KR20230066631A - 감열 전사 기록 시트 - Google Patents

감열 전사 기록 시트 Download PDF

Info

Publication number
KR20230066631A
KR20230066631A KR1020237012889A KR20237012889A KR20230066631A KR 20230066631 A KR20230066631 A KR 20230066631A KR 1020237012889 A KR1020237012889 A KR 1020237012889A KR 20237012889 A KR20237012889 A KR 20237012889A KR 20230066631 A KR20230066631 A KR 20230066631A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
carbon atoms
general formula
alkyl group
compound represented
Prior art date
Application number
KR1020237012889A
Other languages
English (en)
Inventor
요시히코 후지에
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
후지필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤, 후지필름 와코 준야쿠 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20230066631A publication Critical patent/KR20230066631A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
    • B41M5/385—Contact thermal transfer or sublimation processes characterised by the transferable dyes or pigments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
    • B41M5/385—Contact thermal transfer or sublimation processes characterised by the transferable dyes or pigments
    • B41M5/388—Azo dyes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
    • B41M5/385—Contact thermal transfer or sublimation processes characterised by the transferable dyes or pigments
    • B41M5/39—Dyes containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds, e.g. azomethine
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

기재와, 기재 상에 색재층을 갖는 감열 전사 기록 시트로서,
색재층은, 옐로 염료층, 마젠타 염료층, 및 사이안 염료층을 갖고, 마젠타 염료로서 하기 일반식 (1)로 나타나는 화합물 함유하며, 옐로 염료, 및 사이안 염료로서 특정 화합물을 함유하는 감열 전사 시트.
Figure pct00091

일반식 (1) 중, R11은 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R12는 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R13 및 R14는 탄소수 1~8의 알킬기를 나타낸다.

