NL1015405C2 - Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel. - Google Patents

Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel. Download PDF

Info

Publication number
NL1015405C2
NL1015405C2 NL1015405A NL1015405A NL1015405C2 NL 1015405 C2 NL1015405 C2 NL 1015405C2 NL 1015405 A NL1015405 A NL 1015405A NL 1015405 A NL1015405 A NL 1015405A NL 1015405 C2 NL1015405 C2 NL 1015405C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
core
boundary layer
optical fiber
jacket
mode optical
Prior art date
Application number
NL1015405A
Other languages
English (en)
Inventor
Dennis Robert Simons
Antonius Henricus Elisa Breuls
Original Assignee
Draka Fibre Technology Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL1015405A priority Critical patent/NL1015405C2/nl
Application filed by Draka Fibre Technology Bv filed Critical Draka Fibre Technology Bv
Priority to RU2003100093/28A priority patent/RU2271025C2/ru
Priority to US09/876,018 priority patent/US6754423B2/en
Priority to BRPI0111478A priority patent/BRPI0111478B1/pt
Priority to KR1020027016696A priority patent/KR100789974B1/ko
Priority to PCT/NL2001/000433 priority patent/WO2002008811A1/en
Priority to EP01938836A priority patent/EP1287392B1/en
Priority to DK01938836T priority patent/DK1287392T3/da
Priority to AT01938836T priority patent/ATE295969T1/de
Priority to DE60110909T priority patent/DE60110909T2/de
Priority to AU2001264412A priority patent/AU2001264412A1/en
Priority to CNB018109144A priority patent/CN1227547C/zh
Priority to JP2002514451A priority patent/JP4808906B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of NL1015405C2 publication Critical patent/NL1015405C2/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03694—Multiple layers differing in properties other than the refractive index, e.g. attenuation, diffusion, stress properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
    • C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
    • C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00—Fibre or filament compositions
    • C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02395—Glass optical fibre with a protective coating, e.g. two layer polymer coating deposited directly on a silica cladding surface during fibre manufacture
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03622—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 2 layers only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03638—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 3 layers only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03661—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 4 layers only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03688—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 5 or more layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10—Internal structure or shape details
    • C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10—Internal structure or shape details
    • C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/24—Single mode [SM or monomode]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Description

