KR900009149B1 - 실리콘, 티탄 및 갈륨을 기초로한 촉매와 그 제조방법 - Google Patents
실리콘, 티탄 및 갈륨을 기초로한 촉매와 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR900009149B1 KR900009149B1 KR1019900013293A KR900013293A KR900009149B1 KR 900009149 B1 KR900009149 B1 KR 900009149B1 KR 1019900013293 A KR1019900013293 A KR 1019900013293A KR 900013293 A KR900013293 A KR 900013293A KR 900009149 B1 KR900009149 B1 KR 900009149B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gallium
- titanium
- tetraalkyl
- sio
- ammonium
- Prior art date
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 13
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 title claims description 11
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 10
- UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ti] Chemical compound [Si].[Ti] UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 14
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 claims description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical group CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 9
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 9
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 nitrogenous organic bases Chemical class 0.000 description 8
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N gallium nitrate Chemical compound [Ga+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O CHPZKNULDCNCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 3
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N methyl heptene Natural products CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002258 gallium Chemical class 0.000 description 2
- 229940044658 gallium nitrate Drugs 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 2
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 2
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 2
- RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Epoxybutane Chemical compound CCC1CO1 RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSZZMFWKAQEMPB-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutan-2-ol Chemical compound CCC(O)COC CSZZMFWKAQEMPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-1-ol Chemical compound COC(C)CO YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- HSANASOQSCIDJG-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC=C1 Chemical class OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC=C1 HSANASOQSCIDJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000786363 Rhampholeon spectrum Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021513 gallium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DNUARHPNFXVKEI-UHFFFAOYSA-K gallium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ga+3] DNUARHPNFXVKEI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007479 molecular analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical class O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) ethoxide Substances [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B37/00—Compounds having molecular sieve properties but not having base-exchange properties
- C01B37/005—Silicates, i.e. so-called metallosilicalites or metallozeosilites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/89—Silicates, aluminosilicates or borosilicates of titanium, zirconium or hafnium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/40—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by dimensions, e.g. grain size
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
- B01J37/0027—Powdering
- B01J37/0045—Drying a slurry, e.g. spray drying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/03—Precipitation; Co-precipitation
- B01J37/031—Precipitation
- B01J37/033—Using Hydrolysis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
제1도는 본 발명의 물질에 대한 I.R. 스펙트럼.
제2도는 ZSM-5의 I.R 스펙트럼.
제3도는 실시예 1, 3, 4 내지 7의 갈륨-티탄-실리카라이트의 I.R. 스펙트럼.
제4도는 실시예 7에서 수득한 생성물의 SiO2/TiO2비와 SiO2/Ga2O3비의 관계를 나타내는 도표.
제6도는 실시예 7의 갈륨과 지얼라이트 치환량과의 관계.
본 발명은 지얼라이트 성질의 다공성 결정체 구조로 된 실리콘, 티탄 및 갈륨산화물을 포함하는 합성물질과 이것의 제조방법에 관한 것이다. 이러한 물질은 미국특허 제3,702,886호에서 발표된 지올라이트 ZSM-5와 구조적으로 유사하며, M1n/O, SiO2, Al2O3즉 산화금속, 실리카와 알루미나(여기서 M=원자가의 양이온)를 사용하여 소성 무수물 형태로 구성한다.
지얼라이트 ZSM-5와 구조적으로 상호 관련하는 다른 합성물질은 미국특허 제4,061,724호에 발표된 것같이 SiO2에 의해서 소성 무수물 형태로 구성되고 또한 BE-886,812에서 발표된 것같이 SiO2와 TiO2를 사용하여 소성 무수물 형태로 구성하는 것으로 공지되어 있다.
금번 발견한 것은 티탄-갈륨-실리카라이트라고 부르는 신균의 합성 지얼라이트가 실리카라이트(silicalite)와 유사하고, 이것을 분자체로 사용하거나 이온-교환물질로 사용하고 또는 아래의 반응에서 촉매로서 사용할 수가 있다. 크래킹, 선택형성, 수소화 및 탈수소화, 올리고머화, 알킬화, 이성화, 산소함유 유기화합물로부터의 탈수작업, H2O2을 이용한 유기기질의 선택적 산화 및 히드록시화(예컨대 올레핀, 디올레핀,알코올의 산화, 방향족등의 히드록시화).
