MXPA01001619A - Pelicula de deposicion de vapor y material de empaque. - Google Patents

Abstract

Una pelicula de deposicion de vapor, que comprende un substrato elaborado de un material de plastico, una capa de revestimiento elaborada de una composicion que comprende un organosilano trifuncional especifico o un hidrolisato del organosilano, un poliol acrilo y un compuesto de isocianato, y una capa de deposicion de vapor de oxido inorganico para un espesor de 5-300nm, formado mediante laminacion sucesiva sobre por lo menos un lado del substrato. Asi mismo, se describen materiales de empaque y paquetes que emplean dicha pelicula.

Description

PELÍCULA DE DEPOSICIÓN DE VAPOR Y MATERIAL DE EMPAQUE Campo del Invento La presente invención se refiere a una película de deposición de vapor con excelente adhesión de una capa de deposición de vapor, y a un material de empaque que utiliza la misma, y más específicamente se refiere a materiales de empaque utilizados para empaque en los campos de alimentos, no-alimentos, medicinas, etc., así como a una película de deposición de vapor que se utiliza para dichos materiales de empaque, y particularmente a materiales de empaque utilizados en campos de empaque que requieren esterilización por ebullición, esterilización por retorta, esterilización por autoclave y similares, y a una película de deposición de vapor utilizada para dichos materiales de empaque .

Antecedentes del Invento Los materiales de empaque que actualmente se utilizan para empacar alimentos, no-alimentos, medicinas, etc., deben tener la capacidad de bloquear el efecto del oxígeno, vapor de agua y otros gases que se impregnan en los materiales de empaque y alteran la calidad de sus contenidos, con el objeto de evitar dicha alteración en los contenidos y mantener sus funciones y propiedades. Por lo tanto, existe una demanda de materiales de empaque con propiedades protectoras que bloqueen estos gases. Los materiales de empaque comúnmente utilizados hasta la fecha, han empleado hojas de metal de aluminio, etc., como capas protectoras, debido a que éstas no son afectadas de manera importante por la temperatura y humedad. Sin embargo, aunque los materiales de empaque emplean aluminio y otras hojas de metal que tienen excelentes propiedades de protección contra gases, han existido problemas debido a sus inconvenientes, los cuales incluyen el hecho de que los materiales de empaque no son lo suficientemente transparentes para permitir una verificación visual de sus contenidos, a que dichos materiales para empaque deben ser tratados como no-combustibles cuando son desechados después de utilizarse, y a que no se pueden utilizar detectores de metal para su revisión. Como materiales de empaque diseñados para superar estos inconvenientes, se han desarrollado películas en donde se ha formado óxido de silicón, óxido de magnesio u otra película de deposición de vapor de óxido inorgánico sobre una película de polímero, a través de un medio de formación tal como, deposición o deposición electrónica de vapor al vacío, como se describe, por ejemplo, en la Patente Norteamericana No. 3,442,686, en la Publicación de Patente Japonesa No. Sho 63-28017, etc. Dichas películas de deposición de vapor, son conocidas por ser transparentes con propiedades de protección contra oxígeno, vapor de agua y similares, y por lo tanto, son adecuadas como materiales de empaque para proporcionar tanto la transparencia como las propiedades de protección contra gases, las cuales no se pueden obtener con hojas de metal, etc. Sin embargo, aunque dichas películas son adecuadas para los materiales de empaque descritos anteriormente, virtualmente ninguna de ellas se pueden utilizar solas como películas de deposición de vapor, para contenedores de empaque y materiales de empaque. Esto se debe a que los paquetes son terminados pasando por un procesamiento posterior a la deposición de vapor, lo cual involucra varios pasos, tales como la impresión de caracteres e imágenes sobre la superficie de la película de deposición de vapor, o adhesión a otras películas, etc., y la formación en paquetes para contenedores y similares. En particular, debido a que los materiales para empaque sometidos a esterilización por ebullición, esterilización por retorta o esterilización por autoclave son esterilizados a través de muchos pasos diferentes, se debe tener mucho cuidado en el diseño de dichos materiales de empaque Cuando se han realizado intentos para utilizar estos tipos de películas de deposición de vapor en combinación con películas selladoras para preparar bolsas, las cuales posteriormente son llenadas con contenidos y sometidas a esterilización por ebullición o esterilización por retorta, el desprendimiento de la capa de deposición de vapor ha surgido en partes de las secciones selladas, dando como resultado una apariencia exterior deficiente, mientras que las propiedades de protección contra gases también son reducidas en dichas secciones, conduciendo a una alteración en la calidad de los contenidos. En otras palabras, las condiciones para materiales de empaque en dichas situaciones, incluyen transparencia, la cual permite que los contenidos sean vistos directamente, propiedades superiores de protección contra gases, para bloquear los gases que afectan de manera adversa los contenidos, y resistencia al tratamiento de esterilización sin deterioro de las propiedades de protección contra gases, y sin desprendimiento después de la esterilización por ebullición, de la esterilización por retorta y de la esterilización por autoclave; sin embargo, en la actualidad, no se han descubierto materiales de empaque que satisfagan todas estas condiciones. Los materiales de empaque convencionales, también han tenido el problema del deterioro de la resistencia al agua, y de manera especial, una resistencia de laminado más deficiente después de exponerse al agua.

Sumario del Invento Es un primer objeto de la presente invención, proporcionar una película de deposición de vapor la cual permite una visibilidad directa de los contenidos, y la cual tiene propiedades superiores de protección contra gases comparadas con las de las hojas de aluminio. En particular, se proporciona una película de deposición de vapor la cual no exhibe desprendimiento de la capa de deposición de vapor del substrato, o el deterioro de sus propiedades de protección contra gases, aún después de la esterilización por ebullición o esterilización por retorta, y sin pérdida de resistencia de laminado después de la exposición al agua, prometiendo de este modo, un amplio rango de posibles usos en materiales de empaque con una utilidad general para alimentos, no-alimentos, medicinas y similares . Es un segundo objeto de la presente invención, proporcionar un material de empaque elaborado utilizando esta película de deposición de vapor, el cual es un material de empaque muy práctico con propiedades superiores de protección contra gases y con una alta resistencia a la esterilización, sin sufrir la pérdida de sus propiedades y sin el desprendimiento de la capa de deposición de vapor del substrato, aún después de la esterilización por ebullición o la esterilización por retorta. Es un tercer objeto de la presente invención, proporcionar paquetes en forma de bolsa elaborados utilizando el material de empaque, los cuales son paquetes que no sufren deterioro en cuanto a la permeabilidad al oxígeno o en la resistencia de laminado después del tratamiento de esterilización, y los cuales virtualmente no exhiben desprendimiento de las capas de deposición de vapor de sus substratos. A fin de lograr los objetos antes mencionados, la presente invención proporciona una película de deposición de vapor que comprende un substrato elaborado de un material de plástico transparente, una capa de revestimiento que comprende una composición la cual contiene un organosilano trifuncional representado por la fórmula general R'Si(OR)3 (en donde R' es un grupo alquilo, un grupo vinilo, etc., substituido o no substituido, y R es un grupo alquilo, etc.), o un hidrolisato del organosilano, un compuesto de poliol acrilo y un isocianato, y una capa de deposición de vapor que comprende un óxido inorgánico en un espesor de 5~300nm, formado mediante laminación sucesiva en por lo menos un lado del substrato.

