KR870002747A - 프라자마 처리장치 - Google Patents
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- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 1실시예인 포토 레지스트 제거장치의 중요부를 도시한 단면도.
Claims (5)
- 반응용기 내에 위치되는 피처리물에 공급되는 처리유체를 프라즈마화하는 것에 의해서, 처리를 촉진시키는 프라즈마 처리장치로서, 상기 처리유체와 피처리물에 광여기를 행하는 광선속을 조사하는 광원부가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 프라즈마 처리장치.
- 상기 처리유체의 프라즈마화가 마이크로파 에너지에 의해서 행하여지고, 상기 광원부가 그 마이크로파 에너지에 의해서, 자외선을 방사하는 무전극 방전관인 것을 특징으로 하는 특허청구 범위 제1항 기제의 프라즈마 처리 장치.
- 상기 처리유체와 상기 피처리물이 각각 산소까스와 웨이퍼이며, 상기 처리장치가 포토 레지스트 제거 장치인 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제1항 기제의 프라즈마 처리장치.
- 상기 처리유체와 상기 피처리물이 각각 O2, CF4, CCl4동의 반응까스와 웨이퍼이며, 상기 처리장치가 프라즈마 에칭장치인 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제1항 기재의 프라즈마 처리장치.
- 상기 처리유체와 상기 피처리물이, 각각 CVD반응 까스와 웨이퍼이며, 상기 처리장치가 프라즈마 CVD 장치인 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 제1항 기재의 프라즈마 처리장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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