NL7810509A - Anti-glare coating formed on glass - includes an inorganic coating which reflects IR radiation - Google Patents

Abstract

Structure is formed on >=1 sheet of transparent glass having a first, inorganic coating of a material which reflects infra-red radiations and which is a transparent semicondcutor, and exhibits irisations in daylight. Specifically, the coating is superimposed on a second coating which forms a means for reducing the irisations of the first coating by producing at least two interfaces are presented which, together with the mass of the second coating, from a means for reflecting and refracting light. Used as antidazzle glass in buildings, vehicles, etc. The irisations are reduced so that daylight glare is diminished.

Description

%\ -Ji 4 - . 1 l Ψ% \ -Yi 4 -. 1 l Ψ

Roy Gerald, Gordon , Cambridge, Massachusetts, Ver. St. v. AmerikaRoy Gerald, Gordon, Cambridge, Massachusetts, Ver. St. v. America

Niet-iriserende glasstructuren.Non-iridescent glass structures.

De uit vinding hee it het rekking qp glasstructuren, die een dunne, fisxctionele anorganische bekleding dragen (hijvoorbeeld een bekleding van tinoryde, dat een middel is voor het bevorderen van de reflect! viteit van infrarood licht}, welke structuren een verbeterd uiter-5 lijk bezitten als gevolg van een verminderde i rise ring, welke ixisezing historisch verbonden is met de-ze dunne bekledingen en op werkwijzen voor het verkrijgen vsn de bovengenoemde structuren.The invention has the elongation of glass structures carrying a thin functional inorganic coating (for example, a coating of tinoryde which is a means of promoting the reflectivity of infrared light), which structures have an improved appearance. due to a reduced rise ring, which has been historically associated with these thin coatings and methods of obtaining the above structures.

Glas en andere transparante materialen kinnen worden bekleed met transparante halfgeleiderfilms, zoals tinoryde, indium- .Glass and other transparent chins materials are coated with transparent semiconductor films, such as tinoryde, indium.

10 ooyde of cadmiumstannaat, teneinde infrarode straling te reflecteren. Der-gelijke materialen zijn bruikbaar voor het verschaffen van vensters met een verbeterde isolatie-waarde (lager warmtetransport) in ovens, architecturale vensters, etc. Bekledingen van deze zelfde materialen geleiden eveneens elektriciteit en worden gebruikt als weerstandsvexhitters voor 15 het verwarmen van ruiten bij voertuigen teneinde vocht aanslag (mist) of ijs te verwijderen.10 or cadmium stannate, to reflect infrared radiation. Such materials are useful for providing windows with an improved insulation value (lower heat transfer) in furnaces, architectural windows, etc. Coatings of these same materials also conduct electricity and are used as resistance heaters for heating windows in vehicles in order to remove moisture (mist) or ice.

Een bezwaarlijk aspect van deze beklede vensters is dat zij interfarentiekleuren (irisering) vertonen in gereflecteerd licht en in mindere mate in doorgelaten licht. Deze irisering vormde een 20 ernstige barrière voor de wijd verspreide toepassing van deze beklede vensters (zie bijvoorbeeld American Institute of Physics Conference Proceeding No. 25, New ïork, 1975» peg. 288).A drawback of these coated windows is that they exhibit interfarence colors (iridescence) in reflected light and to a lesser extent in transmitted light. This iridescence was a serious barrier to the widespread use of these coated windows (see, for example, American Institute of Physics Conference Proceeding No. 25, Nework, 1975, peg. 288).

Onder sommige omstandigheden, dat wil zeggen wanneer het glas tamelijk dcsdter van toen ia (bijvoorbeeld met een lichtdoor-25 lating van minder dan ongeveer 25 %), wordt deze irisering gedempt en kan deze worden getolereerd. Bij de meeste architecturale wand- en venster-toepassingen is het i raserende effect, dat normaal gepaard gaat met bekledingen van minder dan ongeveer 0,75 aderen, echter voor veel mensen esthetisch onaanvaardbaar (zie bijvoorbeeld Amerikaans octrooi schrift 30 3.710.07*0. Weinig of geen sueoes is bereikt met het aanzienlijk vermin deren of elimineren van de bezwaarlijke en duidelijke irisering bij helde- 78 1 05 0 9 \ 2 re, blauwgroene en licht getinte glassoorten.Under some circumstances, that is, when the glass is quite dddd then (for example, with a light transmittance of less than about 25%), this iridescence is attenuated and can be tolerated. However, in most architectural wall and window applications, the rasping effect, normally associated with coatings of less than about 0.75 veins, is aesthetically unacceptable to many people (see, for example, U.S. Pat. No. 3,710,07 * 0. Little or no sueoes has been achieved by substantially reducing or eliminating the objectionable and obvious iridescence in clear, blue-green and light-tinted glasses.

Iriseren de kleuren zijn een tamelijk algemeen verschijnsel bij transparante films met een dikte-traject van ongeveer 0,1-1 micron, in het bijzonder bij dikten beneden ongeveer 0,85 micron. On-5 gelukkigerwijze is juist dit dikte-traject van praktisch belang bij de meeste technische toepassingen. Half gelei de rbek le dingen, dunner dan engere er 0,1 micron, vertonen geen intersferentiekleuren, maar dergelijke dunne bekledingen vertonen een duidelijk inferieure reflectie van infrarood licht en een duidelijk verminderd vermogen voor het geleiden ven elektri-10 citeit.Iridescent colors are a fairly common phenomenon with transparent films having a thickness range of about 0.1-1 microns, especially at thicknesses below about 0.85 microns. Unfortunately, this thickness range is of practical importance in most technical applications. Semiconductors, thinner than narrower 0.1 microns, do not exhibit intersferential colors, but such thin coatings exhibit markedly inferior reflectance of infrared light and a markedly reduced power for conducting electricity.

Bekledingen, dikker dan ongeveer 1 micron, vertonen eveneens geen zichtbare ixisering bij belichting in daglicht, maar dergelijke dikke bekledingen leiden tot hogere vervaardigingskosten, omdat grotere hoeveelheden bekledingsm&terialen nodig zijn en de voor de afzetting 15 van de bekleding benodigde tijd overeenkomstig langer is. Verder hebben films, dikker dan 1 micron, de neiging een troebeling te vertonen, die voortkomt uit de lichtverstrooiing door oppe rvlakte- on re ge Imati ghe den, die groter zijn cp een dergelijke film. Ook vertonen dergelijke films een grotere neiging tot barsten onder thermische spanning vanwege het verschil 20 in de thermische uitzetting.Coatings thicker than about 1 micron also do not exhibit visible fixation upon exposure in daylight, but such thick coatings lead to higher manufacturing costs because larger amounts of coating materials are required and the time required for coating deposition is correspondingly longer. Furthermore, films thicker than 1 micron tend to exhibit a haze resulting from the light scattering by surface areas larger than such a film. Also, such films exhibit a greater tendency to crack under thermal stress because of the difference in thermal expansion.

Als resultaat van deze technische en economische factoren omvat nagenoeg de gehele huidige technische produktie van dergelijke beklede glas voorwerpen films in het dikte-t reject van ongeveer 0,1-0,3 micron, die uitgesproken iriserende kleuren vertonen. In de archi-25 tectuur wordt momenteel nagenoeg geen gebruik gemaakt van dit beklede glas, ondanks het feit dat het voordelig zou zijn dit te doen vanwege de hiermee bereikbare energiebesparing. Het warmteverlies door infrarood-streling door de glasoppervlakken van een verwarmd gebouw kan bijvoorbeeld, ongeveer de helft bedragen van het warmteverlies door onbeklede vensters.As a result of these technical and economic factors, almost all of the current technical production of such coated glass articles includes films in the thickness-rejection of about 0.1-0.3 microns, which exhibit pronounced iridescent colors. At the present time, virtually no use is made of this coated glass in the architecture, despite the fact that it would be advantageous to do so because of the energy savings that can be achieved with it. For example, the heat loss from infrared radiation through the glass surfaces of a heated building can be about half the heat loss from uncoated windows.

30 De aanwezigheid van iriserende kleuren op deze beklede glas pro dikten is de belangrijkste reden voor het niet toepassen van deze bekledingen.The presence of iridescent colors on these coated glass thicknesses is the main reason for not applying these coatings.

De uitvinding beoogt te voorzien in een middel voor het elimineren van de zichtbare irisering uit halfgeleidende dunne film-bekledingen op glas onder handhaving van hun gevente eigenschappen van 35 zichtbare transparantie, infrarood-reflectiviteit en elektrisch gelei-dings vermogen, 78 1 0 5 0 9The object of the invention is to provide a means for eliminating the visible iridescence from semiconductor thin film coatings on glass while maintaining their visible properties of visible transparency, infrared reflectivity and electric conductivity, 78 1 0 5 0 9

, : * ·' .'· V,: * · '.' · V

. 3 '' in het bereiken ran de bovengenoemde doeleinden zonder aanzienlijke -verhoging -ren de produktiekoeten in -vergelijking net de kosten bij toepassing van gewone iriserende films, in het bereiken van de bovengenoemde doeleinden cn-5 der toepassing van een proces, dat continu is en volledig kan worden ingepast in de moderne vervaardigingspxoceesen in de glasindustrie, in het bereiken van de bovengenoemde doeleinden met produkten, die in hoge mate duurzaam en bestand tegen licht, chemicaliën en mechanische slijtage zijn, 10 in het hereiken van de bovengencemde doeleinden on- , ^ der gebruikmaking van materialen, die in voldoende mate voorhanden en gemakkelijk beschikbaar zijn cm de wijd -verspreide toepassing mogelijk te maken, in een nieuwe dubbel-geglaasde structuur, die een 15 ultrar-dmne, infrarood-reflectieve stof draagt, welke structuur vrij is van een bezwaarlijke i rise ring, in een glasstructuur, omvattende een samengestelde bekleding, waarbij een buitenbekleding wordt gevormd uit een infrarood-reflecterend oppervlak van ongeveer 0,7 micron of minder en waarbij een 20 binnenbekleding voorziet in middelen voor (a) bet verminderen van de troebeling op het beklede glas en gelijktijdig en onafhankelijk (b) het verminderen van de ixisering van de glasstructuur door middel van een coherente toevoeging van gereflecteerd licht, en in een glasstructuur met de bovengenoemde niet-25 iriserende eigenschappen, welke structuur wordt gekarakteriseerd door een trapsgewijze of een geleidelijke verandering in de békledingsaamenatel-ling tussen glas en lucht.. 3 '' in achieving the aforementioned purposes without significant increase in production rates compared to the cost of using ordinary iridescent films, in achieving the above purposes in using a process that is continuous and can be fully integrated into the modern manufacturing processes in the glass industry, in achieving the above-mentioned purposes with products which are highly durable and resistant to light, chemicals and mechanical abrasion, in keeping with the above-mentioned objectives, Using materials that are sufficiently available and readily available to allow for widespread use in a new double-glazed structure, which carries an ultra-thin, infrared-reflective fabric which is free of structure of an objectionable rise ring, in a glass structure, comprising a composite coating, whereby an outer coating is formed d from an infrared reflecting surface of about 0.7 microns or less and wherein an inner coating provides means for (a) reducing cloudiness on the coated glass and simultaneously and independently (b) reducing the ixization of the glass structure by means of a coherent addition of reflected light, and in a glass structure having the above non-iridescent properties, which structure is characterized by a stepped or gradual change in the coating interplay between glass and air.

Andere doeleinden van de uitvinding zullen duidelijk worden uit de cnderstasnde beschrijving.Other objects of the invention will become apparent from the detailed description.

30 Volgens ëén aspect van de uitvinding wordt gebruik gemaakt van de vorming van één of méér lagen van transparant materiaal tussen het glas en de halfgeleiderfilm. Deze lagen bezitten brekingsindices, die liggen tussen die van het glas en de halfgeleiderfilm. Bij geschikte keuzen van de dikte- en brekingsindex-waarden kinnen, zoals ge-35 vonden werd, de iriserende kleuren te zwak worden gemaakt om waarneembaar te kunnen zijn voor de meeste mensen en zeker te zwak om Oen belemmering 78 1 05 0 9 >1 % k te vormen voor de wijd verspreide technische toepassing, zelfs bij architecturale toepassingen. Geschikte materialen voor deze intermediaire lagen zovel als werkwijzen voor de vorming van deze lagen zijn hieronder eveneens beschreven.According to one aspect of the invention, use is made of the formation of one or more layers of transparent material between the glass and the semiconductor film. These layers have indices of refraction that lie between those of the glass and the semiconductor film. Appropriate choices of the thickness and refractive index values of chins, as has been found, make the iridescent colors too dim to be observable for most people and certainly too dim to obstruct 78 1 05 0 9> 1 % k for the widespread technical application, even in architectural applications. Suitable materials for these intermediate layers as much as methods of forming these layers are also described below.

5 Een andere nieuwe methode volgens de uitvinding is het assembleren van twee glasoppervlakken met bekledingen, van elkaar gescheiden door 0,25 van een zichtbare golflengte-dikte (bijvoorbeeld ongeveer 0,07 micron vanneer tinoxyde-bekledingen vorden gebruikt) in register met elkaar op zodanige wijze, dat licht, dat de i rise rende kleuren 10 zou vormen, incoherent wordt toegevoegd, waardoor een eventueel ongewenst i rise rend effect tot beneden de drempel van esthetische bezwaren qp doeltreffende wijze wordt verminderd.Another new method of the invention is to assemble two glass surfaces with coatings separated by 0.25 of a visible wavelength thickness (for example, about 0.07 microns of tin oxide coatings are used) in register with one another that light which would form the rising colors 10 is inconsistently added, thereby effectively reducing any unwanted rising effect below the threshold of aesthetic drawbacks.

Voorbeelden van deze uitvinding omvatten dubbel geglaasde vensters (ruiten) met één bekleding qp elke plaat of een enkel-15 voudige glasplaat met een bekleding op elk glasoppervlak.Examples of this invention include double glazed windows (panes) with one cladding on each sheet or a single 15-ply glass sheet with a cladding on each glass surface.

Een verenigend aspect van deze verschillende uitvoeringsvormen is dat zij alle gebruik maken van een dwne half geleide labelt le ding, congruent aangebracht met een tweede bekleding, die een middel vormt voor het aanzienlijk verminderen van de i rise ring door te voorzien 20 in tenminste twee verdere tussenvlakken, die, met de massa van de tweede bekleding, middelen vormen voor bet reflecteren en breken van licht qp zodanige wijze, dat hierdoor de waarneming van iriseren de kleuren in aanzienlijke mate wordt belemmerd.A unifying aspect of these different embodiments is that they all utilize a dwne semiconductor label lead, congruently applied with a second coating, which is a means of significantly reducing the rise ring by providing at least two further interfaces which, with the mass of the second coating, form means for reflecting and refracting light in such a way as to significantly obstruct the perception of iridescence the colors.

Vanwege het subjectieve karakter van de kleurwaar-25 neming wordt gemeend dat het wenselijk is een beschrijving te geven van de methodes en veronderstellingen, die gebruikt zijn bij het evalueren van de produkten volgens de uitvinding. Men dient zich echter te realiseren dat de toepassing van een groot gedeelte van de hieronder beschreven theorie retrospectief van aard is omdat de informaties noodzakelijker-30 wijze achteraf worden verschaft, dat wil zeggen door een deskundige die bekend is met de hier beschreven uitvinding.Because of the subjective nature of the color perception, it is believed desirable to describe the methods and assumptions used in evaluating the products of the invention. However, it should be realized that the use of much of the theory described below is retrospective in nature because the information is necessarily provided afterwards, ie by one skilled in the art of the invention described herein.

Teneinde een geschikte kwantitatieve evaluatie te verkrijgen van de verschillende mogelijke constructies, die iriseren de kleuren onderdrukken, werden de intensiteiten van dergelijke kleuren be-35 rekend cnder gebruikmaking van optische gegevens en kleurvaarnemings- gegevens. Bij deze discussie worden de filmlagen verondersteld vlak te 78 1 0 5 0 9 . .. 5.In order to obtain an appropriate quantitative evaluation of the various possible constructions that suppress iridescent colors, the intensities of such colors were calculated using optical data and color observation data. In this discussion, the film layers are assumed to be flat 78 1 0 5 0 9. .. 5.

zijn met een uniforme dikte en een mi forme brekingsindex binnen elke laag. De brekingsinderveranderingen vorden aangenomen abrupt te zijn bij de tussenvlakken tussen de aangrenzende filmlagen. Werkelijke brekingsindices vorden gebruikt, overeenkomende met verwaarloosbare absoxptie-5 verliezen binnen de lagen. De reflectie-coëfficiënten vorden bepaald voor normaal invallende vlakke golven van ongepolariseerd licht.with a uniform thickness and a micro refractive index within each layer. The refractive changes are believed to be abrupt at the interfaces between the adjacent film layers. Actual refractive indices are used, corresponding to negligible absorption-5 losses within the layers. The reflection coefficients are determined for normally incident planar waves of unpolarized light.