La presente invención, proporciona adicionalmente la película de deposición de vapor antes mencionada, en donde R' en el organosilano trifuncional, es un grupo alquilo que incluye un grupo epóxido o un grupo isocianato. Preferentemente se agrega a la composición antes mencionada un catalizador de reacción para la capa de revestimiento. En particular, el catalizador de reacción puede ser un compuesto de estaño, y preferentemente, es un compuesto de estaño seleccionado del grupo que consiste de cloruro de estaño, oxicloruro de estaño y alcoxidos de estaño . Es preferido agregar adicionalmente a la composición, un alcoxido de metal representado por la fórmula general M(0R)n (en donde M es un elemento de metal, R es un grupo alquilo tal como CH3, C2H5 , etc., y n es el número de oxidación del elemento de metal) o un hidrolisato del alcoxido de metal. Aquí, el metal del alcoxido de metal es preferentemente un metal seleccionado del grupo que consiste de Si, Al, Ti, Zr y sus mezclas. El espesor de la capa de revestimiento, está preferentemente dentro del rango de 0.01~2µm mieras. El óxido inorgánico de la capa de deposición de vapor, es seleccionado del grupo que consiste de óxido de aluminio, óxido de silicón, óxido de magnesio y sus mezclas .

También su puede laminar sobre la capa de deposición de vapor una capa de revestimiento excesivo, y es preferible que la capa de revestimiento excesivo sea una capa obtenida mediante aplicación, calentamiento y secado de un agente de revestimiento compuesto principalmente de una solución acuosa o una solución de mezcla acuosa/alcohol que contiene un polímero soluble en agua y cualesquiera o ambos de (a) por lo menos un alcoxido de metal o hidrolisato del mismo, y (b) cloruro de estaño. Aquí, el alcoxido de metal es seleccionado preferentemente del grupo que consiste de tetraetoxisilano, triisopropoxialuminio y mezclas de los mismos. El polímero soluble en agua es preferentemente alcohol polivinílico. La presente invención proporciona todavía adicionalmente, un material de empaque preparado mediante laminación de la película de deposición de vapor antes mencionada, y una capa de sello por calor sobre el lado de la capa de deposición de vapor o de la capa de revestimiento excesivo. La presente invención, proporciona adicionalmente paquetes elaborados en forma de bolsa, utilizando el material de empaque antes mencionado.

Breve Descripción de los Dibujos A continuación, la presente invención será explicada con mayor detalle con referencia a los dibujos, en los cuales : La Figura 1, es una vista parcial de sección transversal de una película de deposición de vapor, de acuerdo con una modalidad de la presente invención; La Figura 2, es una vista parcial de sección transversal de una película de deposición de vapor de acuerdo con otra modalidad de la presente invención; La Figura 3, es una vista parcial de sección transversal de un material de empaque, preparado utilizando una película de deposición de vapor de acuerdo aún con otra modalidad de la presente invención; y La Figura 4, es una vista en perspectiva de una modalidad de un paquete elaborado utilizando el material de empaque mostrado en la Figura 3.

