KR20220116547A - 광학 적층체 및 화상 표시 장치 - Google Patents

Abstract

〔과제〕 고온 고습하에서 편광자의 단부에 있어서 탈색이 억제된 신규의 광학 적층체를 제공한다.
〔해결 수단〕 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는 광학 적층체로서, 상기 중간층은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖고, 상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유율이 5.0 질량% 이하이며, 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수제를 함유하고, 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 2.3 이하인 광학 적층체.

Description

광학 적층체 및 화상 표시 장치

본 발명은 광학 적층체 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.

편광자의 편면(片面) 또는 양면에 보호 필름을 적층 접합하여 이루어지는 편광판은, 모바일·텔레비전을 비롯한 액정 표시 장치나 유기 일렉트로루미네선스(유기 EL) 표시 장치 등의 화상 표시 장치, 특히 최근에는 휴대 전화나 스마트폰, 태블릿형 단말과 같은 각종 모바일 기기에 널리 이용되고 있는 광학 부재이다.

편광판은, 점착제층을 통해 화상 표시 소자(액정 셀이나 유기 EL 표시 소자 등)에 접합하여 이용되는 경우가 많다(예컨대, 일본 특허 공개 제2010-229321호 공보(특허문헌 1)). 이 때문에, 편광판은, 그 한쪽 면에 미리 점착제층이 형성된 점착제층 부착 편광판의 형태로 시장 유통되는 경우가 있다.

또한, 모바일 기기는 고온 고습의 가혹한 환경하에서 사용되는 경우도 많아, 편광자로서는 높은 내구성이 요구되고 있다. 일본 특허 공개 제2013-105036호 공보(특허문헌 2)에는, 편광자 중의 붕산 함유량을 높게 하여, 붕산 가교를 많이 생성시킴으로써, I₃ 착체가 고배향으로 높은 안정성으로 존재하게 되어, 블루 리크(blue leak)의 발생이 억제되고 저온 고습 내구성이 우수한 편광자가 얻어지는 것이 기재되어 있다.

일본 특허 공개 제2010-229321호 공보 일본 특허 공개 제2013-105036호 공보

편광판에 있어서, 고온 고습의 환경하에서는 편광자의 단부에 있어서 탈색이 발생하기 쉽다고 하는 문제가 있었다. 이러한 문제는, 편광자의 편면에만 보호 필름이 적층 접합되어 이루어지는 구성에 있어서 현저하였다. 편광자 중의 붕소 함유량을 높게 함으로써 편광자의 탈색을 억제하는 방법이 알려져 있으나, 이러한 방법에 의하면, 가열에 의해 수축하기 쉽다고 하는 문제가 있었다.

본 발명은 고온 고습하에서 편광자의 단부에 있어서 탈색이 억제된 신규의 광학 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 이하에 예시하는 광학 적층체 및 그것을 이용한 화상 표시 장치를 제공한다.

〔1〕 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는 광학 적층체로서,

상기 중간층은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖고,

상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유율이 5.0 질량% 이하이며,

상기 광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수제를 함유하고, 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 2.3 이하인, 광학 적층체.

〔2〕 상기 편광자의 상기 중간층측과는 반대측에 적층된 보호 필름을 더 갖는, 〔1〕에 기재된 광학 적층체.

〔3〕 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 상기 광선택 흡수제의 단위 면적당 함유량이 0.01 g/㎡ 이상 5 g/㎡ 이하인, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 광학 적층체.

〔4〕 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 상기 광선택 흡수성 점착제층에 포함되는 전체 수지 성분 100 질량부에 대해 상기 광선택 흡수제를 0.1 질량부 이상 10 질량부 이하 포함하는, 〔1〕∼〔3〕 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.

〔5〕 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 두께가 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하인, 〔1〕∼〔4〕 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.

〔6〕 상기 광선택 흡수제는, 분자량이 100 이상 3000 이하의 유기계 광선택 흡수제인, 〔1〕∼〔5〕 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.

〔7〕 상기 중간층은, 상기 액정 경화층인 λ/4 위상차층을 갖는, 〔1〕∼〔6〕 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.

〔8〕 반사 방지용 편광판인, 〔1〕∼〔7〕 중 어느 1항에 기재된 광학 적층체.

〔9〕 화상 표시 패널과, 상기 화상 표시 패널의 전면에 배치된 〔8〕에 기재된 광학 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.

〔10〕 상기 화상 표시 패널은, 유기 EL 표시 패널인, 〔9〕에 기재된 화상 표시 장치.

본 발명에 의하면, 고온 고습의 환경하에서는 편광자의 단부에 있어서 탈색이 억제된 광학 적층체 및 이것을 포함하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 4는 광학 현미경에서의 관찰 화상의 일례를 도시한 도면이다.
도 5는 관찰 화상을 흑백 256계조로 변환한 데이터의 일례를 도시한 도면이다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 이하의 모든 도면에 있어서는, 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해서 축척을 적절히 조정하여 도시하고 있고, 도면에 도시된 각 구성 요소의 축척과 실제 구성 요소의 축척은 반드시 일치하지 않는다.

<광학 적층체>

본 발명의 광학 적층체는, 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는다. 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도 1, 도 2, 도 3에 도시한다.

도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일례의 개략 단면도이다. 도 1에 도시된 광학 적층체(100)는, 보호 필름(11)과, 편광자(10)와, 중간층(300)과, 광선택 흡수성 점착제층(이하, 「제1 점착제층」이라고도 함)(20)을 이 순서로 갖는다. 중간층(300)은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖는다.

도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일례의 개략 단면도이다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)는, 보호 필름(11)과, 편광자(10)와, 중간층(300)과, 광선택 흡수성 점착제층(20)을 이 순서로 갖는다. 중간층(300)은, 편광자(10)측으로부터 순서대로, 제2 점착제층(32)과, 제1 액정 경화층(30)과, 접착제층(33)과, 제2 액정 경화층(31)을 갖는다.

도 3은 본 발명의 광학 적층체의 일례의 개략 단면도이다. 도 3에 도시된 광학 적층체(102)는, 보호 필름(11)과, 편광자(10)와, 중간층(300)과, 광선택 흡수성 점착제층(20)을 이 순서로 갖는다. 중간층(300)은, 제2 점착제층(32)을 포함한다.

광학 적층체(100, 101, 102)의 두께는, 광학 적층체에 요구되는 기능 및 광학 적층체의 용도 등에 따라 상이하기 때문에 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이고, 10 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하여도 좋으며, 120 ㎛ 이하여도 좋다.

광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수제를 포함한다. 본 발명의 광학 적층체는, 적어도 광선택 흡수성 점착제층이 광선택 흡수 성능을 가짐으로써, 광학 적층체 전체로서도 광선택 흡수 성능을 갖는다. 따라서, 본 발명의 광학 적층체는, 화상 표시 소자 상에 이용된 경우에는, 화상 표시 소자를 자외선으로부터 보호하는 기능을 갖는다.

본 발명의 광학 적층체는, 광선택 흡수성 점착제층 이외에도, 광선택 흡수 성능을 갖는 층을 포함하는 구성이어도 좋다. 다른 층으로서는, 예컨대, 보호 필름(11), 중간층(300)을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 광선택 흡수성 점착제층이 광선택 흡수 성능을 갖고, 광학 적층체 전체의 광선택 흡수 성능의 발현에 기여하는 구성임으로써, 다른 층에 있어서의 광선택 흡수 성능의 설계의 자유도를 향상시킬 수 있다. 예컨대, 보호 필름(11)은, 광선택 흡수 성능을 향상시키기 위해서는 그 두께를 두껍게 하는 설계가 필요해지는 경우가 있으나, 광선택 흡수 성능의 설계의 자유도가 높음으로써, 보호 필름(11)의 박막화가 용이해진다. 예컨대, 중간층(300)은, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색을 억제하는 관점에서, 광선택 흡수제를 실질적으로 포함하지 않는 구성이 바람직하고, 포함하는 경우라도, 그 함유량은 0.5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다. 중간층(300)이 제2 점착제층을 갖는 경우, 제2 점착제층에 대해서도 마찬가지로, 광선택 흡수제를 실질적으로 포함하지 않는 구성이 바람직하고, 포함하는 경우라도, 그 함유량은 0.5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다.

본 발명자들은, 점착제층에 포함되는 광선택 흡수제의 함유량과, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색의 정도 사이에 상관이 있다는 지견을 얻었다. 이러한 지견에 기초하면, 고온 고습하에서는, 광선택 흡수성 점착제층 중의 광선택 흡수제가 편광자측으로 이행하기 쉽고, 이러한 이행이 탈색을 발생시키는 요인의 하나라고 생각된다. 본 발명자들은, 더욱 예의 검토를 거듭하여, 광선택 흡수성 점착제층이 광선택 흡수제를 포함하는 경우라도, 광선택 흡수성 점착제층의 적층 위치 및 흡광도를 조정함으로써, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색을 억제할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명에 이른 것이다.

[편광자]

편광자는, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서의 편광자(10)는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이다.

붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이고, 바람직하게는 4.5 질량% 이하인 구성에 의해, 가열에 의해 발생하는 수축을 억제할 수 있다. 붕소의 함유량은 0.5 질량% 이상인 것이 바람직하고, 1 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 편광자(10)에 있어서, 붕소의 함유량이 적어질수록, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색이 발생하기 쉬워진다. 편광자(10) 중의 붕소는, 편광자(10)의 가교도를 향상시켜, 편광자(10) 중에 요오드를 안정적으로 유지하는 데 기여하고 있기 때문에, 붕소의 함유량이 적어지면 요오드를 안정적으로 유지할 수 없게 되어, 탈색을 발생시키게 된다고 생각된다. 본 발명에 있어서는, 편광자(10)에 대해, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하여도, 고온 고습하에서의 탈색을 억제할 수 있다.

