KR20230164587A

KR20230164587A - Optical laminate

Info

Publication number: KR20230164587A
Application number: KR1020230065647A
Authority: KR
Inventors: 게이타 오가와; 가즈야 우라카미; 유 이시자키
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2022-05-25
Filing date: 2023-05-22
Publication date: 2023-12-04
Also published as: TW202413078A

Abstract

표면 보호 필름 너머여도 색상·휘도 불균일의 검사성이 우수한, 표면 보호 필름과 편광판을 포함하는 광학 적층체를 제공한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 표면 보호 필름과 광학 부재를 포함하는 광학 적층체이며, 해당 표면 보호 필름은, 기재와 점착제층을 갖고, 해당 광학 부재는 편광판을 갖고, 해당 표면 보호 필름의 정면 위상차 R0이, R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm이고, 해당 편광판의 흡수축과 해당 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 이루는 각도가 30° 이하이다.An optical laminate comprising a surface protection film and a polarizing plate is provided, which has excellent inspection properties for color and luminance unevenness even beyond the surface protection film.
An optical laminated body according to an embodiment of the present invention is an optical laminated body including a surface protection film and an optical member, the surface protection film has a base material and an adhesive layer, the optical member has a polarizing plate, and the surface protection film is provided. The front phase difference R0 of the film is R0≤2500nm or R0≥3000nm, and the angle formed between the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the base material of the surface protection film is 30° or less.

Description

광학 적층체{OPTICAL LAMINATE}Optical laminate {OPTICAL LAMINATE}

본 발명은 광학 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to optical laminates.

디스플레이나 촬상 장치 등의 광학 디바이스, 전자 디바이스, 이들 디바이스의 구성 부품인 필름이나 유리 재료 등의 표면에는, 표면 보호나 내충격성 부여 등을 목적으로 하여, 표면 보호 필름이 마련되어 있다.　표면 보호 필름으로서는, 대표적으로는, 디바이스의 조립, 가공, 수송 등의 사용 전의 상태에 있어서 일시적으로 가접착되어, 디바이스의 사용 전에 재박리되는 것(공정재로서 사용되는 것), 디바이스의 사용 시에도 디바이스 표면에 접착된 채의 상태에서 사용되는 것(영구 접착을 목적으로 한 것)이 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).Surface protection films are provided on the surfaces of optical devices such as displays and imaging devices, electronic devices, and films and glass materials that are constituent parts of these devices for the purpose of protecting the surface and providing impact resistance. Typical examples of surface protection films include those that are temporarily bonded before use during device assembly, processing, transportation, etc., and peeled off again before use of the device (used as a process material), and those that are used when using the device. There are also those used in a state where they are adhered to the device surface (intended for permanent adhesion) (for example, see Patent Document 1).

공정재로서 사용되는 표면 보호 필름 및 영구 접착을 목적으로 한 표면 보호 필름은, 모두, 필름 기재의 주면에 점착제층을 구비하고, 이 점착제층을 개재하여, 보호 대상인 피착체의 표면에 접합된다(예를 들어, 특허문헌 2 참조).The surface protection film used as a process material and the surface protection film intended for permanent adhesion both have an adhesive layer on the main surface of the film substrate, and are bonded to the surface of the adherend to be protected through this adhesive layer ( For example, see Patent Document 2).

액정 표시 장치 등의 편광판을 포함하는 광학 부재는, 일반적으로, 색상·휘도 불균일의 평가를 목적으로 하여 검사를 행하는 것이 통례로 되어 있다.　그런데, 종래, 편광판을 포함하는 광학 부재에 표면 보호 필름이 접합된 광학 적층체의 색상·휘도 불균일의 검사를 표면 보호 필름 너머로 행한 경우, 표면 보호 필름이 갖는 이방성 등 때문에, 적절한 검사를 할 수 없는 경우가 있다.It is customary to generally inspect optical members containing polarizing plates such as liquid crystal display devices for the purpose of evaluating color and luminance unevenness. However, conventionally, when inspection of color and luminance unevenness of an optical laminate in which a surface protection film is bonded to an optical member including a polarizing plate is performed through the surface protection film, appropriate inspection cannot be performed due to the anisotropy of the surface protection film, etc. There are cases.

일본 특허 제3518677호 공보Japanese Patent No. 3518677 Publication 일본 특허 제6249617호 공보Japanese Patent No. 6249617 Publication

본 발명의 과제는, 표면 보호 필름 너머여도 색상·휘도 불균일의 검사성이 우수한, 표면 보호 필름과 편광판을 포함하는 광학 적층체를 제공하는 데 있다.The object of the present invention is to provide an optical laminate containing a surface protection film and a polarizing plate, which has excellent inspection properties for color and luminance unevenness even beyond the surface protection film.

[1] 본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 표면 보호 필름과 광학 부재를 포함하는 광학 적층체이며, 해당 표면 보호 필름은, 기재와 점착제층을 갖고, 해당 광학 부재는 편광판을 갖고, 해당 표면 보호 필름의 정면 위상차 R0이, R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm이고, 해당 편광판의 흡수축과 해당 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 이루는 각도가 30° 이하이다.[1] An optical laminate according to an embodiment of the present invention is an optical laminate including a surface protection film and an optical member, the surface protection film has a base material and an adhesive layer, and the optical member has a polarizing plate, The front phase difference R0 of the surface protection film is R0≤2500 nm or R0≥3000 nm, and the angle formed between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the substrate of the surface protection film is 30° or less.

[2] 상기 [1]에 기재된 광학 적층체에 있어서, 상기 광학 적층체의 RGB 표준 편차가 9.50 이하여도 된다.[2] In the optical laminate described in [1] above, the RGB standard deviation of the optical laminate may be 9.50 or less.

[3] 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체에 있어서, 상기 광학 적층체의 색 분산 엔트로피 S_CD가 2.52×10^-14 이상이어도 된다.[3] In the optical laminate according to [1] or [2] above, the color dispersion entropy S _CD of the optical laminate may be 2.52×10 ^-14 or more.

본 발명에 의하면, 표면 보호 필름 너머여도 색상·휘도 불균일의 검사성이 우수한, 표면 보호 필름과 편광판을 포함하는 광학 적층체를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an optical laminate containing a surface protection film and a polarizing plate that is excellent in inspection properties for color and luminance unevenness even beyond the surface protection film.

도 1은 본 발명의 광학 적층체의 하나의 실시 형태를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 지상축이 긴 방향(MD 방향)과 이루는 각도를 설명하는 개략 설명도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the optical laminate of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram illustrating the angle formed by the slow axis with the long direction (MD direction).

본 명세서 중에서 「질량」이라는 표현이 있는 경우에는, 종래 일반적으로 무게의 단위로서 관용되고 있는 「중량」이라고 대체해서 읽어도 되고, 반대로, 본 명세서 중에서 「중량」이라는 표현이 있는 경우에는, 무게를 나타내는 SI계 단위로서 관용되고 있는 「질량」이라고 대체해서 읽어도 된다.When the expression “mass” is used in this specification, it can be read as “weight”, which has been generally used as a unit of weight. Conversely, when the expression “weight” is used in this specification, the weight can be read as It can be read as a replacement for “mass,” which is commonly used as a SI unit.

본 명세서에 있어서, 「지상축이 긴 방향(MD 방향)과 이루는 각도」라고 하는 경우의 해당 각도는, 긴 방향(MD 방향)을 기준으로 하여 반시계 방향의 방향으로 이루는 각도를 의미한다.In this specification, the angle in the case of “the angle formed by the slow axis with the longitudinal direction (MD direction)” means the angle formed in the counterclockwise direction with respect to the longitudinal direction (MD direction).

본 명세서 중에서 「(메트)아크릴」이라는 표현이 있는 경우에는, 「아크릴 및/또는 메타크릴」을 의미하고, 「(메트)아크릴레이트」라는 표현이 있는 경우에는, 「아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트」를 의미하고, 「(메트)알릴」이라는 표현이 있는 경우에는, 「알릴 및/또는 메탈릴」을 의미하고, 「(메트)아크롤레인」이라는 표현이 있는 경우에는, 「아크롤레인 및/또는 메타크롤레인」을 의미한다.In this specification, when the expression “(meth)acrylic” is used, it means “acrylic and/or methacryl”, and when the expression “(meth)acrylate” is used, it means “acrylate and/or methacrylic”. rate”, and in the case of the expression “(meth)allyl”, it means “allyl and/or methallyl”, and in the case of the expression “(meth)acrolein”, it means “acrolein and/or metalyl”. It means “Crolein.”

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 표면 보호 필름과 광학 부재를 포함한다.　표면 보호 필름은, 기재와 점착제층을 갖는다.　광학 부재는, 편광판을 갖는다.An optical laminate according to an embodiment of the present invention includes a surface protection film and an optical member. The surface protection film has a base material and an adhesive layer. The optical member has a polarizing plate.

도 1은 본 발명의 광학 적층체의 하나의 실시 형태이며, 광학 적층체(1000)는, 표면 보호 필름(100)과 광학 부재(200)를 포함하고, 해당 표면 보호 필름(100)은, 기재(10)와 점착제층(20)을 갖는다.1 shows one embodiment of an optical laminate of the present invention, wherein the optical laminate 1000 includes a surface protection film 100 and an optical member 200, and the surface protection film 100 includes a base material. (10) and an adhesive layer (20).

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 표면 보호 필름과 광학 부재를 포함하고 있으면, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 다른 층을 포함하고 있어도 된다.As long as the optical laminated body according to the embodiment of the present invention contains a surface protection film and an optical member, it may contain any appropriate other layer as long as the effect of the present invention is not impaired.

이러한 다른 층으로서는, 예를 들어 유리, 디스플레이, 촬상 장치, 렌즈, (하프) 미러를 들 수 있다.These other layers include, for example, glass, displays, imaging devices, lenses, and (half) mirrors.

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 첨가제를 포함하고 있어도 된다.The optical laminated body according to the embodiment of the present invention may contain any appropriate additives as long as the effect of the present invention is not impaired.

이러한 첨가제로서는, 예를 들어 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 조핵제, 충전제, 안료, 계면 활성제, 대전 방지제를 들 수 있다.Examples of such additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, nucleating agents, fillers, pigments, surfactants, and antistatic agents.

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체의 총 두께는, 광학 부재의 종류에 따라, 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다.　대표적으로는, 본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체의 총 두께는, 바람직하게는 10㎛ 내지 1000㎛이고, 보다 바람직하게는 25㎛ 내지 800㎛이고, 더욱 바람직하게는 30㎛ 내지 800㎛이고, 더욱 바람직하게는 40㎛ 내지 700㎛이고, 더욱 바람직하게는 40㎛ 내지 600㎛이고, 특히 바람직하게는 50㎛ 내지 500㎛이고, 가장 바람직하게는 100㎛ 내지 500㎛이다.The total thickness of the optical laminate according to the embodiment of the present invention can be any appropriate thickness depending on the type of optical member. Typically, the total thickness of the optical laminate according to the embodiment of the present invention is preferably 10 μm to 1000 μm, more preferably 25 μm to 800 μm, and still more preferably 30 μm to 800 μm. , more preferably 40 μm to 700 μm, further preferably 40 μm to 600 μm, particularly preferably 50 μm to 500 μm, and most preferably 100 μm to 500 μm.

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 편광판의 흡수축과 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 이루는 각도가 30° 이하이다.　편광판의 흡수축과 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 이루는 각도가 이러한 범위 내에 있으면, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 편광판의 흡수축과 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 이루는 각도는, 바람직하게는 25° 이하이고, 보다 바람직하게는 20° 이하이고, 더욱 바람직하게는 15° 이하이고, 더욱 바람직하게는 10° 이하이고, 더욱 바람직하게는, 5° 이하이고, 특히 바람직하게는 2° 이하이고, 가장 바람직하게는 1° 이하이다.　또한, 본 발명에서 말하는 「편광판의 흡수축과 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 이루는 각도」는, 편광판의 흡수축과 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 교차함으로써 형성되는 4개소의 각도 중, 90° 이하의 각도를 말하는 것으로 한다.In the optical laminate according to an embodiment of the present invention, the angle between the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the base material of the surface protection film is 30° or less. If the angle formed between the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the substrate of the surface protection film is within this range, the effect of the present invention can be more expressed. In order to further realize the effect of the present invention, the angle formed between the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the base material of the surface protection film is preferably 25° or less, more preferably 20° or less, and further Preferably it is 15° or less, more preferably 10° or less, even more preferably 5° or less, particularly preferably 2° or less, and most preferably 1° or less. In addition, the "angle formed by the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the substrate of the surface protection film" as used in the present invention refers to the four angles formed when the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the substrate of the surface protection film intersect. In the middle, it refers to angles of 90° or less.

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, RGB 표준 편차가 작을수록 좋고, 바람직하게는 9.50 이하이고, 보다 바람직하게는 9.40 이하이고, 더욱 바람직하게는 9.30 이하이고, 더욱 바람직하게는 9.20 이하이고, 더욱 바람직하게는 9.17 이하이고, 더욱 바람직하게는 9.14 이하이고, 특히 바람직하게는 9.11 이하이고, 가장 바람직하게는 9.10 이하이다.　RGB 표준 편차가 상기 범위 내에 있음으로써, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.In the optical laminate according to an embodiment of the present invention, the smaller the RGB standard deviation, the better, preferably 9.50 or less, more preferably 9.40 or less, further preferably 9.30 or less, and even more preferably 9.20 or less. , more preferably 9.17 or less, further preferably 9.14 or less, particularly preferably 9.11 or less, and most preferably 9.10 or less. When the RGB standard deviation is within the above range, the effect of the present invention can be more expressed.

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 색 분산 엔트로피 S_CD가 크면 클수록 좋고, 바람직하게는 2.52×10^-14 이상이고, 보다 바람직하게는 2.53×10^-14 이상이고, 더욱 바람직하게는 2.54×10^-14 이상이고, 특히 바람직하게는 2.55×10^-14 이상이다.　색 분산 엔트로피 S_CD가 상기 범위 내에 있음으로써, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.In the optical laminate according to the embodiment of the present invention, the larger the chromatic dispersion entropy S _CD , the better, preferably 2.52 × 10 ^-14 or more, more preferably 2.53 × 10 ^-14 or more, and even more preferably 2.54 It is ×10 ^-14 or more, and particularly preferably 2.55 × 10 ^-14 or more. When the color dispersion entropy S _CD is within the above range, the effect of the present invention can be more expressed.

본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는, RGB 표준 편차/색 분산 엔트로피 S_CD가, 바람직하게는 3.50×10¹⁴ 내지 3.80×10¹⁴이고, 보다 바람직하게는 3.52×10¹⁴ 내지 3.70×10¹⁴이고, 더욱 바람직하게는 3.53×10¹⁴ 내지 3.65×10¹⁴이고, 특히 바람직하게는 3.53×10¹⁴ 내지 3.60×10¹⁴이고, 가장 바람직하게는 3.53×10¹⁴ 내지 3.57×10¹⁴이다.　RGB 표준 편차/색 분산 엔트로피 S_CD가 상기 범위 내에 있음으로써, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.The optical laminate according to an embodiment of the present invention has an RGB standard deviation/chromatic dispersion entropy S _CD of preferably 3.50×10 ¹⁴ to 3.80×10 ¹⁴ , and more preferably 3.52×10 ¹⁴ to 3.70×10 ¹⁴ , more preferably 3.53×10 ¹⁴ to 3.65×10 ¹⁴ , particularly preferably 3.53×10 ¹⁴ to 3.60×10 ¹⁴ , and most preferably 3.53×10 ¹⁴ to 3.57×10 ¹⁴ . When the RGB standard deviation/color dispersion entropy S _CD is within the above range, the effect of the present invention can be more expressed.

≪≪표면 보호 필름≫≫≪≪Surface protection film≫≫

표면 보호 필름은, 대표적으로는, 기재와 점착제층을 갖는다.A surface protection film typically has a base material and an adhesive layer.

표면 보호 필름은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 기재와 점착제층 이외의 임의의 적절한 다른 층을 갖고 있어도 된다.The surface protection film may have any suitable other layers other than the base material and the adhesive layer as long as the effect of the present invention is not impaired.

이러한 다른 층으로서는, 예를 들어 접착 용이층, 미끄럼 용이층, 블로킹 방지층, 대전 방지층, 반사 방지층, 올리고머 방지층을 들 수 있다.Examples of such other layers include an easy-to-adhesion layer, an easy-to-slip layer, an anti-blocking layer, an anti-static layer, an anti-reflection layer, and an anti-oligomer layer.

본 발명의 실시 형태에 따른 표면 보호 필름에는, 점착제층의 보호 등을 위해, 점착제층의 기재와 반대 측의 표면에 박리 라이너가 마련되어 있어도 된다.　이 박리 라이너는, 대표적으로는, 본 발명의 실시 형태에 따른 표면 보호 필름의 사용 시에 박리된다.The surface protection film according to the embodiment of the present invention may be provided with a release liner on the surface opposite to the base material of the adhesive layer for protection of the adhesive layer, etc. This release liner typically peels off when using the surface protection film according to the embodiment of the present invention.

표면 보호 필름은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 첨가제를 포함하고 있어도 된다.The surface protection film may contain any appropriate additive as long as it does not impair the effect of the present invention.

표면 보호 필름의 하나의 실시 형태는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 표면 보호 필름(100)이, 기재(10)와 점착제층(20)으로 이루어진다.In one embodiment of the surface protection film, as shown in FIG. 1, the surface protection film 100 consists of a base material 10 and an adhesive layer 20.

