KR20210116675A - Finer grain dynamic random access memory - Google Patents
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Abstract
미세 입도의 동적 랜덤 액세스 메모리(DRAM)와 같은 DRAM과 관련된 시스템, 장치 및 방법이 설명된다. 예를 들어, 메모리 디바이스 내의 메모리 셀 어레이는 구역들로 분할될 수 있다. 각 구역은 복수의 메모리 셀 뱅크를 포함할 수 있다. 각각의 구역은 호스트 디바이스와 통신하도록 구성된 데이터 채널과 연관될 수 있다. 일부 예에서, 상기 어레이의 각 채널은 2개 이상의 데이터 핀을 포함할 수 있다. 채널마다 데이터 핀의 비율은 다양한 예에서 2 또는 4일 수 있다. 다른 예는 채널마다 8개의 데이터 핀을 포함할 수 있다.Systems, apparatus, and methods related to DRAM, such as fine-grained dynamic random access memory (DRAM), are described. For example, an array of memory cells in a memory device may be divided into regions. Each zone may include a plurality of memory cell banks. Each zone may be associated with a data channel configured to communicate with a host device. In some examples, each channel of the array may include two or more data pins. The ratio of data pins per channel may be 2 or 4 in various examples. Another example could include 8 data pins per channel.
Description
상호 참조cross reference
본 특허 출원은, 미국 가특허 출원 제62/521,044호(출원일: 2017년 6월 16일, 발명의 명칭: "Finer Grain Dynamic Random Access Memory", 발명자: Keeth)의 이익 및 우선권을 주장하는 미국 특허 출원 번호 15/976,580호(출원일: 2018년 5월 10일, 발명의 명칭: "Finer Grain Dynamic Random Access Memory", 발명자: Keeth)의 우선권을 주장하는 PCT 출원 번호 PCT/US2018/033317(출원일: 2018년 5월 18일, 발명의 명칭: "Finer Grain Dynamic Random Access Memory", 발명자: Keeth)의 우선권을 주장하고, 이들 기초출원 각각은 본 발명의 양수인에게 양도되고, 이들 기초출원 각각은 전체 내용이 본 명세서에 원용된다.This patent application is a U.S. Patent claiming the benefit and priority of U.S. Provisional Patent Application No. 62/521,044 (filed date: June 16, 2017, titled "Finer Grain Dynamic Random Access Memory", inventor: Keeth) PCT Application No. PCT/US2018/033317 (Application Date: 2018 May 18, , titled "Finer Grain Dynamic Random Access Memory", inventor: Keeth, claims priority, each of these basic applications is assigned to the assignee of the present invention, each of these basic applications is It is incorporated herein by reference.
기술 분야technical field
다음은 일반적으로 메모리 어레이를 동작시키는 것에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세 입도(finer grain)의 동적 랜덤 액세스 메모리(DRAM)에 관한 것이다.The following relates generally to operating memory arrays, and more particularly to fine grain dynamic random access memory (DRAM).
메모리 디바이스는 컴퓨터, 무선 통신 디바이스, 카메라, 디지털 디스플레이 등과 같은 다양한 전자 디바이스에 정보를 저장하기 위해 널리 사용된다. 정보는 메모리 디바이스의 여러 상태를 프로그래밍하는 것에 의해 저장된다. 예를 들어, 이진 디바이스는 종종 논리 "1" 또는 논리 "0"으로 표시되는 2개의 상태를 갖는다. 다른 시스템에서, 2개 초과의 상태가 저장될 수 있다. 저장된 정보에 액세스하기 위해, 전자 디바이스의 구성 요소는 메모리 디바이스에 저장된 상태를 판독하거나 감지할 수 있다. 정보를 저장하기 위해, 전자 디바이스의 구성 요소는 메모리 디바이스에 상태를 기록하거나 또는 프로그래밍할 수 있다.BACKGROUND Memory devices are widely used to store information in various electronic devices such as computers, wireless communication devices, cameras, digital displays, and the like. Information is stored by programming the various states of the memory device. For example, a binary device has two states, often denoted as a logic "1" or a logic "0". In other systems, more than two states may be stored. To access the stored information, a component of the electronic device may read or sense the state stored in the memory device. To store information, components of the electronic device may program or write state to the memory device.
자기 하드 디스크, 랜덤 액세스 메모리(RAM), 판독 전용 메모리(ROM), DRAM, 동기식 동적 RAM(SDRAM), 강유전성 RAM(FeRAM), 자기 RAM(MRAM), 저항 RAM(RRAM), 플래시 메모리, 위상 변화 메모리(PCM) 등을 포함하는 다양한 유형의 메모리 디바이스가 존재한다. 메모리 디바이스는 휘발성 또는 비-휘발성일 수 있다.Magnetic Hard Disk, Random Access Memory (RAM), Read Only Memory (ROM), DRAM, Synchronous Dynamic RAM (SDRAM), Ferroelectric RAM (FeRAM), Magnetic RAM (MRAM), Resistive RAM (RRAM), Flash Memory, Phase Shift There are various types of memory devices, including memory (PCM) and the like. A memory device may be volatile or non-volatile.
메모리 디바이스를 개선하는 것은 일반적으로 다른 측정 항목 중에서 특히 메모리 셀 밀도 증가, 판독/기록 속도 증가, 신뢰성 증가, 데이터 보유성 증가, 전력 소비 감소 또는 제조 비용 감소 등을 포함할 수 있다. 메모리 기술의 발전은 이러한 많은 측정 항목에 대한 개선을 실현했지만, 높은 신뢰성, 낮은 대기 시간 및/또는 저전력 디바이스는 비싸고 확장하기 어려운 경향이 있다. 높은 안정성, 낮은 대기 시간, 저전력 메모리를 위한 애플리케이션의 수가 증가함에 따라 이러한 애플리케이션을 위한 확장 가능하고 효율적이며 비용 효율적인 디바이스에 대한 요구도 증가한다.Improving memory devices may generally include increasing memory cell density, increasing read/write speeds, increasing reliability, increasing data retention, reducing power consumption or reducing manufacturing costs, among other metrics in general. Advances in memory technology have enabled improvements to many of these metrics, but high-reliability, low-latency and/or low-power devices tend to be expensive and difficult to scale. As the number of applications for high reliability, low latency, low power memory increases, so does the demand for scalable, efficient and cost effective devices for these applications.
도 1은 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 메모리 다이의 일례를 도시하는 도면;
도 2는 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 디바이스의 일례를 도시하는 도면;
도 3은 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 메모리 다이의 일례를 도시하는 도면;
도 4는 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 메모리 다이의 일례를 도시하는 도면;
도 5는 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 메모리 다이의 일례를 도시하는 도면;
도 6은 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 메모리 다이의 일례를 도시하는 도면;
도 7은 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 데이터 채널 구성의 예를 도시하는 도면;
도 8은 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 신호 경로 라우팅의 예를 도시하는 도면; 및
도 9는 본 발명의 예에 따른 특징 및 동작을 지원하는 시스템의 일례를 도시하는 도면.1 illustrates an example of a memory die supporting features and operation in accordance with an example of the present invention;
2 depicts an example of a device that supports features and operations in accordance with an example of the present invention;
3 illustrates an example of a memory die supporting features and operation in accordance with an example of the present invention;
4 illustrates an example of a memory die supporting features and operation in accordance with an example of the present invention;
5 depicts an example of a memory die supporting features and operation in accordance with an example of the present invention;
6 depicts an example of a memory die supporting features and operation in accordance with an example of the present invention;
7 is a diagram illustrating an example of a data channel configuration supporting features and operations according to an example of the present invention;
8 illustrates an example of signal path routing supporting features and operation in accordance with examples of the present invention; and
9 is a diagram illustrating an example of a system that supports features and operations in accordance with an example of the present invention.
일부 메모리 디바이스는 다양한 구성 요소들 사이에 비교적 긴 전도성 경로를 포함할 수 있다. 긴 전도성 경로를 통한 신호 구동은 더 짧은 경로를 통한 신호 구동보다 더 많은 전력을 소비할 수 있으며 추가적인 과제와 비효율을 초래할 수 있다. 일부 메모리 기술은 다이 영역 전체에 걸쳐 분배된 복수의 채널 단자를 포함할 수 있다. 다이 영역에 걸쳐 채널 단자를 분배하면 호스트 디바이스와 메모리 셀 사이의 전도성 경로를 단축시킬 수 있고, 메모리 셀에 액세스하기 위한 전력량을 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 일부 채널 단자는 (예를 들어, 메모리 셀의) 입력/출력(I/O) 영역에 위치될 수 있다.Some memory devices may include relatively long conductive paths between various components. Driving a signal through a long conductive path can consume more power than driving a signal through a shorter path and can introduce additional challenges and inefficiencies. Some memory technologies may include multiple channel terminals distributed throughout the die area. Distributing the channel terminals across the die area can shorten the conductive path between the host device and the memory cell, and can reduce the amount of power to access the memory cell. For example, some channel terminals may be located in an input/output (I/O) region (eg, of a memory cell).
메모리 디바이스 내의 메모리 셀 어레이는 소정 개수의 구역으로 분할될 수 있다. 각 구역은 복수의 메모리 셀 뱅크(bank)를 포함할 수 있다. 각 구역은 소정 개수의 데이터 핀, 소정 개수의 커맨드/어드레스 핀, 및 소정 개수의 클록 핀을 포함할 수 있는 채널을 사용하여 호스트 디바이스에 통신 가능하게 결합될 수 있다. 구역은 구역의 메모리 셀과 호스트 디바이스의 인터페이스 사이의 거리를 최소화하도록 구성될 수 있다. 구역 내의 인터페이스와 메모리 셀 사이의 신호 경로의 길이를 최소화하거나 적어도 감소시킴으로써, 메모리 디바이스는 에너지 예산(예를 들어, 액세스 동작마다 3 피코패럿(pF) 미만) 내에서 높은 데이터 처리량(예를 들어, 다수의 TB/s)을 달성하도록 구성될 수 있다. 일부 메모리 디바이스에서, 메모리 다이는 메모리 셀을 위한 중앙 집중된 인터페이스 또는 볼아웃(ball-out)을 가질 수 있다. 이러한 메모리 디바이스에서, 인터페이스와 메모리 셀 사이의 신호 경로의 길이는 더 길 수 있다.An array of memory cells in a memory device may be divided into any number of zones. Each zone may include a plurality of memory cell banks. Each zone may be communicatively coupled to a host device using a channel that may include a predetermined number of data pins, a predetermined number of command/address pins, and a predetermined number of clock pins. A zone may be configured to minimize a distance between an interface of a host device and a memory cell in the zone. By minimizing or at least reducing the length of the signal path between the interface and the memory cell in the zone, the memory device can achieve high data throughput (e.g., less than 3 picofarads (pF) per access operation) within an energy budget (e.g. multiple TB/s). In some memory devices, the memory die may have a centralized interface or ball-out for memory cells. In such a memory device, the length of the signal path between the interface and the memory cell may be longer.
위에서 소개된 본 발명의 특징은 예시적인 어레이(예를 들어, 도 1)의 상황에서 아래에 더 설명된다. 시스템(예를 들어, 도 2 및 도 9) 및 메모리 디바이스(도 3 내지 도 8)의 다양한 예 또는 양태에 대해 특정 예가 설명된다.Features of the invention introduced above are further described below in the context of an exemplary array (eg, FIG. 1 ). Specific examples are described for various examples or aspects of systems (eg, FIGS. 2 and 9 ) and memory devices ( FIGS. 3-8 ).
도 1은 본 명세서에 개시된 다양한 양태에 따른 메모리 다이(100)의 일례를 도시한다. 메모리 다이(100)는 일부 예에서 전자 메모리 장치, 메모리 어레이, 메모리 셀 어레이, 또는 메모리 셀 데크(deck)라고도 지칭될 수 있다. 메모리 다이(100)는 여러 상태를 저장하도록 프로그래밍 가능한 메모리 셀(105)을 포함할 수 있다. 메모리 셀(105)은 독립적으로 액세스 가능할 수 있는 하나 이상의 메모리 셀 뱅크로 배열될 수 있다. 각각의 메모리 셀(105)은 논리 0 및 논리 1로 표시되는 2개의 상태를 저장하도록 프로그래밍 가능할 수 있다. 일부 경우에, 메모리 셀(105)은 2개 초과의 논리 상태를 저장하도록 구성될 수 있다.1 illustrates an example of a memory die 100 in accordance with various aspects disclosed herein.
메모리 셀(105)은 프로그래밍 가능한 상태를 나타내는 전하를 커패시터에 저장할 수 있으며; 예를 들어, 충전 커패시터 및 비-충전 커패시터는 각각 2개의 논리 상태를 나타낼 수 있다. DRAM 아키텍처는 이러한 설계를 사용할 수 있으며, 사용되는 커패시터는 절연체로서 선형 또는 상유전성 전기 분극 특성을 갖는 유전체 물질을 포함할 수 있다. FeRAM 아키텍처는 또한 이러한 설계를 이용할 수 있다.
