KR20210087018A

KR20210087018A - A light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel, a light-transmitting conductive layer-forming polarizing film, and a touch panel display device

Info

Publication number: KR20210087018A
Application number: KR1020217008939A
Authority: KR
Inventors: 노조미 후지노; 히데히코 안도
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2018-11-07
Filing date: 2019-10-31
Publication date: 2021-07-09
Also published as: TW202024884A; CN113168934A; JP7469043B2; WO2020095814A1; CN113168934B; JPWO2020095814A1

Abstract

터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 필름 기재 (2) 와 광 투과성 도전층 (3) 을 구비한다. 광 투과성 도전층 (3), 및, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 은, 모두, 비정질이다. 광 투과성 도전층 (3) 의 캐리어 밀도를 Xa × 10¹⁹(/㎤), 홀 이동도를 Ya (㎠/V·s) 로 하고, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 캐리어 밀도를 Xc × 10¹⁹(/㎤), 홀 이동도를 Yc (㎠/V·s) 로 했을 때에, 하기 식 (1) 및 식 (2) 의 양방을 만족한다.
0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1)
Yc ＞ Ya (2)The transparent conductive layer formation film for touch panels (1) is equipped with the film base material (2) and the transparent conductive layer (3). The light transmissive conductive layer 3 and the light transmissive conductive layer to be heated 3α are both amorphous. The carrier density of the light transmissive conductive layer 3 is Xa × 10 ¹⁹ (/cm 3 ), the hole mobility is Ya (cm 2 /V·s), and the carrier density of the light transmissive conductive layer to be heated 3α is Xc × When 10 ¹⁹ (/cm 3 ) and the hole mobility are Yc (cm 2 /V·s), both of the following formulas (1) and (2) are satisfied.
0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1)
Yc > Ya (2)

Description

터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 및 터치 패널 표시 장치A light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel, a light-transmitting conductive layer-forming polarizing film and a touch panel display device

본 발명은, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 및 터치 패널 표시 장치에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a film for forming a transparent conductive layer for a touch panel, a polarizing film with a transparent conductive layer to a touch panel display device.

종래, 필름 기재 및 투명 도전층을 구비하는 투명 도전성 필름이 알려져 있고, 또, 이 투명 도전성 필름은, 터치 패널형 장치에 사용되는 터치 패널용 투명 도전성 필름으로서도 알려져 있다 (예를 들어, 하기 특허문헌 1 참조.).Conventionally, a transparent conductive film provided with a film base material and a transparent conductive layer is known, and this transparent conductive film is also known as a transparent conductive film for touch panels used in a touch panel type device (for example, the following patent document) see 1.).

이와 같은 터치 패널용 투명 도전성 필름에서는, 투명 도전층은, 저저항화의 관점에서, 결정질이다. In such a transparent conductive film for touch panels, a transparent conductive layer is crystalline from a viewpoint of low resistance.

일본 공개특허공보 2018-78090호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2018-78090

그러나, 결정질의 투명 도전층은, 크랙을 일으키기 쉽다는 문제가 있다.However, there is a problem that the crystalline transparent conductive layer is prone to cracking.

그래서, 비정질의 투명 도전층을 구비하는 터치 패널용 투명 도전성 필름이 시안된다.Then, the transparent conductive film for touch panels provided with an amorphous transparent conductive layer is cyan.

그러나, 비정질의 투명 도전층은, 막질의 안정성이 낮은 점에서, 가열 (구체적으로는, 80 ℃ 이내에서의 저온 가열) 에 의해, 결정화가 서서히 진행되어 버리고, 일정 이상 결정화가 진행된 결과, 저항값 등의 특성이 크게 변화하는 문제가 있다.However, since the amorphous transparent conductive layer has low film quality stability, crystallization proceeds gradually by heating (specifically, low-temperature heating within 80°C), and as a result of crystallization proceeding more than a certain amount, the resistance value There is a problem in that the characteristics, such as, change significantly.

본 발명은, 크랙의 발생을 억제할 수 있으면서, 열적 안정성이 우수한 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름과, 그것을 구비하는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 및 터치 패널 표시 장치를 제공한다. The present invention provides a film for forming a light-transmitting conductive layer for a touch panel that is excellent in thermal stability while suppressing the occurrence of cracks, a polarizing film with a light-transmitting conductive layer provided therewith, and a touch panel display device.

본 발명 [1] 은, 필름 기재와, 광 투과성 도전층을 구비하고, 상기 광 투과성 도전층, 및, 상기 광 투과성 도전층을 80 ℃ 에서, 500 시간 가열한 후의 피가열 광 투과성 도전층은, 모두, 비정질이며, 상기 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도를 Xa × 10¹⁹ (/㎤), 홀 이동도를 Ya (㎠/V·s) 로 하고, 상기 피가열 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도를 Xc × 10¹⁹ (/㎤), 홀 이동도를 Yc (㎠/V·s) 로 했을 때에, 하기 (1) 식 및 식 (2) 의 양방을 만족하는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 포함한다.The present invention [1] is provided with a film substrate and a light-transmitting conductive layer, wherein the light-transmitting conductive layer and the light-transmitting conductive layer to be heated after heating the light-transmitting conductive layer at 80 ° C. for 500 hours, All are amorphous, and the carrier density of the light-transmitting conductive layer is Xa × 10 ¹⁹ (/cm 3 ), the hole mobility is Ya (cm 2 /V·s), and the carrier density of the light-transmitting conductive layer to be heated is Xc x 10 ¹⁹ (/cm 3 ) and hole mobility Yc (cm 2 /V·s), satisfying both of the following (1) formulas and formulas (2), a light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel include

0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1) 0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1)

Yc＞Ya (2) Yc>Ya (2)

본 발명 [2] 는, 상기 필름 기재는, 장척 형상을 갖고, 상기 필름 기재는, 30 cm 이상의 폭 방향 길이를 갖는, [1] 에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 포함한다.In this invention [2], the said film base material has a long shape, and the said film base material contains the light transmissive conductive layer formation film for touch panels as described in [1] which has a width direction length of 30 cm or more.

본 발명 [3] 은, 상기 피가열 광 투과성 도전층의 상기 폭 방향을 따른 3 점의 위치에서 Xc 및 Yc 의 각각을 측정하고, 상기 Xc 의 표준 편차가, 10 × 10¹⁹(/㎤) 이하이며, 상기 Yc 의 표준 편차가, 5 (㎠/V·s) 이하인, [2] 에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 포함한다.In the present invention [3], each of Xc and Yc is measured at three positions along the width direction of the light-transmitting conductive layer to be heated, and the standard deviation of Xc is 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less and the standard deviation of said Yc is 5 (cm<2>/V*s) or less, The light-transmitting conductive layer formation film for touch panels as described in [2] is included.

본 발명 [4] 는, 상기 필름 기재는, 30 cm 이상의 TD 방향 길이를 갖는, [1] ∼ [3] 중 어느 한 항에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 포함한다. In this invention [4], the said film base material contains the light transmissive conductive layer formation film for touch panels in any one of [1]-[3] which has a TD direction length of 30 cm or more.

본 발명 [5] 는, 상기 피가열 광 투과성 도전층의 상기 TD 방향을 따른 3 점의 위치에서 Xc 및 Yc 의 각각을 측정하고, 상기 Xc 의 표준 편차가, 10 × 10¹⁹(/㎤) 이하이며, 상기 Yc 의 표준 편차가, 5 (㎠/V·s) 이하인, [4] 에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 포함한다.In the present invention [5], each of Xc and Yc is measured at three positions along the TD direction of the light-transmitting conductive layer to be heated, and the standard deviation of Xc is 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less and the standard deviation of said Yc is 5 (cm<2>/V*s) or less, including the light-transmitting conductive layer forming film for touch panels as described in [4].

본 발명 [6] 은, 상기 광 투과성 도전층은, 인듐계 산화물을 함유하는, [1] ∼ [5] 중 어느 한 항에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 포함한다.In this invention [6], the said light transmissive conductive layer contains the light transmissive conductive layer formation film for touch panels in any one of [1]-[5] containing an indium-type oxide.

본 발명 [7] 은, [1] ∼ [6] 중 어느 한 항에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름과, 편광자를 구비하고, 상기 광 투과성 도전층, 상기 필름 기재 및 상기 편광자가, 이 순서로 배치되어 있는, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름을 포함한다.The present invention [7] is provided with the light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel according to any one of [1] to [6], and a polarizer, wherein the light-transmitting conductive layer, the film substrate and the polarizer are The light-transmitting conductive layer formation polarizing film arrange|positioned in this order is included.

본 발명 [8] 은, 상기 광 투과성 도전층 및 상기 편광자 사이에 배치되는 1/4 파장층을 추가로 구비하는, [7] 에 기재된 광 투과성 도전층 형성 편광 필름을 포함한다.The present invention [8] includes the polarizing film with a transparent conductive layer according to [7], further comprising a quarter-wavelength layer disposed between the light-transmitting conductive layer and the polarizer.

본 발명 [9] 는, [7] 또는 [8] 에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 편광 필름을 구비하는, 터치 패널 표시 장치를 포함한다.The present invention [9] includes a touch panel display device provided with the polarizing film with a transparent conductive layer for touch panels according to [7] or [8].

본 발명의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름에서는, 광 투과성 도전층 및 피가열 광 투과성 도전층은, 모두, 비정질이기 때문에, 크랙의 발생이 억제된다.In the light transmissive conductive layer forming film for touch panels of this invention, since both a transmissive conductive layer and a to-be-heated light transmissive conductive layer are amorphous, generation|occurrence|production of a crack is suppressed.

또, 광 투과성 도전층 및 피가열 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도 및 홀 이동도가 소정의 조건을 만족하기 때문에, 가열에 의한 광 투과성 도전층의 표면 저항의 변화율 및/또는 차를 억제할 수 있고, 그 때문에, 열안정성이 우수하다.In addition, since the carrier density and hole mobility of the light-transmitting conductive layer and the light-transmitting conductive layer to be heated satisfy predetermined conditions, the rate of change and/or difference in the surface resistance of the light-transmitting conductive layer due to heating can be suppressed. , Therefore, it is excellent in thermal stability.

본 발명의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름은, 열안정성이 우수하므로, 이것을 구비하는 본 발명의 터치 패널용 표시 장치는, 신뢰성이 우수하다. Since the polarizing film with a transparent conductive layer of this invention is excellent in thermal stability, the display device for touch panels of this invention provided with this is excellent in reliability.

도 1 은, 본 발명의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름의 일 실시형태의 단면도를 나타낸다.
도 2 의 도 2A ∼ 도 2C 는, 도 1 에 나타내는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름의 평면도이며, 도 2A 는, 외형 가공 전의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름, 도 2B 는, 외형 가공 후에 있어서, TD 방향을 따른 단변을 갖는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름, 도 2C 는, 외형 가공 후에 있어서, TD 방향을 따른 장변을 갖는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 나타낸다.
도 3 은, 도 1 에 나타내는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름을 구비하는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 및 터치 패널 표시 장치의 일 실시형태의 단면도를 나타낸다.
도 4 는, 도 3 에 나타내는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름의 변형예의 단면도를 나타낸다. 1 : is sectional drawing of one Embodiment of the transparent conductive layer formation film for touch panels of this invention.
2A to 2C are plan views of the light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel shown in FIG. 1 , FIG. 2A is a light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel before external shape processing, and FIG. 2B is external shape processing. In the following description, the film for forming a light-transmitting conductive layer for a touch panel having a short side along the TD direction, FIG. 2C shows a film for forming a light-transmitting conductive layer for a touch panel having a long side along the TD direction after external processing.
3 : is sectional drawing of one Embodiment of the transparent conductive layer formation polarizing film provided with the transparent conductive layer formation film for touch panels shown in FIG. 1, and a touch panel display device.
FIG. 4 : shows sectional drawing of the modification of the polarizing film with a transparent conductive layer shown in FIG. 3. FIG.

＜일 실시형태＞ <one embodiment>

본 발명의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름의 일 실시형태를, 도 1 을 참조하여, 설명한다.One Embodiment of the transparent conductive layer formation film for touch panels of this invention is described with reference to FIG.

이 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 소정의 두께를 갖는 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 이루고, 두께 방향과 직교하는 소정 방향 (면 방향) 으로 연장되고, 평탄한 일방면 및 평탄한 타방면 (2 개의 주면 (主面)) 을 갖는다. 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 또는 터치 패널 표시 장치 (15) (후술, 도 3 참조) 등의 일부품이며, 요컨대, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 또는 터치 패널 표시 장치 (15) 는 아니다. 즉, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 등을 제작하기 위한 부품이며, 원편광판 (18), 광 투과성 감압 접착제층 (5), 광원 (20), 액정 셀 (21) (후술, 도 3 참조) 등을 포함하지 않고, 부품 단독으로 유통하고, 산업상 이용 가능한 디바이스이다.As shown in FIG. 1, this light-transmitting conductive layer forming film 1 for touch panels comprises a film shape (including a sheet shape) having a predetermined thickness, and a predetermined direction (plane direction) orthogonal to the thickness direction. , and has a flat one surface and a flat other surface (two main surfaces). The light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels is a part, such as the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 or the touch panel display device 15 (it mentions later, refer FIG. 3), that is, light transmissive electroconductive. It is not the layered polarizing film 4 or the touch panel display device 15 . That is, the light-transmitting conductive layer-forming film 1 for a touch panel is a component for producing the light-transmitting conductive layer-forming polarizing film 4 and the like, and includes a circularly polarizing plate 18, a light transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5, and a light source. It is a device which distribute|circulates without including (20), the liquid crystal cell 21 (refer later, FIG. 3) etc., and can be used industrially by component independent.

구체적으로는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 필름 기재 (2) 와, 광 투과성 도전층 (3) 을, 두께 방향 일방 측을 향해 순서대로 구비한다. 요컨대, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 필름 기재 (2) 와, 필름 기재 (2) 의 두께 방향 일방 측에 배치되는 광 투과성 도전층 (3) 을 구비한다. 구체적으로는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 필름 기재 (2) 와, 필름 기재 (2) 의 일방면에 배치되는 광 투과성 도전층 (3) 을 구비한다. 바람직하게는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 필름 기재 (2) 와, 광 투과성 도전층 (3) 만으로 이루어진다.Specifically, the transparent conductive layer forming film 1 for touch panels is equipped with the film base material 2 and the transparent conductive layer 3 in order toward the thickness direction one side. That is, the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels is equipped with the film base material 2 and the transparent conductive layer 3 arrange|positioned at the one side of the thickness direction of the film base material 2 . Specifically, the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels is equipped with the film base material 2 and the light transmissive conductive layer 3 arrange|positioned on one side of the film base material 2 . Preferably, the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels consists only of the film base material 2 and the transparent conductive layer 3 .

필름 기재 (2) 는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 최타방층이고, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 기계 강도를 확보하는 지지재이다.The film base material 2 is the outermost layer of the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels, and is a support material which ensures the mechanical strength of the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels.

필름 기재 (2) 는, 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 가지고 있다.The film base material 2 has a film shape (including a sheet shape).

필름 기재 (2) 의 재료로는, 예를 들어, 유기 재료, 예를 들어, 유리 등의 무기 재료를 들 수 있고, 바람직하게는, 유기 재료를 들 수 있다. 유기 재료는, 물이나 유기 가스를 함유하고 있으므로, 광 투과성 도전층 (3) 의 가열에 의한 결정성을 억제하여, 비정질성을 보다 한층 유지할 수 있다.As a material of the film base material 2, inorganic materials, such as an organic material, for example, glass, are mentioned, for example, Preferably, an organic material is mentioned. Since the organic material contains water and organic gas, the crystallinity by heating of the light transmissive conductive layer 3 can be suppressed, and amorphousness can be maintained further.

필름 기재 (2) 의 재료로서, 보다 바람직하게는, 고분자를 들 수 있다.As a material of the film base material 2, More preferably, a polymer|macromolecule is mentioned.

고분자로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지, 예를 들어, 폴리메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴 수지 (아크릴 수지 및/또는 메타크릴 수지), 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로올레핀 폴리머 (COP) 등의 올레핀 수지, 예를 들어, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 멜라민 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 셀룰로오스 수지 (트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 등), 폴리스티렌 수지, 노르보르넨 수지 등을 들 수 있다. 이들 고분자는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.Examples of the polymer include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, for example, (meth)acrylic resins such as polymethacrylate (acrylic resin and / or methacryl resin), for example, polyethylene, polypropylene, olefin resin such as cycloolefin polymer (COP), for example, polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, melamine resin, polyamide resin , polyimide resin, cellulose resin (triacetyl cellulose (TAC) etc.), polystyrene resin, norbornene resin, etc. are mentioned. These polymer|macromolecules can be used individually or can use 2 or more types together.

고분자는, 내열성, 기계 특성 등의 관점에서, 바람직하게는, 폴리에스테르 수지를 들 수 있고, 보다 바람직하게는, PET 를 들 수 있다. 또, 광학 등방성의 관점에서, 바람직하게는, 올레핀 수지, 보다 바람직하게는, COP 도 들 수 있다.From viewpoints, such as heat resistance and mechanical properties, as for polymer|macromolecule, Preferably, a polyester resin is mentioned, More preferably, PET is mentioned. Moreover, from a viewpoint of optical isotropy, Preferably, it is an olefin resin, More preferably, COP is also mentioned.

필름 기재 (2) 의 가시광 투과율은, 예를 들어, 80 ％ 이상, 바람직하게는, 90 ％ 이상이며, 또, 예를 들어, 100 ％ 이하이다.The visible light transmittance of the film base material 2 is, for example, 80 % or more, Preferably, it is 90 % or more, and is 100 % or less, for example.

또, 필름 기재 (2) 의 수분 함유량을 조정함으로써, 후술하는 특성의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 얻을 수 있다.Moreover, by adjusting the water content of the film base material 2, the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels of the characteristic mentioned later can be obtained.

구체적으로는, 필름 기재 (2) 의 단위면적당의 수분 함유량은, 예를 들어, 10 ㎍/㎠ 이상, 바람직하게는, 20 ㎍/㎠ 이상, 보다 바람직하게는, 30 ㎍/㎠ 이상이며, 또, 예를 들어, 200 ㎍/㎠ 이하, 바람직하게는, 170 ㎍/㎠ 이하이다. 필름 기재 (2) 의 수분 함유량이 상기 범위 내이면, 결정화가 생기기 어렵고, 또한, 저저항의 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 이 얻어지기 쉬워진다. 필름 기재 (2) 의 수분이 과도하게 작으면 환경 온도에서의 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 의 결정화가 생기기 쉬워지는 경향이 있고, 필름 기재 (2) 의 수분 함유량이 과도하게 크면 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항 안정성이 저하하는 경향이 있다. 수분 함유량 (㎍/㎠) 은, JIS K7251-B 법 (수분 기화법) 에 의해 구한 수분 함유량으로부터, 단위면적당의 물의 함유량으로서 산출할 수 있다.Specifically, the water content per unit area of the film substrate 2 is, for example, 10 μg/cm 2 or more, preferably 20 μg/cm 2 or more, more preferably 30 μg/cm 2 or more, and , for example, 200 μg/cm 2 or less, preferably 170 μg/cm 2 or less. When the water content of the film base material 2 is within the above range, crystallization is unlikely to occur, and the low-resistance amorphous light-transmitting conductive layer 3 is easily obtained. When the moisture content of the film substrate 2 is excessively small, crystallization of the amorphous light-transmitting conductive layer 3 at an environmental temperature tends to occur easily, and when the moisture content of the film substrate 2 is excessively large, amorphous light There exists a tendency for the surface resistance stability of the permeable conductive layer 3 to fall. The water content (µg/cm 2 ) can be calculated as the water content per unit area from the water content determined by the JIS K7251-B method (water vaporization method).