Description

감열 전사 기록 시트
본 발명은, 감열 전사 기록 시트에 관한 것이다.
종래, 다양한 열전사 기록 방법이 알려져 있지만, 그중에서도 승화형(昇華型) 전사 기록 방식은, 은염(銀鹽) 사진의 화질에 가장 가까운 컬러 하드 카피를 제작할 수 있는 프로세스로서 주목받고 있다. 또한, 은염 사진에 비하여, 드라이인 것, 디지털 데이터로부터 직접 가시상화할 수 있고, 복제 제작이 간단하다는 등의 이점을 갖고 있다.
이 승화형 열전사 기록 방식으로는, 색소(이하, 염료라고도 한다.)를 함유하는 감열 전사 기록 시트(이하, 간단히 잉크 시트라고도 한다.)와 감열 전사 수상(受像) 시트(이하, 간단히 수상 시트라고도 한다.)를 중첩하고, 이어서, 전기 신호에 의하여 발열이 제어되는 서멀 헤드에 의하여 감열 전사 기록 시트를 가열함으로써 감열 전사 기록 시트 중의 색소를 수상 시트에 전사하여 화상 정보의 기록을 행하는 것이며, 사이안, 마젠타, 옐로의 3색 혹은 이것에 블랙을 더한 4색을 중첩하여 기록함으로써 색의 농담(濃淡)에 연속적인 변화를 표현한 컬러 화상을 전사 기록할 수 있다.
종래, 감열 전사 기록 시트의 색소 및 그 조합의 개량은 다양한 시도가 이루어지고 있다. 예를 들면 특허문헌 1에서는 아이소싸이아졸일아조싸이아졸 색소를 이용한 감열 전사 기록 시트가 제안되어 있다. 또 특허문헌 2에서는 아이소싸이아졸일아조싸이아졸 색소를 포함하는 마젠타 염료층과 아릴리덴피라졸론 색소를 포함하는 옐로 염료층을 갖는 감열 전사 기록 시트가 제안되어 있다. 이 감열 전사 기록 시트에 의하면, 피부색의 재현성을 높일 수 있는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 1: 일본 특허공보 제3001991호
특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2010-52404호
상기 승화형 열전사 기록 방식에 의한 흑색의 표현 방법에는, 블랙 염료만으로 표현하는 방법, 사이안 염료, 옐로 염료, 마젠타 염료의 3색을 순차 전사시켜 형성하는 프로세스 블랙에 의하여 표현하는 방법 등이 있다.
상기 방식에 의한 인쇄는, 최근에는 사진 프린트 이외에도, 종업원증이나 학생증과 같은 신분 증명서(ID 카드)에도 이용되도록 되어 왔다. 이 신분 증명서에 있어서는, 문자 정보나 바코드의 인쇄 부분에 이용되는 블랙의 품질(특히 색감)은 매우 중요하다. 그 때문에 블랙은, 블랙 염료만을 이용하여 인쇄되거나, 열용융법 전사 방식에 의하여 별도의 프로세스로서 인쇄되거나 하고 있다. 그러나, 인쇄의 속도 향상이나 비용의 점에서, 사이안 염료, 옐로 염료, 마젠타 염료의 3색을 순차 전사시켜 형성하는 프로세스 블랙으로 상기 용도에 충분한 고품질의 블랙을 표현할 수 있는 것이 요망되고 있지만, 그 색감에 대해서는 개선의 여지가 있었다.
또한, 상기 방식에 의한 인쇄 대상의 확대에 수반하여, 지금까지 별로 없었던 프린트 배색(예를 들면 흑색 배경의 컬러에서의 문자 정보 인쇄 등)이 많이 사용되도록 되어 왔다. 이와 같은 배색에 있어서는 흑색의 진함(블랙의 고농도화)에 의한 시각 효과에 의하여 컬러가 두드러지기 때문에(다른 색의 강조 효과), 블랙의 고품질화가 계속 요구되고 있다.
특허문헌 1은, 아이소싸이아졸일아조싸이아졸 색소를 함유하는 감열 전사 기록 시트에 대하여 기재하고 있지만, 다른 색상의 염료와의 조합에 대해서는 구체적인 개시가 없다.
특허문헌 2에 기재된 감열 전사 기록 시트에는, 형성되는 프로세스 블랙에 의한 다른 색의 강조 효과 등의 점에서 개선의 여지가 있었다.
본 발명은, 고농도 또한 색감이 우수하고, 다른 색의 강조 효과에도 우수한 프로세스 블랙의 형성이 가능한 감열 전사 기록 시트를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은 예의 검토를 거듭한 결과, 하기 수단으로 본 발명의 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아냈다.
〔1〕
기재와, 기재 상에 색재층을 갖는 감열 전사 기록 시트로서,
색재층은, 옐로 염료를 함유하는 옐로 염료층, 마젠타 염료를 함유하는 마젠타 염료층, 및 사이안 염료를 함유하는 사이안 염료층을 갖고,
마젠타 염료는, 하기 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하며,
옐로 염료는, 하기 일반식 (2)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하고,
사이안 염료는, 하기 일반식 (8)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는,
감열 전사 기록 시트.
[화학식 1]
Figure pct00001
일반식 (1) 중, R11은 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R12는 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R13 및 R14는 탄소수 1~8의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 2]
Figure pct00002
일반식 (2) 중, R21 및 R22는 탄소수 1~18의 알킬기를 나타낸다. R23은 수소 원자, 또는 메틸기를 나타낸다. R24는 수소 원자, 또는 알킬기를 나타낸다. R21과 R24는 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.
[화학식 3]
Figure pct00003
일반식 (3) 중, X31은 수소 원자, 또는 브로민 원자를 나타낸다. R31은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R32 및 R33은 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 4]
Figure pct00004
일반식 (4) 중, X41은 수소 원자, 또는 염소 원자를 나타낸다. R41은 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기, 또는 탄소수 0~4의 아미노기를 나타낸다. R42 및 R43은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 5]
Figure pct00005
일반식 (5) 중, R51은 수소 원자, 할로젠 원자, 또는 탄소수 2~10의 알콕시카보닐기를 나타낸다. R52는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 6]
Figure pct00006
일반식 (6) 중, R61 및 R62는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 7]
Figure pct00007
일반식 (7) 중, R71은 탄소수 1~4의 알콕시기, 또는 탄소수 0~4의 아미노기를 나타낸다. R72, R73 및 R74는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 8]
Figure pct00008
일반식 (8) 중, X81은 수소 원자, 또는 염소 원자를 나타낸다. R81 및 R82는 탄소수 1~6의 무치환 알킬기를 나타낸다. R83은 수소 원자, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기를 나타낸다. R84는 메틸기, 또는 에틸기를 나타낸다. R85는 탄소수 1~4의 알킬기, 아릴기, 또는 5원 혹은 6원의 헤테로아릴기를 나타낸다.
[화학식 9]
Figure pct00009
일반식 (9) 중, R91은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R92는 수소 원자, 탄소수 1~4의 알킬기, 또는 탄소수 1~4의 알콕시기를 나타낸다. R93 및 R94는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 10]
Figure pct00010
일반식 (10) 중, R101 및 R102는 탄소수 1~8의 알킬기를 나타낸다. R103은 수소 원자, 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 11]
Figure pct00011
일반식 (11) 중, R111 및 R112는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R113은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 12]
Figure pct00012
일반식 (12) 중, R121 및 R122는 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다.
〔２〕
사이안 염료가, 일반식 (8)로 나타나는 화합물과, 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 〔1〕에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔3〕
사이안 염료 중, 일반식 (8)로 나타나는 화합물의 함유량(I)과, 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물의 함유량의 합계(II)의 비가, 질량비로, (I):(II)=90~50:10~50인, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔4〕
사이안 염료가, 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (12)로 나타나는 화합물을 포함하는, 〔1〕 내지 〔3〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔5〕
옐로 염료가, 일반식 (4)로 나타나는 화합물과, 일반식 (2), (3), (5), (6) 및 (7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 〔1〕 내지 〔4〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔6〕
옐로 염료가, 일반식 (4)로 나타나는 화합물과, 일반식 (2) 및 (6) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 〔1〕 내지 〔5〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔7〕
옐로 염료가, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과, 일반식 (2)로 나타나는 화합물을 포함하는, 〔1〕 내지 〔4〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔8〕
마젠타 염료가, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 하기 일반식 (13)~(20) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 〔1〕 내지 〔7〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
[화학식 13]
Figure pct00013
일반식 (13) 중, R131은 할로젠 원자, 수산기, 탄소수 1~8의 알콕시기, 또는 탄소수 6~10의 아릴옥시기를 나타낸다.
[화학식 14]
Figure pct00014
일반식 (14) 중, R141 및 R142는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다.
[화학식 15]
Figure pct00015
일반식 (15) 중, R151은 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알켄일기를 나타낸다. R152는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R153 및 R154는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 16]
Figure pct00016
일반식 (16) 중, R161은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R162 및 R163은 탄소수 1~10의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 17]
Figure pct00017
일반식 (17) 중, R171은 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R172는 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R173은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R174 및 R175는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 18]
Figure pct00018
일반식 (18) 중, R181은 탄소수 1~4의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R182는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. R183은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R184 및 R185는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
[화학식 19]
Figure pct00019
일반식 (19) 중, R191 및 R192는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R193은 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R194는 알킬기, 또는 탄소수 0~12의 아미노기를 나타낸다.
[화학식 20]
Figure pct00020
일반식 (20) 중, R201은 탄소수 1~4의 알콕시기, 또는 탄소수 0~6의 아미노기를 나타낸다. R202 및 R203은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
〔9〕
마젠타 염료가, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 일반식 (15)로 나타나는 화합물을 포함하는, 〔1〕 내지 〔8〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔10〕
마젠타 염료가, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 일반식 (15)로 나타나는 화합물과, 일반식 (13)으로 나타나는 화합물을 포함하는, 〔1〕 내지 〔9〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
〔11〕
마젠타 염료가, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 일반식 (13)으로 나타나는 화합물과, 일반식 (14)로 나타나는 화합물을 포함하는, 〔1〕 내지 〔9〕 중 어느 하나에 기재된 감열 전사 기록 시트.
본 발명의 감열 전사 기록 시트에 의하면, 고농도 또한 색감이 우수하고, 다른 색의 강조 효과에도 우수한 프로세스 블랙을 형성할 수 있다.
도 1은 실시예의 평가 시험 2에 있어서 이용한 평가용 화상 패턴 1을 나타내는 모식도이다.
본 발명의 설명에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
본 명세서에 있어서 화합물의 표시(예를 들면, 화합물이라고 말미에 붙여 부를 때)에 대해서는, 이 화합물 그 자체 외에, 그 염, 그 이온을 포함하는 의미로 이용한다. 또, 원하는 효과를 나타내는 범위에서, 치환기를 도입하는 등 구조의 일부를 변화시킨 유도체를 포함하는 의미이다.
본 명세서에 있어서 치환기가 해리성의 수소 원자(수소 원자가 염기의 작용에 의하여 해리하는 기)를 갖는 경우, 이 치환기에는 이온 내지 염의 형태가 포함된다.
본 명세서에 있어서 치환 또는 무치환을 명기하고 있지 않은 치환기, 연결기 등(이하, 치환기 등이라고 한다.)에 대해서는, 그 기에 적절한 치환기를 갖고 있어도 되는 의미이다. 따라서, 본 명세서에 있어서, 간단히, "~기"(예를 들면 "알킬기")라고 기재되어 있는 경우이더라도, 이 "~기"(예를 들면 "알킬기")는, 치환기를 갖지 않는 양태(예를 들면 "무치환 알킬기")에 더하여, 치환기를 더 갖는 양태(예를 들면 "치환 알킬기")도 포함한다. 이것은 치환 또는 무치환을 명기하고 있지 않은 화합물에 대해서도 동일한 의미이다. 바람직한 치환기로서는, 하기하는 치환기 T를 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 간단히 "치환기"라고 하는 경우, 하기하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기가 바람직하게 적용된다.
본 명세서에 있어서, 특정 부호로 나타난 치환기 등이 복수 존재할 때, 또는 복수의 치환기 등을 동시 혹은 택일적으로 규정할 때에는, 각각의 치환기 등은 서로 동일해도 되고 상이해도 되는 것을 의미한다. 또, 특별히 설명하지 않는 경우이더라도, 복수의 치환기 등이 인접할 때에는 그들이 서로 연결되거나 축환되거나 하여 환을 형성하고 있어도 되는 의미이다.
본 발명에 있어서, 알킬기라고 할 때는, 직쇄, 분기, 혹은 환상의 알킬기를 나타낸다. 알킬기를 포함하는 기(알콕시기, 알콕시카보닐기 등) 중의 알킬기에 대해서도 동일하다.
본 발명에 있어서, 어느 기의 탄소수를 규정하는 경우, 이 탄소수는, 본 발명 내지 본 명세서에 있어서 특별한 언급이 없는 한, 기 전체의 탄소수를 의미한다. 즉, 이 기가 치환기를 더 갖는 형태인 경우, 이 치환기를 포함한 전체의 탄소수를 의미한다.
본 발명에 있어서, 탄소수 0의 아미노기란 일반적인 무치환 아미노기(NH2기)를 나타낸다. 아미노기의 탄소수가 1 이상일 때, 그 탄소수는 치환기를 포함한 아미노기 전체의 탄소수를 의미한다. 예를 들면, 후술하는 예시 화합물 (7-1)은, 일반식 (7) 에 있어서의 R71로서 탄소수 2의 아미노기(다이메틸아미노기)를 갖고 있다.
<감열 전사 기록 시트>
먼저, 본 발명의 감열 전사 기록 시트에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명의 감열 전사 기록 시트는, 기재와, 기재 상에 색재층을 갖는 감열 전사 기록 시트이며, 색재층은, 옐로 염료를 함유하는 옐로 염료층, 마젠타 염료를 함유하는 마젠타 염료층, 및 사이안 염료를 함유하는 사이안 염료층을 갖는다.
(색재층)
본 발명의 감열 전사 기록 시트는, 기재 상에 색재층을 갖고, 색재층은, 옐로 염료층, 마젠타 염료층, 및 사이안 염료층을 갖는다. 본 발명의 감열 전사 기록 시트는, 이들의 염료층에 더하여, 블랙 염료층을 갖고 있어도 된다. 이들 염료층은, 동일한 기재 상에 표면 순차적으로 분할 도포되어 있는 것이 바람직하다. 일례로서, 옐로, 마젠타 및 사이안의 각 색상의 염료층이 동일한 기재의 장축 방향으로, 감열 전사 수상 시트의 기록면의 면적에 대응하여 표면 순차적으로 분할 도포되어 있는 경우를 들 수 있다. 기재를 장척(長尺)으로 하여, 상기 각 염료층을 표면 순차적으로 반복 분할 도포해도 된다. 이 3층에 더하여, 블랙의 색상의 염료층과 전사성 보호층 중 어느 하나, 혹은 쌍방이 분할 도포되는 것도 바람직한 양태이다.
이와 같은 양태를 취하는 경우, 각 색의 개시점을 프린터에 전달할 목적으로, 감열 전사 기록 시트 상에 표시를 하는 것도 바람직한 양태이다. 이와 같이 표면 순차적으로 분할 도포함으로써, 염료의 전사에 의한 화상의 형성, 나아가서는 화상 상에 대한 보호층의 적층을 하나의 감열 전사 기록 시트로 행하는 것이 가능해진다.
그러나, 본 발명은 상기와 같은 염료층의 마련 방법에 한정되는 것은 아니다. 승화형 열전사 잉크층(염료층)과 열용융 전사 잉크층을 병설하는 것도 가능하며, 또, 옐로, 마젠타, 사이안 및 블랙 이외의 색상의 염료층을 마련하는 등의 변경을 하는 것도 가능하다. 또, 형태로서는 장척이어도 되고, 매엽(枚葉)의 열전사 시트여도 된다.
각 색의 염료층은 단층 구성이어도 되고 복층 구성이어도 되며, 복층 구성의 경우, 염료층을 구성하는 각층의 조성은 동일해도 되고 상이해도 된다.
염료층에는 염료를 함유한다. 염료층은, 통상, 염료에 더하여 바인더를 함유한다. 또한, 필요에 따라, 왁스류, 실리콘 수지, 함불소 유기 화합물 등을 함유할 수 있다.
각각의 염료(색소)는, 염료층 중에 각각 10~90질량% 함유되는 것이 바람직하고, 20~80질량% 함유되는 것이 보다 바람직하다.
염료층의 도포는, 롤 코트, 바 코트, 그라비어 코트, 그라비어 리버스 코트 등의 일반적인 방법으로 행해진다. 또 염료층의 도포량은, 0.1~2.0g/m2(고형분 환산, 이하 본 발명에 있어서의 도포량은 특별히 언급이 없는 한, 고형분 환산의 수치이다.)가 바람직하고, 더 바람직하게는 0.2~1.2g/m2이다. 염료층의 막두께는 0.1~2.0μm인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 0.2~1.2μm이다.
-염료-
이하, 각 염료에 대하여 설명한다.
마젠타 염료는, 하기 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하고, 옐로 염료는, 하기 일반식 (2)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하며, 사이안 염료는, 하기 일반식 (8)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함한다.
또한, 마젠타 염료는, 일반식 (1)로 나타나는 화합물에 더하여, 일반식 (13)~(20)으로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 양태로 할 수도 있다.
본 발명에 있어서, 하기 일반식으로 나타나는 화합물은, 그 이성체 구조(예를 들면, 호변이성체 구조) 중 적어도 하나가 이 일반식에 들어맞는 한, 어떠한 이성체 구조를 취하는 것이어도 된다.
이하에, 본 발명에서 사용하는 일반식 (1)~(20)으로 나타나는 화합물에 대하여 더 상세하게 설명한다.
[화학식 21]
Figure pct00021
일반식 (1) 중, R11은 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R11로서 취할 수 있는 페닐기는 치환기를 갖고 있어도 된다. R11에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시기, 아릴옥시카보닐옥시기, 아미노기, 아실아미노기, 아미노카보닐아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 아릴옥시카보닐아미노기, 설파모일아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 설파모일기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기, 카바모일기, 이미드기, 수산기, 사이아노기, 나이트로기 등이 바람직하다. R11은, 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 무치환 페닐기이고, 더 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 무치환 페닐기이며, 가장 바람직하게는 메틸기, 또는 무치환 페닐기이다.
R12는 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R12로서 취할 수 있는 페닐기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R12에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시기, 아미노기, 아실아미노기, 아미노카보닐아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 설파모일기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 카바모일기, 수산기, 사이아노기, 나이트로기 등이 바람직하다. R12는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 뷰틸기, 또는 무치환 페닐기가 바람직하고, t-뷰틸기, 또는 무치환 페닐기가 보다 바람직하다.
R13 및 R14는 탄소수 1~8의 알킬기를 나타낸다. R13 및 R14로서 취할 수 있는 탄소수 1~8의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R13 및 R14에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 수산기, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기(보다 바람직하게는, 알킬카보닐옥시기), 아릴옥시카보닐옥시기, 아미노기, 아실아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 아릴옥시카보닐아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기, 카바모일기, 사이아노기 등이 바람직하다. R13 및 R14는, 탄소수 2~6의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 2~4의 무치환 알킬기, 및, 수산기, 알킬카보닐옥시기, 또는 알킬카보닐기를 치환기로서 갖는 탄소수 2~4의 알킬기가 보다 바람직하다.
일반식 (1)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 22]
Figure pct00022
[화학식 23]
Figure pct00023
[화학식 24]
Figure pct00024
일반식 (2) 중, R21 및 R22는 탄소수 1~18의 알킬기를 나타낸다. R21 및 R22로서 취할 수 있는 탄소수 1~18의 알킬기의 탄소수는, 1~16이 바람직하고, 1~14가 보다 바람직하다. R21 및 R22로서 취할 수 있는 탄소수 1~18의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R21 및 R22에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 기를 들 수 있고, 아릴옥시기(페녹시기가 바람직하고, 4-사이클로헥실페녹시기가 보다 바람직하다), 아릴기(페닐기가 바람직하다), 카바모일옥시기(페닐아미노카보닐옥시기가 바람직하다), 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아미노기, 아실아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 설파모일아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 설파모일기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 카바모일기, 수산기, 사이아노기 등을 들 수 있다. R21과 R22는 동일해도 되고 상이해도 되지만, R21과 R22는 상이한 것이 바람직하다. R21 및 R22는, 탄소수 1~6의 무치환 알킬기, 또는 페닐기, 페녹시기(바람직하게는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 더 갖는 페녹시기이며, 사이클로헥실페녹시기), 혹은 페닐아미노카보닐옥시기를 치환기로서 갖는, 탄소수 7~14의 알킬기인 것이 바람직하다.
R23은 수소 원자, 또는 메틸기를 나타낸다. R23은, 메틸기인 것이 바람직하다.
R24는 수소 원자, 또는 알킬기를 나타낸다. R24로서 취할 수 있는 알킬기의 탄소수는, 1~8이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~5가 더 바람직하다. R24로서 취할 수 있는 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R24에 있어서의 치환기로서는, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아미노기, 아실아미노기, 아미노카보닐아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 설파모일아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 설파모일기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 카바모일기, 수산기 등을 들 수 있다.
R21과 R24는 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.
R24는, 수소 원자이거나, R21과 결합하여 환을 형성하고 있는 것이 바람직하고, 수소 원자이거나, R21과 결합하여 피페리딘환(치환기를 갖고 있어도 된다)을 형성하고 있는 것이 보다 바람직하다.
일반식 (2)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 25]
Figure pct00025
[화학식 26]
Figure pct00026
일반식 (3) 중, X31은 수소 원자, 또는 브로민 원자를 나타낸다.
R31은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R31은, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 프로필기가 바람직하고, 수소 원자 또는 아이소프로필기인 것이 보다 바람직하다.
R32 및 R33은 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R32 및 R33으로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R32 및 R33에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아실아미노기, 아미노카보닐아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 설파모일기, 지방족 혹은 아릴설핀일기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R32 및 R33은, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, n-프로필기, n-뷰틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (3)으로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 27]
Figure pct00027
[화학식 28]
Figure pct00028
일반식 (4) 중, X41은 수소 원자, 또는 염소 원자를 나타낸다.
R41은 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기, 또는 탄소수 0~4의 아미노기를 나타낸다. R41로서 취할 수 있는 탄소수 0~4의 아미노기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R41에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R41은, 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기, 또는 알킬아미노기가 바람직하고, 에톡시기, 또는 다이메틸아미노기가 보다 바람직하다.
R42 및 R43은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R42 및 R43으로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R42 및 R43에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 지방족 싸이오기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R42 및 R43은, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 에틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (4)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 29]
Figure pct00029
[화학식 30]
Figure pct00030
일반식 (5) 중, R51은 수소 원자, 할로젠 원자, 또는 탄소수 2~10의 알콕시카보닐기를 나타낸다. R51로서 취할 수 있는 할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 및 아이오딘 원자를 들 수 있고, 염소 원자가 바람직하다. R51로서 취할 수 있는 탄소수 2~10의 알콕시카보닐기는 치환기를 가져도 된다. R51에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 싸이오기, 수산기 등이 바람직하다. R51은, 염소 원자, 또는 페닐기를 치환기로서 갖는 탄소수 7~10의 알콕시카보닐기가 바람직하고, 염소 원자, 또는 벤질옥시카보닐기가 보다 바람직하다.
R52는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R52로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기는, 치환기를 가져도 된다. R52에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 싸이오기, 수산기 등이 바람직하다. R52는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, n-뷰틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (5)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 31]
Figure pct00031
[화학식 32]
Figure pct00032
일반식 (6) 중, R61 및 R62는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
R61 및 R62로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R61 및 R62에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실기, 수산기가 바람직하다. R61 및 R62는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (6)으로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 33]
Figure pct00033
[화학식 34]
Figure pct00034
일반식 (7) 중, R71은 탄소수 1~4의 알콕시기, 또는 탄소수 0~4의 아미노기를 나타낸다.
R71로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알콕시기 및 탄소수 0~4의 아미노기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R71에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R71은, 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기, 또는 알킬기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~4의 아미노기가 바람직하고, 에톡시기, 또는 다이메틸아미노기가 보다 바람직하다.
R72, R73 및 R74는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R72, R73 및 R74로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R72, R73 및 R74에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 수산기 등이 바람직하다. R72, R73 및 R74는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기, 또는 에틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (7)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 35]
Figure pct00035
[화학식 36]
Figure pct00036
일반식 (8) 중, X81은 수소 원자, 또는 염소 원자를 나타낸다. X81은 염소 원자가 바람직하다.
R81 및 R82는 탄소수 1~6의 무치환 알킬기를 나타낸다. R81 및 R82는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 프로필기가 보다 바람직하다.
R83은 수소 원자, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기를 나타낸다. R83은, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 또는 에톡시기가 바람직하고, 수소 원자, 메틸기, 에톡시기가 보다 바람직하다.
R84는 메틸기, 또는 에틸기를 나타낸다.
R85는 탄소수 1~4의 알킬기, 아릴기, 또는 5원 혹은 6원의 헤테로아릴기를 나타낸다. R85로서 취할 수 있는 아릴기는, 탄소수 6~30의 아릴기가 바람직하고, 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다. R85로서 취할 수 있는 5 혹은 6원의 헤테로아릴기는, 헤테로 원자로서, 산소 원자, 질소 원자, 및 황 원자 중 어느 것을 갖는 것이어도 되고, 퓨릴기, 피리딜기, 싸이엔일기 등을 들 수 있다. R85로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기, 아릴기, 및 5 혹은 6원의 헤테로아릴기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R85에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아릴옥시카보닐옥시기, 아미노기, 아실아미노기, 아미노카보닐아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 아릴옥시카보닐아미노기, 지방족 싸이오기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기, 나이트로기 등이 바람직하다. R85는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기, 페닐기, 퓨릴기 또는 피리딜기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 퓨릴기, 또는 피리딜기가 보다 바람직하다.
일반식 (8)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 37]
Figure pct00037
[화학식 38]
Figure pct00038
일반식 (9) 중, R91은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R91로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R91에 있어서의 치환기로서는, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 지방족 옥시카보닐기, 수산기 등을 들 수 있다. R91은, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 프로필기가 보다 바람직하다.
R92는 수소 원자, 탄소수 1~4의 알킬기, 또는 탄소수 1~4의 알콕시기를 나타낸다. R92로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기 및 탄소수 1~4의 알콕시기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R92에 있어서의 치환기로서는, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 지방족 싸이오기 수산기 등을 들 수 있다. R92는, 수소 원자, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기가 바람직하고, 수소 원자, 메틸기, 또는 메톡시기가 보다 바람직하다.
R93 및 R94는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R93 및 R94로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R93 및 R94에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R93 및 R94는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 에틸기, 아이소프로필기가 보다 바람직하며, 에틸기가 더 바람직하다.
일반식 (9)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 39]
Figure pct00039
[화학식 40]
Figure pct00040
일반식 (10) 중, R101 및 R102는 탄소수 1~8의 알킬기를 나타낸다. R101 및 R102로서 취할 수 있는 탄소수 1~8의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R101 및 R102에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아실아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R101 및 R102는, 탄소수 1~6의 무치환 알킬기가 바람직하고, n-헥실기가 보다 바람직하다.
R103은 수소 원자, 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다. R103으로서 취할 수 있는 탄소수 1~3의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R103에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 지방족 싸이오기 등이 바람직하다. R103은, 탄소수 1~3의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (10)으로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 41]
Figure pct00041
[화학식 42]
Figure pct00042
일반식 (11) 중, R111 및 R112는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R111 및 R112로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R111 및 R112에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실아미노기, 지방족 싸이오기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R111 및 R112는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 에틸기가 보다 바람직하다.
R113은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R113으로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R113에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 수산기 등이 바람직하다. R113은, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (11)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 43]
Figure pct00043
[화학식 44]
Figure pct00044
일반식 (12) 중, R121 및 R122는 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다.
R121 및 R122로서 취할 수 있는 탄소수 6~10의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다. R121 및 R122로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기 및 탄소수 6~10의 아릴기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R121 및 R122에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기(알킬기가 바람직하다), 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아릴옥시카보닐옥시기, 아실아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 아릴옥시카보닐아미노기, 설파모일아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R121 및 R122로서는, 탄소수 1~6의 무치환 알킬기, 및 알킬기를 치환기로서 갖는 페닐기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 아이소프로필기, 및 메틸페닐기가 보다 바람직하다.
일반식 (12)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 45]
Figure pct00045
[화학식 46]
Figure pct00046
일반식 (13) 중, R131은 할로젠 원자, 수산기, 탄소수 1~8의 알콕시기, 또는 탄소수 6~10의 아릴옥시기를 나타낸다.
R131로서 취할 수 있는 할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 및 아이오딘 원자를 들 수 있고, 브로민 원자가 바람직하다.
R131로서 취할 수 있는 탄소수 6~10의 아릴옥시기가 갖는 아릴기는, 페닐기, 나프틸기가 바람직하다.
R131로서 취할 수 있는 탄소수 1~8의 알콕시기 및 탄소수 6~10의 아릴옥시기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R131에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 수산기, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아릴옥시카보닐옥시기, 지방족 싸이오기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기, 사이아노기 등이 바람직하다.
R131은, 수산기를 치환기로서 갖는 알콕시기, 할로젠 원자, 또는 탄소수 6~10의 무치환 아릴옥시기가 바람직하고, 수산기를 치환기로서 갖는 에톡시기, 페녹시기, 또는 브로민 원자가 바람직하다.
일반식 (13)으로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 47]
Figure pct00047
[화학식 48]
Figure pct00048
일반식 (14) 중, R141 및 R142는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다.
R141 및 R142로서 취할 수 있는 탄소수 6~10의 아릴기는, 페닐기, 나프틸기가 바람직하다. R141 및 R142로서 취할 수 있는 탄소수 6~10의 아릴기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R141 및 R142에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 아실아미노기, 아미노카보닐아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 지방족 싸이오기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R141 및 R142는, 페닐기가 바람직하다.
일반식 (14)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 49]
Figure pct00049
[화학식 50]
Figure pct00050
일반식 (15) 중, R151은 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알켄일기를 나타낸다. R151로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기 및 탄소수 1~6의 알켄일기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R151에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 지방족 옥시카보닐옥시, 지방족 옥시카보닐기, 수산기 등이 바람직하다. R151로서는, 탄소수 2~6의 무치환 알킬기, 또는 탄소수 2~6의 무치환 알켄일기가 바람직하고, 에틸기, n-프로필기, n-뷰틸기, 알릴기가 보다 바람직하다.
R152는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R152로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R152에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 수산기 등이 바람직하다. R152로서는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.
R153 및 R154는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R153 및 R154로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R153 및 R154에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실아미노기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R153 및 R154로서는, 탄소수 2~6의 무치환 알킬기가 바람직하고, n-프로필기, n-뷰틸기가 바람직하다.
일반식 (15)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 51]
Figure pct00051
[화학식 52]
Figure pct00052
일반식 (16) 중, R161은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R161로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R161에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 수산기 등이 바람직하다. R161로서는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 아이소프로필기가 특히 바람직하다.