실리콘, 티탄 및 갈륨의 산화물을 포함하는 본 발명의 지얼라이트 성질을 갖춘 합성 결정형 다공성 물질 은 소성 무수물 형태일때 아래의 실험식으로 나타낸다 :
pHGaO2·qTiO2·SiO2
양이온 형태로부터 또다른 양이온 형태로의 전이는 선행기술에서 공지된 통상적인 치환방법에 따라 실행된다.
본 발명의 합성물질은 X-선으로 시험할때 결정체를 나타낸다.
이러한 시험은 CuK-알파 방사선을 사용하는 전자펄스(pulse), 계산시스템이 장치된 분말-회절계로 실시한다. 강도를 계산하기 위해 피크의 높이를 측정하고 가장 강한 피크에 대한 백분율로 나타낸다.
(여기서 vs는 매우강함 ; s=강함 ; m=중간 ; mw=중간약함).
이러한 회절 스펙트럼은 ZSM-5의 그것과 본질적으로 유사하고 따라서 본 발표문헌의 서두에서 거론한 ZSM-5와 구조적으로 상호관계하는 다른 지얼라이트와도 유사하다.
wn(㎝-1) 상대강도
1220-1230 w
1080-1110 s
965- 975 mw
795- 805 mw
550- 560 m
450- 470 ms
(여기서 s=강함 ; ms=중간-강함 ; m=중간 ; mw=중간-약함 ; w=약함).
제1도에서는 I.R. 스펙트럼을 발표하여 여기서 가로좌표에는 파장을 ㎝-1로서, 세로좌표는 투과율(%)을 나타낸다.
이러한 I.R. 스펙트럼은 BE-886, 812에 발표된 지얼라이트의 그것과 유사하고 제 2도에 표시된 ZSM- 5(또는 유사한 구조물)와는 현저한 차이가 있다.
스펙트럼에서 관찰할 수 있는 것은 BE-886, 812의 티탄-실리카라이트와 티탄-갈륨-딜리카라이트의 특징이 되는 965-975㎝-1에서의 밴드가 없다는 것이다. 요약하면, 여기서 발표한 물질은 실험식과 1.R 스펙트럼 두가지 모두에 기인하여 미국특허 제3,702,586 호의 ZSM-5와는 상이하고 실험식 때문에 BE-886, 812의 지얼라이트와도 상이하다.
사실, 미국특허 제3,702,886호의 ZSM-5는 산소함유 유기화합물로부터의 탈수, 크랙킹, 선택적형성, 수소화 및 탈수소화, 올리고머화, 알킬화, 이성화와 같은 반응에서 촉매로 사용할 수 있지만, 유기질과 H2O2와의 반응(페놀을 디페놀로 만드는 히드록시화 올레핀의 산화등)에서는 비활성을 나타내고 한편, BE-886, 812의 지얼라이트는 첫번째 반응에서는 비활성이고 최종 반응에서는 활성이며 ; 반면에 여기서 발표한 지얼 라이트는 위에 거론한 모든 반응에서 활성이다.
본 발명의 두번째 목적은 위에 발표한 합성 결정형 다공성 물질을 얻는 제조방법이다.
이러한 방법은 수성환경과 최소한 실온 내지 200℃의 온도에서 실리콘 유도체, 티탄유도체, 갈륨 유도체 및 질소질 유기염기를 반응시키는 것을 특징으로 하며 이때 반응물의 SiO2/Ga2O2몰비는 100 이상이고, 특히 150 내지 600의 범위이며, 반응물의 SiO2/TiO2몰비는 5 이상이고, 특히 15 내지 25의 범위이며, 반응물의 H2O/SiO2몰비는 10 내지 100의 범위이고 특히 30 내지 50의 범위이며, 하나나 그이상의 알칼리-및 또는 알칼리-토금속 염 및/또는 수산화물이 있을 경우 반응물의 M/SiO2몰비(여기서 M는 알칼리 및/또는 알칼리-토금속 양이온)는 0.1 이하이고, 특히 0.01 이하이거나 또는 0과 같다.