필름 기재 (2) 의 타방면에는, 세퍼레이터나 보호 필름 등을 설치해도 된다. You may provide a separator, a protective film, etc. in the other surface of the film base material 2.

필름 기재 (2) 의 두께는, 예를 들어, 2 ㎛ 이상, 바람직하게는, 20 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는, 40 ㎛ 이상이며, 또, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는, 200 ㎛ 이하이다. 필름 기재 (2) 의 두께는, 예를 들어, 막두께계를 사용하여 측정할 수 있다.The thickness of the film base material 2 is, for example, 2 µm or more, preferably 20 µm or more, more preferably 40 µm or more, and for example, 300 µm or less, preferably 200 µm or more. μm or less. The thickness of the film base material 2 can be measured using a film thickness meter, for example.

필름 기재 (2) 의 평면에서 볼 때의 형상은, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 이 사용되는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 및 터치 패널 표시 장치 (15) 의 치수 등에 따라 적절히 설정되고, 특별히 한정되지 않는다. 도 2A 에 나타내는 바와 같이, 필름 기재 (2) 는, 예를 들어, 장척의 대략 사각형상을 갖는다. 그것에 의해, 필름 기재 (2) 는, 서로 대향하는 2 개의 장변 (16), 및, 장변 (16) 의 긴 쪽 방향 양단 (兩端) 가장자리를 연결하는 2 개의 단변 (17) 을 갖는다.The planar shape of the film base material 2 is the dimensions of the transparent conductive layer formation polarizing film 4 and the touch panel display device 15 in which the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels is used, etc. It is set suitably according to it, and is not specifically limited. As shown to FIG. 2A, the film base material 2 has an elongate substantially rectangular shape, for example. Thereby, the film base material 2 has the two long sides 16 which mutually oppose, and the two short sides 17 which connect the longitudinal direction both ends of the long side 16. As shown in FIG.

이 필름 기재 (2) 의 평면에서 볼 때에 있어서의 치수는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 용도 및 목적에 따라 적절히 설정되고, 특별히 한정되지 않는다. 필름 기재 (2) 는, 예를 들어, 30 ㎝ 이상, 바람직하게는, 0.50 m 이상, 보다 바람직하게는, 1.0 m 이상, 더욱 바람직하게는, 1.2 m 이상, 특히 바람직하게는, 2 m 이상, 또, 10 m 이하의 단변 (17) 의 길이 (TD 방향 길이) W 를 갖는다.The dimension in planar view of this film base material 2 is set suitably according to the use and objective of the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels, and is not specifically limited. The film substrate 2 is, for example, at least 30 cm, preferably at least 0.50 m, more preferably at least 1.0 m, still more preferably at least 1.2 m, particularly preferably at least 2 m, Moreover, it has the length (TD direction length) W of the short side 17 of 10 m or less.

필름 기재 (2) 는, 필름 기재 (2) 를 권회하여, 장척상 필름 롤로 해도 된다. 장척상 필름 롤의 권회 수량은, 예를 들어, 100 m 이상, 바람직하게는, 500 m 이상, 보다 바람직하게는, 1000 m 이상이며, 또, 예를 들어, 20000 m 이하이다. 장척상 필름 롤은, 롤 투 롤 방식으로 연속적으로 광 투과성 도전층 (3) 을 형성할 수 있어, 생산성이 우수하다.The film base material 2 may wind up the film base material 2, and it is good also as an elongate film roll. The number of turns of a long film roll is, for example, 100 m or more, Preferably, it is 500 m or more, More preferably, it is 1000 m or more, and is 20000 m or less, for example. The elongate film roll can continuously form the light-transmitting conductive layer 3 by a roll-to-roll system, and is excellent in productivity.

광 투과성 도전층 (3) 은, 필요에 따라 후의 공정에서 에칭에 의해 패터닝할 수 있는 도전층이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 광 투과성 도전층 (3) 은, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 에 있어서의 최일방층이다. 광 투과성 도전층 (3) 은, 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 가지고 있고, 필름 기재 (2) 의 일방면에 접촉하도록, 배치되어 있다. 광 투과성 도전층 (3) 은, 비정질이다.The transparent conductive layer 3 is a conductive layer which can be patterned by etching in a later process as needed. As shown in FIG. 1, the transparent conductive layer 3 is an outermost layer in the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels. The light transmissive conductive layer 3 has a film shape (including a sheet shape), and is disposed so as to be in contact with one side of the film base material 2 . The light transmissive conductive layer 3 is amorphous.

또한, 광 투과성 도전층 (3) 이 비정질인 것은, 예를 들어, 광 투과성 도전층 (3) 의 재료가 ITO (후술) 인 경우에는, 20 ℃ 의 염산 (농도 5 질량％) 에 15 분간 침지한 후, 수세 및 건조하여, 15 mm 정도 사이의 단자 간 저항을 측정함으로써 판단할 수 있다. 본 명세서에 있어서는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 염산 (20 ℃, 농도 : 5 질량％) 에 침지, 수세 및 건조한 후에, 광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의 15 mm 사이의 단자 간 저항이 10 kΩ 이상인 경우, 광 투과성 도전층 (3) 이 비정질인 것으로 한다.In addition, that the transparent conductive layer 3 is amorphous is immersed in 20 degreeC hydrochloric acid (concentration 5 mass %) for 15 minutes, when the material of the transparent conductive layer 3 is ITO (described later), for example. After washing and drying, it can be judged by measuring the resistance between terminals between about 15 mm. In this specification, after immersing the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels in hydrochloric acid (20 degreeC, density|concentration: 5 mass %), water washing, and drying, 15 mm in the transparent conductive layer 3 When the resistance between the terminals of is 10 kΩ or more, it is assumed that the light-transmitting conductive layer 3 is amorphous.

광 투과성 도전층 (3) 의 재료로는, 예를 들어, In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속을 포함하는 금속 산화물을 들 수 있다. 금속 산화물에는, 필요에 따라, 추가로 상기 군에 나타낸 금속 원자나 상기 군에 기재가 없는 금속 원자 또는 반금속 원자를 도프하고 있어도 된다.The material of the light-transmitting conductive layer 3 is, for example, selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W and metal oxides containing at least one type of metal to be used. The metal oxide may be further doped with the metal atom shown in the said group, the metal atom or the semimetal atom which does not have a description in the said group as needed.

광 투과성 도전층 (3) 으로는, 예를 들어, 인듐주석 복합 산화물 (ITO), 인듐아연 복합 산화물 (IZO) 등의 인듐계 산화물, 예를 들어, 안티몬주석 복합 산화물 (ATO) 등의 안티몬계 산화물 등을 들 수 있다. 광 투과성 도전층 (3) 은, 표면 저항을 저하시키는 관점, 및, 우수한 광 투과성을 확보하는 관점에서, 인듐계 산화물을 함유하고, 보다 바람직하게는, 인듐주석 복합 산화물 (ITO) 을 함유한다. 즉, 광 투과성 도전층 (3) 은, 바람직하게는, 인듐계 산화물층이며, 보다 바람직하게는, ITO 층이다. 이로써, 저표면 저항, 광 투과성이 우수하다.As the light transmitting conductive layer 3, For example, Indium type oxides, such as indium tin composite oxide (ITO) and indium zinc composite oxide (IZO), For example, Antimony type, such as antimony tin composite oxide (ATO), oxides and the like. The light-transmitting conductive layer 3 contains an indium-type oxide from a viewpoint of reducing surface resistance and a viewpoint of ensuring the outstanding light transmittance, More preferably, it contains indium-tin composite oxide (ITO). That is, the light transmissive conductive layer 3 becomes like this. Preferably it is an indium-type oxide layer, More preferably, it is an ITO layer. Thereby, it is excellent in low surface resistance and light transmittance.

광 투과성 도전층 (3) 의 재료로서 ITO 를 사용하는 경우, 산화주석 (SnO₂) 함유량은, 산화주석 및 산화인듐 (In₂O₃) 의 합계량에 대해, 예를 들어, 0.5 질량％ 이상, 바람직하게는, 3 질량％ 이상, 보다 바람직하게는, 8 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는, 10 질량％ 초과이며, 또, 예를 들어, 25 질량％ 이하, 바람직하게는, 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는, 13 질량％ 이하이다. 산화주석의 함유량을 상기 하한 이상으로 함으로써, 광 투과성 도전층 (3) 의 저표면 저항 (예를 들어, 150 Ω/□ 이하) 을 실현하면서, 결정질로의 전화를 보다 확실하게 억제할 수 있다. 또, 산화주석의 함유량을 상기 상한 이하로 함으로써, 광 투과성이나 표면 저항의 안정성을 향상시킬 수 있다.When using ITO as the material of the light-transmitting conductive layer 3, the tin oxide (SnO ₂ ) content is, for example, 0.5 mass% or more with respect to the total amount of tin oxide and indium oxide (In ₂ O _{3 );} Preferably, it is 3 mass % or more, More preferably, it is 8 mass % or more, More preferably, it is more than 10 mass %, and, for example, 25 mass % or less, Preferably, 15 mass % or less, More preferably, it is 13 mass % or less. By making content of a tin oxide more than the said lower limit, conversion to a crystalline form can be suppressed more reliably, realizing the low surface resistance (for example, 150 ohm/square or less) of the light-transmitting conductive layer 3 . Moreover, when content of a tin oxide shall be below the said upper limit, light transmittance and stability of surface resistance can be improved.

본 명세서 중에 있어서의 「ITO」란, 적어도 인듐 (In) 과 주석 (Sn) 을 포함하는 복합 산화물이면 되고, 이들 이외의 추가 성분을 포함해도 된다. 추가 성분으로는, 예를 들어, In, Sn 이외의 금속 원소를 들 수 있고, 구체적으로는, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W, Fe, Pb, Ni, Nb, Cr, Ga 등을 들 수 있다."ITO" in this specification should just be a composite oxide containing at least indium (In) and tin (Sn), and may contain additional components other than these. Additional components include, for example, metal elements other than In and Sn, and specifically, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W , Fe, Pb, Ni, Nb, Cr, Ga, and the like.

광 투과성 도전층 (3) 은, 바람직하게는, 불순물 원소를 포함하고 있다. 불순물 원소로는, 광 투과성 도전층 (3) 을 형성할 때에 사용하는 스퍼터 가스 유래의 원소 (예를 들어, Ar 원소), 필름 기재 (2) 에 함유되는 물이나 유기 가스 유래의 원소 (예를 들어, H 원소, C 원소) 를 들 수 있다. 이들을 함유함으로써, 광 투과성 도전층 (3) 의 비정질성을 보다 한층 향상시킬 수 있다.The light transmissive conductive layer 3 preferably contains an impurity element. As the impurity element, an element derived from the sputtering gas used when forming the light-transmitting conductive layer 3 (for example, an Ar element), and an element derived from water or organic gas contained in the film substrate 2 (for example, For example, H element and C element) are mentioned. By containing these, the amorphousness of the transparent conductive layer 3 can be improved further.

광 투과성 도전층 (3) 의 두께는, 예를 들어, 10 nm 이상, 바람직하게는, 30 nm 이상, 보다 바람직하게는, 30 nm 초과, 더욱 바람직하게는, 40 nm 이상이며, 특히 바람직하게는, 50 nm 이상이며, 또, 예를 들어, 200 nm 이하, 바람직하게는, 150 nm 이하, 보다 바람직하게는, 100 nm 이하, 더욱 바람직하게는, 80 nm 이하이다. 광 투과성 도전층 (3) 의 두께는, 예를 들어, 투과형 전자현미경을 사용한 단면 관찰에 의해 측정할 수 있다. 광 투과성 도전층 (3) 의 재료가 ITO 인 경우에는, 일반적으로 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 의 두께가 클수록, 비정질 안정성 (비정질을 안정적으로 유지할 수 있는 성질) 이 저하하여, 자연 결정화하기 쉽다. 특히, 두께가 30 nm 초과의 수준에서는 그 경향이 현저하지만, 이 광 투과성 도전층 (3) 은, 후술하는 특성을 가지므로, 광 투과성 도전층 (3) 의 재료가 ITO 여도 비정질 안정성이 우수하다.The thickness of the light-transmitting conductive layer 3 is, for example, 10 nm or more, preferably 30 nm or more, more preferably more than 30 nm, still more preferably 40 nm or more, particularly preferably , 50 nm or more, and for example, 200 nm or less, preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less, still more preferably 80 nm or less. The thickness of the transparent conductive layer 3 can be measured by cross-sectional observation using the transmission electron microscope, for example. When the material of the light-transmitting conductive layer 3 is ITO, in general, as the thickness of the amorphous light-transmitting conductive layer 3 increases, the amorphous stability (property that can stably maintain the amorphous) decreases, resulting in natural crystallization easy. In particular, the tendency is remarkable at a level of more than 30 nm in thickness, but since this light-transmitting conductive layer 3 has the characteristics described later, it is excellent in amorphous stability even when the material of the light-transmitting conductive layer 3 is ITO. .

광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의 평면에서 볼 때 형상 및 치수는, 필름 기재 (2) 에 있어서의 그것들과 동일하다.The planar view shape and dimension in the transparent conductive layer 3 are the same as those in the film base material 2 .

다음으로, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조하는 방법에 대해 설명한다.Next, the method of manufacturing the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels is demonstrated.

터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 먼저, 필름 기재 (2) 를 준비하고, 이어서, 광 투과성 도전층 (3) 을 필름 기재 (2) 의 두께 방향 일방면에 형성함으로써 얻어진다.The transparent conductive layer formation film 1 for touch panels is obtained by first preparing the film base material 2, and then forming the transparent conductive layer 3 in the thickness direction one side of the film base material 2 .

광 투과성 도전층 (3) 을 필름 기재 (2) 의 두께 방향 일방면에 형성하려면, 예를 들어, 광 투과성 도전층 (3) 을 필름 기재 (2) 의 일방면에, 건식에 의해, 배치 (적층) 한다.In order to form the light-transmitting conductive layer 3 on one surface in the thickness direction of the film base material 2, for example, the light-transmitting conductive layer 3 is disposed on one side of the film base material 2 by dry method ( stacked).

건식으로는, 예를 들어, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 스퍼터링법을 들 수 있다.As a dry method, the vacuum vapor deposition method, the sputtering method, the ion plating method, etc. are mentioned, for example. Preferably, the sputtering method is mentioned.

스퍼터링법은, 진공 장치의 챔버 내에 타겟 및 필름 기재 (2) 를 대향 배치하고, 가스를 공급함과 함께 전압을 인가함으로써 가스 이온을 가속하여 타겟에 조사시켜, 타겟 표면으로부터 타겟 재료를 튕겨내어, 그 타겟 재료를 필름 기재 (2) 의 두께 방향 일방면에 적층시킨다.In the sputtering method, a target and a film substrate 2 are disposed oppositely in a chamber of a vacuum device, and gas ions are accelerated and irradiated to the target by applying a voltage while supplying a gas, and the target material is repelled from the target surface, the A target material is laminated|stacked on one side of the thickness direction of the film base material 2.

스퍼터링법으로는, 예를 들어, 2 극 스퍼터링법, ECR (전자 사이클로트론 공명) 스퍼터링법, 마그네트론 스퍼터링법, 이온 빔 스퍼터링법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 마그네트론 스퍼터링법을 들 수 있다.Examples of the sputtering method include a bipolar sputtering method, an ECR (electron cyclotron resonance) sputtering method, a magnetron sputtering method, and an ion beam sputtering method. Preferably, the magnetron sputtering method is mentioned.

스퍼터링법에 사용하는 전원은, 예를 들어, 직류 (DC) 전원, 교류 중주파 (AC/MF) 전원, 고주파 (RF) 전원, 직류 전원을 중첩한 고주파 전원 중 어느 것이어도 된다.The power supply used for the sputtering method may be, for example, any of a direct current (DC) power supply, an alternating current medium frequency (AC/MF) power supply, a high frequency (RF) power supply, and a high frequency power supply superimposed on a DC power supply.

타겟으로는, 광 투과성 도전층 (3) 을 구성하는 상기 서술한 금속 산화물을 들 수 있다. 예를 들어, 광 투과성 도전층 (3) 의 재료로서 ITO 를 사용하는 경우, ITO 로 이루어지는 타겟을 사용한다. 타겟에 있어서의 산화주석 (SnO₂) 함유량은, 산화주석 및 산화인듐 (In₂O₃) 의 합계량에 대해, 예를 들어, 0.5 질량％ 이상, 바람직하게는, 3 질량％ 이상, 보다 바람직하게는, 8 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는, 10 질량％ 초과이며, 또, 예를 들어, 25 질량％ 이하, 바람직하게는, 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는, 13 질량％ 이하이다.As a target, the above-mentioned metal oxide which comprises the transparent conductive layer 3 is mentioned. For example, when using ITO as the material of the light-transmitting conductive layer 3, the target which consists of ITO is used. The tin oxide (SnO ₂ ) content in the target is, for example, 0.5 mass % or more, preferably 3 mass % or more, more preferably with respect to the total amount of tin oxide and indium oxide (In ₂ O _{3 ).} is 8 mass % or more, More preferably, it is more than 10 mass %, and, for example, is 25 mass % or less, Preferably, it is 15 mass % or less, More preferably, it is 13 mass % or less.

타겟 표면의 수평 자장의 강도는, 성막 속도, 광 투과성 도전층 (3) 에 대한 불순물의 혼입 등의 관점에서, 예를 들어, 10 mT 이상, 바람직하게는, 20 mT 이상이며, 또, 200 mT 이하, 바람직하게는, 100 mT 이하, 보다 바람직하게는, 80 mT 이하이다. 수평 자장 강도가 상기 범위이면, 스퍼터에 있어서의 플라즈마 밀도를 높게 할 수 있어, 필름 기재 (2) 에 가해지는 열량이 많아지기 쉽다. 그 결과, 필름 기재 (2) 로부터 방출되는 불순물 (예를 들어, 물 등) 이 광 투과성 도전층 (3) 내에 혼입되기 쉬워져, 광 투과성 도전층 (3) 의 비정질성이 높아지기 쉽다.The intensity of the horizontal magnetic field on the surface of the target is, for example, 10 mT or more, preferably 20 mT or more, and 200 mT from the viewpoint of film-forming rate, mixing of impurities into the light-transmitting conductive layer 3, etc. Below, Preferably, it is 100 mT or less, More preferably, it is 80 mT or less. Plasma density in sputtering can be made high that horizontal magnetic field intensity is the said range, and the amount of heat applied to the film base material 2 increases easily. As a result, impurities (for example, water, etc.) emitted from the film base material 2 become easy to mix in the light-transmitting conductive layer 3, and the amorphousness of the light-transmitting conductive layer 3 tends to become high.

스퍼터링 시의 방전 기압은, 예를 들어, 1.0 Pa 이하, 바람직하게는, 0.5 Pa 이하이며, 또, 예를 들어, 0.01 Pa 이상, 바람직하게는, 0.2 Pa 이상이다.The discharge atmospheric pressure at the time of sputtering is, for example, 1.0 Pa or less, Preferably, it is 0.5 Pa or less, For example, it is 0.01 Pa or more, Preferably, it is 0.2 Pa or more.

스퍼터링 시의 필름 기재 (2) 의 온도를 조정함으로써, 후술하는 특성의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 얻을 수 있다.By adjusting the temperature of the film base material 2 at the time of sputtering, the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels of the characteristic mentioned later can be obtained.

스퍼터링 시의 필름 기재 (2) 의 온도는, 예를 들어, -30 ℃ 이상, 바람직하게는, -10 ℃ 이상이며, 또, 예를 들어, 180 ℃ 이하, 바람직하게는, 90 ℃ 이하, 보다 바람직하게는, 60 ℃ 이하, 더욱 바람직하게는, 40 ℃ 이하, 특히 바람직하게는, 10 ℃ 미만이다.The temperature of the film base material 2 at the time of sputtering is, for example, -30 ° C. or higher, preferably -10 ° C. or higher, and for example, 180 ° C. or lower, preferably 90 ° C. or lower, more Preferably, it is 60 degrees C or less, More preferably, it is 40 degrees C or less, Especially preferably, it is less than 10 degrees C.