R162 및 R163은 탄소수 1~10의 알킬기를 나타낸다. R162 및 R163으로서 취할 수 있는 탄소수 1~10의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R162 및 R163에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 아릴기(페닐기가 바람직하다) 지방족 옥시기, 아실옥시기(알킬카보닐옥시기가 바람직하다), 아실아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 지방족 혹은 아릴설폰일기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R162 및 R163으로서는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기(보다 바람직하게는, 메틸기, 에틸기), 메틸카보닐옥시에틸기, 벤질기 등이 바람직하다.
일반식 (16)으로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 53]
Figure pct00053
[화학식 54]
Figure pct00054
일반식 (17) 중, R171은 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R171로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R171에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실기, 아릴옥시카보닐기, 지방족 옥시카보닐기 등이 바람직하다. R171로서는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, t-뷰틸기가 보다 바람직하다.
R172는 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R172로서 취할 수 있는 탄소수 6~10의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다. R172로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기 및 탄소수 6~10의 아릴기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R172에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기(알킬기가 바람직하다), 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실아미노기, 지방족 싸이오기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기 등이 바람직하다. R172로서는, 치환기(바람직하게는 알킬기)를 갖는 페닐기가 바람직하고, 메틸페닐기가 보다 바람직하다.
R173은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R173으로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R173에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기 등이 바람직하다. R173으로서는, 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.
R174 및 R175는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R174 및 R175로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R174 및 R175에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R174 및 R175로서는, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 에틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (17)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 55]
Figure pct00055
[화학식 56]
Figure pct00056
일반식 (18) 중, R181은 탄소수 1~4의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다.
R181로서 취할 수 있는 탄소수 6~10의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다. R181로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기 및 탄소수 6~10의 아릴기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R181에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실기 등이 바람직하다. R181로서는, 치환기를 갖는 페닐기가 바람직하고, 클로로페닐기가 보다 바람직하다.
R182는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. R182로서 취할 수 있는 탄소수 1~12의 알킬기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 2~10이 보다 바람직하며, 2~6이 더 바람직하다. R182로서 취할 수 있는 탄소수 1~12의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R182에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 아릴기, 지방족 옥시기, 아미노기, 아실아미노기, 아미노카보닐아미노기, 지방족 옥시카보닐아미노기, 아릴옥시카보닐아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 이미드기(N-프탈이미드기가 바람직하다) 등이 바람직하다. R182로서는, 탄소수 3~12의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 3~12의 무치환 알킬기, 또는 N-프탈이미드를 치환기로서 갖는 탄소수 10~12의 알킬기가 바람직하며, 아이소프로필기, 또는 N-프탈이미드기를 치환기로서 갖는 아이소프로필기가 보다 바람직하다.
R183은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R183으로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R183에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기 등이 바람직하다. R183은, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기, 또는 수소 원자가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.
R184 및 R185는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. R184 및 R185로서 취할 수 있는 탄소수 1~12의 알킬기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 2~9가 보다 바람직하며, 2~6이 더 바람직하다. R184 및 R185로서 취할 수 있는 탄소수 1~12의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R184 및 R185에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 알콕시기, 아릴옥시기(지방족 옥시기가 더 치환되어 있는 것이 바람직하며, 예를 들면, 알콕시페녹시기), 알킬카보닐옥시기, 사이아노기 등이 바람직하다. R184 및 R185로서는, 탄소수 2~6의 무치환 알킬기, 또는 알콕시기, 알콕시페녹시기, 알킬카보닐옥시기, 혹은 사이아노기를 치환기로서 갖는, 탄소수 2~11의 알킬기가 바람직하다.
일반식 (18)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 57]
Figure pct00057
[화학식 58]
Figure pct00058
일반식 (19) 중, R191 및 R192는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
R191 및 R192로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R191 및 R192에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R191 및 R192로서는, 탄소수 3~6의 무치환 알킬기가 바람직하고, n-뷰틸기가 보다 바람직하다.
R193은 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R193으로서 취할 수 있는 탄소수 6~10의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다. R193으로서 취할 수 있는 탄소수 1~6의 알킬기 및 탄소수 6~10의 아릴기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R193에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기, 불포화 지방족기, 아릴기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실아미노기, 지방족 혹은 아릴설폰일아미노기, 지방족 싸이오기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기 등이 바람직하다. R193으로서는, 탄소수 1~6의 무치환 알킬기, 탄소수 6~10의 무치환 아릴기가 바람직하고, 페닐기, n-뷰틸기, t-뷰틸기가 보다 바람직하다.
R194는 알킬기, 또는 탄소수 0~12의 아미노기를 나타낸다. R194로서 취할 수 있는 알킬기의 탄소수는, 1~12가 바람직하고, 2~10이 보다 바람직하며, 3~8이 더 바람직하다. R194로서 취할 수 있는 탄소수 0~12의 아미노기의 탄소수는, 1~12가 바람직하고, 2~12가 보다 바람직하며, 2~10이 더 바람직하다. R194로서 취할 수 있는 알킬기 및 탄소수 0~12의 아미노기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R194에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 알킬기, 알킬카보닐기, 아릴카보닐기 등이 바람직하다. R194는, 탄소수 3~6의 무치환 알킬기, 또는 치환기를 갖는 탄소수 2~12의 아미노기가 바람직하고, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, 또는 알킬카보닐기 혹은 아릴카보닐기를 치환기로서 갖는 탄소수 4~12의 아미노기가 보다 바람직하다.
일반식 (19)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 59]
Figure pct00059
[화학식 60]
Figure pct00060
일반식 (20) 중, R201은 탄소수 1~4의 알콕시기, 또는 탄소수 0~6의 아미노기를 나타낸다.
R201로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알콕시기 및 탄소수 0~6의 아미노기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R201에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 지방족기(알킬기가 바람직하다), 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R201은, 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기, 또는 탄소수 2~6의 다이알킬아미노기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기, 또는 다이메틸아미노기가 보다 바람직하다.
R202 및 R203은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R202 및 R203으로서 취할 수 있는 탄소수 1~4의 알킬기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. R202 및 R203에 있어서의 치환기로서는, 후술하는 치환기 T로부터 선택되는 치환기를 들 수 있고, 할로젠 원자, 불포화 지방족기, 지방족 옥시기, 아실옥시기, 아실기, 지방족 옥시카보닐기, 수산기, 사이아노기 등이 바람직하다. R202 및 R203은, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기, 또는 에틸기가 보다 바람직하다.
일반식 (20)으로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되지 않는다.
[화학식 61]
Figure pct00061
치환기 T로서는, 하기의 것을 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 어느 기의 전체의 탄소수가 규정되어 있는 경우, 그 기가 갖는 치환기는, 이하에 들 수 있는 치환기 T 중에서, 전체의 탄소수가 충족되도록 선택된다.
[치환기 T]
할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 및 아이오딘 원자를 들 수 있다. 그중에서도 염소 원자, 브로민 원자가 바람직하고, 특히 염소 원자가 바람직하다.
지방족기는, 직쇄, 분지 또는 환상의 지방족기이며, 포화 지방족기에는, 알킬기, 사이클로알킬기, 바이사이클로알킬기가 포함되고, 치환기를 가져도 된다. 이들 탄소수는 1~30이 바람직하다. 예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 아이소프로필기, t-뷰틸기, n-옥틸기, 에이코실기, 2-클로로에틸기, 2-사이아노에틸기, 벤질기 및 2-에틸헥실기를 들 수 있다. 사이클로알킬기는, 탄소수 3~30의 사이클로알킬기가 바람직하다. 예로서는, 사이클로헥실기, 사이클로펜틸기, 4-n-도데실사이클로헥실기를 들 수 있다. 바이사이클로알킬기로서는, 탄소수 5~30의 바이사이클로알킬기, 즉, 탄소수 5~30의 바이사이클로알케인으로부터 수소 원자를 1개 제거한 1가의 기를 들 수 있다. 예로서, 바이사이클로[1.2.2]헵테인-2-일기, 바이사이클로[2.2.2]옥테인-3-일기를 들 수 있다. 또한 환 구조가 많은 트라이사이클로 구조 등도 포함하는 것이다.
불포화 지방족기로서는, 직쇄, 분지 또는 환상의 불포화 지방족기이며, 알켄일기, 사이클로알켄일기, 바이사이클로알켄일기, 알카인일기가 포함된다. 알켄일기로서는 직쇄, 분기, 환상의 알켄일기를 나타낸다. 알켄일기로서는, 탄소수 2~30의 알켄일기가 바람직하다. 예로서는 바이닐기, 알릴기, 프레닐기, 제라닐기, 올레일기를 들 수 있다. 사이클로알켄일기로서는, 탄소수 3~30의 사이클로알켄일기, 즉, 탄소수 3~30의 사이클로알켄의 수소 원자를 1개 제거한 1가의 기가 바람직하다. 예로서는, 2-사이클로펜텐-1-일기, 2-사이클로헥센-1-일기를 들 수 있다. 바이사이클로알켄일기로서는 탄소수 5~30의 바이사이클로알켄일기, 즉 이중 결합을 1개 갖는 바이사이클로알켄의 수소 원자를 1개 제거한 1가의 기가 바람직하다. 예로서, 바이사이클로[2.2.1]헵토-2-엔-1-일기, 바이사이클로[2.2.2]옥토-2-엔-4-일기를 들 수 있다. 알카인일기는, 탄소수 2~30의 알카인일기가 바람직하고, 예를 들면, 에타인일기, 및 프로파길기를 들 수 있다.
아릴기는, 탄소수 6~30의 아릴기가 바람직하고, 예를 들면, 페닐기, p-톨릴기(메틸페닐기), 나프틸기, m-클로로페닐기, o-헥사데칸오일아미노페닐기를 들 수 있으며, 치환기를 가져도 되는 페닐기가 바람직하다.
헤테로환기는, 방향족 혹은 비방향족의 헤테로환 화합물로부터 1개의 수소 원자를 제거한 1가의 기이며, 그들은 더 축환되어 있어도 된다. 이들 헤테로환기로서는, 바람직하게는 5 또는 6원의 헤테로환기이며, 또 환구성의 헤테로 원자로서는, 산소 원자, 황 원자, 질소 원자가 바람직하다. 더 바람직하게는, 탄소수 3~30의 5 혹은 6원의 방향족의 헤테로환기이다. 헤테로환기에 있어서의 헤테로환으로서는, 피리딘환, 피라진환, 피리다진환, 피리미딘환, 트라이아진환, 퀴놀린환, 아이소퀴놀린환, 퀴나졸린환, 신놀린환, 프탈라진환, 퀴녹살린환, 피롤환, 인돌환, 퓨란환, 벤조퓨란환, 싸이오펜환, 벤조싸이오펜환, 피라졸환, 이미다졸환, 벤즈이미다졸환, 트라이아졸환, 옥사졸환, 벤즈옥사졸환, 싸이아졸환, 벤조싸이아졸환, 아이소싸이아졸환, 벤즈아이소싸이아졸환, 싸이아다이아졸환, 아이소옥사졸환, 벤즈아이소옥사졸환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 피페라진환, 이미다졸리딘환, 싸이아졸린환을 들 수 있다.
지방족 옥시기(예를 들면 알콕시기)는, 탄소수는 1~30이 바람직하다. 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 아이소프로폭시기, n-옥틸옥시기, 메톡시에톡시기, 하이드록시에톡시기 및 3-카복시프로폭시기 등을 들 수 있다.
아릴옥시기는, 탄소수 6~30의 아릴옥시기가 바람직하다. 아릴옥시기의 예로서, 페녹시기, 2-메틸페녹시기, 4-t-뷰틸페녹시기, 3-나이트로페녹시기, 2-테트라데칸오일아미노페녹시기 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 치환기를 가져도 되는 페닐옥시기이다.
아실옥시기는, 폼일옥시기, 탄소수 2~30의 알킬카보닐옥시기, 탄소수 6~30의 아릴카보닐옥시기가 바람직하다. 아실옥시기의 예에는, 폼일옥시기, 아세틸옥시기, 피발로일옥시기, 스테아로일옥시기, 벤조일옥시기, p-메톡시페닐카보닐옥시기 등을 들 수 있다.
카바모일옥시기는, 탄소수 1~30의 카바모일옥시기가 바람직하다. 카바모일옥시기의 예에는, N,N-다이메틸카바모일옥시기, N,N-다이에틸카바모일옥시기, 모폴리노카보닐옥시기, N,N-다이-n-옥틸아미노카보닐옥시기, N-n-옥틸카바모일옥시기 등을 들 수 있다.
지방족 옥시카보닐옥시기(예를 들면 알콕시카보닐옥시기)는, 탄소수 2~30이 바람직하고, 치환기를 갖고 있어도 된다. 예를 들면, 메톡시카보닐옥시기, 에톡시카보닐옥시기, t-뷰톡시카보닐옥시기, n-옥틸카보닐옥시기 등을 들 수 있다.
아릴옥시카보닐옥시기는, 탄소수 7~30의 아릴옥시카보닐옥시기가 바람직하다. 아릴옥시카보닐옥시기의 예에는, 페녹시카보닐옥시기, p-메톡시페녹시카보닐옥시기, p-n-헥사데실옥시페녹시카보닐옥시기 등을 들 수 있다. 바람직하게는 치환기를 가져도 되는 페녹시카보닐옥시기이다.
아미노기는, 아미노기, 지방족 아미노기(예를 들면 알킬아미노기), 아릴아미노기 및 헤테로환 아미노기를 포함한다. 아미노기는, 탄소수 1~30의 지방족 아미노기(예를 들면 알킬아미노기), 탄소수 6~30의 아릴아미노기가 바람직하다. 아미노기의 예에는, 예를 들면, 아미노기, 메틸아미노기, 다이메틸아미노기, 아닐리노기, N-메틸-아닐리노기, 다이페닐아미노기, 하이드록시에틸아미노기, 카복시에틸아미노기, 설포에틸아미노기, 3,5-다이카복시아닐리노기, 4-퀴놀일아미노기 등을 들 수 있다.
아실아미노기는, 폼일아미노기, 탄소수 1~30의 알킬카보닐아미노기, 탄소수 6~30의 아릴카보닐아미노기가 바람직하다. 아실아미노기의 예에는, 폼일아미노기, 아세틸아미노기, 피발로일아미노기, 라우로일아미노기, 벤조일아미노기, 3,4,5-트라이-n-옥틸옥시페닐카보닐아미노기 등을 들 수 있다.
아미노카보닐아미노기는, 탄소수 1~30의 아미노카보닐아미노기가 바람직하다. 아미노카보닐아미노기의 예에는, 카바모일아미노기, N,N-다이메틸아미노카보닐아미노기, N,N-다이에틸아미노카보닐아미노기, 모폴리노카보닐아미노기 등을 들 수 있다. 또한, 이 기에 있어서의 "아미노"의 용어는, 상술한 아미노기에 있어서의 "아미노"와 동일한 의미이다.
지방족 옥시카보닐아미노기(예를 들면 알콕시카보닐아미노기)는, 탄소수 2~30이 바람직하고, 치환기를 가져도 된다. 예를 들면, 메톡시카보닐아미노기, 에톡시카보닐아미노기, t-뷰톡시카보닐아미노기, n-옥타데실옥시카보닐아미노기, N-메틸-메톡시카보닐아미노기 등을 들 수 있다.
아릴옥시카보닐아미노기는, 탄소수 7~30의 아릴옥시카보닐아미노기가 바람직하다. 아릴옥시카보닐아미노기의 예에는, 페녹시카보닐아미노기, p-클로로페녹시카보닐아미노기, m-n-옥틸옥시페녹시카보닐아미노기 등을 들 수 있다. 치환기를 가져도 되는 페닐옥시카보닐아미노기가 바람직하다.
설파모일아미노기는, 탄소수 0~30의 설파모일아미노기가 바람직하다. 설파모일아미노기의 예에는, 설파모일아미노기, N,N-다이메틸아미노설폰일아미노기, N-n-옥틸아미노설폰일아미노기 등을 들 수 있다.
지방족 아릴설폰일아미노기는, 탄소수 1~30의 지방족 설폰일아미노기(예를 들면 알킬설폰일아미노기), 탄소수 6~30의 아릴설폰일아미노기(바람직하게는 치환기를 가져도 되는 페닐설폰일아미노기)가 바람직하다. 예를 들면, 메틸설폰일아미노기, 뷰틸설폰일아미노기, 페닐설폰일아미노기, 2,3,5-트라이클로로페닐설폰일아미노기, p-메틸페닐설폰일아미노기 등을 들 수 있다.
지방족 싸이오기(예를 들면 알킬싸이오기)는, 탄소수 1~30의 알킬싸이오기가 바람직하다. 알킬싸이오기의 예에는, 메틸싸이오기, 에틸싸이오기, n-헥사데실싸이오기 등을 들 수 있다.
설파모일기는, 탄소수 0~30의 설파모일기가 바람직하다. 설파모일기의 예에는, N-에틸설파모일기, N-(3-도데실옥시프로필)설파모일기, N,N-다이메틸설파모일기, N-아세틸설파모일기, N-벤조일설파모일기, N-(N'-페닐카바모일)설파모일기 등을 들 수 있다.
지방족 혹은 아릴설핀일기는, 탄소수 1~30의 지방족 설핀일기(예를 들면 알킬설핀일기), 6~30의 아릴설핀일기(바람직하게는 치환기를 가져도 되는 페닐설핀일기)가 바람직하다. 예를 들면, 메틸설핀일기, 에틸설핀일기, 페닐설핀일기, p-메틸페닐설핀일기 등을 들 수 있다.
지방족 혹은 아릴설폰일기는, 탄소수 1~30의 지방족 설폰일기(예를 들면 알킬설폰일기), 6~30의 아릴설폰일기(바람직하게는 치환기를 가져도 되는 페닐설폰일기)가 바람직하다. 예를 들면, 메틸설폰일, 에틸설폰일, 페닐설폰일, p-톨루엔설폰일기 등을 들 수 있다.
아실기는, 폼일기, 탄소수 2~30의 지방족 카보닐기(예를 들면 알킬카보닐기), 탄소수 7~30의 아릴카보닐기(바람직하게는 치환기를 가져도 되는 페닐카보닐기), 탄소수 4~30의 탄소 원자로 카보닐기와 결합하고 있는 헤테로환 카보닐기가 바람직하다. 예를 들면, 아세틸, 피발로일, 2-클로로아세틸, 스테아로일, 벤조일, p-n-옥틸옥시페닐카보닐, 2-피리딜카보닐, 2-퓨릴카보닐기 등을 들 수 있다.
아릴옥시카보닐기는, 탄소수 7~30의 아릴옥시카보닐기가 바람직하다. 아릴옥시카보닐기의 예에는, 페녹시카보닐, o-클로로페녹시카보닐, m-나이트로페녹시카보닐, p-t-뷰틸페녹시카보닐기 등을 들 수 있다. 바람직하게는 치환기를 가져도 되는 페닐옥시카보닐기이다.
지방족 옥시카보닐기(예를 들면 알콕시카보닐기)는, 탄소수 2~30이 바람직하고, 치환기를 가져도 된다. 예를 들면, 메톡시카보닐, 에톡시카보닐, t-뷰톡시카보닐, n-옥타데실옥시카보닐기 등을 들 수 있다.
카바모일기는, 탄소수 1~30의 카바모일기가 바람직하다. 카바모일기의 예에는, 카바모일, N-메틸카바모일, N,N-다이메틸카바모일, N,N-다이-n-옥틸카바모일, N-(메틸설폰일)카바모일기 등을 들 수 있다.
아릴 혹은 헤테로환 아조기로서, 예를 들면, 페닐아조, 4-메톡시페닐아조, 4-피발로일아미노페닐아조, 2-하이드록시-4-프로판오일페닐아조기 등을 들 수 있다.
이미드기로서, 예를 들면, N-석신이미드기, N-프탈이미드기 등을 들 수 있다.
이에 더하여, 수산기, 사이아노기, 나이트로기, 설포기, 카복실기를 들 수 있다.
이들 각 기는 치환기를 더 가져도 되고, 이와 같은 치환기로서는, 상술한 치환기 T를 들 수 있다.
상기 일반식으로 나타나는 화합물은, 모두, 시판품을 이용하거나 종래 공지의 방법에 따라 합성할 수 있다.
일반식 (1)로 나타나는 화합물에 관해서는, 미국 특허공보 제5,789,560호에 기재된 방법으로 제조할 수 있다.
일반식 (2)로 나타나는 화합물은, 디스퍼져 옐로 201(예를 들면 Plast Yellow 8070(아리모토 가가쿠 고교 주식회사제, 상품명), Macrolex Yellow 6G(랑세스사제, 상품명)) 등과 같은 시판품으로서 입수하거나, 일반적으로 행해지고 있는 말로노나이트릴과 아미노벤즈알데하이드 유도체의 탈수 축합 반응(예를 들면, Journal of the Society of Dyers and Colourists(1977년) 93(4) 126~133페이지에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (3)으로 나타나는 화합물은, 예를 들면 HSY-2186(미쓰비시 케미컬 주식회사제, 상품명) 등과 같은 시판품으로서 입수하거나, 국제 공개공보 2018-91979호에 기재된 방법에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (4)로 나타나는 화합물은, 예를 들면 HSY-2701(미쓰비시 케미컬 주식회사제, 상품명) 등과 같은 시판품으로서 입수하거나, 일반적으로 행해지고 있는 피라졸론 유도체와 아미노벤즈알데하이드 유도체의 탈수 축합 반응(예를 들면 중국 특허공보 100,546,979호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (5)로 나타나는 화합물은, 예를 들면, BOC 사이언스사제 시약(카탈로그 번호 69808-32-8) 등과 같은 시판품으로서 입수하거나, 일반적으로 행해지고 있는 아닐린 유도체와 피리돈 유도체의 다이아조 커플링 반응(예를 들면, Zeitschrift fuel Chemie(1989년) 29(11) 422-423페이지에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (6)으로 나타나는 화합물은, 솔벤트 옐로 93(예를 들면 Plast Yellow8000(아리모토 가가쿠 고교 주식회사제, 상품명), KP Plast Yelow G(기와 가가쿠 고교 주식회사제, 상품명) 등) 등과 같은 시판품으로서 입수하거나, 일반적으로 행해지고 있는 피라졸론 유도체와 오쏘폼산 에스터의 축합 반응(예를 들면, 약학 잡지(1953년) 73권 1063~1066페이지에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (7)로 나타나는 화합물은, 일반적으로 행해지고 있는 메로사이아닌 색소의 합성법과 동일하게, 2,3,3-트라이메틸인돌레닌을 N-알킬화한 후에, Vilsmeier 반응에 의하여 활성 메틸렌 부위를 폼일화하고, 계속하여, 피라졸론 유도체와의 탈수 축합 반응함으로써 합성할 수 있다.
일반식 (8)로 나타나는 화합물은, 예를 들면 HSB-2115, HSB-2131및 HSB-2207(모두 미쓰비시 케미컬 주식회사제, 상품명) 등과 같은 시판품으로서 입수하거나, 일반적으로 행해지고 있는 4-나이트로소아닐린 유도체와 페놀 유도체의 탈수 축합 반응(예를 들면, 일본 특허공보 5,308,692호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (9)로 나타나는 화합물은, 일반적으로 행해지고 있는 4-나이트로소아닐린 유도체와 나프톨 유도체의 탈수 축합 반응(예를 들면, 일본 특허공보 5,308,692호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (10)으로 나타나는 화합물은, 알파·케미스트리사제 시약(카탈로그 번호 ACM75214618)이나 Disperse Blue354(예를 들면, Foron Brilliant Blue S-R(클라리언트사제, 상품명)나 Kayalon Polyester Brilliant Blue FR-S(닛폰 가야쿠 주식회사제, 상품명)) 등과 같은 시판품으로서 입수하거나, 일반적으로 행해지고 있는 방법(예를 들면, 중국 특허공보 106,675,082호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (11)로 나타나는 화합물은, 아닐린 유도체와 아미노싸이오펜 유도체의 다이아조 커플링 반응, 이어서 3-아실아미노아닐린 유도체와의 다이아조 커플링 반응(예를 들면 중국 특허공보 106,928,745호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (12)로 나타나는 화합물은, 솔벤트 블루 36(예를 들면 Sumipast Blue OA(스미가 케미텍스 주식회사제, 상품명)나 Plast Blue 8510(아리모토 가가쿠 고교 주식회사제, 상품명) 등), 솔벤트 블루 63(예를 들면 Plast Blue 8540(아리모토 가가쿠 고교 주식회사제, 상품명)) 등과 같은 시판품으로서 입수할 수 있다.
일반식 (13)으로 나타나는 화합물은, 디스퍼져 스레드 60(예를 들면 Plast Red 8375(아리모토 가가쿠 고교 주식회사제, 상품명)나 Sumikaron Red E-FBL(스미가 케미텍스 주식회사제, 상품명)) 등과 같은 시판품으로서 입수할 수 있다.
일반식 (14)로 나타나는 화합물은, 디스퍼져 바이올렛 26(예를 들면 Sumikalon Bordeaux SE BL(스미가 케미텍스 주식회사제, 상품명)) 등과 같은 시판품으로서 입수할 수 있다.
일반식 (15)로 나타나는 화합물은, HSR-2150 및 HSR-2164(모두 미쓰비시 케미컬 주식회사제, 상품명) 등과 같은 시판품으로서 입수할 수 있다.
일반식 (16)으로 나타나는 화합물은, 일반적으로 행해지고 있는 5-아미노-3-메틸아이소싸이아졸-4-카보나이트릴과 3-아실아미노아닐린 유도체의 다이아조 커플링 반응(예를 들면, 일본 공개특허공보 2004-345270호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (17)로 나타나는 화합물은, 일반적으로 행해지고 있는 5-아미노-2-(N,N-다이알킬아미노)피리딘 유도체와 피라졸로트라이아졸 유도체의 산화 커플링 반응(예를 들면, 일본 특허공보 제3,513,792호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (18)로 나타나는 화합물은, 일반적으로 행해지고 있는 4-나이트로소아닐린 유도체와 피라졸로트라이아졸 유도체의 축합 반응(예를 들면, 일본 공개특허공보 2007-262165호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다
일반식 (19)로 나타나는 화합물은, 일반적으로 행해지고 있는, 2-(N,N-다이알킬)-5-폼일싸이아졸 유도체와, 6-하이드록시-2-피리돈-3-카보나이트릴 유도체의 축합 반응(예를 들면, 일본 특허공보 2839675호에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
일반식 (20)으로 나타나는 화합물은, 일반적으로 행해지고 있는, 4-(다이사이아노메틸렌)-1-페닐-4-피라졸론 유도체와 N,N-다이알킬아닐린 유도체의 반응(예를 들면, Dyes and Pigments(1988년) 9(5) 393~399페이지에 기재된 방법)에 의하여 합성할 수 있다.
본 발명의 감열 전사 기록 시트에 의하면, 고농도 또한 색감이 우수하고, 다른 색의 강조 효과가 있는 프로세스 블랙의 형성이 가능하다. 그 상세한 메커니즘에 대해서는 불명하지만, 이하와 같이 생각된다.
일반식 (1)로 나타나는 화합물(마젠타 염료)은 전사성이 높고, 저~중농도 프린트 영역에서는 흡수 파형이 샤프하기 때문에 선명하며 색재현역이 넓어지지만, 고농도 프린트의 농도 포화 영역에서는 흡수 파형이 브로드화되는 특징이 있다. 프로세스 블랙 형성에 있어서, 일반식 (1)로 나타나는 마젠타 염료를 포함하는 염료층과, 일반식 (2)~(7)로 나타나는 옐로 염료를 포함하는 염료층과, 일반식 (8)~(12)로 나타나는 사이안 염료를 포함하는 염료층을 이용함으로써, 얻어진 프로세스 블랙 부분에서는 옐로의 흡수 파형, 마젠타 흡수 파형, 및 사이안 흡수 파형의 경계가 효율적으로 매립되어, 가시 영역에서 평탄한 흡수에 가까워지기 때문에, 양질의 프로세스 블랙을 형성할 수 있다.
또, 본 발명의 바람직한 형태의 감열 전사 기록 시트에 의하면, 상기 효과에 더하여, 퇴색 시의 색 밸런스가 높은 화상을 얻을 수도 있다. 그 이유는 이하와 같이 생각된다.
일반식 (1)로 나타나는 마젠타 염료는 내광성이나 습열 견뢰성이 높고, 다른 염료와 혼합해도(잉크 시트에 있어서 일반식 (1)로 나타나는 마젠타 염료에 더하여 다른 마젠타 염료를 병용하는 경우, 및 프린트에 있어서 사이안 염료나 옐로 염료와, 일반식 (1)로 나타나는 마젠타 염료가 혼합되는 경우의 양방을 가리킨다), 촉매적으로 퇴색을 가속하지 않는다.
각 색조의 염료층에 있어서는, 염료를 단독으로 이용할 수 있고, 복수 조합하여 이용할 수도 있다.
이하에, 본 발명에 있어서의, 사이안 염료, 옐로 염료, 마젠타 염료의 바람직한 조합의 양태를 각각 기재한다. 각 염료의 바람직한 조합의 양태는 다른 색상의 염료의 바람직한 조합의 양태와 더 조합할 수 있다.
사이안 염료는, 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이 조합에 의하면, 본 발명의 상기 효과에 더하여 그레이 화상의 광에 의한 퇴색 시의 색 밸런스를 높일 수 있다. 또한, 역전사성을 저하시킬 수 있는(즉, 프린트 시의, 잉크 시트에 대한 염료의 복귀(역전사)를 저감시킬 수 있다). 상기 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 일반식 (8)로 나타나는 화합물의 함유량(I)과, 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물의 함유량의 합계(II)의 비가, 질량비로, (I):(II)=90~50:10~50이 바람직하고, 80~60:20~40이 보다 바람직하다. (I)+(II)=100이다.
사이안 염료는, 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (12)로 나타나는 화합물을 포함하는 것도 바람직하다. 이 조합에 의하면, 본 발명의 효과에 더하여, 그레이 화상의 광에 의한 퇴색 시의 색 밸런스를 높이는 것, 역전사성을 저하시키는 것, 단색 화상의 광에 의한 퇴색 시의 각 염료의 잔존율을 높이는 것, 어두운 곳 고온 고습 환경하에서의 퇴색 밸런스를 높이는 것 등을 할 수 있다.
옐로 염료는, 일반식 (4)로 나타나는 화합물과 일반식 (2), (3), (5)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 옐로 염료는, 일반식 (4)로 나타나는 화합물과 일반식 (2) 또는 (6) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것도 바람직하다. 상기 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 일반식 (4)로 나타나는 화합물의 함유량(III)과, 일반식 (2), (3), (5)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물의 함유량의 합계(IV)의 비가, 질량비로, (III):(IV)=90~50:10~50이 바람직하고, 90~60:10~40이 보다 바람직하다. (III)+(IV)=100이다.
옐로 염료가, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과 일반식 (2)로 나타나는 화합물을 포함하는 것도 바람직하다. 상기 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물의 함유량(XVI)과, 일반식 (2)로 나타나는 화합물의 함유량(V)의 비는, 질량비로, (XVI):(V)=90~50:10~50이 바람직하고, 80~60:20~40이 보다 바람직하다. (XVI)+(V)=100이다.
이들 조합에 의하면, 본 발명의 상기 효과에 더하여, 색재현성을 높일 수 있다.
마젠타 염료는, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과 일반식 (13)~(20) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 일반식 (1)로 나타나는 화합물의 함유량(VI)과, 일반식 (13)~(20) 중 어느 하나로 나타나는 화합물의 함유량의 합계(VII)의 비는, 질량비로, (VI):(VII)=90~50:10~50이 바람직하고, 80~60:20~40이 보다 바람직하다. (VI)+(VII)=100이다.
마젠타 염료는, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과 일반식 (15)로 나타나는 화합물을 포함하는 것도 바람직하다. 상기 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 일반식 (1)로 나타나는 화합물의 함유량(VIII)과 일반식 (15)로 나타나는 화합물의 함유량(IX)의 비는, 질량비로, (VIII):(IX)=90~50:10~50이 바람직하고, 80~60:20~40이 보다 바람직하다. (VIII)+(IX)=100이다.
마젠타 염료는, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 일반식 (15)로 나타나는 화합물과, 일반식 (13)으로 나타나는 화합물을 포함하는 것도 바람직하다. 상기 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 일반식 (1)로 나타나는 화합물의 함유량(X)과, 일반식 (15)로 나타나는 화합물의 함유량(XI)과, 일반식 (13)으로 나타나는 화합물의 함유량(XII)의 비는, 질량비로, (X):(XI):(XII)=90~50:5~25:5~25가 바람직하고, 80~60:10~20:10~20이 보다 바람직하다. (X)+(XI)+(XII)=100이다.
마젠타 염료는, 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 일반식 (13)으로 나타나는 화합물과, 일반식 (14)로 나타나는 화합물을 포함하는 것도 바람직하다. 상기 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 일반식 (1)로 나타나는 화합물의 함유량(XIII)과, 일반식 (13)으로 나타나는 화합물의 함유량(XIV)과, 일반식 (14)로 나타나는 화합물의 함유량(XV)의 비, 질량비로, (XIII):(XIV):(XV)=90~50:5~25:5~25가 바람직하고, 80~60:10~20:10~20이 보다 바람직하다. (XIII)+(XIV)+(XV)=100이다.
이들 조합에 의하면, 본 발명의 상기 효과에 더하여, 색재현성을 높일 수 있다.
본 발명의 상기 효과를 보다 효율적으로 얻는 관점에서는, 각 색상의 염료는 이하와 같이 조합하는 것이 바람직하다.
마젠타 염료가 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하고, 옐로 염료가 일반식 (2)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하며, 사이안 염료가 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
마젠타 염료가 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하고, 옐로 염료가 일반식 (2)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하며, 사이안 염료가 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (12)로 나타나는 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
마젠타 염료가 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하고, 옐로 염료가 일반식 (4)로 나타나는 화합물과 일반식 (2), (3), (5)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하며, 사이안 염료가 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
마젠타 염료가 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하고, 옐로 염료가 일반식 (4)로 나타나는 화합물과 일반식 (2) 또는 (6)으로 나타나는 화합물을 포함하며, 사이안 염료가 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
마젠타 염료가 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하고, 옐로 염료가 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과 일반식 (2)로 나타나는 화합물을 포함하며, 사이안 염료가 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
마젠타 염료가 일반식 (1)로 나타나는 화합물과 일반식 (13)~(20) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하고, 옐로 염료가 일반식 (4)로 나타나는 화합물과 일반식 (2), (3), (5)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하며, 사이안 염료가 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
-그 외의 색소-
본 발명에 이용되는 색소는, 그 외에 색소를 병용하는 것도 가능하다. 병용하는 색소로서는 열에 의하여 확산하고, 감열 전사 기록 시트에 내장 가능 또한, 가열에 의하여 감열 전사 기록 시트로부터 수상 시트에 전사하는 것이면 특별히 한정되지 않고, 열전사 시트용의 색소로서 종래부터 이용되어 오고 있는 색소, 혹은 공지의 색소를 이용할 수 있다.
병용하는 것에 바람직한 색소로서는, 예를 들면, 다이아릴메테인 색소, 트라이아릴메테인 색소, 싸이아졸 색소, 메로사이아닌 등의 메타인 색소, 인드아닐린, 아세토페논아조메타인, 피라졸아조메타인, 이미다졸아조메타인, 이미다조아조메타인, 피리돈아조메타인 등으로 대표되는 아조메타인 색소, 잔텐 색소, 옥사진 색소, 다이사이아노스타이렌, 트라이사이아노스타이렌 등으로 대표되는 사이아노메틸렌 색소, 싸이아진 색소, 아진 색소, 아크리딘 색소, 벤젠아조 색소, 피리돈아조, 싸이오펜아조, 아이소싸이오아졸아조, 피롤아조, 필라아조, 이미다졸아조, 싸이아다이아졸아조, 트라이아졸아조, 다이즈아조 등의 아조 색소, 스파이로피란 색소, 인돌리노스파이로피란 색소, 플루오란 색소, 로다민락탐 색소, 나프토퀴논 색소, 안트라퀴논 색소, 퀴노프탈론 색소, 인드아닐린 색소 등을 들 수 있다.
-바인더-
본 발명의 감열 전사 기록 시트에 있어서, 각 색상의 염료는 각각 바인더라고 불리는 고분자 화합물에 분산된 상태로 기재 상에 도포되어 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 이용하는 감열 전사 기록 시트용의 바인더로서는, 각종 공지의 것을 사용할 수 있다.
바인더용 고분자 화합물의 예로서는, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리아크릴산 에스터, 폴리아크릴아마이드 등의 아크릴 수지, 폴리바이닐아세트아세탈, 폴리바이닐뷰티랄 등의 폴리바이닐아세탈 수지, 에틸셀룰로스, 하이드록시에틸셀룰로스, 에틸하이드록시셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 에틸하이드록시에틸셀룰로스, 메틸셀룰로스, 아세트산 셀룰로스, 아세트뷰티르산 셀룰로스, 아세트산 프로피온산 셀룰로스, 질산 셀룰로스 등의 변성 셀룰로스 수지, 나이트로셀룰로스, 에틸하이드록시에틸셀룰로스 및 에틸셀룰로스 등의 셀룰로스 수지, 폴리유레테인 수지, 폴리아마이드 수지, 폴리에스터 수지, 폴리카보네이트 수지, 페녹시 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 각종 에스트라마 등을 들 수 있다. 이들을 단독으로 이용하는 것 외에, 이들을 혼합, 또는 공중합하여 이용하는 것도 가능하다.
본 발명에 있어서의 바인더로서는, 폴리바이닐아세탈 수지가 바람직하고, 보다 바람직하게는 폴리바이닐아세트아세탈 수지이다. 더 바람직하게는, 수지 중의 아세탈부가 80질량% 이상 또한 이 아세탈 부분에 있어서 아세트아세탈비가 90질량% 이상인 폴리바이닐아세트아세탈 수지이다. 이와 같은 아세탈 수지는 일본 특허공보 제3065111호나 이 명세서 중에 인용된 문헌에 의한 방법으로 합성할 수 있는 것 외에, 세키스이 가가쿠 고교 주식회사제 에스렉스 KS-5(상품명), 덴키 가가쿠 고교 주식회사제 덴카 뷰티랄 #5000-D(상품명) 등, 상업적으로 입수 가능한 제품이 있다.
-가교제-
본 발명의 감열 전사 기록 시트에 있어서, 바인더를 각종 가교제에 의하여 가교하는 것도 바람직한 양태이다.
가교제란, 고분자 화합물의 주쇄나 측쇄에 붙은 관능기와 반응하여, 고분자끼리를 결합하는 성질을 갖는 화합물이다. 가교제는 대상이 되는 고분자 화합물의 종류에 따라 적합한 것이 선택된다. 대표적인 예로서는, 폴리바이닐아세탈 수지 등 활성 수소를 갖는 수산기를 가진 고분자 화합물에 대해서는, 분자 중에 복수의 아이소사이아네이트기(-N=C=O)를 갖는 아이소사이아네이트류가 가교제로서 바람직하게 이용된다. 이하에 아이소사이아네이트류의 구체예를 든다.
(1) 다이아이소사이아네이트 화합물
방향족 폴리아이소사이아네이트로서, 톨릴렌다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인다이아이소사이아네이트, 트리딘다이아이소사이아네이트, 나프탈린다이아이소사이아네이트 등이, 또 지방족 폴리아이소사이아네이트로서, 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 아이소포론다이아이소사이아네이트, 자일레린다이아이소사이아네이트, 수소 첨가 자일레린다이아이소사이아네이트, 다이사이클로헥실메테인다이아이소사이아네이트 등을 들 수 있다.
(2) 트라이아이소사이아네이트 화합물
트라이메틸올프로페인 변성 톨릴렌다이아이소사이아네이트, 아이소사이아누레이트 결합 톨릴렌다이아이소사이아네이트, 트라이메틸올프로페인 변성 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 아이소사이아누레이트 결합 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 뷰렛트 결합 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 트라이메틸올아이소포론다이아이소사이아네이트, 아이소사이아누레이트 결합 아이소포론다이아이소사이아네이트, 트라이페닐메테인트라이아이소사이아네이트, 트리스(아이소사이아네이트페닐)싸이오포스페이트 등을 들 수 있다.
또, 이들 아이소사이아네이트 화합물의 혼합물이나 아이소사이아네이트 화합물을 주쇄나 측쇄에 갖는 폴리머의 사용도 바람직하다.
이들 아이소사이아네이트류는 버녹(다이닛폰 잉크 가가쿠 고교 주식회사제), 타케네이트, MT-올레스터(모두 미쓰이 가가쿠 폴리유레테인 주식회사제), 콜로네이트(닛폰 폴리유레테인 고교사제) 등의 상품명으로 상업적으로 입수 가능하다.
아이소사이아네이트류의 사용량은 아이소사이아네이트기(-NCO)와 바인더의 활성 수소(H)의 몰비(NCO/H)로 0.2에서 2.0의 범위가 바람직하고, 0.3에서 1.5의 범위가 보다 바람직하다.
바인더와 아이소사이아네이트류의 가교 반응을 촉진하는 목적으로 촉매를 첨가해도 된다. 이와 같은 촉매에 대해서는 "최신 폴리유레테인 재료와 응용 기술"(주식회사 씨엠씨 슛판, 2005년)에 기재가 있다.
-이형제-
본 발명에 있어서, 염료층은, 통상 염료와 바인더를 함유하지만, 필요에 따라, 왁스류, 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 고분자 화합물, 실리콘 화합물, 폴리머 입자, 무기 입자를 함유할 수 있다. 이하, 본 발명의 적합하게 이용되는 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 고분자 화합물과 실리콘 화합물에 대하여 설명한다.
불소 이형제(불소 원자 함유 지방족기를 갖는 고분자 화합물)
본 발명에 이용되는 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 고분자 화합물에 있어서, 바람직한 형태는, 불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물이다. 불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물은, 텔로머리제이션법(텔로머법이라고도 한다) 혹은 올리고머리제이션법(올리고머법이라고도 한다)에 의하여 제조된 불소 원자 함유 지방족 화합물로부터 유도할 수 있다. 불소 원자 함유 지방족 화합물은, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2002-90991호에 기재된 방법 등에 의하여 용이하게 합성할 수 있다.
여기에서, 불소 원자 함유 지방족기는, 적어도 1개의 불소 원자를 치환기로서 갖는 지방족기(직쇄, 분기 또는 환상의 지방족기)이며, 바람직하게는 탄소 원자수가 1~36의, 알킬기, 알켄일기 또는 사이클로알카인일기이다. 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 1~36(바람직하게는 1~18, 보다 바람직하게는 1~12, 더 바람직하게는 1~10, 가장 바람직하게는 4~8)의 알킬기로, 이 지방족기는 불소 원자 이외에 치환기를 가져도 된다. 이 치환기로서는, 예를 들면, 알킬기, 아릴기, 헤테로환기, 불소 원자 이외의 할로젠 원자, 수산기, 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬싸이오기, 아릴싸이오기, 아미노기, 알킬아미노기, 아릴아미노기, 헤테로환 아미노기, 아실아미노기, 설폰아미노기, 카바모일기, 설파모일기, 사이아노기, 나이트로기, 아실기, 설폰일기, 유레이도기, 유레테인기 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서 불소 원자 함유 지방족기로서 가장 바람직하게는, 퍼플루오로알킬기이다.
불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물로서는, 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 모노머의 중합체 혹은 공중합체가 바람직하고, 이와 같은 모노머로서는, 아크릴산 화합물 (예를 들면 아크릴산류, 아크릴산 에스터류, 아크릴산 아마이드류로, 아크릴산 에스터류, 아크릴산 아마이드류가 바람직하며, 아크릴산 에스터류가 보다 바람직하다), 메타크릴산 화합물 (예를 들면 메타크릴산류, 메타크릴산 에스터류, 메타크릴산 아마이드류로, 메타크릴산 에스터류, 메타크릴산 아마이드류가 바람직하고, 메타크릴산 에스터류가 보다 바람직하다)의 아실부 또는 알코올 혹은 아마이드부(질소 원자로 치환하는 기)에 불소 원자 함유 지방족기를 치환기로서 갖는 모노머나 아크릴로나이트릴 화합물에 불소 원자 함유 지방족기를 치환기로서 갖는 모노머로 얻어지는 고분자 화합물이 바람직하다.
불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물로서는, 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 모노머와의 공중합체의 경우, 조합하는 모노머로서는, 아크릴레이트류, 메타아크릴레이트류, 아크릴로나이트릴류, 아크릴아마이드류, 메타크릴아마이드류, 올레핀류, 스타이렌류 등을 들 수 있고, 그 중에서도 아크릴레이트류, 메타아크릴레이트류, 아크릴로나이트릴류, 아크릴아마이드류, 메타크릴아마이드류가 바람직하며, 보다 바람직하게는 아크릴레이트류, 메타아크릴레이트류이고, 이들 중에서도, 알코올부 혹은 아마이드부의 질소 원자로 치환하는 기중에 폴리옥시알킬렌(예를 들면, 폴리옥시에틸렌, 폴리옥시프로필렌)을 갖는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서는 공중합체가 바람직하고, 2원 공중합체여도 3원 공중합체여도 그 이상이어도 상관없다.
예를 들면, 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 모노머와 (폴리(옥시알킬렌))아크릴레이트 및/또는 (폴리(옥시알킬렌))메타크릴레이트의 공중합체가 바람직하고, 불규칙하게 분포되어 있는 것이어도 되며, 블록 공중합하고 있어도 된다. 또, 폴리(옥시알킬렌)기로서는, 폴리(옥시에틸렌)기, 폴리(옥시프로필렌)기, 폴리(옥시뷰틸렌)기 등을 들 수 있고, 또, 폴리(옥시에틸렌과 옥시프로필렌과 옥시에틸렌의 블록 연결체)나 폴리(옥시에틸렌과 옥시프로필렌의 블록 연결체) 등 동일한 폴리머쇄 내에 상이한 쇄장의 알킬렌을 갖는 것 같은 유닛이어도 된다. 또한, 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 모노머와 (폴리(옥시알킬렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)의 공중합체는 2원 공중합체뿐만 아니라, 상이한 2종 이상의 불소 원자 함유 지방족기를 갖는 모노머나, 상이한 2종 이상의 (폴리(옥시알킬렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트) 등을 동시에 공중합한 3원 이상의 공중합체여도 된다.
불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물의 질량 평균 분자량은, 바람직하게는 5,000~100,000이며, 보다 바람직하게는 8,000~50,000이고, 더 바람직하게는 10,000~40,000이다.
예를 들면, 퍼플루오로뷰틸기(-C4F9)를 갖는 아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시 알킬렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)의 공중합체, 퍼플루오로뷰틸기를 갖는 아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시에틸렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시프로필렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)의 공중합체, 퍼플루오로헥실기(-C6F13)를 갖는 아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시알킬렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)의 공중합체, 퍼플루오로헥실기를 갖는 아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시에틸렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시프로필렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)의 공중합체, 퍼플루오로옥틸기(-C8H17)를 갖는 아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시알킬렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)의 공중합체, 퍼플루오로옥틸기를 갖는 아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시에틸렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)와 (폴리(옥시프로필렌))아크릴레이트(또는 메타크릴레이트)의 공중합체 등을 들 수 있다.
또, 이들 불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물은, "퍼플루오로알킬 함유 올리고머" 등의 일반 명칭으로 상업적으로 입수 가능하고, 예를 들면 하기의 제품을 사용할 수 있다.
다이닛폰 잉크 가가쿠 고교 주식회사제: 메가팍 F-470, 메가팍 F-471, 메가팍 F-472SF, 메가팍 F-474, 메가팍 F-475, 메가팍 F-477, 메가팍 F-478, 메가팍 F-479, 메가팍 F-480SF, 메가팍 F-472, 메가팍 F-483, 메가팍 F-484, 메가팍 F-486, 메가팍 F-487, 메가팍 F-489, 메가팍 F-172D, 메가팍 F-178K, 메가팍 F-178RM(모두 상품명), 스미토모 3M 주식회사제: 노벡(상표명) FC-4430, FC-4432(모두 상품명).
상기 불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물은 비이온성(수중에서 해리한 기, 예를 들면, 설포기, 카복실기를 갖지 않는 것)인 것이 바람직하고, 일정한 수용성을 갖는 것이 더 바람직하다. 여기에서 일정한 수용성이란 고분자 화합물이 25℃에 있어서 순수에 대하여 1% 이상의 용해도를 갖는 것이다.
구체적으로는, 수산기, 상기와 같은 옥시알킬렌기를 갖는 고분자 화합물이며, 예를 들면, 다이닛폰 잉크 가가쿠 고교 주식회사제 메가팍 F-470, 메가팍 F-472SF, 메가팍 F-477, 메가팍 F-479, 메가팍 F-480SF, 메가팍 F-484, 메가팍 F-486(모두 상품명)과 같이 물에 대한 용해성을 나타내는 화합물이 바람직하다.
불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물은, 옐로, 마젠타, 사이안, 필요에 따라 블랙 중 어느 염료층에 함유시켜도 되고, 1개의 염료층에 함유시켜도 되고 복수의 염료층에 함유시켜도 된다. 옐로, 마젠타, 사이안의 각 염료층에 함유시키는 것이 바람직하다.
또, 불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물 첨가량은 염료와 바인더의 종류나 양에 따라 결정할 수 있고, 염료층의 전고형분(질량)에 대하여, 바람직하게는 0.01질량%~20질량%이며, 보다 바람직하게는, 0.1질량%~10질량%이고, 더 바람직하게는 0.2질량%~5질량%이다.
실리콘 이형제(실리콘 화합물)
다음으로, 본 발명의 감열 전사 기록 시트에 적합하게 이용되는 실리콘 화합물에 대하여 설명한다.
본 발명의 감열 전사 기록 시트에 있어서는, 실리콘 화합물을 병용하는 것도 바람직하다. 본 발명에 있어서의 실리콘 화합물이란, 분자 중의 주쇄나 측쇄에 SiO를 반복 단위로 하는 폴리실록세인 구조를 갖는 화합물이다. 대표적인 것으로 SiO를 반복 단위로 하는 폴리머 주쇄의 Si 원자 상에 수소 원자, 알킬기나 아릴기가 결합한 실리콘 오일이 있다. 이하, 본 명세서에 있어서, 폴리실록세인이란, 상기 실리콘 오일과 같이, SiO를 반복 단위로서 Si 원자 상에 수소 원자, 알킬기, 아릴기를 갖는 구조를 나타낸다.
본 발명에서 바람직하게 이용되는 실리콘 화합물은, 실리콘 그래프트 폴리머, 실리콘 블록 폴리머이다. 실리콘 그래프트 폴리머란, 폴리머를 구성하는 1개의 주쇄로부터 폴리실록세인 구조를 갖는 다수의 측쇄가 가지 형상으로 나누어진 구조를 갖는 폴리머이다. 실리콘 블록 폴리머란, 폴리머를 구성하는 주쇄 중에 폴리실록세인 구조가 매립된 구조를 갖는 폴리머이다.
실리콘 그래프트 폴리머에 있어서의 주쇄는, 단일의 모노머가 중합한 것이어도 되고, 복수의 종류의 모노머가 공중합한 것이어도 된다. 또, 복수의 폴리머 세그먼트가 결합한 블록 폴리머 구조를 갖고 있어도 된다. 또, 측쇄는 폴리실록세인 구조뿐이어도 되고, 다른 구조가 혼합되어 있어도 된다. 또, 측쇄의 폴리실록세인부는 일종의 폴리실록세인부로 이루어져도 되고, 복수의 상이한 종류의 폴리실록세인부로 이루어져도 된다. 폴리머 중의 폴리실록세인부의 평균 함량은 5질량% 이상 70질량% 이하의 범위가 바람직하고, 10질량% 이상 50질량% 이하가 보다 바람직하다.
실리콘 블록 폴리머에 있어서, 폴리머쇄의 부분은, 단일의 모노머가 중합한 것이어도 되고, 복수의 종류의 모노머가 공중합한 것이어도 된다. 폴리머쇄의 부분은, 복수가 상이한 종류의 폴리머쇄로 이루어져도 된다. 폴리실록세인부도 폴리머쇄와 동일하게 복수가 상이한 종류의 폴리실록세인부로 이루어져도 된다. 또, 폴리머쇄, 폴리실록세인부 모두 측쇄를 갖고, 이른바 그래프트 폴리머 구조로 해도 된다. 폴리머 중의 폴리실록세인부의 평균 함량은 5질량% 이상 70질량% 이하의 범위가 바람직하고, 10질량% 이상 50질량% 이하가 보다 바람직하다.
이와 같은 폴리머는 다양한 방법으로 합성할 수 있다. 예를 들면, 주쇄로서 적당한 관능기를 갖는 폴리머쇄를 형성 후, 상기 관능기와 반응하는 관능기를 갖는 폴리실록세인부를 직접 반응시키는 방법이나, 다이아이소사이아네이트와 같은 가교제를 작용시켜 반응시키는 방법 등이 알려져 있다.
또, 이와 같은 폴리머는 시판도 되고 있다. 예를 들면, 다이아로머 SP712(상품명), 다이이치 세이카 고교 주식회사제 등을 들 수 있다.
이와 같은 폴리머의 보다 바람직한 구조로서는, 폴리머쇄의 부분이, 사용되는 바인더와 유사한 구조를 취하는 것이다. 예를 들면, 바인더로서 본 발명에서 바람직하게 이용되는 폴리바이닐아세트아세탈을 사용하는 경우, 실리콘 화합물의 폴리머쇄는 폴리바이닐아세트아세탈 구조를 갖는 경우가 바람직하다.
(기재)
본 발명의 감열 전사 기록 시트 및, 후술하는 보호층 전사 시트의 기재는 특별히 한정되지 않고, 필요한 내열성과 강도를 갖는 것이면, 종래 공지의 어느 것에서도 사용할 수 있다.
예로서는, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리에스터 필름을 들 수 있다.
기재의 두께는, 그 강도 및 내열성 등이 적절히 되도록 재료에 따라 적절히 변경할 수 있지만, 바람직하게는 1~100μm이다. 보다 바람직하게는 2~50μm의 것이며, 더 바람직하게는 3~10μm의 것이 이용된다.
(염료 배리어층)
본 발명의 감열 전사 기록 시트는, 염료층과 기재의 사이에 염료의 기재 방향에 대한 확산을 방지하기 위한 염료 배리어층을 마련할 수 있다.
염료 배리어층으로서는 통상의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 폴리바이닐알코올 수지나 아세탈화도가 낮은 폴리바이닐아세탈 수지(수지 전체에 대하여 아세탈 부분이 50% 이하) 등이다.
(이접착 처리)
기재의 표면에 대해서는, 도포액의 습윤성 및 접착성의 향상을 목적으로 하여, 이접착 처리를 행해도 된다. 처리 방법으로서, 코로나 방전 처리, 화염 처리, 오존 처리, 자외선 처리, 방사선 처리, 조면화 처리, 화학 약품 처리, 진공 플라즈마 처리, 대기압 플라즈마 처리, 프라이머 처리, 그래프트화 처리 등 공지의 수지 표면 개질 기술을 예시할 수 있다.
또, 기재 상에 도포에 의하여 이접착층을 형성할 수도 있다. 이접착층에 이용되는 수지로서는, 폴리에스터 수지, 폴리아크릴산 에스터 수지, 폴리아세트산 바이닐 수지, 폴리염화 바이닐 수지나 폴리바이닐알코올 수지 등의 바이닐 수지, 폴리바이닐아세트아세탈이나 폴리바이닐뷰티랄 등의 폴리바이닐아세탈 수지, 폴리에터 수지, 폴리유레테인 수지, 스타이렌아크릴레이트 수지, 폴리아크릴아마이드 수지, 폴리아마이드 수지, 폴리스타이렌 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지 등을 예시할 수 있다.
이접착층의 형성은, 기재에 이용되는 필름을 용융 압출하여 형성할 때에, 상기 수지를 포함하는 도포액을 미연신 필름에 도포하고, 그 후에 연신 처리하여 행하는 것도 가능하다.
또, 상기의 처리는, 2종류 이상을 병용할 수도 있다.
(전사성 보호층)
다음으로, 본 발명의 감열 전사 기록 시트에 이용할 수 있는 전사성 보호층 적층체에 대하여 설명한다.
본 발명에 있어서, 감열 전사 기록 시트에 전사성 보호층 적층체를 상기 각 염료층과 표면 순차적으로 마련하는 것이 바람직하다. 전사성 보호층 적층체를 기재 상에 마련하여 보호층 전사 시트로서 감열 전사 기록 시트와는 별도로 조제해도 된다. 전사성 보호층 적층체는, 열전사된 화상 위에 투명 수지로 이루어지는 보호층을 열전사로 형성하고, 화상을 덮어 보호하기 위한 것이며, 내찰과성, 내광성, 내후성, 내약품성 등의 내구성 향상을 목적으로 한다. 전사된 염료가 감열 전사 수상 시트 표면에 노출된 상태에서는, 내찰과성, 내광성, 내후성, 내약품성 등의 화상 내구성이 불충분한 경우에 유효하다.
전사성 보호층 적층체는, 기재 상에, 기재측으로부터 이형층, 전사성 보호층, 접착제층의 순서로 형성할 수 있다. 전사성 보호층을 복수의 층으로 형성하는 것도 가능하다. 전사성 보호층이 다른 층의 기능을 겸비하고 있는 경우에는, 이형층, 접착제층을 생략하는 것도 가능하다. 이형층을 이용하는 경우는, 기재로서 이접착층이 마련된 것을 이용하는 것도 가능하다.
전사성 보호층을 형성하는 수지로서는, 내찰과성, 내약품성, 투명성, 경도가 우수한 수지가 바람직하고, 폴리에스터 수지, 아크릴 수지, 폴리스타이렌 수지, 폴리유레테인 수지, 아크릴유레테인 수지, 이들 각 수지의 실리콘 변성 수지, 자외선 차단성 수지, 이들 각 수지의 혼합물, 전리 방사선 경화성 수지, 자외선 경화성 수지 등을 이용할 수 있다. 그중에서도, 폴리에스터 수지, 아크릴 수지가 바람직하다. 또, 전술한 각종 가교제에 의하여 가교하는 것도 가능하다.
(배면층)
본 발명의 감열 전사 기록 시트는, 염료층을 도설(塗設)한 기재의 면의 타방의 면(이면), 즉 서멀 헤드 등에 접하는 측에 배면층을 마련하는 것이 바람직하다. 또, 보호층 전사 시트의 경우에도, 전사성 보호층을 도설한 기재의 면의 타방의 면(이면), 즉 서멀 헤드 등에 접하는 측에 배면층을 마련하는 것이 바람직하다.
감열 전사 기록 시트의 기재의 이면과 서멀 헤드 등의 가열 디바이스가 직접 접촉한 상태로 가열되면, 열융착이 일어나기 쉽다. 또, 양자 사이의 마찰이 크고, 감열 전사 기록 시트를 인화 시에 매끄럽게 반송하는 것이 어렵다.
배면층은, 감열 전사 기록 시트가 서멀 헤드로부터의 열에너지에 견딜 수 있도록 마련됨으로써, 열융착을 방지하고, 매끄러운 주행을 가능하게 한다. 최근, 프린터의 고속화에 수반하여 서멀 헤드의 열에너지가 증가하고 있기 때문에, 필요성은 커지고 있다.
배면층은, 바인더에 윤활제, 이형제, 계면활성제, 무기 입자, 유기 입자, 안료 등을 첨가한 것을 도포함으로써 형성된다. 또, 배면층과 기재의 사이에 중간층을 마련해도 되고, 무기 미립자와 수용성 수지 또는 에멀젼화 가능한 친수성 수지로 이루어지는 층이 개시되어 있다.
바인더로서는, 내열성이 높은 공지의 수지를 이용할 수 있다. 예로서, 에틸셀룰로스, 하이드록시셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 메틸셀룰로스, 아세트산 셀룰로스, 아세트뷰티르산 셀룰로스, 아세트산 프로피온산 셀룰로스, 나이트로셀룰로스 등의 셀룰로스 수지, 폴리바이닐알코올, 폴리아세트산 바이닐, 폴리바이닐뷰티랄, 폴리바이닐아세탈, 폴리바이닐아세트아세탈 수지, 염화 바이닐-아세트산 바이닐 공중합체, 폴리바이닐피롤리돈 등의 바이닐 수지, 폴리메타크릴산 메틸, 폴리아크릴산 에틸, 폴리아크릴아마이드, 아크릴로나이트릴-스타이렌 공중합체 등의 아크릴 수지, 폴리아마이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리바이닐톨루엔 수지, 쿠마론인덴 수지, 폴리에스터 수지, 폴리유레테인 수지, 폴리에터 수지, 폴리뷰타다이엔 수지, 폴리카보네이트 수지, 염소화 폴리올레핀 수지, 불소 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 실리콘 수지, 실리콘 변성 또는 불소 변성 유레테인 등의 천연 또는 합성 수지의 단체 또는 혼합물을 들 수 있다.
배면층의 내열성을 높이기 위하여, 자외선 또는 전자빔을 조사하여 수지를 가교하는 기술이 알려져 있다. 또, 가교제를 이용하여, 가열에 의하여 가교시키는 것도 가능하다. 이때, 촉매가 첨가되는 경우도 있다. 가교제로서는, 폴리아이소사이아네이트 등이 알려져 있고, 이를 위해서는, 수산기를 갖는 관능기를 갖는 수지가 적합하다. 일본 공개특허공보 소62-259889호에는, 폴리바이닐뷰티랄과 아이소사이아네이트 화합물의 반응 생성물에 인산 에스터의 알칼리 금속염 또는 알칼리 토류염 및 탄산 칼슘 등의 충전제를 첨가함으로써 배면층을 형성하는 것이 개시되어 있다. 또, 일본 공개특허공보 평6-99671호에는, 내열활성층을 형성하는 고분자 화합물을, 아미노기를 갖는 실리콘 화합물과 1분자 중에 2개 이상의 아이소사이아네이트기를 갖는 아이소사이아네이트 화합물을 반응시킴으로써 얻는 것이 개시되어 있다.
기능을 충분히 발휘시키기 위하여, 배면층에는, 윤활제, 가소제, 안정제, 충전제, 헤드 부착물 제거를 위한 필러 등의 첨가제가 배합되어 있어도 된다.
윤활제로서는, 불화 칼슘, 불화 바륨, 불화 흑연 등의 불화물, 이황화 몰리브데넘, 이황화 텅스텐, 유화철 등의 황화물, 산화납, 알루미나, 산화 몰리브데넘 등의 산화물, 그래파이트, 운모, 질화 붕소, 점토류(활석, 산성 백색도 등) 등의 무기 화합물로 이루어지는 고체 윤활제, 불소 수지, 실리콘 수지 등의 유기 수지, 실리콘 오일, 스테아르산 금속염 등의 금속 비누류, 폴리에틸렌 왁스, 파라핀 왁스 등의 각종 왁스류, 음이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 양성 계면활성제, 비이온 계면활성제, 불소 함유 계면활성제 등의 계면활성제를 들 수 있다.
알킬인산 모노에스터, 알킬인산 다이에스터의 아연염 등의 인산 에스터 계면활성제도 이용되지만, 산근을 갖고 있어, 서멀 헤드로부터의 열량이 커지면 인산 에스터가 분해되고, 또한 배면층의 pH가 저하되어 서멀 헤드의 부식 마모가 격렬해진다는 문제점이 있다. 이에 대해서는, 중화한 인산 에스터 계면활성제를 이용하는 방법, 수산화 마그네슘 등의 중화제를 이용하는 방법 등이 알려져 있다.
그 외의 첨가제로서는 고급 지방산 알코올, 오가노폴리실록세인, 유기 카복실산 및 그 유도체, 탈크, 실리카 등의 무기 화합물의 미립자 등을 들 수 있다.
배면층은, 위에 예시한 바와 같은 바인더에 첨가제를 더한 재료를 용제 중에 용해 또는 분산시킨 도공액을, 그라비어 코팅, 롤 코팅, 블레이드 코팅, 와이어 바 등의 종래부터 공지의 방법으로 도포함으로써 형성된다. 0.1~10μm의 막두께가 바람직하고, 더 바람직하게는 0.5~5μm의 막두께이다.
<감열 전사 수상 시트>
다음으로 본 발명의 감열 전사 기록 시트와 함께, 화상 형성에 있어서 적합하게 이용할 수 있는 감열 전사 수상 시트에 대하여 설명한다.
이 감열 전사 수상 시트는, 염료를 수용하는 열가소성의 수용 폴리머를 함유하는 적어도 1층의 수용층을 기재 상에 갖는 것이 바람직하다. 수용층에는, 자외선 흡수제, 이형제, 윤활제, 산화 방지제, 방부제, 계면활성제, 그 외의 첨가물을 함유시킬 수 있다. 기재와 수용층의 사이에, 예를 들면 단열층(다공질층), 광택 제어층, 백지 조정층, 대전 조절층, 접착층, 프라이머층 등의 중간층이 형성되어 있어도 된다. 기재와 수용층의 사이에 적어도 1층의 단열층을 갖는 것이 바람직하다.
수용층 및 이들 중간층은 동시 중층 도포에 의하여 형성되는 것이 바람직하고, 중간층은, 필요에 따라 복수 마련할 수 있다.
기재의 이면 측에는 컬 조정층, 필기층, 대전 조정층이 형성되어 있어도 된다. 기재 이면 각층을 도포하기 위해서는, 롤 코트, 바 코트, 그라비어 코트, 그라비어 리버스 코트 등의 일반적인 방법을 이용할 수 있다.
라텍스
본 발명에 있어서, 감열 전사 수상 시트는, 수용층에 색소 염착 가능한 폴리머 라텍스를 사용하는 것이 바람직하다. 또 폴리머 라텍스로서는 단독이어도 되고 복수의 폴리머 라텍스를 혼합 사용해도 된다.
폴리머 라텍스란 일반적으로 열가소성 수지가 미립자로서 수용성의 분산매 중에 분산된 것이다. 본 발명의 폴리머 라텍스에 이용되는 열가소성 수지의 예로서는, 폴리카보네이트, 폴리에스터, 폴리아크릴레이트, 염화 바이닐 공중합체, 폴리유레테인, 스타이렌-아크릴로나이트릴 공중합체, 폴리카프로락톤 등을 들 수 있다.
이 중 폴리카보네이트, 폴리에스터, 염화 바이닐 공중합체가 바람직하고, 폴리에스터, 염화 바이닐 공중합체가 특히 바람직하다.
폴리에스터는 다이카복실산 유도체와 다이올 화합물의 축합에 의하여 얻어지고, 방향환이나 포화 탄화환을 함유해도 되며, 분산성을 부여하기 위한 수용성기를 가져도 된다.
염화 바이닐 공중합체로서는, 염화 바이닐과 아세트산 바이닐 공중합체, 염화 바이닐과 아크릴레이트의 공중합체, 염화 바이닐과 메타크릴레이트의 공중합체, 염화 바이닐과 아세트산 바이닐과 아크릴레이트의 공중합체, 염화 바이닐과 아크릴레이트와 에틸렌의 공중합체 등을 들 수 있다. 이와 같이 2원 공중합체여도 되고 3원 이상의 공중합체여도 되며, 모노머가 불규칙하게 분포되어 있어도 되고, 블록 공중합되어 있어도 된다.
이 공중합체에는 바이닐알코올 유도체나 말레산 유도체, 바이닐에터 유도체 등의 보조적인 모노머 성분을 첨가해도 된다. 공중합체에 있어서 염화 바이닐 성분은 50질량% 이상 함유되어 있는 것이 바람직하고, 또 말레산 유도체, 바이닐에터 유도체 등의 보조적인 모노머 성분은 10질량% 이하인 것이 바람직하다.
폴리머 라텍스는 단독으로 사용해도 되고 혼합물로서 사용해도 된다. 폴리머 라텍스는, 균일 구조여도 되고 코어/쉘형이어도 되며, 이때 코어와 쉘을 각각 형성하는 수지의 유리 전이 온도가 상이해도 된다.
이와 같은 폴리머 라텍스의 유리 전이 온도(Tg)는, 20℃ 이상 90℃ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 25℃ 이상 80℃ 이하이다.
상업적으로 입수 가능한 아크릴레이트 라텍스로서는, 닛폰 제온 주식회사제, Nipol LX814(Tg25℃), Nipol LX857X2(Tg43℃) 등(모두 상품명)을 들 수 있다.
상업적으로 입수 가능한 폴리에스터 라텍스로서는, 도요보 주식회사제 바이로날 MD-1100(Tg40℃), 바이로날 MD-1400(Tg20℃), 바이로날 MD-1480(Tg20℃), MD-1985(Tg20℃) 등 (모두 상품명)을 들 수 있다.
상업적으로 입수 가능한 염화 바이닐 공중합체로서는, 닛신 가가쿠 고교 주식회사제 비니블란 276(Tg33℃), 비니블란 609(Tg48℃), 스미가 케미텍스 주식회사제 스미에리트 1320(Tg30℃), 스미에리트 1210(Tg20℃) 등(모두 상품명)을 들 수 있다.
폴리머 라텍스의 첨가량은, 폴리머 라텍스의 고형분이 수용층 중의 전체 폴리머의 50~98질량%인 것이 바람직하고, 70~95질량%인 것이 보다 바람직하다. 또 폴리머 라텍스의 평균 입자 사이즈는, 바람직하게는 1~50000nm이며, 보다 바람직하게는 5~1000nm이다.
중공 폴리머
본 발명에 있어서, 단열층에는 중공 폴리머를 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서의 중공 폴리머란 입자 내부에 공극을 갖는 폴리머 입자이며, 바람직하게는 수분산물이고, 예를 들면, 1) 폴리스타이렌, 아크릴 수지, 스타이렌-아크릴 수지 등에 의하여 형성된 격벽 내부에 물 등의 분산매가 들어 있으며, 도포 건조 후, 입자 내의 물이 입자 밖으로 증발하여 입자 내부가 중공이 되는 비발포형의 중공 폴리머 입자, 2) 뷰테인, 펜테인 등의 저비점 액체를, 폴리염화 바이닐리덴, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산 에스터 중 어느 하나 또는 그들의 혼합물 혹은 중합물로 이루어지는 수지로 덮고 있고, 도공 후, 가열에 의하여 입자 내부의 저비점 액체가 팽창함으로써 내부가 중공이 되는 발포형 마이크로 벌룬, 3) 상기의 2)를 미리 가열 발포시켜 중공 폴리머로 한 마이크로 벌룬 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 상기 1)의 비발포형의 중공 폴리머 입자가 바람직하고, 필요에 따라 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 구체예로서는 롬 앤드 하스사제 로페이크 HP-1055, JSR 사제 SX866(B), 닛폰 제온사제 Nipol MH5055(모두 상품명) 등을 들 수 있다.
이들 중공 폴리머의 평균 입자경은 0.1~5.0μm인 것이 바람직하고, 0.2~3.0μm인 것이 더 바람직하며, 0.4~1.4μm인 것이 특히 바람직하다.
또, 중공 폴리머는, 공극률이 20~70%인 것이 바람직하고, 30~60%인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에 있어서, 중공 폴리머 입자의 사이즈는, 투과형 전자 현미경을 이용하여, 그 외경의 원 상당 환산 직경을 측정하여 산출한다. 평균 입경은, 중공 폴리머 입자를 적어도 300개 투과 전자 현미경을 이용하여 관찰하고, 그 외형의 원 상당 직경을 산출하고, 평균하여 구한다. 또 중공 폴리머의 공극률이란, 입자 체적에 대한 공극 부분의 체적의 비율로부터 구한다.