Onder gebruikmaking van de bovengenoemde vooronderstellingen vorden de amplitudes voor de reflectie en doorlating uit elk tussenvlak berekend met de formules van Fresnel. Vervolgens vorden deze ï'' 10 amplitudes opgeteld, waarbij rekening vordt gehouden met de fase-verschillen, bewerkstelligd door de voortplanting door de betreffende lagen.Using the above assumptions, the amplitudes for the reflectance and transmittance from each interface were calculated using Fresnel's formulas. Subsequently, these 10 amplitudes are added, taking into account the phase differences effected by the propagation through the respective layers.

Deze resultaten zijn gebleken equivalent te zijn aan de formules van Airy (zie bijvoorbeeld Opties of Thin Films, F. Khittl, Wiley and Sons,These results have been shown to be equivalent to Airy's formulas (see, for example, Options of Thin Films, F. Khittl, Wiley and Sons,

Nev York, 1976) voor de veelvoudige reflectie en interferentie in dunne 15 films, vanneer deze formules, toegepast op dezelfde gevallen, in beschouwing ver den genomen.Nev York, 1976) for the multiple reflectance and interference in thin films, these formulas applied to the same cases have been considered.

De berekende intensiteit van gereflecteerd licht is gebleken te variëren met de golflengte en vordt dus bij zekere kleuren meer vergroot dan bij andere. Ter berekening van de gereflecteerde kleur, 20 die gezien vordt door een waarnemer, ie het wenselijk eerst de spectrale verdeling van het invallende licht te specificeren. Voor dit doel kan men gebruikmaken van de International Commission of Illumination Standard Illuminant C, die een normale belichting met daglicht benadert. De spectrale verdeling van het gereflecteerde licht ie het produkt van de be-23 rekende reflectie-coëfficiënt en het spectrum van Illuminant C. De kleurtint en de kleurverzadiging als gezien bij reflectie door een menselijke vaernemer vorden vervolgens berekend uit dit gereflecteerde spectrum onder gebruikmaking van da uniforme kleurschalen, zoals die welke in de techniek bekend zijn. Een van de bruikbare scheden is die beschre-30 ven door Hunter in Food Technology, Vol. 21, pag. 100-105 (1967). Deze schaal is gebruikt bij het afleiden van de hieronder te beschrijven relatie.The calculated intensity of reflected light has been found to vary with the wavelength and thus increases with certain colors more than with others. To calculate the reflected color seen by an observer, it is desirable to first specify the spectral distribution of the incident light. For this purpose, one can use the International Commission of Illumination Standard Illuminant C, which approaches normal daylight exposure. The spectral distribution of the reflected light, ie the product of the calculated reflection coefficient and the spectrum of Illuminant C. The color tone and the color saturation as seen by reflection by a human entrepreneur are then calculated from this reflected spectrum using data uniform color scales, such as those known in the art. One of the useful sheaths is that described by Hunter in Food Technology, Vol. 21, p. 100-105 (1967). This scale has been used in deriving the relationship described below.

De resultaten van berekeningen voor elke combinatie ven brekingsindices en dikten Van de lagen zijn een stel getallen, 35 dat vil zeggen ”a" en "b”. "a" vertegenwoordigt een rode (indien positief) of een groene (indien negatief) kleurtint, terwijl "b" een gele (indien 7810509 % 6 positief) of "blauwe (indien negatief) tint beschrijft. Deze kleurtint-resultaten zijn bruikbaar bij het controleren van de berekeningen ten opzichte ven de waarneembare kleuren van monsters, waaronder die volgens de uitvinding. Een enkelvoudig getal, "c", stelt voor de "kleurverzadi-5 ging": c * (a + b' ) . Deze kleurverzadigingsindex, V', staat in di rect verband met het vermogen van het oog de lastige iriseren de kleurtinten vaar te nemen. Wanneer de verzadigingsindex beneden een zekere vaarde ligt is men niet in staat enige kleur in het gereflecteerde licht te zien. De numerieke vaarde van deze drenpelverzadiging voor de vaar· 10.. neembaarheid is afhankelijk van de gebruik te speciale uniforme kleurschaal en van de vaaxnemingsomstandigheden en de mate van de belichting (zie bijvoorbeeld B.S. Hunter, The Measurement of Appearance, Wiley and Sons, Nev York, 1973, voor een recent overzicht met betrekking tot numerieke kleurschalen).The results of calculations for each combination of refractive indices and thicknesses of the layers are a set of numbers, which say "a" and "b". "a" represents a red (if positive) or a green (if negative) hue, while "b" describes a yellow (if 7810509% 6 positive) or "blue (if negative) hue. These hue results are useful in checking the calculations against the observable colors of samples, including those according to the invention A single number, "c", represents the "color saturation": c * (a + b '). This color saturation index, V "is directly related to the eye's ability to overcome the tricky iridescence. When the saturation index is below a certain level, one is unable to see any color in the reflected light. The numerical value of this saturation saturation for navigation · 10 .. acceptability depends on the use of a special uniform color scale and on the collection conditions and the degree of exposure (see for example BS Hunter, The Measurement of Appearance, Wiley and Sons, Nev Y ork, 1973, for a recent review of numerical color scales).

15 Teneinde een basis voor de vergelijking van struc15 In order to provide a basis for the comparison of struc

turen vast te stellen verd een eerste reeks berekeningen uitgevoerd tanende een enkelvoudige half geleiderlaag cp glas na te bootsen. De brekingsindex van de half geleiderlaag verd genomen als 2,0, velke vaarde die van tinoxyde-, indiumoxyde- of cadmiumstannaat-films benadert. De vaarde 2Q 1,52 verd gebruikt voor het glassubstraat; dit is een vaarde, die typisch is voor technisch vensterglas. De berekende kleurverzadigingsvaarden zijn in figuur 1 afgezet als functie van de half geleide rfilmdikte. De kleurverzadiging blijkt hoog te zijn voor reflecties uit films in het dikte-traject van 0,1-0,5 micron. Voor films, dikker dan 0,5 micron, neemt de 25 kleurverzadiging af met toenemende dikte. Deze resultaten zijn in overeenstemming met kwalitatieve waarnemingen bij feitelijke films. De uitgesproken oscillaties worden veroorzaakt door de variërende gevoeligheid van het oog voor verschillende spectrale golflengten. Elk van de pieken komt overeen met een speciale kleur, zoals aangegeven cp de curve (Rpeering to determine a first series of calculations performed while simulating a single semiconductor layer to simulate glass. The refractive index of the semiconductor layer decreased as 2.0, which is close to that of tin oxide, indium oxide or cadmium stannate films. The value 2Q 1.52 was used for the glass substrate; this is a characteristic characteristic of technical window glass. The calculated color saturation values are plotted in Figure 1 as a function of the semiconductor film thickness. The color saturation appears to be high for reflections from films in the 0.1-0.5 micron thickness range. For films thicker than 0.5 microns, the color saturation decreases with increasing thickness. These results are consistent with qualitative observations on actual films. The pronounced oscillations are caused by the eye's varying sensitivity to different spectral wavelengths. Each of the peaks corresponds to a special color, as indicated on the curve (R.

30 rood, Y = geel, G = groen en B - blauw).30 red, Y = yellow, G = green and B - blue).

Onder gebruikmaking van deze resultaten verd de minimaal waarneembare vaarde van de kleurverzadiging vastgesteld met het volgende experiment: tinoxyde films met continu variërende dikte tot ongeveer 1,5 micron werden af ge zet cp glasplaten door oxydatie van tetramethyl-35 tindamp. Het dikte-profiel verd vastgesteld door een teaperatuurvariatie van ongeveer 1*50°C tot 500°C door het glasoppervlak. Het dikte-profiel 781 05 0 9 -Λ ·%'' . λ : Τ: verd vervolgens gemeten door vaaxneming van de in terfte ren tierenden onder monochromatisch licht. Bij vaaxneming onder diffuus daglicht vertoonden de films interfterentiekleuren cp de correcte plaatsen, aangegeven in figuur 1. De geded. ten van de films met dikten, groter dan 0,85 micron, 5 vertoonden geen vaarneenbare intereferentiekleuren in diffuus daglicht.Using these results, the minimal perceptible value of the color saturation was determined by the following experiment: tin oxide films of continuously varying thickness up to about 1.5 microns were deposited on glass plates by oxidation of tetramethyl-35 tin vapor. The thickness profile is determined by a temperature variation of about 1 * 50 ° C to 500 ° C through the glass surface. The thickness profile 781 05 0 9 -Λ% ''. λ: Τ: then, measured by sampling the terrestrial tenses under monochromatic light. When taken under diffused daylight, the films showed interfering colors at the correct positions, indicated in Figure 1. The deed. Of the films with thicknesses greater than 0.85 microns, 5 did not show compatible interferential colors in diffuse daylight.

De groene piek, die berekend werd te liggen bij een dikte van 0,88 micron, kon niet worden gezien. De vaai&eeabaAXheidsdxeapel ligt daarom boven 8 van deze kleureenheden. Op analoge wijze kon de berekende blauwe piek bij 0,03/u niet worden gezien, zodat de drexapel ligt boven 11 kleurt 10 eenheden, de berekende waarde voor deze piek. Een zwak rode piek bij 0,81^u kon echter worden gezien onder goede waaroemngsomstandigheden, bijvoorbeeld bij toepassing vat een zwart fluwelen achtergrond en geen gekleurde voorwerpen in het gereflecteerde ziohtveld, zodat de drempel ligt beneden 13 kleuxeenheden, berekend voor deze kleur. Uit deze onder-15 zoekingen wordt geconcludeerd dat de dreapel voor de waazneming van gereflecteerde kleur ligt tussen 11 en 13 kleuxeenheden op deze schaal en daarom werd een waarde van 12 eenheden aangenomen als vaaxneembaarheids-drempel van gereflecteerde kleur onder daglicht-vaaxnemingsomstandigbeden.The green peak, which was calculated to be 0.88 microns thick, could not be seen. Therefore, the feaeaaxitydxeapel is above 8 of these color units. Analogously, the calculated blue peak at 0.03 / h could not be seen, so the drexapel is above 11 colors 10 units, the calculated value for this peak. However, a faint red peak at 0.81 µm could be seen under good viewing conditions, for example, when applied, has a black velvet background and no colored objects in the reflected field of view, so that the threshold is below 13 kleux units calculated for this color. From these studies, it is concluded that the bubble for reflected color haze is between 11 and 13 kleux units on this scale, and therefore a value of 12 units was adopted as the threshold of reflectance of reflected color under daylight conditions.

Een kleurverzadiging van meer dan 12 eenheden verschijnt met andere 20 woorden als een zichtbaar gekleurde iriaering, terwijl een kleurverzadiging van minder dan 12 eenheden wordt gezien als neutraal.In other words, a color saturation of more than 12 units appears as a visibly colored irradiation, while a color saturation of less than 12 units is considered neutral.

Aangenomen wordt dat er weinig bezwaar zal bestaan tegen de technische toepassing van produkten met kleurverzadigingsvaar-den van 13 of minder. Het ia echter van voorkeur dat de waarde 12 ofnin-25 der is en zoals hieronder meer uitvoerig zal worden toegelicht is er geen praktische reden waarom de meeat voordelige pxodukten volgens de uitvinding, dat vil zeggen die welke worden gekarakteriseerd door volledig kleurvrije oppervlakken, dat vil zeggen beneden ongeveer 8, niet economisch zouden kunnen worden vervaardigd.It is believed that there will be little objection to the technical application of products with color saturation rates of 13 or less. However, it is preferred that the value is 12 or less and as will be explained in more detail below, there is no practical reason why the more advantageous px products of the invention, that is, those characterized by completely color-free surfaces, that say below about 8, could not be manufactured economically.

30 Een vaarde Van 12 of minder is een indicatie voor een reflectie, die de kleur van een gereflecteerd beeld niet cp waarneembare wijze vernietigt. Deze drempelwaarde van 12 eenheden wordt aangenomen als een kwantitatieve standaard, waarmee men het succes of het falen van variërende multilaag-ontvexpen bij het onderdrukken van de iriseren-35 de kleuren kan bepalen.30 A value of 12 or less is indicative of a reflection which does not destroy the color of a reflected image in an observable manner. This 12 unit threshold is adopted as a quantitative standard by which one can determine the success or failure of varying multilayer decouples in suppressing the iridescent colors.

Bekledingen met een dikte van 0,85 micron of groter 78 1 0 5 0 9 8 'bezitten kleurverzadi gingsvaarden ran minder dan deze drempelwaarde van 12, zoals blijkt uit figuur 1. De proeven, beschreven in voorbeeld XV, bevestigen dat deze dikkere bekledingen geen bezwaarlijke iriseren de kleuren vertonen bij belichting in daglicht.Coatings with a thickness of 0.85 micron or greater 78 1 0 5 0 9 8 'have color saturation properties less than this threshold of 12 as shown in Figure 1. The tests described in Example XV confirm that these thicker coatings do not objectionable iridescence the colors show when exposed in daylight.

5 Toepassing van een enkelvoudige laag tussen glas en halfgeleider.5 Application of a single layer between glass and semiconductor.

Eén uitvoeringsvorm van de uitvinding omvat de toepassing van een enkelvoudige onderbekleding voor het voorkomen van gereflecteerde kleurverzadiging. Deze vereist de toepassing van een zorgvuldig gekozen enkelvoudige laag met een brekingsindex (n^), die inter-10 mediair is tussen de brekingsindex van het glas (n^ of ongeveer 1,52) en de brekinlindex van de halfgeleider (n of ongeveer 2,0). Een inter- SC 1/2 mediaire brekingsindex, die het geometrisch gemiddelde n. * (η n .) ' 1 SC gx of ongeveer 1,7^ is» zal resulteren in de reflecties uit de twee oppervlakken van de intermediaire laag met dezelfde amplitudo. Door kiezen van 15 de dikte van de intermediaire laag van 1/U golflengte neutraliseren deze twee gereflecteerde golven elkaar en leveren zij geen bijdrage aan de iriserende kleuren. Deze neutralisering is exact bij slechts één enkele golflengtevaarde en de golflengte moet zorgvuldig worden gekozen. Daarom werd een onderzoek uit gevoerd teneinde de waarden te vinden, die de kleur-20 verzadigingsindex verlagen voor halfgeleiderfilms, in het bijzonder in het diktetraject van Q,15-0,^u, welke halfgeleiders in het bijzonder van belang zijn voor de varnrte-reflectie en bijzondere moeilijkheden veroorzaakten met betrekking tot de i rise ring. De optimale intermediaire film-dikte voor een cnderbekleding (dat wil zeggen een bekleding tussen glas 25 en halfgeleider) bleek ongeveer 0,072^u (72 nanometer) te zijn, hetgeen overeenkomt met 1/U golflengte voor een (vacuum) golflengte van 500 nanometer. De kleurverzadiging blijft beneden de drempelwaarde van 12 eenheden voor halfgeleiderfilms van alle dikten, zoals blijkt uit de curve in figuur 1. De gebruikelijke sterke iriserende kleuren uit een vaxmte-30 reflecterende film met een dikte van bijvoorbeeld 0,3^u kan dus zelfs door deze enkelvoudige intermediaire film-onderbekleding worden onderdrukt.One embodiment of the invention includes the use of a single undercoat to prevent reflected color saturation. This requires the use of a carefully selected single layer with a refractive index (n ^), which is intermediate between the refractive index of the glass (n ^ or about 1.52) and the refractive index of the semiconductor (n or about 2 , 0). An inter-SC 1/2 median refractive index, which is the geometric mean n. * (η n.) '1 SC gx or approximately 1.7 ^ is »will result in the reflections from the two surfaces of the intermediate layer with the same amplitudes. By choosing the thickness of the 1 / U wavelength intermediate layer, these two reflected waves neutralize each other and do not contribute to the iridescent colors. This neutralization is exact at only a single wavelength value and the wavelength must be carefully chosen. Therefore, an investigation was conducted to find the values which lower the color saturation index for semiconductor films, especially in the thickness range of 0.15-0.00 µm, which semiconductors are of particular interest to the var. caused reflection and particular difficulties with regard to the i rise ring. The optimal intermediate film thickness for a substrate coating (ie, a coating between glass and semiconductor) was found to be about 0.072 µm (72 nanometers), which corresponds to 1 µU wavelength for a (vacuum) wavelength of 500 nanometers. The color saturation remains below the threshold value of 12 units for semiconductor films of all thicknesses, as can be seen from the curve in figure 1. The usual strong iridescent colors from a vaxmte-30 reflective film with a thickness of, for example, 0.3 μm can even be these single intermediate film undercoats are suppressed.

De gevoeligheid van deze enkelvoudige anti-irise ren de ondczbekle dings laag voor variaties in de brekingsindex en de dik-35 te werd onderzocht. Veranderingen van + 0,02 in de brekingsindex of +, 10Ü in de dikte zijn voldoende om de kleurverzadiging te verhogen tot waar- 78 1 0 5 0 9 9 neembare vaarden. Een accurate regeling van deze parameters kan worden bereikt bij bekende glasbekledingsbewerkingen. Bet Amerikaanse octrooi-schrift 3.850.679 beschrijft bijvoozheeld een inrichting, waarmee een bekleding met een dikte-mi form text van +, 2 % kan worden bewerkstelligde 5 Resultaten bi.i toepassing van een dubbele tussenlaag.The sensitivity of these single anti-iridescents revealed the coating layer to refractive index variations and the thickness was examined. Changes of + 0.02 in the refractive index or + 10 in in the thickness are sufficient to increase the color saturation to observable values. Accurate control of these parameters can be achieved in known glass coating operations. For example, U.S. Pat. No. 3,850,679 discloses a device capable of effecting a coating of + .2% thickness mi form text. Results using a double intermediate layer.