상기 상한 이하로 함으로써, 성막 시의 열에 의한 광 투과성 도전층 (3) 의 결정립 생성을 억제할 수 있다. 또, 상기 하한 이상으로 함으로써, 필름 기재 (2) 에 함유되는 물이나 유기 가스의 방출량을 바람직한 범위로 조정할 수 있어, 양질의 비정질막을 갖는 광 투과성 도전층 (3) 을 얻기 쉽다.By carrying out below the said upper limit, the crystal grain formation of the transparent conductive layer 3 by the heat|fever at the time of film-forming can be suppressed. Moreover, by setting it as more than the said minimum, the emission amount of the water and organic gas contained in the film base material 2 can be adjusted to a preferable range, and the light transmissive conductive layer 3 which has a good quality amorphous film|membrane is easy to be obtained.

스퍼터링법에서 사용되는 가스로는, 예를 들어, 불활성 가스의 단독 사용, 예를 들어, 불활성 가스 및 반응성 가스의 조합을 들 수 있다. 불활성 가스로는, 예를 들어, Ar 가스 등을 들 수 있다. 반응성 가스로는, 예를 들어, 산소 가스 등을 들 수 있다.The gas used in the sputtering method includes, for example, single use of an inert gas, for example, a combination of an inert gas and a reactive gas. As an inert gas, Ar gas etc. are mentioned, for example. As a reactive gas, oxygen gas etc. are mentioned, for example.

바람직하게는, 불활성 가스 및 반응성 가스의 조합을 들 수 있다.Preferably, a combination of an inert gas and a reactive gas is mentioned.

반응성 가스의 유량의, 불활성 가스의 유량에 대한 비 (반응성 가스의 유량 (sccm)/불활성 가스의 유량 (sccm)) 는, 예를 들어, 0.010 이상, 5 이하이다. 반응성 가스의 유량의, 불활성 가스의 유량에 대한 비는, 기압이나 타겟 표면의 수평 자장 강도, 필름 기재의 온도 등의 성막 환경에 따라 적절히 설정된다.The ratio of the flow rate of the reactive gas to the flow rate of the inert gas (the flow rate of the reactive gas (sccm)/the flow rate of the inert gas (sccm)) is, for example, 0.010 or more and 5 or less. The ratio of the flow rate of the reactive gas to the flow rate of the inert gas is appropriately set according to the film formation environment such as atmospheric pressure, the horizontal magnetic field strength of the target surface, and the temperature of the film substrate.

이 방법에서는, 반응 가스량, 특히, 산소 가스량을 조정함으로써, 후술하는 특성의 광 투과성 도전층 (3) 을 형성 (성막) 할 수 있다.In this method, the light-transmitting conductive layer 3 of the characteristic mentioned later can be formed (film-forming) by adjusting the amount of reactive gas, especially oxygen gas.

예를 들어, 광 투과성 도전층 (3) 의 재료가 ITO 인 예를 든다. 스퍼터링법에 의해 얻어지는 광 투과성 도전층 (3) 은, 일반적으로, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 으로서 성막된다.For example, the material of the light transmissive conductive layer 3 is ITO. The light-transmitting conductive layer 3 obtained by sputtering is generally formed as an amorphous light-transmitting conductive layer 3 .

이때, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 내부에 도입되는 산소 도입량에 의해, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 의 막질이 변화한다.At this time, the film quality of the amorphous light-transmitting conductive layer 3 changes depending on the amount of oxygen introduced into the amorphous light-transmitting conductive layer 3 .

구체적으로는, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 내부에 도입되는 산소 도입량이, 적당량보다 적은 경우 (산소 부족 상태) 에서는, 대기 분위기하에서의 가열에 의해 결정질로 전화한다.Specifically, when the amount of oxygen introduced into the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is less than an appropriate amount (oxygen deficiency state), it is converted to crystalline by heating in an atmospheric atmosphere.

한편, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 에 함유되는 산소 도입량이, 적당량이면, 대기 분위기하에서의 가열을 거친 경우여도 비정질 구조를 유지하고, 열안정성이 우수하다.On the other hand, if the amount of oxygen introduced in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is appropriate, the amorphous structure is maintained and thermal stability is excellent even when it is heated in an atmospheric atmosphere.

한편, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 에 함유되는 산소 도입량이 적당량보다 과잉이면, 대기 분위기하에서의 가열에 의해 비정질 구조를 유지하지만, 가열 후의 표면 저항이 크게 증대해 버리고, 열안정성이 열등하다.On the other hand, if the oxygen introduction amount contained in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is excessive than an appropriate amount, the amorphous structure is maintained by heating in an atmospheric atmosphere, but the surface resistance after heating is greatly increased, and the thermal stability is inferior.

상기 이유는, 어떠한 이론에도 한정되지 않지만, 이하와 같이 추찰된다. 또한, 본 발명은, 이하의 이론에 한정되는 것은 아니다. 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 에 포함되는 산소량이 적은 경우 (산소 부족 상태) 에서는, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 은, 그 구조에 있어서 다수의 산소 결손부를 가지고 있기 때문에, 인듐주석 복합 산화물 ITO 를 구성하는 각 원자가 열진동에 의해 움직이기 쉬워, 최적 구조를 취하기 쉽다. 그 때문에, 대기 분위기하에서의 가열에 의해, 산소를 산소 결손부에 적당히 혼입시키면서, 최적 구조 (결정질 구조) 를 취한다. 한편, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 에 함유되는 산소 도입량이, 적당량 범위이면, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 에 산소 결손부가 생기기 어렵다. 즉, 산소의 적당량 범위란, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 이 화학량론 조성을 취하기 쉬운 범위를 나타낸다. 산소량이 적당량이면, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 은 대기 분위기하에서 가열한 경우여도, 산소 결손부가 적기 때문에, 과도하게 산화하는 일 없이, 양질의 비정질 구조를 유지한다. 한편, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 에 함유되는 산소 도입량이 과잉인 경우, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 내에 포함되는 산소 원자는 불순물로서 작용한다. 불순물 원자는, 바람직한 함유 수준을 초과하면 중성자 산란의 요인이 되어, 표면 저항을 증대시킨다.Although the said reason is not limited by any theory, it is guessed as follows. In addition, this invention is not limited to the following theory. In the case where the amount of oxygen contained in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is small (oxygen deficiency state), the amorphous light-transmitting conductive layer 3 has a large number of oxygen vacancies in its structure, so that the indium tin composite Each atom constituting the oxide ITO is easily moved by thermal vibration, and thus an optimum structure is easily obtained. Therefore, an optimum structure (crystalline structure) is obtained while moderately mixing oxygen into the oxygen-deficient portion by heating in an atmospheric atmosphere. On the other hand, if the oxygen introduction amount contained in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is an appropriate amount range, it is hard to produce an oxygen vacancy part in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 . That is, the appropriate amount range of oxygen indicates a range in which the amorphous light-transmitting conductive layer 3 tends to have a stoichiometric composition. If the amount of oxygen is an appropriate amount, even when the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is heated in an atmospheric atmosphere, since there are few oxygen vacancies, it is not oxidized excessively, and a high-quality amorphous structure is maintained. On the other hand, when the oxygen introduction amount contained in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is excessive, the oxygen atoms contained in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 act as impurities. When an impurity atom exceeds a desirable content level, it becomes a factor of neutron scattering, and increases the surface resistance.

그 때문에, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 에 함유되는 산소 도입량이 과잉이면, 가열에 의해 광 투과성 도전층 (3) 내의 산소량이 더욱 과잉이 되고, 표면 저항이 크게 증대한다 (열안정성이 저하한다) 고 추찰된다.Therefore, if the amount of oxygen introduced in the amorphous light-transmitting conductive layer 3 is excessive, the amount of oxygen in the light-transmitting conductive layer 3 becomes excessive by heating, and the surface resistance is greatly increased (thermal stability is lowered). do) is assumed.

여기서, 롤 투 롤 방식으로, TD 방향 길이가 긴 (예를 들어, 30 cm 이상) 필름 기재 (2) 의 일방면에, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 을 형성하는 경우, 광 투과성 도전층 (3) 의 성막 시에 공급하는 산소의 공급량을, 필름 기재 (2) 의 TD 방향으로 변화시킴으로써, 후술하는 특성의 광 투과성 도전층 (3) 이 얻어진다. 필름 기재 (2) 는, 불순 가스 (전술한 수분이나 유기 가스) 를 함유하지만, 스퍼터링 (진공 성막) 시에 방출되는 불순 가스의 양, 나아가서는, 광 투과성 도전층 (3) 에 혼입되는 불순 가스의 양은 필름 기재 (2) 의 TD 방향으로 균일하지 않다 (불균일하다). 또, 도입한 산소량에 대해 진공 펌프에 의해 배기되는 산소량도 TD 방향으로 균일하지 않다 (불균일하다).Here, in the case of forming the amorphous light-transmitting conductive layer 3 on one side of the film base material 2 having a long TD direction length (eg, 30 cm or more) by a roll-to-roll method, the light transmitting conductive layer By changing the supply amount of oxygen supplied at the time of film-forming of (3) in the TD direction of the film base material 2, the light transmissive conductive layer 3 of the characteristic mentioned later is obtained. Although the film base material 2 contains an impurity gas (water|moisture content or organic gas mentioned above), the amount of impurity gas emitted at the time of sputtering (vacuum film-forming), and also the impurity gas mixed into the light-transmitting conductive layer 3 by extension. The amount of is not uniform (non-uniform) in the TD direction of the film substrate 2 . Moreover, the amount of oxygen exhausted by the vacuum pump with respect to the amount of introduced oxygen is also not uniform (non-uniform) in the TD direction.

이 때문에, TD 방향으로 균일하게 산소를 도입하는 경우에는, TD 방향의 불순물 가스의 양이나 폐기되는 산소량에 따라, 부분적으로 산소 과다 (불순물 과다), 혹은, 산소 부족한 영역을 발생시켜, 후술하는 특성의 광 투과성 도전층 (3) 을 얻기 어렵다. 특히, 장척상의 필름 기재 (2) (예를 들어, 300 m 이상) 를 이용하여, 롤 투 롤 방식으로 광 투과성 도전층 (3) 을 형성하는 경우, TD 방향의 불순물 가스의 양의 차이 (불균일성) 에 더하여, 필름 기재 (2) 의 흐름 방향 (MD 방향) 의 불순 가스 함유량의 차이의 영향도 받기 쉬워, 후술하는 특성의 광 투과성 도전층 (3) 을 보다 한층 얻기 어려운 경향이 있다. 이 때문에, 광 투과성 도전층 (3) 의 TD 방향의 불순 가스 함유량이나 산소 함유량에 따라, TD 방향의 산소의 도입량을 조정함으로써, 후술하는 특성을 갖는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 이 얻어진다. 또한, 결정질의 광 투과성 도전층 (3) (본 발명의 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 이 아닌 것) 을 얻는 경우에는, 미리 산소 도입량을 전술한 「적당량」 보다 명확하게 적게 하기 때문에, TD 방향의 불순 가스나 산소량의 영향을 작게 할 수 있어, TD 방향의 산소 도입량의 영향은 작다.For this reason, when oxygen is uniformly introduced in the TD direction, depending on the amount of impurity gas in the TD direction or the amount of oxygen to be discarded, a region that is partially oxygen-rich (impurity excess) or oxygen-poor region is generated, which will be described later. It is difficult to obtain the light transmissive conductive layer 3 of In particular, when the light-transmitting conductive layer 3 is formed by a roll-to-roll method using the elongated film substrate 2 (eg, 300 m or longer), the difference in the amount of impurity gas in the TD direction (non-uniformity) ) in addition to the influence of the difference in the impurity gas content in the flow direction (MD direction) of the film base material 2, it tends to be more difficult to obtain the light-transmitting conductive layer 3 having the characteristics described later. For this reason, according to the impurity gas content and oxygen content of the TD direction of the light transmissive conductive layer 3, the light transmissive conductive layer formation film for touch panels which has the characteristic mentioned later by adjusting the introduction amount of oxygen in the TD direction (1) this is obtained In the case of obtaining the crystalline light-transmitting conductive layer 3 (not the amorphous light-transmitting conductive layer 3 of the present invention), the amount of oxygen introduced in advance is clearly lower than the above-mentioned "appropriate amount", so TD The influence of the impurity gas and oxygen amount in the direction can be reduced, and the influence of the oxygen introduction amount in the TD direction is small.

TD 방향의 산소 도입량을 조정하는 방법에 한정은 없지만, 예를 들어, 산소 공급 배관을 TD 방향으로 복수로 분할함으로써 바람직하게 산소 도입량을 조정할 수 있다. 산소 공급 배관의 분할수는, 예를 들어, 2 분할 이상, 바람직하게는, 3 분할 이상이며, 또, 예를 들어, 20 분할 이하, 바람직하게는, 10 분할 이하이다. 복수로 분할된 산소 공급 배관을 구비함으로써, 후술하는 특성의 광 투과성 도전층 (3) 이 얻어진다.Although there is no limitation on the method of adjusting the oxygen introduction amount in the TD direction, for example, the oxygen introduction amount can be preferably adjusted by dividing the oxygen supply pipe into a plurality of pieces in the TD direction. The number of divisions of the oxygen supply pipe is, for example, 2 divisions or more, preferably 3 divisions or more, and for example, 20 divisions or less, Preferably, it is 10 divisions or less. By providing the oxygen supply pipe divided|segmented into plurality, the light transmissive conductive layer 3 of the characteristic mentioned later is obtained.

광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의, 가열 전의 표면 저항은, 예를 들어, 1 Ω/□ 이상, 바람직하게는, 10 Ω/□ 이상이며, 또, 예를 들어, 250 Ω/□ 이하, 바람직하게는, 200 Ω/□ 이하, 보다 바람직하게는, 150 Ω/□ 이하, 더욱 바람직하게는, 100 Ω/□ 미만이다. 가열 전의 표면 저항이 상기한 하한 이상이면, 광 투과성 도전층 (3) 의 광학 특성의 열화를 억제할 수 있다. 또, 가열 전의 표면 저항이 상기한 상한 이하이면, 후술하는 광 투과성 도전층 (3) 의 가열 전후에 있어서의 표면 저항의 변화율 및/또는 차가 지나치게 커지는 것을 방지하여, 안정적인 광 투과성 도전층 (3) 을 얻을 수 있다.In the light transmitting conductive layer 3, the surface resistance before heating is, for example, 1 Ω/□ or more, preferably 10 Ω/□ or more, and, for example, 250 Ω/□ or less, Preferably, it is 200 Ω/square or less, more preferably 150 Ω/square or less, still more preferably less than 100 Ω/square. Deterioration of the optical characteristic of the transparent conductive layer 3 can be suppressed as surface resistance before a heating is more than the above-mentioned lower limit. Moreover, when the surface resistance before heating is below the above upper limit, the rate of change and/or difference in surface resistance before and after heating of the light transmitting conductive layer 3 described later is prevented from becoming excessively large, and the light transmitting conductive layer 3 is stable. can get

피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 표면 저항은, 광 투과성 도전층 (3) 의 그것과 동일하다.The surface resistance of the to-be-heated light-transmitting conductive layer 3α is the same as that of the light-transmitting conductive layer 3 .

광 투과성 도전층 (3) 의 가열 전후에 있어서의 표면 저항의 변화율 (피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 표면 저항의 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항에 대한 비율) (즉, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 표면 저항/광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항) 은, 예를 들어, 0.80 이상, 바람직하게는, 0.85 이상, 보다 바람직하게는, 0.90 이상이며, 또, 예를 들어, 1.25 이하, 바람직하게는, 1.20 이하, 보다 바람직하게는, 1.1 이하이다.Rate of change of surface resistance before and after heating of light-transmitting conductive layer 3 (ratio of surface resistance of light-transmitting conductive layer to be heated to surface resistance of light-transmitting conductive layer 3) (that is, to-be-heated) The surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3α/surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3) is, for example, 0.80 or more, preferably 0.85 or more, more preferably 0.90 or more, and, for example, For example, it is 1.25 or less, Preferably, it is 1.20 or less, More preferably, it is 1.1 or less.

피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 표면 저항으로부터 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항을 뺀 값의 절대값, 요컨대, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 표면 저항과 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항의 차 (｜[피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 표면 저항] - [광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항]｜) 는, 예를 들어, 40 Ω/□ 이하, 바람직하게는, 30 Ω/□ 이하, 보다 바람직하게는, 20 Ω/□ 이하, 더욱 바람직하게는, 15 Ω/□ 이하이며, 또, 예를 들어, 0 Ω/□ 이상, 바람직하게는, 0.001 Ω/□ 이상이다. 표면 저항이 작은 (예를 들어, 250 Ω/□ 이하) 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 은, 일반적으로 두께가 두꺼워지기 쉽고, 그 결과, 비정질 안정성이 열화하여, 가열 전후의 표면 저항의 차가 커지기 쉽다. 그러나, 본원의 광 투과성 도전층 (3) 은, 막 내의 산소량이나 불순물량 (예를 들어, 수분 함유량), 성막 프로세스 (타겟 표면의 수평 자장 강도나 방전 기압, 온도 등) 를 적절히 설정하고 있으므로, 가열 전후의 표면 저항의 차를 상기 서술한 범위로 억제할 수 있다.The absolute value of the value obtained by subtracting the surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3 from the surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3α to be heated, that is, the surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3α to be heated and the surface resistance of the light-transmitting conductive layer ( 3) difference in surface resistance (|[surface resistance of light-transmitting conductive layer to be heated 3α] - [surface resistance of light-transmitting conductive layer 3]|) is, for example, 40 Ω/□ or less; Preferably, it is 30 Ω/square or less, more preferably 20 Ω/square or less, still more preferably 15 Ω/square or less, and, for example, 0 Ω/square or more, preferably, 0.001 more than Ω/□. The amorphous light-transmitting conductive layer 3 with a small surface resistance (eg, 250 Ω/□ or less) generally tends to have a thick thickness, as a result, the amorphous stability deteriorates, and the difference in surface resistance before and after heating easy to grow However, in the light-transmitting conductive layer 3 of the present application, the amount of oxygen in the film, the amount of impurities (for example, moisture content), and the film formation process (horizontal magnetic field strength, discharge atmospheric pressure, temperature, etc. on the target surface) are appropriately set, The difference in surface resistance before and after heating can be suppressed in the above-mentioned range.

상기한 차가 상기한 상한 이하이면, 광 투과성 도전층 (3) 의 막질 변화가 과대하게 되는 것을 억제할 수 있다.It can be suppressed that the film-quality change of the light-transmitting conductive layer 3 becomes excessive as said difference is below the said upper limit.

광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의, 가열 전의 비저항은, 예를 들어, 6 × 10^-4Ω·cm 이하, 바람직하게는, 5.5 × 10^-4Ω·cm 이하, 보다 바람직하게는, 5 × 10^-4Ω·cm 이하, 더욱 바람직하게는, 4.8 × 10^-4Ω·cm 이하, 특히 바람직하게는, 4.5 × 10^-4Ω·cm 이하이며, 또, 예를 들어, 3 × 10^-4Ω·cm 이상, 바람직하게는, 3.5 × 10^-4Ω·cm 이상, 보다 바람직하게는, 4.0 × 10^-4Ω·cm 이상이다. 가열 전의 광 투과성 도전층 (3) 의 비저항이 상기 상한 이하이면, 전술한 광 투과성 도전층 (3) 의 가열 전후에 있어서의 표면 저항의 변화율 및/또는 차를 작게 할 수 있다. 또, 비저항이 상기 하한 이상이면, 광 투과성 도전층 (3) 의 비정질성을 유지하기 쉽다.The specific resistance of the light-transmitting conductive layer 3 before heating is, for example, 6 × 10 ^-4 Ω·cm or less, preferably 5.5 × 10 ^-4 Ω·cm or less, more preferably 5 × 10 ⁻⁴ Ω·cm or less, more preferably 4.8 × 10 ⁻⁴ Ω·cm or less, particularly preferably 4.5 × 10 ⁻⁴ Ω·cm or less, and, for example, 3 × 10 ^{− 4} Ω·cm or more, preferably 3.5×10 ⁻⁴ Ω·cm or more, and more preferably 4.0×10 ⁻⁴ Ω·cm or more. If the specific resistance of the light transmitting conductive layer 3 before heating is below the said upper limit, the change rate and/or difference of the surface resistance in the front and back of heating of the above-mentioned light transmitting conductive layer 3 can be made small. Moreover, it is easy to maintain the amorphousness of the transparent conductive layer 3 as specific resistance is more than the said lower limit.

피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 비저항은, 광 투과성 도전층 (3) 의 그것과 동일하지만, 바람직하게는, 광 투과성 도전층 (3) 의 비저항과 동등 수준 이하이다. 구체적으로는, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 비저항의, 광 투과성 도전층 (3) 의 비저항에 대한 비 ([피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 비저항/[광 투과성 도전층 (3) 의 비저항]) 는, 예를 들어, 1.25 이하, 바람직하게는, 1.2 이하, 보다 바람직하게는, 1.2 미만, 더욱 바람직하게는, 1.1 이하, 특히 바람직하게는, 1.0 이하, 가장 바람직하게는, 0.98 이하이며, 또, 예를 들어, 0.5 이상, 바람직하게는, 0.65 이상, 더욱 바람직하게는, 0.8 이상이다. 상기한 비가 상기 범위이면, 안정적인 비정질성을 얻기 쉽다.The specific resistance of the light transmissive conductive layer 3 α to be heated is the same as that of the light transmissive conductive layer 3 , but is preferably equal to or less than the resistivity of the light transmissive conductive layer 3 . Specifically, the ratio of the resistivity of the light-transmitting conductive layer 3α to be heated to the resistivity of the light-transmitting conductive layer 3 ([resistance of the light-transmitting conductive layer 3α to be heated/[the light-transmitting conductive layer 3] ) is, for example, 1.25 or less, preferably, 1.2 or less, more preferably, less than 1.2, still more preferably, 1.1 or less, particularly preferably, 1.0 or less, most preferably, It is 0.98 or less, and is, for example, 0.5 or more, Preferably, it is 0.65 or more, More preferably, it is 0.8 or more. When said ratio is the said range, it is easy to obtain stable amorphous property.

또한, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 은, 광 투과성 도전층 (3) 을, 대기 환경하에서, 80 ℃ 에서, 500 시간 가열한 후의 것이다. 또, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 은, 광 투과성 도전층 (3) 의 열안정성의 지표가 된다. 또한, 장기간의 열안정성의 가속 시험으로서 가열하는 경우에는, 가열 조건을, 예를 들어, 140 ℃, 1 시간으로 할 수도 있다. 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 은, 비정질이다.In addition, the to-be-heated light-transmitting conductive layer 3(alpha) is a thing after heating the light-transmitting conductive layer 3 at 80 degreeC in atmospheric environment for 500 hours. Moreover, the to-be-heated light-transmitting conductive layer 3(alpha) becomes an index|index of the thermal stability of the light-transmitting conductive layer 3. As shown in FIG. In the case of heating as an accelerated test of long-term thermal stability, the heating conditions may be, for example, 140°C and 1 hour. The to-be-heated light-transmitting conductive layer 3α is amorphous.

광 투과성 도전층 (3) 의 가시광 투과율은, 예를 들어, 80 ％ 이상, 바람직하게는, 90 ％ 이상이며, 또, 예를 들어, 100 ％ 이하이다.The visible light transmittance of the transparent conductive layer 3 is, for example, 80 % or more, Preferably, it is 90 % or more, and is 100 % or less, for example.

이 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 이하의 홀 효과에 근거하는 특성을 구비한다.This transparent conductive layer forming film 1 for touch panels is equipped with the characteristic based on the following Hall effect.

[1] 캐리어 밀도 (Xa, Xc) [1] carrier density (Xa, Xc)

광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의, 가열 전의 캐리어 밀도 (Xa × 10¹⁹/㎤) 는, 예를 들어, 10 × 10¹⁹/㎤ 이상, 바람직하게는, 20 × 10¹⁹/㎤ 이상, 보다 바람직하게는, 30 × 10¹⁹/㎤ 이상, 더욱 바람직하게는, 35 × 10¹⁹/㎤ 이상이며, 또, 예를 들어, 60 × 10¹⁹/㎤ 이하, 바람직하게는, 50 × 10¹⁹/㎤ 이하, 보다 바람직하게는, 40 × 10¹⁹/㎤ 이하이다. 도 2A 에 나타내는 바와 같이, 광 투과성 도전층 (3) 의 캐리어 밀도 (Xa) 는, 단변 (17) 을 따른 방향 (TD 방향, 짧은 쪽 방향) 을 따라, 복수점 P1, P2, P3 에서 캐리어 밀도를 측정하고, 그것들의 평균값으로서 구해진다. 이때, 측정하는 점수는, 3 점이다. 측정점의 양단부 (P1 및 P3 의 2 점) 는, 광 투과성 도전층 (3) 이 균일 형성되어 있는 말단부의 위치로부터 80 mm 내측 위치로 하고, 중앙점 (P2 인 1 점) 은 필름 기재 (2) 의 중앙 위치로 한다. 본원에 있어서, 「광 투과성 도전층 (3) 이 균일 형성되어 있는 말단부」란, 광 투과성 도전층 (3) 의 두께가, 필름 기재 (2) 의 중앙 위치의 광 투과성 도전층 (3) 의 두께에 대해 ±10 ％ 이내인 영역의 말단부를 의미한다. ^{The carrier density (Xa×10 19} /cm 3 ) before heating in the light transmissive conductive layer 3 is, for example, 10×10 ¹⁹ /cm 3 or more, preferably 20×10 ¹⁹ /cm 3 or more, more Preferably, it is 30 × 10 ¹⁹ /cm 3 or more, more preferably 35 × 10 ¹⁹ /cm 3 or more, and, for example, 60 × 10 ¹⁹ /cm 3 or less, preferably 50 × 10 ¹⁹ /cm 3 or more Hereinafter, more preferably, it is ^40x10<19> /cm<3> or less. As shown in FIG. 2A , the carrier density Xa of the light-transmitting conductive layer 3 is the carrier density at multiple points P1, P2, and P3 along the direction along the short side 17 (TD direction, the short side direction). are measured and obtained as their average value. At this time, the score to be measured is 3 points|pieces. The both ends (two points of P1 and P3) of the measurement point are positioned 80 mm inside from the position of the distal end where the light-transmitting conductive layer 3 is uniformly formed, and the central point (one point being P2) is the film substrate 2 to the central position of In the present application, "the end portion in which the light transmitting conductive layer 3 is uniformly formed" means that the thickness of the light transmitting conductive layer 3 is the thickness of the light transmitting conductive layer 3 at the central position of the film base material 2 It means the end of the region within ±10% of

구체적으로는, 필름 기재 (2) 의 TD 폭이 1300 mm 이며, 전체면 균일하게 광 투과성 도전층 (3) 이 형성되어 있는 경우에는, P1 = 80 mm, P2 = 650 mm, P3 = 1220 mm 위치를 측정점으로 한다. Specifically, when the TD width of the film base material 2 is 1300 mm and the light-transmitting conductive layer 3 is uniformly formed over the entire surface, P1 = 80 mm, P2 = 650 mm, P3 = 1220 mm position. is the measurement point.

또한, 「가열 전」이란, 예를 들어, 광 투과성 도전층 (3) 이 형성된 후부터, 80 ℃ 이상으로 가열하기 이전을 말한다.In addition, "before heating" means before heating to 80 degreeC or more after the transparent conductive layer 3 is formed, for example.

또한, 광 투과성 도전층 (3) 의 열이력이 명확하지 않은 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 이어도, 새로 80 ℃ 이상으로 가열하기 이전이면 「가열 전」으로서 취급한다.In addition, even if it is the light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels whose heat history of the light transmissive conductive layer 3 is not clear, if it is before heating to 80 degreeC or more anew, it is handled as "before heating".

광 투과성 도전층 (3) 의, 단변 (17) 을 따른 방향 길이에 있어서의 3 점의 복수점의 캐리어 밀도의 표준 편차는, 예를 들어, 10 × 10¹⁹(/㎤) 이하, 바람직하게는, 5 × 10¹⁹(/㎤) 이하, 보다 바람직하게는, 3 × 10¹⁹(/㎤) 이하, 더욱 바람직하게는, 2 × 10¹⁹(/㎤) 이하이며, 또, 예를 들어, 0.001 × 10¹⁹(/㎤) 이상이다. 표준 편차가 상기한 상한 이하이면, 광 투과성 도전층 (3) 의 폭 방향에 있어서의 캐리어 밀도 (Xa) 를 균일하게 설정할 수 있고, 그 때문에, 폭 방향에 있어서의 열특성의 편차를 저감하여, 열안정성을 향상시킬 수 있다.The standard deviation of the carrier densities of the three points in the direction length along the short side 17 of the light transmissive conductive layer 3 is, for example, 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, preferably , 5 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, more preferably 3 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, still more preferably 2 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, and, for example, 0.001 × It ^{is more than 10 19} (/㎤). When the standard deviation is equal to or less than the upper limit described above, the carrier density (Xa) in the width direction of the light transmissive conductive layer 3 can be set uniformly, and therefore the variation in thermal properties in the width direction is reduced, Thermal stability can be improved.

한편, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 캐리어 밀도 (Xc × 10¹⁹/㎤) 는, 예를 들어, 10 × 10¹⁹/㎤ 이상, 바람직하게는, 20 × 10¹⁹/㎤ 이상, 보다 바람직하게는, 30 × 10¹⁹/㎤ 이상, 더욱 바람직하게는, 32 × 10¹⁹/㎤ 이상이며, 또, 예를 들어, 70 × 10¹⁹/㎤ 이하, 바람직하게는, 60 × 10¹⁹/㎤ 이하, 바람직하게는, 50 × 10¹⁹/㎤ 이하이다. 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 캐리어 밀도 (Xc) 는, 광 투과성 도전층 (3) 의 캐리어 밀도 (Xa) 와 동일한 측정에 의해 구해진다. ^{On the other hand, the carrier density (Xc × 10 19} /cm 3 ) of the light-transmitting conductive layer to be heated 3α is, for example, 10 × 10 ¹⁹ /cm 3 or more, preferably 20 × 10 ¹⁹ /cm 3 or more, more preferably Preferably, it is 30 × 10 ¹⁹ /cm 3 or more, more preferably 32 × 10 ¹⁹ /cm 3 or more, and, for example, 70 × 10 ¹⁹ /cm 3 or less, preferably 60 × 10 ¹⁹ /cm 3 or less , preferably 50 × 10 ¹⁹ /cm 3 or less. The carrier density (Xc) of the light-transmitting conductive layer to be heated (3α) is obtained by the same measurement as the carrier density (Xa) of the light-transmitting conductive layer (3).

피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의, 단변 (17) 을 따른 방향 길이에 있어서의 복수점 P1, P2, P3 의 캐리어 밀도의 표준 편차는, 예를 들어, 10 × 10¹⁹(/㎤) 이하, 바람직하게는, 5 × 10¹⁹(/㎤) 이하, 보다 바람직하게는, 3 × 10¹⁹(/㎤) 이하, 더욱 바람직하게는, 2 × 10¹⁹(/㎤) 이하이며, 또, 예를 들어, 0.001 × 10¹⁹(/㎤) 이상이다. 표준 편차가 상기한 상한 이하이면, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 폭 방향에 있어서의 캐리어 밀도 (Xc) 를 균일하게 설정할 수 있고, 그 때문에, 폭 방향에 있어서의 열특성의 편차를 저감하여, 열안정성을 향상시킬 수 있다.The standard deviation of the carrier density of the plurality of points P1, P2, and P3 in the length in the direction along the short side 17 of the light transmissive conductive layer to be heated 3α is, for example, 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less , preferably 5 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, more preferably 3 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, still more preferably 2 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, and, for example, For example, it is 0.001 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or more. When the standard deviation is equal to or less than the upper limit described above, the carrier density Xc in the width direction of the light-transmitting conductive layer 3α to be heated can be set uniformly, and therefore the variation in thermal characteristics in the width direction is reduced Thus, thermal stability can be improved.

광 투과성 도전층 (3) 의 열안정성의 관점에서, 바람직하게는, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 캐리어 밀도의 표준 편차는, 광 투과성 도전층 (3) 의 캐리어 밀도의 표준 편차와 동일값 이하이다. 광 투과성 도전층 (3) 이 상기 특징을 가짐으로써 광 투과성 도전층 (3) 의 열안정성이 보다 향상된다.From the viewpoint of thermal stability of the light-transmitting conductive layer 3, preferably, the standard deviation of the carrier density of the light-transmitting conductive layer 3α to be heated is the same as the standard deviation of the carrier density of the light-transmitting conductive layer 3 less than the value. When the light-transmitting conductive layer 3 has the above characteristics, the thermal stability of the light-transmitting conductive layer 3 is further improved.

[2] 홀 이동도 (Ya, Yc) [2] Hall mobility (Ya, Yc)

광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의, 가열 전의 홀 이동도 (Ya ㎠/V·s) 는, 예를 들어, 10 ㎠/V·s 이상, 바람직하게는, 20 ㎠/V·s 이상, 보다 바람직하게는, 30 ㎠/V·s 이상이며, 또, 예를 들어, 70 ㎠/V·s 이하, 바람직하게는, 50 ㎠/V·s 이하, 보다 바람직하게는, 40 ㎠/V·s 이하이다. 또한, 광 투과성 도전층 (3) 의 홀 이동도 (Ya) 는, 단변 (17) 을 따른 방향 (TD 방향, 짧은 쪽 방향) 을 따른 3 점의 복수점 P1, P2, P3 에서 홀 이동도 (Ya) 를 측정하고, 그것들의 평균값으로서 구해진다.The hole mobility (Ya cm2/V·s) before heating in the light-transmitting conductive layer 3 is, for example, 10 cm2/V·s or more, preferably 20 cm2/V·s or more, More preferably, it is 30 cm2/V·s or more, and for example, 70 cm2/V·s or less, preferably 50 cm2/V·s or less, more preferably 40 cm2/V·s or less. s or less. In addition, the hole mobility Ya of the light-transmitting conductive layer 3 is the hole mobility at three points P1, P2, and P3 along the short side 17 (TD direction, the short side direction). Ya) is measured, and it is calculated|required as their average value.

광 투과성 도전층 (3) 의, 단변 (17) 을 따른 방향 길이에 있어서의 복수점 P1, P2, P3 의 홀 이동도의 표준 편차는, 예를 들어, 5 ㎠/V·s 이하, 바람직하게는, 3 ㎠/V·s 이하, 보다 바람직하게는, 2 ㎠/V·s 이하, 더욱 바람직하게는, 1 ㎠/V·s 이하이며, 또, 예를 들어, 0.001 ㎠/V·s 이상이다. 표준 편차가 상기한 상한 이하이면, 광 투과성 도전층 (3) 의 단변 (17) 을 따른 방향에 있어서의 홀 이동도 (Ya) 를 균일하게 설정할 수 있고, 그 때문에, 폭 방향에 있어서의 열특성의 편차를 저감하여, 열안정성을 향상시킬 수 있다.The standard deviation of the hole mobility of the plurality of points P1, P2, and P3 in the length in the direction along the short side 17 of the light-transmitting conductive layer 3 is, for example, 5 cm 2 /V·s or less, preferably is 3 cm2/V·s or less, more preferably 2 cm2/V·s or less, still more preferably 1 cm2/V·s or less, and, for example, 0.001 cm2/V·s or more to be. When the standard deviation is equal to or less than the upper limit described above, the hole mobility Ya in the direction along the short side 17 of the light transmissive conductive layer 3 can be set uniformly, and therefore the thermal characteristic in the width direction By reducing the variation of the thermal stability can be improved.

피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 홀 이동도 (Yc ㎠/V·s) 는, 예를 들어, 10 ㎠/V·s 이상, 바람직하게는, 20 ㎠/V·s 이상, 보다 바람직하게는, 30 ㎠/V·s 이상이며, 또, 예를 들어, 70 ㎠/V·s 이하, 바람직하게는, 50 ㎠/V·s 이하, 보다 바람직하게는 45 ㎠/V·s 이하이다. 또한, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 홀 이동도 (Yc) 는, 홀 이동도 (Ya) 와 동일한 측정에 의해 구해진다.The hole mobility (Yc cm 2 /V·s) of the light-transmitting conductive layer to be heated 3α is, for example, 10 cm 2 /V·s or more, preferably 20 cm 2 /V·s or more, more preferably is 30 cm2/V·s or more, and is, for example, 70 cm2/V·s or less, preferably 50 cm2/V·s or less, and more preferably 45 cm2/V·s or less. In addition, the hole mobility Yc of the to-be-heated light-transmitting conductive layer 3(alpha) is calculated|required by the same measurement as the hole mobility Ya.

또, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의, 단변 (17) 을 따른 방향 길이에 있어서의 복수점 P1, P2, P3 의 홀 이동도의 표준 편차는, 예를 들어, 5 ㎠/V·s 이하, 바람직하게는, 3 ㎠/V·s 이하, 보다 바람직하게는, 2 ㎠/V·s 이하, 더욱 바람직하게는, 1 ㎠/V·s 이하이며, 또, 예를 들어, 0.001 ㎠/V·s 이상이다. 표준 편차가 상기한 상한 이하이면, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 폭 방향에 있어서의 홀 이동도 (Yc) 를 균일하게 설정할 수 있고, 그 때문에, 폭 방향에 있어서의 열특성의 편차를 저감하여, 열안정성을 향상시킬 수 있다.In addition, the standard deviation of the hole mobility of the plurality of points P1, P2, and P3 in the length in the direction along the short side 17 of the light-transmitting conductive layer to be heated 3α is, for example, 5 cm 2 /V·s or less, preferably 3 cm2/V·s or less, more preferably 2 cm2/V·s or less, still more preferably 1 cm2/V·s or less, and, for example, 0.001 cm2/V·s or less. more than V·s. When the standard deviation is equal to or less than the above upper limit, the hole mobility Yc in the width direction of the light-transmitting conductive layer to be heated 3α can be set uniformly, and therefore, the variation in thermal characteristics in the width direction can be reduced. reduced, and thermal stability can be improved.

피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 홀 이동도 (Yc) 의 표준 편차는, 바람직하게는, 광 투과성 도전층 (3) 의 홀 이동도 (Ya) 의 표준 편차와 동일값 이하이다. 이로써, 광 투과성 도전층 (3) 의 열안정성이 보다 향상된다.The standard deviation of the hole mobility Yc of the light-transmitting conductive layer 3 to be heated is preferably equal to or less than the standard deviation of the hole mobility Ya of the light-transmitting conductive layer 3 . Thereby, the thermal stability of the transparent conductive layer 3 improves more.

또한, 홀 이동도는, 홀 효과에 기초하고 있고, 전기 전도율과 홀 정수의 곱이다.In addition, the Hall mobility is based on the Hall effect and is a product of the electrical conductivity and the Hall constant.

