KR970703281A - 금속 옥시할라이드 물질, 이들의 용도 및 이들의 제조방법(metal oxyhalide materials, their use and methods for their production) - Google Patents

금속 옥시할라이드 물질, 이들의 용도 및 이들의 제조방법(metal oxyhalide materials, their use and methods for their production)

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KR970703281A
KR970703281A KR1019960706853A KR19960706853A KR970703281A KR 970703281 A KR970703281 A KR 970703281A KR 1019960706853 A KR1019960706853 A KR 1019960706853A KR 19960706853 A KR19960706853 A KR 19960706853A KR 970703281 A KR970703281 A KR 970703281A
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KR
South Korea
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halogen
copper oxide
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cuo
containing copper
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KR1019960706853A
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English (en)
Inventor
이브 보말
이보니끄 슈발리에
에블린느 프라
피터 에드워즈
이안 게임슨
말렉 알마무리
제이슨 호지즈
콜린 그리브즈
피터 레이몬드 슬레이터
마리아 그라지아 프랑체스코니
Original Assignee
델렌느 마르끄
롱-쁠랑 쉬미
플레믹 크리스티안
메르크 파텐트 게젤샤프트 미트 베쉬랭크터 하프퉁
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Abstract

일반식 An+1CunO2nX2n+α(여기에서, A는 하나 이상의 알칼리 토금속을 나타내고, X는 할로겐, 바람직하게는 플루오르를 나타내고, n은 1 또는 2이고, α는 0보다 크고 0.6 이하임)의 할로겐-함유 구리 산화물은 초전도성 물질로서 유용하다. 산화물은 탄산염을 추가로 함유할 수도 있다. 산화물은 일반식 An+1CunO2n+1(여기에서, A 및 n은 상기 정의한 바와 같음)의 구리 산화물을 할로겐화하여 제조한다. 할로겐은 상기 물질에서 주된 구조적 역할을 한다.

Description

금속 옥시할라이드 물질, 이들의 용도 및 이들의 제조방법(METAL OXYHALIDE MATERIALS, THEIR USE AND METHODS FOR THEIR PRODUCTION)
[도면의 간단한 설명]
제4도는 이상화한 정점 부위(F) 및 세간(interstitial) 부위(F')를 나타내는 Sr2CuO2F2+δ의 단순화한 구조를 도시한다.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. 일반식 An+1CunO2nX2n+α(여기에서, A는 하나 이상의 알칼리 토금속을 나타내고, X는 할로겐을 나타내고, n은 1 또는 2이고, α는 0보다 크고 0.6 이하임)의 할로겐-함유 구리 산화물.
  2. 제1항에 있어서, α가 0.2 내지 0.5인 할로겐-함유 구리 산화물.
  3. 일반식 An+1CunO2nX2n+α(여기에서, A, X, n 및 α는 제1항 또는 제2항에서 정의한 바와 같음)의 할로겐-함유 구리 산화물을 포함함을 특징으로 하는 초전도성 물질.
  4. 일반식 An+1CunO2n+1(여기에서, A 및 n은 제1항에서 정의한 바와 같음)의 구리 산화물을 할로겐화하는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 일반식 An+1CunO2nX2n+α(여기에서, A, X, n 및 α는 제1항 또는 제2항에서 정의한 바와 같음)의 할로겐-함유 구리 산화물을 제조하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 할로겐화 단계가 플루오르화 단계인 방법.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 할로겐화 단계를 기상 할로겐화제를 사용하여 수행하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 할로겐화제가 할로겐인 방법.
  8. 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 할로겐화 단계를 100 내지 400℃에서 수행하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 할로겐화 단계를 150 내지 250℃에서 수행하는 방법.
  10. 제8항에 있어서, 할로겐화 단계를 180 내지 230℃에서 수행하는 방법.
  11. 제4항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 할로겐화 단계를 주위압에서 수행하는 방법.
  12. 제4항 또는 제5항에 있어서, 할로겐화 단계를 암모늄 할라이드를 사용하여 고상에서 수행하거나 또는 오가노암모늄 할라이드를 사용하여 기상 또는 액상에서 수행하는 방법.
  13. 암모늄 할라이드 또는 오가노암모늄 할라이드를 사용하여 할로겐을 금속 산화물 또는 금속 산화물 탄산 염으로 혼입시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 할로겐-함유 금속 산화물 또는 금속 산화물 탄산염 초전도체를 제조하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 암모늄 할라이드가 암모늄 플루오라이드인 방법.
  15. 제13항에 있어서, 오가노암모늄 할라이드가 테트라알킬암모늄 플루오라이드인 방법.
  16. 제4항 또는 제13항에 있어서, 1몰의 Sr2CuO3를 2 내지 20몰의 NH4F와 225℃에서 10시간 동안 반응시켜, 46K의 TC를 갖는 SrF2와 Sr2CuO2F3+α의 혼합물을 제조하는 방법.
  17. 제4항 또는 제13항에 있어서, 1몰의 (Sr1.5Ba0.5)CuO3를 2 내지 20몰의 NH4F와 225℃에서 10시간 동안 반응시켜, 60K의 TC를 갖는 (Sr, Ba)F2와 Sr1.5Ba0.5Cu2F2+α의 혼합물을 제조하는 방법.
  18. 제4항 또는 제13항에 있어서, NH4F를 사용하여 구리(II)산염 탄산염(BaxSr1-x)2CuO2(CO3)(여기에서, x는 0보다 크고 1보다 작음)을 플루오르화하여 (BaxSr1-x)2CuO2(CO3)Fα을 제조하는 방법.
  19. 할로겐-함유 구리 산화물이 탄산염을 추가로 함유하는 것인, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 할로겐-함유 구리 산화물의 개질물.
  20. 제13항에 있어서, 제1항 내지 제3항 또는 제19항 중 어느 한 항에 따른 할로겐-함유 구리 산화물을 제조하기 위한 방법.
  21. 제4항 또는 제13항에 있어서, 할로겐화시킨 물질을 불활성 기체 분위기에서 열처리하여 할라이드의 손실을 촉진함으로써 α값이 0.2 내지 0.6 미만이 될 때까지 α값을 감소시키는 방법.
  22. 제4항 또는 제13항에 있어서, 할로겐화시킨 물질을 불활성 기체 분위기에서 열처리하여 할라이드의 손실을 촉진함으로써 제3항에 따른 초전도성 할로겐-함유 구리 산화물의 경우 α값이 0.2 내지 0.5가 될 때까지 α값을 감소시키는 방법.
  23. 제22항에 있어서, Sr2CuO2F2.6의 열처리를 질소중에서 3시간 이하동안 330℃ 이하에서 수행하여 α값을 0.6에서 0.4로 감소시키는 방법.
  24. 제22항에 있어서, Sr2CuO2F2.6의 열처리를 10% 수소/질소 혼합물중에서 15분동안 220℃ 이하에서 수행하여 α값을 0.6에서 0.2 내지 0.4로 감소시키는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960706853A 1994-06-02 1995-06-02 금속 옥시할라이드 물질, 이들의 용도 및 이들의 제조방법(metal oxyhalide materials, their use and methods for their production) KR970703281A (ko)

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GB9411055.8 1994-06-02
FR95/03677 1995-03-29
FR9503677A FR2732331B1 (fr) 1995-03-29 1995-03-29 Nouveau procede de preparation de silice precipitee, nouvelles silices precipitees contenant du zinc et leur utilisation au renforcement des elastomeres
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