Korte aanduiding: Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een werkwijze 5 voor het vervaardigen van een single mode optische vezel, omvattende een licht geleidende kern, een inwendige mantel die deze kern omhult en een grenslaag die deze inwendige mantel omhult, waarbij de brekingsindexwaarde van de kern groter is dan die van de mantel- en de grenslaaggebieden en waarbij de brekingsindexwaarden van de mantel- en de 10 grenslaaggebieden nagenoeg gelijk zijn, volgens welke werkwijze een uit kwartsglas vervaardigde substraatbuis, die als grenslaag dient, inwendig wordt gespoeld met een of meer reactieve gassen ter vorming van respectievelijk de inwendige mantel en de kern, waarna de aldus inwendig van lagen voorziene substraatbuis aan een collapse-handeling wordt 15 onderworpen en tot een single mode optische vezel wordt getrokken. De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een single mode optische vezel die een licht geleidende kern, een mantel die deze kern omhult en een grenslaag die deze inwendige mantel omhult, omvat.
Optische vezels van dit type zijn algemeen bekend en worden 20 hoofdzakelijk toegepast op het gebied van telecommunicatie. Zie bijvoorbeeld de Europese octrooiaanvrage 0 127 227, het Amerikaans octrooi schrift 5.242.476 en het Amerikaans octrooi schrift 5.838.866. De in de onderhavige beschrijvingsinleiding toegepaste term "single mode"is voor de deskundigen op dit gebied algemeen bekend en hoeft daarom hier 25 niet nader te worden toegelicht. Vanwege de karakteristiek geringe demping of verzwakking en dispersie zijn dergelijke optische vezels in het bijzonder geschikt voor de vorming van dataverbindingen over lange afstand, welke verbindingen vaak vele duizenden kilometers overbruggen. Over dergelijke aanzienlijke afstanden is het van groot belang dat de 30 cumulatieve signaal verliezen in de optische vezel tot een minimum worden beperkt, indien transmissie van optische signalen moet plaatsvinden met 1015409Ü 2 een gering aantal tussenliggende versterkingsstations. Bij de gebruikelijk toegepaste transmissiegolflengte van 1550 nm wordt door de telecommunicatie-industrie in het algemeen vereist dat de totale demping of verzwakking in dergelijke optische vezels een waarde van 0,25 dB/km 5 niet overschrijdt, en bij voorkeur een waarde van 0,2 dB/km niet overschrijdt.
Hoewel de op dit moment vervaardigde vezels aan dergelijke eisen ten aanzien van toelaatbare verzwakking kunnen voldoen, wordt niettemin vaak waargenomen dat dezelfde optische vezels, na het 10 verstrijken van tijd, aanzienlijke dempingsverhogingen vertonen.
Uitvoerig onderzoek heeft aangetoond dat dit fenomeen is toe te schrijven aan het geleidelijk in de vezel binnendringen van waterstofgas vanuit de omgeving hiervan, waarbij dientengevolge de vorming van groepen zoals SiH en Si OH binnen de vezel optreedt. Deze verbindingen vertonen een sterke 15 infrarood absorptie, met dempingspieken bij golflengten van ongeveer 1530 en 1385 nm.
Een oplossing voor het overwinnen van het probleem van een dergelijke, door waterstof geïnduceerde demping is bekend uit de Europese octrooi-aanvrage 0 477 435. Volgens de daaruit bekende methode wordt een 20 gesmolten optische vezel gedurende de vervaardiging hiervan uitvoerig blootgesteld aan een waterstof bevattend gas om aldus ervoor te zorgen dat alle structurele defectplaatsen in de vezel reeds zijn voorzien van een waterstofatoom, voordat daadwerkelijk implementatie van de vezel plaatsvindt. Een nadeel van deze bekende methode is echter dat deze 25 slechts de symptomen van waterstof geïnduceerde demping aan de orde stelt en niet de oorzaken hiervan. Bovendien zorgt deze bekende maatregel voor een aanzienlijke complicatie van het vervaardigingsproces en wordt een bijkomend risico van contaminatie van de productvezel door het toegepaste waterstof bevattende gas geïntroduceerd.
30 Uit het Amerikaans octrooi schrift 5.090.979 is een methode bekend voor het vervaardigen van een optische vezel bestaande 10154 05· 3 achtereenvolgens uit een kern van zuiver siliciumdioxide, een buitenlaag van fluor gedoteerd siliciumdioxide, een substraatlaag van fluor gedoteerd siliciumdioxide en een dragerlaag van zuiver siliciumdioxide waarbij de brekingsindexwaarde van de kern nagenoeg gelijk is aan die van 5 de dragerlaag.
Uit het Amerikaans octrooi schrift 5.033.815 is een optische vezel bekend van het type multi mode, welke vezel wezenlijk verschilt van de onderhavige single mode optische vezel. Daarnaast omvat de daaruit bekende multi mode optische vezel achtereenvolgens een met Ge02 of Sb203 10 gedoteerde kern, een met F gedoteerde bekledingslaag en tenslotte een al of niet met Ti02 gedoteerde mantellaag zodat de brekingsindexwaarde van de kern hoger is dan die van de mantel- en bekledingslaag en de brekingsindexwaarde wezenlijk van de bekledingslaag lager is dan die van de mantellaag, welk brekingsindexprofiel wezenlijk verschilt van het 15 onderhavige profiel. Geen gegevens met betrekking tot axiale drukspanning zijn hieruit bekend.