＜광 투과성 도전층 및 피가열 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도 및 홀 이동도에 관한 식 (1) ∼ (4)＞<Equations (1) to (4) regarding carrier density and hole mobility of the light transmissive conductive layer and the light transmissive conductive layer to be heated>

그리고, 광 투과성 도전층 (3) 의 캐리어 밀도 (Xa × 10¹⁹/㎤) 및 피가열 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도 (Xc × 10¹⁹/㎤) 와, 광 투과성 도전층 (3) 의 홀 이동도 (Ya ㎠/V·s) 및 피가열 광 투과성 도전층의 홀 이동도 (Ya ㎠/V·s) 는, 하기 식 (1) 및 식 (2) 의 양방을 만족한다. ^{Then, the carrier density (Xa×10 19} /cm 3 ) of the light-transmitting conductive layer 3 ^{and the carrier density (Xc×10 19} /cm 3 ) of the light-transmitting conductive layer to be heated, and the hole movement of the light-transmitting conductive layer 3 The degree (Ya cm2/V·s) and the hole mobility (Ya cm2/V·s) of the light-transmitting conductive layer to be heated satisfy both of the following formulas (1) and (2).

0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1) 0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1)

Yc ＞ Ya (2) Yc > Ya (2)

상기 식 (1) 을 만족하지 않으면, 광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의 가열에 의한 표면 저항의 변화를 억제할 수 없고, 그 때문에, 열안정성이 저하한다.When the said Formula (1) is not satisfied, the change of the surface resistance by heating in the transparent conductive layer 3 cannot be suppressed, Therefore, thermal stability falls.

또한, (Xc/Xa) 는, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 캐리어 밀도 (Xc) 의, 광 투과성 도전층 (3) 의 캐리어 밀도 (Xa) 에 대한 비이며, (Yc/Ya) 는, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 홀 이동도 (Yc) 의, 광 투과성 도전층 (3) 의 홀 이동도 (Ya) 에 대한 비이고, 모두, 1 혹은 1 에 근사하는 값이면, 상기한 식 (1) 을 만족한다. 또, (Xc/Xa) 가 1 에 근사하지 않아도, 구체적으로는, 1 에 대해 현저하게 큰 경우여도, (Xc/Xa) 가 1 에 대해 현저하게 작으면, 상기한 식 (1) 을 만족한다. 또한, 상기한 대소 관계는, 그 반대여도 된다.In addition, (Xc/Xa) is the ratio of the carrier density (Xc) of the light-transmitting conductive layer to be heated (3α) to the carrier density (Xa) of the light-transmitting conductive layer (3), (Yc/Ya) is , is the ratio of the hole mobility Yc of the light-transmitting conductive layer 3α to be heated to the hole mobility Ya of the light-transmitting conductive layer 3, and if all are 1 or a value close to 1, the above Equation (1) is satisfied. In addition, even if (Xc/Xa) is not close to 1, specifically, even if it is remarkably large with respect to 1, if (Xc/Xa) is remarkably small with respect to 1, the above formula (1) is satisfied. . In addition, the above-mentioned magnitude relationship may be vice versa.

(Xc/Xa) × (Yc/Ya) 는, 바람직하게는, 0.80 이상, 보다 바람직하게는, 0.90 이상, 더욱 바람직하게는, 0.95 이상, 특히 바람직하게는, 1.000 이상이다. 또, (Xc/Xa) × (Yc/Ya) 는, 바람직하게는, 1.7 이하, 보다 바람직하게는, 1.6 이하, 더욱 바람직하게는, 1.5 이하, 나아가서는, 1.3 이하, 1.2 이하, 1.15 이하, 1.10 이하가 바람직하다. (Xc/Xa) × (Yc/Ya) 가 상기한 하한 이상이면, 혹은, 상기한 상한 이하이면, 광 투과성 도전층 (3) 에 있어서의 가열에 의한 표면 저항의 변화를 억제할 수 있고, 그 때문에, 열안정성이 우수하다.(Xc/Xa) x (Yc/Ya) is preferably 0.80 or more, more preferably 0.90 or more, still more preferably 0.95 or more, particularly preferably 1.000 or more. Further, (Xc/Xa) × (Yc/Ya) is preferably 1.7 or less, more preferably 1.6 or less, still more preferably 1.5 or less, and further, 1.3 or less, 1.2 or less, 1.15 or less, 1.10 or less is preferable. When (Xc/Xa) × (Yc/Ya) is equal to or greater than the above lower limit or equal to or less than the above upper limit, it is possible to suppress a change in the surface resistance of the light transmissive conductive layer 3 due to heating, and the Therefore, it is excellent in thermal stability.

식 (2) 를 만족하면, Yc/Ya 가 1 을 초과한다.When Expression (2) is satisfied, Yc/Ya exceeds 1.

Yc/Ya 는, 1.000 초과, 바람직하게는, 1.001 이상, 보다 바람직하게는, 1.01 이상이며, 또, 예를 들어, 1.7 이하, 바람직하게는, 1.5 이하, 보다 바람직하게는, 1.3 이하, 더욱 바람직하게는, 1.2 이하, 특히 바람직하게는, 1.1 이하이다.Yc/Ya is more than 1.000, preferably 1.001 or more, more preferably 1.01 or more, and for example, 1.7 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.3 or less, still more preferably Preferably, it is 1.2 or less, particularly preferably, it is 1.1 or less.

식 (2) 를 만족하는 광 투과성 도전층 (3) 은, 양호한 도전성을 발현하기 쉽다. 한편, 식 (2) 를 만족하면, 가열에 의해, 비정질의 광 투과성 도전층 (3) 이 결정화 (저항 변화) 하는 경향이 있지만, 이 광 투과성 도전층 (3) 은, 식 (1) 및 식 (2) 의 양방을 만족하기 때문에, 또한, Yc/Ya 가 상기한 하한 이상이면, 혹은, 상기한 상한 이하이면, 필름 기재 (2) 의 폭 방향 (TD 방향) 에 있어서의 표면 저항의 공차를 작게 할 수 있다. 또한, Yc/Ya 가 상기한 상한 이하이면, 가열 전후의 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항의 차를 저감할 수 있다.The light transmissive conductive layer (3) which satisfies Formula (2) is easy to express favorable electroconductivity. On the other hand, if the formula (2) is satisfied, the amorphous light-transmitting conductive layer 3 tends to crystallize (resistance change) by heating, but the light-transmitting conductive layer 3 is formed by the formulas (1) and formulas (1) and Since both of (2) are satisfied, if Yc/Ya is greater than or equal to the above lower limit or equal to or less than the above upper limit, the tolerance of the surface resistance in the width direction (TD direction) of the film substrate 2 is can be made small Moreover, the difference in the surface resistance of the light transmissive conductive layer 3 before and behind a heating as Yc/Ya is below an above-mentioned upper limit can be reduced.

또, Xa, Xc, Ya 및 Yc 는, 바람직하게는, 하기 식 (3) 또는 하기 식 (4) 를 만족한다.In addition, Xa, Xc, Ya and Yc preferably satisfy the following formula (3) or the following formula (4).

Xc ＜ Xa, 또한, Yc ＞ Ya (3) Xc < Xa, and Yc > Ya (3)

Xc ≥ Xa, 또한, Yc ＞ Ya (4) Xc ≥ Xa, and Yc > Ya (4)

식 (3) 을 만족하는 경우에는, Xc/Xa 가 1 미만이며, 또한, Yc/Ya 가 1 초과이다. 상세하게는, Xc/Xa 가, 바람직하게는, 1.000 미만, 보다 바람직하게는, 0.99 이하이며, 또, 바람직하게는, 0.7 이상, 보다 바람직하게는, 0.8 이상, 더욱 바람직하게는, 0.85 이상, 특히 바람직하게는, 0.90 이상이다. Yc/Ya 의 바람직한 범위는, 상기 식 (2) 에서 상세히 서술한 범위와 동일하다. Xc/Xa 가 상기한 하한 이상이면, 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항의 공차를 작게 할 수 있다. Xc/Xa 가 상기한 상한 이하이면, 광 투과성 도전층 (3) 의 가열 전후에서의 표면 저항의 변화율 및/또는 차를 작게 할 수 있다.When Formula (3) is satisfied, Xc/Xa is less than 1, and Yc/Ya is more than 1. Specifically, Xc/Xa is preferably less than 1.000, more preferably 0.99 or less, preferably 0.7 or more, more preferably 0.8 or more, still more preferably 0.85 or more, Especially preferably, it is 0.90 or more. The preferable range of Yc/Ya is the same as the range detailed in the said Formula (2). The tolerance of the surface resistance of the transparent conductive layer 3 can be made small that Xc/Xa is more than the said lower limit. When Xc/Xa is below the above-described upper limit, the rate of change and/or difference in surface resistance before and after heating of the transparent conductive layer 3 can be made small.

식 (4) 를 만족하는 경우에는, Xc/Xa 가 1 이상이며, 또한, Yc/Ya 가 1 초과이다. 상세하게는, Xc/Xa 가, 바람직하게는, 1.000 이상, 보다 바람직하게는, 1.01 이상, 더욱 바람직하게는, 1.02 이상이며, 또, 예를 들어, 1.7 이하, 바람직하게는, 1.5 이하, 보다 바람직하게는, 1.3 이하, 더욱 바람직하게는, 1.2 이하, 특히 바람직하게는, 1.1 이하이다. Yc/Ya 의 바람직한 범위는, 상기 식 (2) 에서 상세히 서술한 범위와 동일하다. Xc/Xa 가 상기한 하한 이상이면, 가열에 의해 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항이 크게 증가하는 것을 억제하기 쉽다. Xc/Xa 가 상기한 상한 이하이면, 가열에 수반하는 광 투과성 도전층 (3) 의 결정화를 억제하기 쉽다.When Formula (4) is satisfied, Xc/Xa is 1 or more, and Yc/Ya is more than 1. Specifically, Xc/Xa is preferably 1.000 or more, more preferably 1.01 or more, still more preferably 1.02 or more, and for example, 1.7 or less, preferably 1.5 or less, more Preferably, it is 1.3 or less, More preferably, it is 1.2 or less, Especially preferably, it is 1.1 or less. The preferable range of Yc/Ya is the same as the range detailed in the said Formula (2). It is easy to suppress that the surface resistance of the light transmissive conductive layer 3 increases greatly by heating as Xc/Xa is more than an above-mentioned lower limit. When Xc/Xa is below the above upper limit, it is easy to suppress crystallization of the light-transmitting conductive layer 3 accompanying heating.

이로써, 필름 기재 (2) 와, 광 투과성 도전층 (3) 을 구비하는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) (가열 전의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1)) 을 얻는다.Thereby, the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels provided with the film base material 2 and the transparent conductive layer 3 (light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels before heating) is obtained.

터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 총두께는, 예를 들어, 2 ㎛ 이상, 바람직하게는, 20 ㎛ 이상이며, 또, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는, 200 ㎛ 이하이다.The total thickness of the light-transmitting conductive layer forming film 1 for touch panels is, for example, 2 µm or more, preferably 20 µm or more, and for example, 300 µm or less, preferably 200 µm. is below.

또한, 광 투과성 도전층 (3) 이 형성된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 산업상 이용 가능한 디바이스이지만, 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 이 형성된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 반드시 시장에서 유통시킬 목적이 아니라, 광 투과성 도전층 (3) 의 열안정성의 지표를 측정하기 위한 필름이다.In addition, although the transparent conductive layer forming film 1 for touch panels in which the transparent conductive layer 3 was formed is an industrially usable device, The light transmissive conductive layer for touch panels in which the to-be-heated light transmissive conductive layer 3α was formed. The formation film 1 is not necessarily the objective of making it distribute|circulate in a market, It is a film for measuring the parameter|index of the thermal stability of the light transmissive conductive layer 3 .

또한, 이 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 에서는, 필요에 따라 에칭을 실시하여, 광 투과성 도전층 (3) 을, 소정 형상으로 패터닝할 수 있다.In addition, in this transparent conductive layer formation film 1 for touch panels, it can etch as needed and the transparent conductive layer 3 can be patterned into a predetermined shape.

또, 상기한 제조 방법을, 롤 투 롤 방식으로 실시, 또, 배치 방식으로 실시한다. 바람직하게는, 롤 투 롤 방식으로 실시한다. Moreover, said manufacturing method is implemented by a roll-to-roll system, and it implements by a batch system. Preferably, it is carried out in a roll-to-roll manner.

롤 투 롤 방식으로 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조하는 경우에는, 장변 (16) 을 따른 방향이 MD 방향 (긴 쪽 방향) 이 되고, 단변 (17) 을 따른 방향이 TD 방향 (짧은 쪽 방향, 폭 방향) 이 된다.When manufacturing the transparent conductive layer forming film 1 for touch panels by a roll-to-roll method, the direction along the long side 16 becomes the MD direction (longitudinal direction), and the direction along the short side 17 is TD direction (short direction, width direction).

그 후, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 그 용도 및 목적에 따라, 원하는 치수로 외형 가공된다.Thereafter, the light-transmitting conductive layer-forming film 1 for a touch panel is externally processed to a desired dimension according to the use and purpose.

예를 들어, 도 2B 에 나타내는 바와 같이, 장변 (16) 을 따른 방향이 MD 방향이 되고, 단변 (17) 을 따른 방향이 TD 방향이 되도록, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을, 예를 들어, MD 방향을 따라 절단하여, 복수의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 얻는다. 이 경우에는, 복수의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 각각의 단변 (17) 의 길이 W (폭 방향 길이, 짧은 쪽 방향 길이, TD 방향 길이) 는, 예를 들어, 30 cm 이상, 바람직하게는, 0.50 m 이상, 보다 바람직하게는, 1.0 m 이상, 더욱 바람직하게는, 1.2 m 이상이며, 또, 예를 들어, 4 m 이하, 바람직하게는, 2 m 이하이다. 단변 (17) 의 길이 W 가 상기한 하한 이상이면, 다음에 설명하는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 및 터치 패널 표시 장치 (15) 의 제조 효율을 향상시킴과 함께, 대형의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 및 터치 패널 표시 장치 (15) 를 제조할 수 있다.For example, as shown in Fig. 2B, the light-transmitting conductive layer-forming film 1 for a touch panel is formed so that the direction along the long side 16 becomes the MD direction and the direction along the short side 17 becomes the TD direction. , for example, it cut|disconnects along MD direction, and obtains the some light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels. In this case, the length W (width direction length, transverse direction length, TD direction length) of each short side 17 of the some light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels is 30 cm, for example. or more, preferably 0.50 m or more, more preferably 1.0 m or more, still more preferably 1.2 m or more, and for example, 4 m or less, preferably 2 m or less. When the length W of the short side 17 is more than the above-mentioned lower limit, while improving the manufacturing efficiency of the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 and the touch panel display device 15 demonstrated below, large-scale light transmissive conduction|conduction The layer-formed polarizing film 4 and the touch panel display device 15 can be manufactured.

한편, 도 2C 에 나타내는 바와 같이, 장변 (16) 을 따른 방향이 TD 방향이 되고, 단변 (17) 을 따른 방향이 MD 방향이 되도록, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을, 예를 들어, MD 방향을 따라 절단하여, 복수의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 얻을 수도 있다. 이 경우에는, 복수의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 각각의 장변 (16) 의 길이 L (긴 쪽 방향 길이, TD 방향 길이) 은, 예를 들어, 30 cm 이상, 바람직하게는, 0.50 m 이상, 보다 바람직하게는, 1.0 m 이상, 더욱 바람직하게는, 1.2 m 이상이며, 또, 예를 들어, 4 m 이하, 바람직하게는, 2 m 이하이다. 장변 (16) 의 길이 L 이 상기한 하한 이상이면, 긴 쪽 방향으로 충분히 긴 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 으로 하여, 여러 가지 용도에 사용할 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 2C , the light-transmitting conductive layer forming film 1 for a touch panel is formed such that the direction along the long side 16 becomes the TD direction and the direction along the short side 17 becomes the MD direction. For example, it can cut|disconnect along MD direction and can also obtain the some light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels. In this case, the length L (longitudinal length, TD direction length) of each long side 16 of the plurality of light transmitting conductive layer forming films 1 for touch panels is, for example, 30 cm or more, preferably is 0.50 m or more, more preferably 1.0 m or more, still more preferably 1.2 m or more, and is, for example, 4 m or less, preferably 2 m or less. If the length L of the long side 16 is more than the above-mentioned lower limit, it can be set as the long enough light-transmitting conductive layer formation film 1 for touch panels in a longitudinal direction, and can be used for various uses.

또한, 예를 들어, 소정의 평면에서 볼 때의 형상을 갖는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 에 있어서, 그 제조 방법 (롤 투 롤 방식) 에 있어서의 MD 방향 및 TD 방향이 명확하지 않은 경우, 본원에서는, 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항을 측정하고, 그 수치의 공차 (3 점 중, 최대와 최소의 차) 를 구함으로써 MD 방향 및 TD 방향을 판단하는 것으로 한다 (측정 위치는, [1] 캐리어 밀도 (Xa, Xc) 항에 기재된 측정 위치에 준한다). 표면 저항의 측정에 있어서는, 임의의 측정축을 0°로 설정하고, 45°, 90°, 135°방향의 4 축 방향에서, 각각 표면 저항을 구하고, 공차가 가장 작은 방향이, MD 방향이며, MD 방향에 직교하는 방향이, TD 방향이라고 정의한다.Moreover, for example, in the transparent conductive layer forming film 1 for touch panels which has a predetermined planar view shape, the MD direction and TD direction in the manufacturing method (roll-to-roll system) are clear. If not, in this application, the MD direction and the TD direction are determined by measuring the surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3 and finding the tolerance (the difference between the maximum and the minimum among three points) of the numerical value ( The measurement position is based on the measurement position described in the section [1] Carrier Density (Xa, Xc)). In the measurement of surface resistance, an arbitrary measurement axis is set to 0°, the surface resistance is obtained in each of the four axial directions of 45°, 90°, and 135° directions, and the direction with the smallest tolerance is the MD direction, MD A direction orthogonal to a direction is defined as a TD direction.

다음으로, 상기한 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 구비하는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4), 및, 터치 패널 표시 장치 (15) 에 대해 도 3 을 참조하여 설명한다.Next, the transparent conductive layer formation polarizing film 4 provided with the above-described transparent conductive layer formation film 1 for touch panels, and the touch panel display device 15 are demonstrated with reference to FIG.

도 3 에 나타내는 바와 같이, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 본 발명의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름의 일 실시형태이고, 소정의 두께를 갖는 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 이루고, 면 방향으로 연장되며, 평탄한 일방면 및 평탄한 타방면 (2 개의 주면) 을 갖는다.As shown in FIG. 3 , the polarizing film 4 with a transmissive conductive layer is one embodiment of the polarizing film with a transmissive conductive layer of the present invention, and has a film shape (including a sheet shape) having a predetermined thickness. and extends in the plane direction, and has a flat one surface and a flat other surface (two main surfaces).

또, 이 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 예를 들어, 터치 패널 표시 장치 (15) (가상선 참조) 등의 일부품이며, 요컨대, 터치 패널 표시 장치 (15) 는 아니다. 즉, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 예를 들어, 터치 패널 표시 장치 (15) 등을 제작하기 위한 부품이며, 액정층 (11) 및 광원 (20) (후술, 가상선) 을 포함하지 않고, 부품 단독으로 유통하며, 산업상 이용 가능한 디바이스이다.Moreover, this light-transmitting conductive layer formation polarizing film 4 is a part, such as the touchscreen display apparatus 15 (refer an imaginary line), that is, it is not the touchscreen display apparatus 15, for example. That is, the light-transmitting conductive layer-formed polarizing film 4 is, for example, a component for producing the touch panel display device 15 and the like, and includes the liquid crystal layer 11 and the light source 20 (described later, imaginary line). It is a device that is not included, is distributed alone, and can be used industrially.

