KR960038491A - 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 - Google Patents
평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960038491A KR960038491A KR1019950008814A KR19950008814A KR960038491A KR 960038491 A KR960038491 A KR 960038491A KR 1019950008814 A KR1019950008814 A KR 1019950008814A KR 19950008814 A KR19950008814 A KR 19950008814A KR 960038491 A KR960038491 A KR 960038491A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- axis
- stage
- step motor
- displacement
- angle
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
평면 스텝 모터와 링 스텝 모터를 포함하는 노광 장치에 있어서, 레티클이나 웨이퍼가 놓여지는 스테이지의 Y축 방향 좌표를 측정하는 Y축 좌표 감지 수단과; 상기 스테이지의 X축 방향의 좌표를 측정하는 Y축 좌표 감지 수단과; 상기에서 측정되는 스테이지의 Y축 좌표와 X축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표 그리고 회전축에 해당하는 회전각을 산출한 다음, 산출된 스테이지의 위치에 따라 허용 오차 범위 밖의 변위 발생 여부를 판단하여, 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 발생된 변위각이 설정각보다 작은 경우에 산출된 보정량에 따라 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키기 위한 제1모터 구동신호를 출력하고, X축과 Y축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 각각 해당 방향으로 스테이지를 이동시키기 위한 제2모터 구동 신호를 출력하는 동작 제어 수단과; 평면 스텝 모터를 X축 및 Y축 그리고 회전축 방향으로 이동시키는 평면 스텝 모터 구동 수단과; 링스텝 모터를 구동하여 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키는 링 스텝 모터 구동 수단으로 이루어지는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치는, 별도의 고정밀장치를 사용하지 않고 기존의 평면 스텝 모터를 이용하여 스테이지의 회전축 방향의 미소 각도를 보절할 수 있으며, 그 제어 방법을 제공할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장비의 스테이지를 X축 및 Y축 방향으로 구동하는 평면 스텝 모터의 구성도.
Claims (10)
- 평면 스텝 모터와 링 스텝 모터를 포함하는 노광 장치에 있어서, 레티클이나 웨이퍼가 놓여지는 스테이지의 Y축 방향의 좌표를 측정하여 그에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 Y축 좌표 감지 수단과; 상기 스테이지의 X축 방향의 좌표를 측정하여 그에 해당하는 전기적인 신호를 풀력하는 X축 좌표 감지 수단과; 상기에서 측정되는 스테이지의 Y축 좌표 X축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표 그리고 회전축에 해당하는 회전각을 산출한 다음, 산출된 스테이지의 위치에 따라 허용 오차 범위 밖의 변위 발생 여부를 판단하여, 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 발생된 변위각이 설정각보다 작은 경우에 산출된 보정량에 따라 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키기 위한 제1모터 구동신호를 출력하고, X축과 Y축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 각각 해당 방향으로 스테이지를 이동시키기 위한 제2모터 구동 신호를 출력하는 동작 제어 수단과; 상기 동작 제어 수단에서 출력되는 제1모터 구동 신호에 따라 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 각기 다른 방향의 전압을 인가하고, 제2모터 구동신호에 따라 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 같은 방향의 전압을 인가하여 평면 스텝 모터를 X축 및 Y축 그리고 회전축 방향으로 이동시키는 평면 스텝 모터 구동수단과; 상기 동작 제어 수단에서 출력되는 신호에 따라 링스텝 모터를 구동하여 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키는 링 스텝 모터 구동 수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치
- 제1항에 있어서, 상기한 Y축 좌표 감지 수단은 두 개의 Y축 좌표 감지 수단으로 이루어져, 스테이지의 Y축 방향에 따른 Y1, Y2 좌표에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치
- 제2항에 있어서, 상기한 동작 제어 수단은, 상기 X축 좌표 감지수단에서 출력되는 X1 좌표 신호와, Y축 감지 수단에서 출력되는 Y1, Y2 좌표 신호를 입력으로 하여, 다음의 식에 따라 스테이지의 실질적인 X축 좌표, Y축 좌표 그리고 회전축 좌표인 θ값을 산출하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치X = X1Y = (Y1 + Y2)/2θ = tan-1{Y1 - Y2)/d}d : 두 개의 Y축 좌표 감지 수단 사이의 거리
- 제1항에 있어서, 상기한 동작 제어 수단은, 회전축 방향으로 발생된 변위량인 회전각인 설정각 이상인 경우에는 링 스텝 모터를 구동하여 스테이지를 회전시키기 위한 모터 구동 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치
- 제1항에 있어서, 상기한 스테이지의 위치를 측정하기 위한 X축 좌표 감지 수단고, Y축 좌표 감지 수단이 레이저 인터페로미터로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지으 미소 각도 보정장치