Uit de Europese octrooiaanvrage 0 762 159 is een dispersie compenserende vezel bekend, omvattende achtereenvolgens een kerndeel met ten minste 10 mol% Ge02 en een bekledingsdeel, welk bekledingsdeel een 20 eerste bekledingslaag gedoteerd met fluor, een tweede bekledingslaag gedoteerd met chloor en een derde, met chloor of fluor gedoteerde bekledingslaag omvat. De dotering van de derde bekledingslaag is zodanig gekozen dat de glasviscositeit op het moment van trekken lager is dan die van zuiver siliciumdioxideglas, zodat bij het trekken een relatief lage 25 temperatuur kan worden toegepast. Geen gegevens met betrekking tot axiale drukspanning zijn hieruit bekend.
Een doel van de onderhavige uitvinding is derhalve het verschaffen van een werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel, in welke vezel de door waterstof geïnduceerde demping bij 30 een golflengte van 1550 nm voldoende laag is om ervoor te zorgen dat de totale verzwakking bij die golflengte ten hoogste 0,25 dB/km, en bij 1015405« 4 voorkeur ten hoogste 0,2 dB/km bedraagt.
Dit doel wordt volgens de onderhavige uitvinding, zoals vermeld in de aanhef, bereikt doordat de onderhavige werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel wordt gekenmerkt doordat 5 de inwendige mantel wordt opgebouwd uit Si02 dat een dotering met fluor in een hoeveelheid van 0,1-8,5 gew.% omvat, zodat de kern wordt onderworpen aan een axiale drukspanning over de volledige dwarsdoorsnede hiervan.
De onderhavige uitvinders veronderstellen dat de 10 aanwezigheid van axiale compressie in de vezel kern het optreden van de hiervoor genoemde defecten voorkomt zodat een significant verlaagde waterstof geïnduceerde verzwakking tot stand wordt gebracht. Aangezien volgens de onderhavige uitvinders de aanwezigheid van axiale spanning in een vezel kern de vorming van structurele defecten in de kern van 15 siliciumdioxide vergemakkelijkt, zal de axiale compressie in een vezel kern wezenlijk het optreden van dergelijke defecten onderdrukken, hetgeen aldus leidt tot een wezenlijk verlaagde waterstof geïnduceerde demping of verzwakking.
De onderhavige uitvinders hebben een aantal experimenten 20 uitgevoerd waarbij een voorvorm werd vervaardigd door het inwendige oppervlak van een substraatbuis achtereenvolgens te voorzien van een inwendige mantel van siliciumoxide, welke mantel is opgebouwd uit Si02, dat een dotering met fluor omvat, en een tweede gedoteerde laag siliciumoxide, welke tweede laag een hogere brekingsindexwaarde dan die 25 van de inwendige mantel bezit en de uiteindelijke kern van de vezel vormt. De aldus van kern en inwendige mantel voorziene substraatbuis werd vervolgens thermisch aan een collapse-handeling onderworpen ter vorming van een staaf, welke staaf uiteindelijk bij een gesmolten uiteinde hiervan werd getrokken tot de vereiste vezels.
30 Het verdient in de onderhavige uitvinding de voorkeur dat de inwendige mantel wordt gedoteerd met fluor in een hoeveelheid van 101§40§* 5 0,1-8,5, bij voorkeur 0,2-2,0 gew.%. Een dotering met fluor in een hoeveelheid hoger dan 8,5 gew.% is niet gewenst omdat hierbij problemen ontstaan bij het afzetten van dergelijke lagen. Een hoeveelheid fluor lager dan 0,1 gew.% geeft geen waarneembaar resultaat ten aanzien van de 5 vereiste axiale drukspanning in de kern. Een maximale dotering van 2,0 gew.% verdient met name de voorkeur indien zeer lage dempingsverliezen zijn vereist, welke dempingsverliezen negatief worden beïnvloed door de toename van Rayleigh-scattering. Uit experimenten is namelijk gebleken dat een deel van de inwendige mantel ook als lichtbaan 10 fungeert voor het licht dat in de kern van de vezel wordt getransporteerd.
Het toepassen van een dotering van fluor in de inwendige mantel heeft tot gevolg dat de brekingsindexwaarde van deze laag zal afnemen. Voor het corrigeren van deze aldus verlaagde 15 brekingsindexwaarde, welke brekingsindexwaarde bij voorkeur nagenoeg gelijk is aan die van het grenslaaggebied, wordt de inwendige mantel voorzien van zogenaamde brekingsverhogende doteringsmaterialen, bijvoorbeeld P205, Ti02, Zr0z, Sn0z, Ge0z, N of A1Z03, of een combinatie van een of meer van dergelijke verbindingen.
20 In bepaalde uitvoeringsvormen van de onderhavige werkwijze verdient het met name de voorkeur dat tussen de grenslaag en de inwendige mantel een bufferlaag wordt aangebracht, welke bufferlaag een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern en die nagenoeg overeenkomt met die van de mantel- en de grenslaaggebieden.
25 Een dergelijke bufferlaag is met name gewenst indien de optische kwaliteit van de grenslaag laag is, hetgeen betekent dat de grenslaag verontreinigingen bezit. Bij de opvolgende warmtebehandelingen voor het collapsen ter vervaardiging van de voorvorm en het vervolgens uit de voorvorm trekken van vezels kunnen dergelijke verontreinigingen 30 naar het 1ichtgeleidende deel van de optische vezel diffunderen waardoor een verhoogde demping optreedt. De toepassing van een bufferlaag voorkomt 1015409« 6 derhalve het in het lichtgeleidende deel van de vezel terechtkomen van verontreinigingen.