판독 및 기록과 같은 동작은 액세스 라인(access line)(110) 및 디지트 라인(115)을 활성화함으로써 메모리 셀(105)에 수행될 수 있다. 액세스 라인(110)은 워드 라인(word line)(110)으로도 알려져 있고, 비트 라인(bit line)(115)은 디지트 라인(digit line)(115)으로도 알려져 있다. 워드 라인과 비트 라인이라는 언급 또는 그 유사어는 이해나 동작 손실 없이 상호 교환 가능할 수 있다. 워드 라인(110) 또는 디지트 라인(115)을 활성화하는 것은 각각의 라인에 전압을 인가하는 것을 포함할 수 있다. 워드 라인(110) 및 디지트 라인(115)은 금속(예를 들어, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 텅스텐(W) 등), 금속 합금, 탄소, 전도성으로 도핑된 반도체, 또는 다른 전도성 물질, 합금, 화합물, 등과 같은 전도성 물질로 이루어질 수 있다. Operations such as read and write may be performed on the
도 1의 예에 따르면, 메모리 셀(105)의 각 행(row)은 단일 워드 라인(110)에 연결될 수 있고, 메모리 셀(105)의 각 열(column)은 단일 숫자 라인(115)에 연결될 수 있다. 하나의 워드 라인(110) 및 하나의 디지트 라인(115)을 활성화함으로써(예를 들어, 워드 라인(110) 또는 디지트 라인(115)에 전압을 인가함으로써), 단일 메모리 셀(105)은 그 교차점에서 액세스될 수 있다. 메모리 셀(105)에 액세스하는 것은 메모리 셀(105)을 판독하거나 또는 메모리 셀에 기록하는 것을 포함할 수 있다. 워드 라인(110)과 디지트 라인(115)의 교차점은 메모리 셀의 어드레스로 지칭될 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 예를 들어, 메모리 셀의 각 행(105)은 하나 이상의 메모리 셀 뱅크로 배열될 수 있다.1 , each row of
일부 아키텍처에서, 셀의 논리 저장 디바이스, 예를 들어 커패시터는 선택 구성 요소(도시되지 않음)에 의해 디지트 라인으로부터 전기적으로 절연될 수 있다. 워드 라인(110)은 선택 구성 요소에 연결될 수 있고 선택 구성 요소를 제어할 수 있다. 예를 들어, 선택 구성 요소는 트랜지스터일 수 있고, 워드 라인(110)은 트랜지스터의 게이트에 연결될 수 있다. 워드 라인(110)을 활성화시키면 메모리 셀(105)의 커패시터와 그 대응하는 디지트 라인(115) 사이에 전기적 연결 또는 폐쇄 회로를 초래할 수 있다. 이후 디지트 라인은 메모리 셀(105)을 판독하거나 메모리 셀에 기록하기 위해 액세스될 수 있다.In some architectures, the cell's logical storage device, such as a capacitor, may be electrically isolated from the digit line by an optional component (not shown). The
메모리 셀(105)에 액세스하는 것은 행 디코더(120) 및 열 디코더(130)를 통해 제어될 수 있다. 예를 들어, 행 디코더(120)는 메모리 제어기(140)로부터 행 어드레스를 수신하고, 수신된 행 어드레스에 기초하여 적절한 워드 라인(110)을 활성화할 수 있다. 유사하게, 열 디코더(130)는 메모리 제어기(140)로부터 열 어드레스를 수신하고, 적절한 디지트 라인(115)을 활성화할 수 있다. 행 디코더(120) 및 열 디코더(130)는 하나의 특정 메모리 셀 뱅크 내에 위치된 메모리 셀에 대해 각각 행 어드레스 및 열 어드레스를 수신할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 각 메모리 셀 뱅크는 별도의 행 디코더(120) 및 열 디코더(130)와 전자 통신할 수 있다. 예를 들어, 메모리 다이(100)는 WL_1 내지 WL_M으로 표시된 다수의 워드 라인(110), 및 DL_1 내지 DL_N으로 표시된 다수의 디지트 라인(115)을 포함할 수 있으며, 여기서 M 및 N은 어레이 크기에 의존한다. 따라서, 워드 라인(110) 및 디지트 라인(115), 예를 들어 WL_2 및 DL_3을 활성화함으로써, 그 교차점에 있는 메모리 셀(105)이 액세스될 수 있다.Access to
메모리 셀(105)에 액세스할 때, 셀은 메모리 셀(105)의 저장된 상태를 결정하기 위해 감지 구성 요소(sense component)(125)에 의해 판독되거나 감지될 수 있다. 예를 들어, 메모리 셀(105)에 액세스한 후, 메모리 셀(105)의 커패시터는 대응하는 디지트 라인(115)으로 방전될 수 있다. 커패시터를 방전시키면 일부 경우에 커패시터를 바이어싱시키거나 커패시터에 전압을 인가함으로써 야기될 수 있다. 방전시키면 디지트 라인(115)의 전압의 변화를 야기할 수 있고, 감지 구성 요소(125)는 기준 전압(도시되지 않음)과 비교하여 메모리 셀(105)의 저장된 상태를 결정할 수 있다. 예를 들어, 디지트 라인(115)이 기준 전압보다 더 높은 전압을 갖는 경우 감지 구성 요소(125)는 메모리 셀(105)에 저장된 상태가 논리 1이라고 결정할 수 있고 그 반대의 경우도 가능하다. 감지 구성 요소(125)는 래칭(latching)이라고 지칭될 수 있는, 신호의 차이를 검출 및 증폭하기 위한 다양한 트랜지스터 또는 증폭기를 포함할 수 있다. 메모리 셀(105)의 검출된 논리 상태는 이후 출력(135)으로서 열 디코더(130)를 통해 출력될 수 있다. 일부 경우에, 감지 구성 요소(125)는 열 디코더(130) 또는 행 디코더(120)의 일부일 수 있다. 또는 감지 구성 요소(125)는 열 디코더(130) 또는 행 디코더(120)에 연결되거나 이 열 디코더 또는 행 디코더와 전자 통신할 수 있다.Upon accessing the
메모리 셀(105)은 관련 워드 라인(110) 및 디지트 라인(115)을 유사하게 활성화함으로써 설정 또는 기록될 수 있으며, 예를 들어 논리 값이 메모리 셀(105)에 저장될 수 있다. 열 디코더(130) 또는 행 디코더(120)는 메모리 셀(105)에 기록될 데이터, 예를 들어, 입력/출력(135)을 수신할 수 있다. 메모리 셀(105)은 커패시터 양단에 전압을 인가함으로써 기록될 수 있다.A
메모리 제어기(140)는 다양한 구성 요소, 예를 들어 행 디코더(120), 열 디코더(130) 및 감지 구성 요소(125)를 통해 메모리 셀(105)의 동작(예를 들어, 판독, 기록, 재기록, 리프레시, 방전 등)을 제어할 수 있다. 메모리 제어기(140)는 메모리 다이(100)의 구성 요소이거나 다양한 예에서 메모리 다이(100)의 외부에 있을 수 있다. 일부 경우에, 행 디코더(120), 열 디코더(130) 및 감지 구성 요소(125) 중 하나 이상은 메모리 제어기(140)와 함께 위치될 수 있다. 메모리 제어기(140)는 원하는 워드 라인(110) 및 디지트 라인(115)을 활성화시키기 위해 행 및 열 어드레스 신호를 생성할 수 있다. 메모리 제어기(140)는 메모리 다이(100)를 가로지르는 적어도 하나의 채널을 통해 특정 메모리 셀 뱅크의 원하는 워드 라인(110) 및 디지트 라인(115)을 활성화할 수 있다. 메모리 제어기(140)는 또한 메모리 다이(100)의 동작 동안 사용되는 다양한 전압 또는 전류를 생성 및 제어할 수 있다. 예를 들어, 메모리 제어기는 하나 이상의 메모리 셀(105)에 액세스한 후 워드 라인(110) 또는 디지트 라인(115)에 방전 전압을 인가할 수 있다. 메모리 제어기(140)는 채널(145)을 통해 메모리 셀(105)에 결합될 수 있다. 채널(145)은 행 디코더(120) 및 열 디코더(130)와의 논리적 연결로서 도 1에 도시되어 있지만, 이 기술 분야에 통상의 지식을 가진 자라면 다른 구성이 이용될 수 있다는 것을 인식할 것이다. 본 명세서에 설명된 바와 같이, 메모리 제어기(140)는 클록 사이클마다 여러 번(예를 들어, 판독 또는 기록 동작으로부터) 셀(105)과 데이터를 교환할 수 있다.
메모리 제어기(140)는 또한 커맨드, 데이터 및 다른 정보를 호스트 디바이스(도시되지 않음)와 통신하도록 구성될 수 있다. 메모리 제어기(140)는 변조 방식을 사용하여 메모리 어레이와 호스트 디바이스 사이에서 통신되는 신호를 변조할 수 있다. 선택되는 변조 방식의 유형에 기초하여 I/O 인터페이스가 구성될 수 있다.
일반적으로, 본 명세서에서 논의된 인가 전압 또는 전류의 진폭, 형상 또는 지속 시간은 조정되거나 변경될 수 있으며 메모리 다이(100)를 동작시킬 때 논의된 다양한 동작에 대해 상이할 수 있다. 또한, 메모리 다이(100) 내의 하나의, 다수의 또는 모든 메모리 셀(105)은 동시에 또는 함께 액세스될 수 있고; 예를 들어, 메모리 다이(100)의 다수의 또는 모든 셀은 모든 메모리 셀(105) 또는 메모리 셀(105) 그룹을 단일 논리 상태로 설정하는 리셋 동작 동안 동시에 또는 함께 액세스될 수 있다.In general, the amplitude, shape, or duration of the applied voltage or current discussed herein may be adjusted or changed and may be different for the various operations discussed when operating the memory die 100 . Further, one, multiple, or all
도 2는 본 명세서에 개시된 다양한 예에 따라 메모리 디바이스에 대한 채널 라우팅을 지원하는 장치 또는 시스템(200)을 도시한다. 시스템(200)은 호스트 디바이스(205) 및 복수의 메모리 디바이스(210)를 포함할 수 있다. 복수의 메모리 디바이스(210)는 미세 입도의 메모리 디바이스(예를 들어, 미세 입도의 DRAM 또는 미세 입도의 FeRAM)의 예일 수 있다.2 illustrates an apparatus or
호스트 디바이스(205)는 프로세서(예를 들어, 중앙 처리 유닛(central processing unit: CPU), 그래픽 처리 유닛(graphics processing unit: GPU)), 또는 시스템온칩(system on a chip: SoC)의 일례일 수 있다. 일부 경우에, 호스트 디바이스(205)는 메모리 디바이스(210)와는 별개의 구성 요소이어서 호스트 디바이스(205)가 메모리 디바이스(210)와는 별개로 제조될 수 있다. 호스트 디바이스(205)는 메모리 디바이스(210)(예를 들어, 랩탑, 서버, 개인용 컴퓨팅 디바이스, 스마트 폰, 개인용 컴퓨터)의 외부에 있을 수 있다. 시스템(200)에서, 메모리 디바이스(210)는 호스트 디바이스(205)에 대한 데이터를 저장하도록 구성될 수 있다.The
호스트 디바이스(205)는 신호 경로를 통해 통신하는 신호를 사용하여 메모리 디바이스(210)와 정보를 교환할 수 있다. 신호 경로는 메시지 또는 전송이 전송 구성 요소로부터 수신 구성 요소로 취할 수 있는 경로일 수 있다. 일부 경우에, 신호 경로는 적어도 2개의 구성 요소와 결합된 전도체일 수 있으며, 여기서 전도체는 선택적으로 적어도 2개의 구성 요소 사이에 전자가 흐를 수 있게 한다. 신호 경로는 무선 통신(예를 들어, 무선 주파수(RF) 또는 광학)의 경우와 같이 무선 매체에 형성될 수 있다. 신호 경로는 적어도 부분적으로 메모리 디바이스의 유기 기판과 같은 제1 기판, 및/또는 메모리 디바이스(210)와 호스트 디바이스(205)의 모두가 아니라면 이들 디바이스 중 적어도 하나와 결합될 수 있는 패키지 기판(예를 들어, 제2 유기 기판)과 같은 제2 기판을 포함할 수 있다. 일부 경우에, 메모리 디바이스(210)는 마스터 타입 디바이스로서 기능할 수 있는 호스트 디바이스(205)에 슬레이브 타입 디바이스로서 기능할 수 있다.The
일부 응용에서, 시스템(200)은 호스트 디바이스(205)와 메모리 디바이스(210) 사이의 고속 연결로부터 이익을 얻을 수 있다. 이와 같이, 일부 메모리 디바이스(210)는 다수의 초당 테라바이트(TB/s) 대역폭 요구를 갖는 애플리케이션, 프로세스, 호스트 디바이스 또는 프로세서를 지원한다. 수용 가능한 에너지 예산 내에서 이러한 대역폭 제약을 만족시키는 것은 특정 상황에서 어려움을 야기할 수 있다.In some applications,
메모리 디바이스(210)는 메모리 디바이스(210) 내의 메모리 셀과 호스트 디바이스(205) 사이의 신호 경로가 물질 속성, 동작 환경, 구성 요소 레이아웃, 및 애플리케이션이 허용하는 만큼 짧도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 메모리 디바이스(210)는 호스트 디바이스와 메모리 어레이 사이에 점 대 점 연결(point-to-point connection)을 갖는 버퍼 없는 메모리 디바이스일 수 있다. 다른 예에서, 호스트 디바이스(205)와 메모리 디바이스(210)를 결합하는 데이터 채널은 점 대 다점 구성(point-to-many-point configuration)을 포함할 수 있으며, 호스트 디바이스(205)의 하나의 핀은 적어도 2개의 메모리 어레이의 대응하는 핀과 결합된다. 다른 예에서, 호스트 디바이스(205)와 메모리 디바이스(210)를 결합하는 데이터 채널은 다른 근접 메모리 애플리케이션(예를 들어, GDDR5 호환 DRAM을 사용하는 그래픽 카드)과 같은 다른 디자인보다 더 짧게 구성될 수 있다.The
메모리 디바이스(210)의 메모리 다이는 다수의 유형의 통신 매체(예를 들어, 유기 기판과 같은 기판 및/또는 실리콘 인터포저(interposer)와 같은 고밀도 인터포저)와 함께 작동하도록 구성될 수 있다. 호스트 디바이스(205)는 일부 경우에 단자의 설계(예를 들어, 매트릭스 또는 패턴)를 포함하는 인터페이스 또는 볼아웃을 갖게 구성될 수 있다.The memory die of the
도 3은 본 명세서에 개시된 다양한 예에 따른 디바이스 또는 디바이스(300)들의 일례를 도시한다. 메모리 디바이스(300)는 적어도 하나의 메모리 다이(305) 및 통신 매체(310)를 포함한다. 통신 매체(310)는 일부 경우에 기판의 일례일 수 있다.3 shows an example of a device or
메모리 다이(305)는 상이한 논리 상태를 저장하도록 프로그래밍 가능할 수 있는 (도 1에 도시되고 이를 참조하여 설명된) 복수의 메모리 셀을 포함할 수 있다. 예를 들어, 각각의 메모리 셀은 하나 이상의 논리 상태(예를 들어, 논리'0', 논리'1', 논리'00', 논리'01', 논리'10', 논리'11')를 저장하도록 프로그래밍될 수 있다. 메모리 다이(305)의 메모리 셀은 DRAM, FeRAM, 위상 변화 메모리(PCM), 3D XPoint TM 메모리, NAND 메모리, 또는 NOR 메모리, 또는 이들의 조합을 포함하는 데이터를 저장하기 위해 상이한 저장 기술을 사용할 수 있다. 일부 경우에, 단일 메모리 디바이스는 제1 메모리 기술(예를 들어, DRAM)을 사용하는 제1 메모리 다이, 및 제1 메모리 기술과는 다른 제2 메모리 기술(예를 들어, FeRAM)을 사용하는 제2 메모리 다이를 포함할 수 있다.Memory die 305 may include a plurality of memory cells (shown in FIG. 1 and described with reference to it) that may be programmable to store different logic states. For example, each memory cell stores one or more logical states (eg, logic '0', logic '1', logic '00', logic '01', logic '10', logic '11'). can be programmed to The memory cells of the memory die 305 may use different storage technologies to store data, including DRAM, FeRAM, phase change memory (PCM), 3D XPoint ™ memory, NAND memory, or NOR memory, or combinations thereof. have. In some cases, a single memory device includes a first memory die using a first memory technology (eg, DRAM), and a second memory die using a second memory technology (eg, FeRAM) that is different from the first memory technology (eg, FeRAM). 2 memory dies.