이 물질의 실험식에서, 갈륨은 HGaO2의 형태로 나타내어 이 물질이 H+형태인 것을 강조한다. 각종 반응물간의 비율을 거론할때, 갈륨의 경우 Ga2O3형태가 이용되며 이것이 더욱 유용하다.
실리콘 유도체는 실리카겔, 실리카졸 및 알킬규산염중에서 선택하며, 이중에 테트라에틸규산염이 가장 바람직하고, 티탄유도체는 예컨대 할로겐화 티탄처럼, 티안산염과 또한 예컨대 알킬-티탄산, 특히 테트라에 틸-티탄산과 같은 유기티탄산 유도체중에서 선택하고 ; 갈륨유도체는 예컨대 할로겐화 갈륨, 질산갈륨 및 수산화갈륨과 같은 그의 염에서 선택한다.
질소계 유기염기로 수산화 알킬암모늄, 특히 수산화 테트라프로필-암모늄이 있다.
수산화 테트라프로필-암모늄을 사용하는 경우, 반응물의 TPA+/SiO2비(여기서 TPA른 테트라프로필- 암모늄)는 0.1 내지 1, 특히 0.2 내지 0.4의 범위이다. 이 반응물은 100 내지 200℃ 범위의 온도에서 조작하여 반응시킨다. pH9 내지 14의 범위, 특히 pH10 내지 12의 범위에서 1시간 내지 5일의 시간동안 반응시킨다.
본 발명을 실행한 또다른 구체예에 따르면 티탄-갈륨-실리카라이트는 무정형 올리코머 실리카와 결합된 형태로서 무정형의 올리고머 실리카/티탄-갈륨-실리카라이트의 몰비를 0.05 내지 0.2의 범위로 하고, 여기서 티탄-갈륨-실리카라이트 결정체는 Si-O-Si의 가교에 의해서 결합되고 또한 미세구형의 실리카가 들어있는 티탄-갈륨-실리카라이트 결정체는 5 내지 1000㎛ 크기의 직경으로 되어있다. 결합제를 포함한 촉매의 제조방법은 테트라알킬-균산염, 특히 수산화 테트라알킬암모늄의 수용액에서 테트라에틸-오르토균 산염의 가수분해로 수득되는 수산화 테트라알킬-암모늄과 실리카 수용액을 사용하는데 근거한다.
테트라알킬-암모늄부분에 있는 알킬기는 1 내지 5 범위의 탄소원자를 포함한다.
가수분해는 실온 내지 200℃ 온도와 0.2 패지 10시간에서 액체상태로 실시한다.
이러한 용액에서, 실리카는 올리고머 형태로서 예컨대>10과 같은 충분히 높은 pH값으로 존재한다. 매우 미세한 결정체가 있는 결정형의 티탄-갈륨-실리카라이트를 이 용액에 분산시킬때 결정체 표면은 매질의 알칼리성 때문에 부분적으로 부식되고 ; 이러한 상태는 용액속의 결정체의 표면과 올리고머 규산염 사이에 안정한 화학결합이 형성될때 도움을 준다. 분무 건조기로 이 현탁액을 급속히 건조하면, 물이 제거되고 동시에 올리고머에 가교결합이 생겨서 삼차원 격자로 형성된 미세구가 생기고 여기서 지얼라이트 결정체는 Si-O-Si-가교에 의해서 정밀하게 결합한다.
사용하기전에, 미세구를 불활성 매질(H2, N2등)하에서 먼저 소성하고 다음에 150 내지 700℃ 특히, 500 내지 600℃ 온도에서 산화시킨다.
분무시킬 현탁액의 전체고체(SiO2, 티탄-갈륨-실리카라이트, TAA-OH)의 최적농도는 10 내지 40중량%이다. 이 현탁액의 고체농도와 분무기의 크기를 다르게 하면 수득하는 입자의 평균직경을 변화시킬 수가 있다. 이와같이 촉매 미세구의 직경을 5 내지 1000㎛ 범위내에서 변경하여 특정한 사용에 가장 적합한 크기로 선택한다.