Een doeltreffend produkt kan eveneens worden verkregen cnder gebruikmaking van twee lagen met intermediaire brekingsindices cp het glas onder de halfgeleiderUl·. Voor halfgeleideriilms in het dikte-traject van 0,1-0 ,^u bleek het mogelijk te voorzien in een kleurverzadi-10 ging van slechts ongeveer één eenheid of minder. Dit traject ligt zeer aanzienlijk beneden de vaazneeehaaxheidsdreapel. De twee intermediaire brekingsindices (n^ en n2) vocht een dergelijke constructie worden bijvoorbeeld gegeven door n, - <» >0-V,>°-Tk of 1,63 1 SC gJL .An effective product can also be obtained using two layers with intermediate refractive indices on the glass under the semiconductor UL1. For semiconductor films in the thickness range of 0.1-0.5 µm, it was found possible to provide a color saturation of only about one unit or less. This trajectory is very significantly below the threshold. The two intermediate refractive indices (n ^ and n2) moisture such a construction are given, for example, by n, - <>> 0-V,> ° -Tk or 1.63 l SC gJL.

15 n2 (ngc)0,^(ngl)0*2^ of ongeveer 1,86.15 n2 (ngc) 0. ^ (ngl) 0 * 2 ^ or about 1.86.

De optimale dikten zijn ongeveer 1A golflengte voor (vacuum) golflengte 500 nanometer of ongeveer d1 * 76,7 nm 20 dg * 67,2 naThe optimal thicknesses are approximately 1A wavelength before (vacuum) wavelength 500 nanometers or approximately d1 * 76.7 nm 20 dg * 67.2 after

De laag «et de lagere brekingsinde-x (n^ ligt tegen het glas, terwijl die met de hogere index (n2) tegen de halfgelei-derillm ligt.The layer with the lower refractive index x (n ^ is against the glass, while that with the higher index (n2) is against the semiconductor layer.

Dit dubbele onderbekle dings ontwerp is zelfs meer 25 tolerant ten aanzien ven afwijkingen van zijn parameters van de optimale vaarden dan het enkelvoudige oÉderbekledingsontwerp. Variaties van + 25 % ten opzichte van de optimale dikte onderdrukken de iriseringsvaar-den nog tot beneden de waameeshare grens, dat vil zeggen beneden een kleurverzadigingsvaarde van 10. Zeer doeltreffende structuren kunnen dus 30 worden gebaseerd op brekingsindices in de trajecten 1 sc' gl *0.03( ,0.26.0.03 c. SC gl 35 hetgeen overeenkomt met een traject van n1 van 1,62-1,65 en een traject van n2 van 1,88-1,8¾. De vereiste vervaard!gings-accuratiegraad voor het 7810509 10 verkrijgen van een bekle dings dikte net een tolerantie van + 25 % kan gemakkelijk worden bereikt net de in de stand der techniek bekende procedures. Op analoge wijze is de voor de brekingsindices vereiste accuraatheid volledig te bereiken, zelfs wanneer gemengde materialen nodig 5 zijn ter verkrijging van de vereiste waarden.This double undercoating design is even more tolerant of deviations from its parameters of the optimum performance than the single undercoating design. Variations of + 25% with respect to the optimum thickness suppress the iridescence values still below the hazeeshare limit, that is to say below a color saturation value of 10. Highly effective structures can thus be based on refractive indices in the ranges 1 sc 'gl * 0.03 (, 0.26.0.03 c. SC gl 35 which corresponds to a range of n1 from 1.62-1.65 and a range of n2 from 1.88-1.8¾. The required manufacturing accuracy for the 7810509 Obtaining a coating thickness with a tolerance of + 25% can be easily achieved using the procedures known in the art Analogously, the accuracy required for the refractive indices can be fully achieved even when mixed materials are required obtaining the required values.

Toepassing van een tussenlaag net gegradeerde brekingsindex.Application of an intermediate layer of just graduated refractive index.

Eveneens werd gevonden dat een film tussen het glassubstraat en een halfgeleiderlaag kan worden op gebouwd net een gegradeerde samenstelling, dat wil zeggen een samenstelling, die geleide-10 lijk verandert van een siliciumoryde-film tot een tinoryde-film. Een dergelijke film kan het beste worden o inschreven als een film, die een zeer groot aantal intermediaire lagen omvat.It has also been found that a film can be built between the glass substrate and a semiconductor layer with a graded composition, ie, a composition that gradually changes from a silicon oxide film to a tin oxide film. It is best to write such a film as a film comprising a very large number of intermediate layers.

Bruikbare materialen.Usable materials.

Een breed traject van transparante materialen is 15 beschikbaar, waaruit de materialen kunnen worden gekozen voor de vervaardiging van de produkten, die voldoen aan de bovengenoemde kriteria bij de vorming van een anti-iriserende onderbekledingslaag of anti-iriserende cndeibekledingslagen. Verschillende metaaloxyden en -nitrieden en hun mengsels bezitten de geschikte optische eigenschappen van transparantie 20 en brekingsindex. Tabel A geeft een aantal mengsels die de correcte brekingsindex bezitten, voor een enkelvoudige laagbekleding tussen glas en een tinoxyde- of indiumoxyde-film. De benodigde gewichtspercentages zijn verkregen uit de bepaling van curven, waarin de brekingsindex is afgezet tegen de samenstelling, of zijn berekend uit de bekende 25 Lorentz-Lorenz wet voor brekingsindices van mengsels (Z, Khittl, Opties of Thin Films, Wiley and Sons, New York, 1976, peg. U73), onder gebruikmaking van de gemeten brekingsindices voor de zuivere films. Deze mengvet geeft in het algemeen voldoende accurate interpolaties voor optisch werk, hoewel de berekende brekingsindices soms enigszins lager zijn dan de ge-30 meten waarden. Film-brekingsindices variëren eveneens enigszins met de afzet tings methode en de toegepaste omstandigheden.A wide range of transparent materials are available, from which the materials can be selected for the manufacture of the products which meet the above criteria in the formation of an anti-iridescent undercoat layer or anti-iridescent blanket coatings. Various metal oxides and nitrides and their mixtures have the suitable optical properties of transparency and refractive index. Table A lists a number of blends having the correct refractive index for a single layer coating between glass and a tin oxide or indium oxide film. The required weight percentages are obtained from the determination of curves, in which the refractive index is plotted against the composition, or are calculated from the well-known Lorentz-Lorenz law for refractive indices of mixtures (Z, Khittl, Options of Thin Films, Wiley and Sons, New York, 1976, peg U73), using the measured refractive indices for the pure films. This mixing grease generally provides sufficiently accurate interpolations for optical work, although the calculated refractive indices are sometimes somewhat lower than the measured values. Film refractive indices also vary slightly with the deposition method and conditions used.

Een routine-voorproduktie-ccntrole kan gemakkelijk worden uitgevoerd en indien dit noodzakelijk is kan men de samenstellingen instellen cp de optimale waarden als een dergelijke gedrag werkelijk 35 vereist is.A routine pre-production check can be easily performed and if necessary the compositions can be adjusted to the optimum values if such behavior is actually required.

Aluminiumoryde-films vertonen bijvoorbeeld enige 78 1 0 5 0 9 11 ·'·» . I* variabiliteit in de brekingsindex van ongeveer 1,6b tot 1,75 ia afhankelijkheid van de afzettingsomstandidbedea. In tabellen A, B en C heeft AlgO^-h betrekking cp de film· met hoge index (n 1,75)» terwijl AlgO^-l betrekking heeft op films met lage index (n * 1,6b). Films met 5 een intermediaire brekingsindex vereisen intermediaire samenstellingen ter verkrijging van de gewenste brekingsindices.For example, aluminum theory films exhibit some 78 1 0 5 0 9 11 · "·". I * variability in the refractive index from about 1.6b to 1.75 ia depending on the deposition condition. In Tables A, B and C, AlgO ^ -h refers to the high index film (n 1.75) »while AlgO ^ -l refers to low index films (n * 1.6b). Films with an intermediate refractive index require intermediate compositions to obtain the desired refractive indices.

Tabellen 8 en C beschrijven enkele mengsels, die de correcte brekingsindex (van ongeveer 1,63 respectievelijk 1,68) bezitten voor de toepassing daarvan in een dubbele tussenlaag tussen glas-10 substraat en een primaire halfgeleidexbekleding.Tables 8 and C describe some mixtures which have the correct refractive index (of about 1.63 and 1.68, respectively) for their use in a double intermediate layer between glass-10 substrate and a primary semiconductor coating.

Behalve op grond van deze optische eigenschappen vorden geschikte cnderbekledingslagen zodanig gekozen, dat zij chemisch duurzaam en bestand tegen lucht, vocht, reinigingsoplossingen, etc., zijn. Een dergelijke eis elimineeSPSs meeste doeleinden germaniuadiozyde-15 films van het type, die onderhevig zijn aan een gemakkelijke hydrolyse in tegenwoordigheid van water. Films, voor de helft gevormd uit GeOg en voer de andere helft uit SnOg, blijken onoplosbaar en bestand tegen aantasting door water te zijn.In addition to these optical properties, suitable undercoat layers are selected to be chemically durable and resistant to air, moisture, cleaning solutions, etc. Such a requirement eliminates most of the purposes of the Germaniuadiozyde-15 films of the type, which are subject to easy hydrolysis in the presence of water. Films, one half formed from GeOg and the other half made from SnOg, are found to be insoluble and resistant to water attack.

20 78 1 0 5 0 920 78 1 0 5 0 9

Tabel ATable A

Diëlektrische films met brekings- indices van ongeveer 1,73 - 1.77 12Dielectric films with indices of refraction of about 1.73-1.77 12

Mengsels Component A Gew.ff Component B Gew,% 1 Si^ 67 + 1* Si02 33 + b 2 Al203-h 100 — 3 ZnO 78+3 Si02 22+3 k Al203~1 55+8 ZnO + 8 5 MgO 76+11 ZnO 2k + 11 6 Sn02 81+3 Si02 19+3 7 Sn02 50+7 Al2°3"1 5° + 7 8 MgO 73+11 Sn02 27+11 9 ln203 81+3 Si02 19+3 10 ln203 50 + 7 Al^-I 50 + 7 11 MgO 73+12 ln203 27 + 12 12 Ge02 55 + 7 ZnO 1*5 + 7 13 Ge02 52 + 7 Sn02 1*8 + 7 11* Ge02 51 + 7 ln203 1*9 + 7 15 Ga^ 91 + 3 Si02 9 +3 16 Ga^ 71 + 10 Α12°3-1 29 - 10 17 MgO 53 + 20 Ga^ 1*7 + 20 18 Ga^ 70 + 10 GeOg 30 + 10 7810509Mixtures Component A Wt.w Component B Wt,% 1 Si ^ 67 + 1 * Si02 33 + b 2 Al203-h 100 - 3 ZnO 78 + 3 Si02 22 + 3 k Al203 ~ 1 55 + 8 ZnO + 8 5 MgO 76 +11 ZnO 2k + 11 6 Sn02 81 + 3 Si02 19 + 3 7 Sn02 50 + 7 Al2 ° 3 "1 5 ° + 7 8 MgO 73 + 11 Sn02 27 + 11 9 ln203 81 + 3 Si02 19 + 3 10 ln203 50 + 7 Al ^ -I 50 + 7 11 MgO 73 + 12 ln203 27 + 12 12 Ge02 55 + 7 ZnO 1 * 5 + 7 13 Ge02 52 + 7 Sn02 1 * 8 + 7 11 * Ge02 51 + 7 ln203 1 * 9 + 7 15 Ga ^ 91 + 3 Si02 9 +3 16 Ga ^ 71 + 10 Α12 ° 3-1 29 - 10 17 MgO 53 + 20 Ga ^ 1 * 7 + 20 18 Ga ^ 70 + 10 GeOg 30 + 10 7810509

tabel Btable B

Diëlektriecbe films met brekings- indices van ongeveer 1.62 - 1.6^ 13Dielectric films with indices of refraction of about 1.62-1.6 ^ 13

Mengsel Component A Genr.% Component B (rest) 1 SiOg 53 ♦ V Si 2 Al203-1 100 3 Al2°3-1 97+3 Si02 k Al203-h 7^ + 5 SiOg 5 ZnO 59 + h Si02 6 MgO 79+5 SiOg 7 SnOg 62 + 3 Si02 8 ln203 63 + 3 Si02 9 GeOg 100 10 Ge203 71+3 SiOg 78 1 0 5 0 9Mixture Component A Genr.% Component B (remainder) 1 SiOg 53 ♦ V Si 2 Al203-1 100 3 Al2 ° 3-1 97 + 3 Si02 k Al203-h 7 ^ + 5 SiOg 5 ZnO 59 + h Si02 6 MgO 79 +5 SiOg 7 SnOg 62 + 3 Si02 8 ln203 63 + 3 Si02 9 GeOg 100 10 Ge203 71 + 3 SiOg 78 1 0 5 0 9

Tabel CTable C

Diëlektrische films set brekings indices van ongeveer 1,86 jf 0,02 1¾Dielectric films set refractive indices of about 1.86 µf 0.02 1¾

Mengsel Component A Gev.% Component B (rest) 1 Si 81+ + 3 sio2 2 ZnO 91+2 SiOg 3 ZnO 76+5 Al203-1 1+ ZnO 59 + 9 AlgO^-hMixture Component A Found% Component B (remainder) 1 Si 81+ + 3 sio2 2 ZnO 91 + 2 SiOg 3 ZnO 76 + 5 Al203-1 1+ ZnO 59 + 9 AlgO ^ -h

5 ZnO 68+7 MgO5 ZnO 68 + 7 MgO

6 Sn02 91+2 SiOg 7 SnOg 78+5 Alg03-1 8 SnOg 60 + 8 Alg03-h6 Sn02 91 + 2 SiOg 7 SnOg 78 + 5 Alg03-1 8 SnOg 60 + 8 Alg03-h

9 SnOg 70+6 MgO9 SnOg 70 + 6 MgO

10 Ing03 91 + 2 SiOg 11 ln203 78 + 5 Alg03-1 12 ln203 61+8 AlgO -h10 Ing03 91 + 2 SiOg 11 ln203 78 + 5 Alg03-1 12 ln203 61 + 8 AlgO -h

13 ln203 71+6 MgO13 ln203 71 + 6 MgO

1¼ ZnO 75+7 GeOg 15 SnOg 76+7 GeOg 16 ln203 76 + 2+ GeOg1¼ ZnO 75 + 7 GeOg 15 SnOg 76 + 7 GeOg 16 ln203 76 + 2+ GeOg

17 Gag03 80 + 1¾ ZnO17 Gag03 80 + 1¾ ZnO

18 G8g03 79+1¾ SnOg 19 Gag03 78+15 Ing0318 G8g03 79 + 1¾ SnOg 19 Gag03 78 + 15 Ing03

Opmericing: Al^-h = hoge index nl»ini— oxyde-film; n ongeveer 1,75 Al203-1 - lege index eleednion- oxyde-film; n ongeveer 1,6¾ 78 1 0 5 0 9 /: 15Opmericing: Al ^ -h = high index en »oxide film; n about 1.75 Al2 O3-1 - empty index lead oxide film; n about 1.6¾ 78 1 0 5 0 9 /: 15

Werkwijze voor de vorming van films»Method of film formation »

Al deze film kunnen vorden gevormd door gelijktijdige vacuumverdasping van de geschikte materialen van een geschikt mengsel. Voor de bekleding ven grote oppervlakken, zoals vensterglas, 5 is een chemische dasp af zetting (CVD) bij normale atmosferische druk meer geschikt en minder kostbaar. De CVD-methode vereist echter geschikte vluchtige verbindingen voor devorming van elk materiaal. De meest geschikte bronnen voor CVD zijn gassen bij kamertesperatuur. Silicium en germanium kiemen vorden afgezet door CVD uit gassen, zoals silan, Sifi^, 10 aimthjn.il» (ffl yiHg « (Gtó,,). no.i.toff«., di. «160«* * vluchtig zijn bij kamertesperaiuur, zijn vrijwel even geschikt als gassen; tetramethyltin is een dergelijke bron voor CVD ven tinverbindingen, ter- ..·.· -&>. '· ',L' vijl (CgH^JgSiHg en SiCl^ vluchtige vloeistofbrcnnen zijn voor silicium.All this film can be formed by simultaneous vacuum evaporation of the suitable materials of a suitable mixture. For the coating of large surfaces, such as window glass, a chemical deposition (CVD) at normal atmospheric pressure is more suitable and less expensive. However, the CVD method requires suitable volatile compounds for the formation of any material. The most suitable sources for CVD are gases at room temperature. Silicon and germanium germs are deposited by CVD from gases such as silan, Sifi ^, 10 aimthjn.il »(ffl yiHg« (Gtó ,,). No.i.toff «., Ie.« 160 «* * being volatile room temperature, are almost as suitable as gases, tetramethyltin is one such source of CVD tin compounds, while .., L 'file (CgH ^ JgSiHg and SiCl ^ are volatile liquid sources of silicon.