메모리 다이(305)는 메모리 셀의 2차원(2D) 어레이의 일례일 수 있다. 일부 경우에, 다수의 메모리 다이(305)는 서로 상하로 적층되어 3차원(3D) 어레이를 형성할 수 있다. 메모리 다이는 서로 상하로 적층된 다수의 메모리 셀 데크를 포함할 수 있다. 이러한 구성은 2D 어레이와 비교하여 단일 다이 또는 기판 상에 형성될 수 있는 메모리 셀의 수를 증가시킬 수 있다. 이것은 생산 비용을 줄이거나 메모리 어레이의 성능을 증가시키거나 이 둘 모두를 달성할 수 있다. 어레이의 각 레벨은 각 레벨에 걸쳐 메모리 셀이 서로 대략 정렬되어 메모리 셀 스택을 형성할 수 있도록 위치될 수 있다. 일부 경우에, 메모리 다이(305)는 서로 직접 적층될 수 있다. 다른 경우에, 하나 이상의 메모리 다이(305)는 (예를 들어, 상이한 메모리 스택에서) 메모리 다이의 스택으로부터 떨어져 위치될 수 있다.Memory die 305 may be an example of a two-dimensional (2D) array of memory cells. In some cases, multiple memory dies 305 may be stacked on top of each other to form a three-dimensional (3D) array. A memory die may include a plurality of memory cell decks stacked one above the other. Such a configuration can increase the number of memory cells that can be formed on a single die or substrate as compared to a 2D array. This can reduce production costs, increase the performance of the memory array, or both. Each level of the array may be positioned such that memory cells across each level are approximately aligned with one another to form a stack of memory cells. In some cases, the memory dies 305 may be directly stacked on each other. In other cases, one or more memory dies 305 may be located away from the stack of memory dies (eg, in a different memory stack).
제1 메모리 디바이스(315)는 단일 메모리 다이(305) 및 통신 매체(310)를 포함하는 단일 다이 패키지의 일례일 수 있다. 제2 메모리 디바이스(320)는 2개의 메모리 다이(305-a 및 305-b) 및 통신 매체(310)를 포함하는 2개 높이의 디바이스의 일례일 수 있다. 제3 메모리 디바이스(325)는 4개의 메모리 다이(305-a 내지 305-d) 및 통신 매체(310)를 포함하는 4개 높이의 디바이스의 일례일 수 있다. 제4 메모리 디바이스(330)는 8개의 메모리 다이(305-a 내지 305-h) 및 통신 매체(310)를 포함하는 8개 높이의 디바이스의 일례일 수 있다. 메모리 디바이스(300)는 일부 예에서 공통 기판의 상부에 적층될 수 있는 임의의 수의 메모리 다이(305)를 포함할 수 있다. 다이는 다른 층을 더 명확하게 보여주기 위해 다른 음영으로 표시된다. 일부 경우에, 상이한 층의 메모리 다이는 메모리 디바이스의 인접한 다이와 유사하게 구성될 수 있다.The
메모리 다이(305)는 하나 이상의 비아(예를 들어, 관통 실리콘 비아(through-silicon via: TSV))를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 하나 이상의 비아는 제어기를 메모리 셀과 결합시키는 내부 신호 경로의 일부일 수 있다. 비아는, 예를 들어, 메모리 다이(305)가 서로 적층될 때 메모리 다이(305)들 사이에서 통신하는 데 사용될 수 있다. 일부 비아는 메모리 디바이스의 제어기와 적어도 일부의 메모리 다이(305) 사이의 통신을 용이하게 하기 위해 사용될 수 있다. 일부 경우에, 단일 비아는 다수의 메모리 다이(305)와 결합될 수 있다.Memory die 305 may include one or more vias (eg, through-silicon vias (TSVs)). In some cases, one or more vias may be part of an internal signal path that couples the controller to the memory cell. Vias may be used to communicate between memory dies 305 , for example, when memory dies 305 are stacked together. Some vias may be used to facilitate communication between the controller of the memory device and at least some of the memory dies 305 . In some cases, a single via may be coupled to multiple memory dies 305 .
통신 매체(310)는 메모리 다이(305)와 호스트 디바이스 사이에서 신호를 교환할 수 있도록 메모리 다이(305)를 호스트 디바이스와 결합하는데 사용되는 임의의 구조 또는 매체일 수 있다. 통신 매체(310)는 기판, 유기 기판, 고밀도 인터포저, 실리콘 인터포저 또는 이들의 조합의 일례일 수 있다. 통신 매체(310)는 메모리 어레이의 위, 아래 또는 측면에 위치될 수 있다. 통신 매체(310)는 다른 구성 요소 아래에 있는 것으로 제한되는 것은 아니고 메모리 어레이 및/또는 다른 구성 요소에 대한 임의의 구성일 수 있다. 일부 예에서, 통신 매체(310)는 기판으로 지칭될 수 있지만, 이러한 언급으로 제한되는 것은 아니다.
통신 매체(310)는 상이한 유형의 물질로 형성될 수 있다. 일부 경우에, 통신 매체(310)는 하나 이상의 유기 기판의 일례일 수 있다. 예를 들어, 통신 매체(310)는 호스트 디바이스와 메모리 다이(305) 스택의 모두가 아니라면 적어도 하나와 결합된 패키지 기판(예를 들어, 유기 기판)을 포함할 수 있다. 다른 예에서, 통신 매체(310)는 메모리 디바이스의 유기 기판 및 패키지 기판을 포함할 수 있다. 기판은 구성 요소를 기계적으로 지지 및/또는 전기적으로 연결하는 인쇄 회로 기판의 일례일 수 있다. 기판은 비-전도성 물질의 층 상에 및/또는 비-전도성 물질 층들 사이에 적층된 하나 이상의 전도성 물질(예를 들어, 구리) 층으로부터 에칭된 전도성 트랙, 패드 및 다른 특징을 사용할 수 있다. 구성 요소는 기판 상에 체결(예를 들어, 솔더링)되어 구성 요소들을 전기적으로 연결하고 기계적으로 체결할 수 있다. 일부 경우에, 기판의 비-전도성 물질은 수지가 함침된 페놀성 종이 또는 페놀성 면화지, 수지가 함침된 유리 섬유, 금속 코어 보드, 폴리이미드 호일, 캡톤, UPILEX, 폴리이미드-플루오로폴리머 복합 호일, 아지노모토(Ajinomoto) 빌드업 필름(ABF) 또는 다른 물질 또는 이들의 조합을 포함하는 다양한 상이한 물질로 형성될 수 있다.
일부 경우에, 통신 매체(310)는 실리콘 인터포저와 같은 고밀도 인터포저일 수 있다. 고밀도 인터포저는 연결된 구성 요소(예를 들어, 메모리 디바이스 및 호스트 디바이스) 사이에 넓은 신호 경로를 제공하도록 구성될 수 있다. 고밀도 인터포저는 구성 요소들을 연결하기 위해 많은 수의 채널을 제공함으로써 넓은 신호 경로를 제공할 수 있다. 일부 경우에, 채널은 얇은 커넥터 트레이스(예를 들어, 구리)일 수 있으며, 이에 따라 각각의 개별 채널이 손실된다. 각 채널은 저항이 높을 수 있으므로 전송되는 데이터의 주파수가 증가함에 따라 데이터를 전송하는 데 필요한 전력은 주파수와 비-선형 관계로 증가할 수 있다. 이러한 특성은 전송 전력량이 주어지면 실리콘 인터포저의 채널을 통해 데이터를 전송하는데 사용될 수 있는 실제 주파수 임계값(예를 들어, 천장)을 부과할 수 있다. 채널은 일부 경우에 서로 독립적일 수 있다. 일부 채널은 단방향일 수 있고 일부 채널은 양방향일 수 있다.In some cases, the
일부 경우에, 버퍼 층은 메모리 다이(305)와 통신 매체(310) 사이에 위치될 수 있다. 버퍼는 메모리 다이(305)로 그리고 메모리 다이로부터 신호를 구동(예를 들어, 재구동)하도록 구성될 수 있다. 일부 경우에, 메모리 스택은 버퍼가 없을 수 있고, 이는 다른 구성 요소 중에서 특히 버퍼 층이 존재하지 않거나 베이스 층이 재구동기(redriver)를 포함하지 않는 것을 의미한다.In some cases, a buffer layer may be located between the memory die 305 and the
도 4는 본 명세서에 개시된 다양한 예에 따른 메모리 다이(400)의 일례를 도시한다. 메모리 다이(400)는 도 3을 참조하여 설명된 메모리 다이(305)의 일례일 수 있다. 일부 경우에, 메모리 다이(400)는 메모리 어레이, 메모리 셀 어레이, 또는 메모리 셀 데크라고 지칭될 수 있다. 메모리 다이(400)의 다양한 구성 요소는 메모리 다이(400)와 연관된 메모리 디바이스와 호스트 디바이스 사이에 고대역폭 데이터 전송을 제공하도록 구성될 수 있다.4 shows an example of a
메모리 다이(400)는 (백색 박스로 표시된) 메모리 셀의 복수의 뱅크(405), 메모리 다이(400)의 메모리 셀을 가로지르는 복수의 입력/출력(I/O) 영역(410)(때로는 I/O 스트라이프 또는 I/O 영역이라고도 지칭됨), 및 메모리 다이(400)를 호스트 디바이스와 결합할 수 있는 복수의 데이터 채널(415)을 포함할 수 있다. 메모리 셀 뱅크(405) 각각은 데이터를 저장하도록 구성된 복수의 메모리 셀을 포함할 수 있다. 메모리 셀은 DRAM 메모리 셀, FeRAM 메모리 셀, 또는 다른 유형의 메모리 셀일 수 있다.Memory die 400 includes a plurality of
메모리 다이(400)는 상이한 데이터 채널(415)과 연관된 셀 구역(420)으로 분할될 수 있다. 예를 들어, 단일 데이터 채널(415)은 단일 셀 구역(420)을 호스트 디바이스와 결합하도록 구성될 수 있다. 일부 경우에, I/O 채널의 핀은 메모리 다이(400)의 다수의 셀 구역(420)을 전력, 접지, 가상 접지 및/또는 다른 지원 구성 요소에 결합하도록 구성될 수 있다.Memory die 400 may be divided into
호스트 디바이스(도시되지 않음)와 메모리 다이(400) 사이에 높은 처리량의 데이터(예를 들어, 다수의 TB/s)를 제공하기 위해, 임의의 주어진 메모리 셀과 데이터 채널(415)과의 인터페이스 사이의 경로 길이는 다른 이전 솔루션보다 더 짧을 수 있다. 또한, 임의의 주어진 메모리 셀과 호스트 디바이스 사이의 데이터 경로를 단축시키면 이 주어진 메모리 셀의 액세스 동작(예를 들어, 판독 동작 또는 기록 동작) 동안 소비되는 전력을 감소시킬 수 있다. 데이터 경로의 크기를 감소시키기 위해 상이한 아키텍처 및/또는 전략이 이용될 수 있다.Between the interface of any given memory cell and
일부 예에서, 메모리 다이(400)는 복수의 셀 구역(420)으로 분할될 수 있다. 각각의 셀 구역(420)은 데이터 채널(415)과 연관될 수 있다. 2개의 상이한 유형의 셀 구역(420)이 도시되어 있지만, 전체 메모리 다이(400)는 임의의 형상을 갖는 임의의 수의 셀 구역(420)으로 채워질 수 있다. 셀 구역(420)은 복수의 메모리 셀 뱅크(405)를 포함할 수 있다. 셀 구역(420)에는 임의의 수의 뱅크(405)가 있을 수 있다. 예를 들어, 메모리 다이(400)는 8개의 뱅크(405)를 포함할 수 있는 제1 셀 구역(420), 및 16개의 뱅크(405-a)를 포함할 수 있는 제2 셀 구역(420-a)을 도시한다. In some examples, the memory die 400 may be divided into a plurality of
그러나, 셀 구역에서 다른 개수(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32 등)의 뱅크가 가능하다. 셀 구역(420)의 크기는 호스트 디바이스의 대역폭 제약, 호스트 디바이스 또는 메모리 디바이스의 전력 요구량, 데이터 채널의 크기, 데이터 채널과 연관된 데이터 속도, 다른 고려 사항 또는 이들의 임의의 조합에 기초하여 선택될 수 있다. 일부 경우에, 메모리 다이(400)는 각각의 셀 구역(420)이 동일한 크기가 되도록 분할될 수 있다. 다른 경우에, 메모리 다이(400)는 메모리 다이(400)가 상이한 크기의 셀 구역(420)을 가질 수 있도록 분할될 수 있다.However, different numbers (e.g., 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, etc.) of banks are possible. The size of the
(셀 구역과 연관된) 데이터 채널(415)은 셀 구역(420)의 메모리 셀을 호스트 디바이스와 결합하기 위한 소정 개수의 핀을 포함할 수 있다. 데이터 채널(415)의 적어도 일부는 기판의 채널(예를 들어, 고밀도 인터포저 또는 유기 기판)을 포함할 수 있다. 데이터 채널(415)은 데이터 채널(415) 내에 있는 데이터 핀(425)(때때로 DQ 핀으로 지칭됨)의 수를 지정하는 데이터 폭을 포함할 수 있다. 예를 들어, 데이터 채널은 2개의 데이터 핀(예를 들어, X2 채널), 4개의 데이터 핀(예를 들어, X4 채널), 8개의 데이터 핀(예를 들어, X8 채널), 16개의 데이터 핀(예를 들어, X16 채널) 등의 채널 폭을 가질 수 있다. 데이터 채널은 또한 적어도 하나의 커맨드/어드레스(C/A) 핀(430)을 포함할 수 있다. 셀 구역(420) 내의 각각의 메모리 셀은 셀 구역(420)과 연관된 핀(425, 430)을 사용하여 호스트 디바이스로 그리고 호스트 디바이스로부터 데이터를 전송하도록 구성될 수 있다. 데이터 채널(415)은 또한 클록 핀(예를 들어, CLK) 및/또는 판독 클록 핀 또는 복귀 클록 핀(RCLK)을 포함할 수 있다.The data channel 415 (associated with the cell region) may include a number of pins for coupling the memory cells of the
메모리 다이(400)의 I/O 인터페이스는 다수의 채널 폭(예를 들어, x4, x8, x16, x32 등)을 지원하도록 구성될 수 있다. 일부 예에서, 데이터 대역폭, 데이터 처리량 또는 데이터 접근성을 유지하기 위해, 서로 다른 폭을 갖는 채널을 통해 데이터를 통신하기 위해 다른 변조 방식이 사용될 수 있다. 예를 들어, 4-심볼 펄스 진폭 변조(four-symbol pulse-amplitude modulation: PAM4)는 X4 채널을 통해 통신하는 신호를 변조하는 데 사용될 수 있고, 0으로의 비-복귀 변조(Non-Return to Zero modulation)(NRZ)는 X8 채널을 통해 통신하는 신호를 변조하는 데 사용될 수 있다.The I/O interface of memory die 400 may be configured to support multiple channel widths (eg, x4, x8, x16, x32, etc.). In some examples, different modulation schemes may be used to communicate data over channels having different widths to maintain data bandwidth, data throughput, or data accessibility. For example, four-symbol pulse-amplitude modulation (PAM4) can be used to modulate signals communicating over the X4 channel, and Non-Return to Zero modulation) (NRZ) can be used to modulate the signal communicating over the X8 channel.