표면 보호 필름은, 그 정면 위상차 R0이, 바람직하게는 R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm이고, 보다 바람직하게는 R0≤2500nm 또는 R0≥4000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤2300nm 또는 R0≥4500nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤2100nm 또는 R0≥5000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤1900nm 또는 R0≥5500nm이고, 특히 바람직하게는 R0≤1700nm 또는 R0≥5500nm이고, 가장 바람직하게는 R0≤1700nm 또는 R0≥6000nm이다.　표면 보호 필름의 면내 위상차를 상기 범위 내로 조정함으로써, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.　또한, 본 발명의 설명에 있어서, 상기 정면 위상차 R0의 바람직한 범위의 규정은, 예를 들어 「R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm」와 같이, 소정의 값 이하 또는 소정의 값 이상의 조합으로 단계적으로 기재하고 있지만, 상기 정면 위상차 R0의 바람직한 범위는, 기재되어 있는 조합에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 「R0≤1900nm」의 범위와 「R0≥4500nm」의 범위의 조합(「R0≤1900nm 또는 R0≥4500nm」)이어도 된다.　또한, 소정의 값 이하 또는 소정의 값 이상의 조합으로 단계적으로 기재되어 있는 규정은, 예를 들어 「R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm」라고 규정되어 있는 경우에는, 그 문언대로, 「R0≤2500nm」 또는 「R0≥3000nm」를 의미한다.　또한, 본 발명의 실시 형태에 따른 표면 보호 필름의 정면 위상차 R0의 측정은, 표면 보호 필름의 점착제층의 기재와 반대 측의 표면에 미리 박리 라이너가 마련되어 있는 경우에는, 그 박리 라이너를 박리한 것에 대하여 측정한 것으로 한다.The surface protection film has a front phase difference R0 of preferably R0≤2500nm or R0≥3000nm, more preferably R0≤2500nm or R0≥4000nm, further preferably R0≤2300nm or R0≥4500nm, and further Preferably R0≤2100nm or R0≥5000nm, more preferably R0≤1900nm or R0≥5500nm, particularly preferably R0≤1700nm or R0≥5500nm, and most preferably R0≤1700nm or R0≥6000nm. . By adjusting the in-plane retardation of the surface protection film within the above range, the effect of the present invention can be further exhibited. In addition, in the description of the present invention, the definition of the preferable range of the front phase difference R0 is described step by step as a combination of less than a predetermined value or more than a predetermined value, for example, "R0≤2500nm or R0≥3000nm". However, the preferred range of the front phase difference R0 is not limited to the combination described, for example, a combination of the range of “R0≤1900nm” and the range of “R0≥4500nm” (“R0≤1900nm or R0≥4500nm” 」) can also be used. In addition, regulations that are described step by step in combinations below a predetermined value or above a predetermined value, for example, in the case where "R0≤2500nm or R0≥3000nm" are stipulated as "R0≤2500nm" or It means “R0≥3000nm”. In addition, the measurement of the front retardation R0 of the surface protection film according to the embodiment of the present invention is performed by peeling off the release liner when a release liner is previously provided on the surface of the surface protection film opposite to the base material of the adhesive layer. It is assumed that it was measured for.

표면 보호 필름의 정면 위상차 R0이, R0≤2500nm인 경우, 그 하한값은, 작으면 작을수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 100nm 이상이다.When the front phase difference R0 of the surface protection film is R0≤2500 nm, the lower the lower limit, the better, but in reality, it is preferably 100 nm or more due to factors such as material selection.

표면 보호 필름의 정면 위상차 R0이, R0≥3000nm인 경우, 그 상한값은, 크면 클수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 30000nm 이하이다.When the front phase difference R0 of the surface protection film is R0 ≥ 3000 nm, the upper limit is preferably 30000 nm or less in reality due to factors such as material selection, although the larger the better.

≪기재≫≪Description≫

기재는, 1층으로 이루어지는 기재여도 되고, 2층 이상의 적층 구조로 이루어지는 기재여도 된다.The base material may be a one-layered base material, or may be a base material having a laminated structure of two or more layers.

기재의 두께는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 기재의 두께는, 바람직하게는 5㎛ 내지 1000㎛이고, 보다 바람직하게는 10㎛ 내지 800㎛이고, 더욱 바람직하게는 20㎛ 내지 600㎛이고, 특히 바람직하게는 30㎛ 내지 400㎛이다.The thickness of the base material can be any appropriate thickness within a range that does not impair the effect of the present invention. In order to further realize the effect of the present invention, the thickness of the substrate is preferably 5 ㎛ to 1000 ㎛, more preferably 10 ㎛ to 800 ㎛, and still more preferably 20 ㎛ to 600 ㎛, Particularly preferably, it is 30㎛ to 400㎛.

기재는, 그 정면 위상차 R0이, 바람직하게는 R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm이고, 보다 바람직하게는 R0≤2500nm 또는 R0≥4000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤2300nm 또는 R0≥4500nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤2100nm 또는 R0≥5000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤1900nm 또는 R0≥5500nm이고, 특히 바람직하게는 R0≤1700nm 또는 R0≥5500nm이고, 가장 바람직하게는 R0≤1700nm 또는 R0≥6000nm이다.　이러한 기재를 채용함으로써, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.　또한, 본 발명의 설명에 있어서, 상기 정면 위상차 R0의 바람직한 범위의 규정은, 예를 들어 「R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm」와 같이, 소정의 값 이하 또는 소정의 값 이상의 조합으로 단계적으로 기재하고 있지만, 상기 정면 위상차 R0의 바람직한 범위는, 기재되어 있는 조합에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 「R0≤1900nm」의 범위와 「R0≥4500nm」의 범위의 조합(「R0≤1900nm 또는 R0≥4500nm」)이어도 된다.　또한, 소정의 값 이하 또는 소정의 값 이상의 조합으로 단계적으로 기재되어 있는 규정은, 예를 들어 「R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm」라고 규정되어 있는 경우에는, 그 문언대로, 「R0≤2500nm」 또는 「R0≥3000nm」를 의미한다.The substrate has a front phase difference R0 of preferably R0≤2500nm or R0≥3000nm, more preferably R0≤2500nm or R0≥4000nm, further preferably R0≤2300nm or R0≥4500nm, and still more preferably R0≤2500nm or R0≥4000nm. is R0≤2100nm or R0≥5000nm, more preferably R0≤1900nm or R0≥5500nm, particularly preferably R0≤1700nm or R0≥5500nm, and most preferably R0≤1700nm or R0≥6000nm. By employing such a substrate, the effects of the present invention can be further expressed. In addition, in the description of the present invention, the definition of the preferable range of the front phase difference R0 is described step by step as a combination of less than a predetermined value or more than a predetermined value, for example, "R0≤2500nm or R0≥3000nm". However, the preferred range of the front phase difference R0 is not limited to the combination described, for example, a combination of the range of “R0≤1900nm” and the range of “R0≥4500nm” (“R0≤1900nm or R0≥4500nm” 」) can also be used. In addition, regulations that are described step by step in combinations below a predetermined value or above a predetermined value, for example, in the case where "R0≤2500nm or R0≥3000nm" are stipulated as "R0≤2500nm" or It means “R0≥3000nm”.

기재의 정면 위상차 R0이, R0≤2500nm인 경우, 그 하한값은, 작으면 작을수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 100nm 이상이다.When the front phase difference R0 of the substrate is R0≤2500 nm, the lower the lower limit, the better, but in reality, it is preferably 100 nm or more due to factors such as material selection.

기재의 정면 위상차 R0이, R0≥3000nm인 경우, 그 상한값은, 크면 클수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 30000nm 이하이다.When the front phase difference R0 of the substrate is R0 ≥ 3000 nm, the upper limit is preferably 30000 nm or less in reality, depending on factors such as material selection, although the larger the better.

정면 위상차 R0이 상기 범위 내에 있는 기재를 얻는 방법으로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다.　이러한 방법으로서는, 예를 들어, 플라스틱을 재료로 하는 기재를 연신하는 방법, 초복굴절 필름을 이용하는 방법, 플라스틱을 재료로 하는 기재를 2층 이상으로 적층하는 방법, 정면 위상차 R0이 R0≤2600nm인 결정성 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 기재를 이용하는 방법을 들 수 있다.As a method of obtaining a substrate having a front phase difference R0 within the above range, any appropriate method can be adopted as long as it does not impair the effect of the present invention. These methods include, for example, a method of stretching a base material made of plastic, a method of using a superbirefringent film, a method of laminating a base material made of plastic in two or more layers, and a crystal with a front retardation R0 of R0 ≤ 2600 nm. A method using a PET (polyethylene terephthalate) base material is included.

기재의 재료로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 재료를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 이러한 재료로서는, 바람직하게는 플라스틱을 들 수 있다.As the material for the base material, any suitable material can be adopted as long as it does not impair the effect of the present invention. Since the effect of the present invention can be further expressed, such a material is preferably plastic.

플라스틱으로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 플라스틱을 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 이러한 플라스틱으로서는, 바람직하게는 열가소성 수지를 들 수 있다.As the plastic, any suitable plastic can be adopted as long as it does not impair the effect of the present invention. Since the effect of the present invention can be further expressed, such plastics are preferably thermoplastic resins.

열가소성 수지로서는, 예를 들어 폴리에스테르, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리카르보네이트, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리올레핀(올레핀 단독 중합체, 올레핀과 다른 모노머의 공중합체), 폴리아미드(나일론), 전방향족 폴리아미드(아라미드), 폴리이미드(PI), 폴리염화비닐(PVC), 폴리아세트산비닐, 환상 올레핀계 폴리머를 들 수 있다.Thermoplastic resins include, for example, polyester, acrylic resin, urethane resin, polycarbonate, triacetylcellulose (TAC), polyolefin (olefin homopolymer, copolymer of olefin and other monomers), polyamide (nylon), Examples include aromatic polyamide (aramid), polyimide (PI), polyvinyl chloride (PVC), polyvinyl acetate, and cyclic olefin polymer.

열가소성 수지로서는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 폴리에스테르가 바람직하다.　폴리에스테르로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT)를 들 수 있고, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)가 바람직하다.As a thermoplastic resin, polyester is preferable because it can further express the effects of the present invention. Examples of polyester include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and polybutylene terephthalate (PBT). Since the effect of the present invention can be more expressed, polyethylene terephthalate is used. (PET) is preferred.

<기재의 하나의 바람직한 실시 형태 A><One preferred embodiment A of the description>

기재의 하나의 바람직한 실시 형태 A는, 연신된 열가소성 수지 기재이다.　이하, 연신에 제공하는 열가소성 수지 기재를 단순히 「열가소성 수지 기재」, 연신된 열가소성 수지 기재를 「연신 열가소성 수지 기재」라고 칭하는 경우가 있다.One preferred embodiment A of the substrate is a stretched thermoplastic resin substrate. Hereinafter, the thermoplastic resin substrate subjected to stretching may simply be referred to as a “thermoplastic resin substrate,” and the stretched thermoplastic resin substrate may be simply referred to as a “stretched thermoplastic resin substrate.”

실시 형태 A로서의 연신 열가소성 수지 기재의 두께는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 연신 열가소성 수지 기재의 두께는, 바람직하게는 1㎛ 내지 100㎛이고, 보다 바람직하게는 2㎛ 내지 80㎛이고, 더욱 바람직하게는 3㎛ 내지 70㎛이고, 특히 바람직하게는 5㎛ 내지 60㎛이다.The thickness of the stretched thermoplastic resin substrate in Embodiment A can be any appropriate thickness within a range that does not impair the effect of the present invention. In order to further realize the effect of the present invention, the thickness of the stretched thermoplastic resin substrate is preferably 1 μm to 100 μm, more preferably 2 μm to 80 μm, and even more preferably 3 μm to 70 μm. ㎛, and particularly preferably 5㎛ to 60㎛.

연신 열가소성 수지 기재는, 그 정면 위상차 R0이, 바람직하게는 R0≤2500nm이고, 보다 바람직하게는 R0≤2100nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤1700nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤1300nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤1000nm이고, 특히 바람직하게는 R0≤800nm이고, 가장 바람직하게는 R0≤700nm이다.　연신 열가소성 수지 기재의 정면 위상차 R0이 상기 범위 내에 있으면, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.The stretched thermoplastic resin substrate has a front phase difference R0 of preferably R0≤2500 nm, more preferably R0≤2100 nm, even more preferably R0≤1700 nm, even more preferably R0≤1300 nm, and still more preferably R0≤2100 nm. is R0≤1000nm, particularly preferably R0≤800nm, and most preferably R0≤700nm. If the front phase difference R0 of the stretched thermoplastic resin substrate is within the above range, the effects of the present invention can be more expressed.

연신 열가소성 수지 기재의 정면 위상차 R0의 하한값은, 작으면 작을수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 100nm 이상이다.The lower the lower limit of the front retardation R0 of the stretched thermoplastic resin substrate, the better, but in reality, it is preferably 100 nm or more due to factors such as material selection.

열가소성 수지 기재는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 소정 범위의 흡수율을 갖는 것이 바람직하다.　열가소성 수지 기재의 흡수율은, 바람직하게는 0.2％ 이상이고, 보다 바람직하게는 0.3％ 이상이다.　이러한 흡수율을 갖는 열가소성 수지 기재는, 후술하는 수중 연신에 있어서 물을 흡수하여, 물이 가소제적인 작용을 하여 가소화할 수 있다.　그 결과, 연신 응력을 대폭으로 저하시킬 수 있고, 고배율로 연신하는 것이 가능하게 되어, 후술하는 공중 연신 시보다 열가소성 수지 기재의 연신성이 우수할 수 있다.　이러한 열가소성 수지 기재를 연신하면, 우수한 광학 특성을 갖는 기재가 될 수 있기 때문에, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있다.　한편, 열가소성 수지 기재의 흡수율은, 바람직하게는 3.0％ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0％ 이하이다.　이러한 흡수율을 갖는 열가소성 수지 기재는, 치수 안정성이 우수하기 때문에, 이러한 열가소성 수지 기재가 연신된 연신 열가소성 수지 기재의 외관 악화 등의 문제를 방지할 수 있고, 또한 후술하는 수중 연신 공정에 있어서, 기재가 파단되는 것을 방지할 수 있다.　또한, 흡수율은, JIS K 7209에 준하여 구해지는 값이다.The thermoplastic resin substrate preferably has a water absorption rate within a predetermined range from the point that the effect of the present invention can be more expressed. The water absorption rate of the thermoplastic resin substrate is preferably 0.2% or more, and more preferably 0.3% or more. A thermoplastic resin substrate having such a water absorption rate can absorb water during stretching in water, which will be described later, and can be plasticized by the water acting like a plasticizer. As a result, stretching stress can be significantly reduced, stretching at a high magnification becomes possible, and the stretching properties of the thermoplastic resin substrate can be superior to those during air stretching described later. When such a thermoplastic resin substrate is stretched, it can be made into a substrate with excellent optical properties, and the effect of the present invention can be further exhibited. On the other hand, the water absorption rate of the thermoplastic resin substrate is preferably 3.0% or less, and more preferably 1.0% or less. Since a thermoplastic resin substrate having such a water absorption rate has excellent dimensional stability, problems such as deterioration of the appearance of the stretched thermoplastic resin substrate obtained by stretching such a thermoplastic resin substrate can be prevented, and in the underwater stretching process described later, the substrate It can prevent breakage. In addition, the water absorption rate is a value obtained according to JIS K 7209.

열가소성 수지 기재는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 소정 범위의 유리 전이 온도(Tg)를 갖는 것이 바람직하다.　열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)는 바람직하게는 170℃ 이하이다.　이러한 열가소성 수지 기재를 사용함으로써, 우수한 연신성을 발현할 수 있다.　또한, 물에 의한 열가소성 수지 기재의 가소화와, 수중 연신을 양호하게 행하는 것을 고려하면, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)는 바람직하게는 120℃ 이하이다.　한편, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도(Tg)는 바람직하게는 60℃ 이상이다.　이러한 열가소성 수지 기재를 사용함으로써, 열가소성 수지 기재가 변형(예를 들어, 요철이나 늘어짐, 주름 등의 발생)되는 등의 문제를 방지할 수 있다.　또한, 유리 전이 온도(Tg)는 JIS K 7121에 준하여 구해지는 값이다.It is preferable that the thermoplastic resin substrate has a glass transition temperature (Tg) within a predetermined range from the point that the effect of the present invention can be more expressed. The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate is preferably 170°C or lower. By using such a thermoplastic resin substrate, excellent stretchability can be achieved. In addition, considering plasticization of the thermoplastic resin substrate with water and satisfactory stretching in water, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate is preferably 120°C or lower. Meanwhile, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate is preferably 60°C or higher. By using such a thermoplastic resin substrate, problems such as deformation of the thermoplastic resin substrate (for example, occurrence of unevenness, sagging, wrinkles, etc.) can be prevented. In addition, the glass transition temperature (Tg) is a value calculated according to JIS K 7121.

열가소성 수지 기재의 재료로서는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 흡수율 및 유리 전이 온도가 상기 범위 내에 있는 재료를 들 수 있다.　흡수율은, 예를 들어 재료에 변성기를 도입함으로써 조정할 수 있다.　유리 전이 온도는, 예를 들어 재료에 변성기를 도입하는 것이나, 결정화 재료를 사용하여 가열하는 것에 의해 조정할 수 있다.As a material for the thermoplastic resin base, a material whose water absorption and glass transition temperature of the thermoplastic resin base is within the above range is preferably used, since it can further exhibit the effects of the present invention. The water absorption rate can be adjusted, for example, by introducing a modifier into the material. The glass transition temperature can be adjusted, for example, by introducing a modifier into the material or by heating using a crystallization material.

열가소성 수지 기재의 재료로서는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 수지를 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 비정질의(결정화되어 있지 않은) 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 수지를 들 수 있고, 더욱 바람직하게는, 비정질성의(결정화되기 어려운) 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 수지를 들 수 있다.　비정질성의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 수지의 구체예로서는, 예를 들어 디카르복실산으로서 이소프탈산을 더 포함하는 공중합체나, 글리콜로서 시클로헥산디메탄올을 더 포함하는 공중합체를 들 수 있다.As the material for the thermoplastic resin base, polyethylene terephthalate (PET)-based resin is preferred because it can further demonstrate the effects of the present invention, and more preferably amorphous (non-crystallized) polyethylene. Examples include terephthalate (PET)-based resin, and more preferably, amorphous (hard to crystallize) polyethylene terephthalate (PET)-based resin. Specific examples of the amorphous polyethylene terephthalate (PET)-based resin include, for example, a copolymer further containing isophthalic acid as dicarboxylic acid and a copolymer further containing cyclohexanedimethanol as glycol.

열가소성 수지 기재의 두께(연신 전의 두께)는 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 10㎛ 내지 500㎛이고, 보다 바람직하게는 20㎛ 내지 400㎛이고, 더욱 바람직하게는 30㎛ 내지 300㎛이고, 특히 바람직하게는 50㎛ 내지 200㎛이다.The thickness of the thermoplastic resin substrate (thickness before stretching) is preferably 10 ㎛ to 500 ㎛, more preferably 20 ㎛ to 400 ㎛, and still more preferably 30 ㎛ It is ㎛ to 300㎛, especially preferably 50㎛ to 200㎛.

열가소성 수지 기재의 연신은, 대표적으로는, 연신욕으로서 수욕을 사용한 수중 연신(습식 연신)이다.　수중 연신을 채용함으로써, 열가소성 수지 기재가 전술한 흡수율을 가지면, 물이 가소제적인 작용을 하여 가소화할 수 있다.　그 결과, 연신 응력을 대폭으로 저하시킬 수 있고, 고배율로 연신하는 것이 가능하게 되어, 후술하는 공중 연신 시보다 열가소성 수지 기재의 연신성이 우수할 수 있다.　이 때문에, 우수한 광학 특성을 갖는 기재가 얻어질 수 있기 때문에, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있다.　또한, 수중 연신을 채용함으로써, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도보다 낮은 온도에서 고배율로 연신할 수 있다.Stretching of a thermoplastic resin substrate is typically underwater stretching (wet stretching) using a water bath as a stretching bath. By employing underwater stretching, if the thermoplastic resin substrate has the above-mentioned water absorption rate, water can act as a plasticizer and be plasticized. As a result, stretching stress can be significantly reduced, stretching at a high magnification becomes possible, and the stretching properties of the thermoplastic resin substrate can be superior to those during air stretching described later. For this reason, a substrate with excellent optical properties can be obtained, and the effect of the present invention can be further expressed. Additionally, by employing underwater stretching, stretching can be performed at a high magnification at a temperature lower than the glass transition temperature of the thermoplastic resin substrate.

열가소성 수지 기재의 연신 방향은, 바람직하게는 긴 형상의 열가소성 수지 기재의 가로 방향(짧은 변 방향)이다.The stretching direction of the thermoplastic resin substrate is preferably the horizontal direction (short side direction) of the elongated thermoplastic resin substrate.

수중 연신의 연신 방법으로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다.　이러한 연신 방법으로서는, 예를 들어, 고정단 연신, 자유단 연신(예를 들어, 주속이 상이한 롤 사이에 적층체를 통하여 1축 연신하는 방법)을 들 수 있다.　연신은, 1단계로 행해도 되고, 다단계로 행해도 된다.　다단계로 행하는 경우, 연신 배율(최대 연신 배율)은 각 단계의 연신 배율의 곱이다.As a stretching method for underwater stretching, any appropriate method can be adopted as long as it does not impair the effect of the present invention. Examples of such stretching methods include fixed-end stretching and free-end stretching (for example, a method of uniaxial stretching through a laminate between rolls with different peripheral speeds). Stretching may be performed in one step or may be performed in multiple steps. When carried out in multiple steps, the draw ratio (maximum draw ratio) is the product of the draw ratios of each step.

수중 연신의 연신 온도(연신욕의 액온)는 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 온도를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 30℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 40℃ 내지 90℃이고, 더욱 바람직하게는 45℃ 내지 85℃이고, 특히 바람직하게는 50℃ 내지 80℃이다.　연신욕의 온도가 너무 낮으면, 물에 의한 열가소성 수지 기재의 가소화를 고려해도, 양호하게 연신하지 못할 우려가 있다.The stretching temperature (liquid temperature of the stretching bath) for underwater stretching can be any appropriate temperature within a range that does not impair the effect of the present invention. In order to further demonstrate the effect of the present invention, the temperature is preferably 30°C or higher, more preferably 40°C to 90°C, further preferably 45°C to 85°C, and particularly preferably 50°C to 50°C. It is 80℃. If the temperature of the stretching bath is too low, there is a risk that the thermoplastic resin base material may not be stretched satisfactorily even considering plasticization of the thermoplastic resin base material by water.

수중 연신의 연신 시간은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 시간을 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 15초 내지 5분이다.The stretching time for underwater stretching can be any appropriate time within a range that does not impair the effect of the present invention. From the point that the effect of the present invention can be more expressed, it is preferably 15 seconds to 5 minutes.

수중 연신의 최대 연신 배율은, 열가소성 수지 기재의 원래 길이에 대하여, 바람직하게는 5.0배 이상이다.　본 명세서에 있어서 「최대 연신 배율」이란, 기재가 파단되기 직전의 연신 배율을 말하고, 별도, 기재가 파단되는 연신 배율을 확인하고, 그 값보다 0.2 낮은 값을 말한다.　또한, 최대 연신 배율은, 수중 연신을 거친 쪽이 건식 연신만으로 연신하는 것보다 높아질 수 있다.The maximum stretching ratio for underwater stretching is preferably 5.0 times or more relative to the original length of the thermoplastic resin substrate. In this specification, the “maximum stretch ratio” refers to the stretch ratio just before the substrate breaks. Separately, the stretch ratio at which the substrate breaks is confirmed and is 0.2 lower than that value. Additionally, the maximum draw ratio can be higher when the material undergoes underwater stretching than when it is stretched only by dry stretching.

열가소성 수지 기재의 연신으로서, 전술한 수중 연신에, 공중 연신(건식 연신)을 조합해도 된다.　공중 연신은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 연신 방법을 채용할 수 있다.　수중 연신에 공중 연신을 조합함으로써, 열가소성 수지 기재의 배향을 억제하면서 연신할 수 있다.　열가소성 수지 기재는, 그 배향성이 향상됨에 따라 연신 장력이 커져, 안정적인 연신이 곤란해지거나, 열가소성 수지 기재가 파단되거나 한다.　이 때문에, 열가소성 수지 기재의 배향을 억제하면서 연신함으로써, 보다 고배율로 연신할 수 있다.　그 결과, 보다 우수한 광학 특성을 갖는 기재가 얻어질 수 있기 때문에, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있다.As stretching of the thermoplastic resin substrate, the above-described underwater stretching may be combined with air stretching (dry stretching). For air stretching, any suitable stretching method can be employed as long as it does not impair the effect of the present invention. By combining underwater stretching with air stretching, stretching can be performed while suppressing the orientation of the thermoplastic resin substrate. As the orientation of the thermoplastic resin substrate improves, the stretching tension increases, making stable stretching difficult, or the thermoplastic resin substrate breaks. For this reason, by stretching while suppressing the orientation of the thermoplastic resin substrate, stretching can be achieved at a higher magnification. As a result, a substrate with better optical properties can be obtained, and the effect of the present invention can be further expressed.

공중 연신의 연신 방법은, 전술한 수중 연신과 마찬가지로, 고정단 연신이어도 되고, 자유단 연신(예를 들어, 주속이 상이한 롤 사이에 적층체를 통하여 1축 연신하는 방법)이어도 된다.　또한, 연신은, 1단계로 행해도 되고, 다단계로 행해도 된다.　다단계로 행하는 경우, 연신 배율은, 각 단계의 연신 배율의 곱이다.　연신 방향은, 바람직하게는 상술한 수중 연신의 연신 방향과 대략 동일하다.The stretching method of aerial stretching may be fixed-end stretching, similar to the underwater stretching described above, or free-end stretching (for example, a method of uniaxial stretching through a laminate between rolls with different peripheral speeds). In addition, stretching may be performed in one step or may be performed in multiple steps. When carried out in multiple steps, the draw ratio is the product of the draw ratios of each step. The stretching direction is preferably approximately the same as the stretching direction of the underwater stretching described above.

공중 연신의 연신 온도는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 온도를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 공중 연신의 연신 온도는, 바람직하게는 95℃ 내지 150℃이다.The stretching temperature for air stretching can be any appropriate temperature within a range that does not impair the effect of the present invention. Since the effect of the present invention can be more expressed, the stretching temperature for air stretching is preferably 95°C to 150°C.

공중 연신의 연신 시간은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 시간을 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 공중 연신의 연신 시간은, 바람직하게는 15초 내지 5분이다.The stretching time for air stretching can be any appropriate time within a range that does not impair the effect of the present invention. Since the effect of the present invention can be more expressed, the stretching time for air stretching is preferably 15 seconds to 5 minutes.

공중 연신의 연신 배율은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 배율을 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 공중 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3.5배 이하이다.The draw ratio for air stretching can be any appropriate ratio within a range that does not impair the effect of the present invention. Since the effect of the present invention can be more expressed, the draw ratio of air stretching is preferably 3.5 times or less.

공중 연신과 수중 연신을 조합한 경우의 최대 연신 배율은, 열가소성 수지 기재의 원래 길이에 대하여, 바람직하게는 5.0배 이상이고, 보다 바람직하게는 5.5배 이상이고, 더욱 바람직하게는 6.0배 이상이다.The maximum draw ratio when combining air stretching and underwater stretching is preferably 5.0 times or more, more preferably 5.5 times or more, and even more preferably 6.0 times or more relative to the original length of the thermoplastic resin substrate.

기재의 하나의 바람직한 실시 형태 A로서의 연신된 열가소성 수지 기재로서, 예를 들어 일본 특허 공개 제2012-73580호 공보에 기재된 연신된 열가소성 수지 기재를 채용해도 된다.As a stretched thermoplastic resin substrate as one preferred embodiment A of the substrate, for example, the stretched thermoplastic resin substrate described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 may be adopted.

<기재의 하나의 바람직한 실시 형태 B><One preferred embodiment B of the description>

기재의 하나의 바람직한 실시 형태 B는, 초복굴절 필름 기재이다.One preferred embodiment B of the substrate is a superbirefringent film substrate.

실시 형태 B로서의 초복굴절 필름 기재의 두께는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 초복굴절 필름 기재의 두께는, 바람직하게는 10㎛ 내지 500㎛이고, 보다 바람직하게는 15㎛ 내지 300㎛이고, 더욱 바람직하게는 25㎛ 내지 200㎛이고, 특히 바람직하게는 30㎛ 내지 100㎛이다.The thickness of the superbirefringent film base material in Embodiment B can be any appropriate thickness within a range that does not impair the effect of the present invention. In order to further realize the effect of the present invention, the thickness of the superbirefringent film base material is preferably 10 μm to 500 μm, more preferably 15 μm to 300 μm, and even more preferably 25 μm to 200 μm. ㎛, and particularly preferably 30㎛ to 100㎛.

초복굴절 필름 기재는, 그 정면 위상차 R0이, 바람직하게는 R0≥4000nm이고, 보다 바람직하게는 R0≥5000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≥6000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≥6500nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≥7000nm이고, 특히 바람직하게는 R0≥7500nm이고, 가장 바람직하게는 R0≥8000nm이다.　초복굴절 필름 기재의 정면 위상차 R0이 상기 범위 내에 있으면, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.The superbirefringent film substrate has a front retardation R0 of preferably R0≥4000nm, more preferably R0≥5000nm, even more preferably R0≥6000nm, even more preferably R0≥6500nm, and even more preferably is R0≥7000nm, particularly preferably R0≥7500nm, and most preferably R0≥8000nm. If the front retardation R0 of the superbirefringent film substrate is within the above range, the effect of the present invention can be more expressed.

초복굴절 필름 기재의 정면 위상차 R0의 상한값은, 크면 클수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 30000nm 이하이다.The upper limit of the front retardation R0 of the superbirefringent film base material is the larger, the better, but in reality, it is preferably 30,000 nm or less due to factors such as material selection.

초복굴절 필름 기재의 재료로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 플라스틱을 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 이러한 플라스틱으로서는, 바람직하게는 열가소성 수지를 들 수 있다.As a material for the superbirefringent film base, any suitable plastic can be adopted as long as it does not impair the effect of the present invention. Since the effect of the present invention can be further expressed, such plastics are preferably thermoplastic resins.

초복굴절 필름 기재는, 연신된 기재여도 된다.The ultrabirefringent film substrate may be a stretched substrate.

<기재의 하나의 바람직한 실시 형태 C><One preferred embodiment C of the description>

기재의 하나의 바람직한 실시 형태 C는, 플라스틱을 재료로 하는 기재의 2층 이상의 적층체이다.　이하, 플라스틱을 재료로 하는 기재를 「플라스틱 기재」라고 칭하는 경우가 있다.One preferred embodiment C of the substrate is a laminate of two or more layers of a substrate made of plastic. Hereinafter, a base material made of plastic may be referred to as a “plastic base material.”

실시 형태 C로서의 적층체의 두께는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 실시 형태 C로서의 적층체의 두께는, 바람직하게는 50㎛ 내지 1000㎛이고, 보다 바람직하게는 100㎛ 내지 800㎛이고, 더욱 바람직하게는 150㎛ 내지 700㎛이고, 특히 바람직하게는 200㎛ 내지 600㎛이다.The thickness of the laminate in Embodiment C can be any appropriate thickness within a range that does not impair the effect of the present invention. In order to further demonstrate the effect of the present invention, the thickness of the laminate in Embodiment C is preferably 50 μm to 1000 μm, more preferably 100 μm to 800 μm, and still more preferably 150 μm. to 700 μm, and particularly preferably 200 μm to 600 μm.

실시 형태 C로서의 적층체의 적층수는, 상기한 바와 같이 2층 이상이며, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 2층 내지 20층이고, 보다 바람직하게는 2층 내지 15층이고, 더욱 바람직하게는 2층 내지 12층이고, 특히 바람직하게는 2층 내지 10층이다.The number of layers of the laminate in Embodiment C is two or more layers as described above, and is preferably 2 to 20 layers, more preferably 2 to 20 layers, since the effect of the present invention can be more expressed. It is 15 layers, more preferably 2 to 12 layers, and especially preferably 2 to 10 layers.

실시 형태 C로서의 적층체는, 그 정면 위상차 R0이, 바람직하게는 R0≥2500nm이고, 보다 바람직하게는 R0≥3000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≥3500nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≥4000nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≥4500nm이고, 특히 바람직하게는 R0≥5000nm이고, 가장 바람직하게는 R0≥5500nm이다.　이러한 기재를 채용함으로써, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.　적층하는 복수의 플라스틱 기재는, 그 모두가 이종의(재료가 상이한) 기재여도 되고, 적어도 2매가 동종의(재료가 동일한) 기재여도 된다.In the laminate as Embodiment C, the front phase difference R0 is preferably R0≥2500nm, more preferably R0≥3000nm, further preferably R0≥3500nm, even more preferably R0≥4000nm, and further Preferably R0≥4500nm, particularly preferably R0≥5000nm, and most preferably R0≥5500nm. By employing such a substrate, the effects of the present invention can be further expressed. The plurality of plastic substrates to be laminated may all be of different types (different materials), or at least two of them may be of the same type (the same material).

실시 형태 C로서의 적층체의 정면 위상차 R0의 상한값은, 크면 클수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 30000nm 이하이다.The upper limit of the front phase difference R0 of the laminate in Embodiment C is the larger, the better, but in reality, it is preferably 30,000 nm or less due to factors such as material selection.

실시 형태 C에 있어서 사용할 수 있는 플라스틱 기재의 재료로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 플라스틱을 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 이러한 플라스틱으로서는, 바람직하게는 열가소성 수지를 들 수 있다.As the plastic base material that can be used in Embodiment C, any suitable plastic can be adopted as long as it does not impair the effect of the present invention. Since the effect of the present invention can be further expressed, such plastics are preferably thermoplastic resins.

실시 형태 C에 있어서 사용할 수 있는 플라스틱 기재로서, 실시 형태 A로서의 연신 열가소성 수지 기재를 채용해도 되고, 실시 형태 B로서의 초복굴절 필름 기재를 채용해도 된다.As a plastic substrate that can be used in Embodiment C, the stretched thermoplastic resin substrate as Embodiment A may be adopted, or the ultrabirefringent film substrate as Embodiment B may be adopted.

<기재의 하나의 바람직한 실시 형태 D><One preferred embodiment D of the description>

기재의 하나의 바람직한 실시 형태 D는, 그 정면 위상차 R0이 R0≤2600nm인 결정성 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 기재이다.One preferred embodiment D of the substrate is a crystalline PET (polyethylene terephthalate) substrate whose front phase difference R0 is R0≤2600 nm.

실시 형태 D로서의 결정성 PET 기재의 두께는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다.　본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 결정성 PET 기재의 두께는, 바람직하게는 10㎛ 내지 500㎛이고, 보다 바람직하게는 15㎛ 내지 300㎛이고, 더욱 바람직하게는 25㎛ 내지 200㎛이고, 특히 바람직하게는 30㎛ 내지 100㎛이고, 가장 바람직하게는 30㎛ 내지 50㎛이다.The thickness of the crystalline PET substrate in Embodiment D can be any appropriate thickness within a range that does not impair the effect of the present invention. In order to further demonstrate the effect of the present invention, the thickness of the crystalline PET substrate is preferably 10 μm to 500 μm, more preferably 15 μm to 300 μm, and even more preferably 25 μm to 200 μm. ㎛, particularly preferably 30㎛ to 100㎛, most preferably 30㎛ to 50㎛.

실시 형태 D로서의 결정성 PET 기재는, 그 정면 위상차 R0이, 상기한 바와 같이 R0≤2600nm이고, 바람직하게는 R0≤2500nm이고, 보다 바람직하게는 R0≤2400nm이고, 더욱 바람직하게는 R0≤2300nm이고, 특히 바람직하게는 R0≤2100nm이고, 가장 바람직하게는 R0≤1900nm이다.　결정성 PET 기재의 정면 위상차 R0이 상기 범위 내에 있으면, 본 발명의 효과가 보다 발현될 수 있다.The crystalline PET substrate as Embodiment D has a front phase difference R0 of R0≦2600 nm, preferably R0≦2500 nm, more preferably R0≦2400 nm, and even more preferably R0≦2300 nm, as described above. , especially preferably R0≤2100nm, and most preferably R0≤1900nm. If the front phase difference R0 of the crystalline PET substrate is within the above range, the effects of the present invention can be more expressed.

실시 형태 D로서의 결정성 PET 기재의 정면 위상차 R0의 하한값은, 작으면 작을수록 좋지만, 재료 선정 등의 요인에 의해, 현실적으로는, 바람직하게는 100nm 이상이고, 보다 바람직하게는 500nm 이상이고, 더욱 바람직하게는 800nm 이상이고, 특히 바람직하게는 1000nm 이상이고, 가장 바람직하게는 1200nm 이상이다.The lower the lower limit of the front retardation R0 of the crystalline PET substrate in Embodiment D, the better. However, depending on factors such as material selection, in reality, it is preferably 100 nm or more, more preferably 500 nm or more, and even more preferable. Preferably it is 800 nm or more, particularly preferably 1000 nm or more, and most preferably 1200 nm or more.

결정성 PET 기재는, 연신된 기재여도 된다.The crystalline PET substrate may be a stretched substrate.

결정성 PET 기재로서는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 폭 방향(TD 방향)의 인장 강도와 길이 방향(MD 방향)의 인장 강도의 비(TD/MD)가 바람직하게는 1.2 내지 3.3이다.　또한, 상기 인장 강도는, 후술하는 바와 같이, JIS C 2151:2019에 준거하여, 인장 시험기를 사용하여, 측정 대상을 속도 200mm/min으로 인장하고, 해당 측정 대상이 절단(파단)되었을 때의 강도(단위: MPa)이다.As a crystalline PET substrate, the ratio (TD/MD) of the tensile strength in the width direction (TD direction) to the tensile strength in the longitudinal direction (MD direction) is preferably 1.2 because the effect of the present invention can be more expressed. It is 3.3. In addition, as described later, the tensile strength is the strength when the measurement object is stretched at a speed of 200 mm/min using a tensile tester in accordance with JIS C 2151:2019, and the measurement object is cut (broken). (Unit: MPa).

≪점착제층≫≪Adhesive layer≫

점착제층은, 1층으로 이루어지는 점착제층이어도 되고, 2층 이상의 적층 구조로 이루어지는 점착제층이어도 된다.The adhesive layer may be an adhesive layer consisting of one layer, or may be an adhesive layer consisting of a laminated structure of two or more layers.

점착제층의 두께는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 0.5㎛ 내지 150㎛이고, 보다 바람직하게는 1㎛ 내지 100㎛이고, 더욱 바람직하게는 2㎛ 내지 80㎛이고, 더욱 바람직하게는 3㎛ 내지 50㎛이고, 더욱 바람직하게는 5㎛ 내지 30㎛이고, 더욱 바람직하게는 7㎛ 내지 27㎛이고, 특히 바람직하게는 9㎛ 내지 25㎛이고, 가장 바람직하게는 11㎛ 내지 23㎛이다.The thickness of the adhesive layer is preferably 0.5 ㎛ to 150 ㎛, more preferably 1 ㎛ to 100 ㎛, and even more preferably 2 ㎛ to 80 ㎛, in that the effect of the present invention can be more expressed. , more preferably 3 ㎛ to 50 ㎛, more preferably 5 ㎛ to 30 ㎛, even more preferably 7 ㎛ to 27 ㎛, especially preferably 9 ㎛ to 25 ㎛, most preferably 11 It is ㎛ to 23㎛.

점착제층을 구성하는 점착제는, 바람직하게는 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 및 실리콘계 점착제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이다.The adhesive constituting the adhesive layer is preferably at least one selected from the group consisting of acrylic adhesives, urethane adhesives, and silicone adhesives.

점착제층은, 보다 바람직하게는, 아크릴계 점착제로 구성된다.The adhesive layer is more preferably made of an acrylic adhesive.

아크릴계 점착제는, 아크릴계 점착제 조성물로 형성된다.Acrylic adhesive is formed from an acrylic adhesive composition.

아크릴계 점착제는, 이와 같이, 아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 것으로서 규정할 수 있다.　이는, 아크릴계 점착제는, 아크릴계 점착제 조성물이, 가열이나 자외선 조사 등에 의해 가교 반응 등을 일으킴으로써, 아크릴계 점착제가 되기 때문에, 아크릴계 점착제를 그 구조에 의해 직접 특정하는 것이 불가능하고, 또한 전혀 실제적이지 않다는 사정(「불가능·비실제적 사정」)이 존재하기 때문에, 「아크릴계 점착제 조성물로 형성되는 것」이라는 규정에 의해, 아크릴계 점착제를 「물(物)」로서 타당하게 특정한 것이다.The acrylic adhesive can be defined as being formed from an acrylic adhesive composition. This is because the acrylic adhesive composition becomes an acrylic adhesive by causing a crosslinking reaction by heating or ultraviolet irradiation, so it is impossible to directly specify the acrylic adhesive based on its structure, and it is not practical at all. Since (“impossibility and impractical circumstances”) exist, the acrylic adhesive is properly specified as a “thing” by the provision “formed from an acrylic adhesive composition.”

아크릴계 점착제는, 23℃, 상대 습도 50％의 환경하에 있어서의, 인장 속도 300mm/분, 박리 각도 180도에서의, 아크릴판에 대한 박리력이, 바람직하게는 0.01N/25mm 이상, 보다 바람직하게는 0.03N/25mm 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.05N/25mm 이상이고, 특히 바람직하게는 0.07N/25mm 이상이다.　또한, 상기 박리력의 상한값은, 본 발명의 광학 적층체가 갖는 표면 보호 필름의 용도에 따라, 바람직한 범위가 다를 수 있다.　대표적으로는, 영구 접착 용도(영구 접착을 목적으로 한 표면 보호 필름)의 경우에는, 상한값은 없고, 높으면 높을수록 바람직하고, 재박리 용도(예를 들어, 공정재로서 사용되는 표면 보호 필름)의 경우에는, 상한값은, 바람직하게는 5N/25mm 이하이고, 보다 바람직하게는 3N/25mm 이하이고, 더욱 바람직하게는 1N/25mm 이하이다.The acrylic adhesive has a peeling force against the acrylic plate at a tensile speed of 300 mm/min and a peeling angle of 180 degrees in an environment of 23°C and 50% relative humidity, preferably 0.01 N/25 mm or more, more preferably is 0.03N/25mm or more, more preferably 0.05N/25mm or more, and particularly preferably 0.07N/25mm or more. In addition, the upper limit of the peeling force may have a different preferable range depending on the use of the surface protection film included in the optical laminate of the present invention. Typically, in the case of permanent adhesion applications (surface protection films intended for permanent adhesion), there is no upper limit, and the higher the value, the more desirable it is, and for re-peelability applications (e.g., surface protection films used as process materials), there is no upper limit. In this case, the upper limit is preferably 5 N/25 mm or less, more preferably 3 N/25 mm or less, and even more preferably 1 N/25 mm or less.

점착제층은, 임의의 적절한 방법에 의해 형성할 수 있다.　이러한 방법으로서는, 예를 들어, 점착제층을 구성하는 점착제를 형성하는 점착제 조성물을 임의의 적절한 기재 상에 도포하고, 필요에 따라 가열이나 건조를 행하고, 필요에 따라 경화시켜, 해당 기재 상에 있어서 점착제층을 형성하는 방법, 점착제층을 구성하는 점착제를 형성하는 점착제 조성물을 임의의 적절한 박리 라이너 등의 필름 상에 도포하고, 필요에 따라 가열이나 건조를 행하고, 필요에 따라 경화시켜, 해당 필름 상에 있어서 점착제층을 형성하고, 해당 점착제층 상에 임의의 적절한 기재를 접합하여 전사함으로써, 해당 기재 상에 있어서 점착제층을 형성하는 방법을 들 수 있다.The adhesive layer can be formed by any suitable method. In this method, for example, the adhesive composition that forms the adhesive constituting the adhesive layer is applied onto any suitable substrate, heated or dried as necessary, and cured as necessary, to form an adhesive on the substrate. Method for forming a layer, the adhesive composition forming the adhesive constituting the adhesive layer is applied onto a film such as any suitable release liner, heated or dried as necessary, cured as necessary, and applied on the film. A method of forming an adhesive layer on the adhesive layer is provided by bonding and transferring any suitable substrate onto the adhesive layer.

아크릴계 점착제 조성물을 도포하는 수단으로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 수단을 채용할 수 있다.　이러한 도포의 수단으로서는, 예를 들어 롤 코팅법, 그라비아 롤 코팅법, 리버스 롤 코팅법, 키스 롤 코팅법, 딥 롤 코팅법, 바 코팅법, 롤 브러시 코팅법, 스프레이 코팅법, 나이프 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 콤마 코팅법, 다이렉트 코팅법, 다이 코팅법을 들 수 있다.As a means for applying the acrylic adhesive composition, any suitable means can be employed as long as it does not impair the effect of the present invention. As such application means, for example, roll coating method, gravure roll coating method, reverse roll coating method, kiss roll coating method, dip roll coating method, bar coating method, roll brush coating method, spray coating method, knife coating method, Examples include air knife coating method, comma coating method, direct coating method, and die coating method.

아크릴계 점착제 조성물의 가열이나 건조는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 수단을 채용할 수 있다.　이러한 가열이나 건조의 수단으로서는, 예를 들어 60℃ 내지 180℃로 가열하는 것이나, 예를 들어 실온 정도의 온도에서, 에이징 처리를 행하는 것을 들 수 있다.Heating and drying of the acrylic adhesive composition can be performed by any appropriate means as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of such heating and drying means include heating to 60°C to 180°C, and aging treatment at a temperature of about room temperature, for example.

아크릴계 점착제 조성물의 경화는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 수단을 채용할 수 있다.　이러한 경화의 수단으로서는, 예를 들어 열, 자외선 조사, 레이저 선 조사, α선 조사, β선 조사, γ선 조사, X선 조사, 전자선 조사를 들 수 있다.For curing the acrylic adhesive composition, any appropriate means can be employed as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of such hardening means include heat, ultraviolet irradiation, laser ray irradiation, α-ray irradiation, β-ray irradiation, γ-ray irradiation, X-ray irradiation, and electron beam irradiation.

아크릴계 점착제 조성물은, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 아크릴계 폴리머와 가교제를 포함한다.The acrylic adhesive composition preferably contains an acrylic polymer and a crosslinking agent because the effect of the present invention can be further exhibited.

아크릴계 폴리머는, 아크릴계 점착제의 분야에 있어서 소위 베이스 폴리머라고 칭해질 수 있는 것이다.　아크릴계 폴리머는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.Acrylic polymers can be called so-called base polymers in the field of acrylic adhesives. The number of acrylic polymers may be one, or two or more types may be used.

아크릴계 점착제 조성물 중의 아크릴계 폴리머의 함유 비율은, 고형분 환산으로, 바람직하게는 60중량％ 내지 99.9중량％이고, 보다 바람직하게는 65중량％ 내지 99.9중량％이고, 더욱 바람직하게는 70중량％ 내지 99.9중량％이고, 특히 바람직하게는 75중량％ 내지 99.9중량％이고, 가장 바람직하게는 80중량％ 내지 99.9중량％이다.The content ratio of the acrylic polymer in the acrylic adhesive composition is preferably 60% by weight to 99.9% by weight, more preferably 65% by weight to 99.9% by weight, and still more preferably 70% by weight to 99.9% by weight, in terms of solid content. %, particularly preferably 75% by weight to 99.9% by weight, and most preferably 80% by weight to 99.9% by weight.

아크릴계 폴리머로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 아크릴계 폴리머를 채용할 수 있다.As the acrylic polymer, any suitable acrylic polymer can be employed as long as it does not impair the effect of the present invention.

아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 30만 내지 250만이고, 보다 바람직하게는 35만 내지 200만이고, 더욱 바람직하게는 40만 내지 180만이고, 특히 바람직하게는 50만 내지 150만이다.The weight average molecular weight of the acrylic polymer is preferably 300,000 to 2.5 million, more preferably 350,000 to 2 million, and even more preferably 400,000 to 1.8 million, in order to better express the effects of the present invention. 10,000, and particularly preferably 500,000 to 1.5 million.

아크릴계 폴리머로서는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 알킬에스테르 부분의 알킬기 탄소수가 4 내지 12인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a 성분)와, OH기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 및 (메트)아크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종(b 성분)을 포함하는 조성물 (M)으로부터 중합에 의해 형성되는 아크릴계 폴리머이다.　a 성분, b 성분은, 각각, 독립적으로, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.The acrylic polymer is preferably an alkyl (meth)acrylic acid ester (component a) having an alkyl group carbon number of 4 to 12 in the alkyl ester portion, and (meth)acrylic acid having an OH group, since the effect of the present invention can be further exhibited. It is an acrylic polymer formed by polymerization from a composition (M) containing at least one type (b component) selected from the group consisting of ester and (meth)acrylic acid. The a component and the b component may each independently be one type or two or more types.

알킬에스테르 부분의 알킬기 탄소수가 4 내지 12인 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산s-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산펜틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산헵틸, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산노닐, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산데실, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산운데실, (메트)아크릴산도데실 등을 들 수 있다.　이들 중에서도, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실이고, 보다 바람직하게는, 아크릴산n-부틸, 아크릴산2-에틸헥실이다.Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters in which the alkyl group in the alkyl ester portion has 4 to 12 carbon atoms include n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, and (meth)acrylic acid t. -Butyl, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, ( Examples include isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, and dodecyl (meth)acrylate. Among these, n-butyl (meth)acrylate and 2-ethylhexyl (meth)acrylate are preferred because the effects of the present invention can be more expressed, and n-butyl acrylate and 2-ethylhexyl (meth)acrylate are more preferred. It is ethylhexyl.

OH기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산히드록시에틸, (메트)아크릴산히드록시프로필, (메트)아크릴산히드록시부틸 등의 OH기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.　이들 중에서도, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 (메트)아크릴산히드록시에틸이고, 보다 바람직하게는, 아크릴산히드록시에틸이다.Examples of (meth)acrylic acid esters having an OH group include (meth)acrylic acid esters having an OH group such as hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, and hydroxybutyl (meth)acrylate. . Among these, hydroxyethyl (meth)acrylate is preferable, and hydroxyethyl acrylate is more preferable, since the effect of the present invention can be more expressed.

(메트)아크릴산으로서는, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 아크릴산이다.(meth)acrylic acid is preferably acrylic acid because it can more effectively express the effects of the present invention.

조성물 (M)은 a 성분 및 b 성분 이외의, 공중합성 모노머를 포함하고 있어도 된다.　공중합성 모노머는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.　이러한 공중합성 모노머로서는, 예를 들어 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 이소크로톤산, 이들의 산 무수물(예를 들어, 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머) 등의 카르복실기 함유 모노머(단, (메트)아크릴산을 제외함); (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메톡시메틸(메트)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메트)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메트)아크릴아미드 등의 아미드기 함유 모노머; (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸 등의 아미노기 함유 모노머; (메트)아크릴산글리시딜, (메트)아크릴산메틸글리시딜 등의 에폭시기 함유 모노머; 아크릴로니트릴이나 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 모노머; N-비닐-2-피롤리돈, (메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐피페리돈, N-비닐피페라진, N-비닐피롤, N-비닐이미다졸, 비닐피리딘, 비닐피리미딘, 비닐옥사졸 등의 복소환 함유 비닐계 모노머; 비닐술폰산나트륨 등의 술폰산기 함유 모노머; 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머; 시클로헥실말레이미드, 이소프로필말레이미드 등의 이미드기 함유 모노머; 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 이소시아네이트기 함유 모노머; 시클로펜틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르; 페닐(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 방향족 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르; 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르; 스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐화합물; 에틸렌, 부타디엔, 이소프렌, 이소부틸렌 등의 올레핀류나 디엔류; 비닐알킬에테르 등의 비닐에테르류; 염화비닐; 등을 들 수 있다.Composition (M) may contain copolymerizable monomers other than component a and component b. The number of copolymerizable monomers may be one, or two or more types may be used. Examples of such copolymerizable monomers include itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and acid anhydrides thereof (e.g., acid anhydride group-containing monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride). Carboxyl group-containing monomers (except (meth)acrylic acid); (meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N-methoxymethyl(meth)acrylamide, N-butoxymethyl(meth)acrylamide, N -Amide group-containing monomers such as hydroxyethyl (meth)acrylamide; Amino group-containing monomers such as aminoethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and t-butylaminoethyl (meth)acrylate; Epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth)acrylate and methyl glycidyl (meth)acrylate; Cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; N-vinyl-2-pyrrolidone, (meth)acryloylmorpholine, N-vinylpiperidone, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, vinylpyridine, vinylpyrimidine, Heterocycle-containing vinyl monomers such as vinyloxazole; monomers containing sulfonic acid groups such as sodium vinyl sulfonate; Phosphate group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate; Imide group-containing monomers such as cyclohexylmaleimide and isopropylmaleimide; Isocyanate group-containing monomers such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate; (meth)acrylic acid esters having an alicyclic hydrocarbon group such as cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate; (meth)acrylic acid esters having an aromatic hydrocarbon group such as phenyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, and benzyl (meth)acrylate; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Aromatic vinyl compounds such as styrene and vinyl toluene; Olefins and dienes such as ethylene, butadiene, isoprene, and isobutylene; Vinyl ethers such as vinyl alkyl ether; vinyl chloride; etc. can be mentioned.

공중합성 모노머로서는, 다관능성 모노머도 채용할 수 있다.　다관능성 모노머란, 1분자 중에 2 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머를 말한다.　에틸렌성 불포화기로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 에틸렌성 불포화기를 채용할 수 있다.　이러한 에틸렌성 불포화기로서는, 예를 들어 비닐기, 프로페닐기, 이소프로페닐기, 비닐에테르기(비닐옥시기), 알릴에테르기(알릴옥시기) 등의 라디칼 중합성 관능기를 들 수 있다.　다관능성 모노머로서는, 예를 들어 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 부탄디올디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 비닐(메트)아크릴레이트, 디비닐벤젠, 에폭시아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 등을 들 수 있다.　이러한 다관능성 모노머는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.As a copolymerizable monomer, a multifunctional monomer can also be employed. A polyfunctional monomer refers to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule. As the ethylenically unsaturated group, any suitable ethylenically unsaturated group can be employed as long as it does not impair the effect of the present invention. Examples of such ethylenically unsaturated groups include radically polymerizable functional groups such as vinyl group, propenyl group, isopropenyl group, vinyl ether group (vinyloxy group), and allyl ether group (allyloxy group). Examples of polyfunctional monomers include hexanediol di(meth)acrylate, butanediol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, and neo. Pentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, Examples include tetramethylolmethane tri(meth)acrylate, allyl(meth)acrylate, vinyl(meth)acrylate, divinylbenzene, epoxy acrylate, polyester acrylate, and urethane acrylate. The number of such polyfunctional monomers may be one, or two or more types may be used.

공중합성 모노머로서는, (메트)아크릴산알콕시알킬에스테르도 채용할 수 있다.　(메트)아크릴산알콕시알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산2-메톡시에틸, (메트)아크릴산2-에톡시에틸, (메트)아크릴산메톡시 트리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산3-메톡시프로필, (메트)아크릴산3-에톡시프로필, (메트)아크릴산4-메톡시부틸, (메트)아크릴산4-에톡시부틸 등을 들 수 있다.　(메트)아크릴산알콕시알킬에스테르는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.As a copolymerizable monomer, (meth)acrylic acid alkoxyalkyl ester can also be employed. As (meth)acrylic acid alkoxyalkyl ester, for example, (meth)acrylic acid 2-methoxyethyl, (meth)acrylic acid 2-ethoxyethyl, (meth)acrylic acid methoxy triethylene glycol, (meth)acrylic acid 3-methoxy Propyl, (meth)acrylic acid 3-ethoxypropyl, (meth)acrylic acid 4-methoxybutyl, (meth)acrylic acid 4-ethoxybutyl, etc. are mentioned. The number of (meth)acrylic acid alkoxyalkyl esters may be one, or two or more types may be used.

알킬에스테르 부분의 알킬기 탄소수가 4 내지 12인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a 성분)의 함유량은, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량(100중량％)에 대하여 바람직하게는 30중량％ 이상이고, 보다 바람직하게는 35중량％ 내지 99중량％이고, 더욱 바람직하게는 40중량％ 내지 98중량％이고, 특히 바람직하게는 50중량％ 내지 95중량％이다.The content of the (meth)acrylic acid alkyl ester (component a) having an alkyl group carbon number of 4 to 12 in the alkyl ester portion is set to the total amount of the monomer component constituting the acrylic polymer (100% by weight) because the effect of the present invention can be more expressed. ), it is preferably 30% by weight or more, more preferably 35% by weight to 99% by weight, further preferably 40% by weight to 98% by weight, and particularly preferably 50% by weight to 95% by weight. .

OH기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 및 (메트)아크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종(b 성분)의 함유량은, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량(100중량％)에 대하여 바람직하게는 1중량％ 이상이고, 보다 바람직하게는 1중량％ 내지 30중량％이고, 더욱 바람직하게는 2중량％ 내지 20중량％이고, 특히 바람직하게는 3중량％ 내지 10중량％이다.The content of at least one type (b component) selected from the group consisting of (meth)acrylic acid ester having an OH group and (meth)acrylic acid is the monomer component constituting the acrylic polymer because the effect of the present invention can be more expressed. It is preferably 1% by weight or more, more preferably 1% to 30% by weight, further preferably 2% to 20% by weight, and particularly preferably 3% by weight, based on the total amount (100% by weight). to 10% by weight.

조성물 (M)은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 다른 성분을 함유할 수 있다.　이러한 다른 성분으로서는, 예를 들어, 중합 개시제, 연쇄 이동제, 용제 등을 들 수 있다.　이들 다른 성분의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 함유량을 채용할 수 있다.Composition (M) may contain any suitable other components within the range that does not impair the effect of the present invention. Examples of these other components include polymerization initiators, chain transfer agents, and solvents. The content of these other components can be any appropriate content within a range that does not impair the effect of the present invention.

중합 개시제는, 중합 반응의 종류에 따라, 열중합 개시제나 광중합 개시제(광개시제) 등을 채용할 수 있다.　중합 개시제는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.Depending on the type of polymerization reaction, the polymerization initiator may be a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator (photoinitiator). The number of polymerization initiators may be one, or two or more types may be used.

열중합 개시제는, 바람직하게는 아크릴계 폴리머를 용액 중합에 의해 얻을 때 채용될 수 있다.　이러한 열중합 개시제로서는, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산)디메틸, 4,4'-아조비스-4-시아노발레르산, 아조비스이소발레로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘), 2,2'-아조비스[N-(2-카로복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]하이드레이트(VA-057, 와코 준야쿠 고교(주)제) 등의 아조계 개시제; 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥시드, 디-n-옥타노일퍼옥시드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥시드, 디벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, t-부틸히드로퍼옥시드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제; 과황산염과 아황산수소나트륨의 조합, 과산화물과 아스코르브산나트륨의 조합 등의 과산화물과 환원제를 조합한 산화환원계 개시제; 페닐 치환 에탄 등의 치환 에탄계 개시제; 방향족 카르보닐 화합물을 들 수 있다.A thermal polymerization initiator may be preferably employed when obtaining an acrylic polymer by solution polymerization. Examples of such thermal polymerization initiators include 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methyl dimethyl propionic acid, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, azobisisovaleronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane)dihydrochloride, 2,2'-azo Bis[2-(5-methyl-2-imidazolin-2-yl)propane]dihydrochloride, 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine)disulfate, 2,2'-azobis (N,N'-dimethyleneisobutylamidine), 2,2'-azobis[N-(2-caroboxyethyl)-2-methylpropionamidine]hydrate (VA-057, Wako Pure Chemical Industries, Ltd. azo-based initiators such as those manufactured by Co., Ltd.; Persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, and di-sec-butylperoxydicarbonate. Nate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3, 3-Tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di(4-methylbenzoyl)peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-di(t-hexylperoxy) peroxide-based initiators such as cyclohexane, t-butylhydroperoxide, and hydrogen peroxide; Redox initiators combining a peroxide and a reducing agent, such as a combination of persulfate and sodium bisulfite, or a combination of peroxide and sodium ascorbate; substituted ethane-based initiators such as phenyl-substituted ethane; and aromatic carbonyl compounds.

광중합 개시제는, 바람직하게는 아크릴계 폴리머를 활성 에너지선 중합에 의해 얻을 때 채용될 수 있다.　광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인에테르계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, α-케톨계 광중합 개시제, 방향족 술포닐클로라이드계 광중합 개시제, 광활성 옥심계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤질계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 케탈계 광중합 개시제, 티옥산톤계 광중합 개시제를 들 수 있다.A photopolymerization initiator can preferably be employed when obtaining an acrylic polymer by active energy ray polymerization. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin ether photopolymerization initiator, acetophenone photopolymerization initiator, α-ketol photopolymerization initiator, aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiator, photoactive oxime photopolymerization initiator, benzoin photopolymerization initiator, and benzyl photopolymerization initiator. , benzophenone-based photopolymerization initiators, ketal-based photopolymerization initiators, and thioxanthone-based photopolymerization initiators.

벤조인에테르계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 아니솔메틸에테르 등을 들 수 있다.　아세토페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 4-페녹시디클로로아세토페논, 4-(t-부틸) 디클로로아세토페논을 들 수 있다.　α-케톨계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 2-메틸-2-히드록시프로피오페논, 1-[4-(2-히드록시에틸)페닐]-2-메틸프로판-1-온을 들 수 있다.　방향족 술포닐클로라이드계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 2-나프탈렌술포닐클로라이드를 들 수 있다.　광활성 옥심계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 1-페닐-1,1-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)-옥심을 들 수 있다.　벤조인계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인을 들 수 있다.　벤질계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤질을 들 수 있다.　벤조페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조페논, 벤조일벤조산, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 폴리비닐벤조페논, α-히드록시시클로헥실페닐케톤을 들 수 있다.　케탈계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤질디메틸케탈을 들 수 있다.　티옥산톤계 광중합 개시제로서는, 예를 들어 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤, 도데실티옥산톤을 들 수 있다.Examples of the benzoin ether-based photopolymerization initiator include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and 2,2-dimethoxy-1,2-di. Phenylethan-1-one, anisole methyl ether, etc. can be mentioned. Acetophenone-based photopolymerization initiators include, for example, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 4-phenoxydichloroacetophenone, and 4-phenoxydichloroacetophenone. -(t-butyl)dichloroacetophenone can be mentioned. Examples of the α-ketol photopolymerization initiator include 2-methyl-2-hydroxypropiophenone and 1-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]-2-methylpropan-1-one. . Examples of aromatic sulfonyl chloride-based photopolymerization initiators include 2-naphthalenesulfonyl chloride. Examples of the photoactive oxime-based photopolymerization initiator include 1-phenyl-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)-oxime. Examples of the benzoin-based photopolymerization initiator include benzoin. Examples of the benzyl-based photopolymerization initiator include benzyl. Examples of the benzophenone-based photopolymerization initiator include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, polyvinylbenzophenone, and α-hydroxycyclohexylphenyl ketone. Examples of the ketal-based photopolymerization initiator include benzyldimethyl ketal. Examples of thioxanthone-based photopolymerization initiators include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, and 2,4-diisopropyl. Thioxanthone and dodecylthioxanthone can be mentioned.

중합 개시제의 사용량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 사용량으로 설정될 수 있다.The usage amount of the polymerization initiator can be set to any appropriate usage amount within a range that does not impair the effect of the present invention.

아크릴계 점착제 조성물은, 가교제를 포함하고 있어도 된다.　가교제를 사용함으로써, 아크릴계 점착제의 응집력을 향상시킬 수 있어, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있다.　가교제는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.The acrylic adhesive composition may contain a crosslinking agent. By using a crosslinking agent, the cohesion of the acrylic adhesive can be improved, and the effect of the present invention can be more expressed. The number of crosslinking agents may be one, or two or more types may be used.

가교제로서는, 예를 들어 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 실리콘계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 실란계 가교제, 알킬에테르화 멜라민계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 과산화물 등의 가교제를 들 수 있고, 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 및 과산화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종(c 성분)이다.Examples of the crosslinking agent include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, silicone crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, silane crosslinking agents, alkyl etherified melamine crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents, and peroxides. , Since the effect of the present invention can be more expressed, it is preferably at least one type (component c) selected from the group consisting of an isocyanate-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, and peroxide.

이소시아네이트계 가교제는, 이소시아네이트기(이소시아네이트기를 블록제 또는 수량체화 등에 의해 일시적으로 보호한 이소시아네이트 재생형 극성기를 포함함)를 1분자 중에 2개 이상 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 이소시아네이트계 가교제로서는, 예를 들어 톨릴렌디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트; 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트; 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트를 들 수 있다.As an isocyanate-based crosslinking agent, a compound having two or more isocyanate groups (including isocyanate regenerative polar groups temporarily protected by blocking agents or quantization, etc.) per molecule can be used. Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate and xylene diisocyanate; Alicyclic isocyanates such as isophorone diisocyanate; Aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate can be mentioned.

이소시아네이트계 가교제로서는, 예를 들어 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류; 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류; 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류; 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물(예를 들어, 도소사제, 상품명 코로네이트 L), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3량체 부가물(예를 들어, 도소사제, 상품명: 코로네이트 HL), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(예를 들어, 도소사제, 상품명: 코로네이트 HX) 등의 이소시아네이트 부가물; 크실릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(예를 들어, 미쓰이 가가쿠사제, 상품명: 타케네이트 D110N), 크실릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(예를 들어, 미쓰이 가가쿠사제, 상품명: 타케네이트 D120N), 이소포론디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(예를 들어, 미쓰이 가가쿠사제, 상품명: 타케네이트 D140N), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(예를 들어, 미쓰이 가가쿠사제, 상품명: 타케네이트 D160N), 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(예를 들어, 미쓰이 가가쿠사제, 상품명: 타케네이트 D101E); 폴리에테르 폴리이소시아네이트, 폴리에스테르폴리이소시아네이트, 그리고 이들과 각종 폴리올의 부가물; 이소시아누레이트 결합, 뷰렛 결합, 알로파네이트 결합 등으로 다관능화한 폴리이소시아네이트를 들 수 있다.　이들 중에서도, 변형성과 응집력을 밸런스 좋게 양립시킬 수 있는 점에서, 바람직하게는 방향족 이소시아네이트, 지환식 이소시아네이트이다.Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; Alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; aromatic diisocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and polymethylene polyphenylisocyanate; Trimethylolpropane/tolylene diisocyanate trimer adduct (e.g., manufactured by Tosoh Corporation, brand name: Coronate L), trimethylolpropane/hexamethylene diisocyanate trimer adduct (e.g., manufactured by Tosoh Corporation, brand name: Coronate HL) ), isocyanate adducts such as the isocyanurate form of hexamethylene diisocyanate (for example, Tosoh Corporation, brand name: Coronate HX); Trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate (e.g., manufactured by Mitsui Chemicals, brand name: Takenate D110N), trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate (e.g., manufactured by Mitsui Chemicals, brand name: Takenate) Nate D120N), trimethylolpropane adduct of isophorone diisocyanate (e.g., manufactured by Mitsui Chemicals, brand name: Takenate D140N), trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate (e.g., manufactured by Mitsui Chemicals) , brand name: Takenate D160N), trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (for example, manufactured by Mitsui Chemicals, brand name: Takenate D101E); polyether polyisocyanate, polyester polyisocyanate, and adducts thereof with various polyols; Examples include polyisocyanates polyfunctionalized with isocyanurate bonds, biuret bonds, allophanate bonds, etc. Among these, aromatic isocyanate and alicyclic isocyanate are preferred because they can achieve both deformability and cohesion in a good balance.

에폭시계 가교제로서는, 에폭시기를 1분자 중에 2개 이상 갖는 다관능 에폭시 화합물을 사용할 수 있다.　에폭시계 가교제로서는, 예를 들어 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 디글리시딜아닐린, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 소르비탄폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 아디프산디글리시딜에스테르, o-프탈산디글리시딜에스테르, 트리글리시딜-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 레조르신디글리시딜에테르, 비스페놀-S-디글리시딜에테르, 분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시계 수지를 들 수 있다.　에폭시계 가교제의 시판품으로서는, 예를 들어 미쓰비시 가스 가가쿠사제의 상품명 「테트래드 C」, 「테트래드 X」를 들 수 있다.As an epoxy-based crosslinking agent, a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups per molecule can be used. As an epoxy-based crosslinking agent, for example, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, diglycidylaniline, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl ) Cyclohexane, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, poly Propylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane Polyglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl-tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, resorcinol diglycidyl ether, bisphenol- Examples include S-diglycidyl ether and an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. Commercially available epoxy-based crosslinking agents include, for example, the brand names “Tetrad C” and “Tetrad X” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.

과산화물로서는, 예를 들어 디벤조일퍼옥시드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥시-3, 3,5-트리메틸시클로헥산, t-부틸히드로퍼옥사이드, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥신)헥신-3,2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-모노(t-부틸퍼옥시)-헥산, α, α'-비스(t-부틸퍼옥시-m-이소프로필)벤젠, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥시드, 디-n-옥타노일퍼옥시드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 1,1-디(t-부틸퍼옥시)시클로헥산, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실카르보네이트, t-아밀퍼옥시이소프로필카르보네이트, 3,5,5-트리메틸헥사노일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-헥사노에이트레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, t-헥실퍼옥시피발레이트를 들 수 있다.　과산화물의 시판품으로서는, 예를 들어 니혼 유시 가부시키가이샤제의 상품명 「나이퍼 BMT」 시리즈, 「나이퍼 BW」 시리즈를 들 수 있다.Peroxides include, for example, dibenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-t-butyl peroxy-3, 3,5-trimethylcyclohexane, t-butyl hydroperoxide, and t- Butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxin)hexyne-3,2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, 2,5-dimethyl -2,5-mono(t-butylperoxy)-hexane, α, α'-bis(t-butylperoxy-m-isopropyl)benzene, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate Rate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di(4-methylbenzoyl)peroxide, t -Butylperoxyisobutyrate, 1,1-di(t-hexylperoxy)cyclohexane, 1,1-di(t-butylperoxy)cyclohexane, t-butylperoxy-2-ethylhexylcarbonate , t-amyl peroxyisopropyl carbonate, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, t-butyl peroxy-2-hexanoate, t-butyl peroxypivalate, t-hexyl peroxy Pivalate can be mentioned. Commercially available products of peroxide include, for example, the “Niper BMT” series and the “Niper BW” series manufactured by Nippon Yushi Co., Ltd.

아크릴계 점착제 조성물 중의 가교제의 함유량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 함유량을 채용할 수 있다.　이러한 함유량으로서는, 예를 들어 본 발명의 효과를 보다 발현시킬 수 있는 점에서, 아크릴계 폴리머의 고형분(100중량부)에 대하여 바람직하게는 0.05중량부 내지 20중량부이고, 보다 바람직하게는 0.1중량부 내지 18중량부이고, 더욱 바람직하게는 0.5중량부 내지 15중량부이고, 특히 바람직하게는 0.5중량부 내지 10중량부이다.The content of the crosslinking agent in the acrylic adhesive composition can be any appropriate content within a range that does not impair the effect of the present invention. This content is preferably 0.05 parts by weight to 20 parts by weight, more preferably 0.1 part by weight, based on the solid content (100 parts by weight) of the acrylic polymer, for example, because the effect of the present invention can be more expressed. It is 18 parts by weight to 18 parts by weight, more preferably 0.5 parts by weight to 15 parts by weight, and particularly preferably 0.5 parts by weight to 10 parts by weight.

아크릴계 점착제 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 다른 성분을 함유할 수 있다.　이러한 다른 성분으로서는, 예를 들어, 아크릴계 폴리머 이외의 폴리머 성분, 가교 촉진제, 가교 촉매, 실란 커플링제, 점착 부여 수지(로진 유도체, 폴리테르펜 수지, 석유 수지, 유용성 페놀 등), 노화 방지제, 무기 충전제, 유기 충전제, 금속 분말, 착색제(안료나 염료 등), 박상물, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 광안정제, 조핵제, 연쇄 이동제, 가소제, 연화제, 계면 활성제, 대전 방지제, 도전제, 안정제, 표면 윤활제, 레벨링제, 부식 방지제, 내열 안정제, 중합 금지제, 활제, 용제, 촉매 등을 들 수 있다.The acrylic adhesive composition may contain any appropriate other components within the range that does not impair the effect of the present invention. Such other components include, for example, polymer components other than acrylic polymers, crosslinking accelerators, crosslinking catalysts, silane coupling agents, tackifying resins (rosin derivatives, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenols, etc.), anti-aging agents, and inorganic fillers. , organic fillers, metal powders, colorants (pigments, dyes, etc.), thin matter, ultraviolet absorbers, antioxidants, light stabilizers, nucleating agents, chain transfer agents, plasticizers, softeners, surfactants, antistatic agents, conductive agents, stabilizers, surface lubricants. , leveling agents, corrosion inhibitors, heat stabilizers, polymerization inhibitors, lubricants, solvents, catalysts, etc.

≪≪광학 부재≫≫≪≪Optical member≫≫

광학 부재는, 편광판을 갖는다.　광학 부재는, 편광판을 갖고 있으면, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 임의의 적절한 다른 부재를 포함하고 있어도 된다.The optical member has a polarizing plate. As long as the optical member has a polarizing plate, it may contain other appropriate members as long as the effect of the present invention is not impaired.

다른 부재로서는, 예를 들어 점착제층, 휘도 향상 필름을 들 수 있다.Other members include, for example, an adhesive layer and a brightness improving film.

광학 부재의 두께는, 그 종류에 따라, 임의의 적절한 두께를 채용할 수 있다.　대표적으로는, 광학 부재의 두께는, 바람직하게는 10㎛ 내지 1000㎛이고, 보다 바람직하게는 30㎛ 내지 800㎛이고, 더욱 바람직하게는 50㎛ 내지 700㎛이고, 특히 바람직하게는 100㎛ 내지 600㎛이고, 가장 바람직하게는 100㎛ 내지 500㎛이다.The thickness of the optical member can be any appropriate thickness depending on its type. Typically, the thickness of the optical member is preferably 10 μm to 1000 μm, more preferably 30 μm to 800 μm, further preferably 50 μm to 700 μm, and particularly preferably 100 μm to 600 μm. ㎛, and most preferably 100㎛ to 500㎛.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 하등 한정되는 것은 아니다.　또한, 실시예 등에 있어서의, 시험 및 평가 방법은 이하와 같다.　또한, 「부」라고 기재되어 있는 경우에는, 특기 사항이 없는 한 「중량부」를 의미하고, 「％」라고 기재되어 있는 경우에는, 특기 사항이 없는 한 「중량％」를 의미한다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples in any way. In addition, the test and evaluation methods in the examples and the like are as follows. In addition, when “part” is written, it means “part by weight” unless otherwise specified, and when “%” is written, it means “% by weight” unless otherwise specified.

<기재의 인장 강도의 측정><Measurement of tensile strength of substrate>

JIS C 2151:2019에 준거하여, 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼제, 제품명 「오토그래프」)를 사용하여, 측정 대상의 기재를, 속도 200mm/min으로, 폭 방향(TD 방향) 또는 길이 방향(MD 방향)으로 인장하고, 해당 측정 대상의 기재가 절단(파단)되었을 때의 강도(단위: MPa)를 측정하였다.In accordance with JIS C 2151:2019, using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Seisakusho, product name “Autograph”), the substrate to be measured is tested in the width direction (TD direction) or longitudinal direction (MD) at a speed of 200 mm/min. direction), and the strength (unit: MPa) when the substrate to be measured was cut (broken) was measured.

<정면 위상차 및 지상축이 긴 방향(MD 방향)과 이루는 각도의 측정><Measurement of the frontal phase difference and the angle formed by the slow axis with the long direction (MD direction)>

각 제조예에서 얻어진 기재 또는 각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 표면 보호 필름을, 210mm×300mm의 사이즈로 잘라내고, 표면 보호 필름에 대해서는 박리 라이너를 점착제층으로부터 박리하여, 편광·위상차 측정 시스템(Axometrics제 「AxoScan」, 소프트웨어(Multi-order-retardance) 사용)에 의해, 23℃, 상대 습도 50％의 환경하에서, 측정 파장 590nm에서, 면내 12점(X[mm]=25, 150, 275, Y[mm]=15, 75, 135, 195의 교점)에 있어서, 정면 위상차 및 지상축이 긴 방향(MD 방향)과 이루는 각도를 측정하고, 이들 12점의 평균값을 구하였다.　또한, 지상축이 긴 방향(MD 방향)과 이루는 각도란, 도 2에 나타내는 바와 같이, 긴 방향(MD 방향)을 기준으로 하여, 해당 긴 방향(MD 방향)을 0°로 했을 때의, 지상축이 해당 긴 방향(MD 방향)과 반시계 방향의 방향으로 이루는 각도 θ를 의미한다.The base material obtained in each production example or the surface protection film obtained in each example and each comparative example was cut to a size of 210 mm Using Axometrics' "AxoScan" software (multi-order-retardance), 12 points in the plane (X[mm]=25, 150, 275, At the intersection of Y [mm] = 15, 75, 135, and 195), the frontal phase difference and the angle formed by the slow axis with the longitudinal direction (MD direction) were measured, and the average value of these 12 points was obtained. In addition, the angle formed by the slow axis with the long direction (MD direction) is, as shown in FIG. 2, the ground angle when the long direction (MD direction) is set to 0° based on the long direction (MD direction). It means the angle θ formed by the axis between the corresponding long direction (MD direction) and the counterclockwise direction.

<무지개 불균일><Rainbow unevenness>

표면 보호 필름으로부터 박리 라이너를 박리하고, 해당 표면 보호 필름의 기재의 지상축과 편광판 (a)(닛토 덴코제, 상품명 「SEG1423DU」)의 흡수축이 이루는 각도 중, 90° 이하의 각도, 즉 축 어긋남양이 0°, 15°, 30°, 45°가 되도록, 해당 표면 보호 필름의 점착제층과 편광판 (a)를 접합하였다.The release liner is peeled from the surface protection film, and among the angles formed between the slow axis of the substrate of the surface protection film and the absorption axis of the polarizer (a) (manufactured by Nitto Denko, product name "SEG1423DU"), an angle of 90° or less, that is, the axis The adhesive layer of the surface protection film and the polarizing plate (a) were bonded so that the amount of misalignment was 0°, 15°, 30°, and 45°.

다음으로, 상기 표면 보호 필름의 기재 측 상에, 다른 편광판 (b)(닛토 덴코제, 상품명 「SEG1423DU」)를 상기 표면 보호 필름에 접합한 편광판과 크로스니콜이 되도록 배치하였다.Next, on the substrate side of the surface protection film, another polarizing plate (b) (manufactured by Nitto Denko, brand name "SEG1423DU") was placed so as to be cross-Nicol with the polarizing plate bonded to the surface protection film.

편광판 (b)의 하측으로부터 형광등의 광을 조사하고, 투과광을 눈으로 보아, 극각 0° 내지 85°, 방위각 0° 내지 360°의 사이에 무지개 불균일의 발생 정도를 하기의 기준에 의해 평가하였다.Light from a fluorescent lamp was irradiated from the lower side of the polarizing plate (b), the transmitted light was viewed with the naked eye, and the degree of occurrence of rainbow unevenness between polar angles of 0° and 85° and azimuth angles of 0° and 360° was evaluated by the following standards.

◎: 어느 극각, 방위각에서도 무지개 불균일이 확인되지 않았다.◎: Rainbow irregularity was not confirmed at any polar angle or azimuth angle.

○: 특정 극각, 방위각에서 조금 무지개 불균일이 확인되었다.○: Slight rainbow unevenness was confirmed at a specific polar angle and azimuth angle.

△: 약간 강하게 무지개 불균일이 확인되었다.Δ: Slightly strong rainbow unevenness was confirmed.

×: 강하게 무지개 불균일이 확인되었다.×: Strong rainbow unevenness was confirmed.

<색상·휘도의 측정><Measurement of color and luminance>

편광판(닛토 덴코제, 상품명 「SEG1423DU」)을 180mm×250mm의 사이즈로 잘라내고, 휘도 향상 필름(쓰리엠 재팬 프러덕츠제, 상품명 「APF-V3」)과, 편광판의 흡수축과 휘도 향상 필름의 반사축이 정렬되도록 접합하여, 휘도 향상 필름을 구비한 편광판으로 하였다.　표면 보호 필름으로부터 박리 라이너를 박리하고, 표면 보호 필름의 기재의 지상축과 휘도 향상 필름을 구비한 편광판의 흡수축이 이루는 각도 중, 90° 이하의 각도, 즉 축 어긋남양이 0°, 15°, 30°, 45°가 되도록, 표면 보호 필름의 점착제층과 휘도 향상 필름을 구비한 편광판의 휘도 향상 필름 측을 접합하였다.　또한 축 어긋남양을 최대한 면내에서 균일하게 하기 위해, 표면 보호 필름의 기재의 면내의 지상축의 축 각도의 편차를 억제할 필요가 있기 때문에, 표면 보호 필름의 기재는, 면내의 지상축의 축 각도의 최댓값-면내의 지상축의 축 각도의 최솟값이 1.15° 이하인 것을 사용하였다.A polarizer (manufactured by Nitto Denko, product name “SEG1423DU”) is cut to a size of 180 mm They were bonded so that the axes were aligned to form a polarizing plate equipped with a brightness enhancing film. The release liner is peeled from the surface protection film, and among the angles formed between the slow axis of the base of the surface protection film and the absorption axis of the polarizing plate equipped with the brightness improvement film, the angle is 90° or less, that is, the amount of axis deviation is 0° or 15°. , 30°, 45°, the adhesive layer of the surface protection film and the brightness improvement film side of the polarizing plate provided with the brightness improvement film were bonded together. In addition, in order to make the amount of axis misalignment as uniform as possible within the plane, it is necessary to suppress the deviation of the axis angle of the slow axis within the plane of the base material of the surface protection film, so that the base material of the surface protection film must have the maximum axis angle of the slow axis within the plane. -The minimum value of the axis angle of the slow axis in the plane was used, which was 1.15° or less.

백라이트 상에, 표면 보호 필름, 휘도 향상 필름을 구비한 편광판, 측정 장치의 순으로 되도록 설치를 하고, 2D 분광 방사계(가부시키가이샤 톱콘 테크노하우스제 「SR-5000HS」, XYZ 모드를 사용)에 의해, 샘플과 검출 카메라의 거리를 590mm로 하여, 색상·휘도를 측정하였다.　또한, 표면 보호 필름을 접합하고 있지 않은, 휘도 향상 필름을 구비한 편광판만에서의 측정도 마찬가지로 행하였다.On the backlight, a surface protection film, a polarizer with a brightness enhancement film, and a measuring device are installed in that order, and a 2D spectroradiometer (“SR-5000HS” manufactured by Topcon Technohouse Co., Ltd., using XYZ mode) Color and luminance were measured with the distance between the sample and the detection camera set to 590 mm. In addition, the measurement only on the polarizing plate provided with the brightness improving film without the surface protection film laminated was similarly performed.

또한, 백라이트로서는, (프리즘 시트/확산판/도광판[에지형 LED]/반사판)의 구성이며, 면내의 휘도 Y의 평균이 평균 9500cd/m² 내지 10000cd/m², 백라이트의 W가 (색도 좌표 x=0.28 내지 0.31, 색도 좌표 y=0.27 내지 0.32), RGB가 R(631nm)(색도 좌표 x=0.62 내지 0.72, 색도 좌표 y=0.22 내지 0.32), G(535nm)(색도 좌표 x=0.18 내지 0.26, 색도 좌표 y=0.62 내지 0.78), B(450nm)(색도 좌표 x=0.08 내지 0.18, 색도 좌표 y=0.01 내지 0.12)인 것을 사용하였다.In addition, the backlight is composed of (prism sheet/diffuser plate/light guide plate [edge type LED]/reflector), and the average in-plane luminance Y is 9500 cd/m ² to 10000 cd/m ² , and the W of the backlight is (chromaticity coordinate) x = 0.28 to 0.31, chromaticity coordinate y = 0.27 to 0.32), RGB is R (631 nm) (chromaticity coordinate x = 0.62 to 0.72, chromaticity coordinate y = 0.22 to 0.32), G (535 nm) (chromaticity coordinate x = 0.18 to 0.18 0.26, chromaticity coordinate y = 0.62 to 0.78), B (450 nm) (chromaticity coordinate x = 0.08 to 0.18, chromaticity coordinate y = 0.01 to 0.12) was used.

상기 <색상·휘도의 측정>에서 얻어진 (1) 편광판만의 RGB 각각의 데이터와, (2) 표면 보호 필름+편광판의 RGB 각각의 데이터로부터, RGB 표준 편차를 산출하였다.The RGB standard deviation was calculated from (1) RGB data of only the polarizing plate and (2) RGB data of the surface protection film + polarizing plate obtained in the above <Measurement of color and luminance>.

산출함에 있어서, 이하의 평가를 행하였다.　먼저, 상기 (1)과 상기 (2)의 차를 산출함에 있어서, 축 어긋남에 의해, 편광판에 대하여 표면 보호 필름이 접합되어 있지 않은 부분이 있기 때문에, 샘플 면내의 X: 0px 내지 910px(200mm), Y: 0px 내지 730px(160mm) 중, X: 200px 내지 800px, Y: 100px 내지 600px의 값을 사용하였다.　그 후, RGB 각각의 표준 편차를 계산하고, 마지막으로 RGB 각각의 표준 편차의 합을 취함으로써, RGB 표준 편차를 산출하였다.In calculating, the following evaluation was performed. First, in calculating the difference between (1) and (2) above, since there are parts where the surface protection film is not bonded to the polarizer due to axis deviation, , Y: 0px to 730px (160mm), X: 200px to 800px, Y: 100px to 600px were used. Afterwards, the standard deviation of each RGB was calculated, and finally, the RGB standard deviation was calculated by taking the sum of the standard deviations of each RGB.

<색 분산 엔트로피 S_CD><Chromatic dispersion entropy S _CD >

상기 <색상·휘도의 측정>에서 얻어진 (1) 편광판만의 RGB 각각의 데이터와, (2) 표면 보호 필름+편광판의 RGB 각각의 데이터로부터, 색 분산 엔트로피 S_CD를 산출하였다.Color dispersion entropy S _CD was calculated from (1) RGB data of only the polarizing plate and (2) RGB data of the surface protection film + polarizing plate obtained in the above <Measurement of color and luminance>.

산출함에 있어서, 이하의 평가를 행하였다.　먼저, 상기 (1)과 상기 (2)의 차를 산출함에 있어서, 축 어긋남에 의해, 편광판에 대하여 표면 보호 필름이 접합되어 있지 않은 부분이 있기 때문에, 샘플 면내의 X: 0px 내지 900px, Y: 0px 내지 700px 중, X: 200px 내지 800px, Y: 100px 내지 600px의 값을 사용하였다.In calculating, the following evaluation was performed. First, in calculating the difference between (1) and (2) above, since there are parts where the surface protection film is not bonded to the polarizing plate due to axis deviation, X: 0px to 900px, Y: Among 0px to 700px, values of X: 200px to 800px and Y: 100px to 600px were used.

그리고, 하기와 같이, 색 분산 엔트로피 S_CD를 정의하여 산출하였다.Then, the color dispersion entropy S _CD was defined and calculated as follows.

S_CD=S_RCD+S_GCD+S_BCD S _CD =S _RCD +S _GCD +S _BCD

R의 경우는 하기와 같다.The case of R is as follows.

S_RCD=k_BlnWS _RCD =k _B lnW

k_B: 볼츠만 상수 N_R: 200px 내지 800px, Y: 100px 내지 600px의 범위 내의 R의 상기 (1)과 상기 (2)의 차의 값에 255를 더한 값의 합계(N_R: 200px 내지 800px, Y: 100px 내지 600px의 범위 내의 R의 상기 (1)과 상기 (2)의 차의 값은 -255 내지 255의 범위가 되기 때문에, 정수로서 취급하기 위해 255를 더하여, 0 내지 510의 값으로서 취급하였다.)k _B : Boltzmann constant N _R : 200px to 800px, Y: sum of the difference between (1) and (2) above for R in the range of 100px to 600px plus 255 (N _R : 200px to 800px, Y: Since the value of the difference between (1) and (2) of R in the range of 100px to 600px is in the range of -255 to 255, 255 is added to treat it as an integer and treated as a value of 0 to 510. did.)

N_Rn: 10px×10px로 구획한 박스 중의 R의 상기 (1)과 상기 (2)의 차의 값에 255를 더한 값의 합계N _Rn : The sum of the difference between (1) and (2) above for R in a box divided into 10px x 10px plus 255.

W: 각 박스 중의 N_R1, N_R2, ···, N_Rn의 경우의 수W: Number of cases of N _R1 , N _R2 , ···, N _Rn in each box

W=N_R!/(N_R1!, N_R2!, ···, N_Rn!)W=N _R !/(N _R1 !, N _R2 !, ···, N _Rn !)

또한, 계산이 번잡해지기 때문에, 스털링의 공식을 사용하여 근사하고, 이하의 식에 따라 계산하였다.In addition, since the calculation became complicated, it was approximated using Stirling's formula and calculated according to the following formula.

G, B의 경우도, R과 마찬가지로 행하여, 색 분산 엔트로피 S_CD를 산출하였다.In the case of G and B, the same procedure as for R was performed to calculate the color dispersion entropy S _CD .

또한, 표 중의 「색 분산 엔트로피 S_CD」 및 「RGB 표준 편차/S_CD」 란에 있어서, 「aEb」(a, b는 수치) 라고 기재되어 있는 경우에는, 「a×10^b」를 의미한다.Additionally, in the “chromatic dispersion entropy S _CD ” and “RGB standard deviation/S _CD ” columns in the table, when “aEb” (a and b are numerical values) is written, it means “a×10 ^b .” .

<대 아크릴판 박리력의 평가><Evaluation of peeling force from acrylic plate>

각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 표면 보호 필름을 폭 25mm, 길이 100mm의 사이즈로 잘라내고, 박리 라이너를 점착제층으로부터 박리하여, 아크릴판(미쓰비시 케미컬사제 「아크릴라이트」, 두께: 2mm, 폭: 70mm, 길이: 100mm)에, 압력 0.25MPa, 이송 속도 0.3m/분으로 롤 압착하였다.　이 시료를, 온도 23℃, 상대 습도 50％의 환경하에 30분간 정치한 후, 동 환경하에서, 박리 각도 180°, 인장 속도 300mm/분으로 필 시험을 행하여, 대 아크릴판 박리력을 측정하였다.The surface protection film obtained in each example and each comparative example was cut to a size of 25 mm in width and 100 mm in length, the release liner was peeled from the adhesive layer, and an acrylic board (“Acrylite” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, thickness: 2 mm, width: 70 mm, length: 100 mm), and was roll compressed at a pressure of 0.25 MPa and a transfer speed of 0.3 m/min. This sample was left to stand for 30 minutes in an environment with a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%, and then a peel test was performed under the same environment at a peeling angle of 180° and a tensile speed of 300 mm/min to measure the peeling force against the acrylic plate.

[제조예 1][Production Example 1]

<아크릴 폴리머 1의 중합><Polymerization of acrylic polymer 1>

온도계, 교반기, 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에, 모노머 성분으로서, 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA) 96.2질량부, 히드록시에틸아크릴레이트(HEA) 3.8질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.2질량부를, 아세트산에틸 150질량부와 함께 투입하고, 23℃에서 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환을 행하였다.　그 후, 액온을 65℃ 부근으로 유지하여 6시간 중합 반응을 행하여, 아크릴 폴리머 1의 용액(농도 40질량％)을 조제하였다.　아크릴 폴리머 1의 중량 평균 분자량은 54만이었다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a cooler, and a nitrogen gas introduction tube, 96.2 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 3.8 parts by mass of hydroxyethyl acrylate (HEA) as a monomer component, and 2 parts by mass as a polymerization initiator. , 0.2 parts by mass of 2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added together with 150 parts by mass of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced while gently stirring at 23°C to perform nitrogen substitution. After that, the liquid temperature was maintained at around 65°C and a polymerization reaction was performed for 6 hours to prepare a solution of acrylic polymer 1 (concentration 40% by mass). The weight average molecular weight of acrylic polymer 1 was 540,000.

<아크릴계 점착제 A의 조제><Preparation of acrylic adhesive A>

아크릴 폴리머 1의 용액에 아세트산에틸을 첨가하여 농도 20질량％로 희석하였다.　이 용액 500질량부(고형분 100질량부)에, 가교제로서 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(도소사제 「코로네이트 HX」) 4질량부, 가교 촉매로서 디라우르산디부틸주석(1질량％ 아세트산에틸 용액) 3질량부(고형분 0.03질량부)를 첨가하고 교반하여, 아크릴계 점착제 1을 조제하였다.Ethyl acetate was added to the solution of acrylic polymer 1 and diluted to a concentration of 20% by mass. To 500 parts by mass of this solution (solid content: 100 parts by mass), 4 parts by mass of the isocyanurate of hexamethylene diisocyanate (“Coronate HX” manufactured by Tosoh Corporation) as a crosslinking agent, and dibutyltin dilaurate (1% by mass) as a crosslinking catalyst. 3 parts by mass of ethyl acetate solution (solid content: 0.03 parts by mass) was added and stirred to prepare acrylic adhesive 1.

[제조예 2][Production Example 2]

<아크릴 폴리머 2의 중합><Polymerization of acrylic polymer 2>

온도계, 교반기, 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에, 모노머 성분으로서, 부틸아크릴레이트 95질량부 및 아크릴산 5질량부, 그리고 중합 개시제로서 AIBN 0.2질량부를 아세트산에틸 186질량부와 함께 투입하고, 23℃에서 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환을 행하였다.　그 후, 액온을 63℃ 부근으로 유지하여 10시간 중합 반응을 행하여, 아크릴 폴리머 B의 용액(농도 35질량％)을 조제하였다.　아크릴 폴리머 2의 중량 평균 분자량은 50만이었다.Into a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a cooler, and a nitrogen gas introduction tube, 95 parts by mass of butylacrylate and 5 parts by mass of acrylic acid as monomer components, and 0.2 parts by mass of AIBN as a polymerization initiator were added together with 186 parts by mass of ethyl acetate. , Nitrogen substitution was performed by introducing nitrogen gas while gently stirring at 23°C. After that, the liquid temperature was maintained at around 63°C and a polymerization reaction was performed for 10 hours to prepare a solution of acrylic polymer B (concentration 35% by mass). The weight average molecular weight of acrylic polymer 2 was 500,000.

<아크릴계 점착제 2의 조제><Preparation of acrylic adhesive 2>

아크릴 폴리머 2의 용액에 아세트산에틸을 첨가하여 농도 20질량％로 희석하였다.　이 용액 500질량부(고형분 100질량부)에, 가교제로서 4관능 에폭시계 화합물(미쓰비시 가스 가가쿠사제 「테트래드 C」) 0.075질량부를 첨가하고 교반하여, 아크릴계 점착제 2를 조제하였다.Ethyl acetate was added to the solution of acrylic polymer 2 and diluted to a concentration of 20% by mass. To 500 parts by mass of this solution (solid content: 100 parts by mass), 0.075 parts by mass of a tetrafunctional epoxy compound (“Tetrad C” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a crosslinking agent was added and stirred to prepare an acrylic adhesive 2.

[제조예 3][Production Example 3]

<기재 (1)의 준비><Preparation of description (1)>

열가소성 수지 기재로서, 흡수율 0.60％, Tg 80℃의 비정질 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(미쓰비시 케미컬 홀딩스 그룹제, 상품명 「노바 클리어」, 두께 100㎛)의 한쪽 면에, 중합도 2600, 비누화도 99.9％의 폴리비닐알코올(PVA) 수지(닛폰 고세이 가가쿠 고교 가부시키가이샤제, 상품명 「고세놀(등록상표) NH-26」)의 수용액을 60℃에서 도포하여 건조시키고, 두께 7㎛의 PVA계 수지층을 형성하여, 적층체로 하였다.As a thermoplastic resin substrate, polyvinyl with a degree of polymerization of 2600 and a degree of saponification of 99.9% is placed on one side of an amorphous polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Chemical Holdings Group, product name "Nova Clear", thickness 100 μm) with a water absorption of 0.60% and a Tg of 80°C. An aqueous solution of alcohol (PVA) resin (manufactured by Nippon Kosei Chemical Co., Ltd., product name “Gosenol (registered trademark) NH-26”) is applied at 60°C and dried to form a PVA-based resin layer with a thickness of 7 μm. Thus, a laminate was prepared.

얻어진 적층체를 120℃의 오븐 내에서 주속이 상이한 롤 사이에서 세로 방향(긴 변 방향)으로 2배로 1축 연신하고, 이어서 액온 30℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시키고, 이어서 액온 30℃의 염색욕(물 100중량부에 대하여 요오드를 0.2중량부 배합하고, 요오드화 칼륨을 2중량부 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에 60초간 침지시키고, 이어서 액온 30℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 3중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시키고, 그 후, 적층체를, 액온 60℃의 붕산 수용액(물 100중량부에 대하여 붕산을 4중량부 배합하고, 요오드화 칼륨을 5중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시키면서, 주속이 상이한 롤 사이에서 세로 방향(긴 변 방향)으로 1축 연신을 행하였다.　붕산 수용액에의 침지 시간은 120초이며, 적층체가 파단되기 직전까지 연신하였다.The obtained laminate was uniaxially stretched twice in the longitudinal direction (long side direction) between rolls with different peripheral speeds in an oven at 120°C, and then placed in an insolubilizing bath at a liquid temperature of 30°C (4 parts by weight of boric acid per 100 parts by weight of water). immersed in a dyeing bath with a temperature of 30°C (an aqueous solution of iodine obtained by mixing 0.2 parts by weight of iodine and 2 parts by weight of potassium iodide per 100 parts by weight of water) for 30 seconds. and then immersed in a crosslinking bath (boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide and 3 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30°C for 30 seconds, and then the laminate was placed in a crosslinking bath at a liquid temperature of 30°C. While immersed in a 60°C aqueous solution of boric acid (an aqueous solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid and 5 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water), rolls with different peripheral speeds are rolled in the vertical direction (long side direction). Axial stretching was performed. The immersion time in the boric acid aqueous solution was 120 seconds, and the laminate was stretched until just before fracture.

그 후, 적층체를 세정욕(물 100중량에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시킨 후, 60℃의 온풍으로 건조시켰다.Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (an aqueous solution obtained by mixing 3 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 weight of water) and then dried with warm air at 60°C.

이와 같이 하여, 열가소성 수지 기재 상에 박형 편광막이 형성된 최대 연신 배율 6.5배의 광학 필름 적층체를 얻었다.　여기서, 「최대 연신 배율」이란, 적층체가 파단되기 직전의 연신 배율을 말하고, 별도, 적층체가 파단되는 연신 배율을 확인하고, 그 값보다 0.2 낮은 값을 「최대 연신 배율」로 하였다.In this way, an optical film laminate was obtained with a maximum stretching ratio of 6.5 and a thin polarizing film formed on a thermoplastic resin substrate. Here, the “maximum stretch ratio” refers to the stretch ratio just before the laminated body breaks. Separately, the stretch ratio at which the laminated body breaks was confirmed, and a value 0.2 lower than that value was set as the “maximum stretch ratio.”

마지막으로, 얻어진 광학 필름 적층체로부터 열가소성 수지 기재를 박리에 의해 취출하여, 기재 (1)로 하였다.Finally, the thermoplastic resin base material was taken out from the obtained optical film laminate by peeling, and was used as base material (1).

사용한 기재 (1)의 두께는 40㎛, 정면 위상차 R0은 668nm였다.The thickness of the substrate (1) used was 40 μm, and the front phase difference R0 was 668 nm.

[제조예 4][Production Example 4]

<기재 (2)의 준비><Preparation of description (2)>

제조예 3에서 얻어진 기재 (1)을 4매 적층하여, 기재 (2)로 하였다.　기재의 적층의 방향은, 기재의 지상축 방향이 최대한 일치하도록 적층하였다.Four sheets of substrate (1) obtained in Production Example 3 were laminated to form substrate (2). The direction of stacking of the substrates was such that the slow axis direction of the substrates matched as much as possible.

사용한 기재 (2)의 두께는 242㎛, 정면 위상차 R0은 2769nm였다.The thickness of the substrate (2) used was 242 μm, and the front phase difference R0 was 2769 nm.

[제조예 5][Production Example 5]

<기재 (3)의 준비><Preparation of description (3)>

제조예 3에서 얻어진 기재 (1)을 6매 적층하여, 기재 (3)으로 하였다.　기재의 적층의 방향은, 기재의 지상축 방향이 최대한 일치하도록 적층하였다.Six sheets of substrate (1) obtained in Production Example 3 were laminated to obtain substrate (3). The direction of stacking of the substrates was such that the slow axis direction of the substrates matched as much as possible.

사용한 기재 (3)의 두께는 368㎛, 정면 위상차 R0은 4069nm였다.The thickness of the substrate (3) used was 368 μm, and the front phase difference R0 was 4069 nm.

[제조예 6][Production Example 6]

<기재 (4)의 준비><Preparation of description (4)>

제조예 3에서 얻어진 기재 (1)을 9매 적층하여, 기재 (4)로 하였다.　기재의 적층의 방향은, 기재의 지상축 방향이 최대한 일치하도록 적층하였다.Nine sheets of substrate (1) obtained in Production Example 3 were laminated to form substrate (4). The direction of stacking of the substrates was such that the slow axis direction of the substrates matched as much as possible.

사용한 기재 (4)의 두께는 557㎛, 정면 위상차 R0은 6011nm였다.The thickness of the substrate (4) used was 557 μm, and the front phase difference R0 was 6011 nm.

[제조예 7][Production Example 7]

<기재 (5)의 준비><Preparation of description (5)>

초복굴절 폴리에스테르 필름(도요보 가부시키가이샤제, 상품명 「코스모샤인 SRF-1」, 두께=80㎛)을 기재 (5)로 하였다.A superbirefringent polyester film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., brand name “Cosmoshine SRF-1”, thickness = 80 μm) was used as the substrate (5).

사용한 기재 (5)의 정면 위상차 R0은 8369nm였다.The front phase difference R0 of the used substrate (5) was 8369 nm.

[제조예 8][Production Example 8]

<기재 (6)의 준비><Preparation of description (6)>

결정성 PET 필름(도레이 가부시키가이샤제, 상품명 「XF60R」, 두께=38㎛)을 기재 (6)으로 하였다.　이 기재 (6)은 폭 방향(TD 방향)의 인장 강도와 길이 방향(MD 방향)의 인장 강도의 비(TD/MD)가 1.38이었다.A crystalline PET film (manufactured by Toray Corporation, brand name “XF60R”, thickness = 38 μm) was used as the substrate (6). This substrate (6) had a ratio (TD/MD) of the tensile strength in the width direction (TD direction) to the tensile strength in the longitudinal direction (MD direction) of 1.38.

사용한 기재 (6)으로서는, 마스터 롤로부터의 잘라내는 장소를 바꿈으로써, 정면 위상차 R0이, 1438nm, 1654nm, 1675nm, 1827nm, 1859nm의 5종류의 기재 (6)을 채용하였다.As the used substrate (6), five types of substrates (6) with front retardation R0 of 1438 nm, 1654 nm, 1675 nm, 1827 nm, and 1859 nm were adopted by changing the cutting location from the master roll.

[제조예 9][Production Example 9]

<기재 (7)의 준비><Preparation of description (7)>

폴리에스테르 필름(미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤제, 상품명 「T100C38」, 두께=38㎛)을 기재 (7)로 하였다.A polyester film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, brand name “T100C38”, thickness = 38 μm) was used as the substrate (7).

사용한 기재 (7)의 정면 위상차 R0은 755nm였다.The front phase difference R0 of the used substrate (7) was 755 nm.

[제조예 10][Production Example 10]

<도공액 A의 조정><Adjustment of coating amount A>

비닐기 함유 부가형 실리콘(신에츠 가가쿠 고교사제, 상품명 「KS-847T」, 30％ 톨루엔 용액) 100질량부, 백금 촉매(신에츠 가가쿠 고교사제, 상품명 「CAT-PL-50T」) 3질량부, 희석 용매로서의 톨루엔 15000질량부, 노르말 헥산 1500질량부를 혼합하고, 도공액 A를 조정하였다(일본 특허 공개 제2015-151473호 공보 참조).100 parts by mass of vinyl group-containing addition silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., brand name “KS-847T”, 30% toluene solution), 3 parts by mass of platinum catalyst (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., brand name “CAT-PL-50T”), 15000 parts by mass of toluene and 1500 parts by mass of normal hexane as a diluting solvent were mixed, and the coating solution A was adjusted (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-151473).

[제조예 11][Production Example 11]

<박리 라이너 A의 제작><Production of release liner A>

마이어 바를 사용하여, 도공액 A를, 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(미쓰비시 케미컬 가부시키가이샤제, 상품명 「T100C38」, 두께=38㎛)의 한쪽 면에 도포한 후, 열풍 건조기로 130℃×1분간 가열하여, 박리 라이너 A를 얻었다.　또한, 도공액 A의 도포량은, 고형분으로 0.1g/m²으로 하였다.　또한, 도공액 A의 도포면은 PET 필름의 코로나 처리면으로 하였다.Using a Meyer bar, coating solution A was applied to one side of a 38㎛ thick polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "T100C38", thickness = 38㎛), and then dried with a hot air dryer. It was heated at 130°C for 1 minute to obtain release liner A. In addition, the application amount of Coating Composition A was set to 0.1 g/m ² in terms of solid content. In addition, the surface to which coating solution A was applied was the corona-treated surface of PET film.

[실시예 1][Example 1]

제조예 1에서 얻어진 아크릴계 점착제 1을, 박리 라이너 A의 표면에 도포하고, 건조시켜, 해당 박리 라이너 상에, 두께 10㎛의 점착제층을 형성하였다.　얻어진 점착제층에 제조예 3에서 얻어진 기재 (1)을 접합하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (1)을 얻었다.The acrylic adhesive 1 obtained in Production Example 1 was applied to the surface of the release liner A and dried to form an adhesive layer with a thickness of 10 μm on the release liner. The base material (1) obtained in Production Example 3 was bonded to the obtained adhesive layer, and the surface protection film (1) provided with a release liner was obtained.

다음으로, 편광판(닛토 덴코제, 상품명 「SEG1423DU」)을 180mm×250mm의 사이즈로 잘라내고, 휘도 향상 필름(쓰리엠 재팬 프로덕츠제, 상품명 「APF-V3」)과, 편광판의 흡수축과 휘도 향상 필름의 반사축이 정렬되도록 접합하여, 휘도 향상 필름을 구비한 편광판 (A)로 하였다.Next, a polarizer (manufactured by Nitto Denko, brand name "SEG1423DU") was cut to a size of 180 mm x 250 mm, a brightness improvement film (manufactured by 3M Japan Products, brand name "APF-V3"), the absorption axis of the polarizer, and the brightness improvement film were added. were bonded so that their reflection axes were aligned to obtain a polarizing plate (A) equipped with a brightness enhancing film.

얻어진 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (1)로부터 박리 라이너를 박리하고, 점착제층에 휘도 향상 필름을 구비한 편광판 (A)를 해당 표면 보호 필름 (1)의 기재의 지상축과 해당 편광판의 흡수축이 이루는 각도 중, 90° 이하의 각도, 즉 축 어긋남양이 0°가 되도록, 해당 표면 보호 필름의 점착제층과 해당 휘도 향상 필름을 구비한 편광판의 휘도 향상 필름 측을 접합하여, 광학 적층체 (1)을 얻었다.The release liner is peeled from the obtained surface protection film (1) with a release liner, and a polarizing plate (A) with a brightness improving film in the adhesive layer is applied to the slow axis of the base material of the surface protection film (1) and the absorption of the polarizing plate. An optical laminate is formed by bonding the adhesive layer of the surface protection film and the brightness enhancement film side of the polarizer equipped with the brightness enhancement film so that the angle formed by the axis is 90° or less, that is, the amount of axis deviation is 0°. (1) was obtained.

각종 평가 결과를 표 1에 나타내었다.Various evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 2][Example 2]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (2), 광학 적층체 (2)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 1 was performed to obtain a surface protection film (2) with a release liner and an optical laminate (2).

[실시예 3][Example 3]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (3), 광학 적층체 (3)을 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 30°, the same procedure as in Example 1 was performed to obtain a surface protection film (3) with a release liner and an optical laminate (3).

[실시예 4][Example 4]

제조예 1에서 얻어진 아크릴계 점착제 1을, 제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1438nm인 기재 (6)의 표면에 도포하고, 건조시켜, 해당 기재 (6) 상에 두께 10㎛의 점착제층을 형성하였다.　얻어진 점착제층의 기재 (6)의 반대 측의 표면에 박리 라이너 A를 접합하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (4)를 얻었다.The acrylic adhesive 1 obtained in Production Example 1 was applied to the surface of the substrate 6 obtained in Production Example 8 and had a front retardation R0 of 1438 nm, and dried to form an adhesive layer with a thickness of 10 μm on the substrate 6. . The release liner A was bonded to the surface of the obtained adhesive layer on the opposite side of the base material (6) to obtain a surface protection film (4) with a release liner.

얻어진 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (4)로부터 박리 라이너를 박리하고, 점착제층에 휘도 향상 필름을 구비한 편광판 (A)를 해당 표면 보호 필름의 기재의 지상축과 해당 편광판의 흡수축이 이루는 각도 중, 90° 이하의 각도, 즉 축 어긋남양이 0°가 되도록 접합하여, 광학 적층체 (4)를 얻었다.The release liner is peeled from the obtained surface protection film with a release liner (4), and a polarizing plate (A) with a brightness improving film on the adhesive layer is placed at the position formed by the slow axis of the base material of the surface protection film and the absorption axis of the polarizing plate. Among the angles, the optical laminate (4) was obtained by joining so that the angle was 90° or less, that is, the amount of axis deviation was 0°.

[실시예 5][Example 5]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (5), 광학 적층체 (5)를 얻었다.Except that the amount of axial misalignment was changed to 15°, the same procedure as in Example 4 was performed to obtain a surface protection film (5) with a release liner and an optical laminate (5).

[실시예 6][Example 6]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (6), 광학 적층체 (6)을 얻었다.Except that the amount of axial misalignment was changed to 30°, the same procedure as in Example 4 was performed to obtain a surface protection film (6) with a release liner and an optical laminate (6).

[실시예 7][Example 7]

제조예 1에서 얻어진 아크릴계 점착제 1 대신에, 제조예 2에서 얻어진 아크릴계 점착제 2를 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (7), 광학 적층체 (7)을 얻었다.Except that the acrylic adhesive 2 obtained in Production Example 2 was used instead of the acrylic adhesive 1 obtained in Production Example 1, in the same manner as in Example 4, a surface protection film (7) with a release liner and an optical laminate (7) were produced. got it

[실시예 8][Example 8]

제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1438nm인 기재 (6) 대신에, 제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1675nm인 기재 (6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (8), 광학 적층체 (8)을 얻었다.The same procedure as in Example 4 was carried out, except that instead of the base material (6) having a front retardation R0 of 1438 nm obtained in Production Example 8, the base material (6) having a front retardation R0 of 1675 nm obtained in Production Example 8 was used, and a release liner was provided. A surface protection film (8) and an optical laminate (8) were obtained.

[실시예 9][Example 9]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 8과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (9), 광학 적층체 (9)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 8 was performed to obtain a surface protection film (9) with a release liner and an optical laminate (9).

[실시예 10][Example 10]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 8과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (10), 광학 적층체 (10)을 얻었다.Except that the amount of axial deviation was changed to 30°, the same procedure as in Example 8 was performed to obtain a surface protection film (10) with a release liner and an optical laminate (10).

[실시예 11][Example 11]

제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1438nm인 기재 (6) 대신에, 제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1654nm인 기재 (6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (11), 광학 적층체 (11)을 얻었다.The same procedure as in Example 4 was carried out, except that the substrate (6) having a front retardation R0 of 1654 nm obtained in Production Example 8 was used instead of the substrate (6) having a front retardation R0 of 1438 nm obtained in Production Example 8, and a release liner was provided. A surface protection film (11) and an optical laminate (11) were obtained.

[실시예 12][Example 12]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 11과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (12), 광학 적층체 (12)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 11 was performed to obtain a surface protection film (12) with a release liner and an optical laminate (12).

[실시예 13][Example 13]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 11과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (13), 광학 적층체 (13)을 얻었다.Except that the amount of axial misalignment was changed to 30°, the same procedure as in Example 11 was performed to obtain a surface protection film (13) with a release liner and an optical laminate (13).

[실시예 14][Example 14]

제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1438nm인 기재 (6) 대신에, 제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1859nm인 기재 (6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (14), 광학 적층체 (14)를 얻었다.The same procedure as in Example 4 was carried out, except that instead of the base material (6) having a front retardation R0 of 1438 nm obtained in Production Example 8, the base material (6) having a front retardation R0 of 1859 nm obtained in Production Example 8 was used, and a release liner was provided. A surface protection film (14) and an optical laminate (14) were obtained.

[실시예 15][Example 15]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 14와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (15), 광학 적층체 (15)를 얻었다.Except that the amount of axial deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 14 was performed to obtain a surface protection film (15) with a release liner and an optical laminate (15).

[실시예 16][Example 16]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 14와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (16), 광학 적층체 (16)을 얻었다.Except that the amount of axial misalignment was changed to 30°, the same procedure as in Example 14 was performed to obtain a surface protection film (16) with a release liner and an optical laminate (16).

[실시예 17][Example 17]

제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1438nm인 기재 (6) 대신에, 제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1827nm인 기재 (6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (17), 광학 적층체 (17)을 얻었다.The same procedure as in Example 4 was carried out, except that instead of the base material (6) having a front retardation R0 of 1438 nm obtained in Production Example 8, the base material (6) having a front retardation R0 of 1827 nm obtained in Production Example 8 was used, and a release liner was provided. A surface protection film (17) and an optical laminate (17) were obtained.

[실시예 18][Example 18]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 17과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (18), 광학 적층체 (18)을 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 17 was performed to obtain a surface protection film (18) with a release liner and an optical laminate (18).

[실시예 19][Example 19]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 17과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (19), 광학 적층체 (19)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 30°, the same procedure as in Example 17 was performed to obtain a surface protection film (19) with a release liner and an optical laminate (19).

[실시예 20][Example 20]

제조예 3에서 얻어진 기재 (1) 대신에, 제조예 5에서 얻어진 기재 (3)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (20), 광학 적층체 (20)을 얻었다.Except that the base material (3) obtained in Production Example 5 was used instead of the base material (1) obtained in Production Example 3, the same procedure was performed as in Example 1, and a surface protection film (20) with a release liner and an optical laminate (20) were produced. ) was obtained.

[실시예 21][Example 21]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 20과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (21), 광학 적층체 (21)을 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 20 was performed to obtain a surface protection film (21) with a release liner and an optical laminate (21).

[실시예 22][Example 22]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 20과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (22), 광학 적층체 (22)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 30°, the same procedure as in Example 20 was performed to obtain a surface protection film (22) with a release liner and an optical laminate (22).

[실시예 23][Example 23]

제조예 3에서 얻어진 기재 (1) 대신에, 제조예 6에서 얻어진 기재 (4)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름(23), 광학 적층체 (23)을 얻었다.Except that the base material (4) obtained in Production Example 6 was used instead of the base material (1) obtained in Production Example 3, the same procedure was performed as in Example 1, and a surface protection film (23) with a release liner and an optical laminate (23) were produced. ) was obtained.

[실시예 24][Example 24]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 23과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (24), 광학 적층체 (24)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 23 was performed to obtain a surface protection film (24) with a release liner and an optical laminate (24).

[실시예 25][Example 25]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 23과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (25), 광학 적층체 (25)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 30°, the same procedure as in Example 23 was performed to obtain a surface protection film (25) with a release liner and an optical laminate (25).

[실시예 26][Example 26]

제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1438nm인 기재 (6) 대신에, 제조예 7에서 얻어진 기재 (5)를 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (26), 광학 적층체 (26)을 얻었다.A surface protection film (26) with a release liner was produced in the same manner as in Example 4, except that the base material (5) obtained in Production Example 7 was used instead of the base material (6) having a front retardation R0 of 1438 nm obtained in Production Example 8. , an optical laminate (26) was obtained.

[실시예 27][Example 27]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 실시예 26과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (27), 광학 적층체 (27)을 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Example 26 was performed to obtain a surface protection film (27) with a release liner and an optical laminate (27).

[실시예 28][Example 28]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 실시예 26과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (28), 광학 적층체 (28)을 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 30°, the same procedure as in Example 26 was performed to obtain a surface protection film (28) with a release liner and an optical laminate (28).

[실시예 29][Example 29]

제조예 1에서 얻어진 아크릴계 점착제 1 대신에, 제조예 2에서 얻어진 아크릴계 점착제 2를 사용한 것 이외에는, 실시예 26과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (29), 광학 적층체 (29)를 얻었다.Except that the acrylic adhesive 2 obtained in Production Example 2 was used instead of the acrylic adhesive 1 obtained in Production Example 1, in the same manner as in Example 26, a surface protection film 29 with a release liner and an optical laminate 29 were prepared. got it

[비교예 1][Comparative Example 1]

제조예 3에서 얻어진 기재 (1) 대신에, 제조예 4에서 얻어진 기재 (2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C1), 광학 적층체 (C1)을 얻었다.Except that the base material (2) obtained in Production Example 4 was used instead of the base material (1) obtained in Production Example 3, the same procedure was performed as in Example 1, and a surface protection film (C1) with a release liner and an optical laminate (C1) were produced. ) was obtained.

[비교예 2][Comparative Example 2]

축 어긋남양을 15°로 변경한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C2), 광학 적층체 (C2)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 15°, the same procedure as in Comparative Example 1 was performed to obtain a surface protection film (C2) with a release liner and an optical laminated body (C2).

[비교예 3][Comparative Example 3]

축 어긋남양을 30°로 변경한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C3), 광학 적층체 (C3)을 얻었다.Except that the amount of axial deviation was changed to 30°, the same procedure as in Comparative Example 1 was performed to obtain a surface protection film (C3) with a release liner and an optical laminated body (C3).

[비교예 4][Comparative Example 4]

축 어긋남양을 45°로 변경한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C4), 광학 적층체 (C4)를 얻었다.Except that the amount of axis deviation was changed to 45°, the same procedure as in Comparative Example 1 was performed to obtain a surface protection film (C4) with a release liner and an optical laminated body (C4).

[비교예 5][Comparative Example 5]

축 어긋남양을 45°로 변경한 것 이외에는, 실시예 20과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C5), 광학 적층체 (C5)를 얻었다.Except that the amount of axial misalignment was changed to 45°, the same procedure as in Example 20 was performed to obtain a surface protection film with a release liner (C5) and an optical laminated body (C5).

[비교예 6][Comparative Example 6]

제조예 3에서 얻어진 기재 (1) 대신에, 제조예 9에서 얻어진 기재 (7)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C6), 광학 적층체 (C6)을 얻었다.Except that the base material (7) obtained in Production Example 9 was used instead of the base material (1) obtained in Production Example 3, the same procedure was performed as in Example 1, and a surface protection film with a release liner (C6) and an optical laminate (C6) were produced. ) was obtained.

[비교예 7][Comparative Example 7]

제조예 8에서 얻어진 정면 위상차 R0이 1438nm인 기재 (6) 대신에, 제조예 9에서 얻어진 기재 (7)를 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C7), 광학 적층체 (C7)을 얻었다.A surface protection film (C7) with a release liner was produced in the same manner as in Example 4, except that the base material (7) obtained in Production Example 9 was used instead of the base material (6) having a front retardation R0 of 1438 nm obtained in Production Example 8. , an optical laminate (C7) was obtained.

[비교예 8][Comparative Example 8]

제조예 1에서 얻어진 아크릴계 점착제 1 대신에, 제조예 2에서 얻어진 아크릴계 점착제 2를 사용한 것 이외에는, 비교예 7과 마찬가지로 행하여, 박리 라이너를 구비한 표면 보호 필름 (C8), 광학 적층체 (C8)을 얻었다.Except that the acrylic adhesive 2 obtained in Production Example 2 was used instead of the acrylic adhesive 1 obtained in Production Example 1, the same procedure was carried out as in Comparative Example 7, and a surface protection film (C8) with a release liner and an optical laminate (C8) were prepared. got it

본 발명의 광학 적층체는, 임의의 적절한 용도로 사용할 수 있다.　바람직하게는, 본 발명의 광학 적층체는, 광학 부재나 전자 부재의 분야에 있어서 바람직하게 사용된다.The optical laminate of the present invention can be used for any suitable purpose. Preferably, the optical laminated body of the present invention is suitably used in the fields of optical members and electronic members.

Claims

표면 보호 필름과 광학 부재를 포함하는 광학 적층체이며,
해당 표면 보호 필름은, 기재와 점착제층을 갖고,
해당 광학 부재는 편광판을 갖고,
해당 표면 보호 필름의 정면 위상차 R0이, R0≤2500nm 또는 R0≥3000nm이고,
해당 편광판의 흡수축과 해당 표면 보호 필름이 갖는 기재의 지상축이 이루는 각도가 30° 이하인,
광학 적층체.It is an optical laminate including a surface protective film and an optical member,
The surface protection film has a base material and an adhesive layer,
The optical member has a polarizing plate,
The front phase difference R0 of the surface protection film is R0≤2500nm or R0≥3000nm,
The angle between the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis of the base material of the surface protection film is 30° or less,
Optical laminate.

제1항에 있어서,
상기 광학 적층체의 RGB 표준 편차가 9.50 이하인, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate wherein the RGB standard deviation of the optical laminate is 9.50 or less.

제1항에 있어서,
상기 광학 적층체의 색 분산 엔트로피 S_CD가 2.52×10^-14 이상인, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate wherein the color dispersion entropy S _CD of the optical laminate is 2.52×10 ^-14 or more.