KR930005179A - 반도체장치의 제조방법 - Google Patents
반도체장치의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1A도 내지 제1D도는 종래 블랭킷 텅스텐 공정순서를 나타낸 단면도,
제2A도 내지 제2D도는 본 발명에 의한 블랭킷 텅스텐 공정순서를 나타낸 단면도.
Claims (4)
- 반도체기판상에 형성된 절연막의 소정영역에 콘택홀이 형성되어 있는 반도체장치의 제조방법에 있어서, 상기 콘택홀내부 및 절연막상에 부착층(Adhesion layer)을 형성하는 공정과, 상기 부착층상에 CVD 턴스텐막을 증착하는 공정 및, 상기 CVD 턴스텐막을 에치백하되 에치가스가 반도체기판상에 입사되는 각도를 다단계 변화시켜 경사에치하는 공정이 구비된 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절연막은 산화막인 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 부착층은 TiN막인 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 CVD 텅스텐막을 경사에치하는 공정은 상기 반도체기판의 수평각도를 조절하면서 회전시켜 행하는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019910014535A KR930005179A (ko) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 반도체장치의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019910014535A KR930005179A (ko) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 반도체장치의 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR930005179A true KR930005179A (ko) | 1993-03-23 |
Family
ID=67310079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019910014535A KR930005179A (ko) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 반도체장치의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR930005179A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100443935B1 (ko) * | 2001-07-31 | 2004-08-09 | 씨엔이티 주식회사 | 인조피혁 제조장치 |
-
1991
- 1991-08-22 KR KR1019910014535A patent/KR930005179A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100443935B1 (ko) * | 2001-07-31 | 2004-08-09 | 씨엔이티 주식회사 | 인조피혁 제조장치 |
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