JPH09318321A - 測長装置 - Google Patents
測長装置Info
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- JPH09318321A JPH09318321A JP13644996A JP13644996A JPH09318321A JP H09318321 A JPH09318321 A JP H09318321A JP 13644996 A JP13644996 A JP 13644996A JP 13644996 A JP13644996 A JP 13644996A JP H09318321 A JPH09318321 A JP H09318321A
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- Japan
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- stage
- amount
- length measuring
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】アッベの誤差の影響を受けること無くステージ
の移動量を測長可能な測長装置を提供する。 【解決手段】任意の方向に試料２を移動させるように、
２次元方向に移動可能なＸ及びＹステージ１２，４と、
これらステージの移動量を光学的に検出するＸ用及びＹ
用リニアエンコーダ６，８と、これらリニアエンコーダ
によって検出されたＸ及びＹステージの夫々の移動量に
基づいて算出した校正値を用いて、Ｙ用リニアエンコー
ダの検出データに電気的な校正を施す校正装置２０とを
備える。なお、基準位置に対するＸステージの移動量を
ΔＸ、Ｙステージの移動量をΔＹ、Ｙステージの移動時
の真直度をθとすると、校正値は、 ΔＹ−（ΔＸ×ｓｉｎθ） なる値を満足する。
の移動量を測長可能な測長装置を提供する。 【解決手段】任意の方向に試料２を移動させるように、
２次元方向に移動可能なＸ及びＹステージ１２，４と、
これらステージの移動量を光学的に検出するＸ用及びＹ
用リニアエンコーダ６，８と、これらリニアエンコーダ
によって検出されたＸ及びＹステージの夫々の移動量に
基づいて算出した校正値を用いて、Ｙ用リニアエンコー
ダの検出データに電気的な校正を施す校正装置２０とを
備える。なお、基準位置に対するＸステージの移動量を
ΔＸ、Ｙステージの移動量をΔＹ、Ｙステージの移動時
の真直度をθとすると、校正値は、 ΔＹ−（ΔＸ×ｓｉｎθ） なる値を満足する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２次元方向に移動
可能なステージの移動量を測長するための測長装置に関
する。
可能なステージの移動量を測長するための測長装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の測長装置は、２次元方向
に移動可能なＸＹステージの移動量をリニアエンコーダ
によって測長することができるように構成されている。
このため、例えば、図１（ａ），図２（ａ）〜（ｃ）に
示すように、上記測長装置には、固定ベース１０上をＸ
方向に移動可能なＸステージ１２と、このＸステージ１
２上をＹ方向に移動可能であって且つ試料２を載置可能
なＹステージ４と、固定ベース１０に固定され且つＸス
テージ１２の移動量を検出するＸ用リニアエンコーダ６
と、Ｘステージ１２に固定され且つＹステージ４の移動
量を検出するＹ用リニアエンコーダ８と、Ｙステージ４
に載置された試料２を光学的に観察可能であって且つ固
定ベース１０に固定された観察光学系１８とが設けられ
ている。
に移動可能なＸＹステージの移動量をリニアエンコーダ
によって測長することができるように構成されている。
このため、例えば、図１（ａ），図２（ａ）〜（ｃ）に
示すように、上記測長装置には、固定ベース１０上をＸ
方向に移動可能なＸステージ１２と、このＸステージ１
２上をＹ方向に移動可能であって且つ試料２を載置可能
なＹステージ４と、固定ベース１０に固定され且つＸス
テージ１２の移動量を検出するＸ用リニアエンコーダ６
と、Ｘステージ１２に固定され且つＹステージ４の移動
量を検出するＹ用リニアエンコーダ８と、Ｙステージ４
に載置された試料２を光学的に観察可能であって且つ固
定ベース１０に固定された観察光学系１８とが設けられ
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ここで、上記測長装置
において、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、試料２を
ＸＹ方向（図１（ａ）参照）に移動させる場合を考え
る。この場合、観察光学系１８及びＸ用リニアエンコー
ダ６は、共に固定ベース１０に固定されており、その位
置関係は、常時一定に維持されている。このため、観察
光学系１８の観察点ＰとＸ用リニアエンコーダ６との間
の距離Ｍは、常時一定値に維持される。この結果、Ｘ方
向の測長データについては、アッベ(abbe)の誤差は常時
一定値となるため、簡単な演算処理によって誤差量を除
去することができる。従って、試料２の移動量とＸ用リ
ニアエンコーダ６の検出データとの間には、常時、一定
の線形性が維持されることになる。
において、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、試料２を
ＸＹ方向（図１（ａ）参照）に移動させる場合を考え
る。この場合、観察光学系１８及びＸ用リニアエンコー
ダ６は、共に固定ベース１０に固定されており、その位
置関係は、常時一定に維持されている。このため、観察
光学系１８の観察点ＰとＸ用リニアエンコーダ６との間
の距離Ｍは、常時一定値に維持される。この結果、Ｘ方
向の測長データについては、アッベ(abbe)の誤差は常時
一定値となるため、簡単な演算処理によって誤差量を除
去することができる。従って、試料２の移動量とＸ用リ
ニアエンコーダ６の検出データとの間には、常時、一定
の線形性が維持されることになる。
【０００４】これに対して、観察光学系１８の観察点Ｐ
とＹ用リニアエンコーダ８との間の距離Ｈは、Ｙステー
ジ４の移動に伴って変動するため、Ｙ方向の測長データ
に生じるアッベの誤差が変動しまうことになる。このよ
うにアッベの誤差が変動すると、簡単な演算処理によっ
て誤差量を除去することができなくなるといった問題が
生じる。
とＹ用リニアエンコーダ８との間の距離Ｈは、Ｙステー
ジ４の移動に伴って変動するため、Ｙ方向の測長データ
に生じるアッベの誤差が変動しまうことになる。このよ
うにアッベの誤差が変動すると、簡単な演算処理によっ
て誤差量を除去することができなくなるといった問題が
生じる。
【０００５】具体的に説明すると、まず、Ｙ用リニアエ
ンコーダ８上に任意の基準点Ｓを規定する。そして、Ｙ
ステージ４を移動させることによって、基準点Ｓから距
離Ｈ１の位置に観察光学系１８の観察点Ｐを位置付ける
（図２（ａ）参照）。この状態でＹステージをＹ方向に
移動させると、Ｘ及びＹステージ１２，４の機械的な誤
差によって、Ｙステージ４は、所定の軌跡を描いて移動
することとなる（図２（ｄ）参照）。
ンコーダ８上に任意の基準点Ｓを規定する。そして、Ｙ
ステージ４を移動させることによって、基準点Ｓから距
離Ｈ１の位置に観察光学系１８の観察点Ｐを位置付ける
（図２（ａ）参照）。この状態でＹステージをＹ方向に
移動させると、Ｘ及びＹステージ１２，４の機械的な誤
差によって、Ｙステージ４は、所定の軌跡を描いて移動
することとなる（図２（ｄ）参照）。
【０００６】続いて、基準点Ｓから距離Ｈ２，Ｈ３の位
置（図２（ｂ），（ｃ）参照）に観察点Ｐを位置付けた
状態で上記同様の操作を行う。この場合でも、Ｙステー
ジ４は、図２（ｄ）に示されたような軌跡を描く。
置（図２（ｂ），（ｃ）参照）に観察点Ｐを位置付けた
状態で上記同様の操作を行う。この場合でも、Ｙステー
ジ４は、図２（ｄ）に示されたような軌跡を描く。
【０００７】このような操作を行った場合、図２（ｄ）
に示されたＹステージ４の軌跡から明らかなように、距
離Ｈが変動するとアッベの誤差が変化してしまい簡単な
演算処理によってＹ方向の測長データの誤差量を除去す
ることができないため、この誤差量以上の測定精度を望
むことができなかった。
に示されたＹステージ４の軌跡から明らかなように、距
離Ｈが変動するとアッベの誤差が変化してしまい簡単な
演算処理によってＹ方向の測長データの誤差量を除去す
ることができないため、この誤差量以上の測定精度を望
むことができなかった。
【０００８】本発明は、このような課題を解決するため
になされており、その目的は、アッベの誤差の変動状態
の影響を受けること無くステージの移動量を測長可能な
測長装置を提供することにある。
になされており、その目的は、アッベの誤差の変動状態
の影響を受けること無くステージの移動量を測長可能な