복수의 I/O 영역(410)은 메모리 다이(400)의 메모리 셀을 전력 및 접지와 결합하도록 구성된 복수의 전력 핀 및 접지 핀을 포함할 수 있다. 일부 경우에, I/O 영역(410)은 메모리 다이(400)의 위 또는 아래에 위치된 메모리 다이와 전력 신호 및/또는 접지 신호를 통신하기 위해 TSV를 포함할 수 있다.The plurality of I/
I/O 영역(410)은 데이터 채널(415)을 위한 인터페이스 또는 단자를 포함할 수 있다. 인터페이스 또는 단자는 신호 경로와 결합하도록 구성된 복수의 핀 또는 패드를 포함할 수 있다. 신호 경로는 구역(420)의 메모리 셀을 채널(415)과 결합할 수 있다. I/O 영역(410)은 일부 경우에 메모리 다이(400)의 위 또는 아래에 위치된 메모리 다이와 신호를 (예를 들어, 데이터 채널(415)을 사용하여) 통신하기 위해 TSV를 포함할 수 있다.I/
I/O 영역(410)은 일부 경우에 셀 구역(420)에서 메모리 셀의 뱅크(405)를 이등분(bisect)할 수 있다. 채널을 위한 단자가 I/O 영역(410)에 위치되는 경우, 구역(420)에서 임의의 개별 메모리 셀에 대한 신호 경로의 길이가 단축될 수 있다. I/O 영역(410)은 구역(420)을 이등분하도록 구성될 수 있다. 일부 경우에, I/O 영역(410)은 뱅크(405)의 50%가 I/O 영역(410)의 제1 측면에 있고 뱅크(405)의 50%가 I/O 영역(410)의 제2 측면에 있도록 구역(420)의 뱅크(405)를 분할할 수 있다. 다른 예에서, I/O 영역(410)은 I/O 영역(410)의 양측에 있는 뱅크(405)의 분할이 동일하지 않도록 구역을 이등분할 수 있다. 일부 경우에, 구역(420)은 I/O 영역(410)이 구역(420)을 이등분하도록 한정될 수 있다. 메모리 다이(400)는 4개의 I/O 영역(410)을 포함한다. 다른 예에서, 메모리 다이(400)는 다른 수의 I/O 영역(예를 들어, 1, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16 등)을 포함할 수 있다.The I/
도 5는 메모리 다이(500)를 이등분하는 8개의 I/O 영역(510)을 포함하는 메모리 다이(500)의 일례를 도시한다. 8개의 I/O 영역(510)을 사용하면 메모리 다이(400)에 비해 구역(520)의 일부 특성을 변경할 수 있다. 메모리 다이(500)는 메모리 다이(400)의 일례일 수 있고, 따라서 메모리 다이(500)의 일부 특징에 대한 완전한 설명은 여기서 반복되지 않는다. 유사한 명칭 및/또는 유사한 수를 갖는 구성 요소는 유사하게 구현될 수 있다. 예를 들어, 메모리 다이(500)는 도 4를 참조하여 설명된 데이터 채널(415)의 일례인 데이터 채널(515)을 포함할 수 있다. 5 shows an example of a memory die 500 that includes eight I/
일부 경우에, 8개의 I/O 영역(510)을 사용하면 구역(520)의 형상을 변경할 수 있다. 구역(520)은 I/O 영역(510)에 의해 이등분되도록 구성될 수 있다(또는 I/O 영역(510)은 구역(520)을 이등분하도록 구성될 수 있다). 이러한 방식으로, I/O 영역(510)에 위치된 채널 단자와 메모리 셀을 결합하는 신호 경로의 길이가 최소화될 수 있다. 더 많은 I/O 영역이 메모리 다이를 가로질러 확장함에 따라, 더 적은 뱅크(505)가 I/O 영역들 사이에 위치될 수 있다. 단일 채널이 뱅크(505)의 구역(520)을 서비스하는 경우, 구역(520)의 형상은 구역(420)의 형상과 상이할 수 있다. 예를 들어, 구역(520 및 520-a)은 I/O 영역(510)의 각 측에 위치된 단일 뱅크(505)를 포함할 수 있고, 여기서 구역(420 및 420-a)은 I/O 영역(410)의 각 측에 위치된 2개의 뱅크를 포함할 수 있다.In some cases, using eight I/
도 6은 메모리 다이(600)를 이등분하는 2개의 I/O 영역(610)을 포함하는 메모리 다이(600)의 일례를 도시한다. 2개의 I/O 영역(610)을 사용하면 메모리 다이(400)에 비해 구역(620)의 일부 특성을 변경할 수 있다. 메모리 다이(600)는 메모리 다이(400)의 일례일 수 있고, 따라서 메모리 다이(600)의 일부 특징에 대한 완전한 설명은 여기서 반복되지 않는다. 유사한 명칭 및/또는 유사한 수를 갖는 구성 요소는 유사하게 구현될 수 있다. 예를 들어, 메모리 다이(600)는 도 4를 참조하여 설명된 데이터 채널(415)의 일례인 데이터 채널(615)을 포함할 수 있다. 6 shows an example of a memory die 600 that includes two I/
일부 경우에, 2개의 I/O 영역(610)을 사용하면 구역(620)의 형상을 변경할 수 있다. 구역(620)은 I/O 영역(610)에 의해 이등분되도록 구성될 수 있다(또는 I/O 영역(610)은 구역(620)을 이등분하도록 구성될 수 있다). 더 적은 I/O 영역이 메모리 다이를 가로질러 확장함에 따라, 더 많은 뱅크(605)가 I/O 영역들 사이에 위치될 수 있다. 단일 채널이 뱅크(605)의 구역(620)을 서비스하는 경우, 구역(620)의 형상은 구역(420)의 형상과 상이할 수 있다. 예를 들어, 구역(620 및 620-a)은 I/O 영역(610)의 각 측에 위치된 4개의 뱅크(605)를 포함할 수 있고, 여기서 구역(420 및 420-a)은 I/O 영역(410)의 각 측에 위치된 2개의 뱅크를 포함할 수 있다.In some cases, using two I/
도 7은 본 명세서에 개시된 다양한 예에 따른 데이터 채널 구성(700)의 일례를 도시한다. 데이터 채널 구성(700)은 제1 데이터 채널 구성(705) 및 제2 데이터 채널 구성(710)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 데이터 채널 구성(705)은 셀 구역(720)을 서비스하는 데이터 채널(715)을 도시한다.7 shows an example of a
데이터 채널(715)은, 8개의 층을 포함하고 4개의 채널 폭(예를 들어, 4개의 데이터 핀이 있음)을 갖는 적층형 메모리 디바이스에 대한 데이터 채널을 도시한다. 데이터 채널(715)에서 핀의 각 행은 별개의 층에서 셀 구역과 연관될 수 있다. 셀 구역(720)은 단일 층의 셀 구역을 예시한다. 이와 같이, 셀 구역(720)은 데이터 채널(715)의 핀의 단일 행과 연관될 수 있다. 단일 데이터 채널이 다수의 층과 결합하도록 구성될 수 있기 때문에, 데이터 채널에서의 핀의 수는 메모리 디바이스의 층의 수에 기초할 수 있다.
일부 예에서, 데이터 채널은 임의의 주어진 층 또는 메모리 다이의 단일 셀 구역과 결합될 수 있다(예를 들어, 다른 셀 구역과 결합되지 않음). 데이터 채널(715)은 8개의 층에서 셀 구역과 연관될 수 있지만, 임의의 수의 층이 가능하다. 예를 들어, 데이터 채널(715)은 메모리 디바이스의 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15 또는 16개의 (또는 그 이상의) 층의 셀 구역과 연관될 수 있다.In some examples, a data channel may be associated with a single cell region of any given layer or memory die (eg, not coupled with another cell region).
데이터 채널(715)의 제1 구성(705)은 4개의 데이터 핀(DQ1 내지 DQ4), 클록 핀(CLK), 판독 클록 핀 또는 복귀 클록 핀(RCLK) 및 커맨드/어드레스 핀(CA)을 포함할 수 있다. 다른 경우에, 데이터 채널(715)은 다른 랭크(rank) 또는 다른 채널 폭을 가질 수 있다. 이러한 상황에서 데이터 핀의 수는 다를 수 있다. 예를 들어, 데이터 채널(715)의 제1 구성(705)은 8의 채널 폭을 가질 수 있고 8개의 데이터 핀을 포함할 수 있다. 구역과 연관된 임의의 수의 데이터 핀이 본 발명에 의해 고려된다. 데이터 채널(715)의 제1 구성(705)은 임의의 수의 C/A 핀을 포함할 수 있다. 예를 들어, 데이터 채널(715)은 1, 2, 3 또는 4개의 C/A 핀을 포함할 수 있다. 일부 경우에, 데이터 채널(715)의 제1 구성(705)은 에러 검출 및 정정 절차를 제공하기 위한 에러 정정 코드(error correction code: ECC) 핀을 포함할 수 있다.A
데이터 채널(715)의 제2 구성(710)은 4개의 데이터 핀(DQ1 내지 DQ4), 클록 핀(CLK) 및 2개의 커맨드/어드레스 핀(CA)을 포함할 수 있다. 다른 경우에, 데이터 채널(715)은 다른 랭크 또는 다른 채널 폭을 가질 수 있다. 이러한 상황에서 데이터 핀의 수는 다를 수 있다. 예를 들어, 데이터 채널(715)의 제2 구성(710)은 8의 채널 폭을 가질 수 있고 8개의 데이터 핀을 포함할 수 있다. 구역과 연관된 임의의 수의 데이터 핀이 본 발명에 의해 고려된다. 데이터 채널(715)의 제2 구성(710)은 임의의 수의 C/A 핀을 포함할 수 있다. 예를 들어, 데이터 채널(715)은 1, 2, 3 또는 4개의 C/A 핀을 포함할 수 있다. 일부 경우에, 데이터 채널(715)의 제2 구성(710)은 에러 검출 및 정정 절차를 제공하기 위한 ECC 핀을 포함할 수 있다.The
도 8은 메모리 디바이스(805)에서의 신호 경로 라우팅(800)의 예를 도시한다. 제1 메모리 디바이스(805-a)는 제1 신호 경로 라우팅(800-a)을 포함하고, 제2 메모리 디바이스(805-b)는 제2 신호 경로 라우팅(800-b)을 포함한다. 신호 경로 라우팅의 예는 메모리 디바이스(805)의 상이한 다이들 사이에 TSV를 연결하는 상이한 옵션을 도시한다.8 shows an example of signal path routing 800 in
제1 메모리 디바이스(805-a)는 제1 메모리 다이(810), 제2 메모리 다이(815), 제3 메모리 다이(820) 및 제4 메모리 다이(825)를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 제1 메모리 디바이스(805-a)는 도시된 것보다 더 많거나 더 적은 메모리 다이를 포함할 수 있다. 복수의 TSV(830)는 각각의 메모리 다이(810, 815, 820, 825)를 통해 적어도 부분적으로 연장될 수 있다. 각각의 다이는 메모리 다이(810, 815, 820, 825)의 신호 경로를 함께 결합하는 적어도 하나의 패드(835)를 포함할 수 있다. 메모리 다이의 스택은 바닥에 데이터 채널(DQ Ch0, DQ Ch1, DQ Ch2, DQ Ch3)과 결합되는 패드(835)를 포함할 수 있다.The first memory device 805 - a may include a first memory die 810 , a second memory die 815 , a third memory die 820 , and a fourth memory die 825 . In another example, the first memory device 805 - a may include more or fewer memory dies than shown. The plurality of
제1 신호 경로 라우팅(800-a)에서, TSV(830)는 이웃한 열의 패드(835)에 결합될 수 있다. 예를 들어, 제1 메모리 다이(810)의 DQ Ch0 열의 TSV(830)는 제1 다이(810) 아래 및 DQ Ch1 열에 있는 패드(835)와 통신 가능하게 결합될 수 있다. 이러한 방식으로, 신호 경로는 인접한 층에서 서로 오프셋된 TSV를 포함할 수 있다. 제1 신호 경로 라우팅(800-a)에서, 메모리 디바이스(805-a)는 한번에 1개를 초과하는 다이에서 동일한 열에서 위로 올라가는 TSV를 갖는 신호 경로를 포함하지 않을 수 있다.In a first signal path routing 800 - a, a
제2 메모리 디바이스(805-b)는 제1 메모리 다이(850), 제2 메모리 다이(855), 제3 메모리 다이(860) 및 제4 메모리 다이(865)를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 제2 메모리 디바이스(805-b)는 도시된 것보다 더 많거나 더 적은 메모리 다이를 포함할 수 있다. 복수의 TSV(870)는 각각의 다이(850, 855, 860, 865)를 통해 적어도 부분적으로 연장된다. 각각의 다이는 다이(850, 855, 860, 865)의 신호 경로를 함께 결합하는 적어도 하나의 패드(875)를 포함한다. 메모리 다이의 스택은 바닥에 데이터 채널(DQ Ch0, DQ Ch1, DQ Ch2, DQ Ch3)과 결합되는 패드(875)를 포함할 수 있다.The second memory device 805 - b may include a first memory die 850 , a second memory die 855 , a third memory die 860 , and a fourth memory die 865 . In another example, the second memory device 805 - b may include more or fewer memory dies than shown. A plurality of
제2 신호 경로 라우팅(800-b)에서, 각각의 데이터 채널은 DQ Ch0과 연관된 열에서 종료된다. 예를 들어, DQ Ch0에 대한 신호 경로는 DQ Ch0과 연관된 열에서 제1 메모리 다이(850)와 결합될 수 있다. DQ Ch1에 대한 신호 경로는 제1 메모리 다이(850)를 통해 연장되는 TSV(870), 측방 전도성 경로(880)를 포함할 수 있고, DQ Ch0과 연관된 열에서 제2 메모리 다이(855)와 결합될 수 있다. DQ Ch2에 대한 신호 경로는 제1 메모리 다이(850) 및 제2 메모리 다이(855)를 통해 연장되는 TSV(870), 측방 전도성 경로(880)를 포함할 수 있고, DQ Ch0과 연관된 열에서 제3 메모리 다이(860)와 결합된다. DQ Ch3에 대한 신호 경로는 제1 메모리 다이(850), 제2 메모리 다이(855) 및 제3 메모리 다이(860)를 통해 연장되는 TSV(870), 측방 전도성 경로(880)를 포함할 수 있고, DQ Ch0과 연관된 열에서 제4 메모리 다이(865)와 결합된다.In the second signal path routing 800-b, each data channel terminates in a column associated with DQ Ch0. For example, the signal path for DQ Ch0 may be coupled to the first memory die 850 in a column associated with DQ Ch0. The signal path for DQ Ch1 may include a
도 9는 본 발명에 개시된 양태에 따라 미세 입도의 DRAM을 지원하는 디바이스(905)를 포함하는 시스템(900)의 선도를 도시한다. 디바이스(905)는 메모리 제어기(915), 메모리 셀(920), 기본 입력/출력 시스템(BIOS) 구성 요소(925), 프로세서(930), I/O 제어기(935), 주변 구성 요소(940), 메모리 칩(955), 시스템 메모리 제어기(960), 인코더(965), 디코더(970) 및 다중화기(975)를 포함하는, 통신을 송신 및 수신하기 위한 구성 요소를 포함하는 양방향 음성 및 데이터 통신을 위한 구성 요소를 포함할 수 있다. 이들 구성 요소는 하나 이상의 버스(예를 들어, 버스(910))를 통해 전자 통신할 수 있다. 버스(910)는 예를 들어 16개의 데이터 라인("DQ" 라인)의 버스 폭을 가질 수 있다. 버스(910)는 32개의 메모리 셀 뱅크와 전자 통신할 수 있다.9 shows a diagram of a
메모리 제어기(915 또는 960)는 본 명세서에 기술된 하나 이상의 메모리 셀을 동작시킬 수 있다. 구체적으로, 메모리 제어기는 유연한 다중-채널 메모리를 지원하도록 구성될 수 있다. 일부 경우에, 메모리 제어기(915 또는 960)는 도 1을 참조하여 설명된 행 디코더, 열 디코더 또는 이들 둘 모두를 동작시킬 수 있다. 메모리 제어기(915 또는 960)는 호스트와 전자 통신할 수 있고, 메모리 제어기(915 또는 960)의 클록 신호의 상승 에지 및 하강 에지 각각 동안 데이터를 전송하도록 구성될 수 있다.Memory controller 915 or 960 may operate one or more memory cells described herein. Specifically, the memory controller may be configured to support flexible multi-channel memory. In some cases, memory controller 915 or 960 may operate the row decoder, column decoder, or both described with reference to FIG. 1 . Memory controller 915 or 960 may be in electronic communication with a host and may be configured to transmit data during each of the rising and falling edges of a clock signal of memory controller 915 or 960 .
