JPS5855587A - 銅−スズ合金めつき浴 - Google Patents
銅−スズ合金めつき浴Info
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- JPS5855587A JPS5855587A JP15176181A JP15176181A JPS5855587A JP S5855587 A JPS5855587 A JP S5855587A JP 15176181 A JP15176181 A JP 15176181A JP 15176181 A JP15176181 A JP 15176181A JP S5855587 A JPS5855587 A JP S5855587A
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- tin alloy
- pref
- bath
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は銅−スズ合金めつ１浴に関するものでちゃ、光
沢のある銅−スズ合金めり龜を得るためのものである。
沢のある銅−スズ合金めり龜を得るためのものである。
従来背化鋼−スズ酸アルカリを主成分とする銅−スズ合
金めり１浴に用いられる光沢剤としては酒石酸、クエン
酸、すりチル酸等のような有機酸類、エチレングリコー
ル、フェノール、−一ナフトール、ハイド胃キノン、８
−ハイドロ中シキノリンのようなアル；−ル、・フェノ
ール類、エチレントリアミン、ピリジン、キノリン、シ
リエタノ−ルア電ンなどのようなアミン窒素化合物類、
べ／ゼンスルホン酸、了−Ｆルエンスルホン酸、２．７
−ナツメレンジスルホン酸すＦリクムのようなベン（ン
スルホン酸塩誘導体、２−メルカプトベンズチアゾール
、ニーメルカプトベンズイミダゾールのようなイオウ含
有複素環状化合物、界面活性１？４、更ＫＩ１％ ビス
マス、アンチモン、セレン、テルルのよ５な金属化合物
等が知らｎているが、こｎらは単独添加し１′Ｉ−もの
も複合添加したものも半５を沢乃至は無光沢状のめっき
となシやす（、を九光沢があっても使用可能な電［密度
範囲が狭いなどの問題点が多く、工業的に使用すること
は困難であった。
金めり１浴に用いられる光沢剤としては酒石酸、クエン
酸、すりチル酸等のような有機酸類、エチレングリコー
ル、フェノール、−一ナフトール、ハイド胃キノン、８
−ハイドロ中シキノリンのようなアル；−ル、・フェノ
ール類、エチレントリアミン、ピリジン、キノリン、シ
リエタノ−ルア電ンなどのようなアミン窒素化合物類、
べ／ゼンスルホン酸、了−Ｆルエンスルホン酸、２．７
−ナツメレンジスルホン酸すＦリクムのようなベン（ン
スルホン酸塩誘導体、２−メルカプトベンズチアゾール
、ニーメルカプトベンズイミダゾールのようなイオウ含
有複素環状化合物、界面活性１？４、更ＫＩ１％ ビス
マス、アンチモン、セレン、テルルのよ５な金属化合物
等が知らｎているが、こｎらは単独添加し１′Ｉ−もの
も複合添加したものも半５を沢乃至は無光沢状のめっき
となシやす（、を九光沢があっても使用可能な電［密度
範囲が狭いなどの問題点が多く、工業的に使用すること
は困難であった。
本発明は上記のような問題点を改善する為数々の実験と
研究を行なって亀た結果ｔ−もとに、光沢のある良好な
銅−スズ合金めつき浴を特徴とする特殊な光沢剤を含む
實化鋼−スズ酸アルカリ系銅−スズ合金めり１浴【提供
すること上目的とするものである。
研究を行なって亀た結果ｔ−もとに、光沢のある良好な
銅−スズ合金めつき浴を特徴とする特殊な光沢剤を含む
實化鋼−スズ酸アルカリ系銅−スズ合金めり１浴【提供
すること上目的とするものである。
本発１ｊＩＦｉ青化銅−スズ酸アルカリ系鋼−スズ合金
゛応つき浴においてチオシアン酸塩とポリエチレンイミ
ンあるいはその誘導体及び鉛塩を添加したこと’ｔ％黴
とするものである。
゛応つき浴においてチオシアン酸塩とポリエチレンイミ
ンあるいはその誘導体及び鉛塩を添加したこと’ｔ％黴
とするものである。
ここにいうチオシアン酸塩とは、青化銅−スズ酸アルカ
リ系鋼−スズ合金めっき浴に可溶のものであｎばよ（、
特にチオシアン酸ナトリクムであることが好ましい。こ
のチオシアン酸塩を単独で使用した場合でも一応光沢効
果があるが、使用可能な電流密度範囲が狭いなどの問題
点が残る。しかし、ポリエチレンイミンあるいはその誘
