KR970070236A - 초경 공구의 다이아몬드막 피복방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 초경 공구의 다이아몬드막 피복방법에 관한 것으로, 다이아몬드막을 초경 공구의 표면에 중착하기전에 초경 공구 모재의 표면을 NaOH 혹은 KOH 수용액으로 전해 엣칭하거나, KMnO4+KOH 수용액으로 화학엣칭하여 다이아몬드막과 초경 모재와의 접착력을 향상시키도록 한 것이다.
이와 같은 본 발명에서는 전해 엣칭을 실시함으로써 종래 기술에서 사용되는 무라까미 용액 중의 페리시안화칼륨 성분이 그 용액 중의 다른 성분인 KOH와 반응을 거쳐 발생기 산소를 발생시키게 되므로 무라까미 용액중의 산화제 성분인 페리시안화칼륨을 제외시키는 대신에, 피엣칭재에 전기적 전압을 가해주는 전해 에칭 방법을 사용하여 동일한 효과를 얻도록 한 것이며, KMnO4+KOH 수용액을 사용하는 엣칭 방법은 페리시안화칼륨의 산화 작용을 KMnO4가 대신함으로써 KMnO4의 가격이 저렴하여 제조비용이 절감되는 효과가 있고, 산화 작용이 있는 것을 제외하고는 시안화물과 같은 독성이 없기 때문에 인체에 무해함과 아울러 폐기물처리가 훨씬 간단하다는 잇점이 있으며, 엣칭 효과가 무라까미 용액에 비하여 더 강력하게 이루어지는 장점이 있다.
또한, 상기 방법에 의해 초경 공구 표면을 화학 처리하면 초경 공구의 탄화물상이 불규칙하게 식각되어 초경 공구의 표면의 조도가 증가하게 되며, 이와 같이 조도가 증가한 초경 공구의 표면은 다이아몬드막과 기계적인 맞물림 효과를 발휘하여 그 상호간의 결합력이 증가하는 효과가 있는 것이다.

Description

초경 공구의 다이아몬드막 피복방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. 초경 공구 표면을 세척한 후, NaOH 혹은 KOH 수용액으로 전해 엣칭하는 공정과; 상기 전해 엣칭 공정 후 다시 세척을 실시하고, H2SO4+H2O2혼합 용액을 사용하여 Co결합상을 행하는 공정과; 다시 세척을 실시하고, 다이아몬드 분말 슬러리로 시딩처리하는 공정과; 다시 세척을 실시한 후, 다이아몬드막을 중착하는 공정의 순서로 진행함을 특징으로 하는 초경 공구의 다이아몬드막 피복방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전해 엣칭 공정에서 NaOH 혹은 KOH의 농도는 5~50%로 하여 전해 엣칭함을 특징으로 하는 초경 공구의 다이아몬드막 피복방법.
  3. 초경 공구 표면을 세척한 후, KMnO4+KOH 수용액으로 화학 엣칭하는 공정과; 상기 화학 엣칭 공정 후 다시 세척을 실시하고, H2SO4+H2O2혼합 용액을 사용하여 Co결합상을 행하는 공정과; 다시 세척을 실시하고, 다이아몬드 분말 슬러리로 시딩처리하는 공정과; 다시 세척을 실시한후, 다이아몬드막을 중착하는 공정의 순서로 진행함을 특징으로 하는 초경 공구의 다이아몬드막 피복방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 화학 엣칭 공정에서 엣칭액의 조성은 KMnO45~30%, KOH 1~15%, H2O 55~94%로 처리시간은 1분 이상 엣칭함을 특징으로 하는 초경 공구의 다이아몬드막 피복방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100311940B1 (ko) * 1999-08-10 2001-11-14 민병성 드릴 비트 및 로터 비트에 대한 다이아몬드상 카본 코팅 방법
CN112334604A (zh) * 2018-05-25 2021-02-05 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 用于材料的电化学加工的装置和方法
CN113373453A (zh) * 2021-06-09 2021-09-10 江西江钨硬质合金有限公司 一种用于硬质合金数控刀片涂层前的清洗方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2937054B1 (fr) * 2008-10-13 2010-12-10 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de decontamination d'une surface metallique.
KR101155586B1 (ko) * 2009-01-23 2012-06-19 프리시젼다이아몬드 주식회사 다이아몬드 공구 및 그 제조방법
CN109763165B (zh) * 2019-02-22 2020-08-25 江苏科技大学 一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法
CN114702033A (zh) * 2022-04-18 2022-07-05 河南工业大学 一种电解联合酸处理聚晶金刚石金属脱除的方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS537795A (en) * 1976-07-09 1978-01-24 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Preparatin of resins having high softening point
JPH0338227A (ja) * 1989-07-03 1991-02-19 Sumitomo Electric Ind Ltd 多孔性高分子膜の製造方法
US5236740A (en) * 1991-04-26 1993-08-17 National Center For Manufacturing Sciences Methods for coating adherent diamond films on cemented tungsten carbide substrates

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100311940B1 (ko) * 1999-08-10 2001-11-14 민병성 드릴 비트 및 로터 비트에 대한 다이아몬드상 카본 코팅 방법
CN112334604A (zh) * 2018-05-25 2021-02-05 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 用于材料的电化学加工的装置和方法
CN112334604B (zh) * 2018-05-25 2023-08-25 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 用于材料的电化学加工的装置和方法
CN113373453A (zh) * 2021-06-09 2021-09-10 江西江钨硬质合金有限公司 一种用于硬质合金数控刀片涂层前的清洗方法

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