메모리 셀(920)은 본 명세서에 기술된 정보(즉, 논리 상태의 형태)를 저장할 수 있다. 메모리 셀(920)은 예를 들어, 도 1을 참조하여 설명된 메모리 셀(105)을 나타낼 수 있다. 메모리 셀(920)은 메모리 제어기(915 또는 960)와 전자 통신할 수 있고, 메모리 셀(920) 및 메모리 제어기(915 또는 960)는 본 명세서에 설명된 하나의 또는 여러 평면 메모리 디바이스일 수 있는 칩(955) 상에 위치될 수 있다. 칩(955)은 예를 들어 시스템 메모리 제어기(915 또는 960)에 의해 관리될 수 있다. 메모리 셀(920)은 기판에 결합된 복수의 구역을 갖는 제1 메모리 셀 어레이를 나타낼 수 있다. 복수의 구역의 각각의 구역은 복수의 메모리 셀 뱅크 및 제1 메모리 셀 어레이를 가로지르는 복수의 채널을 포함할 수 있다. 복수의 채널 중 적어도 하나는 적어도 하나의 구역에 결합될 수 있다. 메모리 제어기(915 또는 960)는 결합 구역과 메모리 제어기(915 또는 960) 사이에서 데이터를 전송하도록 구성될 수 있다.
BIOS 구성 요소(925)는 다양한 하드웨어 구성 요소를 초기화하고 실행할 수 있는 펌웨어로서 동작하는 BIOS를 포함하는 소프트웨어 구성 요소이다. BIOS 구성 요소(925)는 또한 프로세서와 다양한 다른 구성 요소, 예를 들어, 주변 구성 요소, 입력/출력 제어 구성 요소 등 사이의 데이터 흐름을 관리할 수 있다. BIOS 구성 요소(925)는 판독 전용 메모리(ROM), 플래시 메모리 또는 임의의 다른 비 휘발성 메모리에 저장된 프로그램 또는 소프트웨어를 포함할 수 있다.The
프로세서(930)는 지능형 하드웨어 디바이스(예를 들어, 범용 프로세서, 디지털 신호 프로세서(digital signal processor: DSP), CPU, 마이크로제어기, 주문형 집적 회로(application-specific integrated circuit: ASIC), 전계 프로그래밍 가능한 게이트 어레이(Field Programmable Gate Array: FPGA), 프로그래밍 가능한 논리 디바이스, 이산 게이트 또는 트랜지스터 논리 구성 요소, 이산 하드웨어 구성 요소 또는 이들의 임의의 조합)를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 프로세서(930)는 메모리 제어기(915 또는 960)를 사용하여 메모리 어레이를 동작시키도록 구성될 수 있다. 다른 경우에, 메모리 제어기(915 또는 960)는 프로세서(930)에 통합될 수 있다. 프로세서(930)는 메모리에 저장된 컴퓨터 판독 가능 명령을 실행하여 다양한 기능(예를 들어, 유연한 다중-채널 메모리를 지원하는 기능 또는 작업)을 수행하도록 구성될 수 있다.The
I/O 제어기(935)는 디바이스(905)에 대한 입력 및 출력 신호를 관리할 수 있다. I/O 제어기(935)는 또한 디바이스(905)에 통합되지 않은 주변 디바이스를 관리할 수 있다. 일부 경우에, I/O 제어기(935)는 외부 주변 디바이스와의 물리적 연결부 또는 포트를 나타낼 수 있다. I/O 제어기(935)는 iOS, ANDROID, MS-DOS, MS-WINDOWS, OS/2, UNIX, LINUX와 같은 운영 체제 또는 다른 알려진 운영 체제를 이용할 수 있다. 다른 경우에, I/O 제어기(935)는 모뎀, 키보드, 마우스, 터치 스크린 또는 유사한 디바이스를 나타내거나 이와 상호 작용할 수 있다. 일부 경우에, I/O 제어기(935)는 프로세서의 일부로서 구현될 수 있다. 사용자는 I/O 제어기(935)를 통해 또는 I/O 제어기(935)에 의해 제어되는 하드웨어 구성 요소를 통해 디바이스(905)와 상호 작용할 수 있다.I/
주변 구성 요소(940)는 임의의 입력 또는 출력 디바이스, 또는 이러한 디바이스를 위한 인터페이스를 포함할 수 있다. 예는 디스크 제어기, 사운드 제어기, 그래픽 제어기, 이더넷 제어기, 모뎀, 범용 직렬 버스(universal serial bus: USB) 제어기, 직렬 또는 병렬 포트, 또는 주변 디바이스 카드 슬롯, 예를 들어, 주변 구성 요소 상호 연결부(Peripheral Component Interconnect: PCI) 또는 가속 그래픽 포트(accelerated graphics port: AGP) 슬롯을 포함할 수 있다.Peripheral component 940 may include any input or output device, or an interface for such device. Examples are disk controllers, sound controllers, graphics controllers, Ethernet controllers, modems, universal serial bus (USB) controllers, serial or parallel ports, or peripheral device card slots, such as peripheral component interconnects. It may include a Component Interconnect: PCI) or an accelerated graphics port (AGP) slot.
입력(945)은 디바이스(905) 또는 그 구성 요소에 입력을 제공하는 디바이스 또는 디바이스(905) 외부의 신호를 나타낼 수 있다. 이것은 사용자 인터페이스를 포함하거나 또는 다른 디바이스와의 인터페이스를 포함하거나 또는 다른 디바이스 간의 인터페이스를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 입력(945)은 I/O 제어기(935)에 의해 관리될 수 있고, 주변 구성 요소(940)를 통해 디바이스(905)와 상호 작용할 수 있다.Input 945 may represent a signal external to device or
출력(950)은 또한 디바이스(905) 또는 그 임의의 구성 요소로부터 출력을 수신하도록 구성된 디바이스 또는 디바이스(905) 외부의 신호를 나타낼 수 있다. 출력(950)의 예는 그래픽 디스플레이, 오디오 스피커, 인쇄 디바이스, 다른 프로세서 또는 인쇄 회로 기판 등을 포함할 수 있다. 일부 경우에, 출력(950)은 주변 구성 요소(들)(940)를 통해 디바이스(905)와 인터페이싱하는 주변 요소일 수 있다. 출력(950)은 I/O 제어기(935)에 의해 관리될 수 있다.
시스템 메모리 제어기(915 또는 960)는 메모리 셀(예를 들어, 메모리 셀(920))의 제1 어레이와 전자 통신할 수 있다. 호스트는 메모리 제어기(915 또는 960) 및 대응하는 메모리 어레이가 일부인 디바이스에 대한 동작을 제어 또는 지시하는 구성 요소 또는 디바이스일 수 있다. 호스트는 컴퓨터, 모바일 디바이스 등의 구성 요소일 수 있다. 또는 디바이스(905)는 호스트로 지칭될 수 있다. 일부 예에서, 시스템 메모리 제어기(915 또는 960)는 GPU이다.System memory controller 915 or 960 may be in electronic communication with a first array of memory cells (eg, memory cells 920 ). The host may be a component or device that controls or directs operations on the memory controller 915 or 960 and the device of which the corresponding memory array is a part. The host may be a component of a computer, mobile device, or the like. Alternatively, the
인코더(965)는 디바이스(905) 또는 그 구성 요소에 저장될 데이터에 에러 정정 인코딩을 수행하는 디바이스 또는 디바이스(905) 외부의 신호를 나타낼 수 있다. 인코더(965)는 인코딩된 데이터를 적어도 하나의 채널을 통해 적어도 하나의 선택된 메모리에 기록할 수 있고, 에러 정정 코딩을 통해 데이터를 인코딩할 수도 있다.The
디코더(970)는 커맨드 신호 및 어드레싱 신호를 디바이스(905) 또는 그 구성 요소로 시퀀싱하는 디바이스 또는 디바이스(905) 외부의 신호를 나타낼 수 있다. 일부 예에서, 메모리 제어기(915 또는 960)는 디코더(970) 내에 함께 위치될 수 있다.The
다중화기(975)는 데이터를 디바이스(905) 또는 그 구성 요소로 다중화하는 디바이스 또는 디바이스(905) 외부의 신호를 나타낼 수 있다. 다중화기(975)는 인코더(965)로 전송될 데이터를 다중화하고, 인코더(965)로부터 수신된 데이터를 역다중화할 수 있다. 다중화기(975)는 디코더(970)와 전자 통신할 수 있다. 일부 예에서, 다중화기(975)는 시스템 메모리 제어기(915 또는 960)와 같은 제어기와 전자 통신할 수 있다.The
디바이스(905)의 구성 요소는 그 기능을 수행하도록 설계된 회로를 포함할 수 있다. 이것은 다양한 회로 요소, 예를 들어, 전도성 라인, 트랜지스터, 커패시터, 인덕터, 저항기, 증폭기 또는 본 명세서에 기술된 기능을 수행하도록 구성된 다른 능동 또는 비활성 요소를 포함할 수 있다. 디바이스(905)는 컴퓨터, 서버, 랩탑 컴퓨터, 노트북 컴퓨터, 태블릿 컴퓨터, 휴대폰, 웨어러블 전자 디바이스, 개인 전자 디바이스 등일 수 있다. 또는 디바이스(905)는 이러한 디바이스의 일부 또는 양태일 수 있다. 일부 예에서, 디바이스(905)는 차량(예를 들어, 자율 자동차, 비행기, 우주선 등)과 같은 높은 신뢰성, 미션 크리티컬(mission critical), 또는 낮은 레이턴시 제약 또는 파라미터를 갖는 컴퓨터의 양태이다. 디바이스(905)는 인공 지능(AI), 증강 현실(AR) 또는 가상 현실(VR) 애플리케이션을 위한 논리 회로이거나 이 논리 회로를 포함할 수 있다.Components of
일 예에서, 메모리 디바이스는 복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함할 수 있는 복수의 구역을 갖는 메모리 셀 어레이, 및 이 메모리 셀 어레이를 가로지르는 복수의 채널을 포함할 수 있다. 채널 각각은 메모리 셀 어레이의 구역과 결합될 수 있고, 구역의 복수의 메모리 셀 뱅크와 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성될 수 있다.In one example, a memory device may include an array of memory cells having a plurality of regions, each of which may include a plurality of banks of memory cells, and a plurality of channels across the memory cell array. Each channel may be associated with a region of the memory cell array and may be configured to communicate signals between a host device and a plurality of memory cell banks of the region.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 메모리 셀 어레이에 걸쳐 연장되는 I/O 영역을 더 포함할 수 있고, I/O 영역은 메모리 셀이 없을 수 있는 메모리 셀 어레이의 구역을 점유한다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, I/O 영역은 메모리 셀 어레이를 전력 노드 또는 접지 노드와 결합하도록 구성된 TSV를 포함할 수 있다.In some examples, the memory device may further include an I/O region extending across the memory cell array, the I/O region occupying an area of the memory cell array that may be free of memory cells. In some examples of memory devices, the I/O region may include a TSV configured to couple the memory cell array with a power node or a ground node.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 메모리 셀 어레이에 분배된 복수의 채널 인터페이스를 더 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 복수의 채널 인터페이스는 범프-아웃(bump-out)일 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 복수의 채널 인터페이스의 채널 인터페이스는 메모리 셀 어레이의 각 사분면에 위치될 수 있다.In some examples, the memory device can further include a plurality of channel interfaces distributed over the memory cell array. In some examples of memory devices, the plurality of channel interfaces may be bump-out. In some examples of memory devices, a channel interface of a plurality of channel interfaces may be located in each quadrant of the memory cell array.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 구역의 메모리 셀과 구역과 연관된 채널 인터페이스 사이에서 연장되는 복수의 신호 경로를 더 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 채널 인터페이스는 신호 경로의 길이를 최소화하기 위해 메모리 셀 어레이에 위치될 수 있다.In some examples, the memory device can further include a plurality of signal paths extending between the memory cells of the region and a channel interface associated with the region. In some examples of memory devices, a channel interface may be located in the memory cell array to minimize the length of the signal path.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 메모리 셀 어레이의 상부에 적층된 제2 메모리 셀 어레이를 더 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 제2 메모리 셀 어레이는 복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함할 수 있는 구역을 가질 수 있다. 일부 예에서, 메모리 디바이스는 제2 메모리 셀 어레이를 가로지르는 제2 복수의 채널을 더 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 제2 복수의 채널의 각각의 채널은 제2 메모리 셀 어레이의 제2 구역과 결합될 수 있고, 제2 구역의 복수의 메모리 셀 뱅크와 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성될 수 있다. In some examples, the memory device can further include a second memory cell array stacked on top of the memory cell array. In some examples of memory devices, the second array of memory cells can have a region that can each include a plurality of banks of memory cells. In some examples, the memory device can further include a second plurality of channels traversing the second array of memory cells. In some examples of the memory device, each channel of the second plurality of channels may be coupled with a second region of the second memory cell array to communicate signals between the plurality of memory cell banks of the second region and the host device. can be configured.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 제2 메모리 셀 어레이를 제2 복수의 채널과 결합시키기 위해 메모리 셀 어레이를 통해 연장되는 TSV를 더 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 채널은 구역과 호스트 디바이스 사이에 점 대 점 연결을 수립할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 각 채널은 4개 또는 8개의 데이터 핀을 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 메모리 셀 어레이의 구역은 8개 이상의 메모리 셀 뱅크를 포함할 수 있다.In some examples, the memory device can further include a TSV extending through the memory cell array to couple the second memory cell array with the second plurality of channels. In some examples of memory devices, a channel may establish a point-to-point connection between a zone and a host device. In some examples of memory devices, each channel may include 4 or 8 data pins. In some examples of memory devices, a region of an array of memory cells may include eight or more banks of memory cells.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 호스트 디바이스와 양방향으로 통신하도록 구성된 인터페이스를 더 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 인터페이스는 NRZ 변조 방식 또는 PAM4 방식 중 적어도 하나 또는 이들 둘 모두를 사용하여 변조된 신호를 통신하도록 구성될 수 있다.In some examples, the memory device can further include an interface configured to bi-directionally communicate with the host device. In some examples of the memory device, the interface may be configured to communicate a signal modulated using at least one or both of the NRZ modulation scheme or the PAM4 scheme.