Op analoge wijze verschaffen tximethyl aluminium en dimethyl-15 zink en hun hogere alkylhomologen vluchtige bronnen voor deze metalen.Similarly, tximethyl aluminum and dimethyl-15 zinc and their higher alkyl homologs provide volatile sources for these metals.

Minder geschikte maar nog vel bruikbare bronnen voor CVD zijn vaste stoffen of vloeistoffen, die vluchtig zijn bij een tesperatuur boven kamer-tesperatuur maar nog beneden de tesperatuur, waarbij zij reageren onder afzetting van films. Voorbeelden van deze laatste categorie zijn de ace-20 tylacetcnaten van aluminium, gallium, indium en zink (eveneens aangeduid als 2.H-pentaandionaten), alumuaiumalkoxyden, zoals aluminiumiscpropozarde en alumni umethy laat, en zinkpropionact. Voor magnesium zijn geen ge-> schikte verbindingen bekend, die vluchtig zijn beneden de afzettings-tesperatuur, zodat gassend wordt dat CVD-proceaaen niet kunnen vorden 25 toegepast voor de bereiding van magnesiumoxyde-films.Less suitable but still useful sources of CVD are solids or liquids which are volatile at a temperature above room temperature but still below the temperature, reacting with film deposition. Examples of the latter category are the acetyl tylacetates of aluminum, gallium, indium and zinc (also referred to as 2.H-pentanedionate), aluminum alkoxides such as aluminum propylene oxide and alumina, and zinc propionact. No suitable compounds are known for magnesium which are volatile below the deposition temperature, so that it is gassed that CVD processes cannot be used for the preparation of magnesium oxide films.

Typische omstandij^eden, waaronder metaaloxyde-films succesvol zijn gevormd door chemische daopafzetting, zijn aangegeven in tabel D. De organometaaldaap is in het algemeen aanwezig in een hoeveelheid van ongeveer 1 vol.jC in lucht. De aldus gevormde films ver-30 tonen een goede hechting aen zowel het glassubstrast als aan de daama af ge zette lagen ven tinoryde of indiumcayde. Gemengde oryde-lagen zijn gevormd tussen al deze paren metalen onder toepassing van CVD-technie-ken (uitgezonderd voor magnesium, waarvoor een geschikte vluchtige verbinding niet beschikbaar was). De brekingsindices vut de gemengde films 35 vorden cp geschikte wijze bepaald door meting van de zichtbare reflectie-spectra als functie van de golflengte. De plaatsen en hoogten van de 781 05 0 9 16 maxima en minima in de gereflecteerde intensiteit kunnen vervolgens in verband vorden gebracht met de brekingsindex van de afgezette film. De concentraties van de reagerende stoffen vorden vervolgens ingesteld teneinde de gevenste brekingsindex te verkrijgen.Typical conditions under which metal oxide films have been successfully formed by chemical dipping deposition are shown in Table D. The organometallic monkey is generally present in an amount of about 1 volume percent in air. The films thus formed show good adhesion to both the glass substrate and the layers of tinoryde or indium cayde deposited thereafter. Mixed oxide layers are formed between all these pairs of metals using CVD techniques (except for magnesium, for which a suitable volatile compound was not available). The refractive indices of the mixed films are suitably determined by measuring the visible reflection spectra as a function of the wavelength. The locations and heights of the 781 05 0 9 16 maxima and minima in the reflected intensity can then be related to the refractive index of the deposited film. The concentrations of the reactants are then adjusted to obtain the index of refraction.

5 Onder toepassing van deze methodes verd een aantal monsters vervaardigd op boorsilicaatglas (Pyrex) onder gebruikmaking van (Si02 - Si^), (Si02 - Sn02), (Ge02 - SnOg), (Al^ - SnOg), (AlgO^ - Ga^) of (AlgO^ - ZnO) gemengde lagen onder een 0,3/U dikke SnOg halfgeleiderlaag. Wanneer de brekingsindex en de dikte op correcte 10 vijze zijn ingesteld is het gereflecteerde daglicht neutraal en kleurloos voor het oog. De bekledingen zijn helder en transparant en vrij van een zichtbare troebeling (verstrooid licht).Using these methods, dilute a number of samples made on borosilicate glass (Pyrex) using (SiO 2 - Si 2), (SiO 2 - SnO 2), (GeO 2 - SnOg), (Al 1 2 - SnOg), (AlgO 1 - Ga ^) or (AlgO ^ - ZnO) mixed layers under a 0.3 / U thick SnOg semiconductor layer. When the refractive index and thickness are set to correct, the reflected daylight is neutral and colorless to the eye. The coverings are clear and transparent and free from visible cloudiness (scattered light).

78 1 0 5 0 9 π78 1 0 5 0 9 π

Tabel DTable D

Enkele vluchtige oxydeerbare organomet aal verbindingen» die geschikt zijn voor de afzetting van setaaloxyde-lagen en gemengde setaaloxyde-lagen set oxy derende gassen, zoals O2 of NgOSome Volatile Oxidizable Organometal Compounds »Suitable for Deposition of Metal Oxide Layers and Mixed Metal Oxide Layers of Oxidizing Gases, such as O2 or NgO

Verbinding Vervluchtingstenpe- Afzettingstesperar- _ ratuur (°C) tuur (° C)_— 1 SiH^ gas bij 20 300-500 2 (CH3)2SiH2 gas bij 20 1*00-600 3 (C2H5)2SiH2 20 1*00-600 1* Geïï^ gas bij 20 300-1*50 5 (CH3)3A1 20 1*00-650 6 A1(0C2H5)3 200-300 1*00-650 7 AliOC^^ 200-220 1*00-600 8 Al(C_H_0_)_ 200-220 500-650Compound Volatilization temperature Deposition temperature (° C) temperature (° C) _— 1 SiH gas at 20 300-500 2 (CH3) 2SiH2 gas at 20 1 * 00-600 3 (C2H5) 2SiH2 20 1 * 00- 600 1 * Gas at 20 300-1 * 50 5 (CH3) 3A1 20 1 * 00-650 6 A1 (0C2H5) 3 200-300 1 * 00-650 7 AliOC ^^ 200-220 1 * 00-600 8 Al (C_H_0 _) _ 200-220 500-650

J ( ** JJ (** J

9 Ga(C5HT02)3 200-220 350-650 10 In(C_H_0o). 200-220 300-600 p 7 & 3 11 (CH3)2Zn 20 100-600 12 Zn(C3H502)2 200-250 1*50-650 13 (CH )^Sn 20 1*50-650 11* Ta(0C, Hn)c 150-250 1*00-600 15 TiiOC^)^ 100-150 1*00-600 16 ZriOC^H^ 200-250 1*00-600 17 HfiOC^)^ 200-250 1*00-600 7810509 189 Ga (C5HT02) 3 200-220 350-650 10 In (C_H_0o). 200-220 300-600 p 7 & 3 11 (CH3) 2Zn 20 100-600 12 Zn (C3H502) 2 200-250 1 * 50-650 13 (CH) ^ Sn 20 1 * 50-650 11 * Ta (0C , Hn) c 150-250 1 * 00-600 15 TiiOC ^) ^ 100-150 1 * 00-600 16 ZriOC ^ H ^ 200-250 1 * 00-600 17 HfiOC ^) ^ 200-250 1 * 00- 600 7810509 18

Het troebelingsprob leent.The cloud probing borrows.

Wanneer deze zelfde afzettingen worden geprobeerd op gewoon vensterglas ("soda” of "zacht" glas) vertoonden vele van de resulterende bekledingen een aanzienlijke troebeling of lichtverstrooiing.When these same deposits were attempted on ordinary window glass ("soda" or "soft" glass), many of the resulting coatings showed significant cloudiness or light scattering.

5 Wanneer de laag, die het eerst wordt af gezet op zacht glas, amorf is en bestaat uit Si02, Si^N^ of GeOg of mengsels daarvan is de bekleding troe-belingsvrij, ongeacht welke de daarna volgende lagen zijn. AlgO^ geeft eveneens heldere bekledingen, mits het wordt afgezet in de amorfe vorm, met voordeel beneden een temperatuur van ongeveer 550°C. Indien de begin-10 laag grote hoeveelheden ZnO, ln20^ of Sn02 bevat, is het optreden van een troebeling waarschijnlijk.When the layer first deposited on soft glass is amorphous and consists of SiO 2, Si 2 N 2, or GeOg or mixtures thereof, the coating is cloudless, regardless of which subsequent layers are. AlgO2 also gives clear coatings, provided it is deposited in the amorphous form, advantageously below a temperature of about 550 ° C. If the initial layer contains large amounts of ZnO, ln 2 O 2 or SnO 2, cloudiness is likely to occur.

De eerste anti-iriserende laag, die moet worden afgezet cp een vensterglas oppervlak, is met voordeel amorf in plaats van kristallijn van structuur. Siliiumoxynitri de geniet de voorkeur. Daarna 15 afgezette lagen kunnen een polykristalli jne vorm bezitten zonder enige troebeling te veroorzaken.The first anti-iridescent layer to be deposited on a window glass surface is advantageously amorphous rather than crystalline in texture. Silicon oxynitri de is preferred. Layers subsequently deposited can have a polycrystalline form without causing any turbidity.

Natrium- en andere alkali me taal ionen oefenen een nadelig effect uit cp de infrarood-reflectiviteit en het elektrisch gelei dings vermogen van tinoxyde- en indiumoxyde-films.Sodium and other alkali metal ions adversely affect the infrared reflectivity and electric conductivity of tin oxide and indium oxide films.

20 Be bovengenoemde amorfe films en speciaal silicium- oxynitride-films vormen goede barrières tegen de diffusie van natriναοί onen uit het glas in de half geleiderlaag. Door verandering van de zuurstof/stikstof-verhouding in de films kan het gehele traject van brekingsindex vanaf die van glas met een brekingsindex van ongeveer 1,5 tot die 25 van tinoxyde of indiumoxyde met brekingsindices van ongeveer 2 worden omvat. Aldus kunnen met dezelfde basisre agentia anti-iriserende structuren met een willekeurig aantal brekings in de xt rappen worden vervaardigd. Inderdaad kunnen zelfs films met een continu veranderende verhouding van de re actie conponenten worden bereid. Slechts overvloedige en goedkope 30 materialen zijn nodig voor de vorming van siliciumoxynitride.The above-mentioned amorphous films and especially silicon oxynitride films form good barriers against the diffusion of sodium ions from the glass into the semiconductor layer. By changing the oxygen / nitrogen ratio in the films, the entire refractive index range from that of glass having a refractive index of about 1.5 to that of tin oxide or indium oxide with refractive indices of about 2 can be included. Thus, with the same base reagents, anti-iridescent structures of any number of refractions in the xt raps can be prepared. Indeed, even films with a continuously changing ratio of the reaction components can be prepared. Only abundant and inexpensive materials are required for the formation of silicon oxynitride.

Talloze vluchtige reagentia zijn beschikbaar voor de vorming van sili ci umoxyni tri de-fllms. Tabel £ vermeldt enkele van de meer geschikte vluchtige materialen voor de chemische damp afzetting van sili ci umoxyni tri de. De reactie SiH^ -)-10+ geniet de voorkeur omdat 35 deze hogere afzettingssnelheden blijkt te geven binnen het voor vensterglas van belang zijnde tesperatuurtraject, dat wil zeggen 500-600°C.Numerous volatile reagents are available for the formation of sili ci umoxyni tri de-fllms. Table 2 lists some of the more suitable volatile materials for the chemical vapor deposition of silica micoxynides. The reaction SiH 2 - 10+ is preferred because it has been found to give higher deposition rates within the tertiary temperature range of interest to window glass, ie 500-600 ° C.

78 1 0 5 0 9 . 1978 1 0 5 0 9. 19

Talloze andere conbinatiea van reagentia kunnen echter eveneens succesvolle siliciumozynit ride-films geven.However, numerous other reagent combinations can also give successful silicon ozone nitride films.

/·. ' Tabel E ' ./ ·. "Table E".

Bronmaterialen voor chemisch» flampaftetting 5 van Biriciumoxynitride-fllmsSource materials for chemical »flash tapping 5 of Biricium oxynitride films

Bronnen van silicium: si&k («2*5 >2 «“2 10 (CH_). SiSources of silicon: si & k («2 * 5> 2« “2 10 (CH_). Si

Sic VSic V

SiBrj,SiBrj,

Bronnen van zuurstof: °2Sources of oxygen: ° 2

15 HgO15 HgO

»2°2 °

Brcnnen van stikstof: CHgNHBHg BH3 (CH3)2HMH2 2° HH3Nitrogen sources: CHgNHBHg BH3 (CH3) 2HMH2 2 ° HH3

Brcnnen van zovel zuurstof als stikstof: NO·.,"Using as much oxygen as nitrogen: NO ·., "

NHgOHNHgOH

W20 25 I rise ring-vri.ie structuren, gebaseerd, op van elkaar gescheiden bekledingen.W20 25 I rise ring-free structures, based on separate coatings.

Interferentiekleuren, dat vil zeggen de irisering, kunnen worden verminderd door toepa&ng van reflecties uit twee dunne 30 bekledingen van een functionele anorganische bekleding op afzonderlijke maar evenwijSige glasoppervlakken. Waaneer bekledingsdikten, bijvoorbeeld dikten van tinozyde-bekledingen, worden gekozen, die ongeveer 1/4 van een golflengte verschillen (ongeveer 0»07 mieren voor λ 0,50^um en n = 2,0), verdwijnt de interefferentiekleuring nagenoeg volledig. Deze 35 wordt in ieder geval verminderd tot het punt waarbij deze ophoudt een esthetisch probleem te worden voor de fabrikant en gebruiker. De additieve 781 05 0 9 20 kleuring van bijvoorbeeld een ride reflectie in één bekleding en een groene reflectie van een aangrenzende interferentie-orde in een tweede bekleding combineren onder vorming van een nagenoeg vitte (neutrale) reflectie. Op analoge wijze is de doorlating van licht door een derge-5 lijke combinatie van complementaire bekledingen eveneens neutraal van kleur.Interference colors, that is to say the iridescence, can be reduced by applying reflections from two thin coatings of a functional inorganic coating to separate but parallel glass surfaces. When coating thicknesses, for example thicknesses of tinozyde coatings, are chosen, which differ about 1/4 of a wavelength (about 0.07 ants for λ 0.50 µm and n = 2.0), the interference staining virtually disappears. In any case, it is reduced to the point where it ceases to become an aesthetic problem for the manufacturer and user. The additive 781 05 0 9 20 coloration of, for example, a ride reflection in one coat and a green reflection of an adjacent interference order in a second coat combine to form a substantially bright (neutral) reflection. Analogously, the transmission of light through such a combination of complementary coatings is also neutral in color.

Deze kleur condensatie wordt gebruikt in dubbele beglazing ter vermindering van de sterkte van de interfferentiekleuren uit de vaxmte-reflecterende halfgeleiderbekledingen. Wanneer bijvoorbeeld 10 bekledingen van Sn02 worden gebruikt op de twee binnen oppervlakken van een dubbelglazig venster kunnen zij zodanig worden gekozen dat zij in dikte met 0,07^u verschillen. Voor grote lichtbronnen vorden de refledLe-kleuren goed ondervangen indien de glasoppervlakken redelijk evenwijdig zijn. Voor kleine lichtbronnen of voor lichtbronnen met scherpe grenzen 15 zal de compensatie in reflectie niet volledig zijn tenzij de bekledings-oppervlakken in hoge mate evenwijdig zijn. Voor waarnemingen ten aanzien van de doorlating zijn de eisen met betrekking tot de evenwijdige oppervlakken minder drastisch.This color condensation is used in double glazing to reduce the strength of the interference colors from the vaxmte reflective semiconductor linings. For example, when 10 coatings of SnO 2 are used on the two inner surfaces of a double glazed window, they can be selected to differ in thickness by 0.07 µm. For large light sources, the refledLe colors are well compensated if the glass surfaces are reasonably parallel. For small light sources or for light sources with sharp borders, the reflection compensation will not be complete unless the coating surfaces are highly parallel. For transmittance observations, the requirements for parallel surfaces are less drastic.

Opgemerkt kan eveneens vorden dat films, waarbij 20 de in te re fe rentiekle uren in intensiteit zijn verminderd door een onder-bekleding met een intermediaire of gegradeerde brekingsindex, eveneens in paren kunnen vorden gecombineerd ter verkrijging van een nog verdere kleurcompensatie.It should also be noted that films, in which the reference color hours are reduced in intensity by an undercoating with an intermediate or graded refractive index, can also be combined in pairs to obtain even further color compensation.

Illustratieve voorbeelden van de uitvinding.Illustrative examples of the invention.