導体及び鉛塩を併用することによ）使用可能な電流密度
範囲が著しく拡大するものであることを本発明はハルセ
ル試験を繰返して光沢状態゛などを観察し、膨大な添加
剤の光沢効果を検討した結果到達したものである。
リ系鋼−スズ合金めっき浴に可溶のものであｎばよ（、
特にチオシアン酸ナトリクムであることが好ましい。こ
のチオシアン酸塩を単独で使用した場合でも一応光沢効
果があるが、使用可能な電流密度範囲が狭いなどの問題
点が残る。しかし、ポリエチレンイミンあるいはその誘
導体及び鉛塩を併用することによ）使用可能な電流密度
範囲が著しく拡大するものであることを本発明はハルセ
ル試験を繰返して光沢状態゛などを観察し、膨大な添加
剤の光沢効果を検討した結果到達したものである。
ポリエチレンイミンは完全な線状高分子重合体ではな（
、Ｍｌ 、第２．第３級丁ミノ窒素を含む枝分かれ構造
ｔｖしており、第１．２．３各級の窒素原子の比は大略
１：２：１なる分子形態であることは良く知らｎている
。それ故、１級ア電ン化合物と同様に反応性に富み、オ
キシアルキル化ポリエチレンイミンなど種々の誘導体が
容易に得られる。
、Ｍｌ 、第２．第３級丁ミノ窒素を含む枝分かれ構造
ｔｖしており、第１．２．３各級の窒素原子の比は大略
１：２：１なる分子形態であることは良く知らｎている
。それ故、１級ア電ン化合物と同様に反応性に富み、オ
キシアルキル化ポリエチレンイミンなど種々の誘導体が
容易に得られる。
鉛塩としては、實化鋼−スズ酸アルカリ系銅−スズ合金
めっき浴に可溶のものでＴｏｔＬばよ（酢酸鉛、硫酸鉛
、硝酸鉛、クエン酸鉛などの無機酸塩及ヒフエノールス
ルホン酸鉛、アルカノールスルホンａ鉛などのような１
機酸塩などが用いらｎる本発明の浴へのチオシアン酸塩
の添加量としては、１０−〇 〇 １１／ｌであること
が好ましい、ｌ０ＪＩ／を以下であると光沢効果があら
れれないし、また６ ０ ＩＩ／ｌｔ超えると高、低電
流密度部分よシ（も夛【生ずる。最も好ましくは２５〜
５５９／ｌであることがよい。
めっき浴に可溶のものでＴｏｔＬばよ（酢酸鉛、硫酸鉛
、硝酸鉛、クエン酸鉛などの無機酸塩及ヒフエノールス
ルホン酸鉛、アルカノールスルホンａ鉛などのような１
機酸塩などが用いらｎる本発明の浴へのチオシアン酸塩
の添加量としては、１０−〇 〇 １１／ｌであること
が好ましい、ｌ０ＪＩ／を以下であると光沢効果があら
れれないし、また６ ０ ＩＩ／ｌｔ超えると高、低電
流密度部分よシ（も夛【生ずる。最も好ましくは２５〜
５５９／ｌであることがよい。
ポリエチレンイミンあるいはその誘導体は青化銅−スズ
酸アルカリ系銅−スズ合金めっき浴に可溶のもので６２
’Ｌばよ（、その添加量としては０゜０３〜０．６１／
ｌである。０．０３＃／を未満であると光沢効果があら
れ肚ないし、また０、６１１／ｌ’に超凡ても光沢効果
の増大は望めない、最も好ましい添加量としては０．０
４〜ｏ、ｓｔｔ／ｌである。
酸アルカリ系銅−スズ合金めっき浴に可溶のもので６２
’Ｌばよ（、その添加量としては０゜０３〜０．６１／
ｌである。０．０３＃／を未満であると光沢効果があら
れ肚ないし、また０、６１１／ｌ’に超凡ても光沢効果
の増大は望めない、最も好ましい添加量としては０．０
４〜ｏ、ｓｔｔ／ｌである。
鉛塩の添加量としては酢酸鉛、硝酸鉛、（ｉＩｗ＆鉛、
クエン酸鉛などの無機酸塩は鉛塩として１〜１２ｔ４
／ Ａ テＩる。フェノールスルホン酸鉛、アルカノー
ルスルホン酸鉛などの有機酸塩は鉛塩として１〜１０
ｎｄｌ ／ ｔである。添加範囲以下だと効果があられ
れないし、また添加範囲以上だとめつき析出不良となる
。最も好ましい添２Ｋｌ童としては、無機酸塩が３〜１
０ ｖｙｉ＃ ／ ｔでおる。有機酸塩は２〜８−／Ｌ
であることが好ましい。
クエン酸鉛などの無機酸塩は鉛塩として１〜１２ｔ４
／ Ａ テＩる。フェノールスルホン酸鉛、アルカノー
ルスルホン酸鉛などの有機酸塩は鉛塩として１〜１０
ｎｄｌ ／ ｔである。添加範囲以下だと効果があられ
れないし、また添加範囲以上だとめつき析出不良となる
。最も好ましい添２Ｋｌ童としては、無機酸塩が３〜１
０ ｖｙｉ＃ ／ ｔでおる。有機酸塩は２〜８−／Ｌ
であることが好ましい。
本発明による青化銅−スズ酸丁ルカリ系鋼−スズ合金め
っき浴でのめつき操作条件は、浴温４５〜６５Ｃ程度で
あるのがよい、陽極としては不溶性陽極が望ましく空気
攪拌を用いればより効果がある。
