KR950027969A - 포토마스크(photomask) 제작방법 - Google Patents

포토마스크(photomask) 제작방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 포토마스크 제작방법에 관한 것으로, 프러덕트 다이패턴의 4개의 변에 스크라이브 레인을 형성하고 4개의 모서리에 일정한 형상의 패턴을 형성하여 노광기의 레티클 회전에러, X,Y-축 스텝핑에러, 렌즈의 굴곡에러와 포토마스크의 제작오차에 의하여 웨이퍼상에 형성되는 패턴의 오차를 종합적으로 측정할 수 있는 우수한 효과를 갖는다.

Description

포토마스크(photomask) 제작방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 4개의 변에 스크라이브 레인을 형성한 포토마스크의 평면도,
제3도는 본 발명에 의한 포토마스크의 각 모서리의 패턴을 나타낸 평면도,
제4도는 본 발명에 의한 포토마스크에 의하여 반도체 기판상에 형성된 감광막 패턴을 나타내는 평면도.

Claims (1)

  1. 포토마스크 제작방법에 있어서, 노광기의 오차와 포토마스크의 제작오차를 쉽게 측정하기 위하여 프러덕트 다이패턴(4) 4개의 변에 스크라이브 레인(2)을 형성하고 4개의 모서리에 일정한 형상의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제작방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940004719A 1994-03-10 1994-03-10 포토마스크 및 그를 이용한 반도체 장치 제조 방법 KR0168772B1 (ko)

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