구체적으로는, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 과, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 과, 1/4 파장층 (6) 과, 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 과, 편광자 (8) 와, 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 과, 광 투과성 기재 필름 (10) 을, 두께 방향 타방 측을 향해, 순서대로 구비한다. 상세하게는, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 광 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 과, 그 타방면에 배치되는 광 투과성 감압 접착제층 (5) 과, 그 타방면에 배치되는 1/4 파장층 (6) 과, 그 타방면에 배치되는 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 과, 그 타방면에 배치되는 편광자 (8) 와, 그 타방면에 배치되는 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 과, 그 타방면에 배치되는 광 투과성 기재 필름 (10) 을 구비한다. 바람직하게는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 과, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 과, 1/4 파장층 (6) 과, 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 과, 편광자 (8) 와, 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 과, 광 투과성 기재 필름 (10) 만으로 이루어진다.Specifically, the polarizing film with a transmissive conductive layer (4) includes a film with a transmissive conductive layer for touch panels (1), a light transmissive pressure-sensitive adhesive layer (5), and a quarter-wavelength layer (6); The 2nd light transmissive adhesive bond layer 7, the polarizer 8, the 3rd light transmissive adhesive bond layer 9, and the light transmissive base film 10 are provided in order toward the other side in the thickness direction. In detail, the polarizing film with a transparent conductive layer 4 is arrange|positioned on the transparent conductive layer formation film 1 for optical touch panels, the light transmissive pressure-sensitive adhesive layer 5 arrange|positioned on the other surface, and the other surface. a quarter-wavelength layer 6 to be formed, a second light-transmitting adhesive layer 7 disposed on the other surface, a polarizer 8 disposed on the other surface, and a third light-transmitting adhesive layer disposed on the other surface ( 9) and the light transmissive base film 10 arrange|positioned on the other surface is provided. Preferably, the light transmissive conductive layer forming film for touch panels (1), the light transmissive pressure-sensitive adhesive layer (5), the quarter wavelength layer (6), the second light transmissive adhesive layer (7), and the polarizer It consists only of (8), the 3rd light transmissive adhesive bond layer (9), and the light transmissive base film (10).

터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에 있어서의 최일방층이다. 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 은, 일방 측에 노출되어 있다.The transparent conductive layer formation film 1 for touch panels is the most one-way layer in the transparent conductive layer formation polarizing film 4 . The transparent conductive layer forming film 1 for touch panels is exposed on one side.

광 투과성 감압 접착제층 (5) 은, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 과 1/4 파장층 (6) 을 두께 방향으로 감압 접착하기 위한 층이다. 광 투과성 감압 접착제층 (5) 은, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 타방면에 접촉하고 있다. 구체적으로는, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 은, 필름 기재 (2) 의 타방면 전체면에 접촉하고 있다. 광 투과성 감압 접착제층 (5) 은, 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 가지고 있다.The light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5 is a layer for pressure-sensitively bonding the light-transmissive conductive layer-forming film 1 for a touch panel and the quarter-wavelength layer 6 in the thickness direction. The light transmissive pressure-sensitive adhesive layer 5 is in contact with the other surface of the light transmissive conductive layer forming film 1 for a touch panel. Specifically, the light transmissive pressure-sensitive adhesive layer 5 is in contact with the entire surface of the other surface of the film base material 2 . The light transmissive pressure-sensitive adhesive layer 5 has a film shape (including a sheet shape).

광 투과성 감압 접착제층 (5) 은, 예를 들어, 광학 등방성을 갖는다. 요컨대, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 은, 복굴절성을 실질적으로 가지지 않는다.The light transmissive pressure-sensitive adhesive layer 5 has, for example, optical isotropy. In other words, the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5 does not substantially have birefringence.

광 투과성 감압 접착제층 (5) 의 재료는, 광 투과성 및 감압 접착성을 갖는 재료이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 광학 투명 접착제 (OCA : Optical Clear Adhesive) 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 의 재료로서, 예를 들어, 아크릴계 감압 접착제, 고무계 감압 접착제 (부틸 고무 등), 실리콘계 감압 접착제, 폴리에스테르계 감압 접착제, 폴리우레탄계 감압 접착제, 폴리아미드계 감압 접착제, 에폭시계 감압 접착제, 비닐알킬에테르계 감압 접착제, 불소 수지계 감압 접착제 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 감압 접착성, 투습성의 관점에서, 아크릴계 감압 접착제를 들 수 있다. 광 투과성 감압 접착제층 (5) 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이상, 바람직하게는, 5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는, 10 ㎛ 이상이며, 또, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는, 150 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는, 50 ㎛ 이하이다.The material of the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5 is not particularly limited as long as it is a material having light transmittance and pressure-sensitive adhesiveness, and examples thereof include an optically clear adhesive (OCA: Optical Clear Adhesive). Specifically, as a material of the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive (such as butyl rubber), a silicone pressure-sensitive adhesive, a polyester pressure-sensitive adhesive, a polyurethane pressure-sensitive adhesive, polyamide pressure-sensitive adhesives, epoxy-based pressure-sensitive adhesives, vinyl alkyl ether-based pressure-sensitive adhesives, fluororesin pressure-sensitive adhesives, and the like, and preferably, acrylic pressure-sensitive adhesives from the viewpoint of pressure-sensitive adhesiveness and moisture permeability. The thickness of the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5 is, for example, 1 µm or more, preferably 5 µm or more, more preferably 10 µm or more, and, for example, 300 µm or less, preferably is 150 µm or less, more preferably 50 µm or less.

1/4 파장층 (6) 은, λ/4 판이고, 액정 셀 (21) (후술) 을 통과한 자연광을 직선 편광으로 변환하기 위한 층 (위상차판) 이다. 1/4 파장층 (6) 은, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 의 타방면에 접촉 (감압 접착) 하고 있다.The quarter-wave layer 6 is a λ/4 plate, and is a layer (retardation plate) for converting natural light passing through the liquid crystal cell 21 (described later) into linearly polarized light. The quarter-wavelength layer 6 is in contact with the other surface of the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5 (pressure-sensitive adhesive).

또한, 1/4 파장층 (6) 은, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 및 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 을 개재하여, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 및 편광자 (8) 사이에 배치되어 있다. 즉, 1/4 파장층 (6) 은, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 의 광 투과성 도전층 (3) 과, 편광자 (8) 사이에 배치되어 있다.In addition, the quarter-wavelength layer 6 is provided with the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5 and the second light-transmitting adhesive layer 7 interposed therebetween, the light-transmitting conductive layer-forming film 1 for touch panel and the polarizer 8 ) are placed between That is, the quarter-wavelength layer 6 is arrange|positioned between the light transmissive conductive layer 3 of the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4, and the polarizer 8. As shown in FIG.

1/4 파장층 (6) 은, 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 가지고 있다. 1/4 파장층 (6) 으로는, 구체적으로는, 수지 필름을 연신한 연신 필름, 액정 폴리머를 배향 처리한 필름 등을 들 수 있다. 수지 필름의 재료로는, 시클로올레핀 폴리머 등의 고리형 폴리올레핀 수지, 폴리카보네이트 수지 등을 들 수 있다. 1/4 파장층 (6) 으로서, 바람직하게는, 연신 필름을 들 수 있다.The quarter wavelength layer 6 has a film shape (including a sheet shape). As the 1/4 wavelength layer 6, the stretched film which extended|stretched the resin film, the film which orientation-processed the liquid crystal polymer, etc. are specifically, mentioned. As a material of a resin film, cyclic polyolefin resins, such as a cycloolefin polymer, polycarbonate resin, etc. are mentioned. As the 1/4 wavelength layer 6, Preferably, a stretched film is mentioned.

제 2 광 투과성 접착제층 (7) 은, 1/4 파장층 (6) 의 타방면에 접촉하고 있다. 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 은, 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 가지고 있다. 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 의 재료로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 접착제 등을 들 수 있다. 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 의 치수 등은, 광 투과성 감압 접착제층 (5) 의 그것과 동일하다.The second light-transmitting adhesive layer 7 is in contact with the other surface of the quarter-wavelength layer 6 . The second light-transmitting adhesive layer 7 has a film shape (including a sheet shape). It does not specifically limit as a material of the 2nd light transmissive adhesive bond layer 7, For example, a polyvinyl alcohol-type adhesive agent etc. are mentioned. The dimensions and the like of the second light-transmitting adhesive layer 7 are the same as those of the light-transmitting pressure-sensitive adhesive layer 5 .

편광자 (8) 는, 광을 직선 편광으로 변환하기 위한 층 (편광판) 이다. 편광자 (8) 는, 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 의 타방면에 접촉하고 있다. 편광자 (8) 는, 필름 형상 (시트 형상 또는 판 형상을 포함한다) 을 가지고 있다. 편광자 (8) 로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올 필름 (PVA), 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 수지 필름에, 이색성 물질 (요오드, 이색성 염료) 을 흡착시켜, 1 축 연신시킨 필름 등을 들 수 있다. 또, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물, 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리에틸렌계 필름 등도 들 수 있다. 편광자 (8) 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이상, 바람직하게는, 3 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는, 5 ㎛ 이상이며, 또, 예를 들어, 200 ㎛ 이하, 바람직하게는, 100 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는, 50 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는, 30 ㎛ 이하이다.The polarizer 8 is a layer (polarizing plate) for converting light into linearly polarized light. The polarizer 8 is in contact with the other surface of the second light-transmitting adhesive layer 7 . The polarizer 8 has a film shape (including a sheet shape or a plate shape). As the polarizer 8, for example, a dichroic substance (iodine, a dichroic dye) is adsorbed to a hydrophilic resin film, such as a polyvinyl alcohol film (PVA) and an ethylene-vinyl acetate copolymer type|system|group partially saponified film, and uniaxial The stretched film etc. are mentioned. Moreover, polyethylene-type films, such as a dehydration-processed material of polyvinyl alcohol, and a dehydrochloric acid-treated product of polyvinyl chloride, etc. are mentioned. The thickness of the polarizer 8 is, for example, 1 µm or more, preferably 3 µm or more, more preferably 5 µm or more, and for example, 200 µm or less, preferably 100 µm or more. Hereinafter, more preferably, it is 50 micrometers or less, More preferably, it is 30 micrometers or less.

제 3 광 투과성 접착제층 (9) 은, 편광자 (8) 의 타방면에 접촉하고 있다. 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 은, 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 가지고 있다. 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 의 재료, 치수 등은, 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 의 그것들과 동일하다.The third light transmissive adhesive layer 9 is in contact with the other surface of the polarizer 8 . The third light-transmitting adhesive layer 9 has a film shape (including a sheet shape). The material, dimensions, and the like of the third light-transmitting adhesive layer 9 are the same as those of the second light-transmitting adhesive layer 7 .

광 투과성 기재 필름 (10) 은, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에 있어서의 최타방층이다. 광 투과성 기재 필름 (10) 은, 타방 측에 노출되어 있다. 광 투과성 기재 필름 (10) 은, 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 가지고 있다. 광 투과성 기재 필름 (10) 의 재료, 물성, 치수 등은, 상기한 필름 기재 (2) 의 그것들과 동일하다. 광 투과성 기재 필름 (10) 의 재료로서, 바람직하게는, 셀룰로오스 수지, 보다 바람직하게는, TAC 를 들 수 있다.The light transmissive base film 10 is the outermost layer in the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 . The light transmissive base film 10 is exposed on the other side. The light transmissive base film 10 has a film shape (including a sheet shape). The material, physical properties, dimensions, etc. of the light transmissive base film 10 are the same as those of the above-described film base material 2 . As a material of the light transmissive base film 10, Preferably, a cellulose resin is mentioned, More preferably, TAC is mentioned.

또한, 1/4 파장층 (6), 편광자 (8), 및, 광 투과성 기재 필름 (10) 은, 예를 들어, 원편광판 (18) 을 구성한다. 원편광판 (18) 은, 광학 등방성을 가지고 있고, 원편광판 (18) 의 가시광 투과율은, 예를 들어, 80 ％ 이상, 바람직하게는, 90 ％ 이상이며, 또, 예를 들어, 100 ％ 이하이다. 원편광판 (18) 의 자세한 것은, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2018-151651호 등에 기재되어 있다.In addition, the quarter-wavelength layer 6, the polarizer 8, and the light transmissive base film 10 comprise the circularly-polarizing plate 18, for example. The circularly polarizing plate 18 has optical isotropy, and the visible light transmittance of the circularly polarizing plate 18 is, for example, 80% or more, preferably 90% or more, and, for example, 100% or less. . The detail of the circularly polarizing plate 18 is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-151651 etc.

이 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 의 두께는, 예를 들어, 10 ㎛ 이상, 바람직하게는, 100 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는, 1000 ㎛ 이상이며, 또, 예를 들어, 500 ㎛ 이하이다.The thickness of this light-transmitting conductive layer formation polarizing film 4 is, for example, 10 micrometers or more, Preferably, it is 100 micrometers or more, More preferably, it is 1000 micrometers or more, and, for example, is 500 micrometers or less. to be.

이 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 예를 들어, 터치 패널 표시 장치 (15) 에 구비된다.This light-transmitting conductive layer-forming polarizing film 4 is provided in the touch panel display device 15 , for example.

도 3 의 실선 및 가상선으로 나타내는 바와 같이, 터치 패널 표시 장치 (15) 는, 광원 (20) 과, 액정 셀 (21) 과, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 을, 두께 방향 타방 측 (시인 측에 상당) 을 향해, 순서대로 구비한다.As shown by the solid line and the imaginary line of FIG. 3 , the touch panel display device 15 has the light source 20, the liquid crystal cell 21, and the light-transmitting conductive layer-forming polarizing film 4 on the other side in the thickness direction. (corresponding to the visual recognition side), it is provided in order.

광원 (20) 은, 터치 패널 표시 장치 (15) 에 있어서 두께 방향 최일방 측 (시인 측에 대한 역측) 에 위치한다. 광원 (20) 으로는, 예를 들어, LED 등, 공지된 광원을 들 수 있다.The light source 20 is located in the thickness direction most one side (the opposite side with respect to the visual recognition side) in the touch panel display device 15 . As the light source 20, well-known light sources, such as LED, are mentioned, for example.

액정 셀 (21) 은, 광원 (20) 에 대한 두께 방향 일방 측 (시인 측) 에 배치되어 있다. 또, 액정 셀 (21) 은, 광원 (20) 및 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 사이에 개재된다. 액정 셀 (21) 로는, 공지된 화상 표시 소자를 들 수 있다.The liquid crystal cell 21 is arrange|positioned at the thickness direction one side with respect to the light source 20 (viewing side). Moreover, the liquid crystal cell 21 is interposed between the light source 20 and the light-transmitting conductive layer formation polarizing film 4 . As the liquid crystal cell 21, a well-known image display element is mentioned.

광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) (보다 구체적으로는, 광 투과성 도전층 (3)) 이 액정 셀 (21) 에 대향하도록 (면하도록), 액정 셀 (21) 의 두께 방향 일방 측에 배치되어 있다.The light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 is so that the light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels (more specifically, the light transmissive conductive layer 3) faces (faces) the liquid crystal cell 21 ), it is arrange|positioned at one side of the thickness direction of the liquid crystal cell 21.

또한, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에 있어서의 광 투과성 도전층 (3) 은, 터치 검지 장치 (도시 생략) 등에 전기적으로 접속된다. 이와 같은 광 투과성 도전층 (3) 은, 도 4 에 있어서 묘화하고 있지 않지만, 예를 들어, 소정의 패턴으로 형성 (패터닝) 되어 있다.In addition, the transparent conductive layer 3 in the transparent conductive layer formation polarizing film 4 is electrically connected to a touch detection device (not shown) etc. Although such a light-transmitting conductive layer 3 is not drawn in FIG. 4, it is formed (patterning) in a predetermined|prescribed pattern, for example.

그리고, 이 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 에서는, 광 투과성 도전층 (3) 및 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 은, 모두, 비정질이기 때문에, 내크랙성이 우수하다.And in this transmissive conductive layer forming film 1 for touch panels, since both the transmissive conductive layer 3 and the to-be-heated light transmissive conductive layer 3 (alpha) are amorphous, they are excellent in crack resistance.

또, 광 투과성 도전층 (3) 및 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 이 상기 식 (1) 및 (2) 의 양방을 만족하므로, 열에 의한 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항의 변화를 억제할 수 있고, 열안정성이 우수하다. Further, since the light-transmitting conductive layer (3) and the light-transmitting conductive layer to be heated (3α) satisfy both of the above formulas (1) and (2), the change in the surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3 due to heat is reduced. It can be suppressed, and it is excellent in thermal stability.

도 2A 및 도 2B 에 나타내는 바와 같이, 필름 기재 (2) 의 단변 (17) 의 길이 W 가 30 cm 이상으로 길면, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 및 터치 패널 표시 장치 (15) 의 제조 효율을 향상시킴과 함께, 대형의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 및 터치 패널 표시 장치 (15) 를 제조할 수 있다. As shown to FIG. 2A and FIG. 2B, when the length W of the short side 17 of the film base material 2 is as long as 30 cm or more, manufacture of the light-transmitting conductive layer formation polarizing film 4 and the touch panel display device 15 While improving efficiency, the large sized light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 and the touch panel display device 15 can be manufactured.

또, 종래의 비정질성의 광 투과성 도전층 (3) 은, 가열에 의해 비정질을 유지한 경우여도, 터치 패널 표시 장치 (15) 에 있어서의 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 내에서 막질의 편차가 있고, 그 결과, 특히 필름 기재 (2) 의 폭 방향으로 표면 저항의 편차를 발생시키는 경우가 있다.Moreover, even if it is a case where the conventional amorphous light-transmitting conductive layer 3 is a case where the amorphousness is maintained by heating, it is a film quality in the light-transmitting conductive layer formation film 1 for touch panels in the touch panel display device 15. There is a dispersion|variation of this, and as a result, the dispersion|variation in surface resistance may be produced especially in the width direction of the film base material 2 .

구체적으로는, 필름 기재 (2) 에 있어서 폭 방향 길이인 단변 (17) 의 길이 W 가 30 cm 이상으로 길면, 폭 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 의 표준 편차가 커지기 쉽다. 요컨대, 폭 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 가 편차가 발생하기 쉽다.Specifically, in the film base material 2, when the length W of the short side 17 which is length in the width direction is long at 30 cm or more, the standard deviation of Xc and Yc in the width direction will become large easily. That is, it is easy to generate|occur|produce a dispersion|variation in Xc and Yc in the width direction.

그러나, 이 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 에서는, 광 투과성 도전층 (3) 및 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 이 상기 식 (1) 및 식 (2) 의 양방을 만족하도록, 광 투과성 도전층 (3) 이 형성되므로, 폭 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 의 표준 편차를 작게, 요컨대, 폭 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 의 편차를 억제할 수 있고, 구체적으로는, Xc 의 표준 편차를 10 × 10¹⁹(/㎤) 이하, Yc 의 표준 편차를 5 (㎠/V·s) 이하로 설정할 수 있다. 그 때문에, 폭 방향에 있어서의 열안정성이 보다 한층 우수하다.However, in this light-transmitting conductive layer forming film (1) for a touch panel, so that the light-transmitting conductive layer (3) and the to-be-heated light-transmitting conductive layer (3α) satisfy both of the above formulas (1) and (2) , since the light-transmitting conductive layer 3 is formed, the standard deviation of Xc and Yc in the width direction can be small, that is, the deviation of Xc and Yc in the width direction can be suppressed, specifically, Xc The standard deviation can be set to 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, and the standard deviation of Yc can be set to 5 (cm 2 /V·s) or less. Therefore, it is further excellent in the thermal stability in the width direction.