일 예에서, 메모리 디바이스는 복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함하는 구역을 갖는 메모리 셀 어레이, 이 메모리 셀 어레이를 가로 질러 연장되는 I/O 영역으로서, 상기 메모리 셀 어레이로 그리고 상기 메모리 셀 어레이로부터 신호를 라우팅하도록 구성된 복수의 단자를 포함할 수 있는 상기 I/O 영역, 및 상기 메모리 셀 어레이의 I/O 영역에 위치된 복수의 채널을 포함할 수 있고, 각각의 채널은 메모리 셀 어레이의 구역과 결합될 수 있고, 구역의 복수의 메모리 셀 뱅크와 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성될 수 있다.In one example, a memory device includes an array of memory cells having a region each including a plurality of banks of memory cells, an I/O region extending across the array of memory cells, the I/O region extending across the array of memory cells to signal to and from the array of memory cells. The I/O region may include a plurality of terminals configured to route may be coupled and configured to communicate a signal between a host device and a plurality of banks of memory cells in the region.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 메모리 셀 어레이의 I/O 영역에 위치된 복수의 채널 인터페이스를 더 포함할 수 있으며, 신호 경로는 구역을 복수의 채널 인터페이스와 결합시킨다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, I/O 영역은 메모리 셀 어레이의 상부에 적층된 제2 메모리 셀 어레이를 채널 인터페이스와 결합 시키도록 구성된 TSV를 포함할 수 있다.In some examples, the memory device can further include a plurality of channel interfaces located in an I/O region of the memory cell array, wherein the signal path couples the region with the plurality of channel interfaces. In some examples of the memory device, the I/O region may include a TSV configured to couple a second memory cell array stacked on top of the memory cell array with a channel interface.
메모리 디바이스의 일부 예에서, 구역의 채널 인터페이스는 채널 인터페이스에 의해 서비스되는 구역을 이등분하는 I/O 영역 내에 위치될 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, I/O 영역은 메모리 셀 어레이를 전력 노드 또는 접지 노드와 결합하도록 구성된 TSV를 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, I/O 영역은 메모리 셀이 없을 수 있는 메모리 셀 어레이의 영역을 차지할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 메모리 셀 어레이는 2개의 I/O 영역에 의해 이등분될 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 메모리 셀 어레이는 4개의 I/O 영역에 의해 이등분될 수 있다.In some examples of memory devices, the channel interface of the region may be located in an I/O region that bisects the region serviced by the channel interface. In some examples of memory devices, the I/O region may include a TSV configured to couple the memory cell array with a power node or a ground node. In some examples of memory devices, the I/O region may occupy an area of an array of memory cells that may not have memory cells. In some examples of memory devices, the memory cell array may be bisected by two I/O regions. In some examples of memory devices, the memory cell array may be bisected by four I/O regions.
일 예에서, 시스템은 호스트 디바이스, 복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함할 수 있는 복수의 구역을 갖는 메모리 다이를 포함하는 메모리 디바이스, 및 이 호스트 디바이스와 메모리 디바이스를 통신 가능하게 결합하도록 구성된 복수의 채널을 포함할 수 있고, 각각의 채널은 메모리 다이의 구역과 결합될 수 있고, 구역의 복수의 메모리 셀 뱅크와 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성될 수 있다.In one example, a system includes a host device, a memory device comprising a memory die having a plurality of regions each having a plurality of banks of memory cells, and a plurality of channels configured to communicatively couple the host device and the memory device. wherein each channel may be associated with a region of the memory die and configured to communicate signals between a host device and a plurality of banks of memory cells of the region.
일부 예에서, 시스템은 호스트 디바이스와 양방향으로 통신하도록 구성된 인터페이스를 포함할 수 있다. 시스템의 일부 예에서, 인터페이스는 NRZ 변조 방식 또는 PAM4 방식 중 적어도 하나 또는 이들 둘 다를 사용하여 변조된 신호를 통신하도록 구성될 수 있다. 시스템의 일부 예에서, 호스트 디바이스는 GPU의 일례일 수 있다. 시스템의 일부 예에서, 메모리 디바이스는 호스트 디바이스와 동일한 패키지에 위치될 수 있다.In some examples, a system can include an interface configured to bi-directionally communicate with a host device. In some examples of the system, the interface may be configured to communicate signals modulated using at least one or both of the NRZ modulation scheme or the PAM4 scheme. In some examples of the system, the host device may be an example of a GPU. In some examples of the system, the memory device may be located in the same package as the host device.
일 예에서, 메모리 디바이스는 복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함하는 복수의 구역을 갖는 메모리 셀 어레이, 및 이 메모리 셀 어레이를 가로지르는 복수의 채널을 포함할 수 있으며, 각 채널은 메모리 셀 어레이의 적어도 하나의 구역에 결합될 수 있고, 각각의 채널은 2개 이상의 데이터 핀 및 하나 이상의 커맨드/어드레스 핀을 포함할 수 있다.In one example, a memory device may include a memory cell array having a plurality of zones each including a plurality of memory cell banks, and a plurality of channels across the memory cell array, each channel comprising at least one of the memory cell arrays. It may be coupled to one zone, and each channel may include two or more data pins and one or more command/address pins.
메모리 디바이스의 일부 예에서, 각 채널은 2개의 데이터 핀을 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 각 채널은 하나의 커맨드/어드레스 핀을 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 어레이의 각 구역은 4개의 메모리 셀 뱅크를 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 각 채널은 4개의 데이터 핀을 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 각 채널은 2개의 커맨드/어드레스 핀을 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 어레이의 각 구역은 8개의 메모리 셀 뱅크를 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 각 메모리 셀 뱅크는 채널과 인접할 수 있다.In some examples of memory devices, each channel may include two data pins. In some examples of memory devices, each channel may include one command/address pin. In some examples of memory devices, each region of the array may include four banks of memory cells. In some examples of memory devices, each channel may include four data pins. In some examples of memory devices, each channel may include two command/address pins. In some examples of memory devices, each region of the array may include a bank of eight memory cells. In some examples of memory devices, each bank of memory cells may be contiguous with a channel.
메모리 디바이스의 일부 예에서, 각각의 복수의 뱅크의 제1 세트는 채널과 인접할 수 있고, 각각의 복수의 뱅크의 제2 세트는 다른 뱅크와 인접할 수 있고, 채널과 인접하지 않을 수 있다. 일부 예에서, 메모리 디바이스는 128개의 데이터 핀을 포함할 수 있고, 채널마다 2, 4 또는 8개의 데이터 핀의 비율로 구성될 수 있다.In some examples of memory devices, a first set of each of the plurality of banks may be contiguous with a channel, and a second set of each of the plurality of banks may be contiguous with another bank and not contiguous with a channel. In some examples, the memory device may include 128 data pins, and may be configured at a ratio of 2, 4, or 8 data pins per channel.
일부 예에서, 메모리 디바이스는 채널마다 1, 2, 3, 4 또는 6개의 커맨드/어드레스 핀을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 메모리 디바이스는 256개의 데이터 핀을 포함할 수 있고, 채널마다 2, 4 또는 8개의 데이터 핀의 비율로 구성될 수 있다. 일부 예에서, 메모리 디바이스는 채널마다 1, 2, 3, 4 또는 6개의 커맨드/어드레스 핀을 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 어레이는 복수의 채널을 각각 포함할 수 있는 복수의 메모리 다이를 포함할 수 있다.In some examples, the memory device may include 1, 2, 3, 4, or 6 command/address pins per channel. In some examples, the memory device may include 256 data pins, and may be configured at a ratio of 2, 4, or 8 data pins per channel. In some examples, the memory device may include 1, 2, 3, 4, or 6 command/address pins per channel. In some examples of memory devices, the array may include a plurality of memory dies, each of which may include a plurality of channels.
메모리 디바이스의 일부 예에서, 복수의 메모리 다이 각각은 복수의 채널의 상이한 채널과 결합될 수 있다. 일부 예에서, 메모리 디바이스는 어레이와 결합된 버퍼 층을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 메모리 디바이스는 어레이의 하부에 유기 기판을 포함할 수 있다.In some examples of memory devices, each of the plurality of memory dies may be coupled with a different channel of the plurality of channels. In some examples, the memory device can include a buffer layer coupled with the array. In some examples, the memory device can include an organic substrate at the bottom of the array.
메모리 디바이스의 일부 예에서, 어레이는 10, 16, 20 또는 24 Gbps의 핀 속도로 구성될 수 있다. 일부 예에서, 메모리 디바이스는 호스트 디바이스와 양방향으로 통신하도록 구성된 인터페이스를 포함할 수 있다. 메모리 디바이스의 일부 예에서, 인터페이스는 이진 변조 시그널링 또는 펄스-진폭 변조 중 적어도 하나 또는 이들 둘 다를 위해 구성될 수 있다.In some examples of memory devices, the array may be configured with a pin rate of 10, 16, 20, or 24 Gbps. In some examples, the memory device can include an interface configured to bi-directionally communicate with the host device. In some examples of the memory device, the interface may be configured for at least one or both of binary modulation signaling or pulse-amplitude modulation.
일 예에서, 시스템은 복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함할 수 있는 복수의 구역을 포함할 수 있는 적어도 하나의 메모리 다이, 각 메모리 다이와 연관된 하나 이상의 채널을 포함할 수 있으며, 각 채널은 메모리 셀 다이의 적어도 하나의 구역에 결합될 수 있고, 각각의 채널은 2개 이상의 데이터 핀, 및 메모리 다이 아래에 있는 유기 기판을 포함할 수 있다.In one example, the system may include at least one memory die that may include a plurality of regions, each of which may include a plurality of banks of memory cells, one or more channels associated with each memory die, each channel comprising a memory cell die may be coupled to at least one region of , and each channel may include two or more data pins, and an organic substrate underlying the memory die.
일부 예에서, 시스템은 호스트 디바이스, 및 호스트 디바이스와 양방향으로 통신하도록 구성된 인터페이스를 포함할 수 있고, 인터페이스는 NRZ 시그널링 또는 PAM4 중 적어도 하나 또는 이들 둘 다를 지원할 수 있다. 시스템의 일부 예에서, 호스트 디바이스는 GPU를 포함할 수 있다.In some examples, a system may include a host device and an interface configured to bidirectionally communicate with the host device, wherein the interface may support at least one or both of NRZ signaling or PAM4. In some examples of the system, the host device may include a GPU.