Descripción Detallada de las Modalidades Preferidas La Figura 1 y la Figura 2, son vistas de sección transversal de películas de deposición de vapor de acuerdo con las modalidades de la presente invención. En la Figura 1, el substrato 1 es una película elaborada de un material de plástico. Sobre el substrato 1, existe el laminado en forma sucesiva de una capa de revestimiento 2, elaborada de una composición que comprende un organosilano trifuncional, un compuesto de poliol acrilo o un isocianato, y una capa de deposición de vapor 3 que contiene un óxido inorgánico. En la Figura 2, una capa de revestimiento excesivo 4 se lamina en forma adicional en el mismo. El substrato 1 es un material de plástico, y se prefiere una película transparente para aprovechar la transparencia de la capa de deposición de vapor. Como ejemplos de substratos, se pueden mencionar películas de poliéster, tales como tereftalato de polietileno (PET) y naftalato de polietileno; películas de poliolefína, tales como polietileno y polipropileno; películas de poliestireno; películas de poliamida; películas de cloruro de polivinilo; películas de policarbonato; películas de poliacrilonitrilo; y películas de poliimida. El substrato puede ser estirado o no estirado, y debe tener cierta resistencia mecánica y estabilidad dimensional. Las películas de tereftalato de polietileno estiradas de manera opcional en direcciones biaxiales, son particularmente preferidas entre estas. Un lado opuesto del mismo substrato, en el cual se forma la capa de deposición de vapor, también puede ser cubierto con películas delgadas formadas de cualesquiera de varios aditivos y estabilizadores bien conocidos, incluyendo agentes antiestática, inhibidores de rayos ultravioleta, plastificadores, lubricantes y similares. Para una mejor adhesión con estas películas delgadas, el lado cubierto del substrato puede ser sometido a cualquier tipo de tratamiento previo, tal como tratamiento de corona, tratamiento de plasma de baja temperatura, tratamiento de bombardeo de iones, tratamiento químico, tratamiento de solventes, etc. El espesor del substrato no esta bajo cualesquiera restricciones particulares, y desde el punto de vista de la conveniencia como material de empaque, la película puede ser laminada con una película de una naturaleza diferente a la de la propia película. Desde el punto de vista de la capacidad de operación cuando se forma la capa de revestimiento y la capa de deposición de vapor de óxido inorgánico, así como la capa de revestimiento excesivo, se prefiere un rango práctico de 3~200µm mieras, siendo particularmente preferido 6~30µm mieras. Desde un punto de vista de productividad, se prefiere una película larga, continua, la cual permite una formación continua de cada una de las capas antes mencionadas . La capa de revestimiento de la presente invención, se forma sobre el substrato elaborado de un material de plástico, y esta capa sirve para incrementar la adhesión entre el substrato y la capa de deposición de vapor de óxido inorgánico después de la esterilización por ebullición, esterilización por retorta o esterilización por autoclave. Como resultado de una investigación más diligente, los inventores de la presente invención, han descubierto que, con el fin de lograr el objeto antes mencionado de la presente invención, se pueden utilizar en la forma de la capa de revestimiento, composiciones de organosilanos trifuncionales o sus hidrolisatos con compuestos de poliol acrilo e isocianato, A continuación se explicara con mayor detalle, la composición de la capa de revestimiento. El organosilano trifuncional utilizado de acuerdo con la presente invención, es un compuesto representado por la fórmula general R'Si(0R)3 (en donde R' es un grupo alquilo, un grupo vinilo substituido o no substituido, etc., y R es un grupo alquilo, etc.) . Aquí, el substituyente de R' incluye preferentemente un grupo epóxido o un grupo isocianato. Como compuestos de ejemplos específicos, se pueden mencionar etiltrimetoxisilano y viniltrimetoxisilano ; propiltrimetoxisilano de glicidoxi, trimetoxisilano de glicidoxi y trimetoxisilano de epoxiciclohexilet ilo , en donde R' incluye un grupo epóxido; y propiltrimetoxisilano ?-isocianato y propiltrietoxisilano ?-isocianato, en donde R' incluye un grupo de isocianato. Estos compuestos deben ser utilizados solos o en combinaciones de dos o más. El organosilano trifuncional utilizado de acuerdo con la presente invención, también puede ser un hidrolisato del compuesto representado por la fórmula general R'Si(OR)3 (en donde R' es un grupo alquilo, un grupo vinilo, etc., substituido o no substituido, y R es un grupo alquilo, etc.) . Aquí, el substituyente de R' incluye preferentemente un grupo epóxido. En este caso aplican los mismos compuestos del ejemplo específico mencionado anteriormente. El proceso utilizado para obtener hidrolisatos de estos compuestos, puede ser un proceso conocido que comprende la adición directa de un ácido o álcali al - organosilano trifuncional. El poliol acrilo utilizado de acuerdo con la presente invención, es un compuesto de polímero obtenido mediante la polimerización de un monómero de derivado de ácido acrílico o un compuesto de copolímero obtenido mediante la copolimerización de un monómero de derivado de ácido acrílico u otro monómero, teniendo también el compuesto de (co) polímero un grupo hidroxilo terminal para que reaccione con el grupo de isocianato del compuesto de isocianato, el cual es agregado en forma subsecuente. Entre estos compuestos es preferible utilizar polioles de acrilo obtenidos mediante polimerización simple de monómeros de derivado de ácido acrílico, tales como (met ) acrilato de etilo, (met ) acrilato de hidroxietilo, (met ) acrilato de hidroxipropilo y (met ) acrilato de hidroxibut i lo , u obtenidos mediante copolimerización a través de la adición de otro monómero, tal como estireno. Desde el punto de vista de reactividad con el compuesto de isocianato, se prefiere que el valor hidroxi esté entre 5 y 200 (KOHmg/g) . La proporción de mezcla del poliol acrilo y el organosílano trifuncional, es preferentemente del rango de 1/1 a 100/1 y más preferentemente del rango de 2/1 a 50/1, en términos de proporción de peso. Cuando se combina el poliol acrilo con el organosilano trifuncional no se necesita catalizador, cuando R' en la fórmula general antes mencionada no incluye un grupo isocianato. Sin embargo, con el objeto de promover la reacción, se prefiere la adición de un catalizador de reacción cuando se combina el poliol acrilo con un organosilano trifuncional diferente al organosilano trifuncional con un grupo de isocianato. Desde el punto de vista de la reactividad y la estabilidad de la polimerización, el catalizador agregado es preferentemente un compuesto de estaño, tal como cloruro de estaño (SnCl2, SnCl4), oxicloruro de estaño (SnOHCl, Sn(OH)2Cl2), un alcoxido de estaño o similares. Estos catalizadores pueden ser agregados directamente durante la mezcla, o pueden ser disueltos, para adición, en un solvente tal como metanol. Debido a que, cuando la cantidad es demasiado grande o demasiado pequeña no se puede lograr el efecto catalizador, es preferible agregarla dentro del rango de desde 1/10 hasta 1/10000, y más preferentemente desde 1/100 hasta 1/20000, en la forma de una proporción molar con respecto al organosilano trifuncional. Con el propósito de incrementar la adhesión entre el substrato y la capa de deposición de vapor de óxido inorgánico, mediante el enlace de uretano que resulta de la reacción con el poliol acrilo, se agrega el compuesto de isocianato utilizado para la presente invención, y funciona principalmente como un agente de enlace transversal o de endurecimiento. Los compuestos de isocianato que pueden ser utilizados para lograr este objeto, incluyen monómeros, tales como monómero aromático, monómero alifático, tal como diisocianato de tolueno (TDI), diisocianato de difenilmetano (MDI), y diisocianato de xileno (XDI), diisocianato de hexametileno (HMDI) y diisocianato de isoporona (IPDI), así como sus polímeros y derivados. Estos compuestos pueden ser utilizados solos o en combinaciones. La proporción de mezclado del poliol acrilo y el compuesto de isocianato, no esta restringida en forma particular, pero si el compuesto de isocianato es deficiente, el endurecimiento puede no ser satisfactorio, y si es excesivo, puede surgir un bloqueo que' cause problemas durante el funcionamiento. Por lo tanto, es preferible que la proporción de mezclado del poliol acrilo y el compuesto de isocianato, sea de tal manera que el número de grupos de isocianato del compuesto de isocianato no sea mayor a 50 veces el número de grupos hidroxilo del poliol acrilo. Es más preferible que los grupos de isocianato y los grupos hidroxilo estén en una proporción equivalente. El método de mezclado puede ser cualquier método conocido y no está restringido de manera particular . Para una estabilidad de la solución mejorada, cuando se prepara la solución de la composición, se puede agregar un alcoxido de metal o su hidrolisato. El alcoxido de metal, es un compuesto representado por la fórmula general (MOR)n/ en donde M es un metal, tal como Si, Al, Ti o Zr y R es un grupo alquilo, tal como CH3 ó C2H5. Se pueden mencionar de manera específica, tetraetoxisilano [Si ) OC2H5 ) 4] y tripropoxialuminio [Al (OC3H7) 3] . Entre estos, se prefieren tetraetoxisilano, tripropoxialuminio y mezclas de los mismos, debido a su relativa estabilidad en solventes acuosos. El método utilizado para obtener un hidrolisato de alcoxido de metal, puede comprender la hidrólisis con el organosilano trifuncional antes mencionado, ' o se puede agregar por separado el hidrolisato de acoxido de metal. Desde el punto de vista de la estabilidad de la solución, la proporción de mezclado del organosilano y el alcóxido de metal, preferentemente está dentro del rango de una proporción molar de desde 10:1 hasta 1:10. No existen restricciones particulares con respecto a la película revestida de esta composición, y por ejemplo, se puede revestir sobre la superficie una solución preparada mediante cualesquiera de los métodos que se describen a continuación. l)Una solución preparada mezclando el poliol acrilo y el compuesto de isocianato con el producto de la reacción de hidrólisis anterior del organosilano trifuncional (en donde se puede utilizar el catalizador de reacción antes mencionado) ; 2 ) Una solución preparada mezclando el poliol acrilo y el compuesto de isocianato con el organosilano que ha pasado por reacción de hidrólisis con un alcóxido de metal (en donde se puede utilizar el catalizador de reacción antes mencionado) ; 3 ) Una solución preparada, mezclando en primer lugar el organosilano trifuncional y el poliol acrilo en un solvente (en donde también se pueden agregar el catalizador de reacción y el alcoxido de metal antes mencionados) , sometiendo la mezcla a reacción de hidrólisis, y agregando posteriormente al producto de la misma, el compuesto de isocianato; 4) Una solución preparada agregando el organosilano trifuncional y el poliol de acrilo (en donde también se pueden agregar el catalizador de reacción antes mencionado y el alcoxido de metal) . Dependiendo de las necesidades, también se pueden agregar varios aditivos, por ejemplo, aceleradores de endurecimiento tales como aminas terciarias, derivados de imidazole, compuestos de sal de metal de ácido carboxílico, sales de amonio cuaternario, y sales de fosfonio cuaternario, antioxidantes tales antioxidantes basados en fenol, antioxidantes basados en sulfuro y antioxidantes basadas en fosfito, agentes de nivelación, ajustadores de flujo, catalizadores, aceleradores de reacción de enlace transversal, rellenadores y similares. El solvente o solvente de dilución en la solución utilizada para formar la capa de revestimiento, no está restringido, siempre y cuando tenga la capacidad de disolver o diluir cada uno de los componentes que forman la capa de revestimiento. Por ejemplo, cuando se utiliza un organosilano trifuncional, es adecuado un éster tal como acetato de etilo o acetato de butilo, y cuando se utiliza un hidrolisato de organosilano trifuncional, es adecuado un solvente mezclado de un éster con un alcohol, tal como metanol, etanol o alcohol isopropílico. Además de estos solventes, también se pueden utilizar solas o en combinación, cetonas tales como cetona de etil metilo e hidrocarburos aromáticos, tales como tolueno y xileno. En particular, ya que las soluciones acuosas de ácido clorhídrico y similares, algunas veces se utilizan para la hidrólisis de organosilanos trifuncionales, es importante utilizar un solvente mezclado del solvente polar, tal como acetato de etilo en una mezcla con alcohol isopropílico o similares, en la forma de un cosolvente . El espesor de la capa de revestimiento, no está restringido de manera particular, siempre y cuando se forme una película revestida de manera uniforme. Sin embargo, generalmente se prefiere que el espesor de la película seca (parte sólida) , esté dentro del rango de 0.01~2µm mieras. Si el espesor es menor a O.Olµm mieras, se vuelve imposible mantener la flexibilidad de la película revestida, debido a su espesor, aunque también se vuelve un aspecto de interés, el riesgo de agrietamiento de la película revestimiento debido a factores externos. Un rango particularmente preferido para el espesor de la capa de revestimiento es desde 0.05~0.5µm mieras. El método que se utiliza para formar la capa de revestimiento, puede ser por ejemplo, un proceso de impresión bien conocido, tal como impresión offset, impresión por grabado, impresión de pantalla de seda, etc., o un proceso de aplicación bien conocido, tal como revestimiento por rodillo, revestimiento con borde de cuchillo, revestimiento por grabado, etc. Las condiciones de secado, pueden ser las condiciones que se emplean comúnmente. La capa de deposición de vapor de óxido inorgánico, es una capa de deposición de vapor de un óxido inorgánico que comprende óxido de aluminio, óxido de silicón, óxido de estaño, óxido de magnesio o una mezcla de los mismos. La capa debe ser transparente y debe tener propiedades de protección contra gases, tales como oxígeno, vapor de agua, etc. Particularmente preferidoas entre éstos, son el óxido de aluminio y el óxido de silicón. Sin embargo, la capa de deposición de vapor de la presente invención no se limita a los óxidos inorgánicos antes mencionados, y se puede utilizar cualquier otro material que cumpla con los requerimientos antes mencionados . El espesor óptimo de la capa de deposición de vapor, dependerá del tipo y estructura del óxido inorgánico utilizado, pero generalmente se prefiere que sea seleccionado en forma adecuada dentro del rango de 5~300nm. Si el espesor de la película es menor a 5nm, puede no ser posible obtener una película uniforme y el espesor de la película puede ser inadecuado, lo cual puede evitar que lleve a cabo adecuadamente su función como un material de protección contra gases. Si el espesor de la película está arriba de 300nm, se vuelve imposible mantener la flexibilidad de la película delgada, presentando el riesgo de que dicha película delgada se agriete debido a factores externos, tales como doblamiento o estiramiento después de la formación de la película. Un rango preferido para el espesor de la capa de deposición de vapor es de desde 10 hasta 150nm.