편광자(10)는, 흡수 이방성을 갖는 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층, 중합성 액정 화합물의 경화물 및 이색성 색소를 포함하는 액정 경화층 등을 들 수 있다. 이색성 색소는, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와 단축 방향에 있어서의 흡광도가 상이한 성질을 갖는 색소를 말하며, 색소로서는 요오드가 적합하게 이용된다.

(1) 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층인 편광자

흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름인 편광자는, 통상, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 요오드 등의 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세(水洗)하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.

편광자의 두께는, 통상 30 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 15 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 13 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이하이며, 특히 바람직하게는 8 ㎛ 이하이다. 편광자의 두께는, 통상 2 ㎛ 이상이고, 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하며, 예컨대 5 ㎛ 이상이어도 좋다.

폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 그것에 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체가 이용된다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대 불포화 카르복실산계 화합물, 올레핀계 화합물, 비닐에테르계 화합물, 불포화 술폰계 화합물, 암모늄기를 갖는 (메트)아크릴아미드계 화합물을 들 수 있다.

폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85 몰% 이상 100 몰% 이하 정도이고, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋고, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈 등도 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1000 이상 10000 이하이고, 바람직하게는 1500 이상 5000 이하이다.

흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신층인 편광자는, 통상, 상기 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포하는 공정, 얻어진 적층 필름을 일축 연신하는 공정, 일축 연신된 적층 필름의 폴리비닐알코올계 수지층을 요오드 등의 이색성 색소로 염색함으로써, 이색성 색소를 흡착시켜 편광자로 하는 공정, 이색성 색소가 흡착된 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 편광자를 형성하기 위해서 이용하는 기재 필름은, 보호 필름(11)으로서 이용해도 좋다. 필요에 따라, 기재 필름을 편광자로부터 박리 제거해도 좋다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 후술하는 보호 필름(11)의 재료 및 두께와 동일해도 좋다.

[보호 필름]

보호 필름(11)은, 광학적으로 투명한 열가소성 수지, 예컨대 환상 폴리올레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 등의 수지를 포함하는 아세트산셀룰로오스계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 수지를 포함하는 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; (메트)아크릴계 수지; 폴리프로필렌계 수지, 이들 중 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하는 코팅층 또는 필름으로 할 수 있다. 보호 필름(11)은, 후술하는 광선택 흡수제를 포함하고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름(11)에 포함되는 광선택 흡수제는, 보호 필름(11) 내에 유지되기 때문에 편광자로의 이행은 발생하기 어렵다.

보호 필름(11) 상에 하드 코트층이 형성되어 있어도 좋다. 하드 코트층은, 보호 필름(11)의 한쪽 면에 형성되어 있어도 좋고, 양면에 형성되어 있어도 좋다. 하드 코트층을 형성함으로써, 경도 및 스크래치성을 향상시킨 보호 필름(11)으로 할 수 있다. 하드 코트층은, 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등의 경화층이어도 좋다. 하드 코트층은, 강도를 향상시키기 위해서, 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 첨가제는 한정되는 일은 없고, 무기계 미립자, 유기계 미립자, 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다. 하드 코트층은, 예컨대 자외선 경화형 수지의 경화층이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다.

보호 필름의 두께는 통상 1∼100 ㎛이지만, 강도나 취급성 등의 관점에서 5∼80 ㎛인 것이 바람직하고, 8∼60 ㎛인 것이 보다 바람직하며, 12∼45 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.

보호 필름(11)인 수지 필름은, 예컨대 접착제층을 통해 편광자(10)에 접합된다. 접착제층을 형성하는 접착제로서는, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제, 또는 열경화성 접착제를 들 수 있고, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제를 이용하는 것이 바람직하다. 접착제층을 통해 접합되는 대향하는 2개의 표면은, 미리 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행해도 좋고, 프라이머층 등을 갖고 있어도 좋다.

[광선택 흡수성 점착제층]

광선택 흡수성 점착제층(20)은, 점착제 조성물을, 유기 용제에 용해 또는 분산한 희석액을 기재 상에 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 기재로서는, 플라스틱 필름이 적합하고, 구체적으로는, 이형 처리가 실시된 박리 필름을 들 수 있다. 박리 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 수지를 포함하는 필름의 한쪽 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 실시된 것을 들 수 있다.

광선택 흡수성 점착제층의 두께는 예컨대 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이다. 화상 표시 패널과 적층하는 경우에는 통상, 8 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하이고, 박형화의 점에서는, 30 ㎛ 이하, 나아가서는 25 ㎛ 이하, 특히는 20 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 다른 광학 필름, 예컨대 λ/4 위상차층과 적층하는 경우에는, 통상 2 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 25 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 18 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 3 ㎛ 이상이고, 예컨대 10 ㎛ 이상이어도 좋으나, 한층 더한 박형화의 점에서는 10 ㎛ 이하, 특히 7 ㎛ 이하가 바람직하다.

광선택 흡수성 점착제층은, 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 2.3 이하인 것이 바람직하고, 0.2 이상 2.0 이하인 것이 더욱 바람직하다. 광선택 흡수성 점착제층(20)이 이러한 흡광도를 가짐으로써, 광학 적층체 전체로서 원하는 광선택 흡수 성능을 발현하면서, 광학 적층체 전체를 박형으로 구성하기 쉬워지기 때문이다.

광선택 흡수성 점착제층은,

파장 390 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 5.0 이하이고, 4.5 이하여도 좋으며, 파장 400 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 5.0 이하이고, 4.5 이하여도 좋으며, 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 1.00 이하, 바람직하게는 0.60 이하, 더욱 바람직하게는 0.40 이하이고, 0.00 이상이며,

파장 430 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 0.20 미만, 바람직하게는 0.18 이하, 더욱 바람직하게는 0.10 이하, 특히 바람직하게는 0.05 이하이고, 0.00 이상이며,

파장 440 ㎚에 있어서의 흡광도가 통상 0.10 미만, 바람직하게는 0.05 이하이고, 0.00 이상이다.

각각의 파장에 있어서의 흡광도가 상기 범위에 있음으로써, 자외선 영역의 광을 충분히 흡수하면서, 가시광 영역의 광은 그대로 투과할 수 있다.

광선택 흡수성 점착제층은, 단위 면적당 광선택 흡수제의 함유량이 0.01 g/㎡ 이상 5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다. 이러한 범위임으로써, 고온 고습하에서 발생하는 편광자의 탈색을 억제할 수 있다.

광학 적층체에 있어서, 광선택 흡수성 점착제층(20)이 최표면에 형성되고, 이것을 통해 광학 적층체가 피착체에 접합되도록 구성되어 있어도 좋다.

[점착제 조성물]

점착제 조성물은, 수지와 광선택 흡수제를 포함하고, 또한 가교제를 포함하는 것이 바람직하다.

수지는, 예컨대, (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 수지이다. 이 중에서도, (메트)아크릴계 수지(A)를 주성분으로 하는 수지가 바람직하다.

(광선택 흡수제)

광선택 흡수제는, 특정한 파장의 광을 선택적으로 흡수하는 것이며, 파장 360 ㎚∼420 ㎚에 적어도 하나의 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 380 ㎚∼410 ㎚에 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.

파장 350 ㎚ 근방에 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 광선택 흡수제(이하, 광선택 흡수제(A)라고 하는 경우가 있다.)로서는, 예컨대, 옥시벤조페논계 광선택 흡수제, 벤조트리아졸계 광선택 흡수제, 살리실산에스테르계 광선택 흡수제, 벤조페논계 광선택 흡수제, 시아노아크릴레이트계 광선택 흡수제, 트리아진계 광선택 흡수제 등의 유기계 광선택 흡수제를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 예컨대, 5-클로로-2-(3,5-디-sec-부틸-2-히드록실페닐)-2H-벤조트리아졸, (2-2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(직쇄 및 측쇄 도데실)-4-메틸페놀, 2-히드록시-4-벤질옥시벤조페논, 2,4-벤질옥시벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 유기계 광선택 흡수제는 1종류 또는 2종류 이상을 병용해도 좋다. 유기계 광선택 흡수제의 분자량은, 100 이상 3000 이하인 것이 바람직하다.

광선택 흡수제(A)는, 시판품을 이용해도 좋고, 예컨대, 트리아진계 광선택 흡수제로서, 케미프로 가세이 가부시키가이샤 제조의 「Kemisorb 102」, 가부시키가이샤 ADEKA 제조의 「아데카 스타브 LA46」, 「아데카 스타브 LAF70」, BASF 재팬사 제조의 「티누빈 109」, 「티누빈 171」, 「티누빈 234」, 「티누빈 326」, 「티누빈 327」, 「티누빈 328」, 「티누빈 928」, 「티누빈 400」, 「티누빈 460」, 「티누빈 405」, 「티누빈 477」 등을 들 수 있다. 벤조트리아졸계 광선택 흡수제로서는, 가부시키가이샤 ADEKA 제조의 「아데카 스타브 LA31」 및 「아데카 스타브 LA36」, 스미카 켐텍스 가부시키가이샤 제조의 「스미소브 200」, 「스미소브 250」, 「스미소브 300」, 「스미소브 340」 및 「스미소브 350」, 케미프로 가세이 가부시키가이샤 제조의 「Kemisorb 74」, 「Kemisorb 79」 및 「Kemisorb 279」, BASF사 제조의 「TINUVIN 99-2」, 「TINUVIN 900」 및 「TINUVIN 928」 등을 들 수 있다.

또한, 광선택 흡수제(A)는 무기계 광선택 흡수제여도 좋다. 무기계 광선택 흡수제로서는, 산화티탄, 산화아연, 산화인듐, 산화주석, 탤크, 카올린, 탄산칼슘, 산화티탄계 복합 산화물, 산화아연계 복합 산화물, ITO(주석 도프 산화인듐), ATO(안티몬 도프 산화주석) 등을 들 수 있다. 산화티탄계 복합 산화물로서는, 예컨대, 실리카, 알루미나를 도프한 산화아연 등을 들 수 있다. 이들 무기계 광선택 흡수제는 1종류, 또는, 2종류 이상 병용하여 이용할 수 있다. 또한, 유기계 광선택 흡수제와 무기계 광선택 흡수제를 병용해도 상관없다.

파장 405 ㎚ 근방에 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 광선택 흡수제(이하, 광선택 흡수제(B)라고 하는 경우가 있다.)로서는, 하기 식 (5)를 만족시키는 화합물인 것이 바람직하고, 또한 하기 식 (6)을 만족시키는 화합물인 것이 보다 바람직하다.

ε(405)≥20 (5)

〔식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다.

그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.〕

ε(405)/ε(440)≥20 (6)

[식 (6) 중, ε(405)는 파장 405 ㎚에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)은 파장 440 ㎚에 있어서의 그램 흡광도 계수를 나타낸다.]

또한, 그램 흡광도 계수는, 실시예에 기재된 방법으로 측정한다.

ε(405)의 값이 큰 화합물일수록 파장 405 ㎚의 광을 흡수하기 쉽고, 자외선 또는 단파장의 가시광에 있어서의 광학 적층체 및 화상 표시 장치의 열화를 억제한다. ε(405)의 값이 20 L/(g·㎝) 미만이면, 점착제 조성물 중에 있어서의 광선택 흡수제(B)의 함유량을 증대시키지 않으면, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 어려운 경향이 있다. ε(405)의 값은 20 L/(g·㎝) 이상인 것이 바람직하고, 30 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 바람직하며, 40 L/(g·㎝) 이상인 것이 더욱더 바람직하고, 통상 500 L/(g·㎝) 이하이다.

ε(405)/ε(440)의 값이 큰 화합물일수록, 화상 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고, 405 ㎚ 부근의 광을 흡수하여 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광 열화를 억제할 수 있다. ε(405)/ε(440)의 값은 20 이상이 바람직하고, 40 이상이 보다 바람직하며, 70 이상이 더욱더 바람직하고, 80 이상이 특히 보다 바람직하다.

파장 405 ㎚의 광을 선택적으로 흡수하는 화합물은, 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물인 것이 바람직하다. 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물의 분자량은, 100 이상 3000 이하인 것이 바람직하다. 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물로서는, -(N-C=C-C=C)-로 나타나는 부분 구조를 분자 내에 함유하고 있는 화합물로서, 예컨대, 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물, 인돌계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물 및 벤조트리아졸계 화합물이고, 보다 바람직하게는 식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물이다.

[식 중, R¹ 및 R⁵는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 7∼15의 아랄킬기, 탄소수 6∼15의 아릴기, 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH₂-는 -NR^1A-, -CO-, -SO₂-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.

R^1A는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.

R², R³ 및 R⁴는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼6의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 -CH₂-는 -NR^1B-, -CO-, -SO₂-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.

R^1B는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.

R⁶ 및 R⁷은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기 또는 전자 흡인성 기를 나타내거나, R⁶ 및 R⁷이 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋다.

R¹ 및 R²는 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋고, R² 및 R³은 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋으며, R² 및 R⁴는 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋고, R³ 및 R⁶은, 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋다.]

R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 2-시아노프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 1-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, n-옥틸기, n-데실, 2-헥실-옥틸기 등을 들 수 있다.

R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 이하의 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.

군 A: 니트로기, 히드록시기, 카르복시기, 술포기, 시아노기, 아미노기, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼12의 알킬실릴기, 탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기, *-R^a1-(O-R^a2)_t1-R^a3(R^a1 및 R^a2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타내고, R^a3은 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내며, t1은 1∼3의 정수를 나타낸다.)으로 표시되는 기 등을 들 수 있다.

탄소수 1∼12의 알킬실릴기로서는, 메틸실릴기, 에틸실릴, 프로필실릴기 등의 모노알킬실릴기; 디메틸실릴기, 디에틸실릴기, 메틸에틸실릴기 등의 디알킬실릴기; 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리프로필실릴기 등의 트리알킬실릴기를 들 수 있다.

탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기로서는, 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기 등을 들 수 있다.

할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.

R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기로서는, 벤질기, 페닐에틸기 등을 들 수 있다. 아랄킬기에 포함되는 -CH₂-가, -SO₂- 또는 -COO-로 치환된 기로서는 2-페닐아세트산에틸기 등을 들 수 있다.

R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.

R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 6∼15의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있다.

R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 6∼15의 아릴기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.

R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 6∼15의 복소환기로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.

R^1A 및 R^1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.

R², R³ 및 R⁴로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R^1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.

R², R³ 및 R⁴로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.

R², R³ 및 R⁴로 표시되는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등 탄소수 6∼15의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.

R², R³ 및 R⁴로 표시되는 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.

R², R³ 및 R⁴로 표시되는 방향족 복소환으로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.

R², R³ 및 R⁴로 표시되는 방향족 복소환이 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.

R⁶ 및 R⁷로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.

R⁶ 및 R⁷로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재된 기를 들 수 있다.

R⁶ 및 R⁷로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R¹ 및 R⁵로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.

R⁶ 및 R⁷로 표시되는 전자 흡인성 기로서는, 예컨대, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 알킬기, 식 (Ⅰ-1)로 표시되는 기를 들 수 있다.

[식 중, R¹¹은, 수소 원자 또는 탄소수 1∼25의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 메틸렌기 중 적어도 하나는 산소 원자로 치환되어 있어도 좋다.

X¹은, -CO-, -COO-, -OCO-, -CS-, -CSO-, -CSS-, -NR¹²CO- 또는 -CONR¹³-을 나타낸다.

R¹² 및 R¹³은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.]

할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.

할로겐 원자로 치환된 알킬기로서는, 예컨대, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로 sec-부틸기, 퍼플루오로 tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등의 퍼플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로 치환된 알킬기의 탄소수로서는, 통상 1∼25이다.

R⁶ 및 R⁷은 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 좋고, R⁶ 및 R⁷로 형성되는 고리 구조로서는, 예컨대, 멜드럼산 구조, 바르비투르산 구조, 디메돈 구조 등을 들 수 있다.

R¹¹로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R¹ 및 R⁵로 표시되는 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.

R² 및 R³이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R²와 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 질소 함유 고리 구조로서, 예컨대, 4∼14원환의 질소 함유 복소환을 들 수 있다. R² 및 R³이 서로 연결되어 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고, 다환이어도 좋다. 구체적으로는, 피롤리딘환, 피롤린환, 이미다졸리딘환, 이미다졸린환, 옥사졸린환, 티아졸린환, 피페리딘환, 모르폴린환, 피페라진환, 인돌환, 이소인돌환 등을 들 수 있다.

R¹ 및 R²가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R¹ 및 R²가 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 질소 함유 고리 구조로서, 예컨대, 4∼14원환(바람직하게는 4∼8원환)의 질소 함유 복소환을 들 수 있다. R¹ 및 R²가 서로 연결되어 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고, 다환이어도 좋다. 구체적으로는, R² 및 R³이 서로 연결되어 형성되는 고리 구조와 동일한 것을 들 수 있다.

R² 및 R⁴가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, 4∼14원환의 질소 함유 고리 구조를 들 수 있고, 5원환∼9원환의 질소 함유 고리 구조가 바람직하다. R² 및 R⁴가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는, 단환이어도 좋고, 다환이어도 좋다. 이들 고리는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 이러한 고리 구조로서는, 상기 R²와 R³에 의해 형성되는 고리 구조로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.

R³ 및 R⁶이 서로 연결되어 형성되는 고리 구조로서는, R³-C=C-C=C-R⁶이 고리의 골격을 형성하는 고리 구조이다. 예컨대, 페닐기 등을 들 수 있다.

R²와 R³이 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있는 식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물로서는 식 (Ⅰ-A)로 표시되는 화합물을 들 수 있고, R² 및 R⁴가 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있는 식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물로서는, 식 (Ⅰ-B)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.

[식 (Ⅰ-A), 식 (Ⅰ-B) 중, R¹, R³, R⁴, R⁵, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

고리 W¹ 및 고리 W²는, 각각 독립적으로, 질소 함유 고리를 나타낸다.]

고리 W¹ 및 고리 W²는, 고리의 구성 단위로서 질소 원자를 함유하는 질소 함유 고리를 나타낸다. 고리 W¹ 및 고리 W²는, 각각 독립적으로, 단환이어도 좋고, 다환이어도 좋으며, 질소 이외의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다. 고리 W¹ 및 고리 W²는, 각각 독립적으로, 5원환∼9원환의 고리인 것이 바람직하다.

식 (Ⅰ-A)로 표시되는 화합물은, 식 (Ⅰ-A-1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.

[식 (Ⅰ-A-1) 중, R¹, R⁴, R⁵, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

A¹은, -CH₂-, -O-, -S- 또는 -NR^1D-를 나타낸다.

R¹⁴ 및 R¹⁵는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.

R^1D는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.]

식 (Ⅰ-B)로 표시되는 화합물은, 식 (Ⅰ-B-1)로 표시되는 화합물 및 식 (Ⅰ-B-2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.

[식 (Ⅰ-B-1) 중, R¹, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

R¹⁶은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기, 아릴기를 나타낸다.]

[식 (Ⅰ-B-2) 중, R³, R⁵, R⁶ 및 R⁷은, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

R³⁰은, 수소 원자, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 머캅토기, 아미노기, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 2∼13의 아실기, 탄소수 2∼13의 아실옥시기 또는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기를 나타낸다.

R³¹은, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 머캅토기, 탄소수 1∼12의 알킬티오기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기 또는 복소환기를 나타낸다.]

R³⁰으로 표시되는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.

R³⁰으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.

R³⁰으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실옥시기로서는, 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, 프로필카르보닐옥시기, 부틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.

R³⁰으로 표시되는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 등을 들 수 있다.

R³⁰으로 표시되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼18의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼18의 아랄킬기를 들 수 있다.

R³⁰으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R¹⁴로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.

R³⁰으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜톡시기 등을 들 수 있다.

R³⁰은, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 아미노기 또는 머캅토기인 것이 바람직하다.

R³¹로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R¹⁴로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.

R³¹로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기로서는, R³⁰으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기와 동일한 것을 들 수 있다.

R³¹로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬티오기로서는, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등을 들 수 있다.

R³¹로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기로서는, 아미노기; N-메틸아미노기, N-에틸아미노기 등의 하나의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-메틸에틸아미노기 등의 2개의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; 등을 들 수 있다.

R³¹로 표시되는 복소환으로서는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 모르폴리닐기 등의 탄소수 4∼9의 질소 함유 복소환기 등을 들 수 있다.

R³ 및 R⁶이 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고, 또한 R² 및 R⁴가 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물로서는, 식 (Ⅰ-C)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.

[식 (Ⅰ-C) 중, R¹, R⁶ 및 R⁷은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

R²¹, R²²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 히드록시기를 나타낸다.

X² 및 X³은, 각각 독립적으로, -CH₂- 또는 -N(R²⁵)=를 나타낸다.

R²⁵는, 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기를 나타낸다.]

R²⁵로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R¹로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.

R²⁵로 표시되는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기: 벤질기, 페닐에틸기 등의 아랄킬기: 비페닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다. R²⁵로 표시되는 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 히드록시기 등을 들 수 있다.

R³ 및 R⁶은, 각각 독립적으로, 전자 흡인성 기인 것이 바람직하다.

R¹ 및 R²가 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고, 또한 R³ 및 R⁶이 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물로서는, 식 (Ⅰ-D)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.

[식 (Ⅰ-D) 중, R⁴, R⁵, R⁷은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 히드록시기, 아랄킬기를 나타낸다.]

R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R^1A 및 R^1B로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다. R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 히드록시기를 들 수 있다.

R²⁵, R²⁶, R²⁷ 및 R²⁸로 표시되는 아랄킬기로서는, 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.

R⁶ 및 R⁷이 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(Ⅰ)로서는, 식 (Ⅰ-E)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.

[식 (Ⅰ-E) 중, R¹, R², R³, R⁴, R⁵는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

고리 W³은, 환상 화합물을 나타낸다]

고리 W³은, 5원환∼9원환의 고리이고, 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다.

식 (Ⅰ-E)로 표시되는 화합물은, 식 (ⅠE-1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.

[식 (ⅠE-1) 중, R¹, R², R³ 및 R⁵는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

R¹⁷, R¹⁸, R¹⁹, R^q는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 아랄킬기, 아릴기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH₂-기는 -NR^1D-, -C(=O)-, -C(=S)-, -O-, -S-로 치환되어 있어도 좋으며, R¹⁷ 및 R¹⁸은 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋고, R¹⁸ 및 R¹⁹는 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋으며, R¹⁹ 및 R^q는, 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 좋다. m, p, q는 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타낸다.]

식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물로서는, 이하의 화합물을 들 수 있다.

광선택 흡수제의 합계의 함유량은, 점착제층의 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 2.3 이하가 되도록 선택되면 한정되지 않으나, 점착제 조성물에 있어서, 예컨대, 전체 수지 성분 100 질량부에 대해, 0.01∼20 질량부이고, 바람직하게는 0.05∼15 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.1∼10 질량부이다.

광선택 흡수제(A)와 광선택 흡수제(B)의 질량비(광선택 흡수제(A)/광선택 흡수제(B))는, 통상 0.05∼20이고, 바람직하게는 0.1∼10이다.

((메트)아크릴계 수지(A))

(메트)아크릴계 수지(A)는, (메트)아크릴산에스테르 유래의 구성 단위를 주성분(바람직하게는 50 질량% 이상 포함함)으로 하는 중합체인 것이 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, 1종 이상의 (메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위(예컨대, 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위)를 포함해도 좋다. 또한 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산이란, 아크릴산 또는 메타크릴산의 어느 것이어도 좋은 것을 의미하고, 그 외에, (메트)아크릴레이트 등이라고 할 때의 「(메트)」도 동일한 취지이다.

(메트)아크릴산에스테르로서는, 하기 식 (X)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.

[식 (X) 중, R¹⁰¹은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R¹⁰²는 탄소수 1∼14의 알킬기 또는 탄소수 7∼20의 아랄킬기를 나타내며, 상기 알킬기 또는 상기 아랄킬기의 수소 원자는, 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.]

식 (X)에 있어서, R¹⁰²는, 바람직하게는, 탄소수 1∼14의 알킬기이고, 보다 바람직하게는, 탄소수 1∼8의 알킬기이다.

식 (X)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르로서는,

(메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 n-펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 n-헵틸, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 n-노닐, (메트)아크릴산 n-데실, (메트)아크릴산 n-도데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산스테아릴 등의 (메트)아크릴산의 직쇄상 알킬에스테르;

(메트)아크릴산 i-프로필, (메트)아크릴산 i-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 i-펜틸, (메트)아크릴산 i-헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 i-옥틸, (메트)아크릴산 i-노닐, (메트)아크릴산 i-스테아릴, (메트)아크릴산 i-아밀 등의 (메트)아크릴산의 분지상 알킬에스테르;

(메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산이소보로닐, (메트)아크릴산아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산 tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 지환 골격 함유 알킬에스테르;

(메트)아크릴산페닐 등의 (메트)아크릴산의 방향환 골격 함유 에스테르;

등을 들 수 있다.

또한, (메트)아크릴산알킬에스테르에 있어서의 알킬기에 치환기가 도입된 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수도 있다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르의 치환기는, 알킬기의 수소 원자를 치환하는 기이며, 그 구체예는 페닐기, 알콕시기, 페녹시기를 포함한다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르로서, 구체적으로는, (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸, (메트)아크릴산페녹시디에틸렌글리콜, (메트)아크릴산페녹시폴리(에틸렌글리콜) 등을 들 수 있다.

이들 (메트)아크릴산에스테르는, 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에, 상이한 복수의 것을 이용해도 좋다.

(메트)아크릴계 수지(A)는, 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tg가 0℃ 미만인 아크릴산알킬에스테르(a1) 유래의 구성 단위, 및 호모폴리머의 Tg가 0℃ 이상인 아크릴산알킬에스테르(a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 아크릴산알킬에스테르(a1) 유래의 구성 단위 및 아크릴산알킬에스테르(a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것은, 점착제층의 고온 내구성을 높이는 데 있어서 유리하다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 Tg는, 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌값을 채용할 수 있다.

아크릴산알킬에스테르(a1)의 구체예로서는, 아크릴산에틸, 아크릴산 n- 및 i-프로필, 아크릴산 n- 및 i-부틸, 아크릴산 n-펜틸, 아크릴산 n- 및 i-헥실, 아크릴산 n-헵틸, 아크릴산 n- 및 i-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n- 및 i-노닐, 아크릴산 n- 및 i-데실, 아크릴산 n-도데실 등의 알킬기의 탄소수가 2∼12 정도의 아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.

아크릴산알킬에스테르(a1)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 본 발명의 점착제층을 광학 적층체에 적층했을 때의 추종성이나 리워크성의 관점에서, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실 등이 바람직하다.

아크릴산알킬에스테르(a2)는, 아크릴산알킬에스테르(a1) 이외의 아크릴산알킬에스테르이다. 아크릴산알킬에스테르(a2)의 구체예는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산 t-부틸 등을 포함한다.

아크릴산알킬에스테르(a2)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 고온 내구성의 관점에서, 아크릴산알킬에스테르(a2)는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐 등을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴산메틸을 포함하는 것이 보다 바람직하다.

식 (X)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지에 포함되는 전체 구조 단위 중, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 60∼95 질량%인 것이 바람직하며, 65∼95 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.

(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로서는, 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위가 바람직하고, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위가 보다 바람직하다. 극성 작용기로서는, 히드록시기, 카르복실기, 치환 혹은 무치환 아미노기, 에폭시기 등의 복소환기 등을 들 수 있다.

극성 작용기를 갖는 단량체로서는,

(메트)아크릴산 1-히드록시메틸, (메트)아크릴산 1-히드록시에틸, (메트)아크릴산 1-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 1-히드록시부틸, (메트)아크릴산 1-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시부틸, (메트)아크릴산 2-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-히드록시부틸, (메트)아크릴산 3-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 3-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 4-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 4-히드록시헥실, (메트)아크릴산 4-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 2-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시-3-페녹시프로필, (메트)아크릴산 5-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 5-히드록시헥실, (메트)아크릴산 5-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 5-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 5-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시헥실, (메트)아크릴산 6-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 6-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 6-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 7-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 7-히드록시노닐, (메트)아크릴산 7-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 8-히드록시노닐, (메트)아크릴산 8-히드록시데실, (메트)아크릴산 8-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시노닐, (메트)아크릴산 9-히드록시데실, (메트)아크릴산 9-히드록시운데실, (메트)아크릴산 9-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시데실, (메트)아크릴산 10-히드록시운데실, (메트)아크릴산 10-히드록시도데실, 아크릴산 10-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시운데실, (메트)아크릴산 11-히드록시도데실, (메트)아크릴산 11-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 11-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 12-히드록시도데실, (메트)아크릴산 12-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 12-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 13-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 14-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 14-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시헵타데실 등의 히드록시기를 갖는 단량체;

(메트)아크릴산, 카르복시알킬(메트)아크릴레이트(예컨대, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트), 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기를 갖는 단량체;

아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란 등의 복소환기를 갖는 단량체;

아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체를 들 수 있다.

그 중에서도, (메트)아크릴산에스테르 중합체와 가교제의 반응성의 점에서, 히드록시기를 갖는 단량체 또는 및 카르복실기를 갖는 단량체가 바람직하고, 히드록시기를 갖는 단량체 및 카르복실기를 갖는 단량체 모두를 포함하는 것이 보다 바람직하다.

히드록시기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 3-히드록시프로필, 아크릴산 4-히드록시부틸, 아크릴산 5-히드록시펜틸, 아크릴산 6-히드록시헥실이 바람직하다. 특히, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 4-히드록시부틸 및 아크릴산 5-히드록시펜틸을 이용함으로써 양호한 내구성을 얻을 수 있다.

카르복실기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산을 이용하는 것이 바람직하다.

점착제층의 외면에 적층할 수 있는 세퍼레이트 필름의 박리력 항진을 방지하는 관점에서, (메트)아크릴계 수지(A)는, 아미노기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 실질적으로 포함하지 않는다란, (메트)아크릴계 수지(A)를 구성하는 전체 구성 단위 100 질량부 중, 0.1 질량부 이하인 것을 말한다.

극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는, 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.

방향족 기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 4 질량부 이상 20 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량부 이상 16 질량부 이하이다.

(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로서는, 스티렌계 단량체에 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에 유래하는 구조 단위, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위, (메트)아크릴아미드계 단량체에 유래하는 구조 단위 등도 들 수 있다.

스티렌계 단량체로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오도스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.

비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 질소 함유 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.

분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체로서는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체를 들 수 있다.

(메트)아크릴아미드계 단량체로서는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸〕(메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1,1-디메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드 및 N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드가 바람직하다.

(메트)아크릴계 수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는, 50만∼250만이다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온 환경에 있어서의 점착제층의 내구성이 향상되어, 피착체와 점착제층 사이의 들뜸 박리나, 점착제층의 응집 파괴 등의 문제를 억제하기 쉽다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 도공성의 관점에서 유리하다. 점착제층의 내구성 및 점착제 조성물의 도공성의 양립의 관점에서, 중량 평균 분자량은 바람직하게는 60만∼180만이고, 보다 바람직하게는 70만∼170만이며, 특히 바람직하게는 100만∼160만이다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)과 수 평균 분자량(Mn)의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw/Mn)는, 통상 2∼10, 바람직하게는 3∼8, 더욱 바람직하게는 3∼6이다. 중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 분석할 수 있고, 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.

(메트)아크릴계 수지(A)는, 아세트산에틸에 용해시켜, 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에 있어서의 점도가, 20 ㎩·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 ㎩·s인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위의 점도이면, 점착제 조성물을 기재에 도공할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 또한, 점도는, 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.

(메트)아크릴계 수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, 예컨대 -60∼20℃, 바람직하게는 -50∼15℃, 더욱 바람직하게는 -45∼10℃, 특히 -40∼0℃여도 좋다. Tg가 상한값 이하이면 점착제층의 피착체 기재에 대한 젖음성의 향상에 유리하고, 하한값 이상이면 점착제층의 내구성의 향상에 유리하다. 또한, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.

(메트)아크릴계 수지(A)는, 예컨대, 용액 중합법, 괴상(塊狀) 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등의 공지된 방법에 의해 제조할 수 있고, 특히 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합법으로서는, 예컨대, 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기하, 열중합 개시제를 첨가하여, 40∼90℃, 바람직하게는 50∼80℃ 정도의 온도 조건하, 3∼15시간 정도 교반하는 방법을 들 수 있다. 반응 제어를 위해서, 중합 중, 연속적 또는 간헐적으로 단량체나 열중합 개시제를 첨가해도 좋다. 상기 단량체나 열중합 개시제는 유기 용매에 첨가한 상태여도 좋다.

중합 개시제로서는, 열중합 개시제나 광중합 개시제 등이 이용된다. 광중합 개시제로서는, 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다. 열중합 개시제로서는, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-히드록시메틸프로피오니트릴) 등의 아조계 화합물; 라우릴퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화벤조일, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디프로필퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소 등의 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 또한, 과산화물과 환원제를 병용한 레독스계 개시제 등도 사용할 수 있다.

중합 개시제의 비율은, (메트)아크릴계 수지(A)를 구성하는 단량체의 총량 100 질량부에 대해, 0.001∼5 질량부 정도이다. (메트)아크릴계 수지의 중합은, 활성 에너지선(예컨대 자외선 등)에 의한 중합법을 사용해도 좋다.

유기 용매로서는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 프로필알코올, 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다.

(메트)아크릴계 수지(A)의 함유량은, 점착제 조성물 100 질량% 중, 통상 60 질량%∼99.9 질량%이고, 바람직하게는 70 질량%∼99.5 질량%이며, 보다 바람직하게는 80 질량%∼99 질량%이다.

가교제(B)는, (메트)아크릴계 수지(A) 중의 극성 작용기(예컨대 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 복소환기 등)와 반응한다. 가교제(B)는 (메트)아크릴계 수지 등과 가교 구조를 형성하여, 내구성이나 리워크성에 유리한 가교 구조를 형성한다.

가교제(B)로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트라이프 및 점착제층의 내구성, 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.

이소시아네이트계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하고, 예컨대, 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트), 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한 가교제(B)는, 상기 이소시아네이트 화합물의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트 화합물 등의 유도체여도 좋다. 가교제(B)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 대표적으로는 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트), 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트) 또는 이들의 다가 알코올 화합물(예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판)에 의한 부가체, 또는 이소시아누레이트체를 들 수 있다. 가교제(B)가, 방향족 이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물, 또는 이소시아누레이트체에 의한 부가체이면, 최적의 가교 밀도(또는 가교 구조)의 형성에 유리하기 때문인지, 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히, 톨릴렌디이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체이면, 예컨대 점착제층을 편광판에 적용한 경우 등이어도 내구성을 향상시킬 수 있다.

가교제(B)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼15 질량부이고, 바람직하게는 0.05∼10 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.1∼5 질량부이다.

본 발명의 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물은, 실란 화합물(D)을 더 포함하고 있어도 좋다.

실란 화합물(D)로서는, 예컨대, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.

실란 화합물(D)은, 실리콘 올리고머여도 좋다. 실리콘 올리고머의 구체예를, 모노머끼리의 조합의 형태로 표기하면 다음과 같다.

3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토프로필기 함유 올리고머; 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토메틸기 함유 올리고머; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머; 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 아크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 비닐기 함유 올리고머; 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.

실란 화합물(D)은, 하기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물이어도 좋다. 점착제 조성물이 하기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물을 포함하면, 기재나 유리, 투명 전극 등에 대한 밀착성을 더욱 향상시킬 수 있기 때문에, 고온 환경하에 있어서의 들뜸 박리나 발포 등이 발생하기 어려운 내구성 양호한 점착제층을 형성할 수 있다.

(식 중, B는, 탄소수 1∼20의 알칸디일기 또는 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH₂-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어도 좋으며, R^d7은 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, R^d8, R^d9, R^d10, R^d11 및 R^d12는 각각 독립적으로, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다)

식 (d1)에 있어서, B는, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기 등의 탄소수 1∼20의 알칸디일기; 시클로부틸렌기(예컨대 1,2-시클로부틸렌기), 시클로펜틸렌기(예컨대 1,2-시클로펜틸렌기), 시클로헥실렌기(예컨대 1,2-시클로헥실렌기), 시클로옥틸렌기(예컨대 1,2-시클로옥틸렌기) 등의 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기, 또는 이들의 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH₂-가, -O- 또는 -CO-로 치환된 기를 나타낸다. 바람직한 B는, 탄소수 1∼10의 알칸디일기이다. R^d7은 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 펜틸기 등의 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, R^d8, R^d9, R^d10, R^d11 및 R^d12는 각각 독립적으로, 상기 R²¹에 예시한 탄소수 1∼5의 알킬기, 또는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, i-프로폭시기, 부톡시기, s-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다. 바람직한 R^d8, R^d9, R^d10, R^d11 및 R^d12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알콕시기이다. 이들 실란 화합물(D)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.

구체적인 상기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물로서는, 예컨대, (트리메톡시실릴)메탄, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,3-비스(트리에톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,4-비스(트리에톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,5-비스(트리에톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리에톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리프로폭시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리에톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리프로폭시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-5 알콕시실릴) C1-10 알칸; 비스(디메톡시메틸실릴)메탄, 1,2-비스(디메톡시메틸실릴)에탄, 1,2-비스(디메톡시에틸실릴)에탄, 1,4-비스(디메톡시메틸실릴)부탄, 1,4-비스(디메톡시에틸실릴)부탄, 1,6-비스(디메톡시메틸실릴)헥산, 1,6-비스(디메톡시에틸실릴)헥산, 1,8-비스(디메톡시메틸실릴)옥탄, 1,8-비스(디메톡시에틸실릴)옥탄 등의 비스(디 C1-5 알콕시 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸; 1,6-비스(메톡시디메틸실릴)헥산, 1,8-비스(메톡시디메틸실릴)옥탄 등의 비스(모노 C1-5 알콕시-디 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸 등을 들 수 있다. 이들 중, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-3 알콕시실릴) C1-10 알칸이 바람직하고, 특히, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄이 바람직하다.

실란 화합물(D)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼10 질량부이고, 바람직하게는 0.03∼5 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.05∼2 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1∼1 질량부이다. 상기 상한값 이하이면, 점착제층으로부터의 실란 화합물(A)의 블리드아웃의 억제에 유리하고, 상기 하한값 이상이면, 점착제층과, 금속층이나 유리 기판 등과의 밀착성(또는 접착성)을 향상시키기 쉬워져, 내박리성 등의 향상에 유리하다.

점착제 조성물은, 대전 방지제를 더 함유하고 있어도 좋다.

대전 방지제로서는, 계면 활성제, 실록산 화합물, 도전성 고분자, 이온성 화합물 등을 들 수 있고, 이온성 화합물인 것이 바람직하다. 이온성 화합물로서는, 관용의 것을 들 수 있다. 이온성 화합물을 구성하는 양이온 성분으로서는, 유기 양이온, 무기 양이온 등을 들 수 있다. 유기 양이온으로서는, 예컨대 피리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 무기 양이온으로서는, 예컨대 리튬 양이온, 칼륨 양이온, 나트륨 양이온, 세슘 양이온 등의 알칼리 금속 양이온, 마그네슘 양이온, 칼슘 양이온 등의 알칼리토류 금속 양이온 등을 들 수 있다. 특히 (메트)아크릴계 수지와의 상용성의 관점에서 피리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 피롤리디늄 양이온, 리튬 양이온, 칼륨 양이온이 바람직하다. 이온성 화합물을 구성하는 음이온 성분으로서는, 무기 음이온 및 유기 음이온의 어느 것이어도 좋으나, 대전 방지 성능의 점에서, 불소 원자를 포함하는 음이온 성분이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온 성분으로서는, 예컨대 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF₆-), 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF₃SO₂)₂N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO₂)₂N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C₆F₅)₄B-] 등을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 특히, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF₃SO₂)₂N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO₂)₂N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C₆F₅)₄B-]이 바람직하다.

점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 대전 방지 성능의 경시 안정성의 점에서, 실온에서 고체인 이온성 화합물이 바람직하다.

대전 방지제의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대해, 예컨대, 0.01∼20 질량부, 바람직하게는 0.1∼10 질량부, 더욱 바람직하게는 1∼7 질량부이다.

점착제 조성물은, 용제, 가교 촉매, 택키파이어(tackifier), 가소제, 연화제, 안료, 방청제, 무기 필러, 광산란성 미립자 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.

[중간층]

본 발명의 광학 적층체는 중간층(300)을 포함한다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서는, 편광자(10)와 광선택 흡수성 점착제층(20) 사이에 개재하는 중간층(300)을 가짐으로써, 광선택 흡수성 점착제층(20)에 포함되는 광선택 흡수제가 편광자(10)로 이행하는 것을 억제하는 효과가 있다. 단, 중간층(300)은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖는 구성이고, 광선택 흡수제의 투과를 완전히 차단하는 구성이 아니기 때문에 억제 효과는 충분하지 않다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서는, 광선택 흡수성 점착제층의 흡광도를 조정함으로써, 고온 고습하에서의 편광자의 단부에 있어서의 탈색을 억제할 수 있다.

중간층(300)의 두께는 한정되지 않으나, 예컨대, 1 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이고, 광선택 흡수성 점착제층에 포함되는 광선택 흡수제의 이행을 억제하는 관점에서, 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

중간층(300)은, 편광자(10)에 있어서 탈색이 발생하는 것을 억제하는 관점에서, 광선택 흡수제를 포함하지 않는 것이 바람직하고, 광선택 흡수제를 포함하는 경우에는 광선택 흡수제의 단위 면적당 함유량이 0.5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다.

[액정 경화층]

본 발명의 광학 적층체는, 중간층으로서 액정 경화층을 포함하고 있어도 좋다. 액정 경화층은 1층 또는 2층 이상이어도 좋다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)는, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31)을 포함한다.

액정 경화층은, 중합성 액정 화합물의 경화물의 층이며, 예컨대, 위상차층이다.

중합성 액정 화합물의 경화물인 위상차층으로서는, 제1 형태∼제5 형태를 들 수 있다.

제1 형태: 봉상(棒狀) 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수평 방향으로 배향된 위상차층

제2 형태: 봉상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 위상차층

제3 형태: 봉상 액정 화합물이 면내에서 나선형으로 배향의 방향이 변화하고 있는 위상차층

제4 형태: 원반상(圓盤狀) 액정 화합물이 경사 배향되어 있는 위상차층

제5 형태: 원반상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 이축성의 위상차층

예컨대, 유기 일렉트로루미네선스 디스플레이에 이용되는 광학 적층체로서는, 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들 형태의 위상차층을 적층시켜 이용해도 좋다.

위상차층은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차값 쪽이 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차값보다 작아지는 광학 특성이고, 바람직하게는, 위상차층이 하기 식 (7) 및 식 (8)을 만족시키는 것이다. 또한, Re(λ)는 파장 λ ㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.

Re(450)/Re(550)≤1 (7)

1≤Re(630)/Re(550) (8)

본 발명의 광학 적층체에 있어서, 위상차층이 제1 형태이고 또한 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑표시 시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 또한 120≤Re(550)≤150이 바람직하다.

위상차층의 형성에 이용되는 중합성 액정 화합물로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물, 및 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보, 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보, 일본 특허 공개 제2011-162678호 공보, 일본 특허 공개 제2016-81035호 공보, 국제 공개 제2017/043438호 및 일본 특허 공표 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물 등을 들 수 있다.

중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로부터 위상차층을 제조하는 방법은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보에 기재된 방법 등을 들 수 있다.

중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 액정 경화층인 위상차층의 두께는, 예컨대 0.1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 8 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상 6 ㎛ 이하이다.

위상차층은, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 λ/4 위상차층, 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 λ/2 위상차층, 포지티브 A 플레이트, 및 포지티브 C 플레이트일 수 있다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)와 같이, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31)을 포함하는 경우, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31)의 조합으로서, λ/2 위상차층과 λ/4 위상차층의 조합, λ/4 위상차층과 포지티브 C층의 조합 등을 들 수 있다.

본 발명의 광학 적층체는, λ/4 위상차층을 갖는 원편광판으로서 구성해도 좋다. 원편광판은, 반사 방지용 편광판으로서 이용할 수 있다.

[배향층]

배향층은, 배향층 상에 형성되는 액정 경화층에 포함되는 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는 배향 규제력을 갖는다. 배향층으로서는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향층을 들 수 있다. 배향층의 두께는, 통상 0.01∼10 ㎛이고, 0.01∼5 ㎛인 것이 바람직하다.

배향성 폴리머층은, 배향성 폴리머를 용제에 용해한 조성물을 기재층에 도포하여 용제를 제거하고, 필요에 따라 러빙 처리를 하여 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층에서는, 배향성 폴리머의 표면 상태나 러빙 조건에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.

광배향 폴리머층은, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물을 기재층에 도포하고, 편광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 광배향 폴리머층에서는, 광배향 폴리머에 대한 편광 조사 조건 등에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.

그루브 배향층은, 예컨대 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광, 현상 등을 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판형의 원반(原盤)에, 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층을 기재층에 전사하여 경화하는 방법, 기재층에 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층에, 요철을 갖는 롤형의 원반을 압박하는 등에 의해 요철을 형성하여 경화시키는 방법 등에 의해 형성할 수 있다.

기재층은, 수지 재료로 형성된 필름인 것이 바람직하다. 수지 재료로서는, 예컨대, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 연신성 등이 우수한 수지 재료가 이용된다. 구체적으로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지; 노르보르넨계 폴리머 등의 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; 폴리비닐알코올 및 폴리아세트산비닐 등의 비닐알코올계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리페닐렌술피드계 수지; 폴리페닐렌옥시드계 수지, 및 이들의 혼합물, 공중합물 등을 들 수 있다. 이들 수지 중, 환상 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 및 (메트)아크릴산계 수지 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 「(메트)아크릴산」이란, 「아크릴산 및 메타크릴산의 적어도 1종」을 의미한다.

기재층은, 상기한 수지 1종류 또는 2종 이상을 혼합한 단층이어도 좋고, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 다층 구조를 갖는 경우, 각 층을 이루는 수지는 동일해도 좋고 상이해도 좋다.

수지 필름을 이루는 수지 재료에는, 임의의 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 첨가제로서는, 예컨대, 광선택 흡수제, 산화 방지제, 활제(滑劑), 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 및 착색제 등을 들 수 있다.

기재층의 두께는, 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성의 점에서 5∼200 ㎛인 것이 바람직하고, 10∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하며, 10∼150 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.

기재층과 배향층의 밀착성을 향상시키기 위해서, 적어도 기재층의 배향층이 형성되는 측의 표면에 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행해도 좋고, 프라이머층 등을 형성해도 좋다. 기재층/배향층/액정 경화층을 포함하는 층 구성으로부터, 기재층을 박리하여, 배향층/액정 경화층을 본 발명의 중간층의 구성 요소로 해도 좋고, 기재층/배향층을 박리하여, 액정 경화층을 본 발명의 중간층의 구성 요소로 해도 좋다.

[접합층]

중간층(300)은, 2개의 층을 접합하기 위한 접합층을 포함할 수 있다. 접합층으로서는, 접착제층, 점착제층(이하, 「제2 점착제층」이라고도 함) 등을 들 수 있다. 도 2에 도시된 광학 적층체(101)는, 제1 액정 경화층(30)과 제2 액정 경화층(31) 사이에 개재되어 이들을 접합하는 접착제층(33)과, 제1 액정 경화층(30)의 접착제층(33)과는 반대측의 표면에 적층된 제2 점착제층(32)을 포함한다.

접착제층에는, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제, 또는 열경화성 접착제 등이 이용된다. 접착제층의 두께는, 예컨대 10 ㎚ 이상 20 ㎛ 이하, 바람직하게는 100 ㎚ 이상 10 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 500 ㎚ 이상 5 ㎛ 이하이다.

제2 점착제층은, 상기한 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물과 동일한 점착제 조성물로 구성되어도 좋고, (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물(이하, 「제2 점착제 조성물」이라고도 함)로 구성되어도 좋다. 제2 점착제 조성물로서는, 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 제2 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 좋다. 제2 점착제층의 두께는, 예컨대 0.1∼150 ㎛이고, 통상 8∼60 ㎛이며 박형화의 점에서는 30 ㎛ 이하, 나아가서는 20 ㎛ 이하가 바람직하다.

제2 점착제층은, 편광자(10)에 있어서 탈색이 발생하는 것을 억제하는 관점에서, 광선택 흡수제를 포함하지 않는 것이 바람직하고, 광선택 흡수제를 포함하는 경우에는 광선택 흡수제의 단위 면적당 전체 수지 성분 100 질량부에 대해 0.5 질량부 이하인 것이 바람직하다.

<광학 적층체의 제조 방법>

광학 적층체(100, 101, 102)는, 접합층을 통해 구성층끼리를 접합하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 또한, 구성층이 아닌 층을 박리하는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 접합층을 통해 층끼리를 접합하는 경우에는, 밀착성을 높이기 위해서, 접합면의 한쪽 또는 양쪽에 대해, 예컨대 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.

<광학 적층체>

본 발명의 광학 적층체는, 평면형이고, 그 면적은 예컨대 30 ㎜×30 ㎜∼180 ㎜×90 ㎜이다. 본 발명의 광학 적층체는 장방형, 정방형 등의 직사각형이어도 좋고, 직사각형을 구성하는 변의 일부가 절결된 절결부를 갖는 형상이나, 반원 형상, 면내에 관통 구멍을 갖는 형상 등의, 이른바 이형(異形) 형상이어도 좋다. 광학 적층체를 구성하는 편광자의 흡수축은, 광학 적층체의 외형이 직선의 변을 갖는 경우에는, 그 변에 평행해도 좋고, 직교하고 있어도 좋으며, 경사, 예컨대 45°의 각도로 교차하고 있어도 좋다. 광학 적층체가 위상차층을 갖고, 이 위상차층이 면내에 지상축(遲相軸)을 갖는 경우, 이 지상축과, 광학 적층체를 구성하는 편광자의 흡수축은 45°로 교차하고 있어도 좋고, 15°로 교차하고 있어도 좋으며, 75°로 교차하고 있어도 좋다.

<화상 표시 장치>

광학 적층체(100, 101, 102)는, 화상 표시 패널의 전면(시인측)에 배치되어, 화상 표시 장치의 구성 요소로서 이용할 수 있다. 원편광판인 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 있어서 반사 방지 기능을 부여하는 반사 방지용 편광판으로서 이용할 수도 있다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 유기 일렉트로루미네선스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로루미네선스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 들 수 있다.

실시예

이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니다. 실시예 및 비교예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 「질량%」 및 「질량부」이다.

[편면 보호 편광판의 제작]

(편광자의 제작)

두께 20 ㎛, 중합도 2400, 비누화도 99% 이상의 폴리비닐알코올 필름을, 열롤 상에서 연신 배율 4.1배로 일축 연신하고, 긴장 상태를 유지한 채로, 물 100 중량부당 요오드 0.05 중량부 및 요오드화칼륨 5 중량부를 함유하는 염색욕(染色浴)에 28℃에서 60초간 침지하였다.

계속해서, 물 100 중량부당 붕산 5.5 중량부 및 요오드화칼륨 15 중량부를 함유하는 붕산 수용액 1에, 64℃에서 110초간 침지하였다. 계속해서, 물 100 중량부당 붕산 5.5 중량부 및 요오드화칼륨 15 중량부를 함유하는 붕산 수용액 2에, 67℃에서 30초간 침지하였다. 그 후, 10℃의 순수(純水)를 이용하여 수세하고, 건조시켜, 편광자를 얻었다. 얻어진 편광자의 두께는 8 ㎛이고, 붕소 함유량은 4.3 중량%였다.

(수계 접착제의 조제)

물 100 중량부에 대해, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올(가부시키가이샤 쿠라레, 상품명 「KL-318」)을 3 질량부 용해하고, 그 수용액에 수용성 에폭시 수지인 폴리아미드에폭시계 첨가제(다오카 가가쿠 고교 가부시키가이샤, 상품명 「스미레즈레진(등록 상표) 650(30), 고형분 농도 30 중량%의 수용액)를 1.5 질량부 첨가하여, 수계 접착제를 조제하였다.

(보호 필름 A 및 박리 필름 B)

보호 필름 A로서, 두께 25 ㎛의 노르보르넨계 수지를 포함하는 연신 필름에, 두께 3 ㎛의 하드 코트층을 형성한 필름(닛폰 세이시 가부시키가이샤 제조, 상품명 「COP25ST-HC」)을 이용하였다.

박리 필름 B로서, 트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름 가부시키가이샤 제조, 「TD80UL」)을 이용하였다. 박리 필름의 두께는 80 ㎛이고, 투습도는 502 g/㎡·24 hr이었다.

(편면 보호 편광판의 제작)

제작한 편광자를 연속적으로 반송하고 보호 필름 A의 롤로부터 보호 필름 A를 연속적으로 권출하며, 또한, 박리 필름 B의 롤로부터 박리 필름 B를 연속으로 권출하였다. 편광자와 코로나 처리한 보호 필름 A 사이에 수계 접착제를 주입하고, 편광자와 박리 필름 B 사이에 순수를 주입하며, 접합 롤에 통과시켜, 보호 필름 A/수계 접착제/편광자/순수/박리 필름 B를 포함하는 적층 필름을 얻었다. 적층 필름을 반송하여, 건조로에서 80℃, 300초의 가열 처리를 행함으로써, 수계 접착제를 건조시키고, 편광자와 박리 필름 B 사이에 개재하는 순수를 휘발 제거하여, 박리 필름 부착 편면 보호 편광판을 얻었다. 박리 필름 부착 편면 보호 편광판으로부터 박리 필름 B를 박리하여, 편면 보호 편광판을 얻었다.

[위상차 적층체의 제작]

(「배향층/제1 액정 경화층」의 준비)

기재 필름 상에 형성된, 배향층과 네마틱 액정 화합물이 경화된 층인 λ/4 위상차층(제1 액정 경화층)을 준비하였다. 또한, 「배향층/제1 액정 경화층」의 합계 두께는 2 ㎛였다.

(「배향층/제2 액정 경화층」의 제작)

배향층 형성용의 조성물로서, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, A-600) 10.0 질량부와, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, A-TMPT) 10.0 질량부와, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, A-HD-N) 10.0 질량부와, 광중합 개시제로서 이르가큐어 907(BASF사 제조, Irg-907) 1.50 질량부를, 용매 메틸에틸케톤 70.0 질량부 중에서 용해시켜, 배향층 형성용 도공액을 조제하였다.

기재 필름으로서 두께 20 ㎛의 장척(長尺)형의 환상 올레핀계 수지(COP) 필름(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조)을 준비하고, 기재 필름의 편면에, 배향층 형성용 도공액을 바 코터로 도포하였다.

도공 후의 도포층에 온도 80℃에서 60초간의 열처리를 실시한 후, 자외선(UVB)을 220 mJ/㎠ 조사하여, 배향층 형성용의 조성물을 중합하고, 경화시켜, 기재 필름 상에 두께 2.3 ㎛의 배향층을 형성하였다.

위상차층 형성용의 조성물로서, 광중합성 네마틱 액정 화합물(머크사 제조, RMM28B) 20.0 질량부와, 광중합 개시제로서 이르가큐어 907(BASF사 제조, Irg-907) 1.0 질량부를, 용매 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 80.0 질량부 중에 용해시켜, 위상차층 형성용 도공액을 조제하였다.

앞서 얻어진 배향층 상에 위상차층 형성용 도공액을 도포하고, 도포층에 온도 80℃에서 60초간의 열처리를 실시하였다. 그 후, 자외선(UVB)을 220 mJ/㎠ 조사하여, 위상차층 형성용의 조성물을 중합하고, 경화시켜, 배향층 상에 두께 0.7 ㎛의 위상차층(제2 액정 경화층)을 형성하였다. 이와 같이 하여 기재 필름 상에 합계 두께 3 ㎛의 「배향층/제2 액정 경화층」을 얻었다.

(위상차 적층체의 제작)

기재 필름 상에 적층된 「배향층/제1 액정 경화층」과, 기재 필름 상에 적층된 「배향층/제2 액정 경화층」을, 자외선 경화형 접착제(두께 1 ㎛)에 의해, 각각의 액정 경화층면(기재 필름과는 반대측의 면)이 접합면이 되도록 접합시켰다. 계속해서, 자외선을 조사하여 자외선 경화형 접착제를 경화시켜, 제1 액정 경화층과 제2 액정 경화층의 2층의 액정 경화층을 포함하는 위상차 적층체를 제작하였다.

[광선택 흡수성 점착제층의 제작]

(아크릴계 수지(A-1)의 조제)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 86.4부, 아크릴산부틸 61.9부, 아크릴산 2-히드록시에틸 1.9부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서 내부 온도를 60℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합 개시제) 0.4부를 아세트산에틸 10부에 녹인 용액을 전량 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 60℃에서 1시간 유지하고, 계속해서 내부 온도를 50∼70℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하며, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12시간 경과할 때까지 이 온도로 보온하였다. 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제하였다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw가 60만, Mw/Mn이 7.0이었다. 이것을 아크릴계 수지(A-1)로 한다. DSC에 의한 유리 전이 온도는 -52.9℃였다.

