KR970052738A - 반도체소자 제조용 플라즈마를 이용한 건식식각 장치 - Google Patents

반도체소자 제조용 플라즈마를 이용한 건식식각 장치 Download PDF

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KR970052738A
KR970052738A KR1019950055689A KR19950055689A KR970052738A KR 970052738 A KR970052738 A KR 970052738A KR 1019950055689 A KR1019950055689 A KR 1019950055689A KR 19950055689 A KR19950055689 A KR 19950055689A KR 970052738 A KR970052738 A KR 970052738A
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KR
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etching apparatus
plasma
semiconductor device
device manufacturing
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KR1019950055689A
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허노현
서광하
박인영
이관성
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 반도체소자 제조공정용 건식식각장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마를 이용한 건식식각시 공정의 균일도를 높일 수 있도록 한 반도체소자 제조용 플라즈마를 이용한 건식식각장치에 대한 것이다.
종래의 플라즈마 식각장치는 애노드 상부면에 오염이 웨이퍼의 표면에 불균일 면을 발생하게 되어 식각시 균일도 불량, 과식각, 불실각, 입자 다운을 유발시켜 장비의 점검기간을 단축하며, 기계적의 고장이 원인으로 작용하여 수율을 떨어트리는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 리프트의 핀이 슬라이드 동작되는 애노드의 홀의 상부에 이 홀의 직경보다 상대적으로 큰 직경을 갖는 공간을 형성하고 상기 핀의 상단면을 둥글에 형성한 결함방지수단을 포함하여, 웨이퍼의 균일한 식각과 아울러 장비의 공정결함을 예방함으로서 수율을 높이고자 하는 것이다.

Description

반도체소자 제조용 플라즈마를 이용한 건식식각장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1A도 및 제1B도는 각각 본 발명에 따른 애노드와 리프트의 구조도.
제1C도는 상기 애노드와 리프트의 결합상태도.

Claims (4)

  1. 반도체소자 제조용 식각장비중 웨이퍼를 업/다운 동작시키는 복수개의 핀을 구비한 리프트와, 중심 부위에 상기 핀이 관통하여 동작할 수 있는 복수개의 홀을 구비하고 상부면에 웨이퍼를 안착시키는 애노드를 포함하는 건식식각장치에 있어서, 상기 애노드와 상기 리프트상에 발생하는 결함의 요인을 제거하기 위한 결함방지수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 플라즈마 식각장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 결함방지수단은 상기 애노드의 홀의 상부에 이 홀의 직경보다 상대적으로 큰 소정직경을 갖는 공간을 형성한 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 플라즈마 식각장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 결함방지수단은 상기 핀의 상단면을 둥글게 형성한 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 플라즈마 식각장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 결함방지수단은 상기 애노드의 홀의 상부에 이 홀의 직경보다 상대적으로 큰 소정직경을 갖는 공간을 형성하고, 상기 핀의 상단면을 둥글게 형성한 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 플라즈마 식각장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950055689A 1995-12-23 1995-12-23 반도체소자 제조용 플라즈마를 이용한 건식식각 장치 KR970052738A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100508770B1 (ko) * 1998-03-28 2005-11-08 삼성전자주식회사 균일한 식각이 가능한 건식 식각 설비
KR100901999B1 (ko) * 2001-07-16 2009-06-11 오를리콘 트레이딩 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐 리프팅 및 지지 장치

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