본 발명을 보다 잘 설명하기 위하여, 제조방법 및 응용 실시예를 다음같이 발표하였으나 본 발명이 이것에 제한되는 것은 아니다.
[실시예 1]
6.1g의 Ga(NO3)3·8H3O를 70g의 C2H5OH에 용해시키고 이렇게 얻는 용액을 약하게 교반하면서 22.7g의 테트라에틸-티탄산염과 416g의 테트라에틸-균산염으로 구성된 용액에 첨가한다.
이렇게 수득한 투명한 알코올성 용액을 14%의 수산화 테트라프로괼-암모늄으로된 수용액 870g에 알맞게 교반하면서 첨가한다. 이 혼합물을 단일상의 맑은 용액을 얻을때까지 가열하면서 계속 교반한다. 또한 이 혼합물을 다시 시간동안 교반하면서 700g의 탈염수를 첨가한다. 여기에서 수득한 혼합물을 교반중인 스테인리스강 압력솥에 넣고 자생 압력하에서 최고 170℃의 온도까지 가열한다. 이러한 조건을 15시간동안 유지한후 압력솥을 냉각시키고 반응 혼합물을 배출한다. 수득한 현탁액은 원심분리하고 고체는 재-분산 및 원심분리하여 세척하고 120℃에서 건조한 다음에 550℃에서 4시간동안 소성한다.
수득된 생성물은 공지된 방법에 따라 양성자형태로 치환시킨다.
화학 분석에서 무수물 생성물이 아래의 조성으로 된 것을 알 수 있다 : SiO2/Ga2O3=195.5, SiO2/TiO2= 54.2.
분말 X-선 회절 분석결과는 이 생성물이 결정체이고 ZSM-5 형태의 구조로 된 것을 보여준다. 이것의 I.R. 스펙트럼은 제3도에 표시한다.
[실시예 2-6]
실시예 1과 같은 방식으로 다섯가지를 제조하였는데 여기서 반응 혼합물의 분자조성과 수득된 생성물의 분자조성을 표 1에 기록한 것같은 화학 분석결과를 보여준다 .
실시예 3 및 6에서 결정화 시간과 온도를 변경하였다. 특히 실시예 3에서는 190℃에서 3시간동안 결정화 반응을 실시하였고 실시예 6에서는 100℃에서 5일간 실시하였다.
실시예 2에서 발표된 것같이 기술한 조건에서 제조한 반응 혼합물은 결정화하지 않았으며 다만 젤리형 농도로 된 무정형 생성물로서 남아있었다.
실시예 3 내지 6에서 취한 생성물은 결정체이고 X-선 회절 분석에서 ZSM-5형 구조인 것을 보여준다.
이의 I.R. 스펙트럼은 제 3도에 나타난다.
[실시예 7]
실시예 1과 같은 방식으로 반응 혼합물을 제조하며 이것의 몰비는 다음과 같다 : SiO2/TiO2=20 ; SiO2/Ga2O3=200 ; TPA/SiO2=0.3 ; H2O/SiO2=40.
유일한 차이는 질산갈륨을 14%의 수산화 테트라프로필-암모늄 용액에 직접 용해시키고 에틸알코올에서는 용해시키지 않는 것이다. 이 반응 혼합물을 압력솥에 넣고 자생 압력하의 170℃ 온도에서 15시간동안 방치한다. 배출된 생성물을 원심분리하고 재-분산 및 원심분리로 두번 세척하고 다시 이것을 120℃에서 1시간동안 건조한후 공지중에서 550℃로 4시간동안 소성한다.
소성 무수물 형태로 수득된 생성물은 다음과 같은 화학조성으로 되어있다 : SiO2/TiO2=38.2 ; SiO2/Ga2O3=140.
분말 X-선 회절 분석에서 결정체 구조의 ZSM-5 형태와 미량의 결정체 TiO2(아나타스형)가 있음을 알수 있다.