25 In deze beschrijving en de bijgaande tekeningen zijn een voorkeursuitvoeringsvoxm van de uitvinding en verschillende alternatieven en modificaties daarvan weergegeven en beschreven, maar het zal duidelijk zijn dat de uitvinding niet daartoe beperkt is en dat andere veranderingen en modificaties mogelijk zijn binnen het raam van de uit-30 vinding. De hier voorgestelde alternatieven en modificaties dienen ter illustratie van de uitvinding en kinnen worden gebruikt voor het modificeren daarvan tot een verscheidenheid van vormen in afhankelijkheid van de meest geschikte vorm coder de omstaadigieden van eer^speciaal geval.This description and the accompanying drawings illustrate and describe a preferred embodiment of the invention and various alternatives and modifications thereof, but it will be understood that the invention is not limited thereto and that other changes and modifications are possible within the scope of the invention. -30 invention. The alternatives and modifications proposed herein are illustrative of the invention and chins are used to modify it into a variety of shapes depending on the most appropriate shape coder the circumstances of the particular case.

Verwezen wordt nu naar de tekeningen.Reference is now made to the drawings.

35 Figuur 1 is een grafiek, die de variatie van de be rekende kleurintensiteit van verschillende kleuren met de dikte van de 21 -fc. .V» ' halfgeleiderfilm illustreert.Figure 1 is a graph showing the variation of the calculated color intensity of different colors with the thickness of the 21-fc. .V »'illustrates semiconductor film.

Figuur 2 illustreert schematisch en ia doorsnede een niet-iriserende beklede glasstructuur, vervaardigd volgens de uitvinding» met een enkelvoudige anti-iriserende tussenlaag.Figure 2 schematically and in cross-section illustrates a non-iridescent coated glass structure, manufactured according to the invention, with a single anti-iridescent intermediate layer.

5 Figuur 3 illustreert schematisch en in doorsnede een niet-iriserende beklede glasstructuur, vervaardigd, volgens de uitvinding, met meerdere anti-iriserende tussenlagen.Figure 3 schematically and in cross-section illustrates a non-iridescent coated glass structure, manufactured according to the invention, with several anti-iridescent intermediate layers.

Figuur k illustreert schematisch en in doorsnede een dubbelglazige vensterstructuur, die een aanzienlijk verbeterd uiter-10 lijk vertoont als resultaat van daarop aangebrachte bekledingen, die de bezwaarlijke irisering verminderen of elimineren.Figure k schematically and in cross-section illustrates a double-glazed window structure, which exhibits a significantly improved appearance as a result of coatings applied thereon, which reduce or eliminate the objectionable iridescence.

Verwezen vordt nu naar figuur 2. Transparante plaat 20 omvat een glassübstraat 22, dast een intermediaire film 2k van 0.072 meren rm Si^/SiOg (of Tm « » » m*» in 15 tabel A) met een brekingsindex van 1,7kk draagt. Op film 2k bevindt zich een bekleding 26 van 0,1* micron van een infrarood-reflecterende halfgeleider, namelijk tinoxyd».Reference is now made to Figure 2. Transparent plate 20 includes a glass substrate 22, which carries an intermediate film 2k of 0.072 m rm Si ^ / SiOg (or Tm «» »m *» in Table A) with a refractive index of 1.7kk . Film 2k contains a coating 26 of 0.1 micron of an infrared reflecting semiconductor, namely tin oxide.

Figuur 3 illustreert een venster 36 , vervaardigd uit de zelfde halfgeleiderfilm 26 en hetzelfde glas 22 en twee inter-20 mediaire bekledingen, namelijk bekleding 30 met een dikte van 0,077 micron en een brekingsindex van ongeveer 1,63 en een bekleding 32 met een dikte van ongeveer 0,067 micron en een brekingsindex van ongeveer 1,66. Bekleding 30 wordt gevormd uit een van de in tabel B aangegeven materialen. Bekleding 32 wordt gevormd uit een van de in tabel C aange-25 geven materialen.Figure 3 illustrates a window 36 made of the same semiconductor film 26 and the same glass 22 and two intermediate coatings, namely coating 30 having a thickness of 0.077 microns and a refractive index of about 1.63 and a coating 32 having a thickness of about 0.067 microns and a refractive index of about 1.66. Coating 30 is formed from one of the materials listed in Table B. Coating 32 is formed from one of the materials listed in Table C.

Figuur U illustreert een dubbelglazige venater-structuur Uo, die een isolerende luchtruimte U2 amsluit tussen een inwendige transparante plaat Uk en een uitwendige transparante plaat k6.Figure U illustrates a double glazed venater structure Uo enclosing an insulating air space U2 between an inner transparent plate Uk and an outer transparent plate k6.

Elke van de platen Uk en k6 zijn gevormd uit glas k5 en een halfgeleider-30 bekleding köa of k8b op het binnenqppervlak van het glas.Each of the plates Uk and k6 are formed from glass k5 and a semiconductor coating köa or k8b on the inner surface of the glass.

De half gelei dezbekleding k8a bezit een dikte van ongeveer 0,2 micron, maar bekleding k8b bezit een dikte van ongeveer 0,27 micron; er is dus een verschil van ongeveer 1/k golflengte tussen de twee bekledingen.The semiconductor coating k8a has a thickness of about 0.2 microns, but coating k8b has a thickness of about 0.27 microns; so there is a difference of about 1 / k wavelength between the two coatings.

35 Voorbeeld IExample I

Een glas met een enkelvoudige anti-iriserende onder- 7810509 22 bekledingslaag werd vervaardigd door verhitting van een heldere vensterglasschijf net een diameter van 15 ,2H cm op ongeveer 580°C. Een gasmengsel , bevattende ongeveer Q,h % silan (SiH^), 0,1 f stikstofoxyde (NO), 2 % hydrazine (N2H^) en voor de rest stikstof (N^), verd gedurende onge-5 veer 1 minuut over het glasgpervlak geleid in een hoeveelheid van 1 liter/ minuut. Hierdoor verd het glasoppervlak bekleed met een uniforme transparante Him van siliciumozynitride. Het oppervlak verd vervolgens verder bekleed met een fluor-ge doopte tinoxydelaag door een gasmengsel van 1 % tetramethyltin (CH^J^Sn, 3 % broomtrifluormethaan CF^Br, 20 % zuur-10 stof Og en voor de rest stikstof Ng te laten stromen langs het siliciυπό xyni tri de-oppervlak bij een teaperatuurvan 5é0°C gedurende ongeveer 1 minuut. Vervolgens liet men het beklede glas langzaam in lucht aikoelen tot kamertemperatuur over een periode van ongeveer 1 uur.A glass with a single anti-iridescent undercoat layer 7810509 22 was prepared by heating a clear window glass disc with a diameter of 15.2H cm at about 580 ° C. A gas mixture, containing about Q, h% silan (SiH ^), 0.1% nitrogen oxide (NO), 2% hydrazine (N2H ^) and the balance nitrogen (N ^), evaporate for about 1 minute over the glass surface is guided at a rate of 1 liter / minute. As a result, the glass surface is coated with a uniform transparent Him of silicon ozitride. The surface was then further coated with a fluorine-doped tin oxide layer by flowing a gas mixture of 1% tetramethyltin (CH 2 J 3 Sn, 3% bromotrifluoromethane CF 2 Br, 20% acid-10 Og and the remainder nitrogen Ng). along the silica xyni triide surface at a temperature of 50 ° C for about 1 minute, then the coated glass was slowly cooled in air to room temperature over a period of about 1 hour.

Het volgens deze procedure beklede glas vertoonde 15 geen zichtbare interferentiekleuren in gereflecteerd of doorgelaten daglicht. Het oppervlak reflecteerde ongeveer 90 % infTaroodstraling bij een golflengte van 10 micron en liet ongeveer 90 f zichtbaar licht door.The glass coated according to this procedure showed no visible interference colors in reflected or transmitted daylight. The surface reflected about 90% infrared radiation at a wavelength of 10 microns and transmitted about 90 f of visible light.

De elektrische plaatveerstand verd gemeten en bleek ongeveer 3 ohm/vierkant te bedragen.The electrical plate resistance was measured and found to be about 3 ohms / square.

20 Teneinde de eigenschappen van de siliciumorynitride- laag te meten verd de tinoxyde-film van een gedeelte van het beklede oppervlak verwijderd door vrij ven met een mengsel van zinkstof en verdund chlooxvaterstofzuur. Dit etsmiddel had geen invloed op de siliciumoxyni-tride-cnderbekleding. De brekingsindex van de siliciumozynitride-fllm 25 verd gemeten volgens de hieronder beschreven ch2j2 vloeistofproef en bleek 1,7^ te zijn. De zichtbare reflectiviteit van de siliciumozyni-tride-film verd gemeten, waarbij een maximum verd gevonden bij 5000 R en een dikte van 0,072 micron, overeenkomende met de gevenste 1Λ golf-lengte-dikte voor licht van 5000 £.In order to measure the properties of the silicon orynitride layer, the tin oxide film is removed from a portion of the coated surface by freeing with a mixture of zinc dust and dilute hydrochloric acid. This etchant did not affect the silicon oxynitride cladding. The refractive index of the silicon osynitride film 25 was measured according to the ch 2/2 liquid test described below and found to be 1.7 µm. The visible reflectivity of the silicon ozynitride film was measured, with a maximum evaporation found at 5000 R and a thickness of 0.072 microns, corresponding to the first 1Λ wavelength thickness for light of 5000 Pounds.

30 De brekingsindices van deze siliciumoxynitride- films zijn aihankelijk van de verhouding van stikstof tot zuurstof in de films. Deze samenstelling vordt gemakkelijk ingesteld door variëren van de NgH^/NO verhouding in het gas. Door vergroting van de N/O verhouding stijgt de brekingsindex. De exacte brekingsindex is eveneens aihankelijk 35 van de zuiverheid van de uitgangsmaterialen en in het bijzonder van de hoeveelheid vater, dat als verontreiniging in het hydrazine aanwezig is* 78 1 0 5 0 9 23The refractive indices of these silicon oxynitride films depend on the ratio of nitrogen to oxygen in the films. This composition is easily adjusted by varying the NgH / NO ratio in the gas. By increasing the N / O ratio, the refractive index increases. The exact refractive index also depends on the purity of the starting materials and in particular on the amount of water which is present as an impurity in the hydrazine * 78 1 0 5 0 9 23

Technisch hydrazine bevat altijd tenminste enkele procenten water. Door droging van het hydrazine door destillatie vanaf een droogmiddel, zoals natriuuhydrijtyde, kaliwmhydroayde of bariumoxyde, kan man de brekingsindex van de film vergroten. Omgekeerd kan men de brekingsindex verlagen door 5 toevoeging van water am het hydrazine. De brekingsindex van de film is eveneens afhankelijk van de exacte omstandigheden van de fllmgroei, waaronder de afzettingstemperatuur, de gasstroomenelheid, etc. Daarom kinnen de bovengenoemde omstandigheden niet worden verwacht een film te geven met een brekingsindex van exact η » 1,7!* vanneer andere reagen-tia 10 of afzettingsomstandigheden worden toegspast. Kleine instellingen van de samenstelling kunnen echter voldoende zijn voor de vorming van films met de gewenste breküqpindexiraarden.Technical hydrazine always contains at least a few percent water. Drying the hydrazine by distillation from a drying agent such as sodium hydride, potassium hydroxide or barium oxide can increase the refractive index of the film. Conversely, the refractive index can be lowered by adding water to the hydrazine. The refractive index of the film also depends on the exact conditions of the film growth, including the deposition temperature, the gas flow rate, etc. Therefore, the above conditions cannot be expected to produce a film having a refractive index of exactly η »1.7! * Down. other reagents or deposition conditions are used. Small composition settings, however, may be sufficient to form films with the desired refractive index values.

De halfgaleiderfilma kunnen eveneens brekingsindices bezitten, die verschillen van de waarde 2,0, waargenomen voor de hier 15 beschreven tinozyde-films. De overeenkomstigs optimum waarde of -waarden voor een enkelvoudige (of dubbele) ondefbekledingslaag of lagen kan (kunnen) worden ingesteld op grond van de boven aangegeven relaties. De overeenkomstige gasfase-mengsels, die de gewenste brekingsindex-films geven voor de aati-iziserende cnderbekleding- of-bekledingen kunnen vervolgens 20 door routine-proeven worden gevonden teneinde te voldoen aan de exacte omstandigheden van iedere fabrikant of onderzoeker met een normale deskundigheid cp het gebied van de CVD.The semiconductor film may also have refractive indices different from the value 2.0 observed for the tinzyde films described herein. The corresponding optimum value or values for a single (or double) uncoating layer (s) may be set based on the relationships indicated above. The corresponding gas phase mixtures, which provide the desired refractive index films for the ionizing cladding coatings or coatings, can then be found by routine testing to meet the exact conditions of any manufacturer or researcher of ordinary skill in the art. area of the CVD.

De dikte van een film met een gemeten brekingsindex __ _ wordt gemakkelijk bepaald door meting van het reflectiespectrum daarvan 25 in zichtbaar en infrarood licht. Dit spectrum wordt gemakkelijk als func-tie van de filmdikte berekend onder gebrudkmakingvan de standaard optische formules van Fresnel en Airy. Bij de meeste hierboven beschreven praktische ontwerpen wenst men een film te vormen met een dikte van 1A golflengte voor een golflengte (in lucht) van ongeveer 5000 X. In dit 30 geval vertoont let re flectiespect rum vaneen dergelijke enkelvoudige film cp glas een breed maximum, dat gecentreerd is bij een golflengte ven 5000 S.The thickness of a film with a measured refractive index __ is easily determined by measuring its reflection spectrum in visible and infrared light. This spectrum is easily calculated as a function of the film thickness using the standard Fresnel and Airy optical formulas. In most of the practical designs described above, it is desired to form a film with a thickness of 1A wavelength for a wavelength (in air) of about 5000 X. In this case, the reflection spectrum of such single film cp glass exhibits a wide maximum, which is centered at a wavelength of 5000 S.

Voorbeeld IIExample II

Aluniiiiu»-£.l+-p«iteeidiaitttl AKc^O^, <e«n-35 eens bekend als alumni umacetylacetcnaat), is een witte vaste stof, die bij 189°C smelt tot een heldere vloeistof, die bij 315°C kookt. Dit mar- 7810509 21+ texiaal verd gebracht in een kook apparaat ("bubbler"), verhit op ongeveer 250°C, door welk apparaat stikstof-dragergas werd geleid. Wanneer dit gasmengsel verd gemengd met droge zuurstof bij 250°C werd geen reactie waargenomen. Wannes* echter vocht verd toegevoegd aan de zuurstof 5 werden sterke vitte nevels gevormd in het gasmengsel. Dergelijke nevels vormen een aanwijzing voor de hydrolyse. Teneinde deze voortijdige hydro-lyse-reactie te voorkomen moeten de gasstromen zo droog mogelijk worden gehouden.Aluniiiiu »- £ .l + -p« iteeidiaitttl AKc ^ O ^, <a (once known as alumni umacetylacetcnate), is a white solid which melts at 189 ° C to a clear liquid, which at 315 ° C boils. This marx 7810509 21+ was placed texially in a boiling apparatus ("bubbler"), heated to about 250 ° C, through which nitrogen carrier gas was passed. When this gas mixture was mixed with dry oxygen at 250 ° C, no reaction was observed. However, when moisture was added to the oxygen, strong white mists were formed in the gas mixture. Such sprays indicate hydrolysis. In order to prevent this premature hydrolysis reaction, the gas flows must be kept as dry as possible.

Het mengsel van aluminium-2. l+-pentaandi onaat-damp, 1Q stikstof-dragergas en 20 % zuurstof verd geleid over verhitte glasoppervlakken. Bij 500°C verd een zwakke afzetting gevormd met een dikte van minder dan 0,1^u, waarvan de aanwezigheid slechts bleek door de verhoogde reflect!viteit daarvan. Bij 525°C vas een film met een dikte van 0 ,3^u gegroeid in ongeveer 3 minuten. Deze film vertoonde zwakke interferentie-15 kleuren onder wit licht en duidelijke intereferentiebanden bij monochro-matische belichting. Bij 550°C groeide de aluminiumozyde-films nog sneller en een kleine hoeveelheid poeder werd gevormd door homogene kiem-vorming en afgezet cp het oppervlak van het apparaat.The mixture of aluminum-2. 1 + pentanedioate vapor, 100% nitrogen carrier gas and 20% oxygen dispersed over heated glass surfaces. At 500 ° C, a weak deposit formed with a thickness of less than 0.1 µm, the presence of which was only apparent by its increased reflectivity. At 525 ° C, a film with a thickness of 0.3 µg grows in about 3 minutes. This film showed weak interference colors under white light and clear bands of interference in monochromatic lighting. At 550 ° C, the aluminum oxide films grew even faster and a small amount of powder was formed by homogeneous nucleation and deposited on the surface of the device.

Vervolgens liet men fluor-ge doopte tinozy de- films 20 groeien cp de alumni umoxy de-films bij temperaturen in het traject van 500-5^0°C. De dikten in het traject van 0,3-0,5/U werden zorgvuldig onder^ zocht omdat deze dikten de sterkste interferentiekleuren vertonen. De intensiteiten van de kleuren varen aanzienlijk verminderd in vergelijking met tinoxyde-films van dezelfde dikte zonder de alumniumoxyde-cnderbe-25 kleding.Subsequently, fluorine-doped tinozyde films were grown on the alumina deoxy films at temperatures in the range of 500-500 ° C. The thicknesses in the range 0.3-0.5 / h were carefully examined because these thicknesses show the strongest interference colors. The intensities of the colors are significantly reduced compared to tin oxide films of the same thickness without the aluminum oxide coating.

