KR20220113480A - 전자 광학 시스템을 조절, 조립 및/또는 테스트하기 위한 장치, 방법 및 이러한 장치의 용도 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 광활성 시스템(10), 특히 비활성화된 광활성 시스템(10)을 제조하기 위한 장치(1)에 관한 것이며; 상기 장치는 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)를 포함하는 이미징 장치(2)로서, 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)가 빔 관통 면(SE) 및 광 축(O)을 구비하고, 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)는 빔 경로를 따라 관통하고 빔 관통 면(SE)에서 이미징 배열 장치(20)를 관통하는 전자기 빔을 생성하고, 광활성 장치(11)에서 빔 경로를 따라 전자기 빔을 반사하여 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)의 측정 이미지를 이미징 배열 장치(20)의 제1 초점 면(B1)에 이미징하도록 형성되며, 광활성 장치(11)의 측정 이미지를 탐지하기 위해 빔 경로의 전자기 빔이 제1 초점 면(B1)에서 탐지되는, 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)를 포함하는 이미징 장치(2); 및 제조될 광활성 시스템(10)의 광학 장치(12)를 제1 고정 면(Ha)에 고정하기 위한 제1 고정 면(Ha)을 포함하는 제1 고정 장치(3a); 및 광활성 장치(11)를 제2 고정 면(Hb)에 고정하기 위한 제2 고정 면(3b)을 포함하는 제2 고정 장치(3b)를 포함하며; 제1 고정 면(Ha)을 포함하는 제1 고정 장치(3a) 및/또는 제2 고정 면(Ha)을 포함하는 제2 고정 장치(3a)가 이미징 장치(2)에 대해 이동 가능하게 배열되어 있는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치, 방법 및 상기 장치의 용도에 관한 것이다. 특히, 상기 장치 및 방법을 사용하여 제조되는 광활성 시스템은 비활성화된다(비활성 광학 시스템). 본 발명은 특히 카메라의 비활성 광학 시스템을 제조하기 위한 장치, 방법 및 상기 장치의 용도에 관한 것이다.
광활성 시스템은 예를 들어 주행 보조 시스템, 무선 이동 전화기용 카메라 모듈, 소비 가전분야 또는 의료 기술 분야 카메라에서 사용된다. 또한, 상기 광학 시스템은 라이다 시스템(LiDAR system)의 센서에 해당한다. 본 출원에 따른 광활성 시스템은 특히 하나 또는 복수의 전자 광학 컨버터를 포함하는 기능형 광학 시스템으로 이해할 수 있다. 한편, 광활성 시스템의 화질을 더욱 높이려는 요구가 증가하고 다른 한편으로는 광활성 시스템의 소형화 추세에 따라 품질, 시간 및 비용과 관련하여 광활성 시스템 제조의 요구조건을 점점 증가시키고 있다.
광활성 시스템을 제조하기 위해 광활성 시스템이 반드시 활성화되어야 하는 광활성 시스템 제조를 위한 장치 및 방법은 이미 공지되어있다. 상기 활성 시스템을 하나 또는 복수의 전기 접점에 연결하고, 전기 에너지를 공급하여 활성화하고, 하나 또는 복수의 전기 신호로부터 데이터를 판독한다(활성화된 광활성 시스템). 공지된 장치 및 방법에서, 제조될 광활성 시스템은 자체로 측정 장비에 해당하며, 이때 상기 측정 장비는 광활성 시스템 제조를 위해 필요한 데이터를 전달한다. 특히 데이터는 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치, 예를 들어 하나 또는 복수의 광 렌즈 초점의 조정, 또는 예를 들어 캐리어에 장착된 카메라 칩의 정렬에 사용된다. 초점을 맞추기 위해 예를 들어 광학 장치를 고정 장치에서 움직이도록 배열하고, 탐지된 광활성 장치의 데이터에 따라 조절 장치를 통해 조절하는 것이 공지되어 있고, 이것은 테스트 구조물의 원하는 이미징 품질을 제조될 광활성 시스템으로 획득하기 위한 것이다.
광활성 시스템을 제조하기 위해 공지된 장치 및 방법, 즉 광활성 시스템 제조를 위한 측정 장치, 즉 활성화된 광활성 시스템으로서 광활성 시스템을 활성화시키는 장치 및 방법은 전기 에너지 공급과 데이터 전송을 위해 필요한 하드웨어로 인해 비교적 고가이다. 특히, 공지된 장치와 방법에서 광활성 시스템을 제조하기 위해 필요한 광활성 장치를 하나 또는 복수의 전기 접점에 연결하는 것은 비교적 시간이 많이 소요된다. 또한, 광활성 시스템을 제조하기 위해 사용될 기존의 광활성 장치와 이러한 장치의 낮은 이미지 주파수(frame rate)로 테스트 구조물의 이미징 품질을 결정하는 것도 비교적 오래 걸린다. 특히, 제조될 광활성 시스템을 측정 수단으로 이용하는 공지된 장치 및 방법에서 광활성 시스템 제조를 위해 비교적 제조 시간이 오래 걸리게 된다. 또한, 제조될 광활성 시스템, 특히 모바일 단말기용으로 제조될 광활성 시스템의 품질 이미지는 비교적 낮다. 결국, 광활성 장치에 대한 광학 장치의 초점 정확성과 공지된 장치와 방법으로 제조될 광학 시스템의 품질은 제한적이다. 전술한 것은 발명자의 인식, 즉 제조를 위해 활성화될 광활성 시스템은 하나 또는 복수의 측정 신호의 습득률이 낮고, 고정 장치를 움직이게 하는 조절 명령의 조절률 또한 제한된다는 인식에 근거를 두고 있다.
본 발명의 목적은 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치, 방법 및 이러한 장치의 용도를 제공하는 것이며, 이것은 전술한 단점 중 하나 또는 복수의 단점을 줄이거나, 또는 극복 및/또는 기존의 해결책을 더욱 개선한 것이다. 특히, 본 발명의 목적은 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치, 방법 및 이러한 장치의 용도를 제공하는 것이며, 상기 장치로 인해 광활성 시스템이 저렴하게 제조될 수 있다. 또한, 본 발명의 목적은 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치, 방법 및 이러한 장치의 용도를 제공하는 것이며, 특히 상기 장치로 인해 고품질 광활성 시스템이 제조된다. 또한, 본 발명의 목적은 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치, 방법 및 이러한 장치의 용도를 제공하는 것이며, 특히 상기 장치로 인해 광활성 시스템이 신속하게 제조될 수 있다.
본 발명의 상기 목적은 본 발명의 제1 양상 및 청구항 1에 기재된 장치를 통해 해결된다.
여기에 공지된 본 발명에 따른 장치의 특징과 방법 절차 및 바람직한 실시 형태는 바람직하게는 하나의 광활성 시스템 제조뿐 아니라, 복수의 광활성 시스템 제조를 위해 동시에 또는 순차적으로 실시되며, 서로 독립적 및/또는 서로 관련을 맺으면서 실시된다. 상기 광활성 시스템의 제조, 특히 조절, 조립 및/또는 테스트는 하나 또는 복수의 광활성 시스템의 제조, 특히 조절, 조립 및/또는 테스트를 포함한다. 특히, 제조될 광활성 시스템은 하나 또는 복수의 광학 장치 및/또는 하나 또는 복수의 광활성 장치를 구비한다.
광활성 시스템, 특히 비활성화된 광활성 시스템, 특히 비활성화된 광활성 시스템, 특히 투사 및/또는 이미징된 전자 광학 시스템을 위한 전자 광학 및/또는 광 전기 시스템을 제조하기 위한 장치는 바람직하게는 이미징 장치, 제1 고정 장치 및 제2 고정 장치를 포함한다. 상기 이미징 장치는 적어도 하나의 이미징 배열 장치를 포함한다. 적어도 하나의 이미징 배열 장치는 빔 투과 면과 광 축(optical axis)을 구비한다. 바람직하게는, 상기 이미징 배열 장치는 빔 관통부를 따라 지나 빔 관통 면에서 이미징 배열 장치를 관통하는 전자기 빔을 생성 및 특히 형성하도록 제공된다. 또한, 상기 이미징 배열 장치는 바람직하게는 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치 및/또는 테스트 구조물의 측정 이미지를 광활성 시스템에 반사된 전자기 빔으로 이미징 배열 장치의 제1 초점 면에서 이미징하도록 형성된다. 이를 위해, 상기 이미징 배열 장치로부터 빔 관통 면으로 배출된 전자기 빔은 작업 상태에서 광활성 장치에 반사된다. 광활성 장치에서 반사된 전자기 빔은 작업 상태에서 빔 관통 면을 지나 다시 이미징 배열 장치로 유입된다. 또한, 상기 이미징 배열 장치는 제1 초점 면에서 이미징된 측정 이미지를 탐지하도록 형성된다. 제1 고정 장치는 바람직하게는 제1 고정 면을 구비하며, 이러한 고정 면에는 제조될 광활성 시스템의 광학 장치가 배열될 수 있다. 제2 고정 장치는 바람직하게는 제2 고정 면을 구비하며, 이러한 고정 면에 제조될 광활성 장치가 배열될 수 있다. 특히, 제1 고정 면의 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 면의 제2 고정 장치는 이미징 장치에 대해 이동하도록 배열된다. 특히, 작업 상태에서 제1 고정 면의 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 면을 갖는 제2 고정 장치는 이미징 장치에 대해 이동하도록 배열된다.
바람직하게는, 상기 제1 고정 장치는 상기 제1 고정 면에 대해 직각으로 뻗어 있는 제1 장치 축을 포함한다. 또한, 제2 고정 장치는 바람직하게는 제2 고정 면에 대해 직각으로 뻗어 있는 제2 장치 축을 포함한다. 특히, 제1 및/또는 제2 장치 축은 이미징 배열 장치 중 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면에 대해 직각으로 향해 있다. 바람직하게는, 상기 제1 및/또는 제2 장치 축은 이미징 배열 장치 중 적어도 하나의 이미징 배열 장치에 대해 각을 이루는 형태로 제공될 수도 있다.
측정 이미지는 특히 광활성 장치 및/또는 테스트 구조물 및 테스트 구조물 및/또는 조절 표시의 반사 이미지이다. 상기 테스트 구조물 및/또는 조절 표시는 바람직하게는 바둑판 패턴, 지멘스 스타, 십자가, H-구조 또는 이와 유사하다. 특히, 테스트 구조물은 광원 유닛, 예를 들어 LED 일 수 있다. 테스트 구조물은 특히 반사형 광활성 장치를 포함하는 광활성 시스템을 제조하기 위해 바람직하다. 반사형 광활성 장치는 특히 반사 표면을 구비한다. 조절 표시는 특히 광학 장치를 광활성 시스템에 대해 조절하기 위해 사용된다. 바람직하게는, 하나 또는 복수의 조절 표시는 상기 광활성 장치의 에지 영역 또는 외부 영역에 배열된다. 바람직하게는, 하나 또는 복수의 조절 표시는 상기 광활성 장치의 캐리어에 배열된다. 또한, 하나 도는 복수의 조절 표시는 작업 상태에서 상기 광활성 장치와 함께 배열된다. 특히, 하나 또는 복수의 조절 표시는 제1 및/또는 제2 고정 장치에 배열된다. 조절 표시는 특히 물리적으로 배열 또는 삽입된 기준 구조물이다.
특히, 상기 테스트 구조물은 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치이다. 이러한 실시 형태에 따라, 광활성 장치의 광 기능 구조물은 광활성 시스템을 제조하기 위한 기준으로서 사용된다. 특히, 이것은 표시를 위한 장치 또는 또 다른 테스트 구조물이 제공되지 않는 장점이 있다.
제조될 광활성 시스템은 특히 전자 광학 시스템 또는 광학 전자 시스템을 포함한다. 전자 광학 시스템은 전기로 생성된 데이터 및/또는 전기로 생성된 에너지를 빛 방출, 특히 전자기 빔으로 변환하기 위해 제공된다. 상기 광학 전기 시스템은 빛 방출, 특히 전자기 빔을 전자 데이터 또는 전기 에너지로 변환하기 위해 제공된다. 특히, 제조될 광활성 시스템의 경우, 이미징 시스템 사이에서 또는 투사 시스템 사이에서 구분된다. 이미징 시스템은 예를 들어 카메라 또는 텔레스코프(telescope)이다. 투사 시스템은 예를 들어, 모바일 단말기에서 안면 인식 및/또는 제스쳐 인식을 위한 도트 패턴(dot pattern) 프로젝터이다.
제조될 광활성 시스템은 특히 투사 시스템(송신 유닛)과 이미징 시스템(수신 유닛)의 결합으로 구성된다. 광활성 시스템은 예를 들어 라이다-센서(LiDAR-sensor)이다. 특히, 제조될 광활성 시스템은 두 개 또는 그 이상의 투사 시스템 및/또는 두 개 또는 그 이상의 이미징 시스템을 포함할 수도 있다.
제조될 광활성 시스템, 특히 제조될 비활성화된 광활성 시스템은 특히 광활성 장치 및 광학 장치를 포함한다. 상기 광학 장치는 하나 또는 복수의 렌즈를 포함할 수 있다. 특히, 하나 또는 복수의 렌즈는 구면(spherical) 및/또는 비구면(aspherical) 및/또는 자유 형태의 렌즈일 수 있다. 예를 들어, 수렴 렌즈(converging lens), 반달 렌즈 및 오목 렌즈(concave lens)가 구면 렌즈의 예로 공지되어 있다. 바람직하게는, 상기 수렴 렌즈는 예를 들어 양 볼록 렌즈(bikonvex lens), 평 볼록 렌즈(plane convex lens) 또는 오목 볼록 렌즈(concave-convex lens)이다. 바람직하게는, 상기 오목 렌즈는 예를 들어 오목 볼록 렌즈, 평 볼록 렌즈 또는 양 볼록 렌즈이다. 상기 광학 장치는 특히 서로 다른 복수의 렌즈, 특히 서로 다른 복수의 구면 및/또는 비구면 및/또는 자유 형태의 렌즈로 결합한 것을 포함할 수 있다. 특히, 상기 광학 장치는 이러한 광학 장치가 전자기 빔을 초점 면의 무한 거리 방향 또는 유한 거리 방향으로 초점을 맞추도록 형성되어 있다. 또한, 상기 광학 장치는 바람직하게는 이러한 광학 장치가 전자기 빔을 또 다른 초점 면의 무한 거리 또는 유한 거리 반대 방향으로 초점을 맞추도록 형성될 수 있다. 특히, 상기 광학 장치는 물체로서 형성될 수 있다. 상기 광활성 장치는 특히 이미지 센서 또는 카메라의 칩 및/또는 도체판을 포함한다. 바람직하게는, 상기 광활성 장치는 캐리어에 배열된 이미지 센서 또는 카메라의 칩을 포함한다. 특히, 상기 광활성 장치는 예를 들어 CCD-칩, CMOS-칩, VCSEL-어레이, SPAD-어레이, InGaAs-칩, 적외선 센서(microbolometer) 또는 전자기 빔을 생성하기 위한 유사한 부품일 수 있다.
상기 광활성 시스템 제조는 바람직하게는 광활성 시스템의 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트를 포함한다. 광활성 시스템 제조는 특히 광활성 장치의 반대쪽으로 광학 장치의 조절 및/또는 광활성 장치에 광학 장치의 조립 및/또는 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템의 테스트를 포함한다. 특히, 상기 광활성 시스템의 제조는 이미 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트 된 하나 또는 복수의 또 다른 광활성 시스템에 대해 광활성 시스템의 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트를 포함한다. 특히, 광활성 시스템 제조는 이미 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트 된 하나 또는 복수의 또 다른 광활성 시스템에 대해, 특히 시스템의 광학 장치 및/또는 광활성 장치의 반대쪽, 제조될 광활성 시스템의 광학 장치에 대해 광활성 장치의 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트를 포함한다.
작업 상태에서 조절은 상기 광활성 장치에 대해 광학 장치를 배열; 광학 장치와 광활성 장치의 이동; 또는 고정 배열된 광활성 장치에 대해 광학 장치의 이동; 또는 고정 배열된 광학 장치의 반대쪽으로 광활성 장치의 이동을 포함한다. 이것은 필요한 부분만 약간 수정하여 본 발명에 따른 장치의 1 및 제2 고정 장치에도 적용된다. 특히, 조절은 광학 장치의 병진 배열(translational arrangement) 및 광활성 장치의 회전 배열(rotatory arrangement)을 포함한다. 또한, 상기 조절이 광학 장치의 회전 배열 및 광활성 장치의 병진 배열을 포함하는 것도 바람직한 실시 예이다. 바람직하게는, 상기 조절이 광학 장치뿐 아니라 광활성 장치의 회전 배열 및 병진 배열을 포함하는 것이다.
조절시, 조절된 광학 장치를 포함하는 제1 고정 장치는 조절된 광활성 장치를 포함하는 제2 고정 장치의 반대쪽으로 배열 및/또는 역으로도 마찬가지이다. 특히, 조립시 적어도 하나의 이미징 배열 장치에 제공된 조절될 광활성 시스템의 측정 이미지가 테스트 된다. 특히, 조절은 적어도 하나의 이미징 배열 장치에 제공된 측정 이미지의 이미징 품질 측정을 포함한다. 이미징 품질은 예를 들어 측정 이미지의 해상도이다. 바람직하게는, 측정 이미지는 제조될 싱글 광활성 시스템의 이미지이다. 특히 바람직하게는, 측정 이미지는 두 개 또는 그 이상의 제조될 광활성 시스템의 두 개 또는 그 이상의 이미지의 합성일 수 있다. 조절시, 특히 광학 장치와 광활성 장치의 위치 및/또는 지점이 조절될 수 있다. 조절은 바람직하게는 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 측정될 측정 이미지에 따라, 특히 개별 측정 이미지의 측정될 이미징 품질에 따라 실시된다. 바람직하게는, 조절은 두 개의 측정 이미지의 합성의 수학적 평가에 따른 측정값에 따라 실시된다. 특히, 조절은 산업 현장의 기존의 이미지 처리 방법을 통해, 그리고 여기서 추출된 특징에 따라 실시된다. 일반적으로, 두 개 또는 그 이상의 이미지가 테스트 구조물에 의해 측정 및/또는 합성된다. 특히 조절은 두 개의 이미지 합성으로 인해 생성된 측정 이미지에서 두 개의 테스트 구조물의 차이를 나타내는 값에 따라 실시된다. 특히, 조절은 작업 상태에서 고정 배열된 이미징 장치의 반대쪽으로 움직일 수 있게 배열된 제1 및/또는 제2 고정 장치의 위치 및/또는 지점에 따라 개별 측정 이미지의 이미징 품질의 탐지를 토대로 한다. 이를 위해, 작업 상태에서 고정 배열된 이미징 장치의 반대쪽으로 움직일 수 있게 배열된 제1 및/또는 제2 고정 장치의 위치 및/또는 지점이 작업 상태에서 조절되고, 고정 배열된 이미징 장치와 관련하여 개별 측정 이미지의 이미징 품질은 이동할 수 있게 배열된 제1 및/또는 제2 고정 장치의 조절에 따라 결정된다.
바람직하게는, 움직일 수 있도록 배열된 제1 및/또는 제2 고정 장치를 위한 하나 또는 복수의 조절 신호를 결정하기 위해 개별 측정 이미지의 결정된 이미징 품질을 주파수 범위로 변환하는 것이다. 특히 결정된 이미징 품질, 예를 들어 측정 이미지의 이미지 해상도에 해당하는 품질은 푸리에 변환(Fourier transform)을 통해 주파수 범위로 변환될 수 있다. 이때, 주파수 범위의 최대 주파수는 특히 움직일 수 있도록 배열된 제1 및/또는 제2 고정 장치의 위치 및/또는 지점에 따라 가장 높은 이미지 해상도에 대응한다. 바람직하게는, 위에서 테스트된 주파수 범위의 대부분의 주파수 공유를 통한 이미지는 움직일 수 있도록 배열된 제1 및/또는 제2 고정 장치의 위치 및/또는 지점에 따른 가장 높은 이미지 해상도에 대응한다. 바람직하게는, 조절 신호는 두 개의 측정 이미지의 합성에 대한 수학적 평가에서 생성된 값에 따라 결정될 수 있다. 특히, 조절 신호는 산업 현장의 기존의 이미지 처리 방법을 통해, 그리고 여기서 추출된 특징에 따라 결정될 수 있다. 또한, 조절 신호는 이미지 범위의 측정 이미지로부터 추출된 테스트 구조물 사이의 위치 편차로부터 결정될 수도 있다.
이러한 것을 토대로 바람직하게는 또 다른 광활성 시스템과 관련한 광활성 장치 및/또는 조절과 반대로 광학 장치의 조절을 위한 하나 또는 복수의 조절 신호가 측정되고 역으로도 마찬가지로 결정된다. 또한, 조절 신호는 이미지 범위의 측정 이미지로부터 추출된 값으로부터 결정될 수 있다.
바람직하게는, 상기 이미징 배열 장치 중 적어도 하나의 이미징 배열 장치는 광활성 장치 쪽으로 광학 장치가 성공적으로 조절되고 난 후, 일반적으로 상기 이미징 배열 장치의 광 축은 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 평행, 바람직하게는 동심으로 배열되는 것이다. 특히, 이미징 배열 장치 중 적어도 하나의 이미징 배열 장치는 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치 쪽으로 두 개 또는 그 이상의 광학 장치가 성공적으로 배열되고 난 후, 일반적으로 상기 이미징 배열 장치의 광 축은 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 바람직하게는 동심으로 배열되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 이미징 배열 장치 중 적어도 하나의 또 다른 이미징 배열 장치는 이러한 이미징 배열 장치의 광 축이 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 각을 이루는 형태로 배열되는 것이 바람직하다. 특히, 상기 광활성 시스템을 제조하기 위해 적어도 하나의 상기 이미징 배열 장치는 광활성 장치의 서로 다른 범위를 측정하도록 제공된다. 특히, 상기 이미징 배열 장치의 광 축이 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 평행하게, 바람직하게는 동심으로 배열된 적어도 하나의 이미징 배열 장치는 광활성 장치의 중심을 측정하고, 이와 반대로 상기 이미징 배열 장치의 개별 광 축이 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 각을 이루는 형태로 배열된 적어도 하나의 또 다른 이미징 배열 장치는 광활성 장치의 에지 영역을 측정한다. 바람직한 실시 형태에 따라, 특히 제조될 광활성 시스템의 광학 장치 및 광활성 장치가 제1 및/또는 제2 고정 장치와 함께 병진 및 회전 운동하도록 배열되는 것이다.
특히, 조절시 조립을 위해 필요한 오프셋(offset)을 고려해 볼 수 있다. 오프셋은 예를 들어 연결부의 수축 보정 및/또는 무한하게 조절된 시스템, 즉 이후에 유한하게 이미징되는 시스템 조절 또는 이와 유사한 것을 위해 조절을 위해 필요할 수 있다. 또한, 오프셋은 조절을 위해 필요하며, 이것은 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치에 있는 면, 즉 광 기능 구조물이 놓여 있지 않지만, 대부분 높은 주파수 공유가 탐지된 면으로부터 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치의 원하는 광 기능 구조물로 초점을 맞추기 위한 것이다. 또한, 상기 오프셋은 예를 들어 시차 효과를 고려하여 측정 이미지의 두 개의 테스트 구조물 사이의 원하는 간격에 도달하기 위해서도 필요하다. 또한, 상기 광활성 시스템의 정축 및 비축 범위에서 이미지 만곡 효과를 보정, 이미지 해상도 기울기를 고려하기 위해 오프셋이 적합할 수 있다.
본 발명에 따른 상기 오프셋은 특히 제1 및/또는 제2 고정 장치의 병진 및/또는 회전 운동 또는 조절을 통해 조절될 수 있다. 특히, 상기 오프셋은 일반적으로 제1 및/또는 제2 고정 면에서 두 개의 독립된 축을 따라 조절 및/또는 두 개의 독립된 축을 중심으로 조절된다. 또한, 일반적으로 상기 오프셋을 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 직각, 특히 독립된 제3의 축을 따라 운동 및/또는 조절하는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 상기 오프셋은 독립된 제3의 축을 중심으로 조절되는 것이다.
조립시, 조립될 광활성 장치를 포함하는 제2 고정 장치에 대해 조립될 광학 장치를 포함하는 제1 고정 장치는 고정 위치 및/또는 지점에서 고정된다. 특히, 조립시 상기 광학 장치는 광활성 장치와 연결, 예를 들어 조인되는 방식으로 연결된다. 특히, 조립시 광학 장치는 광활성 장치와 형상 끼워 맞춤 및/또는 억지 끼워 맞춤 및/또는 응축 끼워 맞춤 방식으로 연결될 수 있다. 특히 조립은 상기 광학 장치를 광활성 장치와 연결하기 위해 접착, 납땜 및/또는 용접을 포함한다. 바람직하게는, 조립은 연결의 경화, 특히 UV-경화를 포함한다.
테스트 시, 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템이 테스트 된다. 테스트되며 각각의 이미징 장치에 속하는 광활성 시스템의 측정 이미지가 테스트 동안 테스트된다. 특히, 각각의 측정 이미지의 테스트는 각각의 측정 이미지의 이미지 해상도의 테스트를 포함한다. 특히, 테스트 시 조절 및/또는 조립된 광학 장치와 광활성 장치의 위치 및/또는 지점이 테스트 된다. 바람직하게는, 두 개의 측정 이미지 합성은 수학적 및/또는 이미지 처리 기술적으로 탐지된다. 특히, 테스트 시 측정 이미지의 제1 테스트 구조물과 제2 테스트 구조물 사이의 편차가 테스트 된다. 측정 이미지는 특히 복수의 측정 이미지의 합성을 통해 생성되며, 이것은 복수의 광활성 시스템이 동시 또는 순차적으로 장치를 통해 제조될 경우에 한한다.
테스트 시, 제조된 광활성 시스템이 제1 또는 제2 고정 장치에 배열되었는지 유의해야 한다. 바람직하게는, 제조된 광활성 시스템은 테스트를 위해 제2 고정 장치에 배열된다.
작동 상태는 본 발명에 따른 장치가 작동하는 상태를 의미한다. 본 발명에 따른 장치의 작동 상태는 작동 상태 및 바람직하게는 지점 상태(position state)를 포함한다. 또한, 작동 상태는 바람직하게는 로지스틱스 상태(logistics state) 및/또는 바람직하게는 유지 상태를 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 장치의 작업 상태는 특히 광활성 시스템 제조를 포함한다. 특히, 본 발명에 따른 장치의 작업 상태는 광활성 시스템의 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트를 포함한다.
본 발명에 따른 장치의 지점 상태에서 상기 이미징 장치는 이동 가능하게 배열된다. 특히, 지점 상태의 이미징 장치는 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 평행하게 한 면에서 이동 가능하게 배열된다. 특히, 지점 상태에서 제1 및/또는 제2 고정 장치는 고정 배열되고, 이미징 장치는 이동 가능하게 배열된다. 특히, 이미징 장치를 이동시키는 장치는 이미지 구동 장치 및/또는 이미지 합성 장치 및/또는 이미지 조절 장치를 구비한다.
본 발명에 따른 장치의 로지스틱스 상태에서 바람직하게는 광학 장치 및 개별 고정 장치의 광활성 장치의 제공 및 공급과 제조된 광활성 시스템의 배출이 실시된다. 공급 및/또는 배출은 한 개씩, 간헐적으로 또는 계속해서 실시될 수 있다. 바람직하게는, 복수의 광학 장치 및/또는 복수의 광활성 장치를 특히 동시에 공급하는 것이다. 특히, 로지스틱스 상태는 또한 광학 장치 및 광활성 장치를 개별 고정 장치에 배열하는 것을 포함한다.
본 발명에 따른 장치의 유지 상태는 본 발명에 따른 장치의 개별 부품을 특히 유지하고 정리하는 상태를 포함할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 장치의 개별 부품, 장치, 유닛 및/또는 시스템은 작업 상태에서 예를 들어 지점 상태 및/또는 로지스틱스 상태 및/또는 유지 상태의 경우와 달리 배열될 수 있다.
제1 및/또는 제2 고정 장치는 광학 장치 및/또는 광활성 장치를 고정하기 위해 제공된다. 특히, 각각의 고정 장치는 광학 장치 및 광활성 장치를 형상 끼워 맞춤 및/또는 억지 끼워 맞춤 방식으로 고정 및/또는 장착하기 위해 제공된다. 본 발명의 제1 측면에 따라, 상기 장치는 특히 제1 고정 장치는 광활성 장치를 장착하도록 형성되고, 제2 고정 장치는 광학 장치를 장착하도록 형성된다는 것을 특징으로 할 수 도 있다. 특히, 각각의 고정 장치는 하나 또는 복수의 광학 장치를 포함하는 매거진(magazine) 및/또는 하나 또는 복수의 광활성 장치를 포함하는 매거진을 장착하도록 형성될 수 있다. 바람직하게는, 상기 광학 장치 및/또는 광활성 장치를 장착하고, 광활성 시스템을 제조하기 위해 제공하도록 제1 및/또는 제2 고정 장치가 매거진으로서 형성되는 것이다. 바람직하게는, 개별 고정 장치가 광학 장치 및 광활성 장치를 개별적으로 공급하는 것이다. 특히, 개별 고정 장치는 고정 장치의 광학 장치 및/또는 광활성 장치를 광활성 시스템 제조를 위해 공급하고, 광활성 시스템 제조 후, 배출하도록 형성된다. 매거진은 바람직하게는 하나 또는 복수의 광활성 장치 및/또는 하나 또는 복수의 광학 장치를 공급하거나, 또는 광활성 시스템을 제조하기 위해 임시 저장하도록 형성되어 있다. 특히, 제1 및/또는 제2 고정 장치는 두 개 또는 그 이상의 광학 장치 및/또는 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치를 장착하도록 형성될 수 있다. 특히, 두 개 또는 그 이상의 광학 장치 및/또는 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치를 장착할 수 있는 제1 및/또는 제2 고정 장치를 통해 두 개 또는 그 이상의 광활성 시스템을 동시에 및/또는 순차적으로 서로 독립적으로, 서로 연관되어 제조될 수 있다. 특히, 이를 위해 광활성 시스템의 기능 관계가 형성될 수 있다. 특히, 복수의 광학 장치는 이미징 장치의 이동 및 제1 및/또는 제2 고정 장치의 이동을 통해 복수의 광활성 장치를 포함하는 캐리어 유닛에서 차례대로 조립될 수 있다. 바람직하게는, 이미징 장치 및 제1 및/또는 제2 고정 장치는 이것들이 동일한 방향에서 동일한 속도로 이동, 즉 이동시 서로 고정된다. 이것은 특히 제조될 광활성 시스템이 예를 들어 듀얼-카메라 또는 트리플-카메라(triple camera)의 부품일 경우에 해당한다.
특히, 복수의 광활성 시스템, 바람직하게는 투사 시스템 및 이미징 시스템 또는 특히 두 개의 이미징 시스템이 순차적으로 제조될 경우에 바람직하다.
바람직하게는, 작업 상태에서 제1 고정 장치와 제2 고정 장치는 이미징 배열 장치에 대해 이동 가능하게 배열되어 있으며, 상기 이미징 배열 장치는 고정된 상태로 배열되어 있다. 특히, 전술한 것은 복수의 광활성 시스템은, 바람직하게는 투시 시스템과 이미징 시스템, 특히 라이다-시스템, 바람직하게는 두 개 또는 그 이상의 이미징 시스템, 예를 들어 멀티-카메라-시스템이 순차적 또는 동시에 제조될 경우이다. 또한, 작업 상태에서 상기 제1 고정 장치가 제2 고정 장치와 이미징 배열 장치에 대해 이동 가능하게 배열되는 것이 바람직하며, 상기 제2 고정 장치와 이미징 배열 장치는 이동 불가능하게 배열되어 있다. 특히, 작업 상태에서 제2 고정 장치는 제1 고정 장치와 이미징 배열 장치에 대해 이동 가능하게 배열되는 것이 바람직하며, 상기 제1 고정 장치와 이미징 배열 장치는 이동 불가능하게 배열되어 있다. 바람직하게는, 상기 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 장치는 광 축을 따라 병진 이동 가능하게 배열되어 있다. 특히, 상기 제1 및/또는 제2 고정 장치는 광 축에 대해 평행하게 병진 이동 가능하게 배열될 수 있다. 특히, 상기 제1 및/또는 제2 고정 장치는 회전 이동 가능하게 배열될 수 있다. 바람직하게는, 상기 제1 및/또는 제2 고정 장치는 두 개 또는 세 개가 서로 직각을 이루는 축을 중심으로 회전 이동 가능하게 배열되어 있다. 특히, 상기 제1 및/또는 제2 고정 장치는 적어도 하나의 이미징 장치의 빔 관통 면에 대해 이동 가능하게 배열되어 있다. 특히, 상기 제1 및/또는 제2 고정 장치는 적어도 하나의 이미징 장치의 빔 관통 면에 대해 병진 및/또는 회전 이동 가능하게 배열되어 있다.
본 발명에 따른 장치는 작업 상태에서 제1 광활성 시스템이 제조되고 난 후, 지점 상태로 전환되고, 지점 상태에서 상기 장치는 제2 (아직) 제조될 광활성 시스템 쪽을 향하도록 제1 광활성 시스템에 대해 이미징 장치 쪽으로 슬라이딩 될 수 있게 형성된다. 제조될 제2 광활성 시스템을 제조하기 위해, 장치는 작업 상태로 다시 전환된다. 특히, 본 발명에 따른 장치는 전술한 것을 위해 이러한 장치가 다시 작업 상태로 전환된 후, 적어도 하나의 또 다른 광활성 시스템, 특히 적어도 하나의 또 다른 광학 장치와 도 다른 광활성 장치가 서로, 그리고 이미 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템과 연관해서 조절되도록 형성되어 있다. 이미 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템이 대해 아직 조절 및/또는 조립될 광활성 시스템을 조절하기 위해 바람직하게는 가상의 테스트 구조물, 즉 이미 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템의(조절 이후) 테스트 구조물의 측정 이미지, 또는 합성시 동시에 또는 순차적으로 동일한 이미징 장치에 의해 장착된 측정 이미지로부터 공급된 테스트 구조물을 사용할 수 있다.
특히, 제2 고정 장치의 제2 고정 면에 대해 제1 고정 장치의 제1 고정 면은 상기 제1 고정 장치에 삽입될 수 있는 광학 장치가 전자기 빔의 빔 경로를 초점 면에서 초점을 맞추도록 배열되며, 특히 상기 빔 경로는 제2 고정 장치에 삽입될 수 있고 전자기 빔을 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면 방향으로 반사시키는 광활성 장치에 놓여 있다. 반사된 전자기 빔은 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면을 지나 적어도 하나의 이미징 배열 장치로 유입된다.
특히 장치, 시스템, 유닛, 구성요소의 위치 및/또는 지점은 고정 배열된 시스템, 고정 배열된 유닛, 고정 배열된 구성요소에 대해 공간적으로 이동 가능하게 배열될 경우에 비로소 본 발명에 따른 장치, 시스템, 유닛, 구성요소가 이동 가능하게 배열된다. 특히, 장치, 시스템, 유닛, 구성요소의 위치 및/지점이 공간적으로 이동 불가능할 경우 전술한 장치, 시스템, 유닛, 구성요소는 이동 불가능하게 배열된다. 장치, 시스템, 유닛, 구성요소는 특히 전술한 것이 이동 불가능하게 배열되어 있을 경우 비로소 이동 불가능하게 고정된다.
상기 이미징 장치는 바람직하게는 두 개, 세 개, 네 개, 다섯 개 또는 여섯 개의 이미징 배열 장치를 포함한다. 특히, 상기 이미징 장치는 여섯 개 초과의 이미징 배열 장치를 포함할 수도 있다. 특히 바람직하게는, 이미징 장치가 7, 8, 9, 10, 11, 12 또는 그 이상의 이미징 배열 장치를 포함하는 것이다. 각각의 이미징 배열 장치는 특히 빔 관통 면과 광 축을 포함할 수 있다. 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 광 축은 바람직하게는 빔 관통 면에 대해 수직으로 배열된다. 바람직하게는, 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제1 부분은 제조될 제1 광활성 시스템 쪽으로 배열되어 있고, 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제2 부분은 제조될 제2 광활성 시스템 쪽으로 배열되어 있다. 또한, 이미징 장치가 이동 가능하게 형성되는 것이 바람직할 수 있으며, 이것은 차례대로 제조될 복수의 광활성 시스템을 순차적 및/또는 동시에 제조하기 위한 것이다.