일부 예에서, 시스템은, 128 또는 256개의 데이터 핀을 각각 포함할 수 있고 채널마다 2, 4 또는 8개의 데이터 핀의 비율로 구성된 복수의 메모리 어레이를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 시스템은 적어도 하나의 메모리 다이 및 유기 기판 사이에 위치된 버퍼 층을 포함할 수 있다.In some examples, the system may include a plurality of memory arrays, each including 128 or 256 data pins and configured at a ratio of 2, 4, or 8 data pins per channel. In some embodiments, the system may include a buffer layer positioned between the at least one memory die and the organic substrate.
본 명세서에 설명된 정보 및 신호는 다양한 다른 기술 및 기법 중 임의의 것을 사용하여 표현될 수 있다. 예를 들어, 상기 설명 전반에 걸쳐 참조될 수 있는 데이터, 명령, 커맨드, 정보, 신호, 비트, 심볼 및 칩은 전압, 전류, 전자기파, 자기장 또는 입자, 광학 장 또는 입자, 또는 이들의 임의의 조합으로 표현될 수 있다. 일부 도면은 신호를 단일 신호로서 도시할 수 있으나; 이 기술 분야에 통상의 지식을 가진 자라면 신호는 신호의 버스를 나타낼 수 있으며, 버스는 다양한 비트 폭을 가질 수 있는 것으로 이해된다.The information and signals described herein may be represented using any of a variety of different technologies and techniques. For example, data, instructions, commands, information, signals, bits, symbols, and chips that may be referenced throughout the above description are voltages, currents, electromagnetic waves, magnetic fields or particles, optical fields or particles, or any combination thereof. can be expressed as Some figures may depict the signal as a single signal; It is understood by those of ordinary skill in the art that a signal may represent a bus of a signal, and that the bus may have various bit widths.
본 명세서에서 사용될 수 있는 "가상 접지"라는 용어는 대략 0 볼트(0V)의 전압에서 유지되지만 접지와 직접 연결되지 않은 전기 회로의 노드를 지칭한다. 따라서 가상 접지의 전압이 일시적으로 변동하고 정상 상태에서 약 0V로 복귀될 수 있다. 가상 접지는 연산 증폭기 및 저항기로 구성된 전압 분배기와 같은 다양한 전자 회로 요소를 사용하여 구현될 수 있다. 다른 구현예도 가능하다. "가상 접지" 또는 "가상으로 접지된" 것이란 약 0V에 연결된 것임을 의미한다.The term “virtual ground” as used herein refers to a node in an electrical circuit that is maintained at a voltage of approximately zero volts (0V) but is not directly connected to ground. Therefore, the voltage of the virtual ground may fluctuate temporarily and return to about 0V in the steady state. Virtual grounding can be implemented using various electronic circuit elements, such as voltage dividers made up of operational amplifiers and resistors. Other implementations are possible. By "virtual ground" or "virtually grounded" we mean connected to about 0V.
본 명세서에 사용될 수 있는 "전자 통신" 및 "결합된"이라는 용어는 구성 요소들 사이의 전자 흐름을 지원하는 구성 요소들 간의 관계를 지칭한다. 이것은 구성 요소들 간의 직접 연결을 포함하거나 중간 구성 요소를 포함할 수 있다. 전자 통신에서 또는 서로 결합된 구성 요소는 (예를 들어, 통전된 회로에서) 전자 또는 신호를 능동적으로 교환하거나 또는 (예를 들어, 비-통전된 회로에서) 전자 또는 신호를 능동적으로 교환하지 않을 수 있지만, 회로가 통전될 때 전자 또는 신호를 교환하도록 구성되고 동작 가능할 수 있다. 예로서, 스위치(예를 들어, 트랜지스터)를 통해 물리적으로 연결된 2개의 구성 요소는 전자 통신 중이거나 또는 스위치의 상태(즉, 개방 또는 폐쇄)에 관계없이 결합될 수 있다.As used herein, the terms “electronic communication” and “coupled” refer to a relationship between components that support the flow of electrons between the components. This may include direct connections between components or may include intermediate components. In electronic communications or components coupled to each other, either actively exchange electrons or signals (eg, in a energized circuit) or not actively exchange electrons or signals (eg, in a non-energized circuit). However, it may be configured and operable to exchange electrons or signals when the circuit is energized. For example, two components physically connected via a switch (eg, a transistor) may be coupled regardless of whether they are in electronic communication or the state of the switch (ie, open or closed).
본 명세서에서 사용된 "층"이라는 용어는 기하학적 구조물의 계층 또는 시트를 말한다. 각 층은 3차원(예를 들어, 높이, 폭, 깊이)을 가질 수 있고, 표면의 일부 또는 전부를 커버할 수 있다. 예를 들어, 층은 2개의 차원이 제3 차원보다 더 큰 형태인 3차원 구조, 예를 들어 박막일 수 있다. 층은 상이한 요소, 구성 요소 및/또는 물질을 포함할 수 있다. 일부 경우에, 하나의 층은 둘 이상의 서브 층으로 구성될 수 있다. 첨부된 도면 중 일부에서 3차원 층 중 2개의 차원은 예시의 목적으로 도시된다. 그러나, 이 기술 분야에 통상의 지식을 가진 자라면 층들이 사실상 3차원이라는 것을 인식할 수 있을 것이다.As used herein, the term “layer” refers to a layer or sheet of geometric structures. Each layer may have three dimensions (eg, height, width, depth) and may cover some or all of the surface. For example, the layer may be a three-dimensional structure, such as a thin film, in the form of two dimensions greater than the third dimension. A layer may include different elements, components and/or materials. In some cases, one layer may consist of two or more sub-layers. In some of the accompanying drawings, two dimensions of the three-dimensional layer are shown for purposes of illustration. However, one of ordinary skill in the art will recognize that the layers are three-dimensional in nature.
본 명세서에 사용된 "전극"이라는 용어는 전기 전도체를 지칭할 수 있고, 일부 경우에는 메모리 어레이의 메모리 셀 또는 다른 구성 요소와의 전기 접점으로서 사용될 수 있다. 전극은 메모리 어레이의 요소 또는 구성 요소 사이에 전도성 경로를 제공하는 트레이스, 와이어, 전도성 라인, 전도성 층 등을 포함할 수 있다.As used herein, the term “electrode” may refer to an electrical conductor and, in some cases, may be used as an electrical contact with a memory cell or other component of a memory array. Electrodes may include traces, wires, conductive lines, conductive layers, etc. that provide conductive paths between elements or components of the memory array.
"절연된"이라는 용어는 구성 요소들 사이에 전자가 현재 흐를 수 없는 구성 요소들 간의 관계를 지칭하고; 구성 요소들 간에 개방 회로가 있는 경우 구성 요소는 서로 절연된다. 예를 들어, 스위치로 물리적으로 연결된 두 구성 요소는 스위치가 개방될 때 서로 절연될 수 있다.The term “isolated” refers to a relationship between components through which electrons cannot currently flow; Components are insulated from each other if there is an open circuit between them. For example, two components physically connected by a switch may be isolated from each other when the switch is opened.
메모리 어레이를 포함하여 본 명세서에 논의된 디바이스는 실리콘, 게르마늄, 실리콘-게르마늄 합금, 갈륨 비소, 질화갈륨 등과 같은 반도체 기판 상에 형성될 수 있다. 일부 경우에, 기판은 반도체 웨이퍼이다. 다른 경우에, 기판은 실리콘-온-절연체(silicon-on-insulator: SOI) 기판, 예를 들어, 실리콘-온-글래스(silocon-on-glass: SOG) 또는 실리콘-온-사파이어(silicon-on-sapphire: SOP), 또는 다른 기판 상의 반도체 물질의 에피택셜 층일 수 있다. 일부 예에서, 기판은 ABF 또는 BT와 같은 물질로 형성된 유기 빌드업 기판일 수 있다. 기판 또는 기판의 서브-구역의 전도성은 인, 붕소 또는 비소를 포함하지만 이로 제한되지 않는 다양한 화학종을 사용하여 도핑을 통해 제어될 수 있다. 도핑은 기판의 초기 형성 또는 성장 동안, 이온 주입에 의해 또는 임의의 다른 도핑 수단에 의해 수행될 수 있다.Devices discussed herein, including memory arrays, may be formed on semiconductor substrates such as silicon, germanium, silicon-germanium alloys, gallium arsenide, gallium nitride, and the like. In some cases, the substrate is a semiconductor wafer. In other cases, the substrate is a silicon-on-insulator (SOI) substrate, such as silicon-on-glass (SOG) or silicon-on-sapphire (SOI). -sapphire: SOP), or an epitaxial layer of semiconductor material on another substrate. In some examples, the substrate may be an organic build-up substrate formed of a material such as ABF or BT. The conductivity of the substrate or sub-regions of the substrate may be controlled through doping using various species including, but not limited to, phosphorus, boron or arsenic. Doping may be performed during initial formation or growth of the substrate, by ion implantation, or by any other doping means.
본 명세서에 논의된 트랜지스터 또는 트랜지스터들은 전계 효과 트랜지스터(FET)를 나타낼 수 있고, 소스, 드레인 및 게이트를 포함하는 3개의 단자 디바이스를 포함할 수 있다. 단자는 전도성 물질, 예를 들어 금속을 통해 다른 전자 구성 요소에 연결될 수 있다. 소스 및 드레인은 전도성일 수 있고, 고농도로 도핑된, 예를 들어 축퇴된 반도체 구역을 포함할 수 있다. 소스 및 드레인은 저농도로 도핑된 반도체 구역 또는 채널에 의해 분리될 수 있다. 채널이 n형인 경우(즉, 다수의 캐리어가 전자인 경우), FET는 n형 FET라고 지칭될 수 있다. 채널이 p형인 경우(즉, 다수의 캐리어는 정공인 경우), FET는 p형 FET로 지칭될 수 있다. 채널은 절연 게이트 산화물에 의해 캡핑될 수 있다. 채널 전도성은 게이트에 전압을 인가함으로써 제어될 수 있다. 예를 들어, 양의 전압 또는 음의 전압을 n형 FET 또는 p형 FET에 각각 인가하면 채널이 전도성이 될 수 있다. 트랜지스터의 임계 전압 이상의 전압이 트랜지스터 게이트에 인가될 때 트랜지스터는 "온(on)" 또는 "활성화"될 수 있다. 트랜지스터의 임계 전압보다 더 낮은 전압이 트랜지스터 게이트에 인가될 때 트랜지스터는 "오프(off)" 또는 "비활성화"될 수 있다.A transistor or transistors discussed herein may refer to a field effect transistor (FET) and may include a three terminal device comprising a source, a drain, and a gate. The terminals may be connected to other electronic components through conductive materials, such as metals. The source and drain may be conductive and may include heavily doped, eg, degenerate, semiconductor regions. The source and drain may be separated by a lightly doped semiconductor region or channel. When the channel is n-type (ie, the majority of carriers are electrons), the FET may be referred to as an n-type FET. When the channel is p-type (ie, the majority of carriers are holes), the FET may be referred to as a p-type FET. The channel may be capped by an insulating gate oxide. The channel conductivity can be controlled by applying a voltage to the gate. For example, a channel can become conductive when a positive or negative voltage is applied to an n-type FET or a p-type FET, respectively. A transistor may be "on" or "activated" when a voltage above the threshold voltage of the transistor is applied to the transistor gate. A transistor may be "off" or "deactivated" when a voltage lower than the threshold voltage of the transistor is applied to the transistor gate.
첨부된 도면과 관련하여 본 명세서에 제시된 설명은 예시적인 구성을 설명하고, 구현될 수 있거나 청구범위 내에 있는 모든 예를 나타내는 것은 아니다. 본 명세서에 사용된 "예시적인"이라는 용어는 "예, 경우 또는 예시로서 제공되는" 것을 의미하며, "바람직한" 또는 "다른 예보다 유리한" 것을 나타내는 것이 아닌 것을 의미한다. 상세한 설명은 설명된 기법의 이해를 제공하기 위한 구체적인 상세를 포함한다. 그러나, 이들 기법은 이들 특정 상세 없이 실시될 수 있다. 일부 경우에, 잘 알려진 구조 및 디바이스는 설명된 예의 개념을 모호하게 하는 것을 피하기 위해 블록도 형태로 도시된다.The description presented herein in connection with the appended drawings describes exemplary configurations and does not represent all examples that may be implemented or are within the scope of the claims. As used herein, the term "exemplary" means "serving as an example, instance, or illustration," and is not meant to indicate "preferred" or "advantageous over other examples." The detailed description includes specific details for providing an understanding of the described techniques. However, these techniques may be practiced without these specific details. In some instances, well-known structures and devices are shown in block diagram form in order to avoid obscuring the concepts of the described examples.
첨부된 도면에서, 유사한 구성 요소 또는 특징은 동일한 기준 라벨을 가질 수 있다. 나아가, 동일한 유형의 다양한 구성 요소는 유사한 구성 요소를 구별하는 대시 및 제2 라벨로 기준 라벨을 따름으로써 구별될 수 있다. 본 명세서에 제1 기준 라벨만이 사용되는 경우, 설명은 제2 기준 라벨에 상관없이 동일한 제1 기준 라벨을 갖는 유사한 구성 요소 중 임의의 것에 적용될 수 있다.In the accompanying drawings, similar components or features may have the same reference label. Furthermore, various components of the same type may be distinguished by following a reference label with a dash and a second label to distinguish similar components. Where only the first reference label is used herein, the description may apply to any of the similar components having the same first reference label irrespective of the second reference label.
본 명세서에 설명된 정보 및 신호는 다양한 상이한 기술 및 기법 중 임의의 것을 사용하여 표현될 수 있다. 예를 들어, 상기 설명 전체에 걸쳐 참조될 수 있는 데이터, 명령, 커맨드, 정보, 신호, 비트, 심볼 및 칩은 전압, 전류, 전자기파, 자기장 또는 입자, 광학 장 또는 입자, 또는 이들의 임의의 조합으로 표현될 수 있다. The information and signals described herein may be represented using any of a variety of different technologies and techniques. For example, data, instructions, commands, information, signals, bits, symbols, and chips that may be referenced throughout the above description include voltages, currents, electromagnetic waves, magnetic fields or particles, optical fields or particles, or any combination thereof. can be expressed as
본 발명과 관련하여 설명된 다양한 예시적인 블록 및 모듈은 범용 프로세서, DSP, ASIC, FPGA 또는 다른 프로그래밍 가능한 논리 디바이스, 이산 게이트 또는 트랜지스터 논리, 이산 하드웨어 구성 요소, 또는 본 명세서에 설명된 기능을 수행하도록 설계된 이들의 임의의 조합으로 구현 또는 수행될 수 있다. 범용 프로세서는 마이크로프로세서일 수 있지만, 대안적으로 프로세서는 임의의 프로세서, 제어기, 마이크로제어기 또는 상태 머신일 수 있다. 프로세서는 또한 컴퓨팅 디바이스의 조합(예를 들어, DSP와 마이크로프로세서의 조합, 다중 마이크로프로세서, DSP 코어와 연계된 하나 이상의 마이크로프로세서, 또는 임의의 다른 이러한 구성)으로서 구현될 수 있다.The various illustrative blocks and modules described in connection with the present invention may be general-purpose processors, DSPs, ASICs, FPGAs or other programmable logic devices, discrete gate or transistor logic, discrete hardware components, or configured to perform the functions described herein. It can be implemented or carried out in any combination of these designed. A general purpose processor may be a microprocessor, but in the alternative, the processor may be any processor, controller, microcontroller, or state machine. A processor may also be implemented as a combination of computing devices (eg, a combination of a DSP and a microprocessor, multiple microprocessors, one or more microprocessors in association with a DSP core, or any other such configuration).