Films, waarin de aluminiumoxyde-film een 1/U golflengte-dikte bezit (500 nm golflengte, hetgeen dicht is bij de piek van de spectrale gevoeligheid van het oog voor daglicht), vertonen de grootste onderdrukking van de iriserende kleur. Voor deze dikten (ongeveer 30 0,072yu voor 1A golflengte) neutraliseren de reflecties uit de glas-Films in which the alumina film has a 1 / U wavelength thickness (500 nm wavelength, which is close to the peak of the eye's spectral sensitivity to daylight) exhibit the greatest suppression of the iridescent color. For these thicknesses (about 30 0.072yu for 1A wavelength) the reflections from the glass neutralize

AlgO^ en AlgO^-SnOg tussenvlakken elkaar het meest doeltreffend. Er treedt echter eveneens een aanzienlijke vermindering in de kleurintensi-teit pp, zelfs wanneer de dikte van het AlgO^ niet optimaal is.AlgO ^ and AlgO ^ -SnOg interfaces are most effective. However, there is also a significant reduction in the color intensity pp, even when the thickness of the AlgO2 is not optimal.

Als glassubstraten verden zovel Pyrex-boorsilicaat-35 glas als soda (venster) glas gebruikt. Goede resultaten verden verkregen pp beide substraten.As glass substrates, so much Pyrex borosilicate 35 glass has been used as soda (window) glass. Both substrates obtained good results.

78 1 0 5 0 9 25.'78 1 0 5 0 9 25. '

De aluminiumoxyde-laag was eveneens werkzaam'bij het voorkomen van de cppervlakte-verglazing van het sodaglas oppervlak vaaneer tinoxyde werd af gezet bij 500-5^0°C. Gemeend wordt daarom dat het alumini-umoxyde werkt hij het beschermen van het sodaglas oppervlak tegen kzis-5 tallisatie rond de kiemen, die verschaft worden door de tinoxyde-kristal-len, en bijgevolg het optreden van een troebeling in het glas gedurende het bekledingsproces voorkomt.The alumina layer was also effective in preventing surface vitrification of the soda glass surface from tin oxide being deposited at 500-500 ° C. It is therefore believed that the aluminum oxide acts to protect the soda glass surface from electrification around the seeds provided by the tin oxide crystals, and thus prevents the occurrence of cloudiness in the glass during the coating process. .

Voorbeeld IIIExample III

Een dubbelglazig venster wordt vervaardigd uit bel-10 der glas van het soda-type. Het glas wordt behandeld met een bekleding van het siliciumoxyde-type ter verwijdering van troebeling volgens de gebruikelijke procedure als beschreven in het Amerikaanse octrooiechrift 2.617.7^5.A double-glazed window is made of soda-type bubble glass. The glass is treated with a silica-type coating to remove haze by the conventional procedure described in U.S. Pat. No. 2,617,7 ^ 5.

De structuur van het dubbelglazi ge venster is ene-15 loog aan die weergegeven in figuur U. Binnencppervlak A draagt een 0,26 micron dikke bekleding van tinoxyde. Binnencppervlak B draagt een 0,33 + 0,02 micron dikke bekleding van een tinoxyde-mengsel. Elke van deze bekledingen vertoont, wanneer deze alleen wordt waargenomen, een gemakke-lijk zichtbare, in hoge mate gekleurde, ixiaexende kleur, die overwegend 20 rood of groen is voor de meeste waarnemers. Indien nagenoeg evenwijdig ten opzichte van elkaar gaasserisleerd, zoals in de structuur van figuur k, wordt de iriserende kleur in sterke mate verminderd, ongeacht of gekeken wordt vanaf de zijde van de dubbelglazige structuur, gezicht naar de zen, of vanaf de andere zijde van dezelfde structuur.The structure of the double-glazed window is similar to that shown in Figure U. Inner surface A carries a 0.26 micron thick tin oxide coating. Inner surface B carries a 0.33 + 0.02 micron thick coating of a tin oxide mixture. Each of these coatings, when observed alone, exhibits an easily visible, highly colored, ixiaexend color, which is predominantly red or green for most observers. If gauze is almost parallel to each other, as in the structure of Figure k, the iridescent color is greatly reduced, regardless of whether viewed from the side of the double-glazed structure, face to the zen, or from the other side of the same structure.

25 Voorbeeld IVExample IV

Proeven werden uitgeveerd ter bereiding van gegradeerde brekingsindexlagan tussen glas (n ongeveer 1,5) en tinoxyde (n ongeveer 2,0) bekledingen. Een gegradeerde laag van Si^Sta^Og werd gebruikt, waarbij z geleidelijk afkarn van 1 tot 0 naarmate de laag werd 30 opgebouwd op het glasoppervlak» De SnOg-laag was ongeveer 0,3 micron dik; het onderliggende, gegradeerde gebied was ongeveer 0,3 micron dik. De resulterende structuren vertonen een aanzienlijk verminderde interfieren-tiekleuring in Wrg.lijking 1«. « Sn02 ran d.Ml«e dikte nur zonder het gegradeerde tussenlaaggebied tussen het glas en het SnOg.Tests were conducted to prepare graded refractive index between glass (n about 1.5) and tin oxide (n about 2.0) coatings. A graded layer of Si 2 Sta 2 Og was used, z gradually decreasing from 1 to 0 as the layer was built up on the glass surface. The SnOg layer was about 0.3 microns thick; the underlying graded area was about 0.3 microns thick. The resulting structures show a significantly reduced interference staining in Wrg. Equation 1.. Sn02 ran d.Ml «e thickness nur without the graded intermediate layer area between the glass and the SnOg.

35 De vluchtige bronnen van silicium zijn in een geval35 The volatile sources of silicon are in one case

SiH^ (uit een 1 %'z mengsel in Mg-dragergas) ia enter geval 78 1 0 5 0 9 26 (CH^gSiHg (uit een cilinder van het zuivere gas). Se afzetting werd uitgevoerd bij een oppervlakte-temperatuur van W30°C. Se gasconcentraties varen aanvankelijk ongeveer 0tk % silan (of door alkyl gesubstitueerd silan), 10 % zuurstof en de rest stikstof· Vervolgens verd tetramethyl-5 tin (CH^)^Sn geleidelijk toegevoerd tot een concentratie van 1 % over een periode van enge veer 3 minuten, tervijl de silan-concentratie geleidelijk verd verminderd tot 0 over dezelfde periode. Vervolgens verd het drager gas voor het tetramethyltin afgesneden en het apparaat gedurende ongeveer 5 minuten gespoeld met lucht ter verwijdering van de laatste 10 sporen van het silan. Vervolgens verd een gasstroom van 1 % (CH^)^Sn, 3 % CF^Br, 20 % 02 en voor de rest stikstof onder het oppervlak geleid gedurende 3 minuten teneinde een laag van fluor-ge doopt tinozyde met een dikte van ongeveer 0,U micron af te zetten.SiH 2 (from a 1% 2 mixture in Mg carrier gas) enter case 78 1 0 5 0 9 26 (CH 2 gSiHg (from a cylinder of the pure gas). The deposition was carried out at a surface temperature of W30 ° C. The gas concentrations initially sail about 0tk% silan (or alkyl-substituted silan), 10% oxygen and the remainder nitrogen · Then, tetramethyl-5 tin (CH2) ^ Sn is gradually added to a concentration of 1% over a period of time of about 3 minutes, file the silan concentration gradually reduced to 0. over the same period, then cut off the carrier gas for the tetramethyltin and flush the device with air for about 5 minutes to remove the last 10 traces of the silan. Then a gas flow of 1% (CH2) ^ Sn, 3% CF ^ Br, 20% O2 and the balance nitrogen passed under the surface for 3 minutes to form a layer of fluorine-doped tin enzyme of about 0 thickness , You drop microns.

De interferentiekleuren varen aanzienlijk minder 15 levendig cp deze bekledingen met een gegradeerde brekingsindex-onderbe-kleding.The interference colors sail considerably less vividly on these coatings with a graded refractive index undercoat.

Voorbeeld VExample V

Een analoog proces vordt uitgevoerd en der gebruikmaking van GeH^ in plaats van SiH^. De gegradeerde laag vordt gevormd 20 uit Ge^n^Og, waarbij x geleidelijk aiheemt van 1 tot 0 naarmate de laag qp bet glas vordt opgebouwd. Daar de brekingsindex van zuiver GeC>2 ongeveer 1,65 bedraagt heeft de gegradeerde laag nog een brekingsindex-discontinuiteit van die van glas (ongeveer 1,5)· De uniformiteit van de afzetting vas echter enigszins beter dan die verkregen met het SiH^. De 25 verminderingen in de zichtbaarheid van de irisering, die werden waargenomen, varen analoog aan die welke werden waargenomen in voorbeeld IV. Voorbeelden VI - IXAn analogous process is carried out using GeH 2 instead of SiH 2. The graded layer is formed from GeNgOg, where x gradually increases from 1 to 0 as the layer qp builds up the glass. Since the refractive index of pure GeC> 2 is about 1.65, the graded layer still has a refractive index discontinuity of that of glass (about 1.5). However, the uniformity of the deposit is slightly better than that obtained with the SiH 2. The reductions in the iridescence visibility observed were analogous to those observed in Example IV. Examples VI - IX

Voorbeeld I vordt herhaald onder gebruikmaking als de intermediaire laag tussen glas en tinoxyde van de volgende materialen, 30 gekozen uit tabel A: voorbeeld VI: 82 % Ιη^/ΐδ % SiOgExample I is repeated using the intermediate layer between glass and tin oxide of the following materials selected from Table A: Example VI: 82% Ιη ^ / ΐδ% SiOg

voorbeeld VII: 58 % GeOg/tó % ZnOExample VII: 58% GeOg / to% ZnO

voorbeeld VIII: 70 % Ga^/30 % AlgO^IExample VIII: 70% Ga ^ / 30% AlgO ^ I

voorbeeld IX: 60 f Al^-l/UO % ZnO.Example IX: 60 f Al 2 -1 / UO% ZnO.

35 Een lage irisering vordt in al deze gevallen ver kregen.In all these cases, low iridescence is long overdue.

781 05 0 9 .. 27781 05 0 9 .. 27

Voorteelden X - XIVPrelude X - XIV

De volgende materialen, alle gekozen uit tabel B en C, worden gebruikt als de twee intermediaire lagen ter vervanging van de enkelvoudige intermediaire lagen van voorbeelden I en VI-IX: 5 n van ongeveer 1.63 n van ongeveer 1.86The following materials, all selected from Tables B and C, are used as the two intermediate layers to replace the single intermediate layers of Examples I and VI-IX: 5 n of about 1.63 n of about 1.86

Voorbeeld X 97 % SiOg Bk $ Si^/16 1 SiO?Example X 97% SiOg Bk $ Si ^ / 16 1 SiO?

Voorbeeld XI 60 % ZnO/UO * SiOg 90 % Zn0/10 JÉ SiC>2Example XI 60% ZnO / UO * SiOg 90% Zn0 / 10 JÉ SiC> 2

Voorbeeld XII 63 JÉ ^0^37 % SiOg 60 JÉ SnOg/UO JÉ Al^-hExample XII 63 JÉ ^ 0 ^ 37% SiOg 60 JÉ SnOg / UO JÉ Al ^ -h

Voorteeld XIII 70 JÉ GagO^/29 JÉ Si02 76 X SnO/2U JÉ GeOg 10 Voorteeld XIV 62 JÉ SnOg/38 JÉ SiOg 61 JÉ IngO^S9 * AlgO^hPrank XIII 70 JÉ GagO ^ / 29 JÉ Si02 76 X SnO / 2U JÉ GeOg 10 Prank XIV 62 JÉ SnOg / 38 JÉ SiOg 61 JÉ IngO ^ S9 * AlgO ^ h

Voorteeld XVProced XV

Een tinoxyde-beklediag wordt aangebracht op een glassübstraat bij verschillende dikten (het glasaubstraat wordt eerst bekleed met een ultradunne film van siliciumoxynitride teneinde te voor-15 zien ineen amorf, troebelings-re amend oppervlak).A tin oxide coating is applied to a glass substrate at various thicknesses (the glass substrate is first coated with an ultra-thin silicon oxynitride film to provide an amorphous, cloudy surface).

Dikte van tinoxyde Zichtbaarheid i rise ring 0,3 sterk 0,6 duidelijk, maar zwakker 0,9 nauwelijks waameenfoaar, uitgezonderd 20 in fluorescerend licht 1,3 zwak, zelfs in fluorescerend licht.Thickness of tin oxide Visibility i rise ring 0.3 strong 0.6 clear, but weaker 0.9 barely variable, except 20 in fluorescent light 1.3 weak, even in fluorescent light.

De laatste twee materialen zijn esthetisch niet bezwaarlijk bij toepassing in de architectuur.The last two materials are aesthetically not objectionable when used in architecture.

Werkwijze voor het bevestigen van de bekledingskwaliteit.Method for confirming the coating quality.

25 Een eenvoudige methode voor het snel controleren van de brekingsindex van dunne films werd ontwikkeld teneinde de afzet-tingsomstandigheden voor films met de gewenste brekingsindex te kunnen vinden. Verondersteld wordt bijvoorbeeld dat een film met een brekingsindex n = 1,7¼ gewenst is voor een ondertekledingslaag. Een vloeistof met deze 30 brekingsindex wordt gekozen. Voor dit voorteeld wordt dijoodmethaan (n = 1,7¼) gebruikt. Een film, waarvan de diktejongeveer 0,2-2 micron is, wordt af gezet op een glasoppervlak. Het beklede glas wordt waargenomen door gereflecteerd licht uit een monochrematieche lichtbron, zoals een gefilterde kwiklanp bij λ » 5½ 1 £. Het beklede glas vertoont een inter-35 ferentiepatroce van donkere en heldere banden indien de dikte van de film varieert over het glasoppervlak. Een druppel van de vloeistof met bekende brekingsindex 7810509 28 wordt op de film gebracht. Indien de brekingsindex van de film exact is aangepast aan die van de vloeistof verdwijnt het interferentiepatroon onder de druppel.A simple method for quickly checking the refractive index of thin films has been developed in order to find the deposition conditions for films with the desired refractive index. For example, it is believed that a film with a refractive index n = 1.7¼ is desirable for an undercoat layer. A liquid with this refractive index is chosen. Diodide methane (n = 1.7¼) is used for this propagation. A film, the thickness of which is 0.2-2 microns thick, is deposited on a glass surface. The coated glass is perceived by reflected light from a monochematic light source, such as a filtered mercury lamp at λ »5½ 1 £. The coated glass exhibits an interference pattern of dark and clear bands as the thickness of the film varies across the glass surface. A drop of the liquid with known refractive index 7810509 28 is applied to the film. If the refractive index of the film is exactly matched to that of the liquid, the interference pattern disappears under the drop.

Indien de brekingsindices van film en druppel niet 5 exact aan elkaar zijn aangepast is het interferentiepatroon nog zichtbaar onder de druppel, maar is de intensiteit daarvan zwakker. In dien dit zwak» ke interferentiepatroon onder de druppel een directe voortzetting is van het bandpatrocn cp de rest van de film dan is de brekingsindex van de film groter dan die van de referentievloeistof. Indien anderzijds het band-10 patroon onder de druppel omgekeerd is (lichte en donkere gebieden omgekeerd) ten opzichte van het bandpatrocn dat aanwezig is zonder de vloei-s tof druppel dan is de brekingsindex van de film kleiner dan die van de referentievloeistof.If the refractive indices of film and drop are not exactly matched to each other, the interference pattern is still visible under the drop, but its intensity is weaker. If this weak interference pattern under the droplet is a direct continuation of the tape pattern on the rest of the film, the refractive index of the film is greater than that of the reference liquid. On the other hand, if the band-10 pattern under the drop is inverted (light and dark areas inverted) from the band pattern present without the liquid drop, the refractive index of the film is less than that of the reference liquid.

Door toepassing van deze eenvoudige maar nauwkeurige 15 meting van de brekingsinde-x van de film kunnen de omstandigheden voor de vorming van een film gemakkelijk worden ingesteld bij een reeks van proeven voor het vilten van de gewenste waarde. Door het kiezen van andere referentie vloei stoffen kan men films instellen op verschillende andere waarden, n = 1,63, gebruikt in een uit twee lagen bestaande ondexbekleding, 20 kan worden ingesteld onder gebruikmaking van 1.1.2.2-tetrabroomethaan als referentievloeistof. n = 1,86, voor de andere laag in een uit twee lagen bestaande onderbekleding, kan worden ingesteld op een oplossing van zwavel en fosfor in dijoodmethaan, beschreven door West in American Mineral,By using this simple but accurate measurement of the refractive index of the film, conditions for film formation can be easily set in a series of tests to felt the desired value. By choosing other reference fluids, films can be adjusted to various other values, n = 1.63, used in a two-layered index coat, can be adjusted using 1.1.2.2 tetrabromoethane as the reference fluid. n = 1.86, for the other layer in a two-layer undercoat, can be adjusted to a solution of sulfur and phosphorus in diiodomethane, described by West in American Mineral,

Vol. 21, 21*5 (1936). Uit het bovenstaande zal het voor deskundigen even-25 eens duidelijk zijn dat de algemene procedure kan worden gebruikt als een kvaliteits controle- ge ree ds chap bij de 'vervaardiging. Vloeistoffen met bekende brekingsindex worden eveneens geleverd door Cargille Laboratories, New Jersey.Full. 21, 21 * 5 (1936). From the above, it will also be apparent to those skilled in the art that the general procedure can be used as a quality control tool in the manufacture. Liquids of known refractive index are also supplied by Cargille Laboratories, New Jersey.