Existen muchos métodos diferentes para la formación de la capa de deposición de vapor de óxido inorgánico en la capa de revestimiento, y se puede emplear una deposición de vapor al vacío común. También se pueden utilizar otros métodos para formar una película delgada, tales como métodos de deposición electrónica, de crecimiento de fase de vapor de plasma y el cultivo sobre placa de iones (CVD) . Sin embargo en la actualidad, desde el punto de vista de la productividad, la deposición de vapor al vacío, es un método superior. El medio de calentamiento utilizado para la deposición de vapor al vacío, preferentemente es un sistema de calentamiento por rayo de electrones, un sistema de calentamiento por resistencia o un sistema de calentamiento por inducción. Para una mejor adhesión entre la capa de deposición de vapor y el substrato, y una densidad mayor de la capa de deposición de vapor, la deposición de vapor se puede llevar a cabo a través del método asistido por plasma o el método asistido por rayo de iones. Para una mayor transparencia de la película de deposición de vapor, la reacción de deposición de vapor se puede llevar a cabo mientras es soplado en gas de oxígeno o similares. Con el objeto de proporcionar propiedades superiores de protección contra gases, dependiendo de la calidad requerida, se puede formar de manera opcional un revestimiento excesivo sobre la capa de deposición de vapor de óxido inorgánico. La capa de revestimiento excesivo, se forma utilizando un agente de revestimiento compuesto principalmente en una solución acuosa o en una solución mezclada agua/alcohol, la cual contiene un polímero soluble en agua, y ya sea cualesquiera o ambos de (a) por lo menos un alcoxido de metal o un hidrolisato del mismo, y (b) cloruro de estaño. Esta puede ser, por ejemplo, una solución preparada disolviendo el polímero soluble en agua y el cloruro de estaño en un solvente acuoso (agua o mezcla de agua/alcohol), o dicha solución puede ser modificada con una mezcla con un alcoxido de metal directamente o después de su hidrólisis u otro tratamiento. Después del revestimiento con la solución sobre la capa de deposición de vapor de óxido inorgánico, ésta es calentada y secada para formar la capa. A continuación se describirán con mayor detalle, los diferentes componentes incluidos dentro del agente de revestimiento . Como polímeros solubles en agua que se utilizarán en el agente de revestimiento de la presente invención, se pueden mencionar alcohol polivinílico, polivinilpirrolidona, almidón, celulosa de metilo, celulosa de carboximetilo, alginato de sodio, etc. En particular, el alcohol polivinílico (en lo sucesivo llamado simplemente PVA) , tiene la propiedad de protección contra gases más excelente, cuando se utiliza en el agente de revestimiento de la presente invención. El PVA generalmente se obtiene mediante saponificación del acetato de polivinilo. El PVA, no está restringido en forma particular e incluye, por ejemplo, PVA parcialmente saponificado en donde permanece el 10%, 20% o más los grupos de acetato, o PVA total en donde permanece únicamente un pequeño porcentaje de los grupos de acetato. El cloruro de estaño utilizado en el agente de revestimiento, puede ser cloruro de estaño (SnCl2) , cloruro estánnico (SnCl4) o una mezcla de los mismo. Estos compuestos de cloruro de estaño, pueden ser anhidratos o hidratos. El alcoxido de metal es un compuesto representado por la fórmula general M(0R)n, en donde M es un metal tal como, Si, Ti, Al o Zr, y R es un grupo alquilo tal como, Ch3 o C2H5. Se pueden mencionar en forma específica, tetraetoxisilano [Si(OC2H5)4] y triisopropoxialuminio [Al (0-2 ' -C3H7) 3] , siendo preferidos tetraetoxisilano y triisopropoxialuminio debido a su relativa estabilidad en solventes acuosos después de la hidrólisis. Si es necesario, se puede agregar un aditivo conocido, tal como un compuesto de isocianato o un agente de acoplamiento de silano o un agente de dispersión, estabilizador, ajustador de viscosidad, agente de coloración o similares, hasta un punto tal en el que no se perjudiquen las propiedades de protección contra gases del agente de revestimiento. Los ejemplos preferidos de compuestos de isocianato que pueden ser agregados al agente de revestimiento, incluyen los que tienen dos o más grupos de isocianato en la molécula. Por ejemplo, se pueden mencionar diisocianato de tolueno, triisocianato trifenilmetano , diisocianato tetramet ilxileno y otros monómeros, así como sus polímeros y derivados. El método para aplicar el agente de revestimiento, puede emplear un medio bien conocido que se utiliza para métodos de inmersión, métodos de revestimiento por rodillo, métodos de impresión por pantalla, métodos de rociado y similares. El espesor de la película revestida, será diferente dependiendo del tipo de agente de revestimiento y de las condiciones de operación; el espesor posterior al secado puede ser de O.Olµm mieras o mayor, pero si el espesor excede de 50µm, tenderán a surgir grietas en la película, y por lo tanto, es preferido el rango de 0.01~50µm mieras. También se pueden laminar otras capas sobre la capa de deposición de vapor de óxido inorgánico o sobre la capa de revestimiento excesivo. Los ejemplos de las mismas, incluyen capas impresas, películas de capas internas, capas de sellos por calor, etc. Se forma una capa impresa para la aplicación práctica en la forma de una bolsa de empaque o similar. Esta es, por ejemplo, una capa compuesta de una tinta preparada agregando un aditivo, tal como cualesquiera de varios pigmentos, pigmentos de extensión, plastif icadores , disecadores, estabilizadores y similares, a una resina enlazadora de tinta empleada en forma convencional, la cual está basada en uretano, basada en acrílico, basada en nitrocelulosa, basada en caucho, basada en cloruro de vinilo, etc. La impresión forma caracteres, imágenes y similares. El proceso de formación puede ser un proceso de impresión bien conocido, tal como impresión offset, impresión por gravado o impresión por pantalla de seda, o un proceso de aplicación bien conocido, tal como revestimiento por rodillo, revestimiento por borde de cuchillo o revestimiento por gravado. El espesor de la película seca (parte sólida) de la capa impresa, puede ser de desde O .1 hasta 2. Oµm mieras . Se forma una película de capas internas, entre la capa de deposición de vapor o la capa de revestimiento excesivo y la capa de sello por calor, con el objeto de incrementar la resistencia a la ruptura durante la esterilización por ebullición o por retorta, y desde el punto de vista de resistencia mecánica o estabilidad térmica, generalmente debe ser de un tipo seleccionado de entre películas de nylon estiradas en forma biaxial, películas de tereftalato de polietileno estiradas en forma biaxial y películas de polipropileno estiradas en forma biaxial. Su espesor se determinará, con base en el material y calidad requerida, pero éste generalmente está dentro del rango de 10~30µm. El método de laminación puede ser un método conocido, tal como laminación en seco que comprende la unión utilizando un agente adhesivo, tal como una resina basada en uretano tipo curación de dos partes. Se proporciona una capa de sello por calor, en la forma de una capa de adhesivo cuando forma paquetes tipo bolsa. Los ejemplos de resinas que pueden ser utilizados para la capa de sello por calor incluyen polietileno, polipropileno, copolímero de acetato de etileno de vinilo, copolímero de ácido de etileno-metacrílico, copolímero de éster de ácido de etileno-metacrílico, copolímero de ácido de etileno-acrí lico , copolímero de éster de ácido de etileno-acrí lico y formas de metal enlazado de los mismos. El espesor se determinará basándose en los propósitos, pero generalmente está dentro del rango de 15~200µm micas. El método de laminación, generalmente será un método tal como laminación en seco que comprende la unión de una película de resina, utilizando un agente adhesivo tal como una resina basada en uretano tipo curación de dos partes, pero también se pueden utilizar para la laminación otros métodos conocidos. Se puede utilizar un material de empaque que emplea una película de deposición de vapor de acuerdo con la presente invención, en la forma de un material de empaque en el campo de los alimentos, no alimentos y medicinas. En particular cuando se utiliza como un material de empaque para esterilización por ebullición, esterilización por retorta o esterilización por autoclave, proporciona un material con excelente transparencia y propiedades de protección contra gases, mientras que también evita el problema del desprendimiento, etc. Es posible cualquier forma de empaque que emplee el material de empaque de la presente invención, y como ejemplos se pueden mencionar saquitos sellados por tres lados, saquitos sellados por cuatro lados, saquitos tipo vertical, saquitos tipo almohadilla y similares. El empaque también puede estar en una forma con una revestimiento que sella la apertura de un contenedor abierto. Se puede utilizar un método bien conocido, como el método para dar forma. La Figura 3, es una vista de sección transversal de la estructura de la capa de un material de empaque de acuerdo con una modalidad de la presente invención. En este dibujo, el número de referencia 1 denota un substrato, el 2 una capa de revestimiento, el 3 una capa de deposición de vapor, el 4 una capa de revestimiento excesivo, el 5 una capa de adhesivo, el 6 una película de capas internas, el 7 otra capa de adhesivo y el 8 una capa de sello por calor. Las capas de sello por calor de los materiales de empaque construidos en esta forma, están unidas juntas y selladas por calor, para formar un saquito tipo vertical, tal como por ejemplo, el que se muestra en la Figura 4.