In een bijzondere uitvoeringsvorm van de onderhavige werkwijze verdient het ook de voorkeur dat tussen de kern en de inwendige 5 mantel een tussenlaag wordt aangebracht, welke tussenlaag een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern en die nagenoeg overeenkomt met die van de inwendige mantel- en grenslaaggebi eden.
De lichtgeleiding in de single mode optische vezel vindt 10 gedeeltelijk plaats in de laag die de kern direct omringt. Indien deze laag zwaar is gedoteerd, zijn effecten van een toegenomen Rayleigh verstrooiing waarneembaar, hetgeen tot toename van demping leidt. Een hoge dotering kan echter zijn vereist om de kern onder de gewenste axiale drukspanning te brengen. Het verdient aldus de voorkeur een tussenlaag 15 met een lage dotering aan te brengen om de eventuele negatieve effecten van extra Rayleigh verstrooiing tegen te gaan.
De inwendige mantel heeft bij voorkeur in de uiteindelijke vezel een dikte van 3-21 micrometer.
De vereiste laagdikte is afhankelijk van de doteringen in 20 de laag. Uit experimenten is gebleken dat een laagdikte beneden 3 micrometer niet voldoende is om de kern onder de gewenste axiale drukspanning te brengen, hetgeen volgens de onderhavige uitvinding is vereist. De bovengrens van de maximale laagdikte voor de inwendige mantel wordt hoofdzakelijk bepaald door de verwerkbaarheid van het uiteindelijk 25 tot een opti sche vezel te trekken vormdeel.
In een bepaalde uitvoeringsvorm is het bovendien gewenst dat de van een of meer doteringen voorziene, licht geleidende kern wordt opgebouwd uit Si02, omvattende een dotering met fluor in een hoeveelheid van 0,2-2 gew.% en een of meer doteringen die ervoor zorgen dat de kern 30 de volgens de onderhavige uitvinding gewenste brekingsindexwaarde bezit, welke brekingsindexwaarde van de kern hoger is dan die van de mantel, 1015405 7 welke doteringen bijvoorbeeld P205, Ti02, Zr02, Sn02, Ge02, N en Al203 of een combinatie van een of meer hiervan kunnen omvatten.
In een bijzondere uitvoeringsvorm verdient het de voorkeur dat de voorvorm, bestaande uit de kern, inwendige mantel en 5 grenslaag, eventueel aangevuld met buffer- en/of tussenlaag, op de buitenzijde van de grenslaag wordt voorzien van een extra laag, bijvoorbeeld in de vorm van een glazen buis of een via een uitwendige CVD-techniek opgebrachte laag.
Volgens de onderhavige uitvinding wordt het vormen van de 10 kern en inwendige mantel, eventueel de hiervoor genoemde tussen- en/of bufferlaag, uitgevoerd onder toepassing van een chemische dampdepositietechniek, in het bijzonder een PCVD-techniek, bij voorkeur plasma-geïnduceerd. Omdat de axiale lengte van een gebruikelijke substraatbuis in het bijzonder vele malen groter is dan de diameter 15 hiervan, is een gecontroleerde depositie van een uniforme materiaallaag op het inwendige oppervlak van een dergelijke substraatbuis zeer moeilijk tot stand te brengen met gebruikelijke depositietechnieken, zoals sputterdepositie of laserablatiedepositie. In de uitvoeringsvorm van PCVD kan de toegepaste chemische damp volgens gunstige wijze over de volledige 20 lengte van het inwendige van de substraatbuis worden verdeeld waardoor een zeer uniforme depositie op de inwendige wand kan plaatsvinden. Bovendien is het onder toepassing van de PCVD-techniek mogelijk om depositie van lagen met gecontroleerde doteringsniveaus uit te voeren, zodat deze techniek gunstig kan worden toegepast voor het afzetten van de 25 kern en inwendige mantel, eventueel aangevuld met de tussen- en/of bufferlagen.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een single mode optische vezel omvattende een licht geleidende kern, een inwendige mantel die deze kern omhult en een grenslaag die deze inwendige 30 mantel omhult, waarbij de brekingsindexwaarde van de kern groter is dan die van de mantel- en de grenslaaggebieden en waarbij de 1015405· 8 brekingsindexwaarden van de mantel- en de grenslaaggebieden nagenoeg gelijk zijn, welke single mode optische vezel volgens de onderhavige uitvinding wordt gekenmerkt doordat de inwendige mantel is opgebouwd uit Si02 dat een dotering met fluor in een hoeveelheid van 0,1-8,5 gew.%, bij 5 voorkeur 0,2-2,0 gew.%, omvat, zodat de kern is onderworpen aan een axiale drukspanning over de volledige dwarsdoorsnede hiervan.
In een bepaalde uitvoeringsvorm verdient het verder de voorkeur dat de single mode optische vezel zodanig is opgebouwd dat tussen de kern en de inwendige mantel een tussenlaag is aangebracht, 10 welke tussenlaag een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern en die nagenoeg overeenkomt met die van de inwendige mantel- en grenslaaggebieden.
Bovendien is het in een bijzondere uitvoeringsvorm van de onderhavige single mode optische vezel gewenst dat zich tussen de 15 grenslaag en de inwendige mantel een bufferlaag bevindt, welke bufferlaag een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern en die nagenoeg overeenkomt met die van de mantel- en grenslaaggebieden.
Daarnaast is het in bepaalde uitvoeringsvormen gewenst dat zich op de buitenzijde van de grenslaag een uitwendige mantel bevindt.