っき浴でのめつき操作条件は、浴温４５〜６５Ｃ程度で
あるのがよい、陽極としては不溶性陽極が望ましく空気
攪拌を用いればより効果がある。
以下実施例によシ本発明をさらに詳細に説明する。
実施例−１
スズ酸ナトリウム １ ｏ ｏ ｔｔ／を
青化ナト、リウム ２Ｂ、５ＩＩ／を實
化鋼 １１，５ＪＦ／Ａ水酸化す
）リウム ｘｏｔｉ７ｔチオシアン酸ナ
トリウム ４０１１／ｌボ９エチレンイ電ン＜
”ｓｒｓ水溶液）０．２ｓＬ／Ｌ 酢酸鉛（鉛塩としてン ５−／を上記の
ようにめり１浴ｔａ製し、浴温６０℃、Ｐｉｌ１３．５
．陽極としてカーボン板を用いて空気攪拌を行なうと、
銀白色の光沢めっきが０．５〜４ム／ｄ−の電流密度範
囲に得らｎた。
青化ナト、リウム ２Ｂ、５ＩＩ／を實
化鋼 １１，５ＪＦ／Ａ水酸化す
）リウム ｘｏｔｉ７ｔチオシアン酸ナ
トリウム ４０１１／ｌボ９エチレンイ電ン＜
”ｓｒｓ水溶液）０．２ｓＬ／Ｌ 酢酸鉛（鉛塩としてン ５−／を上記の
ようにめり１浴ｔａ製し、浴温６０℃、Ｐｉｌ１３．５
．陽極としてカーボン板を用いて空気攪拌を行なうと、
銀白色の光沢めっきが０．５〜４ム／ｄ−の電流密度範
囲に得らｎた。
実施ｆ％−２
スズ酸ナシリウム ２０１／Ｌ青化ナト
リウム ２５１１／Ｌ育化鋼
２０１／を水酸化ナトリウム
１０１／ｌポリエチレンイζン（３１溶１’
ｌ［）０．３惧ｔ７ｔ フェノールスルホン酸鉛（鉛塩として〕４１１ＩＪ／を 上記のようにめっき浴を調製し、浴温４５℃、１）ＨＩ
３゜５、陽也としてカーボン板を用い空気攪拌でめつ１
ｉｉを行なうと、黄金色の光沢めっきが０−５〜３−５
Ａ ／ ｄｔｈ嘗ノ１１ＩｃｆＩＬ密度範囲に得られ
た。
リウム ２５１１／Ｌ育化鋼
２０１／を水酸化ナトリウム
１０１／ｌポリエチレンイζン（３１溶１’
ｌ［）０．３惧ｔ７ｔ フェノールスルホン酸鉛（鉛塩として〕４１１ＩＪ／を 上記のようにめっき浴を調製し、浴温４５℃、１）ＨＩ
３゜５、陽也としてカーボン板を用い空気攪拌でめつ１
ｉｉを行なうと、黄金色の光沢めっきが０−５〜３−５
Ａ ／ ｄｔｈ嘗ノ１１ＩｃｆＩＬ密度範囲に得られ
た。
以上述べてきたように本発明によれば光沢電流密度範回
が広く長期安定性にすぐｎｌまた均一な光沢が得らオＬ
る。工業的にも利用しうるものである。
が広く長期安定性にすぐｎｌまた均一な光沢が得らオＬ
る。工業的にも利用しうるものである。
なお本発明は、種々の浴において実施できることはもち
ろんのこと、光沢剤についても本発明の範囲内において
適宜組合せて使用できることはいうまでもない。
ろんのこと、光沢剤についても本発明の範囲内において
適宜組合せて使用できることはいうまでもない。
以上
Claims (1)
- 實化鋼−スズ酸アルカリ系鋼−スズ合金めっき浴Ｋｓｉ
−いて、チオシアン酸塩とポリエチレンイミンあるいは
その紡導体シよび鉛塩を添加したことを特徴とする銅−
スズ合金めつ亀浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15176181A JPS5855587A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 銅−スズ合金めつき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15176181A JPS5855587A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 銅−スズ合金めつき浴 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855587A true JPS5855587A (ja) | 1983-04-01 |
Family
ID=15525713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15176181A Pending JPS5855587A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 銅−スズ合金めつき浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5855587A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02107795A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-19 | Tohoku Ricoh Co Ltd | 銅一スズ合金メツキ浴 |
