KR900009708A - 에틸렌 중합체의 분자량 분포를 조절하기 위한 촉매 - Google Patents

에틸렌 중합체의 분자량 분포를 조절하기 위한 촉매 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

에틸렌 중합체의 분자량 분포를 조절하기 위한 촉매
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. (1) (a) 바나듐 트리할라이드와 (b) 전자공여체와의 반응 생성물, (2) 이 반응 생성물을 위한 지지체로서의 고형, 입상, 다공성 무기 담체, (3) 할로겐화 붕소 또는 알킬알루미늄 개질제, 및 (4) 하기 일반식(Ⅰ)의 실리콘-함유 분자량 분포 조절제로 필수적으로 이루어진 고체 촉매 전구체 (RO)nSiR1 (4-n)상기식에서, R및 R1은 각각 지방족 불포화가 없는 탄소수 1내지 14의 일가탄화수소 라디칼이고, n은 1내지 4의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, R 및 R1이 탄소수 1내지 6의 알킬 라디칼 또는 탄소수 6의 아릴 라디칼인 고체 촉매전구체.
  3. 제2항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 테트라에톡시실란인 고체 촉매 전구체.
  4. 제2항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디에틸 디에톡실란인 고체 촉매 전구체.
  5. 제2항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디이소부틸디메톡시실란인 고체 촉매 전구체.
  6. 제2항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디페닐디메톡시실란인 고체 촉매 전구체.
  7. (A) 제1항의 고체 촉매 전구체, (B) 하기 일반식(Ⅱ)의 알킬알루미늄 공촉매, 및 (C) 하기 일반식(Ⅲ)의 할로탄화수소 중합 촉진제를 함유하는 촉매 시스템.
    Al(R3)3(Ⅱ)
    (R4)bCX′(4n)(Ⅲ)
    상기 식에서, R3는 탄소수 1내지 14의 포화 탄화수소 라디칼이고, R4는 수소 또는 탄소수 1내지 6의 불포화 또는 할로치환된 알킬 라디칼이며, X′는 할로겐이고, b는 0, 1 또는 2이다,
  8. 제1항에 있어서, R및 R′이 탄소수 1내지 6의 알킬 라디칼 또는 탄소수 6의 아릴 라디칼인 촉매 시스템.
  9. 제8항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 테트라에톡시실란인 촉매 시스템.
  10. 제8항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디에틸디에톡시실란인 촉매 시스템.
  11. 제8항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디이소부틸디메톡시실란인 촉매 시스템.
  12. 제8항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디페닐디메톡시실란인 촉매 시스템.
  13. (A)(1)(a) 바나듐 트리할라이드와 (b) 전자공여체와의 반응 생성물 (2) 이에 대한 지지체로서의 고형, 입상, 다공성 무기 담체, 및 (3) 할로겐화 붕소 또는 알킬알루미늄 개질제로 필수적으로 이루어진 고체 촉매 전구체, (B) 알칼알루미늄 공촉매, 및 (C) 할로탄화수소 중합 촉진제를 함유하는 촉매시스템에 있어서, 고체 촉매 전구체(A)를 하기 일반식(Ⅰ)의 실리콘-함유 분자량 분포 조절제로 처리하여 개선된 촉매시스템.
    (RO)mSiR4 (4-M)(Ⅰ)
    상기식에서, R및 R1은 각각 지방족 불포화가 없는 탄소수 1내지 14의 일가 탄화수소 라디칼이고, M은 1내지 4의 정수이다.
  14. 제13항에 있어서, R및 R1이 탄소수 1내지 6의 알킬 라디칼 또는 탄소수 6의 아릴 라디칼인 고체 촉매전구체.
  15. 제14항 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 테트라에톡시실란인 고체 촉매 전구체.
  16. 제14항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디에틸 디에톡실란인 고체 촉매 전구체.
  17. 제14항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디이소부틸디메톡시실란인 고체 촉매 전구체.
  18. 제2항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디페닐디메톡시실란인 고체 촉매 전구체.
  19. (A)(1)(a) 바나듐 트리할라이드와 (b) 전자공여체와의 반응 생성물 (2) 이에 대한 지지체로서의 고형, 입상, 다공성 무기 담체, 및 (3) 할로겐화 붕소 또는 알킬알루미늄 개질제로 필수적으로 이루어진 고체 촉매 전구체, (B) 알칼알루미늄 공촉매, 및 (C) 할로탄화수소 중합 촉진제를 함유하는 촉매시스템을 사용하여, 에틸렌을 단독중합화시키거나, 에틸렌과 탄소수 3내지 8의 알파 올레핀 하나이상과 공중합화시키는 방법에 있어서, 고체 초개 전구체(A)를 하기 일반식(Ⅰ)의 실리콘-함유 분자량 분포 조절제로 처리하여 개선된 촉매시스템.
    (RO)MSiR4 (4-M)(Ⅰ)
    상기식에서, R및 R4은 각각 지방족 불포화가 없는 탄소수 1내지 14의 일가 탄화수소 라디칼이고, M은 1내지 4의 정수이다.
  20. 제19항에 있어서, R및 R4이 탄소수 1내지 6의 알킬 라디칼 또는 탄소수 6의 라디칼인 방법.
  21. 제20항 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포조절제가 테트라에톡시실란인 방법.
  22. 제20항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디에틸디에톡실란인 방법.
  23. 제20항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디이소부틸디메톡시실란인 방법.
  24. 제20항에 있어서, 실리콘-함유 분자량 분포 조절제가 디페닐디메톡시실란인 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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