(점착제층(1)의 제작)

아크릴계 수지(A-1)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)에, 상기 용액의 고형분 100부에 대해, 가교제(코로네이트 L, 고형분 75%: 도소 제조) 0.5부, 실란 화합물(신에츠 가가쿠 고교 제조: KBM-403) 0.5부 및 일본 특허 공개 제2019-007001호 공보의 단락 [0142]에 기재된 합성예 2에 광선택 흡수 화합물(2)로서 기재되어 있는 하기 식 (aa2)로 표시되는 화합물(광선택 흡수제) 2.5부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하여, 점착제 조성물(1)을 얻었다. 또한, 상기 가교제(코로네이트 L)의 배합량은, 유효 성분으로서의 질량부수이다.

이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(린텍사 제조 SP-PLR382050, 이하, 「세퍼레이터」라고 약기함)의 이형 처리면에, 상기에서 조제한 점착제 조성물(1)을, 건조 후의 점착제층의 두께가 17 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 점착제층을 제작하였다. 얻어진 점착제층을 점착제층(1)으로 하였다. 표 1에 점착제층(1)의 단위 면적당 광선택 흡수제의 함유량을 나타낸다.

(점착제층(2)의 제작)

광선택 흡수제의 배합량을 3.7부로 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 동일한 방법에 의해, 점착제층(2)을 제작하였다. 표 1에 점착제층(2)의 단위 면적당 광선택 흡수제의 함유량을 나타낸다.

(점착제층(3)의 제작)

광선택 흡수제의 배합량을 5.4부로 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 동일한 방법에 의해, 점착제층(3)을 제작하였다. 표 1에 점착제층(3)의 단위 면적당 광선택 흡수제의 함유량을 나타낸다.

[제2 점착제층의 제작]

상기 아크릴 수지(A-1)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)에, 가교제(코로네이트 L, 고형분 75%: 도소 제조) 0.5부 및 실란 화합물(신에츠 가가쿠 고교 제조: KBM-403) 0.5부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하여 점착제 조성물을 얻었다. 또한, 상기 가교제(코로네이트 L)의 배합량은, 유효 성분으로서의 질량부수이다.

광선택 흡수성 점착제층의 제작에 이용한 세퍼레이터의 이형 처리면에, 점착제 조성물을, 건조 후의 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 제2 점착제층을 제작하였다.

[광학 적층체의 제작]

(실시예 1, 3)

제작한 편면 보호 편광판의 편광자측에 제2 점착제층을 접합하고, 세퍼레이터를 박리하였다. 제2 점착제층의 세퍼레이터를 박리한 면에, 제작한 위상차 적층체를 제1 액정 경화층측의 기재 필름을 박리하여 노출한 면을 접합하였다. 그 후, 제2 액정 경화층측의 기재 필름을 박리하고, 제2 액정 경화층측의 배향층의 면에, 표 1에 기재된 점착제층을 광선택 흡수성 점착제층으로서 접합하여, 「보호 필름 A/수계 접착제/편광자/제2 점착제층/배향층/제1 액정 경화층/제2 액정 경화층/배향층/광선택 흡수성 점착제층/세퍼레이터」의 층 구성의 광학 적층체를 얻었다. 이러한 광학 적층체에 있어서, 중간층은, 「제2 점착제층/배향층/제1 액정 경화층/제2 액정 경화층/배향층」의 층 구성을 갖고, 합계 두께는 11 ㎛였다.

상기에 있어서, 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 제2 점착제층을 제작하였다. 「배향층/제1 액정 경화층」의 합계 두께는 2 ㎛였다. 「배향층/제2 액정 경화층」의 합계 두께는 3 ㎛였다.

자외선 경화형 접착제는 두께가 1 ㎛였다.

(실시예 2, 4, 및 비교예 1)

제작한 편면 보호 편광판의 편광자측에 제2 점착제층을 접합하고, 세퍼레이터를 박리하였다. 제2 점착제층의 세퍼레이터를 박리한 면에, 표 1에 기재된 점착제층을 광선택 흡수성 점착제층으로서 접합하여, 「보호 필름 A/수계 접착제/편광자/제2 점착제층/광선택 흡수성 점착제층/세퍼레이터」의 층 구성의 광학 적층체를 얻었다. 이러한 광학 적층체에 있어서, 중간층은 「제2 점착제층」을 포함하고, 그 두께는 5 ㎛였다.

상기에 있어서, 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 제2 점착제층을 제작하였다.

[점착제층의 흡광도 측정]

점착제층(1) 내지 점착제층(3)을 각각 유리에 접합하고, 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층에 시클로올레핀 폴리머(COP) 필름(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조 ZF-14)을 접합하여, 점착제층 평가용 적층체를 제작하였다. 점착제층 평가용 적층체를 분광 광도계 UV-2450(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조)에 세팅하고, 더블빔법에 의해 1 ㎚ 스텝 300∼800 ㎚의 파장 범위에서 흡광도를 측정하였다. 제작한 점착제층의 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도를 표 1에 나타낸다. 또한, 파장 410 ㎚에 있어서의, 유리의 흡광도 및 COP 필름의 흡광도는 모두 0이다.

[중량 평균 분자량(Mw)의 측정]

아크릴 수지(A-1)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(Mn)으로서, 이동상(移動相)에 테트라히드로푸란을 이용하여, 하기의 사이즈 배제 크로마토그래피(SEC)에 의해 구하였다. 측정하는 (메트)아크릴계 폴리머를 약 0.05 질량%의 농도로 테트라히드로푸란에 용해시켜, SEC에 10 μL 주입하였다.

이동상은, 1.0 mL/분의 유량으로 흘렸다. 칼럼으로서, PLgel MIXED-B(폴리머 래버러토리즈 제조)를 이용하였다. 검출기에는 UV-VIS 검출기(상품명: Agilent GPC)를 이용하였다.

[붕소 함유량의 측정]

편광자 0.2 g을 1.9 wt% 만니톨 수용액 200 g에 용해하였다. 얻어진 수용액을 1 ㏖/L NaOH 수용액으로 적정하고, 중화에 필요한 NaOH액의 양과 검량선의 비교에 의해, 편광자의 붕소 함유량을 산출하였다.

[내습열 시험 및 탈색의 관찰]

실시예 1∼4 및 비교예 1에서 얻어진 광학 적층체의 세퍼레이터를 박리하여, 무알칼리 유리판에 접합한 후, 온도 65℃, 습도 90% RH의 환경하에 500시간 방치하였다.

그 후, 시험한 광학 적층체와는 반대의 무알칼리 유리면에 크로스니콜의 관계가 되는 편광판을 접합하고, 광학 현미경으로 관찰하여, 관찰 화상을 보존하였다. 광학 현미경은, 가부시키가이샤 기엔스 제조의 「VHX-500」을 이용하였다. 도 4는 광학 현미경에서의 관찰 화상의 일례를 도시한다. 도 4에 있어서, 광학 적층체의 단부(50)로부터 내측 방향으로 화살표로 나타내는 직선(단부(50)로부터 수직 방향으로 연장되는 직선)을 따라 관찰하면, 탈색 영역(51)과 탈색이 발생하고 있지 않은 영역(비탈색 영역)(52)이 있는 것을 알 수 있다.

[화상 처리에 의한 탈색량의 측정]

현미경에서의 관찰 화상을, 화상 해석 소프트 「ImageJ(프리소프트)」를 사용하여, 흑백 256계조(0∼255)로 변환하였다. 흑백 256계조(0∼255)로 변환하는 방법은, RGB값의 평균을 취하는 방법을 사용하였다. 도 5는 변환 후의 데이터의 일례를 도시한다. 광학 적층체의 단부(50)에 대해 수직 방향(도 4 중 화살표)의 계조 프로파일에 있어서의 탈색 영역(51)과 비탈색 영역(52)의 중간점(탈색 그라데이션의 중간)을 광학 적층체의 탈색 단부로 하고(도 5), 광학 적층체의 단부(50)로부터 탈색 단부의 거리(㎛)를 탈색 거리로서 측정하였다. 광학 적층체의 탈색 거리를 표 1에 나타낸다. 탈색 거리가 작을수록, 탈색 범위가 좁고, 내습열성이 우수하다.

10: 편광자 11: 보호 필름
20: 광선택 흡수성 점착제층 30: 제1 액정 경화층
31: 제2 액정 경화층 32: 제2 점착제층
33: 접착제층 50: 광학 적층체의 단부
51: 탈색 영역 52: 비탈색 영역
100, 101, 102: 광학 적층체 300: 중간층

Claims (10)

1. 편광자와, 광선택 흡수성 점착제층과, 상기 편광자와 상기 광선택 흡수성 점착제층 사이에 이들에 접하여 적층된 중간층을 갖는 광학 적층체로서,
   상기 중간층은, 액정 경화층, 배향층, 및 접합층으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 또는 복수의 층만을 갖고,
   상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되고, 붕소의 함유율이 5.0 질량% 이하이며,
   상기 광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수제를 함유하고, 파장 410 ㎚에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 2.3 이하인 광학 적층체.
2. 제1항에 있어서, 상기 편광자의 상기 중간층측과는 반대측에 적층된 보호 필름을 더 갖는 광학 적층체.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 상기 광선택 흡수제의 단위 면적당 함유량이 0.01 g/㎡ 이상 5 g/㎡ 이하인 광학 적층체.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 상기 광선택 흡수성 점착제층에 포함되는 전체 수지 성분 100 질량부에 대해 상기 광선택 흡수제를 0.1 질량부 이상 10 질량부 이하 포함하는 광학 적층체.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 두께가 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하인 광학 적층체.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광선택 흡수제는, 분자량이 100 이상 3000 이하의 유기계 광선택 흡수제인 광학 적층체.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중간층은, 상기 액정 경화층인 λ/4 위상차층을 갖는 광학 적층체.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 방지용 편광판인 광학 적층체.
9. 화상 표시 패널과, 상기 화상 표시 패널의 전면(前面)에 배치된 제8항에 기재된 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 화상 표시 패널은, 유기 EL 표시 패널인 화상 표시 장치.

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