- 전원이 인가되면 사용되는 모든 변수를 초기화한 다음, 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표를 감지하는 단계와; 상기 감지되는 스테이지의 X축, Y축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축과 Y축 그리고 회전축에 따른 회전각을 산출하는 단계와; 상기에서 산출되는 실질적인 스테이지의 위치의 변위 발생 여부를 판단하여, 스테이지 위치가 X축 이나 Y축 그리고 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에 발생된 변위가 허용 오차 범위내에 포함되는지를 판단하는 단계와; 상기에서 발생된 변위가 허용 오차 범위밖에 해당하는 경우에, 변위가 발생한 방향이 회전축인 경우에는 변위 발생에 따른 회전각에 해당하는 보정량을 산출한 다음, 화전각이 설정각이하인 경우에 산출된 보정량에 따라 평면 스텝 모터를 구동하여 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 단계와; 상기에서 발생된 변위가 허용 오차 범위 밖에 해당하는 경우에, 변위가 발생한 방향이 X축이나 Y축인 경우에, 각 방향의 변위 발생에 해당하는 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 변위가 발생한 X축 또는 Y축 방향으로 평면 스텝 모터를 구동하여 스테이지의 X축 또는 Y축 방향의 변위를 보정하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정방법
- 제6항에 있어서, 평면 스텝 모터를 이용하여 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 단계에 있어서, 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 각기 다른 방향의 전압을 인가하여 일정 각도 평면 스텝 모터를 회전시켜, 스테이지의 회전축 변위+를 보정하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정방법
- 제6항에 있어서, 평면 스텝 모터를 이용하여 스테이지의 X축 및 Y축 변위를 보정하는 단계에 있어서, 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 각기 같은 방향의 전압을 인가하여 평면 스텝 모터를 해당하는 방향으로 이동시켜, 스테이지의 X축 및 Y축 변위를 보정하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정방법
- 제6항에 있어서, 상기한 실질적인 스테이지의 위치를 산출하는 단계에 있어서, 상기 X축 방향에 해당하는 X1 좌표와, Y축 방향에 해당하는 두 개의 Y1, Y2 좌표 신호를 입력하여 다음의 식에 따라 스테이지의 실질적인 X축 좌표, Y축 좌표 그리고 회전축 좌표인 θ값을 산출하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정방법X = X1Y = (Y1 + Y2)/2θ = tan-1{Y1 - Y2)/d}d : 두 개의 Y축 좌표 감지 수단 사이의 거리
- 제6항에 있어서, 상기한 스테이지의회전축 변위를 보정하는 단계에 있어서, 회전축 방향으로 발생된 변위량인 회전각인 설정각 이상인 경우에는 링스텝 모터를 구동하여 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정방법
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950008814A KR0136427B1 (ko) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950008814A KR0136427B1 (ko) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960038491A true KR960038491A (ko) | 1996-11-21 |
KR0136427B1 KR0136427B1 (ko) | 1998-04-24 |
Family
ID=19412211
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950008814A KR0136427B1 (ko) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0136427B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100970243B1 (ko) * | 2008-04-03 | 2010-07-16 | 코리아테크노(주) | 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 스캔 스테이지 |
-
1995
- 1995-04-14 KR KR1019950008814A patent/KR0136427B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR0136427B1 (ko) | 1998-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6172373B1 (en) | Stage apparatus with improved positioning capability | |
US10871366B2 (en) | Supplementary metrology position coordinates determination system for use with a robot | |
JP2009069031A (ja) | 変位検出方法及びモータ制御装置 | |
JPH0328714A (ja) | 走査型センサ用測定および制御システム | |
CN105045044A (zh) | 光学装置、投影光学***、曝光装置及物品的制造方法 | |
JPH0927443A (ja) | ステージ駆動制御装置 | |
Leigh-Lancaster et al. | Development of a laser tracking system | |
JP2019144163A (ja) | 曲率半径計測装置および曲率半径計測方法 | |
KR960038491A (ko) | 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 | |
US6160616A (en) | Laser system | |
KR101281627B1 (ko) | 적외선 영상 탐색기의 축을 정렬하기 위한 장치 및 그 방법 | |
JP3614529B2 (ja) | 計測装置の演算パラメータ計測方法、および計測装置 | |
JP3363663B2 (ja) | 可動ステージ装置 | |
JP3437327B2 (ja) | 半導体露光装置の位置決め装置 | |
JPH03500027A (ja) | 工作物表面追跡装置 | |
JPH09318321A (ja) | 測長装置 | |
JPH11218941A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置 | |
JPH05173639A (ja) | 位置制御装置及びその制御方法 | |
JP3472553B2 (ja) | ギャップ調節装置及び調節方法 | |
JPH1074687A (ja) | ステージ装置 | |
JP2005284867A (ja) | 駆動制御装置及び方法及び露光装置 | |
KR0155882B1 (ko) | 로봇의 위치센서 캘리브레이션 방법 및 장치 | |
JPH06109481A (ja) | コード板取付位置調整装置 | |
JPH10103937A (ja) | レーザー光の光軸傾斜測定方法及びその装置 | |
JPH1058174A (ja) | レーザ加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20011228 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |