KR950025119A - 팔라듐 2원 또는 3원 합금 도금 조성물 - Google Patents
팔라듐 2원 또는 3원 합금 도금 조성물 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 팔라듐 4 내지 20g/ℓ, 금 0.3 내지 2.0g/ℓ, 하나이상의 전도성 염 5 내지 100g/ℓ 및 착화제 0.5 내지 20g/ℓ 및 선택적으로 합금 금속 0.3내지 5g/ℓ을 포함하는 2원 또는 3원 합금 도금 조성물, 상기 조성물로 기재를 도금하는 방법 및 상기 방법에 의해 도금된 제품을 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (20)
- 팔라듐 4내지 20g/ℓ, 금 0.3 내지 2.0g/ℓ, 하나이상의 전도성 염 5 내지 100g/ℓ 및 착화제 0.5 내지 20g/ℓ을 포함하는 팔라듐 합금 도금 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 팔라듐이 이염화 테트라 암모늄 팔라듐, 이염화 디아민팔라듐, 염화 테트라아민 팔라듐, 이염화 디암모늄 팔라듐, 이질화 디아민 팔라듐, 산화 팔라듐, 질산 팔라듐 또는 시안화 팔라듐으로부터 제공되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 금이 시안화 금(Ⅰ)칼륨, 시안화 금(Ⅱ)칼륨, 염화금(Ⅲ) 또는 산화 금(Ⅲ)으로터 제공되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 니켈, 코발트, 구리, 주석, 셀레늄, 텅스텐, 몰리브덴, 티타늄 및 이들의 혼합물로부터 선택된 합금금속 0.3 내지 5g/ℓ를 더욱 포함하는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 니켈이 황산 니켈 6수화물, 염화니켈 6수화물, 설팜산니켈, 프탈로시아닌 니켈, 탄산 니켈 4수화물, 질산 니켈, 수산화 니켈, 황산 아민 니켈 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 코발트가 황산 코발트 7수화물, 염화코발트 6수화물, 산화 코발트, 탄산 코발트, 나프텐산 코발트, 프탈로시아닌 코발트 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 구리가 황산구리 5수화물, 티오페놀산 구리, 프탈로시아닌 구리, 시안화 제1구리, 피로인산 제2구리, 탄산 제2구리 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 주석이 염화 제1주석 이수화물, 옥살산 제1주석, 주석산 나트륨, 주석산 칼륨 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 셀레늄이 이산화 셀레늄, 셀레늄 그레이(selenium grey), 아셀렌산, 셀렌산 나트륨염 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 텅스텐이 헥사카보닐 텅스텐, 연화 텅스텐, 산화 텅스텐, 텅스텐산 나트륨염 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 티타늄이 1,2-디메톡시에탄 염화 티타늄 착체, 이산화 티타늄, 사염화 티타늄, 삼염화 티타늄, 황산 티타늄 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 몰리브텐이 염화 몰리브덴(V), 몰리브덴산 나트륨염, 헥사카보닐 몰리브덴, 산화 몰리브덴(Ⅵ), 몰리브덴산 암모늄염 또는 이들의 혼합물로부터 제공되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 전도성 염이 인산수소 이나트룸, 인산수소 이칼륨, 인산이수소 나트륨, 인산 이수소 암모늄, 인산암모늄, 황산 암모늄, 옥살산 암모늄 수화물, 산화 암모늄, 구연산 암모늄, 디에틸 아미노히드로클로라이드, 수산화 칼륨, 수산화나트륨, 아미노 아세트산, 에틸렌 디아민, 타타르산 나트륨 칼륨, 시안화 칼륨, 구연산 칼륨 또는 이들의 흔합물인 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 착화제가 4-옥소-펜탄산(9Cl), 에틸렌디아민 테트라아세트산의 이암모늄염, N-3-히드록시-부틸리덴-P-설파닐산, N,N,N',N'-테트라카스(2-피리딜메틸)에틸렌디아민 또는 벤즈알데히드 트리스티릴 페닐산 또는 이들의 혼합물인 조성물.
