KR950004654A - 고속원자빔을 이용한 처리장치 - Google Patents

고속원자빔을 이용한 처리장치 Download PDF

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후지무라 히로유끼
가부시기가이샤 에바라 세이사꾸쇼
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Abstract

본 발명은 고속원자빔에 추가하여 광에너지 공급원, 레이저빔 공급원, 라디칼 공급원, 전자빔 공급원, 엑스선 또는 방사선(알파선, 베타선 또는 감마선) 공급원, 이온 공급원중에서 선택된 적어도 하나를 가진 고속원자빔을 이용하여, 진공컨테이너내 또는 진공컨테이너 외부에 배치되는 처리대상물은 광에너지, 레이저빔, 전자빔, 엑스선 또는 방사선, 라디칼 입자 및 이온빔중에서 선택된 적어도 하나와의 조합으로 고속원자 빔에 의해 조사받음으로써 처리속도가 증가되는 처리장치에 관한 것이다.

Description

고속원자빔을 이용한 처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명에 따른 고속원자빔을 이용한 처리장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도이고, 제 2 도는 본 발명에 따른 고속원자빔을 이용한 처리장치의 다른 구성을 개략적으로 나타내는 도이며, 제 3 도는 고속원자빔을 이용한 종래의 처리장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도이다.

Claims (9)

  1. 진공컨테이너와, 상기 진공컨테이너내로 비교적 큰 운동에너지를 가진 원자 또는 분자의 고속원자빔을 방출하는 고속원자빔 공급원과, 상기 진공컨테이너내로 광에너지를 방출하는 광에너지 공급원을 구비하며; 상기 진공컨테이너내에 배치되는 처리대상물의 표면은 상기 고속원자빔 공급원 및 상기 광에너지 공급원으로부터 고속원자빔 및 광에너지를 각각 조사받음으로써 상기 처리대상물이 처리되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  2. 진공컨테이너와, 상기 진공컨테이너내로 비교적 큰 운동에너지를 가진 원자 또는 분자의 고속원자빔을 방출하는 고속원자빔 공급원과, 상기 진공컨테이너내로 레이저빔을 방출하는 레이저빔 공급원을 구비하며; 상기 진공컨테이너내에 배치되는 처리대상물의 표면은 상기 고속원자빔 공급원 및 상기 레이저빔 공급원으로부터 고속원자빔 및 레이저빔을 각각 조사받음으로써 상기 처리대상물이 처리되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  3. 진공컨테이너와, 상기 진공컨테이너내로 비교적 큰 운동에너지를 가진 원자 또는 분자의 고속원자빔을 방출하는 고속원자빔 공급원과, 상기 진공컨테이너내로 라디칼 입자를 방출하는 라디칼 공급원을 구비하며; 상기 진공컨테이너내에 배치되는 처리대상물의 표면은 상기 고속원자빔 공급원 및 상기 라디칼 공급원으로부터 고속원자빔 및 라디칼 입자를 각각 조사받음으로써 상기 처리대상물이 처리되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  4. 진공컨테이너와, 상기 진공컨테이너내로 비교적 큰 운동에너지를 가진 원자 또는 분자의 고속원자빔을 방출하는 고속원자빔 공급원과, 상기 진공컨테이너내로 전자빔을 방출하는 전자빔 공급원을 구비하며; 상기 진공컨테이너내에 배치되는 처리대상물의 표면은 상기 고속원자빔 공급원 및 상기 전자빔 공급원으로부터 고속원자빔 및 전자빔을 각각 조사받음으로써 상기 처리대상물이 처리되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  5. 진공컨테이너와, 상기 진공컨테이너내로 비교적 큰 운동에너지를 가진 원자또는 분자의 고속원자빔을 방출하는 고속원자빔 공급원과, 상기 진공컨테이너내로 엑스선을 방출하는 엑스선 공급원 또는 방사선을 방출하는 방사선 공급원을 구비하며 ; 상기 진공컨테이너내에 배치되는 처리대상물은 상기 고속원자빔 공급원과 상기 엑스선 공급원 또는 방사선 공급원으로부터 고속원자빔과 엑스선 또는 방사선을 각각 조사받음으로써 상기 처리대상물이 처리되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  6. 진공컨테이너와, 상기 진공컨테이너내로 비교적 큰 운동에너지를 가진 원자 또는 분자의 고속원자빔을 방출하는 고속원자빔 공급원과, 상기 진공컨테이너내로 이온빔을 방출하는 이온 공급원을 구비하며; 상기 진공컨테이너내에 배치되는 처리대상물은 상기 고속원자빔 공급원 및 상기 이온 공급원으로부터 고속원자빔 및 이온빔을 각각 조사받음으로써 상기 처리대상물이 처리되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  7. 진공컨테이너와, 상기 진공컨테이너내로 광에너지를 방출하는 광에너지 공급원과 상기 진공컨테이너내로 레이저빔을 방출하는 레이저빔 공급원과 상기 진공컨테이너내로 전자빔을 방출하는 레이저빔 공급원과 상기 진공컨테이너내로 엑스선을 방출하는 엑스선 공급원과 상기 진공컨테이너내로 방사선(알파선, 베타선 또는 감마선)을 방출하는 방사선 공급원과 상기 진공컨테이너내로 라디칼 입자를 방출하는 라디칼 공급원과 상기 진공컨테이너내로 이온 입자를 방출하는 이온 공급원과 상기 진공컨테이너내로 비교적 큰 운동에너지를 가진 원자 또는 분자의 고속원자빔을 방출하는 고속원자빔 공급원 중에서 선택된 적어도 두개의 공급원들 조합을 구비하며; 상기 진공컨테이너내에 배치되는 처리대상물은 상기 각 대응하는 공급원으로부터 방출되는 상기 광에너지, 레이저빔, 전자빔, 엑스선, 방사선, 라디칼 입자 및 이온 입자중에서 선택된 적어도 두개의 조합에 의해 조사받음으로써 상기 처리대상물이 처리되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  8. 제 1 항 내지 제 7항중 어느 한 항에 있어서, 상기 진공컨테이너를 사용하지 않는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고속원자빔은 방전가스로서 비활성가스 또는 화학반응가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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