제3도에서 I.R. 스펙트럼은 실시예 1 및 3 내지 7의 갈륨-티탄-실리카라이트를 나타낸다.
제4도에서, 수득된 생성물은 200 이상의 SiO2/Ga2O3비에 대하여 SiO2/TiO2비가 40-50정도에서 안정될 때까지 SiO2/Ga2O3비의 증가에 따라서 감소한다는 것을 알수가 있다.
제5도는, 상대 강도 비율이 I.R. 스펙트럼에서 구조적 티탄에 기여하는 970㎝-1(I1)에서의 결합띠와 또한 550㎝-1에서의 결합띠 사이에서 어떻게 변하는지 보여준다.
이러한 강도 비율은 SiO2/Ga2O3비가 증가하면 커지고 이 사실은 결정체 격자속의 티탄이 갈륨의 감소에 따라서 실제로 감소한다는 것을 보여준다.
제6도는 화학 분석에서 나타난 갈륨값의 증가에 따라서 수득한 지얼라이트의 치환량에 증가하는 것을 보여준다 ; 이것은 화학 분석에서 발견된 갈륨이 실제로 구조적인 갈륨인 것을 나타낸다.
[실시예 8]
이 실시예에서, 결합제가 있는 실시예 1의 촉매를 제조한다.
100g의 Ga(NO3)3·8H2O 1,050의 C2H5OH에 용해시키고 이렇게 수득한 용액을 가볍게 교반하면서 340.5g의 테트라에틸-터탄산염과 6,240g의 테트라에틸-규산염으로 구성된 용액에 첨가한다.
이렇게 수득한 투명한 알코올성 용액을 적당히 교반하면서 14% 수산화 테트라프로필-암모늄 수용액의 13,000g에 첨가한다. 이 혼합물을 계속 교반하면서 한편으로 단일상의 맑은 용액을 얻을때까지 가열도 한다. 또한 10,500g의 탈염수를 첨가하고 이 혼합물을 한시간동안 계속 교반한다. 수득되는 혼합물을 교반중인 스테인리스강 압력솥에 주입하고 자생압력하에서 최고 170℃까지 가열한다. 이 조건을 15시간동안 유지 하고 다음에 압력솥을 냉각하고 반응 혼합물을 배출한다. 수득한 현탁액을 원심분리하고 고체는 재-분산 및 원심분리하여 세척한다.
550g의 테트라에틸-규산염을 590g의 수산화 테트라프로필-암모늄 12% 수용액에 교반하면서 첨가하고 수득되는 혼합물을 대략 60℃에서 1시간동안 교반하고 다음에 2400g의 탈염수를 첨가하고 다음에 용액을 다시 한시간동안 교반하고 한편으로 대략 25℃까지 냉각시킨다.
이렇게 수득한 투명한 용액에 대해 위에서 발표한 것같은 2050g의 세척한 원심분리 케이크를 조심스럽게 분산시킨다. 이 원심분리 케이크는 대략 70중량%의 지얼라이트를 포함한다.
그결과로 나온 우유같은 현탁액을 분무-건조기(NIRO-ATOMIZER ; disk-atomized ; 입구공기온도 300℃ ; 출구 공기온도 120℃ ; 챔버직경 1.5m), 조밀한 미세구를 수득하고, 이것은 20㎛에 근접하는 평균 직경으로 되어있다.
분무한 쟁성물을 N2대에서 550℃로 가열하고 ; 이 대를 N2로부터 점차적으로 공기로 바꾼다 ; 또한 이 생성물을 추가로 공기에서 550℃로 2시간동안 유지한다.
수득된 고체는 아래의 조성과 몰비를 가진다 : SiO2/Ga2O3=217 ; SiO2/TiO2=60.
[실시예 9]
실시예 4에 따른 4g의 촉매와 60㎖빈의 1-옥탄을 유지된 압력솥에 주입하고 교반하면서 5시간동안 200℃로 가열한다. 냉각후, 현탁액을 여과하고 생성물을 가스-크로마토그래피와 질량분석으로 분석하였다.