20 De onderhavige uitvinding wordt hierna aan de hand van een aantal tekeningen toegelicht, welke tekeningen slechts illustratief zijn en geen beperking voor de beschermingsomvang van de onderhavige uitvinding vormen.
Figuur 1 geeft een uitvoeringsvorm van een single mode 25 optische vezel volgens de onderhavige uitvinding weer.
Figuur 2 geeft een bijzondere uitvoeringsvorm van een single mode optische vezel volgens de onderhavige uitvinding weer, waarbij een bufferlaag is aangebracht.
Figuur 3 geeft een bijzondere uitvoeringsvorm van een 30 single mode optische vezel volgens de onderhavige uitvinding weer waarbij een tussenlaag is aangebracht.
t015405· 9
Figuren 4-6 komen overeen met de respectieve figuren 1-3, waarbij echter de grenslaag is voorzien van een uitwendige mantel.
Figuur 7 geeft een grafiek weer van de spanning versus de straal van een vezel volgens de stand van de techniek.
5 Figuur 8 geeft een grafiek weer van de spanning versus de straal van een vezel volgens de onderhavige uitvinding.
In figuur 1 is een single mode optische vezel 6 schematisch weergegeven, welke optische vezel 6 na het onderwerpen van een vormdeel aan een collapse-behandeling en het daaruit trekken van de vezel is 10 verkregen. De single mode optische vezel 6 is op te vatten als een licht geleidende kern 4, welke licht geleidende kern 4 is omhuld door een inwendige mantel 3, waarbij de inwendige mantel 3 vervolgens is omhuld door een grenslaag 1. Een substraatbuis is bijvoorbeeld geschikt om als grenslaag te fungeren. De brekingsindexwaarde van de kern 4 is groter dan 15 de brekingsindexwaarden van de inwendige mantel 3 en de grenslaag 1, waarbij de brekingsindexwaarden van de twee laatst genoemde lagen nagenoeg overeenkomen. Opgemerkt dient te worden dat de in figuren 1-6 toegepaste, dezelfde verwijzingscijfers met elkaar overeenkomen.
In figuur 2 is een bijzondere uitvoeringsvorm van de single 20 mode optische vezel 6 schematisch weergegeven, welke single mode optische vezel 6 een licht geleidende kern 4 omvat, welke licht geleidende kern 4 is omgeven door een inwendige mantel 3, welke inwendige mantel 3 is omgeven door een bufferlaag 2, welke bufferlaag 2 tenslotte is omgeven door een grenslaag 1. Een dergelijke single mode optische vezel 6 wordt 25 volgens de onderhavige werkwijze vervaardigd door een uit kwartsglas vervaardigde substraatbuis toe te passen als grenslaag 1, waarna achtereenvolgens bufferlaag 2, inwendige mantel 3 en tenslotte kern 4 door middel van een PCVD-techniek worden afgezet. Nadat de hiervoor genoemde lagen op de uit kwartsglas vervaardigde substraatbuis zijn 30 afgezet, wordt een thermische collapse-handeling uitgevoerd waarna een staafvormige voorvorm wordt verkregen waaruit tenslotte single mode Ï01§406« 10 optische vezel 6 wordt getrokken.
In figuur 3 is een bijzondere uitvoeringsvorm van de single mode optische vezel 6 schematisch weergegeven, welke single mode optische vezel 6 een kern 4 omvat, omgeven door een tussenlaag 5, welke tussenlaag 5 5 is omgeven door een inwendige mantel 3, welke inwendige mantel 3 is omgeven door een bufferlaag 2, welke bufferlaag 2 tenslotte is omgeven door een grenslaag 1. De in figuur 3 schematisch weergegeven single mode optische vezel 6 wordt volgens dezelfde wijze als beschreven in figuur 2 vervaardigd. Het is echter in bepaalde uitvoeringsvormen ook mogelijk de 10 in figuur 3 weergegeven bufferlaag 2 weg te laten zodat op de grenslaag 1 direct de inwendige mantel 3 wordt afgezet, gevolgd door tussenlaag 5 en tenslotte kern 4. Deze uitvoeringsvorm is echter niet schematisch weergegeven.
In figuur 4 is de grenslaag 1 voorzien van een uitwendige 15 mantel 7, hetgeen ook van toepassing is in figuren 5 en 5. De onderhavige uitvinding moet met name worden gezien in het onderwerpen van de kern van een single mode optische vezel aan axiale drukspanning door de inwendige mantel te doteren met fluor in een hoeveelheid van 0,1-8,5 gew.%, bij voorkeur 0,2-2,0 gew.%.
20 In figuur 7 is een grafiek weergegeven van de spanning σ als functie van de straal r van een single mode optische vezel volgens de stand van de techniek, welke vezel is samengesteld uit een kern opgebouwd uit Si02 gedoteerd met Ge02 en F, en een ongedoteerde mantel, bestaande uit Si02. De positie van de kern is met een verticale stippellijn 25 aangeduid en aldus is direct duidelijk dat de kern onder een positieve spanning, te weten trekspanning, is.
In figuur 8 is een grafiek weergegeven van de spanning o als functie van de straal r van een single mode optische vezel volgens de onderhavige uitvinding, welke vezel is samengesteld uit een kern 30 opgebouwd uit Si02 gedoteerd met Ge02 en F, en verder een inwendige mantel, welke is opgebouwd uit Si02 gedoteerd met F en Ge02 volgens 101 5405· 11 bijgevoegde figuur 5, bezit, waarbij de overige gebieden uit ongedoteerd Si02 bestaan. Ook is is de positie van de kern met een verticale stippellijn aangeduid en is direct waarneembaar dat de kern onder drukspanning is, hetgeen volgens de onderhavige uitvinding is vereist.
1015405·