- 제1항에 있어서,0.005 내지 0.05g/ℓ의 광택제, 각각 0.001 내지 0.05g/ℓ의 표면 개선제 또는 응력 감소제를 더 포함하는 조성물.
- 제15항에 있어서, 상기 광택제가 벤젠 설포네이트, 푸르알데히드, 2-메톡시-1-나프트알데히드, (+)-N,N,N',N'-테트라메틸-L-타타르산 디아미드, 폴리에틸렌 글리콜 모노라우릴에테르, 라우릴메틸아닐린 또는 이들의 혼합물인 조성물.
- 제15항에 있어서, 상기 표면 감소제가 폴리(옥시-1,2-에탄디일)-α-부 틸-N-히드록시드, 폴리에톡시화 지방산 모노 알칸올 아미드, N-(3-히드록시 -25-부틸리덴)-P-설파닐산, 트리데실옥시 폴리(에틸렌옥시)에탄올(Ⅲ) 또는 이들의 혼합물인 조성물.
- 제15항에 있어서, 상기 응력 감소제가 황산화 알킬페녹시 폴리(에틸렌옥시) 에탄올의 나트륨염, 디이소데실프탈레이트, 사카린 또는 이들의 혼합물인 조성물.
- 제1항 내지 18항중 어느 한 항의 도금 조성물에 도금할 기재와 양극을 담그고, 상기 조성물을 30 내지 40℃로 유지시키면서 0.5 내지 1.5 ASD의 전류밀도를 상기 기재와 양극에 걸어 원하는 두께로 상기 기재를 도금함을 포함하는 팔라듐 합금 조성물을 기재상에 도금하는 방법.
- 제19항의 방법에 의해 도금된 제품.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950000653A KR0171685B1 (ko) | 1994-02-26 | 1995-01-17 | 팔라듐 2원 또는 3원 합금 도금 조성물, 이를 이용한 도금방법 및 도금체 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR94-3550 | 1994-02-26 | ||
KR19940003550 | 1994-02-26 | ||
KR1019950000653A KR0171685B1 (ko) | 1994-02-26 | 1995-01-17 | 팔라듐 2원 또는 3원 합금 도금 조성물, 이를 이용한 도금방법 및 도금체 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR950025119A true KR950025119A (ko) | 1995-09-15 |
KR0171685B1 KR0171685B1 (ko) | 1999-02-18 |
Family
ID=19377854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950000653A KR0171685B1 (ko) | 1994-02-26 | 1995-01-17 | 팔라듐 2원 또는 3원 합금 도금 조성물, 이를 이용한 도금방법 및 도금체 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5552031A (ko) |
JP (1) | JP2645701B2 (ko) |
KR (1) | KR0171685B1 (ko) |
GB (1) | GB2287717B (ko) |
TW (1) | TW379259B (ko) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997017482A1 (en) * | 1995-11-03 | 1997-05-15 | Enthone-Omi Inc. | Electroplating processes compositions and deposits |
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---|---|---|---|---|
JPS5123112B2 (ko) * | 1972-06-05 | 1976-07-14 | ||
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-
1995
- 1995-01-17 KR KR1019950000653A patent/KR0171685B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-01-18 GB GB9500884A patent/GB2287717B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-01-18 TW TW084100423A patent/TW379259B/zh not_active IP Right Cessation
- 1995-02-21 US US08/391,978 patent/US5552031A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-25 JP JP7062011A patent/JP2645701B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW379259B (en) | 2000-01-11 |
US5552031A (en) | 1996-09-03 |
GB2287717A (en) | 1995-09-27 |
KR0171685B1 (ko) | 1999-02-18 |
GB9500884D0 (en) | 1995-03-08 |
JP2645701B2 (ja) | 1997-08-25 |
JPH0853791A (ja) | 1996-02-27 |
GB2287717B (en) | 1997-09-24 |
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