특히, 비활성화된 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치는 탐지된 측정 이미지가 제조될 광활성 시스템으로 탐지되지 않는다는 특징이 있다. 특히, 본 발명의 제1 측면에 따른 장치는 작업 상태에서 제조될 비활성화된 광활성 시스템, 특히 이러한 시스템의 광활성 장치가 하나 또는 복수의 전기 접점과 연결되지 않는, 즉 전기 에너지가 공급되지 않고 데이터 전송을 위해 형성되지 않는다는 특징이 있다. 바람직하게는, 제조될 비활성화된 광활성 시스템은 제조되는 동안 비활성화된다. 비활성화된 광활성 시스템은 특히 이러한 시스템이 제조되는 동안 전기 에너지가 공급되지 않는다. 또한, 그러한 비활성화된 광활성 시스템은 이러한 시스템이 제조되는 동안 데이터 전송을 위해 전기 접점과 접촉하지 않는다. 특히, 비활성화된 광활성 시스템이 제조되는 동안 작업 상태에서 제조될 광활성 시스템 및 제조될 광활성 장치의 신호 및 데이터가 예를 들어 해당 이미지 해상도가 측정되지 않으며, 상기 이미지 해상도는 광활성 시스템을 제조하기 위해, 특히 광활성 장치에 대해 광학 장치를 배열하기 위해 사용된다.
본 발명에 따른 장치는 바람직하게는 제조될 광활성 시스템의 전기 에너지 및/또는 데이터로서 전기 신호를 전송하기 위해 연결부를 포함하지 않는다. 특히, 상기 장치는 이러한 장치의 작업 상태에서 제조될 광활성 시스템, 특히 이러한 시스템의 광활성 장치의 데이터가 광활성 장치에 대해 광학 장치를 배열하기 위해 사용되지 않는 것을 특징으로 한다. 특히, 본 발명에 따른 장치는 광활성 장치를 장착하기 위해 제1 또는 제2 고정 장치가 장치의 작업 상태에서 형성되어 있는 것을 특징으로 하며, 이때 상기 광활성 장치는 상기 장치의 작업 상태에서 전자기 빔을 반사하기 위해 형성되어 있고, 반사된 빔은 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면을 지나 적어도 하나의 이미징 배열 장치로 유입되고 상기에서 탐지된다.
특히, 비활성화된 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치는 상기 장치가 제조될 비활성화된 광활성 시스템의 전기 접촉이 필요하지 않은 장점은 지닌다. 이것은 바람직하게는 상기 장치의 제조 비용 및 유지보수 비용을 절감시킨다. 또한, 비활성화된 광활성 시스템을 제조하기 위해 비활성화된 광활성 시스템은 전기 접점과 연결될 수 없다. 이것은 광활성 시스템의 제조 시간을 상당히 단축시킨다.
바람직하게는, 제조될 광활성 시스템과 접촉, 제조될 광활성 시스템의 구동 및 작동을 위해 필요한 하드웨어가 제공되지 않는다. 이것은 공정 시간의 상당한 단축과 비용을 감소시킨다.
특히, 복수의 이미징 배열 장치를 포함하는 이미징 장치는 특히 높은 이미지 해상도를 갖는 광활성 시스템 제조를 가능하게 한다. 또한, 특히 바람직하게는 이미징 장치의 민감성은 조절 및/또는 조립될 광학 장치로 인한 이중 빔 관통부를 통해 긍정적으로 영향을 받으며, 그 이유는 전자기 빔의 반사를 통해 경우에 따라 이미지 오류가 증폭되기 때문이다.
특히, 본 발명에 따른 장치는 발명자의 인식은 종래의 장치로 광활성 시스템의 제조할 때 제조 시간이 광활성 장치의 이미지 주파수로 인해 제한된다는 사실에 근거한다. 이미징 장치의 바람직한 배열은 상당히 높은 속도에 의한 이미징 장치의 높은 이미지 주파수로 인해 측정 이미지의 탐지 및 측정 이미지의 평가가 가능하게 한다. 이것은 특히 바람직하게는 제조될 광활성 시스템의 제조 시간을 단축 시킨다.
제1 바람직한 실시 형태에 따라, 제1 고정 장치는 제2 고정 장치와 이미징 장치 사이에 배열된다. 특히, 이러한 바람직한 실시 형태에서 본 발명에 따른 장치는 입사광 방식을 위한 구성에 근거를 둔다. 실시 형태에 따른 바람직한 시스템은 광활성 시스템이 특히 비용면에서 저렴하고 빠른 제조를 가능하게 한다. 특히, 이러한 실시 형태는 이미징 장치 및 제조될 광학 장치 및 광활성 장치가 쉽게 변환될 수 있다는 사실에 근거를 두고 있다.
본 발명에 따른 장치의 또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 적어도 하나의 이미징 배열 장치와 제1 고정 장치는 광 축을 따라 서로 제1 간격을 갖고 배열되어 있고; 제1 고정 장치와 제2 고정 장치는 광 축을 따라 서로 제2 간격을 갖고 배열되어 있다. 상기 이미징 장치가 복수의 이미징 배열 장치를 포함할 경우, 제1 간격은 제1 고정 장치와 각각의 이미징 배열 장치 사이에서 가변적일 수 있다. 상기 제1 간격이 제1 고정 장치와 각각의 이미징 배열 장치 사이에서 동일한 것이 바람직한 경우이다. 제3 간격은 특히 이미지 모듈의 초점 거리이다. 상기 초점 거리는 특히 이미지 모듈의 메인 면과 제1 초점 면 사이의 간격이다.
제1 간격의 최댓값은 비네트 효과(vignetting effect)로 인해 제한된다. 바람직하게는, 제2 간격에 대한 제3 간격의 비율은 적어도 1:1 및 최대 100:1이다. 특히, 제2 간격과 제3 간격의 비율은 적어도 0.5:1이다. 또한, 제2 간격에 대한 제3 간격의 비율은 바람직하게는 대략 1:1 내지 10:1이다. 특히, 제2 간격은 일반적으로 제조될 광활성 시스템의 광학 장치의 초점 거리에 대응한다. 특히, 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트가 실시되고 난 후에, 광학 장치의 제3 초점 거리가 광 축을 따라 제2 고정 면 방향으로 광활성 장치, 특히 제2 고정 장치의 제2 고정 면에 놓이도록 제2 고정 장치에 대해 제1 고정 장치가 간격을 유지한다. 바람직하게는, 상기 광활성 장치는 광활성 이미지 면을 구비하며, 광활성 장치는 바람직하게는 제2 고정 면이 광활성 이미지 면에 놓이도록 제2 고정 장치에 배열된다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 두 개 또는 그 이상의 광학 장치 및/또는 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치를 장착하도록 상기 제1 및/또는 제2 고정 장치가 제공되는 것이며, 바람직하게는 제1 고정 장치는 두 개 또는 그 이상의 광학 장치가 서로 독립적으로 회전 및/또는 병진 운동하도록 제공 및/또는 바람직하게는 제2 고정 장치는 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치가 서로 독립적으로 회전 및/또는 병진 이동하도록 제공되는 것이다. 또한, 바람직하게는 본 발명에 따른 장치는 제1 및/또는 제2 고정 장치와 무관하게 제1 및/또는 제2 고정 장치에 대해 회전 및/또는 병진 이동하도록 제공되는 것이다.
이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 제1 고정 장치는 상기 광학 장치가 서로 독립적으로 회전 및/또는 병진 이동하도록 형성된다. 특히, 이를 위해 상기 제1 고정 장치는 두 개 또는 그 이상의 고정 유닛을 구비하며, 상기 고정 유닛은 서로 독립적으로 회전 및/또는 병진 이동할 수 있게 배열 및/또는 고정 및/또는 작동된다. 또한, 이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 제2 고정 장치는 광활성 장치가 서로 독립적으로 회전 및/또는 병진 이동하도록 형성된다. 특히, 이를 위해 상기 제2 고정 장치는 두 개 또는 그 이상의 고정 유닛을 구비할 수 있으며, 상기 고정 유닛은 서로 독립적으로 회전 및/또는 병진 이동할 수 있게 배열 및/또는 고정 및/또는 작동된다. 회전 이동은 제1 및/또는 제2 고정 장치가 세 개의 독립 축을 중심으로 회전 및/또는 선회하는 것을 포함한다(세 개의 회전 자유도). 병진 이동은 세 개의 독립 축을 따라 슬라이딩 및/또는 이동하는 것을 포함한다(세 개의 병진 자유도(degree of freedom)).
이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 두 개 또는 그 이상의 광활성 시스템은 동시적 또는 순차적, 즉 차례대로 독립적으로, 그리고 서로 관련을 지으면서 조절 및/또는 조립될 수 있는 장점을 지닌다.
또한, 상기 이미징 장치는 두 개 또는 그 이상으로 제조될 광활성 시스템, 특히 제조될 광활성 시스템의 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치를 동시에 이미징하도록 형성된다. 특히, 싱글 이미징 배열 장치를 구비하는 이미징 장치는 두 개 또는 그 이상의 제조될 광활성 시스템, 특히 두 개 또는 그 이상의 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치를 동시에 이미징하도록 형성된다. 바람직하게는, 이미징 장치, 특히 싱글 이미징 배열 장치는 이미징 모듈의 이미징 요소로서 수렴 렌즈를 포함한다. 이를 위해, 광원 유닛은 우선 제조될 제1 광활성 시스템 및 이어서 제조될 제2 및 또 다른 광활성 시스템에 빛을 비추도록 제공된다. 또한, 바람직하게는 대형 조명 유닛, 특히 광원 유닛이 사용될 수 있고, 변환 가능한 차단 유닛, 특히 회전 고정된 차단 유닛이 제조될 광활성 시스템을 세밀하게 비출 수 있다. 또한, 바람직하게는 이미징 장치 외부에 배열된 광원을 통해 이미징 장치의 전자기 빔이 이미징 장치의 광 축에 대해 동 축으로 빔 관통 면과 제1 고정 면 사이에서 연결되며, 이러한 빔은 교대로 좌측과 우측 광활성 시스템을 비춘다. 또한, 바람직하게는 도광 섬유가 제조될 제1 및 제2 광활성 시스템을 교대로 비추며, 도광 섬유는 제조될 광활성 시스템을 비추기 위해 바람직하게는 제조될 제1 및 제2 광활성 시스템의 광학 장치에 배열된다.
전술한 것은 특히 바람직하게는 이미징 장치, 특히 싱글 이미징 배열 장치를 통해 두 개 또는 그 이상으로 제조될 광활성 시스템, 특히 두 개 또는 그 이상으로 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치가 동시에 측정될 수 있다. 또한, 전술한 것은 두 개 또는 그 이상으로 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지가 동시에 이미징 장치, 특히 싱글 이미징 배열 장치에서 물리적으로 합성될 수 있고, 이어서 가상의 합성은 생략될 수 있다. 전술한 것은 바람직하게는 조립 시간을 최소화하는 한편, 복잡한 구성을 최소화한다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 이미징 장치는 이동 가능하게 형성되며, 이것은 제조될 복수의 광활성 시스템을 순차적 및/또는 동시에 제조하기 위한 것이다. 바람직하게는, 이미징 장치에 제공된 하나 또는 복수의 이미징 배열 장치는 이동 가능하게 형성된다. 특히, 이미징 장치, 특히 적어도 하나의 이미징 배열 장치는 일반적으로 제1 및/또는 제2 고정 장치에 제공된 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 평행하게 이동할 수 있다. 추가로 또는 선택적으로, 바람직하게는 상기 이미징 장치, 특히 적어도 하나의 이미징 배열 장치는 제1 및/또는 제2 고정 장치에 제공된 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 회전 가능하게 배열 및/또는 고정 및/또는 작동된다.
또한, 바람직한 실시 형태에 따라 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제1 부분은 제조될 제1 광활성 시스템 쪽을 향하고 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제2 부분은 제조될 제2 광활성 시스템 쪽을 향하는 것이 바람직하다. 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제1 부분은 특히 제1 영역, 바람직하게는 조리개(aperture)의 제1 서브 영역이다. 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제2 부분은 제2 영역, 바람직하게는 조리개의 제2 서브 영역이다. 특히, 조리개는 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 이미지 모듈 및/또는 이미징 요소, 바람직하게는 수렴 렌즈의 조리개이다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 이미징 장치는 두 개의 이미징 배열 장치를 구비하며, 두 개의 이미징 배열 장치는 이러한 이미징 배열 장치의 광 축이 서로 평행하게 뻗도록 배열되며, 두 개의 이미징 배열 장치 중 하나의 이미징 배열 장치는 제조될 광활성 시스템을 향해 제공되고, 두 개의 이미징 배열 장치 중 또 다른 이미징 배열 장치는 제조될 또 다른 광활성 시스템을 향한다.
이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 제조될 두 개의 광활성 시스템은 자체로 조절될 수 있다. 특히, 조절은 동시에 실시되고, 이것은 순차적으로 실시되지 않음을 의미한다. 이것은 복수의 광활성 시스템 제조를 위해 제조 시간을 절약할 수 있는 장점이 있다. 복수의 광활성 시스템을 조절하기 위해 측정 이미지는 이미징 장치에서 합성 및 보정된다.
본 발명에 따른 장치의 또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 제1 고정 장치의 제1 고정 면은 적어도 하나의 이미징 배열 장치 중 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면에 대해 일반적으로 평행하게 배열 및/또는 적어도 하나의 이미징 배열 장치 중 또 다른 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면에 대해 평행하지 않고 간격을 유지하며 배열된다. 특히, 적어도 하나, 특히 싱글 이미징 배열 장치는 이러한 이미징 배열 장치의 광 축이 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 평행하게, 특히 동심을 향하도록 배열된다. 또한, 이미징 배열 장치의 광 축이 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 각을 이루는 상태로 배열되도록 바람직하게는 적어도 하나의 이미징 배열 장치 중 적어도 하나의 이미징 배열 장치가 배열되는 것이다. 특히, 이미징 배열 장치의 광 축이 작업 상태에서 제1 및/또는 제2 고정 장치에 배열된 광학 장치를 지나 중심으로 뻗도록 적어도 하나의 이미징 배열 장치가 배열된다. 특히, 이미징 배열 장치의 광 축이 작업 상태에서 배열된 광학 장치에서 제1 및/또는 제2 장치 축을 가로지르도록 적어도 하나의 이미징 배열 장치가 배열된다.
바람직하게는, 빔 관통 면을 포함하는 싱글 이미징 배열 장치는 일반적으로 제1 및/또는 제2 고정 장치에 제공된 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 평행하게 배열된다. 특히, 상기 이미징 배열 장치의 광 축은 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 일반적으로 동심을 향하도록 배열된다. 배열은 특히 싱글 이미징 배열 장치를 따라 광활성 장치에 대해 광학 장치를 병진 조절하기 위해 적합하다. 또한, 바람직하게는 이미징 장치는 하나 또는 복수의 이미징 배열 장치를 구비하며, 상기 이미징 배열 장치의 빔 관통 면은 각각 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 일반적으로 각을 이루는 형태로 배열된다. 바람직한 배열은 특히 광활성 장치에 대해 광학 장치를 회전 조절하기 위해 적합하다. 바람직하게는 제1 및/또는 제2 고정 장치에 대해 각을 이루는 형태로 배열된 이미징 배열 장치는 특히 제1 및/또는 제2 고정 면과 관련하여 최소 0°, 최대 90°의 각도로 배열된다. 특히, 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 각을 이루는 형태로 배열된 이미징 배열 장치는 일반적으로 제1 및/또는 제2 고정 장치에 대해 실질적으로 등거리에 있다. 또한, 바람직하게는 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 각을 이루는 형태로 배열된 이미징 배열 장치는 서클 트랙에 배열된다. 상기 서클 트랙은 불변 또는 가변적인 만곡을 갖는다. 특히, 서클 트랙은 타원형이다. 바람직하게는 상기 서클 트랙에 배열된 이미징 배열 장치는 일반적으로 서로 동일 간격으로 간격을 유지한다. 특히, 상기 서클 트랙에 배열된 이미징 배열 장치는 서클 트랙의 중심과 관련하여 서로 30°, 45°, 60°, 90°또는 120°의 각도로 배열된다. 또 다른 각도도 바람직할 수 있다. 특히, 각도는 제조될 광활성 시스템에 따라 좌우된다. 바람직하게는 각도는 개구 각도, 즉 제조될 광활성 시스템의 광학 장치의 개구수(numerical aperture) 및 광활성 시스템의 광활성 장치의 형태에 따라 좌우되고 조절 표시의 위치에 따라 좌우된다.
본 발명에 따른 장치의 또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 적어도 하나의 이미징 장치는 빔 관통 면이 배열되어 있고 광 축을 구비하는 이미징 모듈로서, 이미징 모듈은 광 축을 따라 제2 고정 면 방향으로 무한하게 이미징하거나, 또는 제2 초점 면에서 제2 초점 거리로 유한하게 이미징하고, 반대 방향으로 무한하게 이미징하거나, 또는 제1 초점 면에서 제1 초점 거리로 유한하게 이미징하게 형성되어 있는, 이미징 모듈; 및/또는 측정 이미지를 생성 및 탐지하기 위해 전자기 빔을 제공하는 광원 유닛; 및/또는 광원 유닛의 전자기 빔의 적어도 일부를 제조될 광활성 시스템 방향으로 방향 전환하는 빔 스플리터 유닛(beam splitter unit); 및/또는 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지를 탐지하기 위해 형성되어 있는 이미지 탐지 유닛으로서, 이미지 탐지 유닛은 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지를 탐지하기 위해 이미징 모듈의 제1 초점 면에 배열되어 있는, 이미지 탐지 유닛; 및/또는 광원 유닛의 전자기 빔을 산란시키기 위한 디퓨저(diffuser); 및/또는 필터링될 파장 길이를 갖는 전자기 빔을 필터링 하기 위한 필터 유닛; 및/또는 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치에서 테스트 구조물을 생성하기 위한 테스트 구조물 장치, 이때 테스트 구조물은 광활성 장치로부터 반사되고, 측정 이미지로서 이미징 장치에서 탐지 및 평가되는, 테스트 구조물 장치를 포함한다. 이것은 특히 광활성 시스템이 광활성 장치를 통해 제조될 수 있는 장점이 있으며, 상기 광활성 장치는 적은 명암 및/또는 반사 표면을 구비한다. 특히, 바람직한 실시 형태는 신호 처리를 위해 바람직할 수 있다.