또, 도 2C 에 나타내는 바와 같이, 필름 기재 (2) 에 있어서 TD 방향을 따른 장변 (16) 의 길이 L 이 30 cm 이상으로 길면, TD 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 의 표준 편차가 커지기 쉽다. 요컨대, TD 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 가 편차가 발생하기 쉽다.Moreover, as shown in FIG. 2C, when the length L of the long side 16 along the TD direction in the film base material 2 is long at 30 cm or more, the standard deviation of Xc and Yc in TD direction becomes large easily. In other words, Xc and Yc in the TD direction are liable to vary.

그러나, 이 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 에서는, 광 투과성 도전층 (3) 및 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 이 상기 식 (1) 을 만족하도록, 광 투과성 도전층 (3) 이 형성되므로, TD 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 의 표준 편차를 작게, 요컨대, TD 방향에 있어서의 Xc 및 Yc 의 편차를 억제할 수 있고, 구체적으로는, Xc 의 표준 편차를 10 × 10¹⁹(/㎤) 이하, Yc 의 표준 편차를 5 (㎠/V·s) 이하로 설정할 수 있다. 그 때문에, TD 방향에 있어서의 열안정성이 보다 한층 우수하다.However, in this light-transmitting conductive layer-forming film (1) for a touch panel, the light-transmitting conductive layer (3) so that the light-transmitting conductive layer (3) and the to-be-heated light-transmitting conductive layer (3α) satisfy the above formula (1) ) is formed, the standard deviation of Xc and Yc in the TD direction can be made small, that is, the deviation of Xc and Yc in the TD direction can be suppressed. Specifically, the standard deviation of Xc is 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less, the standard deviation of Yc can be set to 5 (cm 2 /V·s) or less. Therefore, the thermal stability in the TD direction is further excellent.

또, 광 투과성 도전층 (3) 은, 인듐계 산화물을 함유하면, 저표면 저항 및 광 투과성이 우수하다.Moreover, when the light transmissive conductive layer 3 contains an indium type oxide, it is excellent in low surface resistance and light transmittance.

도 3 에 나타내는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 내크랙성이 우수하기 때문에, 가공성이 양호하고, 의장성 (외관) 이 우수하다.Since the polarizing film 4 with a transparent conductive layer shown in FIG. 3 is excellent in crack resistance, workability is favorable and it is excellent in designability (appearance).

또, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 열안정성이 우수하기 때문에, 이것을 구비하는 터치 패널 표시 장치 (15) 는, 신뢰성이 우수하다.Moreover, since the transparent conductive layer formation polarizing film 4 is excellent in thermal stability, the touchscreen display apparatus 15 provided with this is excellent in reliability.

＜변형예＞ <Modified example>

변형예에 있어서, 일 실시형태와 동일한 부재 및 공정에 대해서는, 동일한 참조 부호를 붙이고, 그 상세한 설명을 생략한다. 또, 변형예는, 특별히 기재하는 이외, 일 실시형태와 동일한 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 일 실시형태 및 그 변형예를 적절히 조합할 수 있다.In a modification, about the same member and process as one Embodiment, the same reference numeral is attached|subjected, and the detailed description is abbreviate|omitted. In addition, the modified example can exhibit the same effect as that of one embodiment, except for the description in particular. Moreover, one embodiment and its modification can be combined suitably.

도 3 에 나타내는 바와 같이, 일 실시형태의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에서는, 필름 기재 (2) 및 광 투과성 도전층 (3) 이 직접 접촉하고 있지만, 예를 들어, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 필름 기재 (2) 및 광 투과성 도전층 (3) 사이에, 기능층 (25) 을 개재시킬 수 있다.As shown in FIG. 3, in the polarizing film 4 with a transparent conductive layer of one Embodiment, although the film base material 2 and the transparent conductive layer 3 are in direct contact, For example, shown in FIG. Thus, the functional layer 25 can be interposed between the film base material 2 and the light-transmitting conductive layer 3 .

구체적으로는, 기능층 (25) 으로서, 예를 들어, 1/4 파장층 (6) 및 편광자 (8) 를 들 수 있다. 요컨대, 도 4 의 변형예의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에서는, 필름 기재 (2) 와, 편광자 (8) 와, 1/4 파장층 (6) 과, 광 투과성 도전층 (3) 이, 두께 방향 일방 측을 향해, 순서대로 배치된다. Specifically, as the functional layer 25, the quarter-wave layer 6 and the polarizer 8 are mentioned, for example. That is, in the polarizing film 4 with a transparent conductive layer of the modification of FIG. 4, the film base material 2, the polarizer 8, the quarter wavelength layer 6, and the light transmission conductive layer 3 are , are arranged in order toward one side in the thickness direction.

편광자 (8) 는, 필름 기재 (2) 의 일방면에 접촉하고 있다.The polarizer 8 is in contact with one surface of the film base material 2 .

1/4 파장층 (6) 은, 편광자 (8) 의 일방 측에 접촉하고 있다. 1/4 파장층 (6) 은, 광 투과성 도전층 (3) 의 타방면에 접촉하고 있다.The quarter-wavelength layer 6 is in contact with one side of the polarizer 8 . The quarter-wavelength layer 6 is in contact with the other surface of the light-transmitting conductive layer 3 .

또한, 도 4 에 나타내는 변형예에서는, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 1/4 파장층 (6) 을 구비하지만, 예를 들어, 도시되지 않지만, 1/4 파장층 (6) 을 구비하지 않고, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 을, 필름 기재 (2), 편광자 (8) 및 광 투과성 도전층 (3) 으로 구성할 수도 있다.In addition, in the modification shown in FIG. 4, although the transparent conductive layer formation polarizing film 4 is equipped with the quarter-wavelength layer 6, for example, although not shown in figure, the quarter-wavelength layer 6 is not provided, and the polarizing film 4 with a transparent conductive layer can also be comprised from the film base material 2, the polarizer 8, and the transparent conductive layer 3.

바람직하게는, 도 3 에 나타내는 일 실시형태와 같이, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 1/4 파장층 (6) 을, 광 투과성 도전층 (3) 과 편광자 (8) 사이에 구비한다. 이로써, 시인 측 (도 3 의 타방 측) 으로부터, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에 입사한 가시광 영역의 반사광을 억제할 수 있다. 구체적으로는, 1/4 파장층 (6) 이 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에 형성되어 있지 않은 경우에는, 광 투과성 도전층 (3) 이 가시광 영역의 광을 일부 반사 (예를 들어, 10 ％ 정도) 하고 있다. 그러나, 1/4 파장층 (6) 이, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 의 광 투과성 도전층 (3) 과, 편광자 (8) 사이에 배치되어 있는 경우에는, 광 투과성 도전층 (3) 에 있어서 반사되어, 시인 측으로 돌아가는 외광은, 편광자 (8) 에서 흡수되고, 시인 측으로 거의 출사되지 않는다. 그 때문에, 광 투과성 도전층 (3) 의 반사광 유래의 색미를 대폭 저감할 수 있다.Preferably, as in the embodiment shown in FIG. 3 , the polarizing film 4 with a light-transmitting conductive layer is provided with the quarter-wavelength layer 6 between the light-transmitting conductive layer 3 and the polarizer 8 . be prepared Thereby, the reflected light of the visible region which injected into the transparent conductive layer formation polarizing film 4 from the visual recognition side (the other side of FIG. 3) can be suppressed. Specifically, when the quarter-wavelength layer 6 is not formed on the polarizing film 4 with a light-transmitting conductive layer, the light-transmitting conductive layer 3 partially reflects light in the visible region (for example, , about 10%). However, when the quarter wavelength layer 6 is arrange|positioned between the light transmissive conductive layer 3 of the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4, and the polarizer 8, the light transmissive conductive layer 3 ), the external light that is reflected and returned to the viewer side is absorbed by the polarizer 8, and is hardly emitted toward the viewer side. Therefore, the color taste derived from the reflected light of the transparent conductive layer 3 can be reduced significantly.

도 1 에 나타내는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1), 및, 도 3 에 나타내는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에서는, 광 투과성 도전층 (3) 은, 필름 기재 (2) 의 일방면에만 배치되어 있지만, 예를 들어, 도시되지 않지만, 필름 기재 (2) 의 일방면 및 타방면의 양방에 배치되어 있어도 된다.In the light transmissive conductive layer formation film 1 for touch panels shown in FIG. 1, and the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 shown in FIG. 3, the light transmissive conductive layer 3 is a film base material 2 Although it arrange|positions only on one side, for example, although it is not shown in figure, you may arrange|position at both the one side of the film base material 2, and the other side.

또, 도 3 에 나타내는 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 및 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 을 구비하지만, 예를 들어, 도시되지 않지만, 어느 일방, 혹은, 양방을 구비하지 않고, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 을 구성할 수 있다.Moreover, although the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 shown in FIG. 3 is equipped with the 2nd light transmissive adhesive bond layer 7 and the 3rd light transmissive adhesive bond layer 9, For example, although not shown in figure, which One or both are not provided, and the transparent conductive layer formation polarizing film 4 can be comprised.

한편, 도 4 에 나타내는 변형예의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 필름 기재 (2) 와 편광자 (8) 가, 그것들 사이에 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 등을 개재시키지 않고, 직접 접촉하고 있지만, 예를 들어, 도시되지 않지만, 그것들 사이에, 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 을 개재시킬 수 있다. 이 경우에 있어서, 추가로, 필름 기재 (2) 와, 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 사이에 접착 용이층을 형성해도 된다. 접착 용이층을 형성함으로써, 필름 기재 (2) 와 제 3 광 투과성 접착제층 (9) 사이의 원하는 접착력의 실현이 촉진될 수 있다.On the other hand, in the polarizing film 4 with a light-transmitting conductive layer of the modification shown in FIG. 4, the film base material 2 and the polarizer 8 do not interpose a 3rd light-transmitting adhesive layer 9 etc. between them, Although in direct contact, for example, although not shown, the 3rd light-transmitting adhesive bond layer 9 can be interposed between them. In this case, you may provide an easily bonding layer between the film base material 2 and the 3rd light transmissive adhesive bond layer 9 further. By forming the easily-adhesive layer, realization of a desired adhesive force between the film substrate 2 and the third light-transmitting adhesive layer 9 can be promoted.

또, 도 4 에 나타내는 변형예의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 은, 편광자 (8) 와 1/4 파장층 (6) 이 직접 접촉하고 있지만, 예를 들어, 도시되지 않지만, 그것들 사이에, 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 을 개재시킬 수 있다. 이 경우에 있어서, 추가로, 제 2 광 투과성 접착제층 (7) 과 1/4 파장층 (6) 사이에 접착 용이층을 형성해도 된다. 접착 용이층을 형성함으로써, 편광자 (8) 와 1/4 파장층 (6) 사이의 원하는 접착력의 실현이 촉진될 수 있다.Moreover, although the polarizer 8 and the quarter-wavelength layer 6 are in direct contact with the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 of the modification shown in FIG. 4, for example, although not shown in figure, between them , the second light-transmitting adhesive layer 7 may be interposed therebetween. In this case, you may further provide an easily bonding layer between the 2nd light-transmitting adhesive bond layer 7 and the quarter wavelength layer 6 further. By forming the easily-adhesive layer, realization of a desired adhesive force between the polarizer 8 and the quarter-wavelength layer 6 can be promoted.

도 4 에 나타내는 변형예의 광 투과성 도전층 형성 편광 필름 (4) 에서는, 광 투과성 도전층 (3) 은, 필름 기재 (2) 의 일방 측에만 배치되어 있지만, 예를 들어, 필름 기재 (2) 의 일방 측 및 타방 측 (보다 구체적으로, 타방면) 의 양측에 배치되어 있어도 된다.In the light transmissive conductive layer formation polarizing film 4 of the modification shown in FIG. 4, although the light transmissive conductive layer 3 is arrange|positioned only on one side of the film base material 2, For example, the film base material 2 You may arrange|position on both sides of one side and the other side (more specifically, the other side).

실시예Example

이하, 본 발명에 관하여, 실시예를 이용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한, 실시예로 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술 사상에 기초하여 각종의 변형 및 변경이 가능하다.Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples, but the present invention is not limited to the examples as long as it does not exceed the gist thereof, and various modifications and changes are possible based on the technical idea of the present invention. Do.

이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명은, 하등 실시예 및 비교예로 한정되지 않는다. 또, 이하의 기재에 있어서 사용되는 배합 비율 (함유 비율), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기 「발명을 실시하기 위한 구체적인 내용」에 있어서 기재되어 있는, 그것들에 대응하는 배합 비율 (함유 비율), 물성값, 파라미터 등 해당 기재의 상한 (「이하」, 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한 (「이상」, 「초과」로서 정의되어 있는 수치) 으로 대체할 수 있다.Examples and comparative examples are shown below to further specifically describe the present invention. In addition, this invention is not limited to an Example and a comparative example at least. In addition, specific numerical values such as the blending ratio (content ratio), physical property value, and parameter used in the description below are described in the "Specific Content for Carrying Out the Invention" above, and the blending ratio (content ratio) corresponding to them is described in the above. ), physical property values, parameters, etc., may be replaced with upper limits (numeric values defined as “less than” or “less than”) or lower limits (numeric values defined as “greater than” and “exceeded”) of the description.

실시예 1Example 1

길이 500 m, 폭 1300 mm (130 cm), 두께 188 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름을 준비하여, 필름 기재 (2) 로 했다. 필름 기재 (2) 의 수분 함유량은, 75 ㎍/㎠ 였다.A polyethylene terephthalate (PET) film having a length of 500 m, a width of 1300 mm (130 cm) and a thickness of 188 µm was prepared as a film base material (2). The water content of the film base material 2 was 75 µg/cm 2 .

필름 기재 (2) 를 롤 투 롤형 스퍼터링 장치에 설치하고, 진공 배기했다. 그 후, Ar 및 O₂ 를 도입하여 기압 0.4 Pa 로 한 진공 분위기에 있어서, DC 마그네트론 스퍼터링법에 의해, 반송 속도 9 m/min 으로 하여, 두께 32 nm 의 ITO 로 이루어지는 광 투과성 도전층 (3) 을 제조했다. ITO 는, 비정질이었다. 이로써, 광 투과성 기재 (2) 및 광 투과성 도전층 (3) 을 순서대로 구비하는 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다.The film base material 2 was installed in the roll-to-roll sputtering apparatus, and it evacuated. Thereafter, in a vacuum atmosphere in which Ar and O ₂ are introduced and the atmospheric pressure is 0.4 Pa, the light-transmitting conductive layer 3 made of ITO having a thickness of 32 nm at a conveying speed of 9 m/min by DC magnetron sputtering. was manufactured ITO was amorphous. Thereby, the transparent conductive layer formation film 1 for touch panels provided with the transparent base material 2 and the transparent conductive layer 3 in order was manufactured.

또한, 타겟으로서, 12 질량％ 의 산화주석과 88 질량％ 의 산화인듐의 소결체 (ITO) 를 사용하고, 마그넷의 수평 자장은 30 mT 로 조절했다.Moreover, as a target, the sintered compact (ITO) of 12 mass % of tin oxide and 88 mass % of indium oxide was used, and the horizontal magnetic field of the magnet was adjusted to 30 mT.

스퍼터링 장치에서는, 필름 기재 (2) 의 폭 방향을 4 분할한 영역의 각각에 있어서, 4 개의 산소 가스 배관을 배치했다. 그리고, 스퍼터링 시에는, 좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량을, 중앙의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량에 대해, 0.94 배로 설정했다. 구체적으로는, 좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.030 으로 설정하고, 중앙부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.032 로 설정했다.In the sputtering apparatus, in each of the area|region which divided the width direction of the film base material 2 into 4, four oxygen gas piping was arrange|positioned. And, at the time of sputtering, the oxygen gas supply amount of two oxygen gas piping of both ends was set to 0.94 with respect to the oxygen gas supply amount of two oxygen gas piping in the center. Specifically, in the two oxygen gas pipes at the left and right ends, _{the ratio of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O ₂ /Ar) is set to 0.030, and in the two oxygen gas pipes in the central part, the ratio of the Ar flow rate to the Ar flow rate is set to 0.030. The ratio of the O ₂ _{flow rate (O 2} /Ar) was set to 0.032.

스퍼터링 시에 있어서의 필름 기재 (2) 의 온도를, 0 ℃ 로 설정했다.The temperature of the film base material 2 at the time of sputtering was set to 0 degreeC.

실시예Example 2 2

반송 속도를 4.5 m/min 으로 하고, 광 투과성 도전층 (3) 의 두께를 65 nm 로 하고, 좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.030 으로 설정하고, 중앙부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 의 설정을 0.031 로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다.The transport speed is 4.5 m/min, the thickness of the light-transmitting conductive layer 3 is 65 nm, and _{the ratio of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O ₂ /Ar ) is set to 0.030, and in the two oxygen gas pipes in the central part, the setting of the ratio (O ₂ _{/Ar) of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O 2 /Ar) is changed to 0.031. The transparent conductive layer formation film (1) for panels was manufactured.

실시예 3Example 3

좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량을, 중앙의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량에 대해, 0.92 배로 설정한 것 이외에는, 실시예 2 와 동일하게 하여 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다. 구체적으로는, 좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.022 로 설정하고, 중앙부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.024 로 설정했다.A light transmissive conductive layer for a touch panel was formed in the same manner as in Example 2, except that the oxygen gas supply amount of the two oxygen gas pipes at the right and left ends was set to 0.92 times the oxygen gas supply amount of the two central oxygen gas pipes. Film (1) was produced. Specifically, in the two oxygen gas pipes at the left and right ends, _{the ratio of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O ₂ /Ar) is set to 0.022, and in the two oxygen gas pipes in the central part, the ratio of the Ar flow rate to the Ar flow rate is set to 0.022. The ratio of the O ₂ _{flow rate (O 2} /Ar) was set to 0.024.

실시예Example 4 4

롤 투 롤형 스퍼터링 장치에 있어서의 필름 기재 (2) 의 반송 속도를 1.05 배로 설정하고, 광 투과성 도전층 (3) 의 두께를 62 nm 로 한 것 이외에는, 실시예 2 와 동일하게 하여 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다.It carried out similarly to Example 2, except that the conveyance speed of the film base material 2 in a roll-to-roll sputtering apparatus was set to 1.05 times, and the thickness of the transparent conductive layer 3 was 62 nm, and the light for touch panels The transparent conductive layer formation film (1) was manufactured.

실시예Example 5 5

좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량을, 중앙의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량에 대해, 0.95 배로 설정한 것 이외에는, 실시예 2 와 동일하게 하여 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다. 구체적으로는, 좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.035 로 설정하고, 중앙부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.037 로 설정했다.A light-transmitting conductive layer for touch panel was formed in the same manner as in Example 2, except that the oxygen gas supply amount of the two oxygen gas pipes at the left and right ends was set to 0.95 times the oxygen gas supply amount of the two central oxygen gas pipes. Film (1) was produced. Specifically, in the two oxygen gas pipes at the left and right ends, _{the ratio of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O ₂ /Ar) is set to 0.035, and in the two oxygen gas pipes in the central part, the ratio of the Ar flow rate to the Ar flow rate is set to 0.035. The ratio of the O ₂ _{flow rate (O 2} /Ar) was set to 0.037.

실시예Example 6 6

길이 500 m, 폭 1300 mm (130 cm), 두께 100 ㎛ 의 시클로올레핀 폴리머 (COP) 필름을 준비하여, 필름 기재 (2) 로 했다. 또한, 필름 기재 (2) 의 수분 함유량은, 정량 한계 (5 ㎍/㎠) 미만이었다.A cycloolefin polymer (COP) film having a length of 500 m, a width of 1300 mm (130 cm) and a thickness of 100 μm was prepared, and it was set as the film base material (2). Moreover, the water content of the film base material 2 was less than the limit of quantification (5 microgram/cm<2>).

좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량을, 중앙의 2 개의 산소 가스 배관의 산소 가스 공급량에 대해, 0.98 배로 설정한 것 이외에는, 실시예 2 와 동일하게 하여 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다. 구체적으로는, 좌우 양단부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.040 으로 설정하고, 중앙부의 2 개의 산소 가스 배관에 있어서, Ar 유량에 대한 O₂유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.041 로 설정했다.A light-transmitting conductive layer for touch panel was formed in the same manner as in Example 2, except that the oxygen gas supply amount of the two oxygen gas pipes at the right and left ends was set to 0.98 times the oxygen gas supply amount of the two central oxygen gas pipes. Film (1) was produced. Specifically, in the two oxygen gas pipes at the left and right ends, _{the ratio of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O ₂ /Ar) is set to 0.040, and in the two oxygen gas pipes in the central part, the ratio of the Ar flow rate to the Ar flow rate is set to 0.040. The ratio of the O ₂ _{flow rate (O 2} /Ar) was set to 0.041.

비교예comparative example 1 One

필름 기재 (2) 로서, 길이 1500 m, 폭 1300 mm (130 cm), 두께 50 ㎛ 의 열 경화 수지층 (언더코트층) 형성 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (필름 기재 (2) 의 수분 함유량은, 18 ㎍/㎠) 을 준비하고, 타겟으로서 10 질량％ 의 산화주석과 90 질량％ 의 산화인듐의 소결체 (ITO) 를 사용했다. 또, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.011 로 설정하고, 산소 도입량을 TD 방향 (도 2B 참조) 으로 균일하게 도입하면서, 두께 25 nm 의 ITO 로 이루어지는 광 투과성 도전층 (3) 을 형성했다. 상기 항목 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다.As the film substrate 2, a polyethylene terephthalate (PET) film having a length of 1500 m, a width of 1300 mm (130 cm) and a thickness of 50 μm formed with a thermosetting resin layer (undercoat layer) (the moisture content of the film substrate 2 is , 18 µg/cm 2 ), and a sintered compact (ITO) of 10 mass % tin oxide and 90 mass % indium oxide was used as a target. _{Further, the ratio of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O ₂ /Ar) is set to 0.011 and the oxygen introduction amount is uniformly introduced in the TD direction (refer to Fig. 2B), and the light-transmitting conductive layer made of ITO having a thickness of 25 nm (3) was formed. Except for the said item, it carried out similarly to Example 1, and produced the light-transmitting conductive layer formation film (1) for touch panels.

비교예comparative example 2 2

필름 기재 (2) 로서, 길이 3000 m, 폭 1300 mm (130 cm), 두께 188 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 를 사용하고, Ar 유량에 대한 O₂ 유량의 비 (O₂/Ar) 를 0.033 으로 하고, 산소 도입량을 TD 방향 (도 2B 참조) 으로 균일하게 도입하면서, 두께 65 nm 의 ITO 로 이루어지는 광 투과성 도전층 (3) 을 형성한 것 이외에는, 실시예 2 와 동일하게 하여 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을 제조했다.As the film substrate 2, polyethylene terephthalate (PET) having a length of 3000 m, a width of 1300 mm (130 cm) and a thickness of 188 μm was used, and _{the ratio of the O 2} flow rate to the Ar flow rate (O ₂ /Ar) was 0.033. In the same manner as in Example 2, except that a light-transmitting conductive layer 3 made of ITO having a thickness of 65 nm was formed while uniformly introducing oxygen in the TD direction (see Fig. 2B). The transparent conductive layer formation film (1) was manufactured.

각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 에 대해 하기 측정을 실시했다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The following measurement was performed about the transparent conductive layer formation film (1) for touch panels obtained by each Example and each comparative example. A result is shown in Table 1.

(평가) (evaluation)

(1) 필름 기재의 두께 및 수분 함유량 (1) Thickness and moisture content of the film substrate

필름 기재 (2) 의 두께는, 막두께계 (오자키 제작소사 제조, 장치명 「디지털 다이얼 게이지 DG-205」) 를 사용하여 측정했다. 광 투과성 도전층 (3) 의 두께는, 투과형 전자현미경 (히타치 제작소 제조, 장치명 「HF-2000」) 을 사용한 단면 관찰에 의해 측정했다.The thickness of the film base material 2 was measured using the film thickness meter (The Ozaki Corporation make, apparatus name "digital dial gauge DG-205"). The thickness of the light-transmitting conductive layer 3 was measured by cross-sectional observation using a transmission electron microscope (the Hitachi Corporation make, apparatus name "HF-2000").

필름 기재 (2) 의 수분 함유량은, JIS K 7251-B 법 (수분 기화법) 에 의해 구했다.The water content of the film base material 2 was calculated|required by JISK7251-B method (water vaporization method).

(2) 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도, 홀 이동도 및 그것들의 표준 편차(2) Carrier Density, Hole Mobility, and Their Standard Deviation of the Light-Transmitting Conductive Layer

홀 효과 측정 시스템 (바이오래드 제조, 상품명 「HL5500PC」) 을 사용하여 측정을 실시했다. 캐리어 밀도는, 상기 (1) 에서 구한 광 투과성 도전층 (3) 의 두께를 사용하여 산출했다.Measurement was performed using a Hall effect measurement system (manufactured by Bio-Rad, trade name "HL5500PC"). The carrier density was computed using the thickness of the transparent conductive layer 3 calculated|required in said (1).

구체적으로는, 각 실시예 및 각 비교예에 있어서, 폭 1300 mm 의 TD 방향에 있어서, 80 mm 위치 (P1), 650 mm 위치 (P2), 1220 mm 위치 (P3) 의 3 점에서 캐리어 밀도 및 홀 이동도의 각각을 구했다. Xa 및 Ya 의 각각을, 상기한 복수점에 있어서의 평균값으로서 구함과 함께, 표준 편차도 구했다.Specifically, in each Example and each comparative example, in the TD direction with a width of 1300 mm, the carrier density at three points: 80 mm position (P1), 650 mm position (P2), and 1220 mm position (P3); Each of the hole mobility was obtained. While each of Xa and Ya was calculated|required as an average value in said plurality of points, the standard deviation was also calculated|required.

(3) 피가열 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도, 홀 이동도 및 그것들의 표준 편차 (3) Carrier density, hole mobility and standard deviation thereof of the light-transmitting conductive layer to be heated

먼저, 각 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 을, 80 ℃, 500 시간 가열하여, 광 투과성 도전층 (3) 을 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 으로 했다.First, each light transmissive conductive layer forming film 1 for touch panel was heated at 80 degreeC for 500 hours, and the light transmissive conductive layer 3 was made into the to-be-heated light transmissive conductive layer 3 (alpha).

각 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 에 대해, 상기 (3) 과 동일하게 하여, 홀 효과 측정 시스템 (바이오래드 제조, 상품명 「HL5500PC」) 을 사용하여, 캐리어 밀도 및 홀 이동도를 측정했다. 또한, 각 예의 캐리어 밀도 및 홀 이동도의 측정 위치는 상기 (3) 과 동일하다. 이어서, Xc 및 Yc 의 각각을, 상기한 복수점에 있어서의 평균값으로서 구함과 함께, 표준 편차도 구했다.For each to-be-heated light-transmitting conductive layer 3?, the carrier density and the hole mobility were measured in the same manner as in (3) above using a Hall effect measurement system (manufactured by Bio-Rad, trade name "HL5500PC"). In addition, the measurement position of carrier density and hole mobility in each example is the same as that of said (3). Next, while calculating|requiring each of Xc and Yc as an average value in said plurality of points, the standard deviation was also calculated|required.

(4) 광 투과성 도전층 및 피가열 광 투과성 도전층의 막질 (4) Film quality of the light-transmitting conductive layer and the light-transmitting conductive layer to be heated

각 광 투과성 도전층 (3) 및 각 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 을, 염산 (농도 : 5 질량％) 에 15 분간 침지한 후, 수세·건조하여, 각 광 투과성 도전층 (3) 의 15 mm 정도 사이의 2 단자 간 저항을 측정했다. 15 mm 사이의 2 단자 간 저항이 10 kΩ 을 초과한 경우를, 비정질로 판단하고, 10 kΩ 을 초과하지 않은 경우를, 결정질로 판단했다.Each light-transmitting conductive layer 3 and each light-transmitting conductive layer 3α to be heated were immersed in hydrochloric acid (concentration: 5 mass%) for 15 minutes, washed with water and dried, and The resistance between the two terminals between about 15 mm was measured. The case where the resistance between the two terminals between 15 mm exceeded 10 kΩ was judged to be amorphous, and the case where it did not exceed 10 kΩ was judged to be crystalline.

(5) 표면 저항의 변화율 및 차의 평가 (5) Evaluation of change rate and difference in surface resistance

각 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 광 투과성 도전층 (3) 의 TD 방향 (도 2B 참조) 의 표면 저항 (각 실시예 및 비교예의 저항 측정점은 홀 효과 측정 실시점과 동일 위치) 을, JIS K7194 (1994년) 에 준해 사단자법에 의해 구하고, 표면 저항의 평균값을 산출했다. 즉, 먼저, 각 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 광 투과성 도전층 (3) 의 표면 저항의 TD 방향에 있어서의 평균값 (Ra) 을 측정했다. 이어서, 140 ℃, 1 시간 가열 후의 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 표면 저항의 TD 방향에 있어서의 평균값 (Rc) 을 측정했다. 가열 전의 표면 저항에 대한 가열 후의 표면 저항의 저항 변화율 (Rc/Ra) 을 구하고, 하기 기준으로 평가를 실시했다.Surface resistance in the TD direction (see Fig. 2B) of the light-transmitting conductive layer 3 of the light-transmitting conductive layer-forming film 1 for each touch panel (resistance measurement points in Examples and Comparative Examples are the same as the Hall effect measurement points) ) was calculated|required by the quadrilateral method according to JISK7194 (1994), and the average value of the surface resistance was computed. That is, first, the average value (Ra) in the TD direction of the surface resistance of the transparent conductive layer 3 of each transparent conductive layer formation film 1 for touch panels was measured. Next, the average value (Rc) in the TD direction of the surface resistance of the to-be-heated light-transmissive conductive layer 3(alpha) after heating at 140 degreeC for 1 hour was measured. The resistance change rate (Rc/Ra) of the surface resistance after heating with respect to the surface resistance before heating was calculated|required, and the following reference|standard evaluated.

○ : 표면 저항의 변화율이 0.8 이상, 1.25 이하○: The rate of change of surface resistance is 0.8 or more and 1.25 or less

× : 표면 저항의 변화율이 0.8 미만, 또는, 1.25 초과 x: the rate of change of the surface resistance is less than 0.8, or more than 1.25

아울러, 가열 전후의 표면 저항의 차 (｜Rc - Ra｜) 를 구했다.In addition, the difference (|Rc-Ra|) of the surface resistance before and behind heating was calculated|required.

(6) 폭 방향 (TD 방향) 에 있어서의 표면 저항의 공차 (6) Tolerance of surface resistance in the width direction (TD direction)

「표면 저항의 변화율 및 차의 평가」와 동일하게 하여, 각 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름 (1) 의 140 ℃, 1 시간 가열 후의 피가열 광 투과성 도전층 (3α) 의 TD 방향의 표면 저항을 측정했다. TD 방향으로 가장 큰 저항 (최대 저항 : Rmax) 과 가장 작은 저항 (최소 저항 : Rmin) 을 구하고, 그 차분 (Rmax - Rmin) 을 표면 저항의 공차로 하고, 하기 기준으로 평가했다.In the same manner as in "Evaluation of the rate of change and difference in surface resistance", the surface in the TD direction of the light transmitting conductive layer 3α to be heated after heating at 140° C. of each light transmitting conductive layer forming film 1 for a touch panel for 1 hour resistance was measured. The largest resistance (maximum resistance: Rmax) and the smallest resistance (minimum resistance: Rmin) were calculated|required in TD direction, the difference (Rmax - Rmin) was made into the tolerance of surface resistance, and the following reference|standard evaluated.

○ : 표면 저항의 공차가 0 Ω/□ 이상, 10 Ω/□ 이하○ : Tolerance of surface resistance is 0 Ω/□ or more, 10 Ω/□ or less

× : 표면 저항의 공차가 10 Ω/□ 초과 × : Tolerance of surface resistance exceeds 10 Ω/□

(7) 광 투과성 도전층 및 피가열 광 투과성 도전층의 비저항 (7) Specific resistance of the light-transmitting conductive layer and the light-transmitting conductive layer to be heated

(5) 「표면 저항의 변화율 및 차의 평가」에 기재된 방법으로 구한 광 투과성 도전층 (3) (가열 전) 및 피가열 광 투과성 도전층 (3α) (가열 후) 의 각각의 표면 저항의 평균값과, 광 투과성 도전층 (3) 의 두께의 곱을 구함으로써, 광 투과성 도전층 (3) (가열 전) 및 피가열 광 투과성 도전층 (3α) (가열 후) 의 각각의 비저항을 얻었다.(5) Average value of each surface resistance of the light-transmitting conductive layer 3 (before heating) and the light-transmitting conductive layer to be heated (3α) (after heating) obtained by the method described in "Evaluation of the rate of change and difference in surface resistance" and the thickness of the light transmitting conductive layer 3 were calculated|required, each specific resistance of the light transmitting conductive layer 3 (before heating) and the to-be-heated light transmitting conductive layer 3α (after heating) was obtained.

또한, 상기 발명은, 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공했지만, 이것은 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석해서는 안된다. 당해 당기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는, 후기 청구범위에 포함된다.In addition, although the said invention was provided as an exemplary embodiment of this invention, this is only a mere illustration and should not be interpreted limitedly. Modifications of the present invention apparent to those skilled in the art are included in the following claims.

산업상 이용가능성Industrial Applicability

터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름은, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름에 구비된다.The transparent conductive layer formation film for touch panels is equipped with the transparent conductive layer formation polarizing film.

1 : 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름
2 : 필름 기재
3 : 광 투과성 도전층
3α : 피가열 광 투과성 도전층
4 : 광 투과성 도전층 형성 편광 필름
6 : 1/4 파장층
8 : 편광자
15 : 터치 패널 표시 장치
Xa : 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도
Ya : 광 투과성 도전층의 홀 이동도
Xc : 피가열 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도
Yc : 피가열 광 투과성 도전층의 홀 이동도
W : 폭 (TD 방향 길이)1: Film for forming a light-transmitting conductive layer for a touch panel
2: film substrate
3: light transmissive conductive layer
3α: light-transmitting conductive layer to be heated
4: Light-transmitting conductive layer-forming polarizing film
6: 1/4 wavelength layer
8: polarizer
15: touch panel display device
Xa: carrier density of the light-transmitting conductive layer
Ya: hole mobility in the light-transmitting conductive layer
Xc: carrier density of the light-transmitting conductive layer to be heated
Yc: hole mobility of the light-transmitting conductive layer to be heated
W: Width (Length in TD direction)

Claims

필름 기재와, 광 투과성 도전층을 구비하고,
상기 광 투과성 도전층, 및, 상기 광 투과성 도전층을 80 ℃ 에서, 500 시간 가열한 후의 피가열 광 투과성 도전층은, 모두, 비정질이며,
상기 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도를 Xa × 10¹⁹(/㎤), 홀 이동도를 Ya (㎠/V·s) 로 하고,
상기 피가열 광 투과성 도전층의 캐리어 밀도를 Xc × 10¹⁹(/㎤), 홀 이동도를 Yc (㎠/V·s) 로 했을 때에,
하기 (1) 식 및 식 (2) 의 양방을 만족하는 것을 특징으로 하는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름.
0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1)
Yc ＞ Ya (2)A film substrate and a light-transmitting conductive layer,
The light-transmitting conductive layer and the light-transmitting conductive layer to be heated after heating the light-transmitting conductive layer at 80° C. for 500 hours are all amorphous;
The carrier density of the light-transmitting conductive layer is Xa × 10 ¹⁹ (/cm 3 ), and the hole mobility is Ya (cm 2 /V·s),
When the carrier density of the light-transmitting conductive layer to be heated is Xc × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) and the hole mobility is Yc (cm 2 /V·s),
Both of following (1) Formula and Formula (2) are satisfy|filled, The light transmissive conductive layer formation film for touch panels characterized by the above-mentioned.
0.5 ≤ (Xc/Xa) × (Yc/Ya) ≤ 1.8 (1)
Yc > Ya (2)

제 1 항에 있어서,
상기 필름 기재는, 장척 형상을 갖고,
상기 필름 기재는, 30 cm 이상의 폭 방향 길이를 갖는 것을 특징으로 하는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름.The method of claim 1,
The film substrate has a long shape,
The film base material is characterized in that it has a width direction length of 30 cm or more, a light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel.

제 2 항에 있어서,
상기 피가열 광 투과성 도전층의 상기 폭 방향을 따른 3 점의 위치에서 Xc 및 Yc 의 각각을 측정하고,
상기 Xc 의 표준 편차가, 10 × 10¹⁹(/㎤) 이하이며,
상기 Yc 의 표준 편차가, 5 (㎠/V·s) 이하인 것을 특징으로 하는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름.3. The method of claim 2,
Measuring each of Xc and Yc at three points along the width direction of the light-transmitting conductive layer to be heated,
The standard deviation of Xc is 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less,
The standard deviation of said Yc is 5 (cm<2>/V*s) or less, The light transmissive conductive layer formation film for touch panels characterized by the above-mentioned.

제 1 항에 있어서,
상기 필름 기재는, 30 cm 이상의 TD 방향 길이를 갖는 것을 특징으로 하는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름. The method of claim 1,
The film substrate is, characterized in that it has a TD direction length of 30 cm or more, a light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel.

제 4 항에 있어서,
상기 피가열 광 투과성 도전층의 상기 TD 방향을 따른 3 점의 위치에서 Xc 및 Yc 의 각각을 측정하고,
상기 Xc 의 표준 편차가, 10 × 10¹⁹ (/㎤) 이하이며,
상기 Yc 의 표준 편차가, 5 (㎠/V·s) 이하인 것을 특징으로 하는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름. 5. The method of claim 4,
Measuring each of Xc and Yc at three points along the TD direction of the light-transmitting conductive layer to be heated,
The standard deviation of Xc is 10 × 10 ¹⁹ (/cm 3 ) or less,
The standard deviation of said Yc is 5 (cm<2>/V*s) or less, The light transmissive conductive layer formation film for touch panels characterized by the above-mentioned.

제 1 항에 있어서,
상기 광 투과성 도전층은, 인듐계 산화물을 함유하는 것을 특징으로 하는, 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름.The method of claim 1,
The said light-transmitting conductive layer contains an indium type oxide, The light-transmitting conductive layer formation film for touch panels characterized by the above-mentioned.

제 1 항에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 필름과, 편광자를 구비하고,
상기 광 투과성 도전층, 상기 필름 기재 및 상기 편광자가, 이 순서로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름. A light-transmitting conductive layer-forming film for a touch panel according to claim 1, and a polarizer,
The said light transmissive conductive layer, the said film base material, and the said polarizer are arrange|positioned in this order, The polarizing film with a light transmissive conductive layer characterized by the above-mentioned.

제 7 항에 있어서,
상기 광 투과성 도전층 및 상기 편광자 사이에 배치되는 1/4 파장층을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는, 광 투과성 도전층 형성 편광 필름. 8. The method of claim 7,
A polarizing film with a light-transmitting conductive layer, characterized in that it further comprises a 1/4 wavelength layer disposed between the light-transmitting conductive layer and the polarizer.

제 7 항에 기재된 터치 패널용 광 투과성 도전층 형성 편광 필름을 구비하는 것을 특징으로 하는, 터치 패널 표시 장치. The light transmissive conductive layer formation polarizing film for touch panels of Claim 7 is provided, The touchscreen display apparatus characterized by the above-mentioned.