測長装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の測長装置は、任意の方向に試料を移
動させるように、２次元方向に移動可能なステージ手段
と、このステージ手段の移動量を検出する測長手段と、
前記測長手段によって検出された前記ステージ手段の移
動量に基づいて算出した校正値を用いて、前記測長手段
の検出データに電気的な校正を施す校正装置とを備えて
いる。
るために、本発明の測長装置は、任意の方向に試料を移
動させるように、２次元方向に移動可能なステージ手段
と、このステージ手段の移動量を検出する測長手段と、
前記測長手段によって検出された前記ステージ手段の移
動量に基づいて算出した校正値を用いて、前記測長手段
の検出データに電気的な校正を施す校正装置とを備えて
いる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態に係
る測長装置について、図１を参照して説明する。なお、
本実施の形態の説明に際し、上記の測長装置と同一の構
成には、同一符号を付して、その説明を省略する。
る測長装置について、図１を参照して説明する。なお、
本実施の形態の説明に際し、上記の測長装置と同一の構
成には、同一符号を付して、その説明を省略する。
【００１１】図１（ａ）に示すように、本実施の形態の
測長装置は、任意の方向に試料２を移動させるように、
２次元方向に移動可能なステージ手段と、このステージ
手段の移動量を検出する測長手段と、測長手段とステー
ジ手段との間の距離量に基づいて算出した校正値を用い
て、測長手段の検出データに電気的な校正を施す校正装
置２０とを備えている。
測長装置は、任意の方向に試料２を移動させるように、
２次元方向に移動可能なステージ手段と、このステージ
手段の移動量を検出する測長手段と、測長手段とステー
ジ手段との間の距離量に基づいて算出した校正値を用い
て、測長手段の検出データに電気的な校正を施す校正装
置２０とを備えている。
【００１２】ステージ手段は、固定ベース１０上をＸ方
向に移動可能なＸステージ１２と、Ｘ方向に直交するＹ
方向にＸステージ１２上を移動可能であって且つ試料２
を載置可能なＹステージ４とを備えている。
向に移動可能なＸステージ１２と、Ｘ方向に直交するＹ
方向にＸステージ１２上を移動可能であって且つ試料２
を載置可能なＹステージ４とを備えている。
【００１３】Ｘステージ１２には、Ｘ用駆動装置１４が
接続されており、このＸ用駆動装置１４を駆動させるこ
とによって、Ｘステージ１２は、固定ベース１０に形成
されたＶガイド１０ａ及びフラットガイド１０ｂに沿っ
てＸ方向に移動する。また、Ｙステージ４には、Ｙ用駆
動装置１６が接続されており、このＹ用駆動装置１６を
駆動させることによって、Ｙステージ４は、Ｘステージ
１２上に形成されたＶガイド１２ａ及びフラットガイド
１２ｂに沿ってＹ方向に移動する。
接続されており、このＸ用駆動装置１４を駆動させるこ
とによって、Ｘステージ１２は、固定ベース１０に形成
されたＶガイド１０ａ及びフラットガイド１０ｂに沿っ
てＸ方向に移動する。また、Ｙステージ４には、Ｙ用駆
動装置１６が接続されており、このＹ用駆動装置１６を
駆動させることによって、Ｙステージ４は、Ｘステージ
１２上に形成されたＶガイド１２ａ及びフラットガイド
１２ｂに沿ってＹ方向に移動する。
【００１４】測長手段は、固定ベース１０に固定され且
つＸステージ１２の移動量を検出するＸ用リニアエンコ
ーダ６と、Ｘステージ１２に固定され且つＹステージ４
の移動量を検出するＹ用リニアエンコーダ８とを備えて
いる。
つＸステージ１２の移動量を検出するＸ用リニアエンコ
ーダ６と、Ｘステージ１２に固定され且つＹステージ４
の移動量を検出するＹ用リニアエンコーダ８とを備えて
いる。
【００１５】これらＸ用及びＹ用リニアエンコーダ６，
８の検出機能としては、光学的検出機能、機械的検出機
能、電気的検出機能を適用することが可能であるが、本
実施の形態に適用したＸ用及びＹ用リニアエンコーダ
６，８は、その一例として、Ｘ及びＹステージ１２，４
の移動量を光学的に検出することができるように構成さ
れている。
８の検出機能としては、光学的検出機能、機械的検出機
能、電気的検出機能を適用することが可能であるが、本
実施の形態に適用したＸ用及びＹ用リニアエンコーダ
６，８は、その一例として、Ｘ及びＹステージ１２，４
の移動量を光学的に検出することができるように構成さ
れている。
【００１６】また、本実施の形態において、Ｘ用リニア
エンコーダ６には、予め設定された基準位置（図示しな
い）に対するＸステージ１２の移動量及び移動方向を光
学的に検出可能なアブソリュートタイプのリニアエンコ
ーダが適用されており、一方、Ｙ用リニアエンコーダ８
には、現時点の位置（例えば、図２に示された基準点Ｓ
が該当する）に対するＹステージ４の移動量及び移動方
向を光学的に検出可能なインクリメンタルタイプのリニ
アエンコーダが適用されている。なお、Ｙ用リニアエン
コーダ８として上記アブソリュートタイプのリニアエン
コーダを適用しても良い。
エンコーダ６には、予め設定された基準位置（図示しな
い）に対するＸステージ１２の移動量及び移動方向を光
学的に検出可能なアブソリュートタイプのリニアエンコ
ーダが適用されており、一方、Ｙ用リニアエンコーダ８
には、現時点の位置（例えば、図２に示された基準点Ｓ
が該当する）に対するＹステージ４の移動量及び移動方
向を光学的に検出可能なインクリメンタルタイプのリニ
アエンコーダが適用されている。なお、Ｙ用リニアエン
コーダ８として上記アブソリュートタイプのリニアエン
コーダを適用しても良い。
【００１７】次に、本実施の形態の動作について説明す
る。観察光学系１８によって光学的に観察しながら、Ｘ
及びＹステージ１２，４を移動させる場合、上述したよ
うに（図２（ａ）〜（ｄ）参照）、観察光学系１８の観
察点ＰとＸ用リニアエンコーダ６との間の距離Ｍは、常
時一定値に維持されるため、Ｘ方向の測長データについ
ては、アッベ(abbe)の誤差は常時一定値に維持される。
従って、試料２の移動量とＸ用リニアエンコーダ６の検
出データとの間には、常時、一定の線形性が維持される
ことになる。
る。観察光学系１８によって光学的に観察しながら、Ｘ
及びＹステージ１２，４を移動させる場合、上述したよ
うに（図２（ａ）〜（ｄ）参照）、観察光学系１８の観
察点ＰとＸ用リニアエンコーダ６との間の距離Ｍは、常
時一定値に維持されるため、Ｘ方向の測長データについ
ては、アッベ(abbe)の誤差は常時一定値に維持される。
従って、試料２の移動量とＸ用リニアエンコーダ６の検
出データとの間には、常時、一定の線形性が維持される
ことになる。
【００１８】これに対して、観察光学系１８の観察点Ｐ
とＹ用リニアエンコーダ８との間の距離Ｈは、Ｙステー
ジ４の移動に伴って変動するため、Ｙ方向の測長データ
に生じるアッベの誤差が変動することとなる。このよう
にアッベの誤差が変動すると、簡単な演算処理によって
変動誤差を除去することができなくなるため、試料２の
移動量とＹ用リニアエンコーダ８の検出データとの間に
は、線形性を維持させることが困難になってしまうとい
った問題が生じる。
とＹ用リニアエンコーダ８との間の距離Ｈは、Ｙステー
ジ４の移動に伴って変動するため、Ｙ方向の測長データ
に生じるアッベの誤差が変動することとなる。このよう
にアッベの誤差が変動すると、簡単な演算処理によって
変動誤差を除去することができなくなるため、試料２の
移動量とＹ用リニアエンコーダ８の検出データとの間に
は、線形性を維持させることが困難になってしまうとい
った問題が生じる。
【００１９】そこで、本実施の形態の測長装置には、校
正装置２０が設けられており、Ｘ用及びＹ用リニアエン
コーダ６，８によって光学的に検出されたＸ及びＹステ
ージ１２，４の夫々の移動量に基づいて算出した校正値
を用いて、Ｙ方向の測長データに電気的な校正を施して
いる。
正装置２０が設けられており、Ｘ用及びＹ用リニアエン
コーダ６，８によって光学的に検出されたＸ及びＹステ
ージ１２，４の夫々の移動量に基づいて算出した校正値
を用いて、Ｙ方向の測長データに電気的な校正を施して
いる。
【００２０】具体的には、上記基準位置に対するＸステ
ージ１２の移動量をΔＸ、Ｙステージ４の移動量をΔ
Ｙ、Ｙステージ４の移動時の真直度をθとすると、 ΔＹ−（ΔＸ×ｓｉｎθ） なる校正値を用いて、Ｙ用リニアエンコーダ８の検出デ
ータに電気的な校正が施されることになる。なお、真直
度θは、Ｙステージ４のヨーイング方向の値として予め
測定されたデータを用いる。
ージ１２の移動量をΔＸ、Ｙステージ４の移動量をΔ
Ｙ、Ｙステージ４の移動時の真直度をθとすると、 ΔＹ−（ΔＸ×ｓｉｎθ） なる校正値を用いて、Ｙ用リニアエンコーダ８の検出デ
ータに電気的な校正が施されることになる。なお、真直
度θは、Ｙステージ４のヨーイング方向の値として予め
測定されたデータを用いる。
【００２１】本実施の形態によれば、校正装置２０によ
ってアッベの誤差の変動量を電気的に校正することがで
きるため、Ｘ用及びＹ用リニアエンコーダ６，８と試料