이미징 모듈은 하나 또는 복수의 이미징 요소를 포함할 수 있다. 이미징 요소는 렌즈일 수 있다. 특히, 렌즈는 구면 및/또는 비구면 및/또는 자유 형태의 렌즈일 수 있다. 예를 들어, 구면 렌즈로서 수렴 렌즈(converging lens), 반달 렌즈 및 오목 렌즈(concave lens)가 알려져 있다. 바람직한 수렴 렌즈는 예를 들어, 양 볼록 렌즈, 평 볼록 렌즈 또는 오목 볼록 렌즈가 있다. 바람직한 오목 렌즈는 예를 들어, 오목 볼록 렌즈, 평 볼록 렌즈 또는 양 볼록 렌즈가 있다. 바람직하게는, 이미징 모듈은 수렴 렌즈이다. 특히, 이미징 모듈은 광원 유닛의 전자기 빔을 평행한 전자기 다발로 변화하고 반사된 광활성 장치의 전자기 빔을 제1 초점 면에서 측정 이미지를 탐지하기 위한 물체로서 형성된다. 바람직하게는 이미징 모듈은 고정 초점 거리-물체를 포함한다.
상기 빔 스플리터 유닛은 바람직하게는 유리 디스크일 수 있다. 상기 유리 디스크는 예를 들어 45°각도에서 광 축으로 삽입될 수 있다. 빔 스플리터는 전자기 빔의 일부를 유리 디스크에서 반사되도록 형성되며, 나머지는 유리 디스크를 관통한다. 상기 유리 디스크에 적합한 부분적으로 반사된 층을 제공함으로써 전자기 빔이 바람직하게는 두 개의 전자기 빔으로 동일한 강도로 분리된다. 빔 스플리터 유닛은 반투명 거울로서도 알려져 있다. 또한, 빔 스플리터 유닛은 바람직하게는 웨지-프리즘, 페리클(pellice), 이중 프리즘 및/또는 펜타 프리즘을 포함한다.
광원 유닛은 바람직하게는 일반적으로 도트 형태의 광원이다. 바람직하게는 상기 광원 유닛은 LED, 도광 섬유 또는 필라멘트이다. 특히 바람직하게는 광원 유닛은 단채색(monochromatic) 전자기 빔을 생성한다. 특히, 상기 광원 유닛은 식별할 수 있는 빛의 광원이다. 광원 유닛은 특히 전자기 빔을 이미징 장치의 빔 스플리터를 통해 빔 경로로 연결되도록 형성된다. 특히 그렇게 연결된 전자기 빔은 빔 관통 면을 통해 이미징 장치로부터 배출되고 광활성 장치로부터 빔 관통 면을 지나 이미징 장치로 다시 반사된다.
디퓨저는 전자기 빔을 산란시키기 위해 형성된다. 특히 상기 디퓨저는 제조될 광활성 시스템을 균일하게 비추기 위해 형성된다. 바람직하게는 디퓨저는 초점 년(B1)에 배열된다. 특히 본 발명에 따른 장치는 디퓨저에 대해 보완 및/또는 선택적으로 슬롯 구조의 디스크를 구비할 수 있다.
필터 유닛은 정해진 파장 길이의 전자기 빔을 필터링 하기 위해 형성된다. 특히, 필터 유닛은 바람직하게는 전자기 빔을 좁은 파장 길이 범위(band)에서는 필터링 하지 못하게 형성된다. 좁은 파장 길이 범위는 바람직하게는 적어도 10nm, 20nm, 50nm, 100nm 또는 200nm 내지 최대 10nm, 20nm, 50nm, 100nm 또는 200nm이다. 특히 상기 필터 유닛은 긴 파장의 전자기 빔을 필터링 하기 위해 형성된다. 특히 상기 필터 유닛은 자외선 범위와 이보다 작은 파장 길이를 갖는 전자기 빔을 필터링 하지 못하게 형성된다. 필터 유닛, 즉 좁은 파장 길이 범위의 전자기 빔을 필터링 하지 못하는 필터 유닛 및/또는 자외선 범위와 이보다 작은 파장 길이를 갖는 전자기 빔을 필터링 하지 못하는 필터 유닛은 일반적으로 높은 이미지 해상도를 갖는 측정 이미지의 이미징을 가능하게 한다. 특히, 광활성 장치의 구조물 또는 일반적으로 높은 이미지 해상도를 갖는 테스트 구조물은 필터 유닛으로 이미징, 측정 및/또는 평가될 수 있다. 필터 유닛은 특히 광원 유닛과 빔 스플리터 유닛 사이에 배열된다. 보완 또는 선택적으로 상기 필터 유닛은 특히 빔 스플리터 유닛과 이미지 탐지 유닛 사이에 배열될 수 있다.
테스트 구조물 장치에 의해 생성된 테스트 구조물은 특히 테스트 이미지이다. 테스트 구조물 장치는 테스트 구조물을 전자기 빔의 빔 경로에 연결한다. 테스트 구조물 장치는 특히 테스트 구조물을 생성하도록 형성되며, 상기 테스트 구조물은 제조될 광활성 시스템의 광학 장치를 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치에서 이미징한다. 바람직하게는, 테스트 구조물 장치는 광원 유닛과 빔 스플리터 유닛 사이에 배열된다. 바람직하게는, 테스트 구조물 장치는 초점 면(B1)에 배열된다. 특히, 테스트 구조물 장치는 이미징 모듈의 초점 면에 배열될 수 있다. 바람직하게는, 테스트 구조물 장치와 광원 유닛 사이에 디퓨저가 배열된다. 특히 디퓨저와 테스트 구조물 장치는 이미징 모듈의 제1 초점 면에서 스플리터 후방의 광원 유닛 일 측면으로 배열된다. 특히 테스트 구조물 장치는 디퓨저의 표면에 형성될 수 있으며, 상기 디퓨저는 바람직하게는 이미징 모듈의 제1 초점 면에서 스플리터 후방의 광원 유닛 일 측면에 제공된다. 바람직하게는, 테스트 구조물 장치는 전자기 빔을 따라 디퓨저와 함께 배열된다.
바람직하게는 상기 테스트 구조물 장치는 광원 유닛 및/또는 이미지 탐지 유닛 및/또는 빔 스플리터 유닛에 포함된다. 또한, 상기 테스트 구조물 장치는 이미징 장치로부터 분리된 장치이다. 이것은 투사 광활성 시스템에 해당하는 제조될 광활성 시스템을 위해 중요할 수 있다.
본 발명에 따른 장치의 또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 이미징 장치는 콜리메이터(collimator), 바람직하게는 초점을 맞출 수 있는 콜리메이터 및 특히 오토-콜리메이터(auto-collimator)를 포함한다. 바람직한 실시 형태는 이미징 장치를 위한 구성에 근거를 둔 것이다. 이러한 바람직한 실시 형태는 특히 비용면에서 저렴하고 용이하게 실시될 수 있다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 이미지 탐지 유닛은 제조될 전자 광학 시스템에 의해 생성된 적어도 하나의 이미징 장치의 측정 이미지를 탐지하기 위한 카메라; 및/또는 특히 이미지 탐지 유닛에 의해 탐지된 개별 측정 이미지를 처리 및 전송하기 위한 전력 전자 모듈; 및/또는 제조될 전자 광학 시스템에 의해 생성된 개별 측정 이미지를 탐지하기 위한 이미지 센서를 포함한다.
카메라는 특히 이미지 센서를 포함하며, 상기 이미지 센서는 이미징 면에 배열되어 있다. 이미지 센서는 특히 칩이다. 특히 이미징 면이 광 축에 대해 직각으로 배열되도록 카메라가 배열된다. 또한, 이미징 면이 일반적으로 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 직각으로 배열되지 않도록 카메라가 배열될 수 있다.
특히, 이미지 탐지 유닛은 이미징 모듈에 대해 이동 불가능하게 배열된다. 특히, 제1 초점 거리를 갖는 이미징 면이 이미징 모듈과 간격을 유지하고 배열되도록 상기 카메라는 이미징 모듈 반대쪽에 배열된다. 특히, 이미징 모듈의 제1 초점 면이 카메라의 이미징 면에 놓이도록 상기 카메라는 이미징 모듈 반대쪽에 배열된다. 바람직하게는, 제1 초점 거리를 갖는 이미징 면이 이미징 모듈에 대해 간격을 두고 배열되도록 상기 이미지 센서는 이미징 모듈 반대쪽에 배열된다. 특히 이미지 센서는 이미징 모듈의 제1 초점 면이 이미지 센서의 이미징 면에 놓이도록 이미징 모듈 반대쪽에 배열된다.
또한, 바람직하게는 이미지 탐지 유닛 및 이미징 모듈은 제2 고정 장치에 대해 이동 불가능하게 배열된다. 이러한 바람직한 실시 형태에 따라 제조될 광활성 시스템은 제1 고정 장치의 조절을 통해 제조, 특히 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트될 수 있다.
이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 특히 광활성 시스템의 광활성 장치를 전기 에너지 공급 장치 및/또는 신호 전송을 위한 조정 장치에 연결하지 않고 광활성 시스템을 제조, 특히 조절하는 것이 바람직하다.
전력 전자 모듈은 특히 제조될 광활성 시스템에 제공된 광활성 장치의 측정될 측정 이미지를 탐지하기 위해 형성된다. 바람직하게는, 전력 전자 모듈은 탐지된 측정 이미지를 평가하기 위해 형성된다. 특히 전력 전자 모듈은 탐지된 측정 이미지의 이미지 해상도를 결정하기 위해 형성된다. 또한, 상기 전력 전자 모듈은 특히 제2 고정 장치의 반대쪽 제1 고정 장치 방향으로 신호를 생성하기 위해 형성된다. 상기 방향의 신호는 탐지된 측정 이미지에 따라 생성된다. 상기 방향의 신호는 특히 조절 신호이다. 탐지된 측정 이미지의 평가는 특히 이미지 해상도에 관한 평가를 측정하는 것이다. 평가는 바람직하게는 모듈 변환 기능(module transfer function)이다. 전력 전자 모듈은 측정될 측정 이미지의 탐지를 위해 바람직하게는 Appication Specific Integrated Circuit(ASIC) 및/또는 Field Programmable Gate Array(FPGA) 및/또는 Microcontroller(PIC)를 포함한다. 특히, 전력 전자 모듈은 평가에 따른 조절 신호를 적어도 하나의 이미징 장치에 제공된 빔 관통 면에 대해 제1 및/또는 제2 고정 장치의 위치 및/또는 지점을 조절하는 조절 장치를 위해 제공하도록 형성된다.
특히, 전력 전자 모듈은 제2 테스트 구조물과 제1 테스트 구조물의 위치 사이의 차이를 측정하기 위해 형성된다. 제1 테스트 구조물의 위치는 조절 이후에 동시에 측정 및/또는 저장된 광활성 시스템의 측정 이미지로부터 발생한다. 제2 테스트 구조물은 제조될 또 다른 광활성 시스템의 탐지된 제2 측정 이미지로부터 발생한다. 특히 측정 이미지 탐지는 제2 테스트 구조물과 제1 테스트 구조물의 위치 사이의 차이 측정을 포함한다. 특히 측정은 탐지된 측정 이미지의 실제 및/또는 가상의 테스트 구조물 간의 벡터 차이의 이미지를 포함한다.
전력 전자 모듈은 본 출원의 맥락에서 특히 조절을 신속하게 실시하기 위해 조절 신호 및 제어 신호의 신속한 신호 처리 및 생성에 관한 것이다. 비교 가능한 전력 전자 모듈은 예를 들어 리플렉스 카메라의 자동 초점 유닛이다. 전력 전자 모듈은 특히 측정 과정, 제어 과정 및 조절 과정의 신속한 처리를 가능하게 한다.
상기 전력 전자 모듈을 바람직하게는 적어도 하나의 이미징 장치의 빔 관통 면에 대해 제1 및/또는 제2 고정 장치의 위치 및/또는 지점을 조절하기 위한 카메라 및/또는 조절 장치와 신호 기술적으로 연결된다. 특히, 상기 전력 전자 모듈은 카메라에 내장될 수 있다.
특히, 상기 이미지 탐지 유닛은 자동 초점 기능 모듈을 포함할 수 있으며, 상기 자동초점 기능 모듈은 탐지된 측정 이미지를 탐지 및 탐지에 따라 적어도 하나의 이미징 장치에 제공된 빔 관통 면에 대해 제1 및/또는 제2 고정 장치의 위치 및/또는 지점을 조절하기 위한 조절 장치에 조절 신호를 제공하기 위해 형성된다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 본 발명에 따른 장치는 적어도 하나의 이미징 장치에 제공된 빔 관통 면에 대해 제1 고정 장치의 제1 고정 면 및/또는 제2 고정 장치의 제2 고정 면의 위치 및/또는 지점을 조절하기 위한 조절 장치를 포함하며; 상기 조절 장치는 바람직하게는 구동 장치를 구비한다. 특히, 상기 구동 장치는 적어도 하나의 피에조 전기 구동 장치 및/또는 전자기 구동 장치 및/또는 병렬 기구(parallel kinematics system)를 포함한다.
상기 조절 장치는 제1 및 제2 고정 장치의 위치 및 지점을 조절하기 위해 형성된다. 특히, 상기 조절 장치는 이동 불가능하게 배열된 제2 고정 장치에 대해 이동 가능하게 배열된 제1 고정 장치의 위치 및 지점을 조절하기 위해 형성된다. 또한, 바람직하게는 상기 조절 장치는 이동 가능하게 배열된 제2 고정 장치에 대해 이동 불가능하게 배열된 제1 조절 장치의 위치 및 지점을 조절하기 위해 형성된다. 또한, 바람직하게는, 조절 장치는 이동 가능하게 배열된 제2 고정 장치에 대한 이동 가능하게 배열된 제1 고정 장치의 위치와 지점을 조절하도록 형성될 수 도 있다. 특히 바람직하게는 상기 제1 고정 장치는 병진 이동 가능하게 배열 및 제2 고정 장치는 회전 이동 가능하게 배열되어 있고 역으로도 가능하다. 특히 상기 조절 장치는 각기 이동 가능하게 배열된 고정 장치와 연결되어 있다.
본 발명에 따른 작업 상태에서 상기 조절 장치는 특히, 제1 고정 장치에 고정된 광학 장치 및 제2 고정 장치에 고정된 광활성 장치의 위치 및 지점을 조절하기 위해 형성된다. 바람직하게는, 작업 상태에 있는 상기 제2 고정 장치는 이미징 장치에 대해 이동 불가능하게 배열되어 있고, 제1 고정 장치는 이미징 장치 및 제2 고정 장치에 대해 이동 가능하게 배열되어 있다. 이러한 바람직한 배열에서 상기 조절 장치는 제2 고정 장치에 대해 제1 고정 장치의 위치 및 지점을 제1 고정 장치의 이동을 통해 조절하기 위해 형성된다.
상기 조절 장치는 바람직하게는 하나 또는 복수의 축을 구비한다. 하나 또는 복수의 축은 스택 형태로 배열될 수 있다. 특히, 하나 또는 복수의 축은 선형 축 및/또는 각도 측정 축(goniometric axis)이다. 하나 또는 복수의 축은 바람직하게는 서로 직각 방향으로 배열되어 있다. 특히 상기 조절 장치는 병렬 기구를 구비하거나 또는 병렬 기구일 수 있으며, 상기 병렬 기구는 회전 점(pivot point) 슬라이딩, 특히 자유로운 슬라이딩을 가능하게 한다. 특히, 상기 조절 장치는 병렬 기구일 수 있거나 또는 병렬 기구를 포함할 수 있다. 특히 상기 병렬 기구는 헥사포드(hexapod)이다.
바람직하게는, 상기 조절 장치는 지점과 위치, 특히 광활성 장치에 대해 광학 장치가 반대쪽으로 향해 있는 지점과 위치에서 제1 및/또는 제2 고정 장치를 회전 불가능하게 고정하기 위해 형성되며, 이때 광활성 장치는 요구된 이미징 품질을 갖는 측정 이미지로 이미징된다. 특히, 상기 조절 장치는 복수의 광학 장치 및/또는 광활성 장치를 하나 또는 복수의 측정 이미지를 탐지하기 위해 고정하도록 형성된다.
이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 광활성 시스템은 특히 적합한 방식으로 신속, 정확 그리고 저렴한 비용으로 제조될 수 있다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 장치는 마운팅 장치를 포함하며, 상기 마운팅 장치는 작업 상태에서 이미징 장치에 대해 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 장치를 병진 및/또는 회전 고정하도록 형성되며 및/또는 구동 장치는 작업 상태에서 상기 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 장치를 병진 및/또는 회전 구동하도록 형성된다.
바람직하게는, 상기 마운팅 장치는 이미징 장치에 대해 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 장치를 병진 및/또는 회전 이동할 수 있도록 고정하도록 형성된다. 특히 상기 마운팅 장치 및/또는 구동 장치는 하나, 두 개 또는 세 개의 선형 축을 따라 고정 장치를 병진 고정 및/또는 회전 이동 및/또는 하나, 두 개 또는 세 개의 선형 축을 중심으로 회전 고정 및/또는 이동하도록 형성된다. 바람직하게는, 상기 두 개 또는 세 개의 선형 축은 서로 직각 방향을 향하도록 배열된다. 특히, 상기 마운팅 장치 및/또는 구동 장치는 상기 마운팅 장치 및/또는 구동 장치가 여섯 개까지의 자유도를 구비하도록 형성된다. 상기 마운팅 장치 및/또는 구동 장치는 여섯 개 초과의 자유도를 구비할 수도 있다.
특히, 이를 위해 상기 마운팅 장치 및/또는 구동 장치는 제1 및/또는 제2 고정 장치에 배열된 두 개 또는 그 이상의 광학 장치 및/또는 광활성 장치를 서로 독립적으로 병진 및/또는 회전 고정 및/또는 구동하도록 형성된다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 본 발명에 조인트 장치를 포함하며, 상기 조인트 장치는 광활성 장치 및 광학 장치를 서로 연결, 특히 서로 조인하는 방식으로 연결하도록 형성된다. 상기 조인트 장치는 광학 장치와 광활성 장치 사이를 특히 용접, 납땜 및/또는 접착 연결하도록 형성된다. 특히, 상기 조인트 장치는 UV-본딩을 위해 형성된다. 바람직하게는 상기 조인트 장치는 UV-본딩 유닛을 포함한다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 장치는 적어도 하나의 이미징 장치의 탐지된 측정 이미지를 탐지하기 위한 평가 장치를 포함하며, 상기 평가 장치는 바람직하게는 이미징 장치, 특히 이미지 탐지 유닛 및/또는 조절 장치 및/또는 조인트 장치와 신호 기술적으로 연결되며; 및/또는 특히 각각의 이미지 탐지 유닛에 의해 탐지된 측정 이미지를 처리 및 전송하기 위한 전력 전자 모듈을 구비하며; 및/또는 탐지된 개별 측정 이미지의 탐지 결과에 따라 조절 장치를 조절 및/또는 조인트 장치를 조절하기 위한 제어 유닛을 구비하며; 상기 제어 유닛은 특히 작업 상태에서 본 발명에 따른 장치를 자동으로 초점을 맞추기 위해 자동 초점 기능 모듈을 포함한다.
평가 유닛은 바람직하게는 다음의 단계, 즉; 개별 측정 이미지의 탐지 및/또는 개별 측정 이미지의 평가; 및/또는 개별 측정 이미지의 측정 결과에 따라 제1 및/또는 제2 고정 장치를 제어하기 위한 하나 또는 복수의 제어 신호 감지; 및/또는 제어하기 위해 하나 또는 복수의 조절 신호를 제공하는 단계를 실시하도록 형성된다. 특히, 개별 측정 이미지의 평가는 개별 측정 이미지의 이미지 해상도의 측정을 포함한다. 이미지 해상도 측정은 특히 측정 이미지를 주파수 범위로 변환과 측정 이미지의 주파수 범위 분석을 포함한다. 특히, 초점 변환으로 이미지 해상도의 변환이 실시된다.
특히, 평가 유닛은 이미징 장치에 의해 탐지된 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지를 평가하고 특히 광활성 장치의 외부 또는 광활성 장치의 에지 영역에 조절 표시를 비활성화시키고 조절 오류를 도출하기 위해 형성된다. 특히, 평가 유닛은 조명 생성 단계를 실시하기 위해 형성된다.
특히 전력 전자 모듈은 개별 측정 이미지를 평가하기 위해 형성된다. 특히 상기 전력 전자 모듈은 바람직하게는 이미지 탐지 유닛을 포함하는 전술한 전력 전자 모듈의 특징, 기능 및 기타 특성을 포함한다. 바람직하게는 이미지 탐지 유닛뿐만 아니라 평가 유닛도 전력 전자 모듈을 구비할 수 있다.
특히, 제어 유닛은 제1 및/또는 제1 고정 장치에 제공된 조절 장치를 제어하기 위한 하나 이상의 제어 신호를 결정하며 및/또는 조절 장치, 특히 구동 장치를 신호 기술적으로 제공하도록 형성된다.
상기 데이터 측정 유닛은 디지털 데이터 처리 유닛, 예를 들어 개인용 컴퓨터(personal computer), 워크스테이션(workstation), 실시간 단말 제어기 및/또는 전자 회로(electronic circuit)이며, 전술한 것을 포함한다.
본 발명의 제2 측면에 따라 본 발명의 상기 목적은 청구항 13을 통해 해결된다.
본 발명의 제2 측면에 따라, 광활성 시스템 제조, 특히 비활성화된 광활성 시스템을 제조하기 위한 방법, 특히 투사 및/또는 이미징된 전자 광학 시스템을 위한 전자 광학 및/또는 광학 전자 시스템을 제조하기 위한 방법은 다음의 단계를 포함한다: 본 발명의 제1 측면 및/또는 이러한 측면의 바람직한 실시 형태에 따른 장치의 제공; 및/또는 제2 고정 장치에 광활성 장치의 제공 및 배열, 특히 제2 고정 장치에 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치의 제공 및 배열; 및/또는 제1 고정 장치에 광학 장치의 제공 및 배열, 특히 제1 고정 장치에 두 개 또는 그 이상의 광학 장치의 제공 및 배열을 포함한다.
제1 바람직한 실시 형태에 따라, 광활성 시스템을 제조하기 위한 방법은 특히 다음의 단계, 즉: 광활성 장치에 대해 광학 장치의 조절; 및/또는 광활성 장치에 대해 조절된 광학 장치의 조립; 광활성 장치에 대해 조립된 광학 장치의 테스트 단계를 포함한다.
조절 단계는 특히 다음의 단계, 즉: 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지를 이미징하기 위해 전자기 빔 제공; 및/또는 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지의 이미징; 및/또는 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 측정 이미지 탐지; 및/또는 탐지된 측정 이미지의 평가; 및/또는 탐지된 측정 이미지의 평가에 따라 이미징 배열 장치에 배열된 광학 장치로 제1 고정 장치 및/또는 이미징 배열 장치에 배열된 광활성 장치로 제2 고정 장치를 조절하는 단계를 포함한다. 조절 단계는 특히 반복적으로 실시될 수 있다.
상기 방법은 특히 다음의 단계, 즉: 적어도 하나의 이미징 장치에서 탐지된 측정 이미지의 이미징 품질, 특히 이미지 해상도를 결정하는 단계를 포함한다.
측정 이미지의 평가는 특히 개별 이미징 장치에 의해 탐지된 측정 이미지의 이미지 해상도 평가를 포함한다. 이미지 해상도 평가는 특히 개별 이미징 장치에 의해 탐지된 측정 이미지의 이미지 해상도 모듈 변환기능 분석을 통해 실시된다. 또한, 평가는 바람직하게는 광활성 장치의 식별 및/또는 에지 영역의 탐지를 포함한다. 식별은 특히 측정 이미지의 평가에 따라 광활성 장치의 직접적인 주변에서 하나 또는 복수의 에지 인식 또는 조절 표시를 포함한다.
특히, 평가는 두 개 또는 그 이상의 이미징 배열 장치를 구비하는 이미징 장치를 포함하는 장치를 포함하며, 일반적으로 상기 빔 관통 면이 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 평행하게 배열되도록 제1 이미징 장치는 제1 및/또는 제2 고정 장치 쪽으로 배열되며, 빔 관통 면이 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 각을 이루는 형태로 배열되도록 또 다른 이미징 장치는 제1 및/또는 제2 고정 장치 쪽으로 배열되며, 제1 및/또는 제2 고정 장치를 하나 또는 복수의 축을 따라 병진 조절하기 위해 하나 또는 복수의 조절 신호를 결정하기 위해 제1 이미징 장치에 의해 탐지된 측정 이미지의 이미지 해상도의 모듈 변환 기능 분석을 통해 이미지 해상도를 분석; 및/또는 제1 및/또는 제2 고정 장치를 하나 또는 복수의 축을 중심으로 회전 조절하기 위해 하나 또는 복수의 조절 신호를 결정하기 위해 또 다른 이미징 배열 장치로 탐지된 측정 이미지의 이미지 해상도의 모듈 변환 기능 분석을 통해 이미지 해상도를 평가하는 것을 포함한다.
제1 고정 장치에 배열된 광학 장치를 포함하는 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 장치에 배열된 광활성 장치의 제2 고정 장치의 조절은 특히 탐지된 측정 이미지의 결정된 이미지 해상도의 평가에 따라 실시된다. 특히, 제1 및/또는 제2 고정 장치의 조절은 복수의 측정 이미지 탐지에 따라 좌우되며, 상기 복수의 측정 이미지는 복수의 이미징 배열 장치를 통해 탐지된 것이다 특히, 제1 및/또는 제2 고정 장치의 조절은 하나 또는 복수의 축을 따라 병진 및/또는 하나 또는 복수의 축을 중심으로 회전한다.
바람직하게는, 제1 및/또는 제2 고정 장치의 조절 단계는 여러 단계로 실시된다. 특히, 상기 조절은 제1 또는 제2 고정 장치의 조절이 하나 또는 복수의 병진 축을 따라 실시된다. 또한, 제1 및/또는 제2 고정 장치의 조절은 하나 또는 복수의 축을 중심으로 실시될 수 있다.
조절은 특히 하나의 측정 이미지 또는 복수의 측정 이미지에 따라 실시될 수 있다. 특히, 제1 및/또는 제2 고정 장치의 회전 조절의 단계는 광활성 장치의 에지 영역에서 탐지된 측정 이미지의 이미지 해상도에 따라 실시된다. 바람직하게는, 병진 조절 단계는 특히 탐지된 측정 이미지, 바람직하게는 광활성 장치 및/또는 광학 장치에 배열되지 않은 하나 또는 복수의 기준 표시, 또는 광활성 장치의 하나 또는 복수의 에지에 따라, 제1 및/또는 제2 고정 장치의 제1 및/또는 제2 장치 축에 대해 직각으로 두 개의 공간 방향으로 실시된다. 특히, 제1 및/또는 제2 고정 장치의 회전 조절 단계는 제조될 광학 시스템의 에지 영역, 특히 빔 관통 면이 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 평행하게 배열되어 있지 않은 이미징 배열 장치에서 탐지된 광활성 장치의 에지 영역의 측정 이미지의 이미지 해상도 평가에 따라 실시된다. 광활성 장치의 에지 영역에서 탐지된 측정 이미지의 이미지 해상도 차이로부터 제1 및/또는 제2 고정 장치의 회전 조절을 위한 조절 신호가 생성된다. 특히, 조절 표시, 즉 바람직하게는 상기 광활성 장치와 함께 배열된 조절 표시를 통해 제조될 광활성 시스템의 광학 장치 및 광활성 장치는 서로 병진 방향으로 조절될 수 있다. 보완 또는 선택적으로, 바람직하게는 이를 위해 광활성 장치의 에지가 사용될 수 있다. 이를 위해, 광활성 장치의 지점 및/또는 위치가 바람직하게는 측정 유닛으로 탐지된 측정 이미지의 평가를 통해 평가되고, 교정 이동을 고려 및 실시된다. 교정 이동은 병진 및/또는 회전 이동을 통해 실시될 수 있다. 교정 이동은 복수의 병진 및/또는 복수의 회전 이동의 병합을 포함할 수 있다.
조립 단계는 바람직하게는 광학 장치를 광활성 장치와 연결하는 단계, 특히 조인트 단계를 포함한다. 결합 단계는 특히 응축 끼워 맞춤 및/또는 억지 끼워 맞춤 및/또는 형상 끼워 맞춤을 포함한다. 바람직하게는 결합 단계는 접착 및 경화, 특히 UV-경화를 포함한다.
테스트 단계는 바람직하게는 다음의 단계, 즉: 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지를 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 이미징하기 위해 전자기 빔을 제공; 및/또는 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템의 측정 이미지를 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 이미징; 및/또는 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 측정 이미지 탐지; 및/또는 탐지된 개별 측정 이미지를 평가하는 단계를 포함한다.
또한, 바람직하게는 광활성 시스템 제조를 위한 방법은 이미징 장치의 이동을 포함하며, 이것은 제조될 복수의 광활성 시스템을 순차적 및/또는 동시에 제조하기 위한 것이다. 이미징 장치의 이동은 특히 이러한 이미징 장치의 이동이 일반적으로 제1 및/또는 제2 고정 장치에 제공된 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 평행하게 실시된다. 또한, 바람직하게는 이미징 장치의 이동은 특히 이미징 장치의 이동이 일반적으로 제1 및/또는 제2 고정 장치에 배열된 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 수직 방향으로 실시된다. 특히, 이미징 장치의 이동은 제1 및/또는 제2 고정 장치에 제공된 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 이미징 장치의 병진 및/또는 회전 이동이 실시된다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 측정 이미지 탐지는 다음의 단계, 즉: 이미징 장치 및/또는 광활성 장치에 대해 광학 장치를 무한 배열; 이미징 장치 및/또는 광활성 장치에 대해 광학 장치를 목표 위치 및/또는 목표 지점에 배열하는 단계를 포함한다. 특히, 이미징 장치 및/또는 광활성 장치에 대해 상기 광학 장치는 하나 또는 복수의 오프셋 값 조절을 통해 목표 위치 및/또는 목표 지점에 배열될 수 있다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 탐지된 개별 측정 이미지의 탐지는 다음의 단계, 즉: 탐지된 측정 이미지의 주파수 응답(frequency response) 식별하는 단계; 및/또는 탐지된 측정 이미지를 이미 전술한 방법에 따라 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템의 탐지된 측정 이미지와 비교하는 단계를 포함하며, 특히 측정 이미지는 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 측정되며; 특히 동시에 탐지된 측정 이미지의 비교는 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 물리적 합성을 토대로 실시되며; 및/또는 특히 동시에 또는 순차적으로 탐지된 측정 이미지의 비교는 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 가상의 합성을 토대로 실시되며; 및/또는 탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답을 원하는 목표 상태와 비교하는 단계; 및/또는 이미 전술한 방법에 따라 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템 및/또는 결정된 주파수 응답 및/또는 결정된 오프셋의 탐지된 측정 이미지와 탐지된 측정 이미지의 비교에 따라 제1 및/또는 제2 고정 장치를 조절하기 위한 조절 신호를 생성하는 단계; 및/또는 탐지된 측정 이미지가 원하는 목표 상태에 대응하지 않을 경우 원하는 목표 상태와 탐지된 측정 이미지를 비교하는 단계; 및/또는 탐지된 측정 이미지의 주파수 응답이 원하는 목표 상태에 대응하지 않을 경우 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답을 원하는 목표 상태와 비교하는 단계를 포함한다.
특히, 제조 방법은 탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답이 원하는 목표 상태에 대응할 때까지 반복적으로 실시된다. 바람직하게는, 탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답이 원하는 목표 상태에 대응할 경우, 광활성 시스템의 조절 방법은 종료된다. 탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답이 원하는 목표 상태에 대응하지 않을 경우, 특히 바람직하게는 광활성 시스템을 조절하는 단계를 새롭게 또는 반복적으로 실시하는 것이다. 광활성 시스템을 조절하기 위한 방법은 특히 광활성 시스템을 조절하기 위한 반복적으로 실시될 수 있다.
원하는 목표 상태란 특히 제조될, 특히 조절될, 광활성 시스템의 광활성 장치에 대해 광학 장치의 원하는 배열이다. 바람직하게는, 원하는 목표 상태는 원하는 주파수 응답 및/또는 원하는 이미지 해상도가 제조될 광활성 시스템, 특히 조절된 광활성 시스템에 도달하는 것이다. 바람직하게는, 원하는 목표 상태는 원하는 목표 상태 범위가 상위 또는 이와 구별되는 하위 목표 상태 경계를 포함하는 것이다. 특히, 탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 주파수 응답은 원하는 목표 상태에 대응하며, 이것은 탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 주파수 응답이 원하는 목표 상태 범위 내에, 특히 상위 및 하위 목교 상태 경계네 놓일 경우에 한한다.
이러한 바람직한 실시 형태는 특히 하나 또는 복수의 오프셋 값을 평가하기 위한 시뮬레이션 단계를 포함한다. 하나 또는 복수의 오프셋 값은 특히 광활성 시스템의 제조 시작 전에 결정, 예를 들어 광학 디자이너에 의해 결정된다. 특히 바람직하게는, 이러한 바람직한 실시 형태에서 전술한 바람직한 실시 형태에 따른 테스트가 필요하지 않다. 목표 위치 및/또는 목표 지점은 제2 고정 장치 및/또는 적어도 하나의 이미징 배열 장치에 대해 특히 제1 고정 장치의 위치 및/또는 지점이며, 이때 제1 고정 장치의 위치 및/또는 지점의 경우 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 측정 이미지의 이미지 해상도는 최대치이다.
또 다른 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 방법은 제조될 광활성 시스템의 광활성 장치가 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트가 진행되는 동안 비활성화되는 것을 통해 특징 된다.
본 발명의 제3 측면에 따라 본 발명에 따른 상기 목적은 청구항 17을 통해 해결된다.
본 발명의 제3 측면은 광활성 시스템 제조, 특히 비활성화된 광활성 시스템, 특히 투사 및/또는 이미징된 전자 광학 시스템을 위한 전자 광학 및/또는 광학 전자 시스템 제조를 위한 전술한 바람직한 실시 형태 중 하나의 실시 형태에 따른 장치의 용도에 관한 것이다. 특히, 장치의 용도는 광활성 시스템의 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트를 위한 전술한 바람직한 실시 형태 중 하나의 실시 형태를 포함한다. 또한, 장치의 용도는 비활성화된 광활성 시스템의 조절 및/또는 조립 및/또는 테스트를 위한 전술한 바람직한 실시 형태 중 하나의 실시 형태가 적합하다.
이러한 또 다른 본 발명의 측면의 장점, 변형된 실시 형태 및 실시 예의 상세한 설명은 광활성 시스템 제조를 위한 장치 및 또 다른 측면의 대응하는 특징을 의미한다.
본 발명의 실시 형태는 다음과 같이 도면을 통해 설명된다. 이러한 실시 형태는 반드시 상세하게 설명되어야 하는 것이 아니라, 오히려 설명을 위해 도면은 개략적 및/또는 단축된 형식으로 설명하고 있다. 도면에서 직접적으로 인식할 수 있는 본 발명의 사상에 대한 보충적 설명과 관련하여 해당 선행 기술이 언급되고 있다. 이때 고려해야 할 것은 본 발명의 일반적인 사상으로부터 벗어나지 않은 상태에서 다양한 변형 및 변경이 실시 형태의 형식과 상세한 설명과 관련하여 가능하다는 것이다. 발명의 상세한 설명 도면 및 청구항에서 공지한 본 발명의 특징은 발명의 또 다른 발전을 위해 개별적, 그리고 임의적 결합을 본질로 한다. 또한, 본 발명의 범위에서 발명의 상세한 설명, 도면 및/또는 청구항에 공지된 특징 중 적어도 두 개의 특징으로부터 결합 될 수 있다. 일반적인 본 발명의 사상은 다음에서 도시된 그리고 설명된 바람직한 실시 형태의 정확한 형식 또는 상세한 설명에 제한되지 않거나, 또는 대상, 즉 청구항에서 청구하는 대상과 비교로 제한되지 않는다. 기재된 평가 범위에서 전술한 한계에 있는 가치는 임계 가치로서 공지되고 있고 임의로 사용 및 청구될 수 있다. 편의상, 다음에서는 동일하거나 또는 유사한 부품 또는 동일하거나 유사한 부품 기능에 동일한 도면부호가 사용된다.
본 발명의 또 다른 장점, 특징 및 구체적 설명은 바람직한 실시 형태의 설명 및 도면을 통해 다음과 같이 상세하게 설명된다:
도 1은 광활성 시스템을 제조하기 위한 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 1a는 광활성 시스템을 제조하기 위한 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 1b는 광활성 시스템을 제조하기 위한 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 1c-e는 제조될 두 개의 광활성 시스템을 교대로 조명하기 위한 서로 다른 바람직한 실시 형태를 개략적으로 도시하고 있고;
도 1f는 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 2는 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 3은 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 4는 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 5는 도 4에 따른 광활성 시스템을 제조하기 위해 바람직한 실시 형태에 따른 장치의 상면도를 개략적으로 도시하고 있고;
도 6은 제조될 광활성 시스템의 광활성 배열을 상면도로 개략적으로 설명하고 있고;
도 7은 광활성 시스템을 제조하기 위한 제1 바람직한 방법을 흐름도로 도시하고 있고;
도 8은 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 방법을 흐름도로 도시하고 있다.
도 1a는 광활성 시스템을 제조하기 위한 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 1b는 광활성 시스템을 제조하기 위한 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 1c-e는 제조될 두 개의 광활성 시스템을 교대로 조명하기 위한 서로 다른 바람직한 실시 형태를 개략적으로 도시하고 있고;
도 1f는 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 2는 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 3은 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 4는 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 실시 형태의 장치를 측면도로 개략적으로 도시하고 있고;
도 5는 도 4에 따른 광활성 시스템을 제조하기 위해 바람직한 실시 형태에 따른 장치의 상면도를 개략적으로 도시하고 있고;
도 6은 제조될 광활성 시스템의 광활성 배열을 상면도로 개략적으로 설명하고 있고;
도 7은 광활성 시스템을 제조하기 위한 제1 바람직한 방법을 흐름도로 도시하고 있고;
도 8은 광활성 시스템을 제조하기 위해 또 다른 바람직한 방법을 흐름도로 도시하고 있다.
도 1은 광활성 시스템(10)을 제조하기 위한 장치(1)의 측면도를 바람직한 실시 형태에 따라 개략적으로 설명하고 있다. 개략적으로 도시된 장치(1)는 이미징 장치(2) 및 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b)를 포함한다. 이러한 바람직한 실시 형태에서 상기 이미징 장치(2)는 하나의 이미징 배열 장치(20)만 포함한다. 이러한 이미징 배열 장치(20)는 빔 관통 면(SE)을 구비하며, 상기 빔 관통 면에 대해 일반적으로 광 축(O)은 수직 방향으로 배열된다. 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b)는 각각 제1 및 제2 고정 면(Ha, Hb)을 구비하며, 상기 두 개의 고정 면은 일반적으로 상기 빔 관통 면(SE)에 대해 평행하게 제공된다. 특히, 제1 고정 면(Ha)을 갖는 제1 고정 장치(3a)는 빔 관통 면(SE)과 제1 간격(A1)으로 배열되어 있다. 제2 고정 면(Ha)을 갖는 제2 고정 장치(3b)는 제1 고정 면(Ha)과 제2 간격(A2)으로 배열되어 있다.
도 1은 작업 상태의 장치(1)를 도시하고 있다. 작업 상태에서 각각의 고정 장치(3a, 3b)에는 이미 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11) 및 광활성 시스템(10)의 광학 장치(12)가 배열되어 있다. 상기 광학 장치(12)는 상기 이미징 장치(2)에 대해 무한하게 배열되어 있고, 광활성 장치(11)를 무한대로 이미징한다. 상기 광활성 장치(11)와 광학 장치(12)는 상기 장치(1)의 예비 공정 단계, 로지스틱 상태(logistic state)에서 각각의 고정 장치(3a, 3b)에 공급된다. 특히, 상기 광학 장치(12)와 광활성 장치는 비활성화된 광활성 시스템을 제조하기 위한 작업 단계에서 에너지 공급 및/또는 데이터 전송을 위한 하나 또는 복수의 전기 접점과 접촉하지 않는다. 도 1에 개략적으로 도시된 바람직한 실시 형태에 따라, 광학 장치(12)는 제1 고정 장치(3a)에 배열되며 광활성 장치(11)는 제2 고정 장치(3b)에 배열된다. 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b)는 광학 장치(12) 및/또는 광활성 장치(11)를 고정하도록 형성되어 있다. 특히, 상기 광학 장치(12) 및/또는 광활성 장치(11)는 작업 상태에서 각각의 고정 장치(3a, 3b)에 억지 끼워 맞춤 및/또는 형상 끼워 맞춤 방식으로 배열되어 있고, 전술한 고정 장치에 의해 고정된다. 예를 들어, 각각의 고정 장치는 각각의 고정 장치(3a, 3b)에 광학 장치(12) 및 광활성 장치(11)를 고정하기 위해 클램핑 척 그리퍼(clamping jaw gripper) 및/또는 진공 그리퍼를 포함한다.
도 1에 개략적으로 도시된 장치(1)의 이미징 배열 장치(20)는 이미징 모듈(21)을 구비하며, 상기 이미징 모듈은 일반적으로 상기 빔 관통 면(SE)에 배열되어 있고, 광 축(O)에 대해 동심으로 제공된다. 이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 이미징 모듈(21)은 수렴 렌즈이다. 도 1에 도시된 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 이미징 모듈(21)은 제1 및/또는 제2 고정 면(Ha, Hb) 방향의 광 축(O)을 따라 전자기 빔을 무한대로 이미징하도록 제공된다. 전술한 방향에 대해 반대 방향, 즉 제1 및 제2 고정 면(Ha, Hb)의 반대 방향에 이미징 모듈(21)이 형성되어 있고, 상기 이미징 모듈은 이미징 모듈(21)의 제1 초점 면(B1)에서 광 축(O)을 따라 전자기 빔을 무한대로 이미징하도록 제공된다.
본 발명의 실시 형태에 따라, 제조될 상기 광활성 시스템(10)의 광학 장치(12)는 수렴 렌즈이고, 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)는 캐리어에 배열된 이미지 센서이다. 상기 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b)는 작업 상태에서 각각의 고정 장치(3a, 3b)에 배열된 수렴 렌즈(11) 및 이미지 센서(12)가 일반적으로 개별 고정 면(Ha, Hb)에 고정 배열되도록 형성되어 있다. 상기 수렴 렌즈는 특히 이미징 배열 장치(20)로부터 배출된 전자기 빔을 제2 고정 면(Hb) 방향으로 제3 초점 면(B3)에 초점을 맞추도록 제공된다. 특히, 광활성 장치(11)의 이미지 센서는 제2 고정 면(Hb)에 배열되어 있다. 바람직하게는, 광활성 시스템을 제조하기 위한 작업 상태에서 제1 고정 장치에 배열된 수렴 렌즈(12)를 포함하는 제1 고정 장치(3a)와 제2 고정 장치에 배열된 광활성 장치(12)를 포함하는 제2 고정 장치(3b)는 제2 간격(A2)이 일반적으로 제조될 광활성 시스템(10)에 제공된 수렴 렌즈(12)의 초점 거리에 대응, 즉 광활성 장치(11)의 이미지 센서에 제공된 수렴 렌즈(12)의 제3 초점 면(B3)이 제2 고정 면(Hb)에 놓이도록 배열된다.
도 1에 개략적으로 도시된 이미징 배열 장치(20)는 전자기 빔을 생성하기 위해 제공된다. 전자기 빔은 빔 관통 면(SE)에 배열된 이미징 모듈(21)을 지나 이미징 배열 장치(20)를 관통한다. 상기 이미징 배열 장치(20)의 이미징 모듈(21)은 전자기 빔을 무한대로 이미징하도록 제공된다. 또한, 이미징 배열 장치(20)는 제1 초점 면(B1)에서 이미징 모듈(21)로 측정 이미지를 이미징하기 위해 광활성 장치(11)의 이미지 센서로부터 반사되어 수렴 렌즈(12)로부터 빔 관통 면(SE) 방향으로 초점이 맞춰진 전자기 빔을 무한대로 초점을 맞추고 측정 이미지를 탐지하기 위해 제공된다. 탐지된 측정 이미지의 이미징 품질에 따라 작업 단계에서 제2 고정 장치에 배열된 광활성 장치(11)의 이미지 센서를 포함하는 제2 고정 장치(3b) 쪽으로 제1 고정 장치에 배열된 수렴 렌즈(12)를 포함하는 제1 고정 장치(3a)의 지점과 위치가 조절된다.
조절을 위해, 도 1에 개략적으로 도시된 장치(1)의 제1 고정 장치(3a)는 이미징 장치(2) 및 제2 고정 장치(3b)에 대해 이동 가능하게 배열되어 있고, 상기 이미징 장치(2)와 제2 고정 장치(3b)는 이동 불가능하게 배열되어 있다. 상기 제1 고정 장치(3a)는 특히 광 축(O)을 따라 병진 이동 및 광 축(O)을 중심으로 회전 이동할 수 있다. 또한, 상기 제1 고정 장치(3a)는 다른 두 축(도시되어 있지 않음)을 따라 병진 이동 및 이러한 축을 중심으로 회전 이동할 수 있다. 상기 광 축(O)과 다른 두 축은 각각 서로 수직 방향을 향해 있다. 이미지 센서에 대한 수렴 렌즈의 지점 및/위치는 세 축 중 하나의 축을 따라 제1 고정 장치(3a)의 병진 이동 및/또는 세 축 중 하나의 축을 중심으로 회전 이동함으로써 조절될 수 있다. 광학 장치(12)에 대해 광활성 장치(11)의 지점 및/또는 위치에서 원하는 이미징 품질이 달성되지 못할 경우, 조립, 즉 광활성 장치(11)에 광학 장치(12)를 결합하기 위해 제2 고정 장치(3b)에 대해 제1 고정 장치(3a)를 해당 지점 및/위치에 이동 불가능하게 고정하도록 상기 장치(1)가 제공된다.
도 1a 내지 도 1f는 상기 장치의 바람직한 실시 형태를 도시하고 있다. 도 1a 내지 도 1f에 도시된 상기 장치의 바람직한 실시 형태는 도 1에 개략적으로 도시된 상기 장치의 실시 형태를 토대로 한 것이다. 도 1a 내지 도 1f는 도 1에 도시된 실시 형태와 달리 두 개의 제1 고정 장치(3a) 및 두 개의 제2 고정 장치(3b)를 도시하고 있다. 도 1a 내지 도 1f에 도시된 장치는 두 개의 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치이다.
도 1a에 도시된 장치(1)는 이동할 수 있는 이미징 장치(2)를 구비한다. 일반적으로, 상기 이미징 장치(2)는 제1 및/또는 제2 고정 장치(3a, 3b)의 제1 및/또는 제2 고정 면(Ha, Hb)에 대해 평행하기 이동할 수 있다. 우선, 도 1a의 좌측에 도시된 광활성 시스템(10)이 제조된다. 좌측 광활성 시스템이 제조되었다면, 도 1a에서 좌측에 도시된 이미 제조된 제1 광활성 시스템에 대해 제2 광활성 시스템(10)을 제조하기 위해 이미징 장치(2)는 좌측 위치(실선)로부터 우측 지점(파선)으로 우측 이동한다. 이를 위해, 이미 제조된 광활성 시스템(10)에 저장된 이미지는 제조될 광활성 시스템(10)의 이미지와 가상으로 합성되고, 전술한 것에 따라 제조될 광활성 시스템은 제1 및/또는 제2 고정 장치(3a, 3b)를 통해 조절된다.
또한, 도 1a에 도시된 이미징 장치(2)는, 특히 이미징 장치(2)의 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)는 제조될 광활성 시스템(10)에 대해 외 측(orbital)으로 회전될 수 있다. 도 1a의 우측 위치(점선)에는 회전된 이미징 배열 장치(20)가 개략적으로 도시되어 있다.
도 1b에 도시된 장치(1)는 이미징 장치로 제조될 두 개의 광활성 시스템을 동시에 탐지하도록 형성되어 있다. 상기 이미징 장치(2)의 이미징 배열 장치(20)는 이동, 특히 회전할 수 있도록 제공된다. 도 1b에는 이미징 장치(2)의 두 개의 이미징 배열 장치(20) 중 하나의 이미징 배열 장치가 외 측으로 회전된 위치(점선)가 도시되어 있다. 당연히, 상기 이미징 장치(2)의 제2 이미징 배열 장치(20)가 회전하는 것도 바람직할 수 있다. 이러한 바람직한 실시 형태에 따라, 우선 제1 광활성 시스템(도 1b 좌측)이 제조되고, 이어서 - 이를 위해, 도 1a에 도시된 실시 형태의 경우처럼 이미징 장치(2)가 이동하지 않고 - 제조될 제2 광활성 시스템(도 1b 우측)이 이미징된다. 이를 위해, 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 제1 부분은 제조될 제1 광활성 시스템 쪽을 향하고, 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 제2 부분은 제조될 제2 광활성 시스템 쪽을 향한다. 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 제1 및 제2 부분은 특히 각각의 이미징 배열 장치(20)의 이미징 모듈(21)의 조리개의 제1 및 제2 서브 영역에 대응, 특히 수렴 렌즈로서 형성된 이미징 배열 장치(20)의 조리개의 제1 및 제2 서브 영역에 대응한다.
도 1b에 도시된 장치(1)에 따라 광활성 시스템을 제조하기 위해, 좌우 측 광활성 시스템에 교대로 조명이 조사되고, 이미 조절 및/또는 조립된 좌측 광활성 시스템의 이미지와 제조될 우측 광활성 시스템의 이미지는 이미징 장치에서, 특히 물리적으로 합성되고, 전술한 것에 따라 조절 및/또는 조립될 광활성 시스템이 제1 및/또는 제2 고정 장치(3a, 3b)를 통해 조절된다. 바람직하게는, 이미지 모듈(21)로서 이미징 장치(2)의 이미징 배열 장치(20)는 수렴 렌즈를 포함한다.
일예로서, 싱글 이미징 배열 장치(20)를 갖는 이미징 장치(2)를 토대로 두고, 도 1c 내지 도 1e는 제1 광활성 시스템(도면의 좌측)과 제2 광활성 시스템(도면의 우측)을 교대로 조명하기 위한 다른 바람직한 실시예를 도시한다. 이 조명 개념은 또한 장치(1)에 적용될 수 있으며, 그러한 이미징 장치(1)는 예컨대 도 1b에 개략적으로 도시한 바와 같이 2개 이상의 이미징 배열 장치(20)를 구비한다.
도 1c는 회전 가능하게 고정된 차단 유닛(13a)을 포함하는 장치(1)를 바람직한 개략적 실시예로 도시하고 있다. 회전 가능하게 고정된 차단 유닛(1a)은 광원 유닛(22)(도 1c에 도시되어 있지 않음)에 의해 생성된 전자기 빔으로부터 좌측과 우측 광활성 시스템을 교대로 커버한다. 도 1d는 장치(1)의 개략적인 바람직한 실시 형태를 도시하고 있고, 상기 실시 형태에서 광원(13b)은 이미징 장치(1) 외부에 배열되어 있고, 전자기 빔(z)은 빔 관통 면(SE)과 제1 고정 면(Ha) 사이에서 동 축으로 연결되어 있기 때문에, 상기 광원 유닛은 좌측과 우측 광활성 시스템에 교대로 조명을 조사한다. 도 1d는 장치(1)의 개략적인 바람직한 실시 형태를 도시하고 있고, 상기 실시 형태에서 좌측과 우측 광활성 시스템이 도광 섬유(13c)를 통해 교대로 조명이 조사되며, 도광 섬유의 광은 바람직하게는 제조될 광활성 시스템(10)의 광학 장치(12)에 연결된다.
도 1f에 도시된 장치(1)는 제조될 두 개의 광활성 시스템(10)을 동시에 측정하기 위해 제공된다. 이를 위해, 이러한 바람직한 실시 형태에 따른 장치(1)에 제공된 이미징 장치(2)는 두 개의 이미징 배열 장치(20)를 구비한다. 이러한 바람직한 실시 형태에서, 상기 두 개의 이미징 배열 장치(20)는 일반적으로 서로 평행하게 배열된다. 특히, 일반적으로 두 개의 이미징 배열 장치(20)의 광 축(O)이 서로 평행한 방향을 향하도록 상기 이미징 장치(2)에 제공된 두 개의 이미징 배열 장치(20)가 배열된다. 도 1c에 도시된 장치는 두 개의 이미징 배열 장치(20)를 구비하며, 상기 이미징 배열 장치의 광 축(O)은 제1 및/또는 제2 고정 면에 대해 일반적으로 수직 방향을 향하도록 제공된다. 바람직하게는, 광 축(O)을 포함하는 두 개의 이미징 배열 장치는 제1 및/또는 제2 고정 면(Ha, Hb)에 대해 경사진 상태로 배열될 수도 있다. 상기 두 개의 이미징 배열 장치(20)의 이러한 경사진 방향에서 이미징 배열 장치의 광축(O)은 서로 평행한 방향을 향하도록 제공된다. 도 1f는 상기 이미징 장치(2)의 회전된 위치를 개략적으로 도시하고 있다(점선).
도 1f에 도시된 장치(1)로 인해 두 개의 광활성 시스템이 동시에 제조될 수 있다. 두 개를 초과하는 이미징 배열 장치(20) 및 두 개를 초과하는 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b)를 구비한 상기 장치(1)를 통해 두 개 초과의 광활성 시스템이 제조될 수도 있다.
두 개 또는 그 이상의 광활성 시스템을 제조하기 위해 제조될 광활성 시스템의 이미지가 탐지될 수 있다. 조절 및/또는 조립될 광활성 시스템을 제조하기 위해 제조될 광활성 시스템의 이미지가 이미 제조된 광활성 시스템의 이미지와 가상으로 합성된다. 조절 및/또는 조립될 광활성 시스템(10)의 방향, 특히 제1 및/또는 제2 고정 장치의 방향은 이미 제조된 광활성 시스템 쪽으로 동시에 슬라이딩 된다. 이것은 이미지를 저장할 필요가 없고, 제조 시간이 절약되는 장점이 있다.
도 2는 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치(1)의 또 다른 바람직한 실시 형태를 도시하고 있다. 이러한 바람직한 장치(1)의 실시 형태는 도 1에서 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태에 토대를 두고 있고, 여기서 이미징 모듈을 포함하는 상기 이미징 배열 장치(20)는 제1 및 제2 고정 면(Ha, Hb) 방향으로 무한대로 초점이 맞추어 진다. 도 2에 개략적으로 도시된 장치(1)는 도 1에 개략적으로 도시된 장치(1)와 달리 이미징 모듈(21)을 포함하는 이미징 배열 장치(20)를 구비하며, 이미징 모듈은 제1 및 제2 고정 면(Ha, Hb)의 방향으로 제2 초점 면(B2)에서 무한대로 초점을 맞춘다. 특히, 도 2에 개략적으로 도시된 장치(1)는 광활성 시스템을 제조하기 위해 적합하며, 상기 시스템은 광학 장치(12)를 구비하고, 작업 상태에서 제1 고정 장치에 배열된 상기 광학 장치는 빔 관통 면(SE) 방향으로 초점 면에 광활성 장치(11)로부터 반사된 전자기 빔의 초점을 맞춘다. 이러한 장치(1)에서 작업 상태에서 상기 고정 장치에 배열된 광학 장치(12)를 포함하는 제1 고정 장치(3a)는 광학 장치의 초점 면이 빔 관통 면(SE) 방향으로 제2 초점 면(B2)에 대응하도록 이미징 배열 장치 반대쪽에 배열된다. 또한, 도 2에 개략적으로 도시된 바람직한 실시 형태는 테스트 구조물(25)을 구비한다. 실시 형태는 특히 광활성 시스템(10)을 제조하기 위해 적합하며, 상기 광활성 시스템은 저-콘트래스트 또는 반사형 광활성 장치(11)를 포함한다. 일반적으로, 도시된 바람직한 실시 형태의 경우 전자기 빔은 바람직하게는 테스트 구조물 장치로 조사 및 작업하기 위해 적합하다(도시되어 있지 않음).
도 3에 개략적으로 도시된 장치의 또 다른 바람직한 실시 형태는 이미징 장치(2), 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b), 조절 장치(4), 평가 장치(5), 마운팅 장치(6) 및 조인트 장치(7)를 포함한다.
상기 광활성 시스템(10)을 제조하기 위해 도 3에 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태는 동일한 두 개의 이미징 배열 장치(20)를 포함하는 이미징 장치(2)를 포함한다. 제1 이미징 배열 장치(20)는 도 1에 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태의 제1 이미징 배열 장치(20)가 배열된다. 특히, 제1 및 제2 고정 면(Ha, Hb)을 포함하는 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b)는 도 1에 개략적으로 도시된 바람직한 실시 형태에 따라 배열된다. 이미징 장치(2)에 제공된 제2 이미징 배열 장치(20)는 제1 이미징 배열 장치(20), 특히 개별 고정 장치(3a, 3b)에 제공된 제1 및/또는 제2 고정 면(Ha, Hb)의 반대쪽에 각을 이루어 배열된다. 두 개의 이미징 배열 장치(20)는 이미징 모듈(21), 광원 유닛(22), 빔 스플리터(23) 및 이미지 탐지 유닛(24)을 포함한다. 상기 이미지 탐지 유닛(24)은 카메라(24a), 전력 전자 장치(24b) 및 이미지 센서(24c)를 포함한다.
이러한 바람직한 실시 형태에서, 상기 광원 유닛(22)은 가시광인 전자기 빔의 점 광원이다. 상기 광원 유닛(22)은 바람직한 실시 형태에서 비가시광을 방출할 수 있다. 광원 유닛(22)에 의해 생성된 전자기 빔은 작업 상태에서 빔 스플리터(23)에 조사된다. 스플리터(23)와 광원 유닛(22) 사이에 전자기 빔을 산란시키기 위한 디퓨저(26)가 배열되어 있다. 빔 스플리터(23)는 이미징 모듈(21)과 이미지 탐지 유닛(24) 사이에 배열된다. 상기 빔 스플리터(23)는 전자기 빔의 일부를 이미징 모듈(21) 방향으로 방향 전환한다. 광원 유닛(22)에 의해 생성되었고, 빔 스플리터(23)에 의해 방향 전환된 전자기 빔은 빔 관통 면(SE)에 배열된 이미징 모듈(21)을 통해 이미징 배열 장치(20)로부터 배출된다. 이미징 모듈(21)은 본 발명에 따른 장치(1)의 바람직한 실시 형태에서 이미징 배열 장치(20)로부터 배출된 전자기 빔의 초점을 무한대로 맞춘다. 전술한 도 1에 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태의 경우처럼, 제조될 광활성 시스템의 광학 장치(12)는 무한대로 초점이 맞춰진 전자기 빔의 초점을 광활성 장치에 맞춘다.
또한, 이미징 배열 장치(20)에 제공된 이미징 모듈(21)은 작업 상태에서 광활성 장치(12)로부터 반사된 전자기 빔의 초점을 제1 초점 면(B1)에 맞추도록 형성된다. 도 2에 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태에 따라, 이미지 탐지 유닛(24)의 이미지 센서(24c)가 이미징 모듈(21)의 제1 초점 면(B1)에 놓이도록 상기 이미지 탐지 유닛(24)의 이미지 센서(24c)는 이미징 모듈(21) 반대쪽에 배열되게 상기 이미징 배열 장치(20)에 제공된 이미지 탐지 유닛(24)이 배열된다. 이미지 탐지 유닛(24)의 이미지 센서(24c)는 광활성 장치(11)로부터 반사된 전자기 빔의 측정 이미지를 탐지한다. 빔 스플리터(23)와 이미지 탐지 유닛 사이에 정해진 파장 길이를 갖는 전자기 빔을 필터링 하기 위한 필터 유닛(27)이 제공된다. 특히 바람직하게는, 상기 필터 유닛(27)은 짧은 파장의 빔, 특히 좁은 파장 길이 범위의 전자기 빔을 이미지 탐지 유닛 방향으로 관통시킨다. 바람직하게는, 이것은 이미징 해상도 또는 개별 측정 이미지의 콘트래스트를 증가시킨다. 전력 전자 모듈(24b)은 특히 탐지된 측정 이미지의 이미징 품질을 결정하고, 결정된 이미징 품질에 따라 조절 장치(4)를 제어하기 위한 하나 또는 복수의 제어 신호를 제공하기 위해 형성된다. 바람직하게는, 상기 전력 전자 모듈(24b)은 신호 기술적으로 제어 장치와 연결된다(도시되어 있지 않음). 특히, 상기 전력 전자 모듈(24b)은 이미지 탐지 유닛(24)의 자동 초점 기능을 포함하는 제어 신호를 탐지하고 조절 장치(4)에 제공할 수 있다.
도 3에 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태에 따라, 상기 평가 장치(5)는 특히 내장된 전자 회로(5a) 및 제어 유닛(5b)을 구비한다. 상기 전력 전자 모듈(24b)은 탐지된 측정 이미지의 이미징 품질을 결정하고 결정된 이미징 품질에 따라 조절 장치(4)를 제어하기 위한 하나 또는 복수의 제어 신호를 제공하기 위해 형성된다. 상기 제어 유닛은 하나 또는 복수의 제어 신호를 신호 기술적으로 연결된 조절 장치(4)에 전송하도록 형성된다. 조절 장치(4)는 구동 장치(4a)를 구비하며, 상기 구동 장치는 바람직하게는 하나 또는 복수의 피에조 전기 또는 전자기 액추에이터를 포함할 수 있다. 도 다른 액추에이터는 이러한 바람직한 실시 형태에서 보완적 또는 선택적으로 가능할 수 있다. 상기 구동 장치(4a)는 하나 또는 복수의 제어 신호에 따라 제1 고정 장치(3a)를 구동시킨다. 제어 신호에 따라, 제1 고정 장치(3a)의 지점 및/또는 위치가 제2 고정 장치(3b)에 대해 변하며, 이것은 제조될 광활성 시스템(10)의 광학 장치(12)에 대해 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)의 측정 이미지가 조절될 때까지 실시되며, 이것은 원하는 이미징 품질을 결정하기 위한 것이다.
상기 제2 고정 장치(3b)에 대해 상기 제1 고정 장치(3a)를 조절하기 위해, 도 3에 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태는 마운팅 장치를 구비하며, 작업 상태에서 상기 제1 고정 장치(3a)가 서로 직각인 세 개의 축을 따라 광학 장치를 병진 이동 및 세 개의 축을 중심으로 회전 이동할 수 있도록 제1 고정 장치(3a)를 마운팅시키기 위해 상기 마운팅 장치가 제공된다. 조절을 위해, 바람직하게는 상기 제1 고정 장치(3a)는 병진 이동으로 조절될 수 있고, 제2 고정 장치는 회전 이동으로 조절될 수 있거나, 또는 역으로도 가능하다. 또한, 바람직하게는 두 개의 고정 장치(3a, 3b)가 6개까지의 자유도를 구비할 수 있다.
조인트 장치는 조절된 광활성 시스템(10)을 조립하기 위해 형성된다. 상기 조인트 장치는 특히 작업 상태에서 조절된 광활성 시스템(10)의 광학 장치(12)를 조절된 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)와 조인하는 방식으로 서로 연결하도록 형성된다.
도 4의 측면도 및 도 5의 상면도에서 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태는 동일한 네 개의 이미징 배열 장치(20)를 포함하는 이미징 장치(2)를 포함한다. 상기 제1 이미징 배열 장치(20)는 도 1에서 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태에 따른 이미징 배열 장치(20)에 따라 배열된다. 특히, 상기 제1 및 제2 고정 면(Ha, Hb)을 포함하는 상기 제1 및 제2 고정 장치(3a, 3b)는 도 1에서 개략적으로 도시된 장치(1)의 바람직한 실시 형태에 따라 배열된다. 세 개의 이미징 배열 장치(20)는 원형 트랙(도 5에서 파선)과 관련하여 제1 이미징 배열 장치(20)에 대해 각을 이루는 형태로 배열된다.
도 6은 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)를 상면도로 개략적으로 도시하고 있다. 도 6에 도시된 광활성 장치는 도 4 및 도 5에 따른 장치(1)를 통해 제조된다. 광활성 장치(11)의 상면도에 제3 초점 면(B3)이 개략적으로 도시되어 있고, 상기 제3 초점 면은 도 4 및 도 5에서 개략적으로 도시된 장치의 이미징 배열 장치(20)에 따라 배열될 수 있다. 상기 제3 초점 면(B3)은 네 개의 이미징 배열 장치(20)의 탐지 범위를 나타내며, 상기 탐지 범위는 개별 측정 이미지 생성 및 측정 이미지의 평가를 위한 것이다. 탐지 범위에 배열된 교차 표시는 조절 표시이며, 이러한 조절 표시는 광활성 장치와 함께 물리적으로 삽입된 것이다.
도 4 내지 도 6에 따라 개략적으로 도시된 장치(1)는 광학 장치(12)에 대해 광활성 장치(11)의 조절을 위한 것이다. 이를 위해, 우선 대략적인 조절은 도 6에 도시된 초점 면(B3)의 광활성 장치(11) 중심에 대해 직각으로 실시된다. 대략적인 초점의 경우, 광학 장치(12)와 광활성 장치(11) 사이의 간격이 대략 조절된다. 세 개의 조절 표시를 토대로 광학 장치(12)에 대해 광활성 장치(11)가 두 개의 축을 따라 서로 병진 이동한다. 이어서, 광활성 장치(11)는 직각 방향으로 초점 면(B3)에 놓인 세 개의 축을 중심으로 회전 이동한다. 이를 위해, 이미징 해상도는 광활성 장치(11)의 에지 영역에서 탐지되고, 광활성 장치가 조절, 즉 전술한 두 개의 축을 중심으로 회전하며, 이것은 이미징 해상도가 에지 영역에서 적어도 유사, 바람직하게는 동일할 때까지 실시된다. 특히, 조절 시 개별 에지 영역의 모듈 전송 기능(modulation transfer function)이 대칭을 이룬다. 바람직하게는, 전술한 두 단계가 역 순으로 실시될 수도 있다. 이어서, 정확한 조절이 바람직할 수 있다. 정확한 조절시 모듈 전송 기능은 본 발명의 실시 예에서 네 개의 탐지 범위에서 결정되고, 선호도에 따라 결정된 모듈 전송 기능 값이 정교하게 조절된다. 바람직하게는, 정확한 조절 시 중심 탐지 범위의 이미징 배열 장치(20)의 이미징 해상도가 최대가 되도록 광활성 장치(11)는 광학 장치(12)에 대해 조절되는 것이다. 바람직하게는, 광활성 장치(11)의 에지 영역 중 하나의 에지 영역을 탐지한 하나 또는 복수의 이미징 배열 장치(20)의 이미지 해상도가 최대가 되도록 상기 광활성 장치(11)가 광학 장치(12)에 대해 정교하게 조절되는 것이다.
도 7은 광활성 시스템(10)을 제조하기 위한 방법(100)의 제1 바람직한 실시 형태를 개략적인 흐름도로 도시하고 있다. 이러한 바람직한 방법(100)의 실시 형태는 특히 비활성화된 광활성 시스템(10)을 제조하기 위해 적합하다. 바람직한 실시 형태는 광활성 시스템(10)을 제조하기 위해 장치(1), 예를 들어 도 1-6에서 개략적으로 도시되었고, 전술한 바람직한 실시 형태에 따른 장치(1) 중 하나의 장치를 제공하는 단계(101)를 포함한다. 상기 방법(100)의 바람직한 실시 형태는 또 다른 단계로서 제2 고정 장치(3b)에 광활성 장치(12)의 제공 및 배열하는 단계(102)를 포함한다. 또 다른 단계로서 방법(100)의 바람직한 실시 형태는 제1 고정 장치(3a)에 광학 장치(12)를 제공 및 배열하는 단계(103)를 포함한다. 이러한 바람직한 실시 형태는 상기 장치(1)에 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11) 및 광학 장치(12)를 공급한다. 이를 위해, 광활성 장치(11)와 광학 장치(12)가 각각의 고정 장치(3a, 3b)에 공급될 수 있다. 도 7에 개략적으로 도시된 흐름도는 장치(1)의 로지스틱스 상태를 설명한 것이다.
도 8에 개략적으로 도시된 흐름도는 상기 방법(100)의 또 다른 바람직한 실시 형태를 도시하고 있다. 이러한 방법(100)의 바람직한 실시 형태는 도 7에 도시된 방법(100)의 바람직한 실시 형태에 토대를 둔다. 단계를 보완하여 설명하면 다음과 같다: 광활성 시스템(10)을 제조하기 위해 장치(1)를 제공하는 단계(101); 제2 고정 장치(3b)에 광활성 장치(12)를 제공 및 배열하는 단계(102); 제1 고정 장치(3a)에 광학 장치(12)를 제공 및 배열하는 단계(103); 도면에 개략적으로 도시된 바람직한 실시 형태의 방법은 광활성 장치에 대해 광학 장치를 조절하는 단계(110); 및/또는 광활성 장치에 대해 조절된 광학 장치를 조립하는 단계(120); 및/또는 광활성 장치에 대해 조립된 광학 장치를 테스트하는 단계(130)를 포함한다.
조절(110)은 하나 또는 복수의 하위 방법 단계를 포함할 수 있다. 조절(110)의 제1 바람직한 방법 단계는 제조될 광활성 시스템(10) 및 테스트 구조물과 관련하여 광활성 장치(11)의 측정 이미지를 이미징하기 위해 전자기 빔을 제공하는 단계(111)를 포함한다. 조절(110)의 또 다른 선택적인 하위 방법 단계는 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)의 측정 이미지를 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 빔 관통 면(SE)에서 이미징하는 단계(112)를 포함한다. 또한, 조절(110)은 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 빔 관통 면(SE)에서 측정 이미지를 탐지하는 단계(113)를 포함할 수 있다. 특히, 조절(110) 방법은 탐지된 측정 이미지를 평가하는 단계(114)를 포함한다. 마지막으로, 제1 고정 장치에 배열된 광학 장치(12)를 포함하는 제1 고정 장치(3a) 및/또는 제2 고정 장치에 배열된 광활성 장치(11)를 포함하는 제2 고정 장치(3b)의 조절(115)은 탐지된 측정 이미지의 평가에 따라 조절(110)의 제5 바람직한 하위 방법 단계이다. 바람직하게는, 조절(110) 단계는 반복적으로 실시된다.
조립 단계(120)는 특히 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)와 광학 장치(12)를 연결하는 단계를 포함한다. 특히, 조립(120) 또는 조절 단계에서 오프셋을 통한 조립과 관련하여 연결부의 수축 또는 이와 유사한 것을 고려해 볼 필요가 있으며, 오프셋은 수축을 상쇄한다. 연결부 수축은 예를 들어 납땜 또는 용접 또는 접착 시 열 유입으로 인해 발생한다. 수축은 예를 들어 접착할 때 접착을 위해 사용된 접착제가 액체 상태에서 고체 상태로 상 전환시 발생한다.
테스트 단계(130)는 하나 또는 복수의 선택적인 하위 방법 단계를 포함한다. 테스트 단계(130)는 특히 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)의 측정 이미지를 이미징하기 위해 전자기 빔을 제공하는 단계(111)를 포함한다. 또한, 테스트(130)는 조절된 및/또는 조립된 광활성 시스템(10) 및 테스트 구조물과 관련하여 광활성 장치(11)의 측정 이미지를 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 광 관통 면(SE)에서 이미징(112)하는 것을 포함한다. 또한, 테스트(130)는 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 측정 이미지를 탐지(113)하는 것을 포함할 수 있다. 특히, 바람직하게는 테스트는 하위 방법 단계로서 탐지된 측정 이미지를 평가(114) 하는 것을 포함할 수 있다.
탐지된 측정 이미지의 평가 단계(114)는 특히 다음과 같은 단계를 포함한다: 탐지된 측정 이미지의 주파수 응답을 결정하는 단계; 및/또는 탐지된 측정 이미지를 이미 전술한 방법에 따른 방법으로 조절된 및/또는 조립된 광활성 시스템의 탐지된 측정 이미지와 비교하는 단계를 포함하며; 특히 측정 이미지는 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 각각 탐지된다; 특히 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 동시에 탐지된 측정 이미지 비교는 물리적 합성에 토대를 두며; 및/또는 특히 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 동시에 또는 순차적으로 탐지된 측정 이미지의 비교는 가상의 합성에 토대를 두며; 및/또는 탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답을 원하는 목표 상태와 비교하는 단계를 포함한다.