Op gemerkt wordt dat de voordelige werkwijzen vol-30 gens de uitvinding omvatten de varmtebe sparing in gebouwen met aanzienlijke glasoppervlakken en eveneens omvatten de elektrische verhitting van vensters, zoals in automobielen en vliegtuigen, onder gebruikmaking van de weerstandseigenschcppen van de bekledingen volgens de uitvinding. In het algemeen zijn deze bekledingen 35 ohmisch, gewocnlijk halfgeleidend.It is noted that the advantageous methods of the invention include the heat saving in buildings with substantial glass areas and also include the electrical heating of windows, such as in automobiles and aircraft, using the resistivity of the coatings of the invention. Generally, these coatings are ohmic, usually semiconductive.

78105097810509

Claims (43)

1. Een structuur, gevormd uit tenminste één transparante glasplaat van het type, omvattende een eerste anorganische bekleding van een infrarood — reflectief materiaal en van het type dat een transparante halfgeleider is an iriseren de kleuren vertoont bij belichting 5 in daglicht, met het kenmerk* dat de eerste bekleding congruent is aangebracht met een tweede bekleding, die middelen verschaft voor het aanzienlijk verminderen van de irisexende kleuren van de eerste bekleding door te voorzien in tenminste twee tussenvlakken, die, samen met de massa van .¾ de tweede bekleding, middelen vormen voor het reflecteren en breken van 10 licht op zodanige wijze, dat de vaameenfcaarfaeid bij belichting in daglicht van deze irisexende kleuren aanzienlijk wordt verminderd.1. A structure formed from at least one transparent glass sheet of the type, comprising a first inorganic coating of an infrared reflective material and of the type which is a transparent semiconductor an iridescence exhibits the colors when exposed in daylight, characterized * that the first coating is congruently applied with a second coating, which provides means for substantially reducing the irissex colors of the first coating by providing at least two interfaces which, together with the mass of the second coating, form means for reflecting and refracting light in such a way as to significantly reduce the simplicity of exposure in daylight of these iris-exclusive colors. 2. Structuur volgens conclusie 1. met het kenmerk, dat de tweede bekleding aanwezig is tussen de eerste bekleding en het glas en middelen vormt voor het reflecteren en breken van licht teneinde 15 coherent te worden toegevoegd aan en daardoor te dempen de irisexende reflectie uit de eerste bekleding. 3* Een structuur, gevormd uit tenminste één transparante glasplaat van het type, omvattende een eerste anorganische bekleding van aan infrarood-reflectief materieel en van het type, dat een 20 transparante halfgeleider is en irisexende kleuren vertoont hij belichting in daglicht, met het kenmerk, dat de eerste bekleding congruent is aangebracht met een tweede bekleding, die middelen vormt voor het aanzienlijk verminderen van de irisexende kleuren van de eerste bekleding door te voorzien in tenminste twee tussenvlaken , die, samen met de massa van 25 de tweede bekleding, middelen vormen voor het reflecteren en breken van licht op zodanige wijze, dat de waarneembaarheid bij belichting in daglicht van deze irisexende kleuren aanzienlijk wordt verminderd, en waarbij de tweede bekleding aanwezig is tussen de eerste bekleding en het glas en middelen vormt voor het reflecteren en breken van licht teneinde 30 coherent te worden toegevoegd aan en daardoor te dempen de izdserende reflectie uit de eerste bekleding en waarbij de tweede bekleding een brekingsindex bezit, die gedefinieerd wordt als ongeveer de vierkantswortel van het produkt van de brekingsindices van het glas en de eerste bekleding. 35 1*. Structuur volgens conclusie 2, met het kenmerk. 7810509 dat de tweede bekleding een dikte van cm ge-veer \/k golflengte van licht met een vacuum-golflengte van ongeveer 500 nanometer bezit,2. Structure according to claim 1, characterized in that the second coating is present between the first coating and the glass and forms means for reflecting and refracting light in order to be coherently added to and thereby damp the irisende reflection from the first upholstery. 3 * A structure formed of at least one transparent glass sheet of the type, comprising a first inorganic coating of infrared reflective material and of the type, which is a transparent semiconductor and iris-exclusive colors, exhibits exposure in daylight, characterized in: that the first coating is congruently applied with a second coating, which forms means for substantially reducing the irissex colors of the first coating by providing at least two intermediate surfaces which, together with the mass of the second coating, form means for reflecting and refracting light in such a way that the daylight perceptibility of these irissex colors is significantly reduced, and the second coating is present between the first coating and the glass and forms means for reflecting and refracting light to 30 to be coherently added to and thereby attenuate the iridescent reflection from d the first coating and wherein the second coating has a refractive index, which is defined as approximately the square root of the product of the refractive indices of the glass and the first coating. 35 1 *. Structure according to claim 2, characterized in. 7810509 that the second coating has a thickness of cm / w wavelength of light with a vacuum wavelength of about 500 nanometers, 5, Structuur, gevormd uit tenminste één transparante glasplaat van het type, omvattende een eerste anorganische bekleding van 5 een infrarood-reflecterend materiaal en van het type, dat een transpar rante halfgeleider is en iriseren de kleuren vertoont bij belichting in daglicht, met het kenmerk. dat de eerste bekleding congruent is aangebracht met een tweede bekleding, die middelen vormt voor het aanzienlijk verminderen van de i rise rende kleuren van de eerste bekleding door te 10 voorzien in tenminste tvee tussenvlakken, die, samen met de massa van de tweeds bekleding, middelen vormen voor het reflecteren en breken van licht op zodanige wijze, dat de waarneembaarheid bij belichting in daglicht van deze iriserende kleuren aanzienlijk wordt verminderd, en waarbij de tweede bekleding aanwezig is tussen de eerste bekleding en het 15 glas en middelen vormt voor het reflecteren en breken van licht teneinde coherent te worden toe gevoegd aan en daardoor te deepen de iriserende reflectie uit de eerste bekleding, en waarbij de tweede bekleding een brekingsindex van ongeveer 1,7-1,8 bezit en ongeveer 6H-80 nanometer dik is, en waarbij de eerste bekleding een brekingsindex van ongeveer 2 en 20 het glas een brekingsindex van enge veer 1,5 bezit,5, Structure formed of at least one transparent glass sheet of the type, comprising a first inorganic coating of an infrared reflective material and of the type, which is a transparent semiconductor and exhibits iridescent colors when exposed in daylight, characterized . that the first coating is arranged congruently with a second coating, which forms means for substantially reducing the rising colors of the first coating by providing at least two interfaces which, together with the mass of the second coating, means forms for reflecting and refracting light in such a way that the perceptibility in daylight illumination of these iridescent colors is significantly reduced, and wherein the second coating is present between the first coating and the glass and forms means for reflecting and refracting of light in order to be coherently added to and thereby deepen the iridescent reflection from the first coating, and wherein the second coating has a refractive index of about 1.7-1.8 and is about 6H-80 nanometers thick, and first coating has a refractive index of about 2 and the glass has a refractive index of 1.5 scary spring, 6. Structuur volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de tweede bekleding wordt gevormd uit metaaloxyde, metaal nitride of een mengsel daarvan.Structure according to claim 5, characterized in that the second coating is formed from metal oxide, metal nitride or a mixture thereof. 7, Structuur volgens conclusie 6, met het kenmerk, 25 dat de metaaloxyde- en nitride-mengsels worden gekozen uit die welke zijn aangegeven in tabel A van de beschrijving.7. Structure according to claim 6, characterized in that the metal oxide and nitride mixtures are selected from those indicated in table A of the description. 8, Structuur volgens conclusie 5, met het kenmerk. dat de tweede bekleding in hoofdzaak is gevormd uit aluminiumoxyde.Structure according to claim 5, characterized in that. that the second coating is mainly formed from aluminum oxide. 9. Structuur volgens conclusie 5, met het kenmerk. 30 dat de tweede bekleding in hoofdzaak is gevormd uit siliciumozynitride.Structure according to claim 5, characterized in that. 30 that the second coating is mainly formed of silicon osynitride. 10. Structuur volgens conclusie 1, met let kenmerk, dat de tweede bekleding een amorf materiaal is en middelen vormt voor het voorkomen van een troebe lings vorming op het glas gedurende de aanbrenging van de eerste bekleding. 35 11· Structuur volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de tweede bekleding een amorf materiaal is en middelen vormt voor het 7810509 s . - 31 vorkomen van een troebelingsvondng cp het glas gedurende de aanbrenging van de eerste bekleding.Structure according to claim 1, characterized in that the second coating is an amorphous material and forms means for preventing haze formation on the glass during the application of the first coating. 11. Structure according to claim 2, characterized in that the second coating is an amorphous material and forms means for the 7810509 s. - 31 preventing a cloudiness on the glass during the application of the first coating. 12. Structuur volgens conclusie 1. met het kenmerk, dat de tveede bekleding aanwezig is tussen de eerste bekleding en het glas, 5 waarbij de tweede bekleding met betrekking tot de brekingsindex een grar· diént vormt tussen bet glas en de eerste bekleding.12. Structure according to claim 1, characterized in that the second coating is present between the first coating and the glass, wherein the second coating, with respect to the refractive index, forms a guarantee between the glass and the first coating. 13. Structuur volgens conclusie 12. met het kenmerk, dat de eerste bekleding fluoivgedoopt stenni-oryde is. 1¾. Structuur volgens conclusie 12, met het kenmerk. _ 10 dat de gradiënt trapsgewijze verloopt met een veelheid van bekledings-incrementen met verschillende brekingsindices.Structure according to claim 12, characterized in that the first coating is flux-doped stenium. 1¾. Structure according to claim 12, characterized in. 10 that the gradient is stepped with a plurality of coating increments with different refractive indices. 15. Structuur gevormd uit tenminste één transparante glasplaat van het type, omvattende een eerste anorganische bekleding van een infraroodt-reflecterend material en van het type, dat een transparante 15 halfgeleider is en iraserende kleuren vertoont bij belichting in daglicht, met het kenmerk, dat de eerste bekleding congruent is aangebracht met een tweede bekleding, die middelen vormt voor het aanzienlijk verminderen van de iriseren de kleuren ven de eerste bekleding door te voorzien in tenminste twee tussenvlakken, die, samen met de massa van de tweede bekleding, 20 middelen vormen voor het reflecteren en breken van licht op zodanige wijze, dat de vaarneesfcaarheid bij belichting in daglicht van deze iri-serende kleuren aanzienlijk wordt verminderd, en waarbij de. tveede bekleding aanwezig is tussen de eerste bekleding en het glas, waarbij de tweede bekleding met betrekking tot de brekingsindex een gradiënt vormt 25 tussen het glas en de eerste bekleding, en waarbij deze gradiënt continu is met een geleidelijke verandering van de brekingsindex tussen glas en hé infrarood-re flecterende materiaal.15. Structure formed from at least one transparent glass sheet of the type, comprising a first inorganic coating of an infrared reflective material and of the type, which is a transparent semiconductor and exhibits iridescent colors when exposed in daylight, characterized in that the first coating is applied congruently with a second coating, which forms means for substantially reducing the iridescence of the colors of the first coating by providing at least two interfaces which, together with the mass of the second coating, form means for reflecting and refracting light in such a way that the fairness to light in daylight illumination of these iridescent colors is significantly reduced, and the. The second coating is present between the first coating and the glass, wherein the second coating with respect to the refractive index forms a gradient between the glass and the first coating, and this gradient is continuous with a gradual change of the refractive index between glass and the infrared reflective material. 16. Structuur volgens conclusie 12, met het kenmerk, dat de tveede bekleding omvat een siliciumoryxiitride-mengsel vanStructure according to claim 12, characterized in that the second coating comprises a silicon oroxyitride mixture of 30 XSi02(l-X)Si^f wMrtij X «redert val ongi-wer 1 bij het gleeppperTl* tot bijna nul bij de grens van de eerste bekleding. 17* Structuur volgens conclusie 13. met het kenmerk, dat de tweede bekleding mengsels omvat van Si^Sn^Qg of Ge Sn^Og, waarin x varieert van ongeveer 1 bij het glasoppervlak tot nul bij de 35 grens van de eerste bekleding.XSiO2 (1-X) Si ^ fWry X «saves drop approx. 1 at the gate t1 * to almost zero at the limit of the first coating. 17 * Structure according to claim 13. characterized in that the second coating comprises mixtures of Si ^ Sn ^ Qg or Ge Sn ^ Og, wherein x ranges from about 1 at the glass surface to zero at the limit of the first coating. 18. Structuur, gevormd uit tenminste één transparante 78 1 05 0 9 glasplaat van het type, omvattende een eerste anorganische bekleding van een infrarood-re flecterend materiaal en van het type, dat een transparante halfgeleider is en iriseren de kleuren vertoont bij belichting in daglicht, met het kenmerk, dat de eerste bekleding congruent is aangebracht 5 met een tweede bekleding, die middelen vormt voor het aanzienlijk verminderen van de iriseren de kleuren van de eerste bekleding door te voorzien in tenminste twee tussenvlakken, die, samen met de massa van de tweede bekleding, middelen vormen voor het reflecteren en breken van licht qp zodanige wijze, dat de waarneembaarheid bij belichting in dag-10 licht van deze iriseren de kleuren aanzienlijk wordt verminderd, en waar-bij de tveede bekleding twee lagen omvat, vaaronder (a) een film, dichter bij het glas, en met een brekingsindex, die bij benadering wordt aangegeven door de formule 0,26 OjU η = η ’ n * a sc gl 15 en (b) een tweede film, dichter bij de eerste bekleding, en met een brekingsindex, die bij benadering wordt gegeven door de formule 0,7U 0,26 η, = η n ’ , o sc gl * 20 waarin ngc de brekingsindex van de eerste bekleding en n^ de brekingsindex van het glas is.18. Structure formed of at least one transparent 78 1 05 0 9 glass plate of the type, comprising a first inorganic coating of an infrared reflective material and of the type, which is a transparent semiconductor and iridescence shows the colors when exposed in daylight characterized in that the first coating is arranged congruently with a second coating which forms means for substantially reducing the iridescence of the colors of the first coating by providing at least two interfaces which, together with the mass of the second coating, forming means for reflecting and refracting light in such a way that the perceptibility upon exposure in day-10 light of these iridescent colors is significantly reduced, and the second coating comprising two layers, including (a) a film, closer to the glass, and with a refractive index, which is approximated by the formula 0.26 OjU η = η 'n * a sc gl 15 and (b) a second film, closer to the first coating, and having a refractive index, which is approximately given by the formula 0.7U 0.26 η, = η n ', o sc gl * 20 where ngc is the refractive index of the first coating and n ^ is the refractive index of the glass. 19· Structuur, gevormd uit tenminste één transparante glasplaat van het type, omvattende een eerste anorganische bekleding van een infrarood-re flecterend materiaal en van het type, dat een trans-25 parente halfgeleider is en iriserende kleuren vertoont bij belichting in daglicht, met het kenmerk, dat de eerste bekleding congruent is aangebracht met een tweede bekleding, die middelen vormt voor het aanzienlijk verminderen van de iriserende kleuren van de eerste bekleding door te voorzien in tenminste twee tussenvlakken, die, samen met de massa van de twee-30 de bekleding, middelen vormen voor het reflecteren en breken van licht op zodanige wijze, dat de waarneembaarheid bij belichting in daglicht van deze iriserende kleuren aanzienlijk wordt verminderd, en waarbij de tweede bekleding twee lagen omvat, waaronder (a) één film dichter bij het glas, en met een bre-35 kingsindex in het tr?pct van ongeveer 1,6-1,7, en (b) een tweede film, dichter bij de eerste bekle- 78 1 0 5 0 9 33 - ding, en net een brekingsindex ia het traject van ongeveer 1,8-1,9, velke vaarden doeltrefftend zijn voor de eerste bekleding met een brekingsindex van ongeveer 2 en glas met een brekingsindex van ongeveer 1,5.Structure formed from at least one transparent glass sheet of the type, comprising a first inorganic coating of an infrared reflective material and of the type which is a trans-parent semiconductor and exhibits iridescent colors when exposed in daylight, with the characterized in that the first coating is arranged congruently with a second coating, which forms means for substantially reducing the iridescent colors of the first coating by providing at least two interfaces which, together with the mass of the second coating forming means for reflecting and refracting light in such a way that the daylight illumination perceptibility of these iridescent colors is significantly reduced, and wherein the second coating comprises two layers, including (a) one film closer to the glass, and having a refractive index in the value of about 1.6-1.7, and (b) a second film closer to the first coat 78 1 0 5 0 9 33 - d ing, and with a refractive index in the range of about 1.8-1.9, many are effective for the first coating with a refractive index of about 2 and glass with a refractive index of about 1.5. 