２の移動量との間に、一定の線形性を維持させることが
できる。このため、例えば試料２の寸法や座標等を高精
度に測長することが可能となる。
ってアッベの誤差の変動量を電気的に校正することがで
きるため、Ｘ用及びＹ用リニアエンコーダ６，８と試料
２の移動量との間に、一定の線形性を維持させることが
できる。このため、例えば試料２の寸法や座標等を高精
度に測長することが可能となる。
【００２２】なお、上記基準位置は、校正装置２０によ
ってアッベの誤差の変動量を校正するために規定された
ものであり、その位置は任意に設定することができる。
また、上記実施の形態において、上記基準位置は、アブ
ソリュートタイプのＸ用リニアエンコーダ６を適用する
ことによって規定したが、例えば、図１（ｂ）に示すよ
うに、Ｘステージ１２の基準位置を検出可能な基準位置
検出器２２を固定ベース１０に固定することによって、
基準位置に対するＸステージ１２の移動量ΔＸを検出し
ても良い。この場合、Ｘ用リニアエンコーダ６として
は、インクリメンタルタイプのリニアエンコーダを用い
れば良い。なお、かかる変形例の測長装置（図１（ｂ）
参照）の作用効果は、上記実施の形態と同様であるた
め、その説明は省略する。
ってアッベの誤差の変動量を校正するために規定された
ものであり、その位置は任意に設定することができる。
また、上記実施の形態において、上記基準位置は、アブ
ソリュートタイプのＸ用リニアエンコーダ６を適用する
ことによって規定したが、例えば、図１（ｂ）に示すよ
うに、Ｘステージ１２の基準位置を検出可能な基準位置
検出器２２を固定ベース１０に固定することによって、
基準位置に対するＸステージ１２の移動量ΔＸを検出し
ても良い。この場合、Ｘ用リニアエンコーダ６として
は、インクリメンタルタイプのリニアエンコーダを用い
れば良い。なお、かかる変形例の測長装置（図１（ｂ）
参照）の作用効果は、上記実施の形態と同様であるた
め、その説明は省略する。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、アッベの誤差の変動状
態の影響を受けること無くステージの移動量を測長可能
な測長装置を提供することが可能となる。
態の影響を受けること無くステージの移動量を測長可能
な測長装置を提供することが可能となる。
【図１】（ａ）は、本発明の一実施の形態に係る測長装
置の構成を概略的に示す斜視図、（ｂ）は、本発明の変
形例に係る測長装置の構成を概略的に示す斜視図。
置の構成を概略的に示す斜視図、（ｂ）は、本発明の変
形例に係る測長装置の構成を概略的に示す斜視図。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、基準点Ｓから距離Ｈ１，Ｈ
２，Ｈ３の位置に観察光学系の観察点を位置付けた状態
でＹステージを移動させた際に生じるアッベの誤差を説
明するための動作説明図、（ｄ）は、同図（ａ）〜
（ｃ）の操作を行った際に、アッベの誤差によって生じ
るＹステージの移動軌跡を示す図。
２，Ｈ３の位置に観察光学系の観察点を位置付けた状態
でＹステージを移動させた際に生じるアッベの誤差を説
明するための動作説明図、（ｄ）は、同図（ａ）〜
（ｃ）の操作を行った際に、アッベの誤差によって生じ
るＹステージの移動軌跡を示す図。
２…試料、４…Ｙステージ、６…Ｘ用リニアエンコー
ダ、８…Ｙ用リニアエンコーダ、２０…校正装置。
ダ、８…Ｙ用リニアエンコーダ、２０…校正装置。
Claims (3)
- 【請求項１】 任意の方向に試料を移動させるように、
２次元方向に移動可能なステージ手段と、 このステージ手段の移動量を検出する測長手段と、 前記測長手段によって検出された前記ステージ手段の移
動量に基づいて算出した校正値を用いて、前記測長手段
の検出データに電気的な校正を施す校正装置とを備えて
いることを特徴とする測長装置。 - 【請求項２】 前記ステージ手段は、固定ベース上をＸ
方向に移動可能なＸステージと、前記Ｘ方向に直交する
Ｙ方向に前記Ｘステージ上を移動可能なＹステージとを
備えており、また、前記測長手段は、前記固定ベースに
固定され且つ前記Ｘステージの移動量を検出するＸ用リ
ニアエンコーダと、前記Ｘステージに固定され且つ前記
Ｙステージの移動量を検出するＹ用リニアエンコーダと
を備えていることを特徴とする請求項１に記載の測長装
置。 - 【請求項３】 前記Ｘステージの移動量をΔＸ、前記Ｙ
ステージの移動量をΔＹ、前記Ｙステージの移動時の真