Claims (10)

1. Single mode optische vezel omvattende een licht geleidende kern (4), een inwendige mantel (3) die deze kern (4) omhult en een 5 grenslaag (1) die deze inwendige mantel (3) omhult, waarbij de brekingsindexwaarde van de kern (4) groter is dan die van de mantel- en grenslaaggebieden (3,1) en waarbij de brekingsindexwaarden van de mantel-en grenslaaggebieden (3,1) nagenoeg gelijk zijn, met het kenmerk, dat de inwendige mantel (3) is opgebouwd uit Si02, omvattende een dotering met 10 fluor in een hoeveelheid van 0,1 - 8,5 gew.%, zodat de kern (4) is onderworpen aan een axiale drukspanning over de volledige dwarsdoorsnede hiervan.
2. Single mode optische vezel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat in de inwendige mantel (3) de hoeveelheid fluor 0,2 - 2,0 15 gew.% bedraagt.
3. Single mode optische vezel volgens conclusies 1-2, met het kenmerk, dat zich tussen de grenslaag (1) en de inwendige mantel (3) een bufferlaag (2) bevindt, welke bufferlaag (2) een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern (4) en die nagenoeg overeenkomt 20 met die van de inwendige mantel(3)- en grenslaag(l)gebieden.
4. Single mode optische vezel volgens conclusies 1-3, met het kenmerk, dat zich tussen de kern (4) en de inwendige mantel (3) een tussenlaag (5) bevindt, welke tussenlaag (5) een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern (4) en die nagenoeg overeenkomt 25 met die van de inwendige mantel(3)- en grenslaag(l)gebieden.
5. Single mode optische vezel volgens conclusies 1-4, met het kenmerk, dat zich op de buitenzijde van de grenslaag (1) een uitwendige mantel (7) bevindt, welke uitwendige mantel (7) een brekingsindexwaarde bezit die nagenoeg overeenkomt met die van de inwendige mantel (3)- en 30 grenslaag(l)-gebieden.
6. Single mode optische vezel volgens conclusies 1-5, met het 1015401· « kenmerk, dat de inwendige mantel (3) een dikte bezit van 3-21 μπι.
7. Single mode optische vezel volgens conclusies 1-6, met het kenmerk, dat de kern (4) is opgebouwd uit SiOz, dat een dotering met fluor in een hoeveelheid van 0,2 - 2,0 gew.% omvat.
8. Werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel, omvattende een licht geleidende kern, een inwendige mantel die deze kern omhult en een grenslaag die deze inwendige mantel omhult, waarbij de brekingsindexwaarde van de kern groter is dan die van de mantel- en grenslaaggebieden en waarbij de brekingsindexwaarden van de 10 mantel- en grenslaaggebieden nagenoeg gelijk zijn, volgens welke werkwijze een uit kwartsglas vervaardigde substraatbuis, die als grenslaag dient, wordt gespoeld met een of meer reactieve gassen ter vorming van respectievelijk de inwendige mantel en de kern, waarna de substraatbuis wordt gecollapsed en tot een single mode optische vezel 15 wordt getrokken, met het kenmerk, dat de inwendige mantel (3) wordt opgebouwd uit Si02 dat een dotering met fluor in een hoeveelheid van 0,1-8,5 gew.% omvat, zodat de kern (4) wordt onderworpen aan een axiale drukspanning over de volledige dwarsdoorsnede hiervan.
9. Werkwijze volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat in de 20 inwendige mantel (3) de hoeveelheid fluor 0,2-2,0 gew.% bedraagt.
10. Werkwijze volgens conclusies 8-9, met het kenmerk, dat tussen de grenslaag (1) en de inwendige mantel (3) een bufferlaag (2) wordt aangebracht, welke bufferlaag (2) een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern (4) en die nagenoeg overeenkomt met die van 25 de inwendige mantel(3)- en grenslaag(l)gebieden.
11. Werkwijze volgens conclusies 8-10, met het kenmerk, dat tussen de kern (4) en de inwendige mantel (3) een tussenlaag (5) wordt aangebracht, welke tussenlaag (5) een brekingsindexwaarde bezit die lager is dan die van de kern (4) en die nagenoeg overeenkomt met die van de 30 inwendige mantel(3)- en grenslaag(l)gebieden.
12. Werkwijze volgens conclusies 8-11, met het kenmerk, dat op 1015401· de buitenzijde van de grenslaag (1) een uitwendige mantel (7) wordt aangebracht, welke uitwendige mantel (7) een brekingsindexwaarde bezit die nagenoeg overeenkomt met die van de inwendige mantel (3) en grenslaag(1)gebieden.
13. Werkwijze volgens conclusies 8-12, met het kenmerk, dat het vormen van de kern (4) en de inwendige mantel (3), eventueel de uitwendige mantel (7), de tussenlaag (5) en/of bufferlaag (2), wordt uitgevoerd onder toepassing van PCVD techniek.
14. Werkwijze volgens conclusie 13, met het kenmerk, dat de
10 PCVD techniek onder plasma-inductie plaatsvindt. 9015405*
NL1015405A 2000-06-09 2000-06-09 Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel. NL1015405C2 (nl)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1015405A NL1015405C2 (nl) 2000-06-09 2000-06-09 Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel.
AT01938836T ATE295969T1 (de) 2000-06-09 2001-06-08 Monomodige optische faser und zugehöriges herstellungsverfahren
BRPI0111478A BRPI0111478B1 (pt) 2000-06-09 2001-06-08 fibra óptica de modo único, e, método para a fabricação da mesma
KR1020027016696A KR100789974B1 (ko) 2000-06-09 2001-06-08 단일 모드 광섬유 및 단일 모드 광섬유의 제조 방법
PCT/NL2001/000433 WO2002008811A1 (en) 2000-06-09 2001-06-08 Single mode optical fibre, and method for the manufacture of a single mode optical fibre
EP01938836A EP1287392B1 (en) 2000-06-09 2001-06-08 Single mode optical fibre, and method for the manufacture of a single mode optical fibre
RU2003100093/28A RU2271025C2 (ru) 2000-06-09 2001-06-08 Одномодовое оптическое волокно и способ изготовления одномодового оптического волокна
US09/876,018 US6754423B2 (en) 2000-06-09 2001-06-08 Single mode optical fibre, and method for the manufacture of a single mode optical fibre
DE60110909T DE60110909T2 (de) 2000-06-09 2001-06-08 Monomodige optische faser und zugehöriges herstellungsverfahren
AU2001264412A AU2001264412A1 (en) 2000-06-09 2001-06-08 Single mode optical fibre, and method for the manufacture of a single mode optical fibre
CNB018109144A CN1227547C (zh) 2000-06-09 2001-06-08 单模光纤及制造单模光纤的方法
JP2002514451A JP4808906B2 (ja) 2000-06-09 2001-06-08 単一モード光ファイバーおよび単一モード光ファイバーの製造法
DK01938836T DK1287392T3 (da) 2000-06-09 2001-06-08 Single-mode optisk fiber og fremgangsmåde til at fremstille en single-mode optisk fiber

