KR910015613A - 예비촉매화된 촉매 조성물, 에폭시 수지의 제조방법, 경화성 조성물 및 이를 경화시켜 제조한 제품 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

예비촉매화된 촉매 조성물. 에폭시 수지의 제조방법. 경화성 조성물 및 이를 경화시켜 제조한 제품
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (20)

  1. (A) 인접한 에폭시-함유 화합물 하나 이상; 및 (B) 포스포늄 화합물의 양이온 부위에 아미노 그룹을 갖는 포스포늄 화합물 하나 이상을 함유함을 특징으로 하는 예비촉매화된 에폭시-함유 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 성분(A)가 비페놀; 알킬 치환된 비페놀, 할로겐 치환된 비페놀, 비스페놀, 알킬 치환된 비스페놀, 할로겐 치환된 비스페놀 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에테르인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 성분(A)가 비페놀, 비스페놀, A, 비스페놀 F, 비스페놀 K, 비스페놀 S, 또는 (C1내지 C4) 알킬 또는 브롬 치환된 이의 유도체 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에테르인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 성분(A)가 지방족, 지환족 또는 방향족 디카복실산 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에스테르인 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 성분(A)가 프탈산, 헥사하이드로 프탈산, 석신산, 말레산, 피로멜리트산, 테트라하이드로 프탈산, 아디프산 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에스테르인 조성물.
  6. (A) 분자당 평균 하나 이상의 인접한 에폭사이드 그룹을 갖는 화합물 하나 이상을 (B) 분자당 에폭사이드 그룹과 반응하는 평균 하나 이상의 수소 원자를 갖는 혼합물 하나 이상과 (C) 촉매의 존재하에서, 촉매로서 포스포늄 화합물의 양이온 부위에 아미노 그룹을 갖는 포스포늄 화합물을 사용함을 특징으로 하여 반응시켜 고급 에폭시 수지 또는 펜옥시 수지를 제조하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 성분(A)가 비페놀, 알킬 치환된 비페놀, 할로겐 치환된 비페놀, 비스페놀, 알킬 치환된 비스페놀, 할로겐 치환된 비스페놀 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에테르이고 성분(B)가 비페놀, 알킬치환된 비페놀, 할로겐 치환된 비페놀, 비스페놀, 알킬 치환된 비스페놀, 할로겐 치환된 비스페놀, 디카복실산 또는 이의 모든 혼합물인 방법.
  8. 제6항에 있어서, 성분(A)가 비페놀, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 K, 비스페놀 S, 또는 (C1내지 C4) 알킬 또는 브롬 치환된 이의 유도체 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에테르이고 성분(B)가 비페놀, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 K, 비스페놀 S, 또는 (C1내지 C4) 알킬 또는 브롬 치환된 이의 유도체 또는 이의 모든 혼합물인 방법.
  9. 제6항에 있어서, 성분(A)가 지방족, 지환족 또는 방향족 디카복실산의 디글리시딜 에스테르이고 성분 (B)가 비페놀, 알킬 치환된 비페놀, 할로겐 치환된 비페놀, 비스페놀, 알킬 치환된 비스페놀, 할로겐 치환된 비스페놀, 디카복실산 또는 이의 모든 혼합물인 방법.
  10. 제9항에 있어서, 지방족, 지환족 또는 방향족 디카복실산이 프탈산, 헥사하이드로프탈산, 석신산, 말레산, 피로멜리트산, 테트라하이드로프탈산, 아디프산 또는 이의 모든 혼합물인 방법.
  11. 제6항 내지 10항중 어느 한 항에 있어서, 반응이 압출기내에서 수행되는 방법.