(Ej emplos) A continuación se explicará en forma adicional con referencia a ejemplos concretos, un material para empaque que emplea la película de deposición de vapor de la presente invención, bajo el entendido de que la presente invención no se limita a estos ejemplos, siempre y cuando se mantenga el espíritu de la misma. (Preparación de la solución de la capa de revestimiento) A) En un solvente de dilución (acetato de etilo) trimet ilsilano de etilo 2 - (epoxiciclohexilo) (en lo sucesivo, llamado simplemente EETMS), y poliol acrilo en una cantidad de 5.0 dobleces (relación de peso) , con respecto a los EETMS que fueron mezclados. Se agregó adicionalmente a la mezcla, una solución de cloruro de estaño (SnCl2) /metanol (preparada para 0.003 mol/g) , en la forma de un catalizador para 1/135 mol con respecto a los EETMS, y posteriormente la mezcla se agitó. Posteriormente se agrego Diisocianato de tolueno (en lo sucesivo llamado simplemente TDI) , en un equivalente de grupos de isocianato en el TDI con respecto a los grupos hidroxilo en el poliol de acrilo. La solución mezclada fue diluda el 2% por peso, como una concentración total de los componentes agregados para elaborar la solución A. B) En un solvente de dilución (alcohol isopropílico/acetato de etilo) , se mezclaron EETMS y tetraetoxisilano (Si)OC2H5)4: en lo sucesivo llamado simplemente TEOS, en una proporción molar de 1:1. A este mezcla se agregaron poliol acrilo en una cantidad de 2.5 dobleces en términos de peso, y una solución de cloruro de estaño (SnCl2) /metanol (preparada para 0.003 mol/g) como un catalizador en una cantidad de 1/400 mol con respecto a la mezcla, y posteriormente la mezcla se agitó. Posteriormente se agregó 0.1 N de ácido clorhídrico, y se agito para la hidrólisis. Posteriormente se agregó el TDI en un equivalente de grupos de isocianato en el TDI con respecto a los grupos hidroxilo en el poliol acrilo. La solución mezclada fue diluida al 2% por peso como una concentración total de los componentes agregados para elaborar la solución B. C) En un solvente de dilución (alcohol isopropílico/acetato de etilo) se mezclaron EETMS y TEOS, en una proporción molar de 1:1. Posteriormente se agregó a esta mezcla poliol acrilo en una cantidad de 2.5 dobleces en términos de peso. Posteriormente se agrego TDI en un equivalente de grupos de isocianato en el TDI con respecto a los grupos hidroxilo en el poliol acrilo. La solución mezclada fue diluida al 2% por peso, como una concentración total de los componentes agregados para elaborar la solución C.