| US5614327A (en) * | 1994-09-09 | 1997-03-25 | Sarthoise De Revetements Electrolytiques | Process for protecting a silver or silver-coated part |
| EP1197587A2 (en) * | 2000-10-13 | 2002-04-17 | Shipley Co. L.L.C. | Seed layer repair and electroplating bath |
| EP1260614A1 (en) * | 2001-05-24 | 2002-11-27 | Shipley Co. L.L.C. | Tin plating |
| EP1479793A2 (en) * | 2003-05-23 | 2004-11-24 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | Plating method |
-
1981
- 1981-09-25 JP JP15176181A patent/JPS5855587A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02107795A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-19 | Tohoku Ricoh Co Ltd | 銅一スズ合金メツキ浴 |
| JPH0413434B2 (ja) * | 1988-10-14 | 1992-03-09 | Tohoku Riko Kk | |
| US5614327A (en) * | 1994-09-09 | 1997-03-25 | Sarthoise De Revetements Electrolytiques | Process for protecting a silver or silver-coated part |
| EP1197587A2 (en) * | 2000-10-13 | 2002-04-17 | Shipley Co. L.L.C. | Seed layer repair and electroplating bath |
| EP1197587A3 (en) * | 2000-10-13 | 2002-05-15 | Shipley Co. L.L.C. | Seed layer repair and electroplating bath |
| US6682642B2 (en) | 2000-10-13 | 2004-01-27 | Shipley Company, L.L.C. | Seed repair and electroplating bath |
| EP1260614A1 (en) * | 2001-05-24 | 2002-11-27 | Shipley Co. L.L.C. | Tin plating |
| US6797142B2 (en) | 2001-05-24 | 2004-09-28 | Shipley Company, L.L.C. | Tin plating |
| CN1296521C (zh) * | 2001-05-24 | 2007-01-24 | 希普列公司 | 镀锡用组合物及镀锡方法 |
| JP2009114548A (ja) * | 2001-05-24 | 2009-05-28 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | スズめっき |
| EP1479793A2 (en) * | 2003-05-23 | 2004-11-24 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | Plating method |
| EP1479793A3 (en) * | 2003-05-23 | 2008-02-13 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | Plating method |
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