  12. (A) 분자당 평균 하나 이상의 인접한 에폭시 그룹을 갖는 화합물을 하나 이상, (B) 포스포늄 화합물의 양이온 부위에 아미노 그룹을 갖는 포스포늄 화합물 하나 이상; 및 (C) 경화제가 (1) (2) 또는 (3) 이외에 인접한 에폭사이드 그룹과 반응하는 다수의 수소원자 또는 (2)산 무수물 그룹 하나 이상 또는 (3) 산 무수물 그룹 이외에 인접한 에폭사이드 그룹과 반응하는 수소 원자와 산 무수물 그룹의 혼합물을 함유하는, 언급된 에폭시-함유 화합물을 위해 적합한 경화제를 함유함을 특징으로 하는 경화성 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 포스포늄 화합물이 하기 일반식으로 표현되는 경화성 조성물.
    상기식에서, R은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 1가 하이드로카르빌 그룹, 또는 R″그룹이고; R'는 탄소수 1내지 20의 2가 하이드로카르빌 그룹이며; R″는 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 1가 하이드로카르빌 그룹, 또는 할로겐, 니트로, -C=N, 또는 탄소수 1 내지 20의 -OH치환된 하이드로카르빌 그룹이고; Z는 적합한 모든 음이온이다.
  14. 제12항에 있어서, 성분(A)가 비페알킬 치환된 비페놀 비페놀, 비스페놀, 알킬 치환된 비스페놀, 할로겐 치환된 비스페놀 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에테르이고 경화제가 산 무수물 또는 분자당 탄소수 4 내지 30의 산무수물의 혼합물인 경화성 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 성분(A)가 비페놀, 비스페놀, A, 비스페놀 F, 비스페놀 K, 비스페놀 S, 또는 (C1내지 C4) 알킬 또는 브롬 치환된 이의 유도체 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에테르이고 산무수물이 분자당 4 내지 20개의 탄소수를 갖는 경화성 조성물.
  16. 제15항에 있어서, 산 무수물이 프탈산 무수물, 석신산 무수물, 헥사하이드로 프탈산 무수물, 메틸헥사하이드로프탈산 무수물, 글루타르산 무수물, 메틸-비사이클로 (2. 2. 1) 헵텐-2, 3-티카복실산 무수물 이성체, 말레산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 폴리아디프산 무수물 또는 이의 모든 혼합물인 경화성 조성물.
  17. 제12항에 있어서, 성분(A)가 지방족, 지환족 또는 방향족 디카복실산의 디글리시딜 에스테르이고 경화제가 산무수물 또는 분자당 탄소수 4 내지 30의 산 무수물의 혼합물인 경화성 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 성분(A)가 프탈산, 헥사하이드로 프탈산, 석신산, 말레산, 피로멜리트산, 테트라하이드로 프탈산, 아디프산 또는 이의 모든 혼합물의 디글리시딜 에스테르이고 산 무수물이 프탈산 무수물, 석신산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸헥사하이드로프탈산 무수물, 글루타르산 무수물, 메틸-비사이클로(2. 2. 1) 헵텐-2, 3-디카복실산 무수물 이성체, 말레산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 폴리아디프산 무수물 또는 이의 모든 혼합물인 경화성 조성물.
  19. (A) 인접한 에폭시-함유 화합물 하나 이상; (B) 포스포늄 화합물의 양이온 부위에 아미노 그룹을 갖는 포스포늄 화합물 하나 이상; 및 (C)경화제가 (1) 에폭사이드 그룹과 반응하는 평균 하나 이상의 수소원자 또는 (2)산무수물 그룹을 함유하는, 언급된 에폭시-함유 화합물을 위해 적합한 경화제를 함유함을 특징으로 하는 경화성 조성물을 경화시켜 수득한 생성물 또는 제품.
  20. 제19항에 있어서, 포스포늄 화합물이 하기 일반식으로 표현되는 생성물 또는 제품.
    상기식에서, R은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 1가 하이드로카르빌 그룹, 또는 R″그룹이고; R'는 탄소수 1내지 20의 2가 하이드로카르빌 그룹이며; R″는 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 1가 하이드로카르빌 그룹, 또는 할로겐, 니트로, -C=N, 또는 탄소수 1 내지 20의 -OH 치환된 하이드로카르빌 그룹이고; Z는 적합한 모든 음이온이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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