D) En una solución de dilución (acetato de etilo) , se agrego TDI como un compuesto de isocianato al poliol acrilo, en un equivalente de grupos de isocianato en el TDI con respecto a los grupos hidroxilo en el poliol acrilo. La solución mezclada fue diluida al 2% por peso, como una concentración total de los componentes agregados para elaborar la solución D. E) En un solvente de dilución (acetato de etilo) , se mezclaron 5' partes por peso de poliol acrilo con una parte por peso de propi 1 trimetoxisilano de ? isocianato, y posteriormente la mezcla fue agitada. Posteriormente el TDI se agregó como un compuesto isocianato en un equivalente de grupos de isocianato en el TDI con respecto a los grupos hidroxilo en el poliol acrilo. La solución mezclada fue diluida al 2% por peso, como una concentración total de los componentes agregados para elaborar la solución E. F) En un solvente de dilución (acetato de etilo) , se mezclaron 5 partes por peso de poliol acrilo con 1 parte por peso de propi 1 trimetoxisilano de ? isocianato, y posteriormente la mezcla se agitó. Posteriormente se agregó XDI como un compuesto de isocianato en un equivalente de grupos de isocianato con respecto a los grupos hidroxilo en el poliol acrilo. La solución mezclada fue diluida al 2% por peso, como una concentración total de los componentes agregados para elaborar la solución F. G) En un solvente de dilución (acetato de etilo) , se mezclaron 5 partes por peso de poliol acrilo con 1 parte por peso de propil trimetoxisilano - isocianato, y posteriormente la mezcla se agitó. Posteriormente se agregó un 7:3 de mezcla de XDI y IPDI como compuestos de isocianato, en un equivalente de grupos de isocianato én la mezcla del compuesto de isocianato con respecto a los grupos hidroxilo en el poliol acrilo. La solución mezclada fue diluida al 2% por peso de una concentración total de los componentes agregados para elaborar la solución G. (Ejemplo 1) En un lado de una película de tereftalato de polietileno (PET) estirado en forma biaxial de 12 - µm mieras de espesor en la forma del substrato 1, la solución A se revistió y se secó mediante revestimiento por grabado para obtener una película seca de 0.2µm mieras de espesor, para formar una capa de revestimiento 2. Posteriormente se utilizó un aparato de deposición de vapor al vacío tipo calentamiento por rayo de electrones, para la vaporización de aluminio mecánico, y se introdujo gas de oxígeno en la misma para formar una capa de deposición de vapor de óxido de aluminio 3, hasta obtener un espesor de 20nm en la capa de revestimiento 2. Posteriormente se revistió la misma en forma adicional, mediante revestimiento por grabado, con un agente de revestimiento con la composición que se describirá más adelante. Después del revestimiento, ésta fue secada a una temperatura de 120°C durante un minuto, para formar una capa de revestimiento excesivo de 0.3-µm de espesor, produciendo de este modo, una película de deposición de calor. Composición del agente de revestimiento: Mezcla de la solución (1) y la solución (2) posteriores, en una proporción de mezclado (%p/%p) de 60/40. Solución (1) : Solución hidrolizada con una parte sólida de 3 % por peso (como Si02) , preparada agregando 89.6 g de ácido clorhídrico (0.1 N) a 10.4 g de tetraetoxisilano, y mezclando durante 30 minutos para hidrólisis . Solución (2) : Solución de agua/alcohol isopropílico (proporción de peso de agua:alcohol isopropílico 90:10) que contiene 3% por peso de alcohol polivinílico . Para fabricar un material de empaque, la capa de revestimiento excesivo 4 de la película de deposición de vapor resultante, fue laminada con una película de nylon estirada en forma biaxial con un espesor de 15µm mieras mediante laminación en seco, en una forma de una película de capas internas 6, a través de un adhesivo basado en uretano tipo curación de dos partes, y posteriormente se laminó una película de polipropileno de 70-µm mieras de espesor, como una capa de sello por calor 8 mediante laminación en seco, a través de un adhesivo basado en uretano tipo curación de dos partes. (Ejemplo 2) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que la capa de deposición de vapor 3 del Ejemplo 1, consistió de óxido de silicón con un espesor de aproximadamente 40 nm obtenido mediante deposición de vapor al vacío, con un sistema de calentamiento por resistencia. (Ejemplo 3) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que la solución B se utilizó como la capa de revestimiento 2 en el Ejemplo 1. (Ejemplo 4) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que la solución C se utilizó como la capa de revestimiento 2 en el Ejemplo 1.