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1015405 2000-06-09
NL1015405A NL1015405C2 (nl) 2000-06-09 2000-06-09 Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1015405C2 true NL1015405C2 (nl) 2001-12-12

Family

ID=19771518

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1015405A NL1015405C2 (nl) 2000-06-09 2000-06-09 Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel.

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6754423B2 (nl)
EP (1) EP1287392B1 (nl)
JP (1) JP4808906B2 (nl)
KR (1) KR100789974B1 (nl)
CN (1) CN1227547C (nl)
AT (1) ATE295969T1 (nl)
AU (1) AU2001264412A1 (nl)
BR (1) BRPI0111478B1 (nl)
DE (1) DE60110909T2 (nl)
DK (1) DK1287392T3 (nl)
NL (1) NL1015405C2 (nl)
RU (1) RU2271025C2 (nl)
WO (1) WO2002008811A1 (nl)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100322131B1 (ko) * 1999-01-28 2002-02-04 윤종용 오.에이치.차단층을 구비한 광섬유 모재 및 그 제조방법
WO2003059828A1 (fr) * 2002-01-17 2003-07-24 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Procede et dispositif de fabrication d'un tube de verre
US7079749B2 (en) * 2003-01-27 2006-07-18 Peter Dragic Waveguide configuration
WO2004083141A1 (de) * 2003-03-21 2004-09-30 Heraeus Tenevo Gmbh Rohr aus synthetischem quarzglas für die herstellung einer vorform, verfahren für seine herstellung in einem vertikalziehverfahren und verwendung des rohres
JP2005298271A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバの製造方法及び光ファイバ
FR2896795B1 (fr) * 2006-01-27 2008-04-18 Draka Compteq France Procede de fabrication d'une preforme de fibre optique
US7493009B2 (en) * 2007-05-25 2009-02-17 Baker Hughes Incorporated Optical fiber with tin doped core-cladding interface
US7848604B2 (en) 2007-08-31 2010-12-07 Tensolite, Llc Fiber-optic cable and method of manufacture
US8315495B2 (en) 2009-01-30 2012-11-20 Corning Incorporated Large effective area fiber with Ge-free core
US7689085B1 (en) 2009-01-30 2010-03-30 Corning Incorporated Large effective area fiber with GE-free core
US9052486B2 (en) 2010-10-21 2015-06-09 Carlisle Interconnect Technologies, Inc. Fiber optic cable and method of manufacture
RU2457519C1 (ru) * 2010-12-03 2012-07-27 Общество с ограниченной ответственностью "Фиберус" Интегрально-оптический волновод с активированной сердцевиной, двойной светоотражающей оболочкой и способ его изготовления
US8929701B2 (en) 2012-02-15 2015-01-06 Draka Comteq, B.V. Loose-tube optical-fiber cable
KR102029213B1 (ko) * 2017-10-30 2019-10-07 국방과학연구소 방사상 전파를 위한 광섬유 팁의 제조방법

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4468413A (en) * 1982-02-15 1984-08-28 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing fluorine-doped optical fibers
US4802733A (en) * 1985-01-11 1989-02-07 U.S. Philips Corp. Fluorine-doped optical fibre and method of manufacturing such fibre
EP0434237A2 (en) * 1989-12-22 1991-06-26 AT&T Corp. Method of producing optical fiber, and fiber produced by the method
US5033815A (en) * 1979-10-25 1991-07-23 Nippon Telephone & Telegraph Optical transmission fiber and process for producing the same
US5090979A (en) * 1989-08-02 1992-02-25 Compagnie Generale D'electricite Method of manufacturing an optical fiber preform having doped cladding
EP0477435A1 (en) * 1990-09-24 1992-04-01 Corning Incorporated Method for producing optical fiber, silicate and silica based optical fiber
US5242476A (en) * 1990-09-06 1993-09-07 Kabelmetal Electro Gmbh Process for the preparation of glass fiber optical waveguides with increased tensile strength
EP0762159A2 (en) * 1995-08-31 1997-03-12 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Dispersion-compensating fiber and method of fabricating the same
US5790736A (en) * 1995-02-21 1998-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh Quartz glass preform for optical waveguide
EP0887670A2 (en) * 1997-06-20 1998-12-30 Lucent Technologies Inc. Method of fabricating an optical fibre having low loss at 1385 nm