1-옥텐전환율 : 18%
이량체에 대한 선택율 95%
삼량체에 대한 선택성 : 5%
[실시예 10]
기계식 교반기와 온도 조절 시스템이 장치된 1리터 용량의 강 압력솥에 373g의 메탄올, 실시예 8에 따른 촉매 4g, 5.0g의 벤젠(가스-크로마토그래피 분석용 내부표준으로서) 및 45g의 1-부텐을 주입한다. 온도를 22℃의 기준치에 맞춘뒤에, 이 현탁액에 33%(w/v)의 과산화수소 20㎖를 강하게 교반하면서 첨가한다. 이 반응은 분석용 시료를 취하여 여과해서 관찰한다. 과산화수소는 요오드 적정으로 측정하고 반응 생성물은 Porcpak PS로 충전된 1.8m 길이의 칼럼이 설치된 GLC에서 측정한다. 45분후의 상황은 아래와 같다 :
전환된 H2O285%
1,2-에폭시부탄 : 0.0326몰
1-메톡시-2-히드록시부탄 : 0.0795몰
2-메톡디-1-히드록시부탄 : 0.0517몰
[실시예 11]
용량의 1리터이고 기계식 교반기 온도 조절 시스템 및 일정 압력 조절 시스템이 장치된 압력솥에 193g의 메탄올과 실시예 4에 따른 촉매 4.0g을 주입한다. 압력솥과 연결된 용기에 32%(w/w)의 H2O211.2g를 주입한다. 온도를 22℃의 기준치로 조정하고, 교반하면서 프로필렌을 넣어 300KPa까지 압력을 올린후(이 압 력은 전체 반응시간중에 일정하게 유지한다). 압력솥의 이 현탁액에 과산화수소를 일시에 모두 첨가한다.
이 반응은 현탁액의 시료를 취하여 여과 및 분석해서 관찰한다. 과산화수소는 요오드 적정으로 측정하고 반응 생성물은 Poropak PS.로 채워진 1.8미터 길이의 칼럼에서 가스-크로마토그래피로 측정하다. 45분후의 상황은 아래와 같다 :
전환된 H2O288%
산화프로필렌 6.02×10-3몰
1-메톡시 -2-히드록시 프로판 : 52.0×10-3몰
2-메톡시 -1-히드록시 프로판 : 34.6×10-3몰
[실시예 12]
250cc 용량의 작은 유리 플라스크에 페놀, 99.8g ; 물 24.2g ; 아세톤 18.5g 또한 촉매를 실시예 5에서와 같이 차례대로 주입한다.
이 반응 혼합물을 교반하면서 100℃로 가열하고 환류시키고 다음에 같은 조건에서 45분 이내에 60% w/ w의 H2O215.4g를 점적해서 첨가한다.
첨가시작 60분후에 모든 H2O2는 전환되었으며, 반응 생성물은 가스 크로마토그래피로 분석하였다.
H2O2의 잔유량은 피치와 O2로 전환된다. 수득한 디페놀에서 오르토/파라의 비는 1.26이다.
[표 1]
Claims (7)
- 미세구로 형성되고 올리고머 실리카와 제1항에 따른 물질 즉 티탄-갈륨-균산염의 결정체로 구성되고 한편 올리고머 실리카/티탄-갈륨-규산염의 몰비가 0.05 내지 0.2의 범위이고, 또한 티탄-갈륨-규산염의 결정체가 Si-O-Si 가교의 수단에 의해 결합되는 것을 특징으로 하는 실리콘, 티탄 및 갈륨을 기초로 한 촉매.
- 제1항에 있어서, 미세구가 5 내지 1,000㎛의 직경크기로 된 촉매.
- 실리카와 수산화 테트라알킬-암모늄의 수용액에서 실온 내지 200℃의 온도와 0.2 내지 10시간동안 수산화 테트라알킬-암모늄의 수용액에 있는 테트라알킬-오르토극산염을 액상에서 가수분해하여 수득하고, 티탄-갈륨-규산염 결정체는 분산시키고, 티탄-갈륨-곡산염 또한 올리고머 실리카의 현탁액을 수득하고, 또한 수득된 현탁액을 급속건조처리하는 것을 특징으로 하는 제16항에 따른 촉매의 제조방법.