본 발명에 이용하는 중공 폴리머의 수지 특성으로서, 유리 전이 온도(Tg)가 70℃ 이상 200℃ 이하인 것이 바람직하고, 90℃ 이상 180℃ 이하인 중공 폴리머가 더 바람직하다. 중공 폴리머로서는, 중공 폴리머 라텍스가 특히 바람직하다.
수용성 폴리머
본 발명에 이용할 수 있는 감열 전사 수상 시트에 있어서, 수용층 및/또는 단열층은 수용성 폴리머를 함유시킬 수 있다. 여기에서 수용성 폴리머란, 20℃에 있어서 물 100g에 대하여 0.05g 이상의 용해도를 갖고, 보다 바람직하게는 0.1g 이상, 더 바람직하게는 0.5g 이상의 용해도를 갖는다.
본 발명에 이용할 수 있는 수용성 폴리머로서 카라지난류, 펙틴, 덱스트린, 젤라틴, 카제인, 카복시메틸셀룰로스, 하이드록시에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 폴리바이닐피롤리돈, 폴리바이닐피롤리돈 공중합체, 폴리바이닐알코올, 폴리에틸렌글라이콜, 폴리프로필렌글라이콜, 수용성 폴리에스터 등을 들 수 있다. 이 중 젤라틴과 폴리바이닐알코올이 바람직하다.
본 발명에 있어서 젤라틴은 분자량 10,000에서 1,000,000까지의 것을 이용할 수 있다. 본 발명에 이용되는 젤라틴은 Cl-, SO4 2- 등의 음이온을 포함하고 있어도 되고, Fe2+, Ca2+, Mg2+, Sn2+, Zn2+ 등의 양이온을 포함하고 있어도 된다. 젤라틴은 물에 녹여 첨가하는 것이 바람직하다.
또 젤라틴에는, 알데하이드형 가교제, N-메틸올형 가교제, 바이닐설폰형 가교제, 클로로트라이아진형 가교제 등의 공지의 가교제를 첨가할 수 있다. 이 중 바이닐설폰형 가교제, 클로로트라이아진형 가교제가 바람직하고, 구체적인 예로서는, 비스바이닐설폰일메틸에터, N,N'-에틸렌-비스(바이닐설폰일아세트아마이드)에테인, 4,6-다이클로로-2-하이드록시-1,3,5-트라이아진 또는 그 나트륨염을 들 수 있다.
폴리바이닐알코올로서는, 완전 비누화물, 부분 비누화물, 변성 폴리바이닐알코올 등의 각종 폴리바이닐알코올을 이용할 수 있다. 이들 폴리바이닐알코올에 대해서는, 나가노 코이치 등 공저, "포바르"(고분자 간행회 발행)에 기재된 것이 이용된다. 폴리바이닐알코올은, 그 수용액에 첨가하는 미량의 용제 혹은 무기염류에 의하여 점도 조정을 하거나 점도 안정화시키거나 하는 것이 가능하고, 자세하게는 상기 문헌 "포바르" 144~154페이지에 기재된 것을 사용할 수 있다. 그 대표예로서 붕산을 함유시킴으로써 도포 면질(面質)을 향상시킬 수 있어, 바람직하다. 붕산의 첨가량은, 폴리바이닐알코올에 대하여 0.01~40질량%인 것이 바람직하다.
폴리바이닐알코올의 구체예로서, 완전 비누화물로서는 PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H 등, 부분 비누화물로서는 PVA-203, PVA-205, PVA-210, PVA-220 등, 변성 폴리바이닐알코올로서는 C-118, HL-12E, KL-118, MP-203(모두 상품명, 주식회사 구라레제)을 들 수 있다.
첨가물(이형제)
본 발명에 있어서 감열 전사 수상 시트의 수용층에는, 상술한 불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물을 함유시킬 수 있다. 이 경우, 감열 전사 기록 시트가 함유하는 불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물과 동일한 고분자 화합물을 함유해도 되고 동일한 범주의 상이한 고분자 화합물을 함유해도 되며, 모두 본 발명에 있어서 바람직한 양태이다. 또, 이형제로서 공지의 폴리에틸렌 왁스, 아마이드 왁스 등의 고형 왁스류, 실리콘 오일, 인산 에스터 화합물, 불소 함유 계면활성제, 실리콘 계면활성제를 함유해도 된다.
불소 원자 함유 지방족기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물의 함유량은, 수용층의 전고형분(질량)에 대하여 0.01질량%~20질량%이며, 바람직하게는 0.1질량%~10질량%이고, 더 바람직하게는 1질량%~5질량%이다.
<화상 형성>
본 발명의 감열 전사 기록 시트를 이용한 화상 형성 방법에서는, 감열 전사 수상 시트의 수용층과 감열 전사 기록 시트의 염료층이 접하도록 중첩하여, 서멀 헤드로부터의 화상 신호에 따른 열에너지를 부여함으로써 화상을 형성하는 것이 바람직하다.
구체적인 화상 형성은, 예를 들면 일본 공개특허공보 2005-88545호 등에 기재된 방법과 동일하게 하여 행할 수 있다. 본 발명에서는, 소비자에게 프린트물을 제공할 때까지의 시간을 단축한다는 관점에서, 프린트 시간은 15초 미만이 바람직하고, 3~12초가 보다 바람직하며, 더 바람직하게는, 3~7초이다.
상기 프린트 시간을 충족시키기 위하여, 프린트 시의 라인 속도는 0.73msec/line 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 0.65msec/line 이하이다. 또, 고속화 조건에 있어서의 전사 효율 향상의 관점에서, 프린트 시의 서멀 헤드 최고 도달 온도는, 180℃ 이상 450℃ 이하가 바람직하고, 더 바람직하게는 200℃ 이상 450℃ 이하이다. 나아가서는 350℃ 이상 450℃ 이하가 바람직하다.
본 발명은, 감열 전사 기록 방식을 이용한 프린터, 복사기 등에 이용할 수 있다. 열전사 시의 열에너지의 부여 수단은, 종래 공지의 부여 수단 중 어느 것도 사용할 수 있고, 예를 들면, 서멀 프린터(예를 들면, 히타치 세이사쿠쇼제(상품명), 비디오 프린터 VY-100) 등의 기록 장치에 의하여 기록 시간을 컨트롤함으로써, 5~100mJ/mm2 정도의 열에너지를 부여함으로써 소기의 목적을 충분히 달성할 수 있다. 또, 상기의 감열 전사 수상 시트는, 기재를 적절히 선택함으로써, 열전사 기록 가능한 매엽 또는 롤 형상의 감열 전사 수상 시트, 카드류, 투과형 원고 작성용 시트 등의 각종 용도에 적용할 수도 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 근거하여 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 중에서, 부, %, 또는 양비라고 되어 있는 것은, 특별히 언급이 없는 한 질량 기준이다.
<마젠타 염료층 도공액의 조제예>
예시 화합물 (1-1) 5.0질량부, 폴리바이닐아세탈 수지(KS-3(상품명), 세키스이 가가쿠사제) 5.0질량부, 매트제(후로센 UF(상품명), 스미토모 세이코사제) 0.1질량부, 메틸에틸케톤 45질량부, 톨루엔 45질량부를 혼합하여, 마젠타 염료층 도공액 (M1)을 조제했다.
<옐로 염료층 도공액의 조제예>
예시 화합물 (2-1) 5.0질량부, 폴리바이닐아세탈 수지(KS-3(상품명), 세키스이 가가쿠사제) 5.0질량부, 매트제(후로센 UF(상품명), 스미토모 세이코사제) 0.1질량부, 메틸에틸케톤 45질량부, 톨루엔 45질량부를 혼합하여, 옐로 염료층 도공액 (Y1)을 조제했다.
<사이안 염료층 도공액의 조제예>
예시 화합물 (8-1) 5.0질량부, 폴리바이닐아세탈 수지(KS-3(상품명), 세키스이 가가쿠사제) 5.0질량부, 매트제(후로센 UF(상품명), 스미토모 세이코사제) 0.1질량부, 메틸에틸케톤 45질량부, 톨루엔 45질량부를 혼합하여, 사이안 염료층 도공액 (C1)을 조제했다.
<배면층 도공액의 조제>
아크릴폴리올 수지(아크리딕 A-801(상품명), 다이닛폰 잉크 가가쿠 고교사제) 26.0질량부, 스테아르산 아연(SZ-2000(상품명), 사카이 가가쿠 고교사제) 0.43질량부, 인산 에스터(플라이서프 A217(상품명), 다이이치 고교 세이야쿠사제) 1.27질량부, 아이소사이아네이트 화합물 50% 용액(버녹 D-800(상품명), 다이닛폰 잉크 가가쿠 고교사제) 8.0질량부, 및 메틸에틸케톤/톨루엔(질량비 2/1) 64질량부를 혼합하여 배면층 도공액을 조제했다.
<이형층 도공액의 조제>
변성 셀룰로스 수지(L-30(상품명), 다이셀 가가쿠 고교사제) 5.0질량부, 메틸에틸케톤 95.0질량부를 혼합하여, 이형층 도공액을 조제했다.
<보호층 도공액의 조제>
아크릴 수지 용액(고형분 40%, UNO-1(상품명), 기후 세라믹(유)제) 90질량부, 메탄올 5질량부, 2-프로판올 5질량부를 혼합하여, 보호층 도공액을 조제했다.
<접착층 도공액의 조제>
아크릴 수지(다이아날 BR-77(상품명), 미쓰비시 레이온사제) 25질량부, 자외선 흡수제 1(2,4,6-트리스(4-뷰톡시-2-하이드록시페닐)-1,3,5-트라이아진, 카탈로그 번호 3135-19-1, 도쿄 가세이사제) 2질량부, 자외선 흡수제 2(2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트라이아졸, 카탈로그 번호 2440-22-4, 도쿄 가세이사제) 1질량부, 자외선 흡수제 3(2-(5-t-뷰틸-2-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 카탈로그 번호 3147-76-0, 도쿄 가세이 고교(주)) 1질량부, 자외선 흡수제 4(2-t-뷰틸-6-(5-클로로-2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-메틸페놀, 카탈로그 번호 3896-11-5, 후지필름 와코준야쿠사제) 1질량부, 폴리메타크릴산 메틸 미립자(터프틱 FH-S005(상품명), 닛폰 엑스란 고교사제) 0.4질량부, 메틸에틸케톤 46질량부, 톨루엔 24질량부를 혼합하여, 접착층 도공액을 조제했다.
실시예 1: 감열 전사 기록 시트의 제작
기재로서 한 면에 이접착 처리가 되어 있는 두께 4.5μm의 폴리에스터 필름(루미러 5A-F595(상품명), 도레이사제)을 이용하여, 이 폴리에스터 필름의 이접착 처리가 되어 있지 않은 면에, 건조 후의 고형분 도포량이 1g/m2가 되도록 상술한 배면층 도공액을 도포했다. 건조 후, 50℃에서 열처리를 행하여 경화시켰다.
이와 같이 하여 제작한 폴리에스터 필름의, 이접착 처리되어 있는 면에, 마젠타 염료층 도공액 (M1), 옐로 염료층 도공액 (Y1), 사이안 염료층 도공액 (C1), 및 전사성 보호층 적층체를 표면 순차적으로 되도록(각 색상의 영역이 이접착 처리 면상에 있어서 서로 이웃이 되도록) 도포한 감열 전사 기록 시트를 제작했다. 각 염료층의 고형분 도포량은, 0.8g/m2가 되도록 조절했다. 또한, 전사성 보호층 적층체의 도공은, 이형층 도공액을 도포하고, 건조한 후에, 그 위에 보호층 도공액을 도포하며, 더 건조한 후에, 그 위에 접착층 도공액을 도포함으로써 실시했다.
실시예 2~90 및 비교예 1~13
마젠타 염료층 도공액 (M1), 옐로 염료층 도공액 (Y1), 사이안 염료층 도공액 (C1)의 조제에 있어서, 마젠타 염료(M염료), 옐로 염료(Y염료), 사이안 염료(C염료)의 조합을 표 1-1 및 표 1-2(아울러 표 1이라고 한다)에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2~90의 감열 전사 기록 시트, 및 비교예 1~13의 감열 전사 기록 시트를 조제했다. 각 염료층 도공액 중의 염료의 양은 M1, Y1, C1과 동량(5.0질량부)으로 하고, 어느 염료층 도공액에 있어서, 복수 종의 염료를 이용하는 경우에는, 복수 종의 염료의 합계량을 5.0질량부로 하며, 복수 종의 염료의 양비를 표 1에 나타내는 바와 같이 조정하여 이용했다.
[표 1-1]
Figure pct00062
[표 1-2]
Figure pct00063
비교용의 염료로서는, 이하를 사용했다.
[화학식 62]
Figure pct00064
[화학식 63]
Figure pct00065
[화학식 64]
Figure pct00066
<평가 시험>
상기의 본 발명의 실시예 1~90의 감열 전사 기록 시트 및 비교예 1~13의 감열 전사 기록 시트에 대하여, 감열 전사 프린터(후지 필름 서멀 포트 프린터 ASK-300(상품명), 후지필름사제)를 이용하여, 인화지(후지 필름 퀄리티 서멀 포토 페이퍼(상품명), 후지필름사제)에 화상 프린트를 출력하여, 이하의 평가 시험을 행했다. 이하의 설명에 있어서, 표 2-1~표 2-4를 아울러 표 2라고 한다.
평가 시험 1: 프로세스 블랙 농도 평가
출력 화상으로서 고정세(高精細) 컬러 디지탈 표준 화상 CMYK/SCID(JIS 규격 X9201:2001)의 컬러 차트 데이터(S7, S8, S9, 및 S10)를 이용하여 색의 계측에 필요한 사이즈를 가미하여 1개의 색표를 한 변이 10mm인 정사각형이 되도록 전체 928 색표를 프린트했다. 얻어진 색표군을 자동 스캐닝 테이블(i1iO(상품명), 엑스라이트사제)을 이용하여, 시야각 2°에서 CIELab 표색계에 있어서의 L*값, a*값, 및 b*값을 계측했다. 무채색(백~회~흑)을 선정하기 위하여, 전체 색표군으로부터 a*값 및 b*값 중 어느 하나에 대해서도 -3 이상 3 미만인 색표군을 발출(拔出)하고, 그 색표군 중에서 가장 작은 L*값(가장 고농도의 흑)이었던 L*값을 이하의 평가 기준으로 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 본 평가에 있어서 명도 L*는 값이 작을수록, 흑색으로서 농도가 높은 것을 나타내고 있다. 흑으로서, 명도가 22 이상인 경우는 회색의 흐릿한 흑이지만, 명도가 20 전후에서 실용상 적합한 흑이 되고, 명도가 18보다 작은 경우, 고급감이나 중후감을 주는 고농도의 흑이 된다. 또한 고농도의 흑은, 문자나 바코드를 보다 선명하게 프린트하기 위해서도 중요하다.
--평가 기준--
A: 18 미만
B: 18 이상 22 미만
C: 22 이상
평가 시험 2: 타색 강조 효과의 평가
도 1에 나타낸 평가용 화상 패턴 1을 이용하여 평가했다. 도 1에 있어서, K는 프로세스 블랙 부분(RGB값으로서 R0, G0, B0)을 나타내고, Y는 옐로 부분(RGB값으로서 R255, G255, B0)을 나타내며, M는 마젠타 부분(RGB값으로서 R255, G0, B255)을 나타내고, C는 사이안 부분(RGB값으로서 R0, G255, B255)을 나타내며, W는 화이트 부분(RGB값으로서 R255, G255, B255)을 나타낸다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 프로세스 블랙 부분(K)은 90mm×90mm의 크기이며, 옐로 부분(Y), 마젠타 부분(M), 사이안 부분(C), 및 화이트 부분(W)은, 각각 25mm×25mm의 크기이다. 옐로 부분(Y), 마젠타 부분(M), 사이안 부분(C), 및 화이트 부분(W)은, 프로세스 블랙 부분 내에, 상하 2단에 10mm의 간격을 두고 이간하여 형성되어 있다.
도 1에 나타낸 평가용 화상 패턴 1을, 프로세스 블랙 부분은 최고 도달 농도(가장 고농도의 흑)로, 옐로, 마젠타, 및 사이안의 부분은 반사 농도(ISO 농도 스테이터스 T, 시야각 2°)가 1.0이 되도록 프린트했다. 화이트 부분은, 염료가 전사되어 있지 않은 부분(인화지의 색의 부분)이다. 얻어진 평가용 화상 패턴 1의 프린트에 대하여, 육안으로 이하의 평가 기준으로 평가했다. 패널은 10명으로 하고, 가장 많은 패널이 나타낸 평가 기준을 평가값으로 했다. 평가에 이용한, 동농도 단독 베타 화상은, 상기 옐로 부분, 마젠타 부분, 또는 사이안 부분과 동일한 RGB값의 화상만을 상기와 동일한 반사 농도로 프린트한 것이다. 또한, 프린트되어 있지 않은 인화지를 화이트의 단독 베타 화상으로 했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
--평가 기준--
A: 매우 강조되어 보인다
　　(컬러 부분(옐로 부분, 마젠타 부분, 사이안 부분, 및 화이트 부분)이 동농도 단독 베타 화상보다 진하게 보이고, 윤곽이 선명하게 되어 있다)
B: 강조되어 보인다
　　(컬러 부분이 동농도 단독 베타 화상과 동일한 색 농도로 보이지만 윤곽은 선명하게 되어 있다)
C: 흐릿하게 보인다
　　(컬러 부분이 동농도 단독 베타 화상보다 연하게 보이거나, 또는 윤곽이 흐릿하게 보인다)
평가 시험 3: 색재현 체적 평가
상술한 평가 시험 1에서 프린트하고, 자동 스캐닝 테이블(i1iO(상품명), 엑스라이트사제)을 이용하여 계측한 CIELab 표색계에 있어서의 L*값, a*값, 및 b*값을 3차원 플롯하고, 각 감열 전사 기록 시트의 색재현 체적을 산출했다. 얻어진 색재현 체적에 대하여, 비교예 4의 색재현 체적을 기준(100%)으로 한 상댓값을 구하여 이하의 평가 기준으로 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다. 색재현 체적이 높을수록, 채도가 높은 색을 포함하여 다양한 색을 표현할 수 있는 것을 의미한다. 색재현 체적은, 사진 프린트에 있어서, 충실한 색재현을 실현 가능한 설계를 할 수 있도록 될 뿐만 아니라, 원색을 이용하는 경우가 많은 디지털 화상에서, 종래 프린트로 재현할 수 없었던 선명한 원색에 대해서도 가까운 색을 재현할 수 있는 것을 나타내고 있다.
--평가 기준--
S: 110% 이상
A: 105% 이상 110% 미만
B: 100% 이상 105% 미만
C: 100% 미만
평가 시험 4: 내광성 평가 1/단색 퇴색 밸런스
각 염료의 단색 영역에서의 광에 의한 퇴색성의 밸런스를 이하와 같이 하여 평가했다.
한 변이 30mm인 정사각형의 옐로, 마젠타, 사이안의 화상을 따로 따로, 옐로, 마젠타, 및 사이안의 각각의 반사 농도(ISO 농도 스테이터스 T, 시야각 2°)가 1.0이 되도록 프린트했다. 얻어진 프린트에 대하여, 제논 웨더미터(XL-75L(상품명), 스가 시켄키사제)를 이용하여 내광성 시험(샘플 온도 25℃, 조사량 100킬로룩스, 366nm 이하 절단 필터 사용, 조사 시간 72시간)을 실시했다. 시험 후의 옐로, 마젠타, 및 사이안의 반사 농도를 측정하여, 각각에 대하여 내광성 시험 전의 반사 농도에 대한 잔존율을 산출했다. 산출한 옐로, 마젠타, 및 사이안의 잔존율 중, 최대의 것과 최소의 것의 차(잔존율의 차)를 산출하고, 하기 평가 기준에 의하여 평가했다. 평가 기준은 이하와 같다. 결과를 표 2에 나타낸다.
이 잔존율의 차가 작은 것은, 프린트 화상의 옐로, 마젠타, 및 사이안의 프린트의 단색 부분에서의 각 염료의 광퇴색의 속도가 가까운 것을 의미하고 있고, 퇴색 밸런스가 우수하다. 퇴색의 밸런스가 우수하면 색 편향없이 균일하게 퇴색되기 때문에 바람직하다. 한편, 퇴색 밸런스가 뒤떨어지면 프린트 화상이 특정 색이 치우쳐 퇴색되어 버리기 때문에, 바람직하지 않다.
--평가 기준--
A: 5% 미만
B: 5% 이상 10% 미만
C: 10% 이상
평가 시험 5: 내광성 평가 2/그레이 퇴색 밸런스
각 염료의 혼색 영역에서의 광에 의한 퇴색성의 밸런스를 이하와 같이 하여 평가했다.
한 변이 30mm인 정사각형의 그레이의 화상을, 옐로, 마젠타, 및 사이안의 감열 전사 기록 시트를 이용하여, 옐로, 마젠타, 및 사이안의 각각의 반사 농도(ISO 농도 스테이터스 T, 시야각 2°)가 1.0이 되도록 순차 중첩하여 프린트하여 프린트 화상(그레이)을 작성했다. 이 프린트 화상에 대하여, 제논 웨더미터(XL-75L(상품명), 스가 시켄키사제)를 이용하여 내광성 시험(샘플 온도 25℃, 조사량 100킬로룩스, 366nm 이하 절단 필터 사용, 조사 시간 72시간)을 실시했다. 시험 후의 그레이 화상 중의 옐로, 마젠타, 사이안의 반사 농도를 측정하고, 각각의 내광성 시험 전의 반사 농도에 대한 잔존율을 산출했다. 산출한 옐로, 마젠타, 사이안의 잔존율 중, 최대의 것과 최소의 것의 차를 산출하고, 하기 평가 기준에 의하여 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
이 잔존율의 차가 보다 작은 것은, 프린트 화상의 그레이 부분(혼색 부분)에서의 광에 의한 퇴색 밸런스가 양호한 것을 나타내고 있다. 각 색상의 염료는, 혼색 영역 내에서의 상호 작용에 의하여, 각 색상의 염료의 광에 의한 퇴색의 정도가 크게 상이한 경우가 있다. 프린트 화상에 있어서의 혼색 부분의 퇴색 밸런스는, 사진 프린트에 있어서는 매우 중요하다. 그레이 퇴색 밸런스가 나쁘면, 예를 들면 인물의 얼굴의 프린트에 있어서, 흑발이 갈색 머리로 변화하거나, 피부색이 붉은색(열이 있는 듯한 피부색)이나 푸른색(핏기가 없는 것 같은 피부색)으로 변화하거나 하여 바람직하지 않다. 그레이 퇴색 밸런스가 우수하면 상기가 해결되어 프린트의 퇴색으로서 바람직하다.
--평가 기준--
A: 5% 미만
B: 5% 이상 10% 미만
C: 10% 이상
평가 시험 6: 어두운 곳 고온 고습 경시 평가
각 염료의 혼합 시의, 고온으로 했을 때의 퇴색성의 밸런스를 이하와 같이 하여 평가했다.
평가 시험 5와 동일하게 하여 작성한 그레이 화상을, 항온 항습기(형번: ARS-0220-J, 에스펙사제) 내에 있어서, 어두운 곳 고온 고습 경시 조건하(온도 65℃, 상대 습도 70% RH, 경시 90일)에서 처리했다. 처리 후의 그레이 화상 중의 옐로, 마젠타, 및 사이안의 반사 농도를 각각 측정하고, 처리 전의 반사 농도에 대한 잔존율을 각각 산출했다. 산출한 옐로, 마젠타, 및 사이안의 잔존율 중, 최대의 것과 최소의 것의 차를 산출하고, 하기 평가 기준에 의하여 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
이 잔존율의 차가, 보다 작은 쪽이 프린트 화상의 고온 고습에 의한 그레이 퇴색 밸런스가 양호한 것을 나타내고 있다.
--평가 기준--
A: 10% 미만
B: 10% 이상 20% 미만
C: 20% 이상
평가 시험 7: 역전사성
마젠타, 옐로 및 사이안의 각 염료의 베타 화상(한 변이 50mm인 정사각형)이 이 차례로 겹치도록, 인화지의 화상 형성 영역에, 각 염료를 순서대로 프린트하여 흑색 프린트 화상을 얻었다. 사용 후의 감열 전사 기록 시트의 옐로 염료층 및 사이안 염료층으로부터, 메틸에틸케톤/톨루엔(중량비 1/1)을 이용하여 염료를 각각 추출하고, 각 염료층에 포함되는 염료 중의 마젠타 염료를, 고속 크로마토그래피를 이용하여 정량했다. 각 염료층 중의 전체 염료의 함유량에서 차지하는 마젠타 염료의 비율(질량%)을 구하고, 가장 큰 수치를 하기 평가 기준에 의하여 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
이와 같이 함으로써, 프린트 중에, 옐로 염료층, 및 사이안 염료층에, 인화지의 화상 형성 영역으로부터, 마젠타 염료가 얼마나 이행(역전사)했는지를 조사할 수 있다. 인화지로부터 다른 염료층에 대한 염료의 역전사를 억제함으로써, 프린트 화상의 색재현을 확실히 행할 수 있다.
--평가 기준--
A: 2% 미만
B: 2% 이상 5% 미만
C: 5% 이상
〔종합 평가〕
평가 시험 1~7에 있어서의 평가 결과(S, A, B, C)를 기초로, 이들 평가 결과를 하기의 기준으로 득점화하여, 합계 득점에 의하여 종합 평가를 실시했다. 합계 득점이 높을수록, 바람직하다. 결과를 표 2에 나타낸다.
S: 2점
A: 1점
B: 0점
C: -1점
[표 2-1]
Figure pct00067
[표 2-2]
Figure pct00068
[표 2-3]
Figure pct00069
[표 2-4]
Figure pct00070
실시예 1~90의 감열 전사 기록 시트와 비교예 1~13의 감열 전사 기록 시트를 비교하면, 실시예 1~90의 감열 전사 기록 시트는, 농도가 높은 프로세스 블랙을 형성할 수 있고, 다른 색의 강조 효과도 있는 점에서, 양호한 블랙을 형성할 수 있는 것을 알 수 있었다.
본 발명의 각 감열 전사 기록 시트와 비교예의 각 감열 전사 기록 시트를 비교하면, 본 발명의 각 감열 전사 기록 시트는, 색재현 체적도 넓어져, 다양한 색을 표현할 수 있는 것도 알 수 있었다. 특히, 사이안 염료를 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종으로 함으로써, 색재현성은 높아지는 경향이다.
본 발명의 각 감열 전사 기록 시트와 비교예의 각 감열 전사 기록 시트를 비교하면, 본 발명의 각 감열 전사 기록 시트의 바람직한 형태에 있어서는, 광이나 고온 고습 조건에 노출되어도 퇴색 밸런스가 양호하고, 화상의 색 밸런스가 오래 지속되는 것을 알 수 있었다. 특히, 사이안 염료를 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종으로 함으로써, 혼색 부분에 있어서 광에 의한 각 염료의 퇴색의 밸런스를 보다 높일 수 있고, 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (12)로 나타나는 화합물로 하면, 광 및 고온 고습에 의한 각 염료의 퇴색의 밸런스를 보다 높일 수 있다.
본 발명의 각 감열 전사 기록 시트와 비교예의 각 감열 전사 기록 시트를 비교하면, 본 발명의 각 감열 전사 기록 시트의 바람직한 형태에서는, 역전사가 적은 것을 알 수 있었다. 특히, 사이안 염료를 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종으로 함으로써, 역전사를 효율적으로 저감시킬 수 있다.
본 발명을 그 실시형태와 함께 설명했지만, 우리는 특별히 지정하지 않는 한 우리의 발명을 설명의 어느 세부에 있어서도 한정하고자 하는 것은 아니며, 첨부한 청구범위에 나타낸 발명의 정신과 범위에 반하지 않고 폭넓게 해석되어야 한다고 생각한다.
본원은, 2020년 9월 25일에 일본에서 특허 출원된 특원 2020-161494에 근거하여 우선권을 주장하는 것이며, 이것은 여기에 참조하여 그 내용을 본 명세서의 기재의 일부로서 원용한다.
K: 프로세스 블랙 부분
Y: 옐로 부분
M: 마젠타 부분
C: 사이안 부분
W: 화이트 부분