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5662204A (en) * 1979-10-25 1981-05-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical transmission fiber and its manufacture
JPS56121002A (en) * 1980-02-28 1981-09-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical fiber for light transmission and its manufacture
DE3376884D1 (de) * 1983-06-29 1988-07-07 Ant Nachrichtentech Single-mode w-fibre
JP3068013B2 (ja) * 1995-08-31 2000-07-24 住友電気工業株式会社 分散補償ファイバ
JP3562545B2 (ja) * 1995-12-04 2004-09-08 住友電気工業株式会社 光ファイバ用ガラス母材の製造方法
TW371650B (en) * 1995-12-04 1999-10-11 Sumitomo Electric Industries Method for producing an optical fiber quartz glass preform
JP3503427B2 (ja) * 1997-06-19 2004-03-08 ソニー株式会社 薄膜トランジスタの製造方法
JP3337954B2 (ja) * 1997-09-17 2002-10-28 株式会社フジクラ 分散補償光ファイバ
FR2792733B1 (fr) * 1999-04-26 2002-01-11 Cit Alcatel Preforme comprenant un revetement barriere contre la diffusion d'hydrogene dans la fibre optique fabriquee a partir de cette preforme et procede de preparation d'une telle preforme

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5033815A (en) * 1979-10-25 1991-07-23 Nippon Telephone & Telegraph Optical transmission fiber and process for producing the same
US4468413A (en) * 1982-02-15 1984-08-28 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing fluorine-doped optical fibers
US4802733A (en) * 1985-01-11 1989-02-07 U.S. Philips Corp. Fluorine-doped optical fibre and method of manufacturing such fibre
US5090979A (en) * 1989-08-02 1992-02-25 Compagnie Generale D'electricite Method of manufacturing an optical fiber preform having doped cladding
EP0434237A2 (en) * 1989-12-22 1991-06-26 AT&T Corp. Method of producing optical fiber, and fiber produced by the method
US5242476A (en) * 1990-09-06 1993-09-07 Kabelmetal Electro Gmbh Process for the preparation of glass fiber optical waveguides with increased tensile strength
EP0477435A1 (en) * 1990-09-24 1992-04-01 Corning Incorporated Method for producing optical fiber, silicate and silica based optical fiber
US5790736A (en) * 1995-02-21 1998-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh Quartz glass preform for optical waveguide
EP0762159A2 (en) * 1995-08-31 1997-03-12 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Dispersion-compensating fiber and method of fabricating the same
EP0887670A2 (en) * 1997-06-20 1998-12-30 Lucent Technologies Inc. Method of fabricating an optical fibre having low loss at 1385 nm

Also Published As

Publication number Publication date
DE60110909D1 (de) 2005-06-23
WO2002008811A1 (en) 2002-01-31
DE60110909T2 (de) 2006-01-19
US20020015570A1 (en) 2002-02-07
BR0111478A (pt) 2003-07-01
EP1287392B1 (en) 2005-05-18
EP1287392A1 (en) 2003-03-05
KR20030007913A (ko) 2003-01-23
AU2001264412A1 (en) 2002-02-05
DK1287392T3 (da) 2005-08-15
RU2271025C2 (ru) 2006-02-27
ATE295969T1 (de) 2005-06-15
CN1227547C (zh) 2005-11-16
BRPI0111478B1 (pt) 2015-09-15
US6754423B2 (en) 2004-06-22
JP4808906B2 (ja) 2011-11-02
CN1436310A (zh) 2003-08-13
KR100789974B1 (ko) 2007-12-31
JP2004505000A (ja) 2004-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1015405C2 (nl) Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel.
US7089765B2 (en) Method of making a jacketed preform for optical fibers using OVD
EP0381473B1 (en) Polarization-maintaining optical fiber
EP1181254B1 (en) Low water peak optical waveguide fiber and method of manufacturing same
US3932162A (en) Method of making glass optical waveguide
JP5559164B2 (ja) 曲げに強い光ファイバーを形成するための方法
US5044724A (en) Method of producing optical fiber, and fiber produced by the method
US20080050076A1 (en) Low loss photonic waveguide having high index contrast glass layers
WO2008136929A1 (en) Optical fiber containing alkali metal oxide
EP0903598A1 (en) Dispersion compensating optical fiber
CA2188377A1 (en) Optical fiber resistant to hydrogen-induced attenuation
JPS6113203A (ja) 単一モード光学繊維
CN111372899A (zh) 纤芯共掺杂了两种或更多种卤素的低损耗光纤
WO2005109055A2 (en) Long wavelength, pure silica core single mode fiber and method of forming the same
CN105911639B (zh) 一种低衰减单模光纤
KR100688631B1 (ko) 기판 튜브 및 광섬유용 예비성형체 제조방법
MXPA01010868A (es) Una fibra optica y un metodo para fabricar una fibra optica con dispersion de modo de baja polarizacion y de baja atenuacion.
US5790736A (en) Quartz glass preform for optical waveguide
WO2000044683A1 (en) Optical fiber preform having oh barrier and fabrication method thereof
TW200402401A (en) Optical fiber prefrom, method for manufacturing thereof, and optical fiber obtained by drawing thereof
NL1018239C2 (nl) Optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een optische vezel.
US20040221618A1 (en) Optical fiber preform and manufacturing method therefor
WO2001072648A1 (en) Substrate tube and process for producing a preform for an optical fiber
EP1061054A1 (en) Method of making optical fiber by a rod-in tube process and fiber made by the method
Gauthier Exotic Fibres: Multitude of application—specific optical fibres

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20060101