- 제3항에 있어서, 테트라알킬-오르토규산염의 테트라에틸-오르토실리케이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 가수분해가 40 내지 100℃ 범위의 온도에서 가수분해하는 방법.
- 제3항에 있어서, 테트라알킬-암모늄의 알킬부분에 1 내지 5의 탄소원자가 들어있는 것으로 된 방법.
- 제6항에 있어서, 테트라알킬-암모늄이 테트라프로필-암모늄인 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900013293A KR900009149B1 (ko) | 1986-08-04 | 1990-08-28 | 실리콘, 티탄 및 갈륨을 기초로한 촉매와 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019860011690U KR890008385Y1 (ko) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 브랜치된 전화기의 통화상태 감지회로 |
IT8622070A IT1213363B (it) | 1986-10-22 | 1986-10-22 | Materiale sintetico cristallino poroso contenente ossidi di silicio titanio e gallio. |
IT22070A/86 | 1987-11-06 | ||
KR1019900013293A KR900009149B1 (ko) | 1986-08-04 | 1990-08-28 | 실리콘, 티탄 및 갈륨을 기초로한 촉매와 그 제조방법 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019870011690A Division KR900009148B1 (ko) | 1986-10-22 | 1987-10-21 | 실리콘, 티탄 및 갈륨의 산화물을 포함하는 합성결정형 다공성 물질 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR900009149B1 true KR900009149B1 (ko) | 1990-12-22 |
Family
ID=27273244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900013293A KR900009149B1 (ko) | 1986-08-04 | 1990-08-28 | 실리콘, 티탄 및 갈륨을 기초로한 촉매와 그 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR900009149B1 (ko) |
-
1990
- 1990-08-28 KR KR1019900013293A patent/KR900009149B1/ko not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR900009148B1 (ko) | 실리콘, 티탄 및 갈륨의 산화물을 포함하는 합성결정형 다공성 물질 | |
US4476327A (en) | Process for the synthesis of glycol monomethylethers | |
RU1837958C (ru) | Катализатор дл димеризации олефинов, представл ющий собой аморфный гель двуокиси кремни и окиси алюмини , и способ его получени | |
US5874596A (en) | Titanosilicate catalyst particle | |
US5965476A (en) | Silica/zeolite composite materials in spherical form and process for their preparation | |
SU1181533A3 (ru) | Способ получени низших трет-олефинов | |
EP0226257B1 (en) | Synthetic, crystalline, porous material containing silicon oxide, titanium oxide and aluminium oxide | |
US4895988A (en) | Process for the mutual condensation of aromatic and carbonylic compounds | |
EP0246272B1 (en) | Silica-titania hydrocarbon conversion catalyst | |
EP0016494A1 (en) | Process for the preparation of an aromatic hydrocarbon mixture, and aromatic hydrocarbon mixtures so prepared | |
EP0185519B1 (en) | Zeolite l preparation | |
EP0272496B1 (en) | Process for oligomerizing light olefines | |
EP0100117B1 (en) | Process for isomerising styrene oxide or homologues to beta-phenylaldehydes | |
EP1002577B1 (en) | Process for the preparation of catalysts based on MFI-type zeolite | |
JPS62162614A (ja) | 合成ゼオライト物質及びその製造法 | |
KR900009149B1 (ko) | 실리콘, 티탄 및 갈륨을 기초로한 촉매와 그 제조방법 | |
US5246690A (en) | Synthetic, crystalline, porous material containing silicon oxide, titanium oxide and aluminum oxide | |
JP3697737B2 (ja) | 合成ゼオライト物質 | |
CN102869443A (zh) | 用于生产烯烃和用于低聚合烯烃的改进的沸石基催化剂 | |
CN106964393B (zh) | 丙烯制造用催化剂、该催化剂的制造方法和丙烯的制造方法 | |
RU2005691C1 (ru) | Способ получения синтетического цеолита |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20001214 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |