KR20230113849A - 점착제 시트 및 점착제층 부착 필름 - Google Patents

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아이 고바시
유지 아사츠
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

자외선 및 파장 405 nm 부근의 단파장의 가시광에 대한 높은 흡수 선택성을 나타내는 것에 의해, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선에 의한 열화에 관해 양호한 억제 기능을 갖는 점착제 시트를 제공한다. 적어도 (메트)아크릴계 수지 및 광선택 흡수 화합물을 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제층이며, 하기 식 (1) 및 (2)를 만족시키는 점착제 시트.
A(350)≥0.5 (1)
A(405)≥0.5 (2)
[식 (1) 중, A(350)은 파장 350 nm에서의 흡광도를 나타낸다. 식 (2) 중, A(405)는 파장 405 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]

Description

점착제 시트 및 점착제층 부착 필름{ADHESIVE SHEET AND FILM WITH ADHESIVE LAYER}
본 발명은, 점착제 시트 및 상기 점착제 시트를 이용한 점착제층 부착 필름에 관한 것이다.
유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD : 플랫 패널 디스플레이)에는, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자나 편광판 등의 광학 필름 등 여러가지 부재가 이용되고 있다. 이들 부재에 이용되는 유기 EL 화합물 및 액정 화합물 등은 유기물이기 때문에, 자외선(UV)에 의한 열화가 문제가 되기 쉽다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 예컨대, 특허문헌 1에는 370 nm 이하의 파장 영역의 자외선 흡수 성능이 우수한 자외선 흡수제를 편광판의 보호 필름에 첨가한 편광판이 기재되어 있다.
특허문헌 1 : 일본 특허 공개 제2006-308936호 공보
또한, 최근의 표시 장치의 박형화가 진행되는 가운데, 중합성 액정 화합물을 배향ㆍ광경화시켜 이루어진 액정계 위상차 필름의 개발이 진행되고 있다. 이들 액정계 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자는 자외선에 의한 열화만이 아니라, 400 nm 부근의 단파장의 가시광에서도 열화하는 경향이 있는 것이 밝혀졌다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 편광판은, 370 nm 이하의 파장 영역의 자외선 흡수 성능이 우수하더라도, 400 nm 부근의 가시광의 흡수 성능이 낮고, 액정계 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 열화 억제가 충분하지 않은 경우가 있었다. 또한, 최근의 표시 장치에서는 보다 양호한 표시 특성이 요구되고 있다.
본 발명은, 자외선 및 파장 405 nm 부근의 단파장의 가시광에 대한 높은 흡수 선택성을 나타내는 것에 의해, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화에 관해 양호한 억제 기능을 갖는 점착제 시트를 제공하는 것이다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] (메트)아크릴계 수지(A) 및 광선택 흡수 화합물을 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제 시트로서, 하기 식 (1) 및 (2)를 만족시키는 점착제 시트.
A(350)≥0.5 (1)
A(405)≥0.5 (2)
[식 (1) 중, A(350)은 파장 350 nm에서의 흡광도를 나타낸다. 식 (2) 중, A(405)는 파장 405 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
[2] 하기 식 (3)을 더 만족시키는 [1]에 기재된 점착제 시트.
A(440)≤0.1 (3)
[식 (3) 중, A(440)은 파장 440 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
[3] 하기 식 (4)를 더 만족시키는 [1]에 기재된 점착제 시트.
A(405)/A(440)>5 (4)
[식 (4) 중, A(405)는 파장 405 nm에서의 흡광도를 나타내고, A(440)은 파장 440 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
[4] 광선택 흡수 화합물이, 파장 350 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물과 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 점착제 시트.
[5] 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 식 (5)를 만족시키는 화합물인 [4]에 기재된 점착제 시트.
ε(405)≥20 (5)
[식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 nm에서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(gㆍcm)이다.]
[6] 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 식 (6)을 만족시키는 화합물인 [5]에 기재된 점착제 시트.
ε(405)/ε(440)≥20 (6)
[식 (6) 중, ε(405)는 파장 405 nm에서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 nm에서의 그램 흡광도 계수를 나타낸다.]
[7] 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이, 분자 내에 메로시아닌 구조를 갖는 화합물인 [4]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 점착제 시트.
[8] 점착제 조성물이 가교제를 더 포함하는 [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 점착제 시트.
[9] 가교제(B)의 함유량이, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여 0.01∼15 질량부인 [8]에 기재된 점착제 시트.
[10] 광선택 흡수 화합물의 함유량이, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여 0.01∼20 질량부인 [1]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 점착제 시트.
[11] 점착제 시트의 적어도 한쪽의 면에 광학 필름을 적층시켜 이루어진 [1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 점착제층 부착 광학 필름.
[12] 광학 필름은 편광판인 [11]에 기재된 점착제층 부착 편광판.
[13] [11] 또는 [12] 중 어느 하나에 기재된 점착제 부착 광학 필름을 포함하는 표시 장치.
본 발명의 점착제 시트는, 자외선 및 405 nm 부근의 단파장의 가시광에 대한 높은 흡수 선택성을 나타내는 것에 의해, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선에 의한 열화에 관해 양호한 억제 기능을 갖는다. 또한, 본 발명의 점착제 시트는, 내후성 시험후에도 파장 405 nm 부근의 단파장의 가시광에 대한 높은 흡수 선택성을 나타내고, 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화의 억제를 유지할 수 있다. 본 발명의 점착제 시트를 표시 장치에 이용한 경우에는 양호한 표시 특성과 내구성을 부여할 수 있다.
도 1은 본 발명의 점착제 시트의 층구성의 일례를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 점착제 시트를 포함하는 광학 적층체의 층구성의 일례를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 점착제 시트를 포함하는 광학 적층체의 층구성의 일례를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 점착제 시트를 포함하는 광학 적층체의 층구성의 일례를 나타낸다.
본 발명의 점착제 시트는, (메트)아크릴계 수지(A) 및 광선택 흡수 화합물을 포함하는 점착제 조성물로 성형되고, 또한 하기 식 (1) 및 (2)를 만족시킨다.
A(350)≥0.5 (1)
A(405)≥0.5 (2)
[식 (1) 중, A(350)은 파장 350 nm에서의 흡광도를 나타낸다. 식 (2) 중, A(405)는 파장 405 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
A(350)의 값이 클수록 파장 350 nm에서의 흡수가 높은 것을 나타낸다. A(350)의 값이 0.5 미만이면, 파장 350 nm에서의 흡수가 낮고, 자외선에서의 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 열화를 억제하는 효과가 작다. A(350)의 값은, 바람직하게는 0.5 이상이며, 보다 바람직하게는 0.8 이상이며, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다.
A(405)의 값이 클수록 파장 405 nm에서의 흡수가 높은 것을 나타낸다. A(405)의 값이 0.5 미만이면, 파장 405 nm에서의 흡수가 낮고, 자외선 또는 단파장의 가시광에서의 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 열화를 억제하는 효과가 작다. A(405)의 값은, 바람직하게는 0.6 이상이며, 보다 바람직하게는 0.8 이상이며, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다. 상한은 특별히 제한은 없지만, 통상은 10 이하이다.
본 발명의 점착제 시트는, 또한 하기 식 (3) 및 식 (4) 중 어느 하나를 만족시키는 것이 바람직하고, 하기 식 (3) 및 식 (4)를 모두 만족시키는 것이 보다 바람직하다.
A(440)≤0.1 (3)
[식 (3) 중, A(440)은 파장 440 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
A(405)/A(440)≥5 (4)
[식 (4) 중, A(405)는 파장 405 nm에서의 흡광도를 나타내고, A(440)은 파장 440 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
A(440)의 값이 작을수록 파장 440 nm에서의 흡수가 낮은 것을 나타내고, A(440)의 값이 0.1을 넘으면, 표시 장치에서의 양호한 색채 표현을 손상하는 경향이 있다. 또한 표시 장치의 발광을 저해하기 때문에, 휘도도 저하되어 버린다. A(440)의 값은, 바람직하게는 0.05 이하이며, 보다 바람직하게는 0.04 이하이며, 특히 바람직하게는 0.03이다. 하한은 특별히 없지만, 통상은 0.00001 이상이다.
A(405)/A(440)의 값은, 파장 440 nm에서의 흡수의 크기에 대한 파장 405 nm의 흡수의 크기를 나타내고, 이 값이 클수록 본 발명의 점착제 시트는 405 nm 부근의 파장 영역에 특이적인 흡수가 있는 것을 나타낸다. A(405)/A(440)의 값은 10 이상인 것이 바람직하고, 30 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 60 이상이다.
본 발명의 점착제층은, 적어도 (메트)아크릴계 수지 및 광선택 흡수 화합물을 포함하는 점착제 조성물로 형성된다.
점착제 조성물은, 또한 가교제를 포함하는 것이 바람직하다.
광선택 흡수 화합물은, 파장 350 nm의 광 또는 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이라면 특별히 한정되지 않는다. 광선택 흡수 화합물은, 파장 350 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물과 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
파장 350 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물(이하, 광선택 흡수 화합물 (A)라고 하는 경우가 있음)로는, 예컨대 자외선 흡수제를 들 수 있다. 자외선 흡수제로는 특별히 한정되지 않지만, 예컨대, 옥시벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 살리실산에스테르계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 트리아진계 자외선 흡수제 등의 유기계 자외선 흡수제를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 예컨대, 5-클로로-2-(3,5-디-sec-부틸-2-히드록실페닐)-2H-벤조트리아졸, (2-2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(직쇄 및 측쇄 도데실)-4-메틸페놀, 2-히드록시-4-벤질옥시벤조페논, 2,4-벤질옥시벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 유기계 자외선 흡수제는 1종류 또는 2종류 이상을 병용해도 좋다.
자외선 흡수제는, 시판품을 이용해도 좋으며, 예컨대 트리아진계 자외선 흡수제로서, 케미프로 화성 주식회사 제조의 「Kemisorb 102」, 주식회사 ADEKA 제조의 「아데카스타브 LA46」, 「아데카스타브 LAF70」, BASF 재팬사 제조의 「티누빈 109」, 「티누빈 171」, 「티누빈 234」, 「티누빈 326」, 「티누빈 327」, 「티누빈 328」, 「티누빈 928」, 「티누빈 400」, 「티누빈 460」, 「티누빈 405」, 「티누빈 477」 등을 들 수 있다. 벤조트리아졸계 자외선 흡수제로는, 주식회사 ADEKA 제조의 「아데카스타브 LA31」 및 「아데카스타브 LA36」, 스미카켐텍스 주식회사 제조의 「스미소브 200」, 「스미소브 250」, 「스미소브 300」, 「스미소브 340」 및 「스미소브 350」, 케미프로 화성 주식회사 제조의 「Kemisorb 74」, 「Kemisorb 79」 및 「Kemisorb 279」, BASF사 제조의 「TINUVIN 99-2」, 「TINUVIN 900」 및 「TINUVIN 928」 등을 들 수 있다.
또한, 자외선 흡수제는 무기계 자외선 흡수제이어도 좋다. 무기계 자외선 흡수제로는, 산화티탄, 산화아연, 산화인듐, 산화주석, 탈크, 카올린, 탄산칼슘, 산화티탄계 복합 산화물, 산화아연계 복합 산화물, ITO(주석 도핑 산화인듐), ATO(안티몬 도핑 산화주석) 등을 들 수 있다. 산화티탄계 복합 산화물로는, 예컨대, 실리카, 알루미나를 도핑한 산화아연 등을 들 수 있다. 이들 무기계 자외선 흡수제는 1종류, 또는, 2종류 이상 병용하여 이용할 수 있다. 또한, 유기계 자외선 흡수제와 무기계 자외선 흡수제를 병용해도 상관없다.
파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물(이하, 광선택 흡수 화합물 (B)라고 하는 경우가 있음)로는, 하기 식 (5)를 만족시키는 화합물인 것이 바람직하고, 또한 하기 식 (6)을 만족시키는 화합물인 것이 보다 바람직하다.
ε(405)≥20 (5)
[식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 nm에서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(gㆍcm)이다.]
ε(405)/ε(440)≥20 (6)
[식 (6) 중, ε(405)는 파장 405 nm에서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 nm에서의 그램 흡광도 계수를 나타낸다.]
또, 그램 흡광도 계수는, 실시예에 기재된 방법으로 측정한다.
ε(405)의 값이 큰 화합물일수록 파장 405 nm의 광을 흡수하기 쉽고, 자외선 또는 단파장의 가시광에서의 위상차 필름의 열화를 억제한다. ε(405)의 값이 20 L/(gㆍcm) 미만이면, 점착제 조성물 중에서의 광선택 흡수 화합물 (B)의 함유량을 증대시키지 않으면, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 어려운 경향이 있다. 광선택 흡수 화합물 (B)의 함유량이 증대되면, 광선택 흡수 화합물 (B)가 블리드아웃 또는 불균일하게 분산되어 버려, 광흡수 기능이 불충분해지는 경우가 있다. ε(405)의 값은 20 L/(gㆍcm) 이상인 것이 바람직하고, 30 L/(gㆍcm) 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 L/(gㆍcm) 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 통상 500 L/(gㆍcm) 이하이다.
ε(405)/ε(440)의 값이 큰 화합물일수록, 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고, 405 nm 부근의 광을 흡수하여 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광열화를 억제할 수 있다. ε(405)/ε(440)의 값은 20 이상이 바람직하고, 40 이상이 보다 바람직하고, 70 이상이 보다 더 바람직하고, 80 이상이 특히 바람직하다.
파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물은, 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물인 것이 바람직하다. 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물로는, -(N-C=C-C=C)-로 표시되는 부분 구조를 분자 내에 함유하고 있는 화합물이며, 예컨대, 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물, 인돌계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물 등을 들 수 있고, 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물 및 벤조트리아졸계 화합물인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 식 (I)로 표시되는 화합물이다.
[식 중, R1 및 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 7∼15의 아랄킬기, 탄소수 6∼15의 아릴기, 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH2-는 -NR1A-, -CO-, -SO2-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.
R1A는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼6의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 -CH2-는 -NR1B-, -CO-, -SO2-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.
R1B는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R6 및 R7은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기 또는 전자 흡인성기를 나타내거나, R6 및 R7이 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋다.
R1 및 R2는 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋고, R2 및 R3은 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋고, R2 및 R4는 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋고, R3 및 R6은 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋다.]
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 2-시아노프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 1-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, n-옥틸기, n-데실, 2-헥실-옥틸기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는, 이하의 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.
군 A : 니트로기, 히드록시기, 카르복시기, 술포기, 시아노기, 아미노기, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼12의 알킬실릴기, 탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기, *-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1 및 Ra2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타내고, Ra3은 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, s1은 1∼3의 정수를 나타낸다.)로 표시되는 기 등을 들 수 있다.
탄소수 1∼12의 알킬실릴기로는, 메틸실릴기, 에틸실릴, 프로필실릴기 등의 모노알킬실릴기; 디메틸실릴기, 디에틸실릴기, 메틸에틸실릴기 등의 디알킬실릴기; 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리프로필실릴기 등의 트리알킬실릴기를 들 수 있다.
탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기로는, 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기 등을 들 수 있다.
할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기로는, 벤질기, 페닐에틸기 등을 들 수 있다. 아랄킬기에 포함되는 -CH2-가 -SO2- 또는 -COO-로 치환된 기로는 2-페닐아세트산에틸기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 아릴기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 아릴기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 복소환기로는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.
R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로는, R1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등 탄소수 6∼15의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 복소환으로는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 복소환이 갖고 있어도 좋은 치환기로는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로는, R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로는, R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 전자 흡인성기로는, 예컨대, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 알킬기, 식 (I-1)로 표시되는 기를 들 수 있다.
[식 중, R11은, 수소 원자 또는 탄소수 1∼25의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 메틸렌기의 적어도 하나는 산소 원자로 치환되어 있어도 좋다.
X1은, -CO-, -COO-, -OCO-, -CS-, -CSO-, -CSS-, -NR12CO- 또는 -CONR13-를 나타낸다.
R12 및 R13은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.]
할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
할로겐 원자로 치환된 알킬기로는, 예컨대, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로 sec-부틸기, 퍼플루오로 tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등의 퍼플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로 치환된 알킬기의 탄소수로는, 통상 1∼25이다.
R6 및 R7은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있어도 좋고, R6 및 R7로 형성되는 고리 구조로는, 예컨대, 멜드럼산 구조, 바르비투르산 구조, 디메돈 구조 등을 들 수 있다.
R11로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로는, R1 및 R5로 표시되는 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R2 및 R3이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로는, R2와 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 함질소 고리 구조이며, 예컨대, 4∼14 원환의 함질소 복소환을 들 수 있다. R2 및 R3이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고 다환이어도 좋다. 구체적으로는, 피롤리딘 고리, 피롤린 고리, 이미다졸리딘 고리, 이미다졸린 고리, 옥사졸린 고리, 티아졸린 고리, 피페리딘 고리, 모르폴린 고리, 피페라진 고리, 인돌 고리, 이소인돌 고리 등을 들 수 있다.
R1 및 R2가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로는, R1 및 R2가 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 함질소 고리 구조이며, 예컨대, 4∼14 원환(바람직하게는 4∼8 원환)의 함질소 복소환을 들 수 있다. R1 및 R2가 서로 연결하여 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고 다환이어도 좋다. 구체적으로는, R2 및 R3이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조와 동일한 것을 들 수 있다.
R2 및 R4가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로는, 4∼14 원환의 함질소 고리 구조를 들 수 있고, 5 원환∼9 원환의 함질소 고리 구조가 바람직하다. R2 및 R4가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고 다환이어도 좋다. 이들 고리는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 이러한 고리 구조로는, 상기 R2와 R3에 의해 형성되는 고리 구조로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
R3 및 R6이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조로는, R3-C=C-C=C-R6이 고리의 골격을 형성하는 고리 구조이다. 예컨대, 페닐기 등을 들 수 있다.
R2와 R3이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 식 (I)로 표시되는 화합물로는, 식 (I-A)로 표시되는 화합물을 들 수 있고, R2 및 R4가 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 식 (I)로 표시되는 화합물로는, 식 (I-B)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
[식 (I-A), 식 (I-B) 중, R1, R3, R4, R5, R6 및 R7은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
고리 W1 및 고리 W2는, 각각 독립적으로 함질소 고리를 나타낸다.]
고리 W1 및 W2는, 고리의 구성 단위로서 질소 원자를 함유하는 함질소 고리를 나타낸다. 고리 W1 및 W2는, 각각 독립적으로 단환이어도 좋고 다환이어도 좋으며, 질소 이외의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다. 고리 W1 및 W2는, 각각 독립적으로 5 원환∼9 원환의 고리인 것이 바람직하다.
식 (I-A)로 표시되는 화합물은, 식 (I-A-1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
[식 (I-A) 중, R1, R4, R5, R6 및 R7은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
A1은, -CH2-, -O-, -S- 또는 -NR1D-를 나타낸다.
R14 및 R15는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.
R1D는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.]
식 (I-B)로 표시되는 화합물은, 식 (I-B-1)로 표시되는 화합물 및 식 (I-B-2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
[식 (I-B-1) 중, R1, R6 및 R7은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R16은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기, 아릴기를 나타낸다.]
[식 (I-B-2) 중, R3, R5, R6 및 R7은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R30은, 수소 원자, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 머캅토기, 아미노기, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 2∼13의 아실기, 탄소수 2∼13의 아실옥시기 또는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기를 나타낸다.
R31은, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 머캅토기, 탄소수 1∼12의 알킬티오기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기 또는 복소환기를 나타낸다.]
R30으로 표시되는 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실기로는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실옥시기로는, 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, 프로필카르보닐옥시기, 부틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기로는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼18의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼18의 아랄킬기를 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로는, R14로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜톡시기 등을 들 수 있다.
R30은, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 아미노기 또는 머캅토기인 것이 바람직하다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로는, R14로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기로는, R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기와 동일한 것을 들 수 있다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬티오기로는, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등을 들 수 있다.
R31로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기로는, 아미노기; N-메틸아미노기, N-에틸아미노기 등의 하나의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-메틸에틸아미노기 등의 2개의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; 등을 들 수 있다.
R31로 표시되는 복소환으로는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 모르폴리닐기 등의 탄소수 4∼9의 함질소 복소환기 등을 들 수 있다.
R3 및 R6이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고, 또한 R2 및 R4가 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (I)로 표시되는 화합물로는, 식 (I-C)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
[식 (I-C) 중, R1, R6 및 R7은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R21, R22는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 히드록시기를 나타낸다.
X2 및 X3은, 각각 독립적으로, -CH2- 또는 -N(R25)=를 나타낸다.
R25는, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기를 나타낸다.]
R25로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로는, R1로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R25로 표시되는 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기: 벤질기, 페닐에틸기 등의 아랄킬기: 비페닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다. R25로 표시되는 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는, 히드록시기 등을 들 수 있다.
R3 및 R6은, 각각 독립적으로 전자 흡인성기인 것이 바람직하다.
R1 및 R2가 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고, 또한 R3 및 R6이 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (I)로 표시되는 화합물로는, 식 (I-D)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
[식 (I-D) 중, R4, R5, R7은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R25, R26, R27 및 R28은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 히드록시기, 아랄킬기를 나타낸다.]
R25, R26, R27 및 R28로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로는, R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다. R25, R26, R27 및 R28로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로는 히드록시기를 들 수 있다.
R25, R26, R27 및 R28로 표시되는 아랄킬기로는, 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.
R6 및 R7이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I)로는, 식 (I-E)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
[식 (I-E) 중, R1, R3, R4, R5는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
고리 W3은 고리형 화합물을 나타낸다.]
고리 W3은, 5 원환∼9 원환의 고리이며, 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다.
식 (I-E)로 표시되는 화합물은, 식 (IE-1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
[식 (I-C-1) 중, R1, R2, R3 및 R5는 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R17, R18, R19, Rq는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 아랄킬기, 아릴기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH2-기는 -NR1D-, -C(=O)-, -C(=S)-, -O-, -S-로 치환되어 있어도 좋고, R17 및 R18은 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋고, R18 및 R19는 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋고, R19 및 Rq는, 서로 연결하여 고리 구조를 형성해도 좋다. m, p, q는 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타낸다.]
식 (I)로 표시되는 화합물로는, 이하의 화합물을 들 수 있다.
광선택 흡수 화합물의 합계의 함유량은, (메트)아크릴계 수지 100 질량부에 대하여, 통상 0.01∼20 질량부이며, 바람직하게는 0.05∼15 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.1∼10 질량부이며, 더욱 바람직하게는 0.1∼5 질량부이다.
광선택 흡수 화합물 (A)와 광선택 흡수 화합물 (B)의 질량비(광선택 흡수 화합물 (A)/광선택 흡수 화합물 (B))는, 통상 0.05∼20이며, 바람직하게는 0.1∼10이다.
<(메트)아크릴계 수지(A)>
(메트)아크릴계 수지(A)는, (메트)아크릴산에스테르 유래의 구성 단위를 주성분(바람직하게는 50 질량% 이상 포함)으로 하는 중합체인 것이 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, 1종 이상의 (메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위(예컨대, 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위)를 포함해도 좋다. 또 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산이란, 아크릴산 또는 메타크릴산 중 어느 것이라도 좋은 것을 의미하며, 그 외에, (메트)아크릴레이트 등에서의 「(메트)」도 동일한 취지이다.
(메트)아크릴산에스테르로는, 하기 식 (I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.
[식 (I) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 1∼14의 알킬기 또는 탄소수 7∼20의 아랄킬기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 상기 아랄킬기의 수소 원자는, 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.]
식 (I)에 있어서, R2는, 바람직하게는 탄소수 1∼14의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼8의 알킬기이다.
식 (I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르로는,
(메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 n-펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 n-헵틸, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 n-노닐, (메트)아크릴산 n-데실, (메트)아크릴산 n-도데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산스테아릴 등의 (메트)아크릴산의 직쇄형 알킬에스테르;
(메트)아크릴산 i-프로필, (메트)아크릴산 i-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 i-펜틸, (메트)아크릴산 i-헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 i-옥틸, (메트)아크릴산 i-노닐, (메트)아크릴산 i-스테아릴, (메트)아크릴산 i-아밀 등의 (메트)아크릴산의 분기형 알킬에스테르;
(메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산이소보로닐, (메트)아크릴산아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산 tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 지환 골격 함유 알킬에스테르;
(메트)아크릴산페닐 등의 (메트)아크릴산의 방향환 골격 함유 에스테르
등을 들 수 있다.
또한, (메트)아크릴산알킬에스테르에서의 알킬기에 치환기가 도입된 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수도 있다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르의 치환기는, 알킬기의 수소 원자를 치환하는 기이며, 그 구체예는 페닐기, 알콕시기, 페녹시기를 포함한다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르로서, 구체적으로는, (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸, (메트)아크릴산페녹시디에틸렌글리콜, (메트)아크릴산페녹시폴리(에틸렌글리콜) 등을 들 수 있다.
이들 (메트)아크릴산에스테르는, 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에, 상이한 복수의 것을 이용해도 좋다.
(메트)아크릴계 수지(a)는, 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tg가 0℃ 미만인 아크릴산알킬에스테르 (a1) 유래의 구성 단위, 및 호모폴리머의 Tg가 0℃ 이상인 아크릴산알킬에스테르 (a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 아크릴산알킬에스테르 (a1) 유래의 구성 단위 및 아크릴산알킬에스테르 (a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것은, 점착제층의 고온 내구성을 높이는 데에 있어서 유리하다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 Tg는, 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌치를 채용할 수 있다.
아크릴산알킬에스테르 (a1)의 구체예로는, 아크릴산에틸, 아크릴산 n- 및 i-프로필, 아크릴산 n- 및 i-부틸, 아크릴산 n-펜틸, 아크릴산 n- 및 i-헥실, 아크릴산 n-헵틸, 아크릴산 n- 및 i-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n- 및 i-노닐, 아크릴산 n- 및 i-데실, 아크릴산 n-도데실 등의 알킬기의 탄소수가 2∼12 정도의 아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.
아크릴산알킬에스테르 (a1)은, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 본 발명의 점착제 시트를 광학 필름에 적층했을 때의 추종성이나 리워크성의 관점에서, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실 등이 바람직하다.
아크릴산알킬에스테르 (a2)는, 아크릴산알킬에스테르 (a1) 이외의 아크릴산알킬에스테르이다. 아크릴산알킬에스테르 (a2)의 구체예는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산 t-부틸 등을 포함한다.
아크릴산알킬에스테르 (a2)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 고온 내구성의 관점에서, 아크릴산알킬에스테르 (a2)는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐 등을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴산메틸을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
식 (I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지에 포함되는 전체 구조 단위 중, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 60∼95 질량%인 것이 바람직하고, 65∼95 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로는, 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위가 바람직하고, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위가 보다 바람직하다. 극성 작용기로는, 히드록시기, 카르복실기, 치환 혹은 무치환 아미노기, 에폭시기 등의 복소환기 등을 들 수 있다.
극성 작용기를 갖는 단량체로는,
(메트)아크릴산 1-히드록시메틸, (메트)아크릴산 1-히드록시에틸, (메트)아크릴산 1-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 1-히드록시부틸, (메트)아크릴산 1-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시부틸, (메트)아크릴산 2-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-히드록시부틸, (메트)아크릴산 3-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 3-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 4-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 4-히드록시헥실, (메트)아크릴산 4-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 2-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시-3-페녹시프로필, (메트)아크릴산 5-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 5-히드록시헥실, (메트)아크릴산 5-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 5-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 5-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시헥실, (메트)아크릴산 6-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 6-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 6-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 7-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 7-히드록시노닐, (메트)아크릴산 7-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 8-히드록시노닐, (메트)아크릴산 8-히드록시데실, (메트)아크릴산 8-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시노닐, (메트)아크릴산 9-히드록시데실, (메트)아크릴산 9-히드록시운데실, (메트)아크릴산 9-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시데실, (메트)아크릴산 10-히드록시운데실, (메트)아크릴산 10-히드록시도데실, 아크릴산 10-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시운데실, (메트)아크릴산 11-히드록시도데실, (메트)아크릴산 11-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 11-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 12-히드록시도데실, (메트)아크릴산 12-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 12-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 13-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 14-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 14-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시헵타데실 등의 히드록시기를 갖는 단량체;
(메트)아크릴산, 카르복시알킬(메트)아크릴레이트(예컨대, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트), 말레산, 무수말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기를 갖는 단량체;
아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란 등의 복소환기를 갖는 단량체;
아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
그 중에서도, (메트)아크릴산에스테르 중합체와 가교제의 반응성의 점에서, 히드록시기를 갖는 단량체 또는 및 카르복실기를 갖는 단량체가 바람직하고, 히드록시기를 갖는 단량체 및 카르복실기를 갖는 단량체를 모두 포함하는 것이 보다 바람직하다.
히드록시기를 갖는 단량체로는, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 3-히드록시프로필, 아크릴산 4-히드록시부틸, 아크릴산 5-히드록시펜틸, 아크릴산 6-히드록시헥실이 바람직하다. 특히, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 4-히드록시부틸 및 아크릴산 5-히드록시펜틸을 이용함으로써 양호한 내구성을 얻을 수 있다.
카르복실기를 갖는 단량체로는, 아크릴산을 이용하는 것이 바람직하다.
점착제 시트의 외면에 적층할 수 있는 세퍼레이트 필름의 박리력 항진을 방지하는 관점에서, (메트)아크릴계 수지(A)는, 아미노기를 갖는 단량체에 유래의 구조 단위를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 실질적으로 포함하지 않는다는 것은, (메트)아크릴계 수지(a)를 구성하는 전체 구성 단위 100 질량부 중, 0.1 질량부 이하인 것을 말한다.
극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.
방향족기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 4 질량부 이상 20 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량부 이상 16 질량부 이하이다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로는, 스티렌계 단량체에 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에 유래하는 구조 단위, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위, (메트)아크릴아미드계 단량체에 유래하는 구조 단위 등도 들 수 있다.
스티렌계 단량체로는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.
비닐계 단량체로는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 로르산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 함질소 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.
분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체로는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
(메트)아크릴아미드계 단량체로는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸〕(메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1,1-디메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드 및 N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드가 바람직하다.
(메트)아크릴계 수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 50만∼250만이다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온 환경에서의 점착제 시트의 내구성이 향상되고, 피착체와 점착제 시트 사이의 들뜸 박리나, 점착제 시트의 응집 파괴 등의 문제를 억제하기 쉽다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 도공성의 관점에서 유리하다. 점착제 시트의 내구성 및 점착제 조성물의 도공성의 양립의 관점에서, 중량 평균 분자량은 바람직하게는 60만∼180만이며, 보다 바람직하게는 70만∼170만이며, 특히 바람직하게는 100만∼160만이다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)과 수평균 분자량(Mn)의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw/Mn)는, 통상 2∼10, 바람직하게는 3∼8, 더욱 바람직하게는 3∼6이다. 중량 평균 분자량은, 겔퍼미에이션 크로마토그래피에 의해 분석할 수 있으며, 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.
(메트)아크릴산 수지(A)는, 아세트산에틸에 용해시켜 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에서의 점도가, 20 Paㆍs 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 Paㆍs인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위의 점도이면, 점착제 조성물을 기재에 도공할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 또, 점도는 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.
(메트)아크릴계 수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, 예컨대 -60∼20℃, 바람직하게는 -50∼15℃, 더욱 바람직하게는 -45∼10℃, 특히 -40∼0℃이어도 좋다. Tg가 상한치 이하이면 점착제 시트의 피착체 기재에 대한 습윤성의 향상에 유리하고, 하한치 이상이면 점착제 시트의 내구성의 향상에 유리하다. 또, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.
(메트)아크릴계 수지(A)는, 예컨대, 용액 중합법, 괴상 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등의 공지의 방법에 의해 제조할 수 있고, 특히 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합법으로는, 예컨대, 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기하에 열중합 개시제를 첨가하여, 40∼90℃, 바람직하게는 50∼80℃ 정도의 온도 조건하에 3∼15시간 정도 교반하는 방법을 들 수 있다. 반응 제어를 위해, 중합중, 연속적 또는 간헐적으로 단량체나 열중합 개시제를 첨가해도 좋다. 상기 단량체나 열개시제는 유기 용매에 첨가한 상태이어도 좋다.
중합 개시제로는, 열중합 개시제나 광중합 개시제 등이 이용된다. 광중합 개시제로는, 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다. 열중합 개시제로는, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-히드록시메틸프로피오니트릴) 등의 아조계 화합물; 라우릴퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화벤조일, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디프로필퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소 등의 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 또한, 과산화물과 환원제를 병용한 레독스계 개시제 등도 사용할 수 있다.
중합 개시제의 비율은, (메트)아크릴계 수지(A)를 구성하는 단량체의 총량 100 질량부에 대하여 0.001∼5 질량부 정도이다. (메트)아크릴계 수지의 중합은, 활성 에너지선(예컨대 자외선 등)에 의한 중합법을 사용해도 좋다.
유기 용매로는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 프로필알콜, 이소프로필알콜 등의 지방족 알콜류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴계 수지(A)의 함유량은, 점착제 조성물 100 질량% 중, 통상 60 질량%∼99.9 질량%이며, 바람직하게는 70 질량%∼99.5 질량%이며, 보다 바람직하게는 80 질량%∼99 질량%이다.
가교제(B)는, (메트)아크릴계 수지(A) 중의 극성 작용기(예컨대 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 복소환기 등)와 반응한다. 가교제(B)는 (메트)아크릴계 수지 등과 가교 구조를 형성하고, 내구성이나 리워크성에 유리한 가교 구조를 형성한다.
가교제(B)로는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트라이프 및 점착제층의 내구성, 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.
이소시아네이트계 화합물로는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하고, 예컨대, 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 이소포론디이소시아네이트, 수첨 디페닐메탄디이소시아네이트, 수첨 크실릴렌디이소시아네이트), 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한 가교제(B)는, 상기 이소시아네이트 화합물의 다가 알콜 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트 화합물 등의 유도체이어도 좋다. 가교제(B)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 대표적으로는 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트), 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트) 또는 이들의 다가 알콜 화합물(예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판)에 의한 부가체, 또는 이소시아누레이트체를 들 수 있다. 가교제(B)가, 방향족 이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알콜 화합물, 또는 이소시아누레이트체에 의한 부가체이면, 최적의 가교 밀도(또는 가교 구조)의 형성에 유리하기 때문인지, 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히, 톨릴렌디이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알콜 화합물에 의한 부가체이면, 예컨대 점착제층을 편광판에 적용한 경우 등에도 내구성을 향상시킬 수 있다.
가교제(b)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(a) 100 질량부에 대하여, 통상 0.01∼15 질량부이며, 바람직하게는 0.05∼10 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.1∼5 질량부이다.
본 발명의 점착제 조성물은, 또한 실란 화합물(d)을 포함하고 있어도 좋다.
실란 화합물(d)로는, 예컨대, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
실란 화합물(D)은, 실리콘 올리고머이어도 좋다. 실리콘 올리고머의 구체예를, 모노머끼리의 조합의 형태로 표기하면 다음과 같다.
3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토프로필기 함유 올리고머; 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토메틸기 함유 올리고머; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머; 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 아크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 비닐기 함유 올리고머; 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.
실란 화합물(d)은, 하기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물이어도 좋다. 점착제 조성물이 하기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물을 포함하면, 기재나 유리, 투명 전극 등에 대한 밀착성을 더욱 향상시킬 수 있기 때문에, 고온 환경하에서의 들뜸 박리나 발포 등이 발생하기 어려운 내구성이 양호한 점착제층을 형성할 수 있다.
(식 중, B는, 탄소수 1∼20의 알칸디일기 또는 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어도 좋고, Rd7은 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, Rd8, Rd9, Rd10, Rd11 및 Rd12는 각각 독립적으로, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다)
식 (d1)에 있어서, B는, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기 등의 탄소수 1∼20의 알칸디일기; 시클로부틸렌기(예컨대 1,2-시클로부틸렌기), 시클로펜틸렌기(예컨대 1,2-시클로펜틸렌기), 시클로헥실렌기(예컨대 1,2-시클로헥실렌기), 시클로옥틸렌기(예컨대 1,2-시클로옥틸렌기) 등의 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기, 또는 이들의 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가, -O- 또는 -CO-로 치환된 기를 나타낸다. 바람직한 B는, 탄소수 1∼10의 알칸디일기이다. Rd7은 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 펜틸기 등의 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, Rd8, Rd9, Rd10, Rd11 및 Rd12는 각각 독립적으로, 상기 R21에 예시한 탄소수 1∼5의 알킬기, 또는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, i-프로폭시기, 부톡시기, s-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다. 바람직한 Rd8, Rd9, Rd10, Rd11 및 Rd12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알콕시기이다. 이들 실란 화합물(d)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
구체적인 상기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물로는, 예컨대, (트리메톡시실릴)메탄, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,3-비스(트리에톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,4-비스(트리에톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,5-비스(트리에톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리에톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리프로폭시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리에톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리프로폭시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-5 알콕시실릴) C1-10 알칸; 비스(디메톡시메틸실릴)메탄, 1,2-비스(디메톡시메틸실릴)에탄, 1,2-비스(디메톡시에틸실릴)에탄, 1,4-비스(디메톡시메틸실릴)부탄, 1,4-비스(디메톡시에틸실릴)부탄, 1,6-비스(디메톡시메틸실릴)헥산, 1,6-비스(디메톡시에틸실릴)헥산, 1,8-비스(디메톡시메틸실릴)옥탄, 1,8-비스(디메톡시에틸실릴)옥탄 등의 비스(디 C1-5 알콕시 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸; 1,6-비스(메톡시디메틸실릴)헥산, 1,8-비스(메톡시디메틸실릴)옥탄 등의 비스(모노 C1-5 알콕시디 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸 등을 들 수 있다. 이들 중, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-3 알콕시실릴) C1-10 알칸이 바람직하고, 특히, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄이 바람직하다.
실란 화합물(d)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(a) 100 질량부에 대하여, 통상 0.01∼10 질량부이며, 바람직하게는 0.03∼5 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.05∼2 질량부이며, 더욱 바람직하게는 0.1∼1 질량부이다. 상기 상한치 이하이면, 점착제층으로부터의 실란 화합물(d)의 블리드아웃의 억제에 유리하고, 상기 하한치 이상이면, 점착제층과, 금속층이나 유리 기판 등과의 밀착성(또는 접착성)을 향상시키기 쉬워지고, 내박리성 등의 향상에 유리하다.
점착제 조성물은 대전 방지제를 더 함유하고 있어도 좋다.
대전 방지제로는, 계면 활성제, 실록산 화합물, 도전성 고분자, 이온성 화합물 등을 들 수 있고, 이온성 화합물인 것이 바람직하다. 이온성 화합물로는 관용의 것을 들 수 있다. 이온성 화합물을 구성하는 양이온 성분으로는, 유기 양이온, 무기 양이온 등을 들 수 있다. 유기 양이온으로는, 예컨대 피리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 무기 양이온으로는, 예컨대 리튬 양이온, 칼륨 양이온, 나트륨 양이온, 세슘 양이온 등의 알칼리 금속 양이온, 마그네슘 양이온, 칼슘 양이온 등의 알칼리 토금속 양이온 등을 들 수 있다. 특히 (메트)아크릴계 수지와의 상용성의 관점에서 피리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 피롤리디늄 양이온, 리튬 양이온, 칼륨 양이온이 바람직하다. 이온성 화합물을 구성하는 음이온 성분으로는, 무기 음이온 및 유기 음이온 중 어느 것이어도 좋지만, 대전 방지 성능의 점에서, 불소 원자를 포함하는 음이온 성분이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온 성분으로는, 예컨대 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6-), 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-] 등을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 특히, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-]이 바람직하다.
점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 대전 방지 성능의 경시 안정성의 점에서, 실온에서 고체인 이온성 화합물이 바람직하다.
대전 방지제의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(a) 100 질량부에 대하여, 예컨대 0.01∼20 질량부, 바람직하게는 0.1∼10 질량부, 더욱 바람직하게는 1∼7 질량부이다.
점착제 조성물은, 용제, 가교 촉매, 태키파이어, 가소제, 연화제, 안료, 방청제, 무기 필러, 광산란성 미립자 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.
<점착제층 및 점착제층 부착 광학 필름의 구성 및 제조 방법>
본 발명의 점착제 시트는, 예컨대, 상기 점착제 조성물을 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 이어서, 이것을 기재의 표면에 도포하고 건조시켜 형성된다. 점착제층 부착 광학 필름은, 상기 형성된 점착제 시트 부착 기재의 점착제 시트면에 광학 필름을 적층한 후 기재를 박리하는 방법, 및 광학 필름 등의 수지 필름 상에 점착제 조성물을 도포하고 건조시키는 방법 등을 들 수 있다.
기재로는, 플라스틱 필름이 적합하며, 구체적으로는, 이형 처리된 박리 필름을 들 수 있다. 박리 필름으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 수지로 이루어진 필름의 한쪽 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 된 것을 들 수 있다. 점착제 시트의 일시적인 보호를 위해, 점착제층 시트에 박리 필름을 접착해도 좋다.
도 1에 본 발명의 점착제 시트의 층구성의 일례를 나타낸다. 도 1에 기재된 점착제 시트(1)는, 일시적인 보호를 위해 박리 필름(2)을 접착하고 있는 상태이다. 박리 필름은, 점착제 시트의 편면에 적층시켜도 좋고, 양면에 적층시켜도 좋다.
본 발명의 점착제층의 적어도 한쪽 면에 광학 필름이 적층된 광학 적층체도 본 발명에 포함된다. 도 2∼도 4에 본 발명의 점착제 시트를 포함하는 광학 적층체를 나타낸다. 도 2에 기재된 광학 적층체(10A)는, 보호 필름(8), 접착제층(7), 편광 필름(9), 접착제층(7), 보호 필름(3), 점착제 시트(1), 박리 필름(2)을 포함하는 광학 적층체이다. 보호 필름(3)은 위상차를 갖고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름(8), 접착제층(7), 편광 필름(9), 접착제층(7), 보호 필름(3)의 층구성은 광학 필름(40)으로 나타내는 편광판에 상당한다. 도 3에 기재된 광학 적층체(10B) 및 도 4에 기재된 광학 적층체(10C)는, 보호 필름(8), 접착제층(7), 편광 필름(9), 접착제층(7), 보호 필름(3), 점착제 시트(1), 광학 필름(40), 점착제층(7a), 발광 소자(30)(액정 셀, OLED 셀)를 포함하는 광학 적층체이며, 광학 필름(40)이 다층 구조의 광학 필름이다.
광학 필름(40)은, 광선을 투과, 반사, 흡수하는 등의 광학 기능을 갖는 필름이며, 단층의 필름이어도 좋고 다층의 필름이어도 좋다. 광학 필름(40)은, 예컨대 편광 필름(편광판), 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 방현 필름, 반사 방지 필름, 확산 필름, 집광 필름, 윈도우 필름 등을 들 수 있고, 편광 필름, 위상차 필름, 윈도우 필름 또는 이들의 적층 필름인 것이 바람직하다.
위상차 필름이란, 광학 이방성을 나타내는 광학 필름이며, 예컨대, 폴리비닐알콜, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등으로 이루어진 고분자 필름을 1.01∼6배 정도에 연신하는 것에 의해 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리카보네이트 필름이나 시클로올레핀계 수지 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 고분자 필름인 것이 바람직하다. 또, 본 명세서에서, 위상차 필름은 제로 리타데이션 필름을 포함하며, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등으로 칭해지는 필름도 포함한다.
액정성 화합물의 도포ㆍ배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름이나, 무기 층상 화합물의 도포에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로는, 온도 보상형 위상차 필름으로 칭해지는 필름, JX 액정 필름에서 판매하고 있는 「NH 필름」(상품명; 막대형 액정이 경사 배향한 필름), 후지 필름 주식회사에서 판매하고 있는 「WV 필름」(상품명; 원반형 액정이 경사 배향한 필름), 스미토모 화학 주식회사에서 판매하고 있는 「VAC 필름」(상품명; 완전 이축 배향형의 필름), 「new VAC 필름」(상품명; 이축 배향형의 필름) 등을 들 수 있다.
제로 리타데이션 필름이란, 정면 리타데이션 Re와 두께 방향의 리타데이션 Rth이 모두 -15∼15 nm이며, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로는, 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄형 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어진 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션값의 제어가 용이하고 입수도 용이하다는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로는, 후지 필름 주식회사에서 판매하고 있는 「Z-TAC(상품명)」, 코니카 미놀타 주식회사에서 판매하고 있는 「제로태크(등록상표)」, 닛폰제온 주식회사에서 판매하고 있는 「ZF-14(상품명)」 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름은, 중합성 액정 화합물을 경화시켜 이루어진 위상차 필름이 바람직하다.
액정성 화합물의 도포ㆍ배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로는, 제1 형태 : 막대형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수평 방향으로 배향한 위상차 필름, 제2 형태 : 막대형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향한 위상차 필름, 제3 형태 : 막대형 액정 화합물이 면내에서 나선형으로 배향의 방향이 변화하고 있는 위상차 필름, 제4 형태 : 원반형 액정 화합물이 경사 배향하고 있는 위상차 필름, 제5 형태 : 원반형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향한 이축성의 위상차 필름을 들 수 있다.
예를 들면, 유기 일렉트로 루미네선스 디스플레이에 이용되는 광학 필름으로는, 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들을 적층시켜 이용해도 좋다.
위상차 필름이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에서의 중합체로 이루어진 층(이하, 「광학 이방성층」으로 칭하는 경우가 있음)인 경우, 위상차 필름은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차치가 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차치보다 작아지는 광학 특성이며, 바람직하게는, 위상차 필름이 하기 식 (7) 및 식 (8)을 만족시키는 것이다. 또, Re(λ)는 파장 λ nm의 광에 대한 면내 위상차치를 나타낸다.
Re(450)/Re(550)≤1 (7)
1≤Re(630)/Re(550) (8)
본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름이 제1 형태이며 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑표시시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 120≤Re(550)≤150이 더욱 바람직하다.
위상차 필름이, 광학 이방성층을 갖는 필름인 경우의 중합성 액정 화합물로는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물, 및 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보, 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보, 일본 특허 공개 제2011-162678호 공보, 일본 특허 공개 제2016-81035호 공보, 국제 공개 제2017/043438호 및 일본 특허 공표 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물의 배향 상태에서의 중합체로부터 위상차 필름을 제조하는 방법은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보에 기재된 방법을 들 수 있다.
제2 형태의 경우, 정면 위상차치 Re(550)는 0∼10 nm의 범위로, 바람직하게는 0∼5 nm의 범위로 조정하면 되고, 두께 방향의 위상차치 Rth는, -10∼-300 nm의 범위로, 바람직하게는 -20∼-200 nm의 범위로 조정하면 된다. 두께 방향의 굴절률 이방성을 의미하는 두께 방향의 위상차치 Rth는, 면내의 진상축을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정되는 위상차치 R50과 면내의 위상차치 R0으로부터 산출할 수 있다. 즉, 두께 방향의 위상차치 Rth는, 면내의 위상차치 R0, 진상축을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정한 위상차치 R50, 위상차 필름의 두께 d 및 위상차 필름의 평균 굴절률 n0으로부터, 이하의 식 (10)∼(12)에 의해 nx, ny 및 nz를 구하고, 이들을 식 (9)에 대입하여 산출할 수 있다.
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)
R0=(nx-ny)×d (10)
R50=(nx-ny')×d/cos(φ) (11)
(nx+ny+nz)/3=n0 (12)
여기서,
φ=sin-1〔sin(40°)/n0〕
ny'=ny×nz/〔ny 2×sin2(φ)+nz 2×cos2(φ)〕1/2
위상차 필름은, 2 이상의 층을 갖는 다층 필름이어도 좋다. 예컨대, 위상차 필름의 편면 또는 양면에 보호 필름이 적층된 것이나, 2 이상의 위상차 필름이 점착제 또는 접착제를 통해 적층된 것을 들 수 있다.
위상차 필름의 두께는, 통상 0.1∼100 μm이다.
위상차 필름이 다층인 경우는, 합계의 두께가 0.5∼200 μm이면 된다.
광학 필름(40)이 2 이상의 위상차 필름이 적층된 다층 필름인 경우, 본 발명의 광학 필름을 포함하는 광학 적층체의 구성으로는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(50)과 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(70)을, 접착제 또는 점착제(60)를 통해 적층한 광학 필름(40)을 포함하는 구성을 들 수 있다. 또한, 도 4에 나타낸 바와 같이, 1/4 파장 위상차층(50a)과 포지티브 C층(80)을, 접착제층 또는 점착제층을 통해 적층한 광학 필름(40)을 포함하는 구성도 들 수 있다.
도 3의 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(50), 및 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(70)은, 상기 제1 형태의 광학 필름이어도 좋고 제5 형태의 광학 필름이어도 좋다. 도 3의 구성의 경우, 적어도 한쪽이 제5 형태인 것이 보다 바람직하다.
도 4의 구성의 경우, 1/4 파장 위상차층(50a)은 상기 제1 형태의 광학 필름인 것이 바람직하고, 또한 식 (7), 식 (8)을 만족시키는 것이 보다 바람직하다.
편광 필름은, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 필름이며, 예컨대, 폴리비닐알콜계 수지 필름에 이색성 색소를 흡착 배향시킨 필름을 이용할 수 있다. 이색성 색소로는, 예컨대, 요오드나 이색성 유기 염료 등을 들 수 있다.
통상, 폴리비닐알콜계 수지를 제막한 것을 편광 필름의 원반 필름으로서 이용한다. 폴리비닐알콜계 수지는 공지의 방법으로 제막할 수 있다. 원반 필름의 두께는, 통상 1∼150 ㎛이며, 연신의 용이함 등을 고려하면, 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다.
편광 필름은, 예컨대, 원반 필름에 대하여, 일축 연신하는 공정, 이색성 색소로 필름을 염색하여 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 붕산 수용액으로 필름을 처리하는 공정, 및 필름을 수세하는 공정이 실시되고, 마지막으로 건조시켜 제조된다. 편광자(2)의 두께는 통상 1∼30 ㎛이며, 점착제층 부착 광학 필름(1)의 박막화의 관점에서, 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 이하, 특히 10 ㎛ 이하이다.
폴리비닐알콜계 수지 필름에 이색성 색소를 흡착 배향시켜 이루어진 편광 필름은, 원반 필름으로서 폴리비닐알콜계 수지 필름의 단독 필름을 이용하고, 이 필름에 대하여 일축 연신 처리 및 이색성 색소의 염색 처리를 하는 방법(방법 (1)로 함) 외에, 기재 필름에 폴리비닐알콜계 수지를 함유하는 도공액(수용액 등)을 도공, 건조시켜 폴리비닐알콜계 수지층을 갖는 기재 필름을 얻은 후, 이것을 기재 필름마다 일축 연신하고, 연신후의 폴리비닐알콜계 수지층에 대하여 이색성 색소의 염색 처리를 하고, 이어서 기재 필름을 박리 제거하는 방법(방법 (2)로 함)에 의해서도 얻을 수 있다. 기재 필름으로는, 열가소성 수지와 동일한 열가소성 수지로 이루어진 필름을 이용할 수 있고, 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 노르보넨계 수지 등의 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리스티렌계 수지 등으로 이루어진 필름이다. 상기 방법 (2)를 이용하면, 박막의 편광 필름의 제작이 용이해져, 예컨대 두께 7 μm 이하의 편광자(2)의 제작이라 하더라도 용이하게 행할 수 있다.
편광 필름의 적어도 한쪽의 면은, 접착제를 통해 보호 필름이 형성되어 있는 것이 바람직하다.
접착제로는, 공지의 접착제가 이용되고, 수계 접착제이어도 좋고, 활성 에너지선 경화형 접착제이어도 좋다.
수계 접착제로는, 관용의 수계 접착제(예컨대, 폴리비닐알콜계 수지 수용액으로 이루어진 접착제, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제, 알데히드 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민계 화합물, 메틸올 화합물, 이소시아네이트 화합물, 아민 화합물, 다가 금속염 등의 가교제 등)를 들 수 있다. 이들 중, 폴리비닐알콜계 수지 수용액으로 이루어진 수계 접착제를 적합하게 이용할 수 있다. 또, 수계 접착제를 사용하는 경우는, 편광 필름과 보호 필름을 접합한 후, 수계 접착제 중에 포함되는 물을 제거하기 위해 건조시키는 공정을 실시하는 것이 바람직하다. 건조 공정후, 예컨대 20∼45℃ 정도의 온도에서 양생하는 양생 공정을 설치해도 좋다. 수계 접착제로 형성되는 접착제층은, 통상 0.001∼5 μm이다.
상기 활성 에너지선 경화성 접착제란, 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제를 말하며, 예컨대, 중합성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 경화성 조성물, 광반응성 수지를 포함하는 경화성 조성물, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 경화성 조성물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 자외선 경화성 접착제이다.
활성 에너지선 경화성 접착제를 이용하는 경우는, 편광 필름과 보호 필름을 접합한 후, 필요에 따라서 건조 공정을 행하고, 이어서 활성 에너지선을 조사하는 것에 의해 활성 에너지선 경화성 접착제를 경화시키는 경화 공정을 행한다. 활성 에너지선의 광원은 특별히 한정되지 않지만, 파장 400 nm 이하에 발광 분포를 갖는 자외선이 바람직하다. 활성 에너지선 경화성 접착제로 형성되는 접착제층은, 통상 0.1∼20 μm이다.
편광 필름과 보호 필름을 접합하는 방법으로는, 이들 적어도 어느 한쪽의 접합면에 비누화 처리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 활성화 처리를 하는 방법 등을 들 수 있다. 편광 필름의 양면에 수지 필름이 접합되는 경우, 이들 수지 필름을 접합하기 위한 접착제는, 동종의 접착제이어도 좋고 이종의 접착제이어도 좋다.
편광판의 바람직한 구성으로는, 편광 필름의 적어도 한쪽의 면에 접착제층을 통해 보호 필름이 적층된 편광판이다. 보호 필름이 편광 필름의 한쪽 면에만 적층되는 경우, 시인측에 적층되는 것이 보다 바람직하다. 시인측에 적층된 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지 또는 시클로올레핀계 수지로 이루어진 보호 필름인 것이 바람직하다. 보호 필름은 미연신 필름이어도 좋고, 임의의 방향으로 연신되어 위상차를 갖고 있어도 좋다. 시인측에 적층된 보호 필름의 표면에는 하드코트층이나 안티글레어층 등의 표면 처리층이 형성되어 있어도 좋다.
보호 필름이 편광 필름의 양면에 적층되는 경우, 패널측(시인측과 반대측)의 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지, 시클로올레핀계 수지 또는 아크릴계 수지로 이루어진 보호 필름 또는 위상차 필름인 것이 바람직하다. 위상차 필름은 후술하는 제로 리타데이션 필름이어도 좋다.
편광판과 패널 사이에는, 또한 그 밖의 층 또는 필름이 적층되어 있어도 좋다. 유기 EL 디스플레이용의 원편광판으로서 이용하는 경우는, 1/4 파장 위상차층과 1/2 파장 위상차층을 갖는 위상차층, 전술한 역파장 분산성의 1/4 파장층이 적층되어 있는 것이 바람직하다. 위상차층은 박막화의 관점에서 액정계 위상차 필름인 것이 바람직하다.
집광 필름은, 광로 제어 등을 목적으로 이용되는 것으로, 프리즘 어레이 시트나 렌즈 어레이 시트, 도트 부설 시트 등일 수 있다.
휘도 향상 필름은, 편광판을 적용한 액정 표시 장치에서의 휘도를 향상시킬 목적으로 사용된다. 구체적으로는, 굴절률의 이방성이 서로 다른 박막 필름을 복수매 적층하여 반사율에 이방성이 생기도록 설계된 반사형 편광 분리 시트, 콜레스테릭 액정 폴리머의 배향 필름이나 그 배향 액정층을 기재 필름 상에 지지한 원편광 분리 시트 등을 들 수 있다.
윈도우 필름이란, 플렉시블 디스플레이 등의 플렉시블 표시 장치에서의 전면판을 의미하며, 일반적으로는 표시 장치의 최표면에 배치된다. 윈도우 필름은, 예컨대 폴리이미드 수지로 이루어진 수지 필름을 들 수 있다. 윈도우 필름은, 예컨대 폴리이미드 및 실리카를 포함하는 수지 필름과 같은, 유기 재료와 무기 재료의 하이브리드 필름이어도 좋다. 또한, 윈도우 필름은 그 표면에, 표면 경도나 방오성, 내지문성을 기능 부여하기 위한 하드코트층이 배치되어 있어도 좋다. 윈도우 필름으로는, 예를 들면, 일본 특허 공개 제2017-94488호에 기재된 필름 등을 들 수 있다.
본 발명의 점착제층 시트를 포함하는 광학 적층체는, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자에 적층시켜, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD : 플랫 패널 디스플레이)에 이용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 실시예 및 비교예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한 「질량%」 및 「질량부」이다.
또한, 이하의 예에서, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 측정은, 겔퍼미에이션 크로마토그래피(이하, GPC로 기재함) 장치(GPC-8120, 도소(주) 제조)에 컬럼으로서, 4개의 「TSK gel XL(도소(주) 제조)」, 및 「Shodex GPC KF-802(쇼와덴꼬(주) 제조)」를 1개, 합계 5개를 직렬로 연결하여 배치하고, 용출액으로서 테트라히드로푸란을 이용하여, 시료 농도 5 mg/mL, 시료 도입량 100 μL, 온도 40℃, 유속 1 mL/분의 조건으로 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 산출했다.
(합성예 1) 광선택 흡수성 화합물(1)의 합성
디무로트 냉각관, 온도계를 설치한 200 mL-사구 플라스크 내를 질소 분위기로 하고, 특허문헌(일본 특허 공개 제2014-194508)을 참고로 합성한 식 (aa)로 표시되는 화합물 10부, 무수아세트산(와코쥰야쿠 공업 주식회사 제조) 3.6부, 시아노아세트산 2-에틸헥실(DIPEA로 칭하는 경우가 있음; 도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 6.9부 및 아세토니트릴(와코쥰야쿠 공업 주식회사 제조) 60부를 넣고, 마그네틱 스터러로 교반했다. 내온 25℃에서 DIPEA(도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 4.5부를 적하 깔때기로부터 1시간에 걸쳐 적하하고, 적하 종료후에 내온 25℃에서 2시간 더 보온했다. 반응 종료후, 감압 증발기를 이용하여 아세토니트릴을 제거하고, 컬럼 크로마토그래피(실리카겔)에 제공하여 정제하고, 식 (aa1)로 표시되는 광선택 흡수성 화합물(1)을 포함하는 유출액을, 감압 증발기를 이용하여 용매를 제거하고, 황색 결정을 얻었다. 상기 결정을 60℃ 감압 건조하는 것에 의해, 황색 분말로서 광선택 흡수성 화합물(1)을 4.6부 얻었다. 수율은 50%였다.
1H-NMR 해석을 행한 바, 이하의 피크가 관측되었기 때문에, 광선택 흡수성 화합물 1이 생성된 것이 확인되었다.
1H-NMR(CDCl3)δ : 0.87-0.94(m, 6H), 1.32-1.67(m, 8H), 1.59-1.66(m, 2H), 2.09(quin, 2H), 3.00(m, 5H), 3.64(t, 2H), 4.10(dd, 2H), 5.52(d, 2H), 7.87(d, 2H)
<그램 흡광 계수 ε 측정>
얻어진 광선택 흡수성 화합물(1)의 그램 흡광 계수를 측정하기 위해, 광선택 흡수성 화합물(1)을 2-부타논에 용해시켰다. 얻어진 용액(0.006 g/L)을 1 cm의 석영 셀에 넣고, 석영 셀을 분광 광도계 UV-2450(주식회사 시마즈 제작소 제조)에 셋트하여, 더블빔법에 의해 1 nm 스텝 300∼800 nm의 파장 범위에서 흡광도를 측정했다. 얻어진 흡광도의 값과, 용액 중의 광흡수성 화합물 농도, 석영 셀의 광로 길이로부터, 파장마다의 그램 흡광 계수를 하기 식을 이용하여 산출했다.
ε(λ)=A(λ)/CL
〔식 중, ε(λ)는 파장 λ nm에서의 화합물의 그램 흡광 계수 L/(gㆍcm)을 나타내고, A(λ)는 파장 λ nm에서의 흡광도를 나타내고, C는 농도 g/L을 나타내고, L은 석영 셀의 광로 길이 cm를 나타낸다.〕
광선택 흡수성 화합물(1)의 흡수 극대 파장(λ max)을 측정한 바, λ max=389 nm(2-부타논 중)이며, ε(405)의 값은 47 L/(gㆍcm)이며, ε(440)의 값은 0.1 L/(gㆍcm) 이하이며, ε(405)/ε(440)의 값은 80 이상이었다.
(합성예 2) 광선택 흡수성 화합물(2)의 합성
디무로트 냉각관, 온도계를 설치한 200 mL-사구 플라스크 내에, 질소 분위기에서, 일본 특허 공개 제2014-194508을 참고로 합성한 식 (aa)로 표시되는 화합물 10 g, 무수아세트산(와코쥰야쿠 공업 주식회사 제조) 3.6 g, 시아노아세트산 2-부틸옥틸(도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 10 g 및 아세토니트릴(와코쥰야쿠 공업 주식회사 제조) 60 g을 넣고, 마그네틱 스터러로 교반했다. 내온 25℃에서 DIPEA(도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 4.5 g을, 얻어진 혼합물에 1시간에 걸쳐 적하한 후, 내온 25℃에서 2시간 더 보온했다. 그 후, 감압 증발기를 이용하여 아세토니트릴을 제거하고, 컬럼 크로마토그래피(실리카겔)에 제공하여 정제하고, 식 (aa2)로 표시되는 화합물을 포함하는 유출액을, 감압 증발기를 이용하여 용매를 제거하고, 황색 결정을 얻었다. 상기 결정을 60℃ 감압 건조하는 것에 의해, 황색 분말로서 식 (aa2)로 표시되는 화합물(광선택 흡수 화합물 (2))을 4.6 g 얻었다. 수율은 56%였다.
상기와 동일한 방법으로 그램 흡광도 계수를 구하면, 식 (aa2)로 표시되는 화합물의 ε(405)의 값은 45 L/(gㆍcm)이며, ε(420)의 값은 2.1 L/(gㆍcm)였다.
(합성예 3) (메트)아크릴계 수지의 합성
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8부, 단량체로서 아크릴산부틸 70.4부, 아크릴산메틸 20.0부, 아크릴산 2-페녹시에틸 8.0부, 아크릴산 2-히드록시에틸 1.0부 및 아크릴산 0.6부와 혼합하여 얻어진 용액을 넣었다. 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환한 후, 내온을 60℃로 했다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴 0.12부를 아세트산에틸 10부에 용해시킨 용액을 첨가했다. 1시간 동일한 온도로 유지한 후, 내온을 54∼56℃로 유지하면서, 첨가 속도 17.3부/Hr로 아세트산에틸을, 중합체의 농도가 거의 35%가 되도록 반응 용기 내에 연속적으로 가했다. 아세트산에틸의 첨가 개시부터 12시간 경과할 때까지 내온을 54∼56℃로 유지한 후, 아세트산에틸을 가하여 중합체의 농도가 20%가 되도록 조정하여, (메트)아크릴계 수지의 아세트산에틸 용액(1)을 얻었다. (메트)아크릴계 수지의 중량 평균 분자량 Mw는 139만, 중량 평균 분자량 Mw와 수평균 분자량 Mn의 비 Mw/Mn은 5.32였다.
또, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 측정은, GPC 장치에 컬럼으로서 「TSK gel XL(도소 주식회사 제조)」를 4개 및 「Shodex GPC KF-802(쇼와덴꼬 주식회사 제조)」를 1개, 합계 5개를 직렬로 연결하여 배치하고, 용출액으로서 테트라히드로푸란을 이용하고, 시료 농도 5 mg/mL, 시료 도입량 100 μL, 온도 40℃, 유속 1 mL/분의 조건으로 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 산출했다.
(합성예 4) 점착제 조성물 (1)의 합성
합성예 3에서 얻어진 (메트)아크릴계 수지의 아세트산에틸 용액(1)(수지 농도 : 20%)의 고형분 100부에 대하여, 가교제 0.4부, 실란 화합물 0.4부, 합성예 1에서 합성한 광선택 흡수성 화합물(1) 2부 및 스미소브 350(스미카켐텍스 주식회사 제조) 2.0부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여 점착제 조성물 (1)을 얻었다. 또, 상기 가교제의 배합량은 유효 성분으로서의 중량부수이다.
합성예 4에서 사용한 가교제 및 실란 화합물의 상세한 것은 이하와 같다.
가교제 : 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액(고형분 농도 75%), 도소 주식회사로부터 입수한 상품명 「콜로네이트 L」.
실란 화합물 : 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 신에츠 화학 공업 주식회사로부터 입수한 상품명 「KBM403」.
(합성예 5) 점착제 조성물 (2)의 합성
광선택 흡수성 화합물을, 합성예 2에서 얻어진 광선택 흡수 화합물 (2) 2.0부 및 2-히드록시-4-메톡시벤조페논(도쿄 화성 공업 주식회사 제조) 1.0부로 바꾼 것 외에는, 합성예 4와 동일하게 하여 점착제 조성물 (2)를 얻었다.
(합성예 6) 점착제 조성물 (3)의 합성
광선택 흡수성 화합물을, 합성예 2에서 얻어진 광선택 흡수 화합물 (2) 및 EST-5(스미토모 정화 주식회사 제조) 1.0부로 바꾼 것 외에는, 합성예 4와 동일하게 하여 점착제 조성물 (3)을 얻었다.
(합성예 7) 점착제 조성물 (4)의 합성
광선택 흡수성 화합물을 합성예 1에서 얻어진 광선택 흡수 화합물 (1) 2부만으로 하고, 스미소브 350을 혼합하지 않은 것 외에는, 합성예 4와 동일하게 하여 (메트)아크릴계 수지 점착제 조성물 (7)을 얻었다.
(합성예 8) 점착제 조성물 (5)의 합성
광선택 흡수성 화합물을 합성예 2에서 얻어진 광선택 흡수 화합물 (2) 2부만으로 하고, 스미소브 350을 혼합하지 않은 것 외에는, 합성예 4와 동일하게 하여 (메트)아크릴계 수지 점착제 조성물 (5)를 얻었다.
<점착제 시트의 제작>
(실시예 1) 점착제 시트(1)의 제작
얻어진 점착제 조성물 (1)을, 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어진 세퍼레이트 필름[린테크 주식회사로부터 입수한 상품명 「PLR-382190」]의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조후의 두께가 15 μm이 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 점착제층(1)을 제작했다.
얻어진 점착제층(1)을 라미네이터에 의해, 23 μm의 시클로올레핀 필름에 접합한 후, 온도 23℃, 상대 습도 65%의 조건으로 7일간 양생하여, 점착제 시트(1)를 얻었다.
(실시예 2) 점착제 시트(2)의 제작
점착제 조성물을, 합성예 5에서 얻어진 점착제 조성물 (2)로 바꾼 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 점착제 시트(2)를 얻었다.
(실시예 3) 점착제 시트(3)의 제작
점착제 조성물을, 합성예 6에서 얻어진 점착제 조성물 (3)으로 바꾼 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 점착제 시트(3)를 얻었다.
(비교예 1) 점착제 시트(4)의 제작
점착제 조성물을, 합성예 7에서 얻어진 점착제 조성물 (4)로 바꾼 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 점착제 시트(4)를 얻었다.
(비교예 2) 점착제 시트(5)의 제작
점착제 조성물을, 합성예 8에서 얻어진 점착제 조성물 (5)로 바꾼 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 점착제 시트(5)를 얻었다.
<점착제 부착 편광판의 제작>
(제조예 1) 편광판 필름의 제작
평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰%, 두께 30 μm의 폴리비닐알콜 필름[(주)쿠라레 제조의 상품명 「쿠라레 비닐론 VF-PE＃3000」]을 37℃의 순수에 침지한 후, 요오드와 요오드화칼륨을 포함하는 수용액(요오드/요오드화칼륨/물(질량비)=0.04/1.5/100)에 30℃에서 침지했다. 그 후, 요오드화칼륨과 붕산을 포함하는 수용액(요오드화칼륨/붕산/물(질량비)=12/3.6/100)에 56.5℃에서 침지했다. 필름을 10℃의 순수로 세정한 후, 85℃에서 건조시켜, 폴리비닐알콜에 요오드가 흡착 배향된 두께 약 12 μm의 편광자를 얻었다. 연신은, 주로 요오드 염색 및 붕산 처리의 공정에서 행하고, 토털 연신 배율은 5.3배였다.
얻어진 편광자의 편면에, 두께 25 μm의 트리아세틸셀룰로오스 필름으로 이루어진 투명 보호 필름[코니카 미놀타 옵토(주) 제조의 상품명 「KC2UA」, 이하 「TAC 필름」이라고 하는 경우가 있음]을, 폴리비닐알콜계 수지의 수용액으로 이루어진 접착제를 통해 접합했다. 다음으로 상기 편광자에서의 트리아세틸셀룰로오스 필름과는 반대측의 면에, 두께 23 μm의 고리형 폴리올레핀계 수지로 이루어진 제로 위상차 필름[닛폰제온(주) 제조의 상품명 「ZEONOR」, 이하 「COP 필름」이라고 하는 경우가 있음]을, 폴리비닐알콜계 수지의 수용액으로 이루어진 접착제를 통해 접합하여 편광판을 제작했다.
(실시예 4) 점착제 부착 편광판 (1)의 제작
23 μm의 시클로올레핀 필름을, 제조예 1에서 얻어진 편광판으로 바꾼 것 외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 점착제 부착 편광판 (1)을 얻었다. 점착제층 부착 편광판 (1)은, TAC 필름/접착제층/편광 필름/접착제층/COP 필름/점착제층이라는 구성을 갖는다.
(실시예 5) 점착제 부착 편광판 (2)의 제작
23 μm의 시클로올레핀 필름을, 제조예 1에서 얻어진 편광판으로 바꾼 것 외에는, 실시예 3과 동일하게 하여 점착제 부착 편광판 (2)를 얻었다. 점착제층 부착 편광판 (2)는, TAC 필름/접착제층/편광 필름/접착제층/COP 필름/점착제층이라는 구성을 갖는다.
(비교예 3) 점착제 부착 편광판 (3)의 제작
23 μm의 시클로올레핀 필름을, 제조예 1에서 얻어진 편광판으로 바꾼 것 외에는, 비교예 2와 동일하게 하여 점착제 부착 편광판 (3)을 얻었다. 점착제층 부착 편광판 (3)은, TAC 필름/접착제층/편광 필름/접착제층/COP 필름/점착제층이라는 구성을 갖는다.
<점착제 시트의 흡광도 측정>
얻어진 점착제 시트 부착 필름(1)을 30 mm×30 mm의 크기로 재단하고, 점착제 시트와 무알칼리 유리[코닝사 제조의 상품명 "EAGLE XG"]를 접합하여, 이것을 샘플로 했다. 작성한 샘플의 파장 300∼800 nm 범위의 흡광도를, 분광 광도계(UV-2450 : 주식회사 시마즈 제작소 제조)를 이용하여 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다. 흡광도 유지율이 높을수록, 광선택 흡수 기능의 열화가 없어 양호한 내후성을 나타낸다. 또, COP 필름 단체 및 무알칼리 유리 단체 모두, 파장 350 nm, 파장 405 nm 및 파장 440 nm의 흡광도는 0이었다.
흡광도 측정후의 샘플을, 63℃ 50% 상대 습도 조건으로 선샤인 웨더미터(스가 시험기 주식회사 제조)에 24시간 투입하여, 24시간의 내후성 시험을 실시했다. 취출한 샘플의 흡광도를 상기와 동일한 방법으로 측정했다. 측정한 흡광도로부터, 하기 식에 기초하여, 405 nm에서의 샘플의 흡광도 유지율을 구했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
흡광도 유지율=(내구 시험후의 A(405)/내구 시험전의 A(405))×100
<점착제 부착 편광판의 흡광도 측정>
얻어진 점착제 부착 편광판을 30 mm×30 mm의 크기로 재단한 후, 점착제층을 유리 기판에 접합하여, 측정 샘플을 얻었다. 측정 샘플의 층구성은, 유리 기판/점착제층/COP 필름/접착제층/편광자/접착제층/TAC 필름이다. 유리 기판에는, 무알칼리 유리 기판[코닝사 제조의 상품명 「Eagle XG」]을 사용했다.
얻어진 측정 샘플에 관해, 적분구 부착 분광 광도계[일본분광(주) 제조의 제품명 「V7100」]를 이용하여 파장 380∼780 nm의 범위에서의 편광판의 투과축 방향과 흡수축 방향의 투과 스펙트럼을 측정하고, 편광판의 투과축 방향의 투과 스펙트럼으로부터, 점착제층 부착 편광판의 흡광도를 산출했다. 또, 점착제 부착 편광판은, 파장 405 nm의 단파장의 가시광에서의 열화 억제를 확인했다. 또한, TAC 필름 단체, COP 필름 단체 및 무알칼리 유리 단체 모두, 파장 405 nm 및 파장 440 nm의 흡광도는 0이었다.
표 1에 기재된 바와 같이, 본 발명의 점착제 시트는, 파장 350 nm 부근의 광흡수 기능과 파장 405 nm 부근의 광흡수 기능이 양호하다. 그 때문에, 본 발명의 점착제 시트를 위상차 필름이나 유기 EL 소자에 적층하면, 본 발명의 점착제 시트는 위상차 필름이나 유기 EL 소자에 대한 자외선과 파장 405 nm 부근의 광을 차단할 수 있고, 자외선과 단파장의 가시광의 양쪽으로부터 위상차 필름이나 유기 EL 소자의 열화를 억제할 수 있다. 또한, 본 발명의 점착제 시트는 내후성 시험후에도 파장 405 nm 부근의 광흡수 기능이 양호하며, 양호한 내후성(내구성)을 갖는다. 또한, 본 발명의 점착제 시트는, 파장 440 nm 부근에서의 광흡수 성능이 낮고, 액정 표시 장치의 발광을 저해하지 않고, 양호한 색채 표현을 하는 것이 가능하다.
또한, 표 2에 기재된 바와 같이, 본 발명의 점착제 시트 부착 광학 필름은, 파장 405 nm 부근의 광흡수 기능이 양호하다. 또한, 내후성 시험후에도 파장 405 nm 부근의 광흡수 기능이 양호하며, 양호한 내후성(내구성)을 갖는다.
본 발명의 점착제 시트 및 점착제 시트 부착 광학 필름은, 액정 패널 및 액정 표시 장치에 적합하게 이용된다.
1 : 점착제 시트
2 : 박리 필름
10A, 10B, 10C : 광학 적층체
3 : 보호 필름
4 : 광학 필름
7, 60 : 접착제층
7a : 점착제층
8 : 보호 필름
9 : 편광 필름
30 : 발광 소자
40 : 광학 필름
50, 50a : 1/4 파장 위상차층
60 : 접착제층
70 : 1/2 파장 위상차층
80 : 포지티브 C층

Claims (13)

  1. (메트)아크릴계 수지(A) 및 광선택 흡수 화합물을 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제 시트로서, 하기 식 (1) 및 (2)를 만족시키는 점착제 시트.
    A(350)≥0.5 (1)
    A(405)≥0.5 (2)
    [식 (1) 중, A(350)은 파장 350 nm에서의 흡광도를 나타낸다.
    식 (2) 중, A(405)는 파장 405 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
  2. 제1항에 있어서, 하기 식 (3)을 더 만족시키는 점착제 시트.
    A(440)≤0.1 (3)
    [식 (3) 중, A(440)은 파장 440 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
  3. 제1항에 있어서, 하기 식 (4)를 더 만족시키는 점착제 시트.
    A(405)/A(440)≥5 (4)
    [식 (4) 중, A(405)는 파장 405 nm에서의 흡광도를 나타내고, A(440)은 파장 440 nm에서의 흡광도를 나타낸다.]
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 광선택 흡수 화합물이, 파장 350 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물과 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 시트.
  5. 제4항에 있어서, 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 식 (5)를 만족시키는 화합물인 점착제 시트.
    ε(405)≥20 (5)
    [식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 nm에서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(gㆍcm)이다.]
  6. 제5항에 있어서, 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 식 (6)을 만족시키는 화합물인 점착제 시트.
    ε(405)/ε(440)≥20 (6)
    [식 (6) 중, ε(405)는 파장 405 nm에서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 nm에서의 그램 흡광 계수를 나타낸다.]
  7. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 파장 405 nm의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물이 분자 내에 메로시아닌 구조를 갖는 화합물인 점착제 시트.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 점착제 조성물이 가교제(B)를 더 포함하는 점착제 시트.
  9. 제8항에 있어서, 가교제(B)의 함유량이, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여 0.01∼15 질량부인 점착제 시트.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 광선택 흡수 화합물의 함유량이, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여 0.01∼20 질량부인 점착제 시트.
  11. 점착제 시트의 적어도 한쪽의 면에 광학 필름을 적층시켜 이루어진 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층 부착 광학 필름.
  12. 제11항에 있어서, 광학 필름은 편광판인 점착제층 부착 편광판.
  13. 제11항 또는 제12항에 기재된 점착제 부착 광학 필름을 포함하는 표시 장치.
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