탐지된 측정 이미지의 평가 단계(114)는 특히 제1 및/또는 제2 고정 장치를 조절하기 위한 조절 신호의 생성을 포함한다. 특히 전술한 방법에 따라 조절된 및/또는 조립된 광활성 시스템 및/또는 결정된 주파수 응답 및/또는 결정된 오프셋의 탐지된 측정 이미지와 탐지된 측정 이미지의 비교; 및/또는 탐지된 측정 이미지가 원하는 목표 상태에 대응하지 않을 경우 원하는 목표 상태와 탐지된 측정 이미지를 비교; 및/또는 탐지된 측정 이미지의 주파수 응답이 원하는 목표 상태에 대응하지 않을 경우 원하는 목표 상태와 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답을 비교함으로써 조절 신호 생성이 실시된다.
또한, 바람직하게는 상기 방법은 또한 이미징 장치(2)의 방법 단계를 포함할 수도 있으며(도시되어 있지 않음), 이것은 제조될 복수의 광활성 시스템(10)을 순차적 및/또는 동시에 제조하기 위한 것이다.
1: 광활성 시스템 제조 장치
2: 이미징 장치
3a/3b: 제1 및 제2 고정 장치 4: 조절 장치
4a: 구동 장치 5: 평가 장치
5a: 내장된 전자 회로 5b: 제어 유닛
6: 마운팅 장치 7: 조인트 장치
10: 광활성 시스템 11: 광활성 장치
12: 광학 장치 13a: 차단 유닛
13b: 광원 13c: 도광 섬유
20: 적어도 하나의 이미징 배열 장치 21: 이미징 모듈
22: 광원 유닛 23: 빔 스플리터
24: 이미지 탐지 유닛 24a: 카메라
24b: 전력 전자 모듈 24c: 이미지 센서
25: 테스트 구조물 장치 26: 디퓨저
27: 필터 유닛 100: 광활성 시스템 제조 방법
101: 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치 제공
102: 제2 고정 장치에 광활성 장치를 제공 및 배열
103: 제1 고정 장치에 광학 장치를 제공 및 배열
110: 광활성 장치에 대해 광학 장치 조절
111: 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지의 이미징하기 위한 빔 제공
112: 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지를 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면에서 이미징
113: 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면에서 측정 이미지 탐지
114: 탐지된 측정 이미지 평가, 및/또는
115: 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 장치를 탐지된 측정 이미지의 평가에 따라 조절
120: 광활성 장치에 대해 조절된 광학 장치의 조립
121: 광활성 장치와 광학 장치의 연결, 특히 조인트 연결
130: 광활성 장치에 대해 조립된 광학 장치의 테스트
A1/A2: 제1 및 제2 간격 SE: 빔 관통 면
Ha/Hb: 제1 및 제2 고정 면 O: 광 축
3a/3b: 제1 및 제2 고정 장치 4: 조절 장치
4a: 구동 장치 5: 평가 장치
5a: 내장된 전자 회로 5b: 제어 유닛
6: 마운팅 장치 7: 조인트 장치
10: 광활성 시스템 11: 광활성 장치
12: 광학 장치 13a: 차단 유닛
13b: 광원 13c: 도광 섬유
20: 적어도 하나의 이미징 배열 장치 21: 이미징 모듈
22: 광원 유닛 23: 빔 스플리터
24: 이미지 탐지 유닛 24a: 카메라
24b: 전력 전자 모듈 24c: 이미지 센서
25: 테스트 구조물 장치 26: 디퓨저
27: 필터 유닛 100: 광활성 시스템 제조 방법
101: 광활성 시스템을 제조하기 위한 장치 제공
102: 제2 고정 장치에 광활성 장치를 제공 및 배열
103: 제1 고정 장치에 광학 장치를 제공 및 배열
110: 광활성 장치에 대해 광학 장치 조절
111: 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지의 이미징하기 위한 빔 제공
112: 제조될 광활성 시스템의 측정 이미지를 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면에서 이미징
113: 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면에서 측정 이미지 탐지
114: 탐지된 측정 이미지 평가, 및/또는
115: 제1 고정 장치 및/또는 제2 고정 장치를 탐지된 측정 이미지의 평가에 따라 조절
120: 광활성 장치에 대해 조절된 광학 장치의 조립
121: 광활성 장치와 광학 장치의 연결, 특히 조인트 연결
130: 광활성 장치에 대해 조립된 광학 장치의 테스트
A1/A2: 제1 및 제2 간격 SE: 빔 관통 면
Ha/Hb: 제1 및 제2 고정 면 O: 광 축
Claims (17)
- 광활성 시스템(10), 특히 비활성화된 광활성 시스템(10), 투사 및/또는 이미징하는 전자 광학 시스템을 위한 전자 광학 및/또는 광학 전자 시스템을 제조하기 위한 장치(1)에 있어서,
- 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)를 갖는 이미징 장치(2)로서, 상기 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)는 빔 관통 면(SE) 및 광 축(O)을 구비하고, 상기 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)는
ㆍ빔 경로를 따라 관통하고 빔 관통 면(SE)에서 이미징 배열 장치(20)를 관통하는 전자기 빔을 생성하기 위해,
ㆍ광활성 장치(11)에 반사된 전자기 빔의 측정 이미지를 이미징 배열 장치(20)의 제1 초점 면(B1)에서 이미징하기 위해, 및
ㆍ제1 초점 면(B1)에서 이미징된 측정 이미지를 탐지하기 위해 형성되어 있는, 상기 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)를 포함하는 이미징 장치(2);
- 제조될 광활성 시스템(10)의 광학 장치(12)를 제1 고정 면(Ha)에 고정하기 위한 제1 고정 면(Ha)을 포함하는 제1 고정 장치(3a); 및
- 광활성 장치(11)를 제2 고정 면(Hb)에 고정하기 위한 제2 고정 면(3b)을 포함하는 제2 고정 장치(3b)로 구성되며,
- 상기 제1 고정 면(Ha)을 포함하는 제1 고정 장치(3a) 및/또는 상기 제2 고정 면(Ha)을 포함하는 제2 고정 장치(3a)가 상기 이미징 장치(2)에 대해 이동 가능하게 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 고정 장치(3a)는 상기 제2 고정 장치(3b)와 상기 이미징 장치(2) 사이에 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 및/또는 제2 고정 장치는 두 개 또는 그 이상의 광학 장치 및/또는 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치를 삽입하기 위해 형성되어 있으며,
- 바람직하게는 상기 제1 고정 장치(3a)는 두 개 또는 그 이상의 광학 장치(12)를 서로 독립적으로 회전 이동 및/또는 병진 이동하도록 형성되며; 및/또는
- 바람직하게는 상기 제2 고정 장치(3b)는 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치(11)를 서로 독립적으로 회전 이동 및/또는 병진 이동하도록 형성되는, 장치. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
- 차례로 제조될 복수의 광활성 시스템을 순차적 및/또는 동시에 제조하기 위해 상기 이미징 장치(2)는 이동 가능하게 형성되며; 및/또는
- 상기 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제1 부분은 제조될 제1 광활성 시스템 쪽을 향하게 제공되고, 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 제2 부분은 제조될 제2 광활성 시스템 쪽을 향하도록 제공되며; 및/또는
- 상기 이미징 장치(2)는 두 개의 이미징 배열 장치(20)를 구비하며, 상기 두 개의 이미징 배열 장치(20)는, 이러한 이미징 배열 장치의 광 축(O)이 서로 평행하게 뻗어 있고, 상기 두 개의 이미징 배열 장치(20) 중 하나의 이미징 배열 장치가 제조될 광활성 시스템 쪽을 향하도록 제공되고, 상기 두 개의 이미징 배열 장치(20) 중 또 다른 이미징 배열 장치가 제조될 또 다른 광활성 시스템 쪽을 향하도록 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 고정 장치(3a)의 제1 고정 면(Ha)은 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20) 중 적어도 하나의 이미징 배열 장치의 빔 관통 면(SE)에 대해 일반적으로 평행하게 배열 및/또는 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20) 중 적어도 하나의 또 다른 이미징 배열 장치의 빔 관통 면(SE)에 대해 평행하지 않고 간격을 유지한 상태로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 이미징 장치(2)가
- 빔 관통 면(SE)이 배열되어 있고, 광 축(O)을 구비하는 이미징 모듈(21)로서, 상기 이미징 모듈(21)은
ㆍ광 축을 따라 제2 고정 면(Hb) 방향으로 무한하게 이미징하거나, 또는 제2 초점 면(B2)에서 제2 초점 거리로 유한하게 이미징하고
ㆍ반대 방향으로 무한하게 이미징하거나, 또는 제1 초점 면에서 제1 초점 거리로 유한하게 이미징하도록 형성되어 있는, 상기 이미징 모듈(21); 및/또는
- 측정 이미지를 생성 및 탐지하기 위해 전자기 빔을 제공하는 광원 유닛(22); 및/또는
- 상기 광원 유닛(22)의 전자기 빔의 적어도 일부를 제조될 광활성 시스템(10) 방향으로 방향 전환하는 빔 스플리터 유닛(23); 및/또는
- 제조될 광활성 시스템(10)의 측정 이미지를 탐지하기 위해 형성되어 있는 이미지 탐지 유닛(24)으로서, 상기 이미지 탐지 유닛(24)은 제조될 광활성 시스템(10)의 측정 이미지를 탐지하기 위해 상기 이미징 모듈(21)의 제1 초점 면에 배열되어 있는, 상기 이미지 탐지 유닛(24); 및/또는
- 상기 광원 유닛(22)의 전자기 빔을 산란시키기 위한 디퓨저(26); 및/또는
- 필터링될 파장 길이를 갖는 전자기 빔을 필터링 하기 위한 필터 유닛(27); 및/또는
- 제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)에서 테스트 구조물을 생성하기 위한 테스트 구조물 장치(25)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이미징 장치(2)가 콜리메이터, 바람직하게는 초점을 맞출 수 있는 콜리메이터 및 특히 오토-콜리메이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
이미지 탐지 유닛(24)은,
- 제조될 전자 광학 시스템(10)에 의해 생성된 적어도 하나의 이미징 장치의 측정 이미지를 탐지하기 위한 카메라(24a); 및/또는
- 특히 상기 이미지 탐지 유닛(24)에 의해 탐지된 개별 측정 이미지를 처리 및 전송하기 위한 전력 전자 모듈(24b); 및/또는
- 제조될 전자 광학 시스템(10)에 의해 생성된 개별 측정 이미지를 탐지하기 위한 이미지 센서(24c)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 고정 장치(3a)의 제1 고정 면(Ha) 및/또는 상기 제2 고정 장치(3b)의 제2 고정 면(Hb)의 위치 및/또는 지점을 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)의 빔 관통 면(SE)에 대해 조절하기 위한 조절 장치(4)를 포함하며; 상기 조절 장치(4)는 바람직하게는 구동 장치(4a)를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
작업 상태에서 상기 제1 고정 장치(3a) 및/또는 상기 제2 고정 장치(3b)를 상기 이미징 장치(2)에 대해 병진 및/또는 회전하도록 하는 마운팅 장치(6); 및/또는 작업 상태에서 상기 제1 고정 장치(3a) 및/또는 상기 제2 고정 장치(3b)를 병진 및/또는 회전 구동하게 하는 구동 장치(4a)를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광활성 장치(11)와 광학 장치(12)를 서로 연결하기 위해, 특히 서로 조인하는 방식으로 연결하기 위해 형성된 조인트 장치(7)를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치. - 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 하나의 이미징 배열 장치의 탐지된 측정 이미지를 평가하기 위한 평가 장치(5)를 구비하며, 상기 평가 장치(5)는
- 바람직하게는 이미징 장치(2), 특히 이미지 탐지 유닛(24), 및/또는 조절 장치(24) 및/또는 조인트 장치와 신호 기술적으로 연결되며; 및/또는
- 특히 각각의 이미지 탐지 유닛(24)에 의해 탐지된 측정 이미지를 처리 및 전송하기 위한 전력 전자 모듈(24b)을 구비하며; 및/또는
- 탐지된 개별 측정 이미지의 평가 결과에 따라 조절 장치(4)를 조절 및/또는 조인트 장치를 조절하기 위한 제어 유닛(5b)을 구비하며;
- 상기 제어 유닛은 특히 작업 상태에서 장치를 자동으로 초점을 맞추기 위해 자동 초점 기능 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치. - 광활성 시스템(10), 특히 비활성화된 광활성 시스템(10), 특히 투사 및/또는 이미징된 전자 광학 시스템을 위한 전자 광학 및/또는 광학 전자 시스템을 제조하기 위한 방법(100)에 있어서, 상기 방법은 다음의 단계:
- 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 따른 장치(1)를 제공하는 단계(101); 및/또는
- 제2 고정 장치(3b)에 광활성 장치(11)를 제공 및 배열하는 단계(102), 특히 제2 고정 장치(3b)에 두 개 또는 그 이상의 광활성 장치(11)를 제공 및 배열하는 단계(102); 및/또는
- 제1 고정 장치(3a)에 광학 장치(12)를 제공 및 배열하는 단계(103), 특히 제1 고정 장치(3b)에 두 개 또는 그 이상의 광학 장치(112)를 제공 및 배열하는 단계(103)를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법(100). - 청구항 13에 있어서,
- 광활성 장치(11)에 대해 광학 장치(12)를 조절하는 단계(110)로서, 상기 조절 단계(110)는 특히 다음의 단계:
ㆍ각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 측정 이미지를 이미징하기 위해 전자기 빔을 제공하는 단계(111), 및/또는
ㆍ각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 측정 이미지를 이미징하는 단계(112), 및/또는
ㆍ각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 측정 이미지를 탐지하는 단계(113), 및/또는
ㆍ각각의 탐지된 측정 이미지를 평가하는 단계(114), 및/또는
ㆍ제1 고정 장치에 배열된 광학 장치(12)를 포함하는 제1 고정 장치(3a) 및/또는 제2 고정 장치에 배열된 광활성 장치(11)를 포함하는 제2 고정 장치(3b)를 각각의 탐지된 측정 이미지의 평가에 따라 조절하는 단계(115)를 포함하는, 상기 조절 단계(110); 및/또는
- 광활성 장치(11)에 대해 조절된 광학 장치(12)를 조립하는 단계(120)로서, 상기 조립 단계(120)는 특히 다음의 단계:
ㆍ광학 장치(12)를 광활성 장치(11)와 특히 조인하는 방식으로 연결하는 단계(121)를 포함하는, 상기 조립 단계(120); 및/또는
- 광활성 장치(11)에 대해 조립된 광학 장치(12)를 테스트하는 단계(130)로서, 상기 테스트 단계(130)는 특히 다음의 단계:
ㆍ측정 이미지를 이미징하기 위해 전자기 빔을 각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치에 제공하는 단계(111), 및/또는
ㆍ조절 및/또는 조립된 광활성 시스템(10)의 측정 이미지를 각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 이미징하는 단계(112), 및/또는
ㆍ각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치에서 측정 이미지를 탐지하는 단계(113), 및/또는
ㆍ각각의 탐지된 측정 이미지를 평가하는 단계(114)를 포함하는, 상기 테스트 단계(130), 및/또는
- 제조될 복수의 광활성 시스템을 순차적 및/또는 동시에 제조하기 위한 이미징 장치(2)의 프로세스를 포함하는 방법(100). - 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
- 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 측정 이미지를 탐지하는 단계(113)는 다음의 단계:
ㆍ이미징 장치(2) 및/또는 광활성 장치(11)에 대해 광학 장치(12)를 무한대로 배열하는 단계(113a); 및/또는
ㆍ 이미징 장치(2) 및/또는 광활성 장치(11)에 대해 광학 장치(12)를 목표 지점 및/또는 목표 위치에 배열하는 단계(113b)를 포함하고; 및/또는
- 각각의 탐지된 측정 이미지를 평가하는 단계(114)는 다음의 단계:
ㆍ탐지된 측정 이미지의 주파수 응답을 결정하는 단계; 및/또는
ㆍ청구항 14의 방법에 따라 이미 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템의 탐지된 측정 이미지와 상기 탐지된 측정 이미지를 비교하는 단계; 여기서,
ㆍ특히, 측정 이미지는 각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 동시에 또는 순차적으로 탐지되며;
ㆍ특히, 각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 동시에 탐지된 측정 이미지의 비교는 물리적 합성에 토대를 두며; 및/또는
ㆍ특히, 각각의 적어도 하나의 이미징 배열 장치(20)에서 동시에 또는 순차적으로 탐지된 측정 이미지의 비교는 가상의 합성에 토대를 둠; 및/또는
ㆍ탐지된 측정 이미지 및/또는 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답을 원하는 목표 상태와 비교하는 단계; 및/또는
ㆍ제1 및/또는 제2 고정 장치를 조절하기 위해 조절 신호를,
ㆍ청구항 14의 방법에 따라 이미 조절 및/또는 조립된 광활성 시스템 및/또는 결정된 주파수 응답 및/또는 결정된 오프셋의 탐지된 측정 이미지와 상기 탐지된 측정 이미지를 비교; 및/또는
ㆍ탐지된 측정 이미지가 원하는 목표 상태에 대응하지 않을 경우 원하는 목표 상태와 탐지된 측정 이미지를 비교; 및/또는
ㆍ탐지된 측정 이미지의 주파수 응답이 원하는 목표 상태에 대응하지 않을 경우 원하는 목표 상태와 탐지된 측정 이미지의 결정된 주파수 응답을 비교함에 따라 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법(100). - 청구항 13 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 있어서,
제조될 광활성 시스템(10)의 광활성 장치(11)는 조절(110) 및/또는 조립(120) 및/또는 테스트(130) 하는 동안 비활성화되는 것을 특징으로 하는 방법(100). - 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
광활성 시스템(10)을 제조, 특히 비활성화된 광활성 시스템(10), 특히 투사 및/또는 이미징된 전자 광학 시스템을 위한 전자 광학 및/또는 광학 전자 시스템을 제조하기 위한 장치(1)의 용도.
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