(Ejemplo 5) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que la solución E, se utilizó como la capa de revestimiento 2 en el Ejemplo i. (Ejemplo 6) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que la solución F, se utilizó como la capa de revestimiento 2 en el Ejemplo i. (Ejemplo 7) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que la solución G, se utilizó como la capa de revestimiento 2 en el Ejemplo i. (Ejemplo 1 Comparativo) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que no se formó la capa de revestimiento 2 en el Ejemplo 1. (Ejemplo 2 Comparativo) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 1, excepto que la solución D, se utilizó como la capa de revestimiento en el Ejemplo 1. (Prueba No. 1) Los materiales de empaque de la presente invención de acuerdo con los Ejemplos del 1 al 7 y los materiales de empaque de acuerdo con los Ejemplos Comparativos 1-2, los cuales fueron fabricados en la forma descrita anteriormente, se utilizaron para elaborar saquitos con los 4 lados en la forma de partes selladas, y cada uno se llenó con 150 g de agua como contenido. Posteriormente se llevó a cabo la esterilización por retorta a una temperatura de 121°C durante 30 minutos. La evaluación se basó en la permeabilidad del oxígeno antes y después de la esterilización por retorta (utilizando un aparato de medición de impregnación de oxígeno (OXTRAN- 10/50A de Modern Control Co . ) , para la medición en una atmósfera de 30°C, 70%RH, unidades cc/m2/días) , la resistencia de laminado (medida por el rango de desprendimiento a 300nm/min, unidades: gr/15 mm) , y el estado de desprendimiento observado en forma visual entre el substrato y la capa de deposición de vapor después de la esterilización por retorta. El estado de desprendimiento se determinó, observando el desprendimiento de la capa de deposición de vapor al momento del doblamiento de 180 grados de las secciones de sello del saquito, después de la esterilización por retorta. Los resultados se describen en la Tabla 1.

A continuación se describen los símbolos utilizados en la Tabla 1, que indican la evaluación de los resultados de la apariencia del desprendimiento después de la esterilización por retorta. T : Sin desprendimiento X : Desprendimiento Los símbolos utilizados en la Tabla 1 para los resultados de la evaluación general, son los que se indican a continuación: © : Bueno X : No utilizable La Tabla 1 muestra que las películas de deposición de vapor de la presente invención de acuerdo con los Ejemplos del 1 al 7, y los materiales de empaque que las emplean, tienen una suficiente transparencia para permitir una visión directa de sus contenidos. Los ejemplos de la presente invención, tienen propiedades superiores de protección contra gases para bloquear los gases que puedan afectar los contenidos, así como una resistencia de laminado superior. Aún después de la esterilización por retorta, no existe deterioro de las propiedades de protección contra gases, y se mantiene la resistencia de laminado. Estas exhiben claramente, una excelente resistencia a la esterilización por retorta sin desprendimiento de sus capas de deposición de vapor. En comparación, los materiales de empaque de los Ejemplos 1 y 2 comparativos, también tienen una suficiente transparencia para permitir una visión directa de los contenidos, y antes de la esterilización por retorta, tienen propiedades superiores de protección contra gases para bloquear los gases que puedan afectar los contenidos, así como una resistencia de laminado superior. Sin embargo, después de la esterilización por retorta, se observa que se deterioraron las propiedades de protección contra gases de los empaques y que fue deficiente la resistencia a la esterilización por retorta.

(Ejemplo 8) En un lado de una película de tereftalato de polietileno (PET) estirada en forma biaxial con un espesor de 12-µm mieras en la forma del substrato 1, la solución E fue revestida mediante revestimiento por grabado y secada hasta obtener una película seca con un espesor de 0.2µm mieras, para formar una capa de revestimiento 2. Posteriormente se utilizó un aparato de deposición de vapor al vacío tipo calentamiento por rayo de electrones para la vaporización del aluminio metálico, y el gas de oxígeno fue introducido en la misma para formar una capa de deposición de vapor de óxido de aluminio 3, hasta obtener un espesor de 20npt en la capa de revestimiento 2. Para fabricar un material de empaque, se laminó una película de polipropileno de 30-µm mieras de espesor, como la capa de sello por calor sobre la capa de deposición de vapor resultante 3, mediante laminación en seco a través de un adhesivo basado en uretano tipo curación de dos partes . (Ejemplo 3 Comparativo) Se obtuvo un material de empaque en la misma forma que la del Ejemplo 8, excepto que no se formó la capa de revestimiento 2 en el Ejemplo 8. (Prueba No. 2) El material de empaque de la presente invención de acuerdo con el Ejemplo 8, y el material de empaque de acuerdo con el Ejemplo 3 Comparativo que fueron fabricados en la forma descrita anteriormente, se utilizaron para medir la resistencia de laminado entre la capa de deposición de vapor y la capa de sello por calor (medida en un rango de desprendimiento de 300 nm/min, unidades: gr/15 mm) . La resistencia de laminado también se midió en una forma similar, mientras corría una pequeña cantidad de agua del grifo sobre la superficie de desprendimiento entre la capa de deposición de vapor y la capa de sello de calor. Los resultados se describen en la Tabla 2 Tabla 2 Tal como se demuestra en forma clara a partir de la explicación proporcionada anteriormente, las películas de deposición de vapor de acuerdo con la presente invención y los materiales de empaque que las emplean, tienen una construcción en donde la formación de una capa de revestimiento con excelente estabilidad dimensional y adhesión aún después de la esterilización por ebullición o esterilización por retorta sobre un substrato de plástico transparente, es seguido de la laminación de una capa de deposición de vapor elaborada de un óxido inorgánico con excelentes propiedades de protección contra gases. Por lo tanto, éstas tienen transparencia, lo cual permite que sus contenidos sean vistos en forma directa, así como propiedades superiores de protección contra gases, comparadas con aquellas de la lámina de aluminio. Además, no existe desprendimiento o pérdida de propiedades protectoras contra gases de la capa de deposición de vapor, aún después de esterilización por ebullición o esterilización por retorta. Por lo tanto, tienen un amplio rango de posibles usos en el campo de los empaques, en la forma de materiales de empaque para alimentos, no alimentos, medicinas y similares. Aunque se han mostrado y descrito las modalidades actualmente preferidas de la presente invención, quedará entendido que la presente invención no se limita a las mismas, y que los expertos en el arte pueden realizar varios cambios y modificaciones, sin salirse del alcance de la misma, tal como se manifiesta en las Reivindicaciones adjuntas.