본 명세서에 설명된 기능은 하드웨어, 프로세서에 의해 실행되는 소프트웨어, 펌웨어 또는 이들의 임의의 조합으로 구현될 수 있다. 프로세서에 의해 실행되는 소프트웨어로 구현되는 경우, 기능은 컴퓨터 판독 가능 매체 상에 하나 이상의 명령 또는 코드로서 저장되거나 전송될 수 있다. 다른 예 및 구현은 본 발명 및 첨부된 청구범위 내에 있다. 예를 들어, 소프트웨어의 특성으로 인해, 전술한 기능은 프로세서, 하드웨어, 펌웨어, 하드와이어 또는 이들 중 임의의 조합에 의해 실행되는 소프트웨어를 사용하여 구현될 수 있다. 기능을 구현하는 특징은 또한 기능의 일부가 상이한 물리적 위치에서 구현되도록 분산되는 것을 포함하여 다양한 위치에 물리적으로 위치될 수 있다. 또한, 청구범위를 포함하여 본 명세서에 사용된 항목 목록(예를 들어, "적어도 하나" 또는 "하나 이상"과 같은 어구로 시작되는 항목 목록)에서 사용된 "또는"이라는 용어는 예를 들어, A, B 또는 C 중 적어도 하나의 항목이 A 또는 B 또는 C 또는 AB 또는 AC 또는 BC 또는 ABC(즉, A 및 B 및 C)를 의미하는 포괄적인 항목을 나타낸다. 또한, 본 명세서에 사용된 "~에 기초하여"라는 어구는 닫힌 조건 세트를 언급하는 것으로 해석되지 않아야 한다. 예를 들어, "조건 A에 기초하여"로 설명된 예시적인 단계는 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 조건 A 및 조건 B에 기초할 수 있다. 다시 말해서, 본 명세서에 사용된 "~에 기초하여"라는 어구는 "~에 적어도 부분적으로 기초하여"라는 어구와 동일한 방식으로 해석되어야 한다.The functions described herein may be implemented in hardware, software executed by a processor, firmware, or any combination thereof. If implemented in software executed by a processor, the functions may be stored on or transmitted over as one or more instructions or code on a computer-readable medium. Other examples and implementations are within the scope of the present invention and appended claims. For example, due to the nature of software, the functions described above may be implemented using software executed by a processor, hardware, firmware, hardwired, or any combination thereof. Features implementing the functionality may also be physically located in various locations, including distributed such that portions of the functionality are implemented in different physical locations. Also, the term "or" as used in a list of items (e.g., a list of items beginning with a phrase such as "at least one" or "one or more") used herein, including in the claims, means, for example, At least one item of A, B or C represents an inclusive item meaning A or B or C or AB or AC or BC or ABC (ie, A and B and C). Also, as used herein, the phrase “based on” should not be construed as referring to a closed set of conditions. For example, exemplary steps described as “based on condition A” may be based on condition A and condition B without departing from the scope of the present invention. In other words, the phrase “based on” as used herein should be interpreted in the same way as the phrase “based at least in part on”.
컴퓨터 판독 가능 매체는 하나의 장소로부터 다른 장소로 컴퓨터 프로그램의 전송을 용이하게 하는 임의의 매체를 포함하는 비-일시적인 컴퓨터 저장 매체 및 통신 매체를 모두 포함한다. 비-일시적인 저장 매체는 범용 또는 특수 목적 컴퓨터에 의해 액세스될 수 있는 임의의 이용 가능한 매체일 수 있다. 예로서, 비-제한적으로, 비-일시적인 컴퓨터 판독 가능 매체는 RAM, ROM, 전기적으로 소거 가능한 프로그래밍 가능 판독 전용 메모리(EEPROM), 콤팩트 디스크(CD) ROM 또는 다른 광 디스크 저장 디바이스, 자기 디스크 저장 디바이스 또는 다른 자기 저장 디바이스, 또는 명령 또는 데이터 구조의 형태로 원하는 프로그램 코드 수단을 운반 또는 저장하는데 사용될 수 있고 범용 또는 특수 목적 컴퓨터 또는 범용 목적 또는 특수 목적 프로세서에 의해 액세스될 수 있는 임의의 다른 비-일시적인 매체를 포함할 수 있다. 또한, 임의의 연결은 컴퓨터 판독 가능 매체라고 적절히 지칭된다. 예를 들어 소프트웨어가 동축 케이블, 광섬유 케이블, 트위스트 페어(twisted pair), 디지털 가입자 회선(Digital Subscriber Line: DSL), 또는 적외선, 라디오 및 마이크로파와 같은 무선 기술을 사용하여, 웹 사이트, 서버 또는 다른 원격 소스로부터 전송되는 경우, 동축 케이블, 광섬유 케이블, 트위스트 페어, 디지털 가입자 회선(DSL), 또는 적외선, 라디오 및 마이크로파와 같은 무선 기술이 매체의 정의에 포함된다. 본 명세서에 사용된 디스크(disk) 및 디스크(disc)는 CD, 레이저 디스크, 광 디스크, 디지털 다용도 디스크(digital versatile disc: DVD), 플로피 디스크 및 블루레이 디스크를 포함되고, 여기서 디스크(disk)는 일반적으로 자기적으로 데이터를 재생하는 것인 반해, 디스크(disc)는 레이저로 광학적으로 데이터를 재생하는 것을 말한다. 상기의 조합은 또한 컴퓨터 판독 가능 매체의 범위 내에 포함된다.Computer-readable media includes both communication media and non-transitory computer storage media including any medium that facilitates transfer of a computer program from one place to another. A non-transitory storage medium may be any available medium that can be accessed by a general purpose or special purpose computer. By way of example, and not limitation, non-transitory computer readable media include RAM, ROM, electrically erasable programmable read only memory (EEPROM), compact disk (CD) ROM or other optical disk storage device, magnetic disk storage device. or any other magnetic storage device, or any other non-transitory, means that can be used to carry or store the desired program code means in the form of instructions or data structures and which can be accessed by a general purpose or special purpose computer or general purpose or special purpose processor. media may be included. Also, any connection is properly termed a computer-readable medium. For example, if the Software uses a coaxial cable, fiber optic cable, twisted pair, Digital Subscriber Line (DSL), or wireless technology such as infrared, radio, and microwave, a website, server, or other remote When transmitted from a source, the definition of a medium includes coaxial cable, fiber optic cable, twisted pair, digital subscriber line (DSL), or wireless technologies such as infrared, radio and microwave. As used herein, disk and disk include CD, laser disk, optical disk, digital versatile disk (DVD), floppy disk, and Blu-ray disk, where disk is In general, data is reproduced magnetically, whereas a disc refers to data reproduced optically with a laser. Combinations of the above are also included within the scope of computer-readable media.
본 명세서의 설명은 이 기술 분야에 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명을 제조하거나 사용할 수 있도록 제공된다. 본 발명에 대한 다양한 수정은 이 기술 분야에 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이며, 본 명세서에 한정된 일반적인 원리는 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 다른 변형에 적용될 수도 있다. 따라서, 본 발명은 본 명세서에 설명된 예 및 설계로 제한되지 않고, 본 명세서에 개시된 원리 및 신규한 특징과 일치하는 최광의 범위에 따라야 한다.The description herein is provided to enable any person skilled in the art to make or use the present invention. Various modifications to the present invention will be apparent to those skilled in the art, and the generic principles defined herein may be applied to other modifications without departing from the scope of the invention. Accordingly, the present invention is not to be limited to the examples and designs described herein, but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features disclosed herein.
Claims (20)
복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함하는 복수의 구역을 갖는 메모리 셀 어레이; 및
상기 메모리 셀 어레이를 가로지르는 복수의 채널로서, 상기 복수의 채널의 각각의 채널은 상기 메모리 셀 어레이의 구역과 결합되고, 상기 구역의 상기 복수의 메모리 셀 뱅크와 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성된, 상기 복수의 채널을 포함하는, 메모리 디바이스.A memory device comprising:
a memory cell array having a plurality of zones each including a plurality of memory cell banks; and
a plurality of channels traversing the memory cell array, each channel of the plurality of channels coupled to a region of the memory cell array and configured to communicate a signal between a host device and the plurality of memory cell banks of the region , a memory device comprising the plurality of channels.
상기 메모리 셀 어레이를 가로 질러 연장되는 입력/출력(I/O) 영역을 더 포함하되, 상기 I/O 영역은 메모리 셀이 없는 상기 메모리 셀 어레이의 영역을 차지하는, 메모리 디바이스.According to claim 1,
and an input/output (I/O) region extending across the memory cell array, wherein the I/O region occupies an area of the memory cell array devoid of memory cells.
상기 메모리 셀 어레이에 분포된 복수의 채널 인터페이스를 더 포함하는 메모리 디바이스.According to claim 1,
and a plurality of channel interfaces distributed over the array of memory cells.
상기 구역의 메모리 셀과 상기 구역과 연관된 채널 인터페이스 사이에 연장되는 복수의 신호 경로를 더 포함하되, 상기 채널 인터페이스는 상기 복수의 신호 경로의 길이를 최소화하기 위해 상기 메모리 셀의 어레이에 위치되는, 메모리 디바이스.5. The method of claim 4,
and a plurality of signal paths extending between the memory cells of the region and a channel interface associated with the region, wherein the channel interfaces are located in the array of memory cells to minimize lengths of the plurality of signal paths. device.
상기 메모리 셀 어레이의 상부에 적층된 제2 메모리 셀 어레이로서, 복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함하는 구역을 갖는, 상기 제2 메모리 셀 어레이; 및
상기 제2 메모리 셀 어레이를 가로지르는 제2 복수의 채널로서, 상기 제2 복수의 채널의 각각의 채널은 상기 제2 메모리 셀 어레이의 제2 구역과 결합되고, 상기 제2 구역의 복수의 메모리 셀 뱅크와 상기 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성된, 상기 제2 복수의 채널을 더 포함하는, 메모리 디바이스.According to claim 1,
a second memory cell array stacked on top of the memory cell array, the second memory cell array having a region each including a plurality of memory cell banks; and
a second plurality of channels crossing the second memory cell array, each channel of the second plurality of channels coupled to a second region of the second memory cell array, the plurality of memory cells in the second region and the second plurality of channels configured to communicate signals between a bank and the host device.
복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함하는 구역을 갖는 메모리 셀의 어레이;
상기 메모리 셀 어레이를 가로 질러 연장되는 입력/출력(I/O) 영역으로서, 상기 메모리 셀 어레이로 그리고 상기 메모리 셀 어레이로부터 신호를 라우팅하도록 구성된 복수의 단자를 포함하는, 상기 입력/출력(I/O) 영역; 및
상기 메모리 셀 어레이의 상기 I/O 영역에 위치된 복수의 채널로서, 상기 복수의 채널의 각각의 채널은 상기 메모리 셀 어레이의 구역과 결합되고, 상기 구역의 상기 복수의 메모리 셀 뱅크와 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성된, 상기 복수의 채널을 포함하는, 메모리 디바이스.A memory device comprising:
an array of memory cells having a region each comprising a plurality of memory cell banks;
an input/output (I/O) region extending across the memory cell array, the input/output (I/O) region comprising a plurality of terminals configured to route signals to and from the memory cell array O) area; and
a plurality of channels located in the I/O region of the memory cell array, each channel of the plurality of channels coupled with a region of the memory cell array, between the plurality of memory cell banks of the region and a host device and the plurality of channels configured to communicate a signal to
상기 메모리 셀 어레이의 상기 I/O 영역에 위치된 복수의 채널 인터페이스를 더 포함하되, 신호 경로가 상기 구역을 상기 복수의 채널 인터페이스와 결합시키는, 메모리 디바이스.11. The method of claim 10,
and a plurality of channel interfaces located in the I/O region of the memory cell array, wherein a signal path couples the region with the plurality of channel interfaces.
호스트 디바이스;
복수의 메모리 셀 뱅크를 각각 포함하는 복수의 구역을 갖는 메모리 다이를 포함하는 메모리 디바이스; 및
상기 호스트 디바이스와 상기 메모리 디바이스를 통신 가능하게 결합하도록 구성된 복수의 채널로서, 상기 채널들 각각은 상기 메모리 다이의 구역과 결합되고, 상기 구역의 상기 복수의 메모리 셀 뱅크와 상기 호스트 디바이스 사이에 신호를 통신하도록 구성된, 상기 복수의 채널을 포함하는, 시스템.As a system,
host device;
a memory device comprising a memory die having a plurality of regions each comprising a plurality of banks of memory cells; and
a plurality of channels configured to communicatively couple the host device and the memory device, each of the channels coupled with a region of the memory die and configured to transmit a signal between the host device and the plurality of banks of memory cells of the region and the plurality of channels configured to communicate.
상기 호스트 디바이스와 양방향으로 통신하도록 구성된 인터페이스를 더 포함하되, 상기 인터페이스는 0으로의 비-복귀(Non-Return to Zero: NRZ) 변조 방식 또는 4-심볼 펄스 진폭 변조(four-symbol pulse-amplitude modulation: PAM4) 방식 중 적어도 하나 또는 이들 둘 다를 사용하여 변조된 신호를 통신하도록 구성된, 시스템.18. The method of claim 17,
and an interface configured to bidirectionally communicate with the host device, wherein the interface includes a Non-Return to Zero (NRZ) modulation scheme or a four-symbol pulse-amplitude modulation scheme. : A system configured to communicate the modulated signal using at least one or both of: PAM4) schemes.
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