Claims (11)

  1. 기재와, 상기 기재 상에 색재층을 갖는 감열 전사 기록 시트로서,
    상기 색재층은, 옐로 염료를 함유하는 옐로 염료층, 마젠타 염료를 함유하는 마젠타 염료층, 및 사이안 염료를 함유하는 사이안 염료층을 갖고,
    상기 마젠타 염료는, 하기 일반식 (1)로 나타나는 화합물을 포함하며,
    상기 옐로 염료는, 하기 일반식 (2)~(7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하고,
    상기 사이안 염료는, 하기 일반식 (8)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는,
    감열 전사 기록 시트.
    [화학식 1]
    Figure pct00071

    일반식 (1) 중, R11은 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R12는 페닐기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R13 및 R14는 탄소수 1~8의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 2]
    Figure pct00072

    일반식 (2) 중, R21 및 R22는 탄소수 1~18의 알킬기를 나타낸다. R23은 수소 원자, 또는 메틸기를 나타낸다. R24는 수소 원자, 또는 알킬기를 나타낸다. R21과 R24는 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.
    [화학식 3]
    Figure pct00073

    일반식 (3) 중, X31은 수소 원자, 또는 브로민 원자를 나타낸다. R31은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알킬기를 나타낸다. R32 및 R33은 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 4]
    Figure pct00074

    일반식 (4) 중, X41은 수소 원자, 또는 염소 원자를 나타낸다. R41은 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기, 또는 탄소수 0~4의 아미노기를 나타낸다. R42 및 R43은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 5]
    Figure pct00075

    일반식 (5) 중, R51은 수소 원자, 할로젠 원자, 또는 탄소수 2~10의 알콕시카보닐기를 나타낸다. R52는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 6]
    Figure pct00076

    일반식 (6) 중, R61 및 R62는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 7]
    Figure pct00077

    일반식 (7) 중, R71은 탄소수 1~4의 알콕시기, 또는 탄소수 0~4의 아미노기를 나타낸다. R72, R73 및 R74는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 8]
    Figure pct00078

    일반식 (8) 중, X81은 수소 원자, 또는 염소 원자를 나타낸다. R81 및 R82는 탄소수 1~6의 무치환 알킬기를 나타낸다. R83은 수소 원자, 탄소수 1~4의 무치환 알킬기, 또는 탄소수 1~4의 무치환 알콕시기를 나타낸다. R84는 메틸기, 또는 에틸기를 나타낸다. R85는 탄소수 1~4의 알킬기, 아릴기, 또는 5원 혹은 6원의 헤테로아릴기를 나타낸다.
    [화학식 9]
    Figure pct00079

    일반식 (9) 중, R91은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R92는 수소 원자, 탄소수 1~4의 알킬기, 또는 탄소수 1~4의 알콕시기를 나타낸다. R93 및 R94는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 10]
    Figure pct00080

    일반식 (10) 중, R101 및 R102는 탄소수 1~8의 알킬기를 나타낸다. R103은 수소 원자, 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 11]
    Figure pct00081

    일반식 (11) 중, R111 및 R112는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R113은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 12]
    Figure pct00082

    일반식 (12) 중, R121 및 R122는 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 사이안 염료가, 상기 일반식 (8)로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 사이안 염료 중, 상기 일반식 (8)로 나타나는 화합물의 함유량(I)과, 상기 일반식 (9)~(12) 중 어느 하나로 나타나는 화합물의 함유량의 합계(II)의 비가, 질량비로, (I):(II)=90~50:10~50인, 감열 전사 기록 시트.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 사이안 염료가, 상기 일반식 (8)로 나타나는 화합물과 상기 일반식 (12)로 나타나는 화합물을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 옐로 염료가, 상기 일반식 (4)로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (2), (3), (5), (6) 및 (7) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 옐로 염료가, 상기 일반식 (4)로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (2) 및 (6) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
  7. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 옐로 염료가, 상기 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (2)로 나타나는 화합물을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마젠타 염료가, 상기 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 하기 일반식 (13)~(20) 중 어느 하나로 나타나는 화합물 중 적어도 1종을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
    [화학식 13]
    Figure pct00083

    일반식 (13) 중, R131은 할로젠 원자, 수산기, 탄소수 1~8의 알콕시기, 또는 탄소수 6~10의 아릴옥시기를 나타낸다.
    [화학식 14]
    Figure pct00084

    일반식 (14) 중, R141 및 R142는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다.
    [화학식 15]
    Figure pct00085

    일반식 (15) 중, R151은 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알켄일기를 나타낸다. R152는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R153 및 R154는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 16]
    Figure pct00086

    일반식 (16) 중, R161은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R162 및 R163은 탄소수 1~10의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 17]
    Figure pct00087

    일반식 (17) 중, R171은 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R172는 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R173은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R174 및 R175는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 18]
    Figure pct00088

    일반식 (18) 중, R181은 탄소수 1~4의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R182는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. R183은 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다. R184 및 R185는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
    [화학식 19]
    Figure pct00089

    일반식 (19) 중, R191 및 R192는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. R193은 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타낸다. R194는 알킬기, 또는 탄소수 0~12의 아미노기를 나타낸다.
    [화학식 20]
    Figure pct00090

    일반식 (20) 중, R201은 탄소수 1~4의 알콕시기, 또는 탄소수 0~6의 아미노기를 나타낸다. R202 및 R203은 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
  9. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마젠타 염료가, 상기 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (15)로 나타나는 화합물을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
  10. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마젠타 염료가, 상기 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (15)로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (13)으로 나타나는 화합물을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
  11. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마젠타 염료가, 상기 일반식 (1)로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (13)으로 나타나는 화합물과, 상기 일반식 (14)로 나타나는 화합물을 포함하는, 감열 전사 기록 시트.
KR1020237012889A 2020-09-25 2021-09-21 감열 전사 기록 시트 KR20230066631A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2020-161494 2020-09-25
JP2020161494 2020-09-25
PCT/JP2021/034648 WO2022065320A1 (ja) 2020-09-25 2021-09-21 感熱転写記録シート

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230066631A true KR20230066631A (ko) 2023-05-16

Family

ID=80845527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237012889A KR20230066631A (ko) 2020-09-25 2021-09-21 감열 전사 기록 시트

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7399377B2 (ko)
KR (1) KR20230066631A (ko)
WO (1) WO2022065320A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023234353A1 (ja) * 2022-06-02 2023-12-07 富士フイルム株式会社 光吸収フィルタ、光学フィルタ及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003220768A (ja) * 2002-01-31 2003-08-05 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写記録材料
JP2010052403A (ja) * 2008-08-29 2010-03-11 Fujifilm Corp 感熱転写シート
JP5655346B2 (ja) * 2009-03-31 2015-01-21 大日本印刷株式会社 熱転写シート
JP2011073378A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写シート及び画像形成方法
JP6079383B2 (ja) * 2013-03-29 2017-02-15 大日本印刷株式会社 熱転写シート
JP2015013456A (ja) * 2013-07-08 2015-01-22 大日本印刷株式会社 熱転写シート
JPWO2017171060A1 (ja) * 2016-03-31 2019-02-14 大日本印刷株式会社 昇華型熱転写シート、昇華型熱転写シートと被転写体との組合せ
KR20180124118A (ko) * 2016-03-31 2018-11-20 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 승화형 열전사 시트, 승화형 열전사 시트와 피전사체의 조합

Also Published As

Publication number Publication date
JP7399377B2 (ja) 2023-12-18
JPWO2022065320A1 (ko) 2022-03-31
WO2022065320A1 (ja) 2022-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2075139B1 (en) Method of forming image by heat-sensitive transfer system
JP4929218B2 (ja) 熱転写方式を用いた画像形成方法
JP2009214536A (ja) 感熱転写による画像形成方法
KR20230066631A (ko) 감열 전사 기록 시트
JP2005103799A (ja) 保護層転写シートとそれを用いた画像形成方法
US20090252903A1 (en) Heat-sensitive transfer sheet
JP2010052403A (ja) 感熱転写シート
EP1974941B1 (en) Image-forming method using heat-sensitive transfer system
EP1980409A2 (en) Heat-sensitive transfer sheet for use in heat-sensitive transfer system and image-forming method using heat-sensitive transfer system
JP2009241349A (ja) 感熱転写シート
US20090195633A1 (en) Method of forming image by thermal transfer
US8288314B2 (en) Heat-sensitive transfer sheet
JP2009073190A (ja) 感熱転写方式による画像形成方法
JP2010052404A (ja) 感熱転写シート
JP4621614B2 (ja) 感熱転写方式を用いた画像形成方法
JP2008087298A (ja) 熱転写方式を用いた画像形成方法
EP2058138B1 (en) Heat-sensitive transfer sheet and heat-sensitive transfer recording method
JP2009202544A (ja) 感熱転写インクシート、インクカートリッジ、感熱転写インクシートの染料層用塗布組成物および感熱転写記録方法
JP2010058401A (ja) 感熱転写インクシート、インクカートリッジ、感熱転写記録方法および感熱転写インクシートの染料層用組成物
JP2009202541A (ja) 感熱転写インクシート、インクカートリッジ、感熱転写記録方法および感熱転写インクシートの染料層用組成物
US20080242541A1 (en) Thermal transfer recording ink sheet, and thermal transfer recording method
JPH0752557A (ja) 熱転写色素供与材料
JP2014156097A (ja) 感熱転写記録媒体
JP2008087299A (ja) 熱転写方式を用いた画像形成方法
JP2009113373A (ja) 感熱転写シートおよびこれを用いた画像形成方法