Claims (1)

1. R E I V I N D I C A C I O N E S Una película de deposición de vapor que comprende un substrato elaborado de un material de plástico, una capa de revestimiento que comprende una composición que contiene un organosilano trifuncional representado por la fórmula general R'Si(OR)3 (en donde R' es un grupo alquilo, grupo vinilo, etc., substituido o no substituido, y R es un grupo alquilo, etc) , un poliol acrilo y un compuesto de isocianato, y una capa de deposición de vapor que comprende un óxido inorgánico para un espesor de 5~300nm, formado mediante laminación sucesiva sobre por lo menos un lado de dicho substrato . Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 1, caracterizada además porque R' en la estructura de dicho organosilano trifuncional en un grupo alquilo, que incluye un grupo epóxido. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 1 ó 2, caracterizada además porque se agrega un catalizador de reacción a dicha composición. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 3, caracterizada además porque dicho catalizador de reacción es un compuesto de estaño. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 4, caracterizada además porque dicho compuesto de estaño es un compuesto de estaño seleccionado del grupo que consiste de un cloruro de estaño, oxicloruro de estaño y alcóxidos de estaño. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 1, caracterizada además porque R' en la estructura de dicho organosilano trifuncional, es un grupo alquilo que incluye un grupo isocianato. Una película de deposición de vapor tal como se describe en cualesquiera de las Reivindicaciones de la 1 a la 6, caracterizada además porque se agrega adicionalmente a dicha composición, un alcóxido de metal representado por la fórmula general M(OR)n (en donde M es un elemento de metal, R es un grupo alquilo tal como CH3, C2H5, etc., y n es el número de oxidación del elemento de metal) , o un hidrolisato de dicho alcóxido de metal. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 7, caracterizada además porque el metal de dicho alcóxido de metal es un metal seleccionado del grupo que consiste de Si, Al, Ti, Zr y sus mezclas. Una película de deposición de vapor, que comprende un substrato elaborado de un material de plástico, una capa de revestimiento que comprende una composición que contiene un hidrolisato de un organosilano trifuncional, representado por la fórmula general R'Si(0R)3 (en donde R' es un grupo alquilo, grupo vinilo, etc., substituido o no substituido, y R es un grupo alquilo, etc.), un poliol acrilo y un compuesto de isocianato, y una capa de deposición de vapor que comprende un óxido inorgánico para un espesor de 5~300nm, formado mediante laminación sucesiva sobre por lo menos un lado de dicho substrato. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 9, caracterizada además porque R' en la estructura de dicho organosilano trifuncioinal es un grupo alquilo que incluye un grupo epóxido. Una película de deposición de vapor tal como se describé en la Reivindicación 9 ó 10, caracterizada además porque se agrega un catalizador de reacción a dicha composición. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 11, caracterizada además porque dicho catalizador de reacción es un compuesto de estaño. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 12, caracterizada además porque dicho compuesto de estaño es un compuesto de estaño seleccionado del grupo que consiste de cloruro de estaño, oxicloruro de estaño y alcóxidos de estaño. Una película de deposición de vapor tal como se describe en cualesquiera de las Reivindicaciones de la 9 a la 13, caracterizada además porque se agrega adicionalmente a dicha composición un alcóxido de metal representado por la fórmula general M(0R)n (en donde M es un elemento de metal, R es un grupo alquilo, tal como CH3 , C2H5 , etc., y n es el número de oxidación del elemento de metal) o un hidrolisato de dicho alcóxido de metal. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 14, caracterizada además porque el metal de dicho alcóxido de metal es un metal seleccionado del grupo que consiste de Si, Al, Ti, Zr y sus mezclas. Una película de deposición de vapor tal como se describe en cualesquiera de las Reivindicaciones de la 1 a la 15, caracterizada además porque el espesor de dicha capa de revestimiento está dentro del rango de 0.01~2µm mieras. Una película de deposición de vapor tal como se describe en cualesquiera de las Reivindicaciones de la 1 a la 16, caracterizada además porque dicho óxido inorgánico es uno seleccionado del grupo que consiste de óxido de aluminio, óxido de silicón, óxido de magnesio y sus mezclas. Una película de deposición de vapor tal como se describe en cualesquiera de las Reivindicaciones de la 1 a la 17, caracterizada además porque sobre dicha película de deposición de vapor, se lamina adicionalmente una capa de revestimiento excesivo, siendo dicha capa de revestimiento excesivo una capa obtenida mediante aplicación, calentamiento y secado de un agente de revestimiento compuesto principalmente de una solución acuosa o una solución mezclada de agua/alcohol, que contiene un polímero soluble en agua y cualesquiera o ambos de (a) por lo menos un alcóxido de metal o un hidrolisato de los mismos, y (b) cloruro de estaño. Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 18, caracterizada además porque dicho alcóxido de metal es uno seleccionado del grupo que consiste de tetraetoxisilano, triisopropoxialuminio y mezclas de los mismos . Una película de deposición de vapor tal como se describe en la Reivindicación 18 ó 19, caracterizada además porque dicho polímero soluble en agua es un alcohol polivinílico. Un material de empaque que comprende una película de deposición de vapor tal como se describe en cualesquiera de las Reivindicaciones de la 1 a la 20, y un capa sellada por calor laminada sobre el lado de la capa de deposición de vapor o de la capa de revestimiento excesivo de la misma. Un paquete formado en una bolsa, utilizando un material de empaque tal como se describe en la Reivindicación 21. R E S U M E N Una película de deposición de vapor, que comprende un substrato elaborado de un material de plástico, una capa de revestimiento elaborada de una composición que comprende un organosilano trifuncional específico o un hidrolisato del organosilano, un poliol acrilo y un compuesto de isocianato, y una capa de deposición de vapor de óxido inorgánico para un espesor de 5~300nm, formado mediante laminación sucesiva sobre por lo menos un lado del substrato. Así mismo, se describen materiales de empaque y paquetes que emplean dicha película .