |
NL8401001A (nl) | 1984-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL8401002A (nl) | Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. | |
EP0007039B1 (en) | Holographic head-up display system | |
WO1991006028A1 (en) | F-υ lens | |
GB1148979A (en) | Image-forming system | |
US4848896A (en) | Eye refractometer | |
KR880700290A (ko) | 등급식 인덱스 비구형 결합기 및 이를 사용하는 표시 시스템 | |
NL8000166A (nl) | Inrichting voor het door projectie kopieren van maskers op een werkstuk. | |
WO1988007698A1 (en) | Optical scanner | |
JPH0810160B2 (ja) | 結像分光器 | |
US2730926A (en) | Catadioptric telephoto objective systems | |
US20190216302A1 (en) | Angle-selective optical system, stereo video endoscope having such a system, and method for manufacturing same | |
US6661447B2 (en) | Image-recording device for a printing form having macrooptics of the offner type | |
JPH0130125B2 (nl) | ||
US4234240A (en) | Optical scanning system with unwanted reflections controlled | |
KR920704172A (ko) | 프린터용 복사 소스 | |
GB1357655A (en) | Optical devices | |
WO2015057306A1 (en) | Optical beam scanning system having a synthetic center of beam rotation | |
US2593724A (en) | Microscope with reflecting objective | |
US3517582A (en) | Albada viewfinder | |
NL1001952C2 (nl) | Telescoop met groot gezichtsveld. | |
US6297916B1 (en) | Imaging lens for interferometric device | |
US3603794A (en) | Apparatus for transducing infrared images into visible images utilizing a liquid light control layer | |
EP4209169A1 (en) | Ophthalmic optical system, ophthalmic objective lens, and ophthalmic device | |
SE454027B (sv) | Optisk-mekanisk avsokningsanordning | |
JPH023168B2 (nl) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1A | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
BV | The patent application has lapsed |