直度をθとすると、前記校正装置の校正値は、 ΔＹ−（ΔＸ×ｓｉｎθ） なる値を満足することを特徴とする請求項２に記載の測
長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13644996A JPH09318321A (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 測長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13644996A JPH09318321A (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 測長装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09318321A true JPH09318321A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15175378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13644996A Withdrawn JPH09318321A (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 測長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09318321A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008026739A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Nikon Corporation | Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif |
| WO2008026742A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Nikon Corporation | Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif |
| WO2008026732A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Nikon Corporation | Système d'entraînement de corps mobile et procédé d'entraînement de corps mobile, appareil et procédé de mise en forme de motif, appareil et procédé d'exposition, procédé de fabrication de dispositif et procédé de décision |
| WO2008029758A1 (en) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Nikon Corporation | Mobile body driving method, mobile body driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus and device manufacturing method |
| JP2014007411A (ja) * | 2006-09-01 | 2014-01-16 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| KR20160003308A (ko) * | 2008-04-30 | 2016-01-08 | 가부시키가이샤 니콘 | 스테이지 장치, 패턴 형성 장치, 노광 장치, 스테이지 구동 방법, 노광 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 |
-
1996
- 1996-05-30 JP JP13644996A patent/JPH09318321A/ja not_active Withdrawn
Cited By (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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