20. Structuur volgens conclusie 19, met het kenmerk. 5 dat de tveede bekleding twee lagen omvat .waaronder (a) één film, dichter bij het glas, en met een samenstelling als vermeld in tabel B, en (b) een tveede film, dichter bij de eerste bekleding en met een samenstelling als aangegevea in tabel C van de beschrijving.Structure according to claim 19, characterized in that. 5 that the second coating comprises two layers, including (a) one film closer to the glass and having a composition as listed in Table B, and (b) a second film closer to the first coating and having a composition as indicated. in table C of the description. 21. Structuur volgens conclusie 1. met het kenmerk, dat de eerste bekleding stanni-iöxyde ia. 22.Structuur volmens conclusie 19. met het kenmerk, dat de eerste bekleding stanni-oxyde .Structure according to claim 1, characterized in that the first coating is stannous oxide. Structure according to claim 19, characterized in that the first coating is stannous oxide. 23. Structuur volgens conclusie 1, met het kenmerk. 15 dat het glas een amorfe film daarop bevat. ,2b. Structuur volgens conclusie 12. met het kenmerk, dat het glas een amorfe film daarop bevat.Structure according to claim 1, characterized in that. 15 that the glass contains an amorphous film thereon. , 2b. Structure according to claim 12, characterized in that the glass contains an amorphous film thereon. 25. Structuur volgens conclusie 18. met het kenmerk, dat het glas een amorfe film daaropbevat.Structure according to claim 18. characterized in that the glass contains an amorphous film thereon. 26. Structuur volgens conclusie 22. met het kenmerk, dat de tveede bekleding siliciuaosqrnitride is.Structure according to claim 22. characterized in that the second coating is silicon nitride. 27. Structuur volgens conclusie 23. met het kenmerk, dat de amorfe film silici umoxynitn.de is.27. Structure according to claim 23. characterized in that the amorphous film is silicon oxynitone. 28. Structuur volgens conclusie 25, met het kenmerk. 25 dat de amorfe film silici umoxyni tri de is.Structure according to claim 25, characterized in that. 25 that the amorphous film is silicic acid oxyde. 29. Structuur volgens conclusie 1. met het kenmerk, dat deze een kleurverzadigingsvaerde beneden 13 vertoont.Structure according to claim 1, characterized in that it has a color saturation value below 13. 30. Structuur volgens conclusie 1. met het kenmerk, dat deze een kleurverzadigingsvaarde beneden 8 bezit.Structure according to claim 1, characterized in that it has a color saturation value below 8. 31. Structuur volgens conclusie 1. met het kenmerk. dat deze een kleurverzadigingsvaarde beneden 5 bezit*Structure according to claim 1, characterized. that it has a color saturation value below 5 * 32. Structuur volgens conclusie 1, met het kenmeafc. dat de eerste en tveede bekledingen semen een dikte van minder dan 0,85 micron bezitten.32. Structure according to claim 1, characterized in afc. that the first and second coatings generally have a thickness of less than 0.85 microns. 33. Structuur volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de half geleiderlaag een dikte van minder dan 0,b mieren bezit. 781 0 5 0 9 3¼ 3¼. Structuur volgens conclusie 2, act het kenmerk, dat de haLfgeleiderlaag een dikte van minder dan 0,1* micron bezit.33. Structure according to claim 1, characterized in that the semiconductor layer has a thickness of less than 0.1 ants. 781 0 5 0 9 3¼ 3¼. Structure according to claim 2, characterized in that the semiconductor layer has a thickness of less than 0.1 micron. 35· Structuur volgens conclusie 12, met het kenmerk, dat de half geleiderlaag een dikte van minder dan 0,¼ micron bezit.Structure according to claim 12, characterized in that the semiconductor layer has a thickness of less than 0.5 microns. 36. Structuur volgens conclusie 18, met het kenmerk, dat de halfgeleiderlaag een dikte van minder dan 0,¼ micron bezit.Structure according to claim 18, characterized in that the semiconductor layer has a thickness of less than 0.5 microns. 37· Structuur volgens conclusie 30, met het kenmerk, dat de halfgeleiderlaag een dikte van minder dan 0,¼ micron bezit.Structure according to claim 30, characterized in that the semiconductor layer has a thickness of less than 0.5 microns. 38. Structuur volgens conclusie 2, met het kenmerk. 10 dat de structuur slechts glasplaten omvat, die gevormd zijn uit helder glas of glas met een lifcte tint, waarbij dit glas vrij is van metallische, grijze of brons achtige en andere donkert enige tinten, die de zichtbaarheid van de i rise ring kunnen onderdrukken.Structure according to claim 2, characterized in that. 10 that the structure comprises only glass plates formed of clear glass or glass of a lifelike tint, this glass being free of metallic, gray or bronze-like, and others darkening some shades which may suppress the visibility of the rise ring. 39· Structuur volgens conclusie 12, met het kenmerk, 15 dat de structuur slechts glasplaten omvat, die gevormd zijn uit helder glas of glas met lichte tint, waarbij dit glas vrij is van metallische, grijze of bronskleurige en andere donkert enige tinten, die de zichtbaar^ heid van de irisering kunnen onderdrukken. kO. Structuur volgens conclusie 19» met het kenmerk. 20 dat de structuur slechts glasplaten omvat, die gevormd zijn uit helder glas of glas met lichte tint, waarbij dit glas vrij is van metallische, grijze of bronskleurige en andere donkertonige tinten, die de zichtbaarheid van de irisering kunnen onderdrukken. U1. Structuur volgens conclusie 30, met het kenmerk, 25 dat de structuur slechts glasplaten omvat, die gevormd zijn uit helder glas of glas met lichte tint, waarbij dit glas vrij is van metallische, grijze of bronskleurige en andere donkert enige tinten,die de zichtbaarheid van de irisering kunnen onderdrukken. ¼2. Structuur volgens conclusie 23» met het kenmerk. 30 dat de structuur slechts glasplaten omvat, die gevormd zijn uit helder glas of glas van lichte tint, waarbij dit glas vrij is van metallische, grijze of bronskleurige en andere donkertonige tinten, die de zichtbaarheid van de irisering kunnen onderdrukken en de doorlating van de structuren tot minder dan ongeveer 25 % kunnen verminderen.39. Structure according to claim 12, characterized in that the structure comprises only glass plates, which are formed of clear glass or light tinted glass, this glass being free from metallic, gray or bronze colored and others darkening some shades, which suppress the iridescence. kO. Structure according to claim 19, characterized in that. 20 that the structure comprises only glass plates formed of clear glass or light tint glass, this glass being free from metallic, gray or bronze and other dark tones which may suppress the iridescence visibility. U1. Structure according to claim 30, characterized in that the structure comprises only glass plates which are formed of clear glass or light tinted glass, said glass being free of metallic, gray or bronze colored and other darkening some shades, which enhance the visibility of suppress iridescence. ¼2. Structure according to claim 23, characterized in that. 30 that the structure comprises only glass plates formed of clear glass or light tint glass, this glass being free from metallic, gray or bronze and other dark tones, which may suppress the iridescence visibility and transmission of the structures to less than about 25%. 35 U3.Structuur volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de eerste bekleding en de tweede bekleding ruimtelijk van elkaar ge- 7810509 35' scheiden elk worden gevormd, uit materialen, waarbij een van deze bekledingen van de andere van deze bekledingen in dikte verschilt met ongeveer 1A golflengte van 500 nanometer ligt, opzodanige wijze dat deze bekledingen samen middelen vormen voor bet reflecteren en breken van licht, 5 dat incoherent wordt toe gevoegd en de waarneembare irisering van deze structuur aanzienlijk vermindert. M. Structuur volgens conclusie U3, met het kenmerk, dat de eerste en tweede bekledingen aanwezig zijn pp afzonderlijke glasplaten, bevestigd in een dubbelglazige vensterstructuur. 10 1(5. Structuur volgens conclusie 1(3. met het kenmezk« dat een van de bekledingen ongeveer 0,26 micron dik en de andere van de bekledingen ongeveer 0,33 micron dik is, waarbij de beide bekledingen een brekingsindex van ongeveer 2 bezitten. 1*6. WErkwijze voor bet bekleden van transparant 15 glas met een primaire dunne transparante bekleding van een infrarooct-reflecterende halfgeleider, met het kenmerk, dat men pp het glas, alvorens een primaire infraroed-reflecterende halfgeleider pp dit glas aante brengen, een intermediaire bekleding vormt, waarbij deze intermediaire bekleding wordt gevormd uit een metaaloxyde, een metaalnitride of meng-20 seis daarvan, en met met deze intermediaire bekleding voorziet in tenminste twee tussenvlakken, die, samen met de massa van de intermediaire bekleding, middelen vormt voor het reflecteren en breken van licht pp zodanige wijze dat de aantoonbaarheid van iriserende kleuren aanzienlijk wordt verminderd.U3. Structure according to claim 1, characterized in that the first coating and the second coating are spatially separated from each other, formed from materials, one of these coatings differing in thickness from the other of these coatings. is about 1A wavelength of 500 nanometers, so that these coatings together form light reflecting and refracting means, which is added inconsistently and significantly reduces the perceptible iridescence of this structure. M. Structure according to claim U3, characterized in that the first and second coatings are present on separate glass plates, mounted in a double-glazed window structure. 1 (5. Structure according to claim 1 (3) characterized in that one of the coatings is about 0.26 microns thick and the other of the coatings is about 0.33 microns thick, the two coatings having a refractive index of about 2 1 * 6 Method of coating transparent glass with a primary thin transparent coating of an infrared reflective semiconductor, characterized in that the glass is applied before applying a primary infrared reflective semiconductor, forms an intermediate coating, said intermediate coating being formed from a metal oxide, a metal nitride, or mixed mixture thereof, and with this intermediate coating providing at least two interfaces which, together with the mass of the intermediate coating, form means for reflecting and refracting light pp in such a way that the detectability of iridescent colors is considerably reduced. 25 U7. Werkwijze volgens conclusie U6, met het kenmerk, dat de intermediaire bekleding een brekingsindex bezit, die gedefinieerd wordt als ongeveer de vierkantswortel van het produkt van de brekingsindices van het glas en de primaire bekleding. 1(8. Werkwijze volgens conclusie 1(6, met het kenmerk. 30 dat de intermediaire bekleding een dikte van ongeveer 1A golflengte van licht met een vacuum-golflengte van ongeveer 500 nanometer bezit. 1*9. Werkwijze volgens conclusie 1(7, met het kenmerk, dat de intermediaire bekleding een brekingsindex van ongeveer 1,7-1,0 en een dikte van ongeveer 6U-80 nanometer bezit.25 U7. A method according to claim U6, characterized in that the intermediate coating has a refractive index, which is defined as approximately the square root of the product of the refractive indices of the glass and the primary coating. 1 (A method according to claim 1 (6), characterized in that the intermediate coating has a thickness of about 1A wavelength of light with a vacuum wavelength of about 500 nanometers. 1 * 9. Method according to claim 1 (7, characterized in that the intermediate coating has a refractive index of about 1.7-1.0 and a thickness of about 6U-80 nanometers. 50. Werkwijze volgens conclusie 1(6. met het kenmerk, dat de intermediaire bekleding een amorf materiaal is, pp zijn minst bij 78 1 05 09 het tussenvlak daarvan met het glas, en middelen vormt voor het voorkomen van een troébelingsvorming cp het glas.50. A method according to claim 1 (6), characterized in that the intermediate coating is an amorphous material, at least at 78 1 05 09 its interface with the glass, and forms means for preventing cloud formation on the glass. 51. Werkwijze volgens conclusie k6t met het kenmerk, dat de intermediaire bekleding vordt gevormd als een gegradeerde samen- 5 stelling, die geleidelijk vermindert in het siliciumoxyde-gabalte vanaf het tussenvlak daarvan met het glas tot het tussenvlak daarvan met de primaire dunne bekleding.51. A method according to claim 26, characterized in that the intermediate coating is formed as a graded composition, which gradually decreases in the silica content from its interface with the glass to its interface with the primary thin coating. 52. Werkwijze volgens conclusie U6, met het kenmerk, dat de intermediaire bekleding siliciumorynitride omvat.A method according to claim U6, characterized in that the intermediate coating comprises silicon orynitride. 53. Werkwijze volgens conclusie U6, met het kenmerk, dat de intermediaire bekleding wordt afgezet in twee lagen en wel (a) één film, dichter bij het glas, en met een brekingsindex in het traject van ongeveer 1,6-1,7, en (b) een tweede film, dichter bij de primaire bekle-15 ding, en met een brekingsindex in het traject van ongeveer 1,8-1,9, en waarbij het glas een brekingsindex van aageveer 1,5 en de primaire bekleding een brekingsindex van ongeveer 2,0 bezit. 51*. Werkwijze volgens conclusie b6, met het kenmerk, dat de primaire halfgeleiderlaag een dikte van minder dan 0,U micron be-20 zit.A method according to claim U6, characterized in that the intermediate coating is deposited in two layers (a) one film, closer to the glass, and having a refractive index in the range of about 1.6-1.7, and (b) a second film closer to the primary coating, and having a refractive index in the range of about 1.8-1.9, and wherein the glass has a refractive index of about 1.5 and the primary coating refractive index of about 2.0. 51 *. A method according to claim b6, characterized in that the primary semiconductor layer has a thickness of less than 0.1 micron. 55. Werkwijze volgens conclusie b6, met het kenmerk, dat de halfgeleiderlaag een dikte van minder dan 0,85 micron bezit.A method according to claim b6, characterized in that the semiconductor layer has a thickness of less than 0.85 microns. 56. Werkwijze voor het voorkomen van warmteverlies uit een gebouw door transparant beglaasde oppervlakken van het gebouw, 25 terwijl men een irisering-vrij uiterlijk voor deze oppervlakke bewerkstelligt, waarbij men infraroodstraling in het gebouw terugreflecteert vanaf een dunne bekleding van een infrarood-reflecterende halfgeleider· film op het oppervlak van het glas, met het kenmerk, dat men een intermediaire laag van een metaalnitride, metaaloxyde of een mengsel daarvan 30 gebruikt tussen het glas en de dunne bekleding teneinde te voorzien in tenminste twee tussenvlakken, verbonden met de intermediaire laag, waarbij deze tussenvlakken, samen met de massa van de intermediaire laag, worden gebruikt voor het verkrijgen van het irisering-vrije uiterlijk.56. A method for preventing heat loss from a building through transparent glazed surfaces of the building, while achieving an iridescence-free appearance for this surface, reflecting infrared radiation back into the building from a thin coating of an infrared reflecting semiconductor · film on the surface of the glass, characterized in that an intermediate layer of a metal nitride, metal oxide or a mixture thereof is used between the glass and the thin coating in order to provide at least two interfaces connected to the intermediate layer, wherein these interfaces, together with the mass of the intermediate layer, are used to obtain the iridescence-free appearance. 57· Werkwijze voor het elektrisch verhitten van 35 een vensteroppervlak, terwijl men eeniriserings-vrij uiterlijk voor dit venstercppervlak bewerkstelligt, waarbij men een spanning aanlegt over de 781 0 5 0 9 dunne bekleding van een half geleiderlaag op het venster, met het kenmerk, dat men een intermediaire laag van een geleidend metaal nitride, metaal-oxyde of een mengsel daarvan ttesen bet glas en de dunne bekleding gebruikt teneinde te voorzien in tenminste twee tussenvlakken, verbonden met 5 de intermediaire laag, waarbij deze tussenvlakken, samen met de massa van de intermediaire laag, worden gebruikt voor het bewerkstelligen van bet iriserings-vrije uiterlijk.57 · A method of electrically heating a window surface while providing an iridescence-free appearance for this window surface, applying a voltage across the 781 0 5 0 9 thin coating of a semiconductor layer on the window, characterized in that an intermediate layer of a conductive metal nitride, metal oxide or a mixture thereof is used between the glass and the thin coating to provide at least two interfaces, bonded to the intermediate layer, said interfaces, together with the mass of the intermediate layer, are used to achieve iridescence-free appearance. 58. Structuur, gevormd uit tenminste één transparante glasplaat ven het type, omvattende een anorganische bekleding van 10 een infrarood-reflecterënd en otmdsch materiaal, met het kenmerk, dat de anorganische bekleding tenminste 0,85 micron dik is en middelen vormt voor het onderdrukken van een zichtbaar iriserend uiterlijk van deze bekleding, welke verschijnt bij bekledingen van het ohmische materiaal bij dikten aanzienlijk beneden 0,85 micron.58. Structure formed from at least one transparent glass sheet of the type, comprising an inorganic coating of an infrared reflecting and thermal material, characterized in that the inorganic coating is at least 0.85 microns thick and forms means for suppressing a visibly iridescent appearance of this coating, which appears on coatings of the ohmic material at thicknesses well below 0.85 microns. 59. Structuren en werkwijzen de beschreven in de beschrijving en/of voorbeelden en/of als weergegeven door de tekeningen. 781 0 5 059. Structures and methods described in the description and / or examples and / or as represented by the drawings. 781 0 5 0