KR20210014581A - 염색 시스템 - Google Patents

염색 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR20210014581A
KR20210014581A KR1020200092092A KR20200092092A KR20210014581A KR 20210014581 A KR20210014581 A KR 20210014581A KR 1020200092092 A KR1020200092092 A KR 1020200092092A KR 20200092092 A KR20200092092 A KR 20200092092A KR 20210014581 A KR20210014581 A KR 20210014581A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
dye
resin body
lens
dyeing
Prior art date
Application number
KR1020200092092A
Other languages
English (en)
Inventor
료지 시바타
미노루 이누즈카
고지 아베
모토시 다나카
Original Assignee
가부시키가이샤 니데크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2020004759A external-priority patent/JP2021021182A/ja
Application filed by 가부시키가이샤 니데크 filed Critical 가부시키가이샤 니데크
Publication of KR20210014581A publication Critical patent/KR20210014581A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B05D3/0254—After-treatment
    • B05D3/0281—After-treatment with induction heating
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P5/00—Other features in dyeing or printing textiles, or dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form
    • D06P5/20—Physical treatments affecting dyeing, e.g. ultrasonic or electric
    • D06P5/2066—Thermic treatments of textile materials
    • D06P5/2072—Thermic treatments of textile materials before dyeing
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06B—TREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
    • D06B3/00—Passing of textile materials through liquids, gases or vapours to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing, impregnating
    • D06B3/34—Driving arrangements of machines or apparatus
    • D06B3/36—Drive control
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C13/00—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
    • B05C13/02—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/02—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to surfaces by single means not covered by groups B05C1/00 - B05C7/00, whether or not also using other means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/08—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
    • B05C9/14—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation involving heating or cooling
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00432—Auxiliary operations, e.g. machines for filling the moulds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
    • B29D11/00894—Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting
    • B29D11/00903—Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting on the surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00951—Measuring, controlling or regulating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00951—Measuring, controlling or regulating
    • B29D11/0098—Inspecting lenses
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06B—TREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
    • D06B19/00—Treatment of textile materials by liquids, gases or vapours, not provided for in groups D06B1/00 - D06B17/00
    • D06B19/0005—Fixing of chemicals, e.g. dyestuffs, on textile materials
    • D06B19/0076—Fixing of chemicals, e.g. dyestuffs, on textile materials by contact with a heated surface
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06H—MARKING, INSPECTING, SEAMING OR SEVERING TEXTILE MATERIALS
    • D06H3/00—Inspecting textile materials
    • D06H3/08—Inspecting textile materials by photo-electric or television means
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P3/00—Special processes of dyeing or printing textiles, or dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the material treated
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P5/00—Other features in dyeing or printing textiles, or dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form
    • D06P5/003—Transfer printing
    • D06P5/004—Transfer printing using subliming dyes
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P5/00—Other features in dyeing or printing textiles, or dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form
    • D06P5/20—Physical treatments affecting dyeing, e.g. ultrasonic or electric
    • D06P5/2005—Treatments with alpha, beta, gamma or other rays, e.g. stimulated rays
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P5/00—Other features in dyeing or printing textiles, or dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form
    • D06P5/20—Physical treatments affecting dyeing, e.g. ultrasonic or electric
    • D06P5/2011—Application of vibrations, pulses or waves for non-thermic purposes
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P5/00—Other features in dyeing or printing textiles, or dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form
    • D06P5/20—Physical treatments affecting dyeing, e.g. ultrasonic or electric
    • D06P5/2066—Thermic treatments of textile materials
    • D06P5/2083—Thermic treatments of textile materials heating with IR or microwaves
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2201/00—Polymeric substrate or laminate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/10—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by other chemical means
    • B05D3/101—Pretreatment of polymeric substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/10—Filters, e.g. for facilitating adaptation of the eyes to the dark; Sunglasses
    • G02C7/108—Colouring materials

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Coloring (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Fixing For Electrophotography (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

수지체를 자동적 또한 적절하게 염색하는 것이 가능한 염색 시스템을 제공한다.
염색 시스템(1)은, 반송 장치(10), 판독부(2), 염료 정착 장치(50) 및 컨트롤러(71)를 구비한다. 반송 장치(10)는, 수지체를 포함하는 반송 유닛을 반송한다. 판독부(2)는, 반송 유닛에 관한 정보를 판독한다. 염료 정착 장치(50)는, 반송 장치(10)에 의해 반송된 반송 유닛의 수지체를 가열함으로써, 수지체의 표면에 부착된 염료를 수지체에 정착시킨다. 컨트롤러(71)는, 판독부(2)에 의해 판독된 정보에 기초하여, 반송 유닛에 포함되는 수지체에 대하여 실행할 처치의 파라미터를 취득한다. 컨트롤러(71)는, 취득된 파라미터에 따라 염료 정착 장치(50)의 구동을 제어한다.

Description

염색 시스템 {DYING SYSTEM}
본 개시는 수지체를 염색하는 염색 시스템에 관한 것이다.
플라스틱 렌즈 등의 수지체를 염색하기 위한 다양한 기술이 제안되어 있다. 예를 들어, 침염법이라고 일컬어지는 염색 방법에서는, 수지체를 염색액 중에 침지함으로써 수지체가 염색된다. 그러나, 침염법에서는, 작업 환경을 양호하게 하기가 어렵고, 또한 일부의 수지체(예를 들어 고굴절률의 렌즈 등)를 염색시키기가 곤란하다.
그래서, 염료를 수지체의 표면에 전사하고, 염료가 부착된 수지체를 가열함으로써 수지체를 염색하는 기술이 제안되어 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에 기재된 염색 방법에서는, 승화성 염료가, 잉크젯 프린터에 의해 기체에 도포된다. 다음에, 진공 중에서 수지체와 기체가 비접촉으로 배치된 상태로, 기체에 도포된 승화성 염료가 승화됨으로써, 염료가 수지체에 전사된다. 다음에, 레이저광이 수지체에 대하여 주사됨으로써, 수지체가 가열되어 염료가 정착된다.
일본 특허 공개 제2018-127722호 공보
종래의 방법에서는, 수지체를 염색할 때, 작업자가 수작업으로 실행하는 공정이 많았다. 따라서, 수지체를 자동적으로 염색하는 기술이 요망된다. 그러나, 수지체를 염색하기 위한 구체적인 공정은, 다양한 조건에 따라 변화한다. 예를 들어, 수지체를 가열하여 염료를 정착시키는 공정에서는, 수지체의 형상 등에 따라 가열의 구체적인 방법을 적절하게 변경해야만 하는 경우가 있다.
본 개시의 전형적인 목적은, 수지체를 자동적 또한 적절하게 염색하는 것이 가능한 염색 시스템을 제공하는 것이다.
본 개시에 있어서의 전형적인 실시 형태가 제공하는 염색 시스템은, 수지체를 염색하는 염색 시스템이며, 수지체를 포함하는 반송 유닛을 반송하는 반송 장치와, 상기 반송 유닛에 관한 정보를 판독하는 판독부와, 상기 반송 장치에 의해 반송된 상기 반송 유닛의 수지체를 가열함으로써, 수지체의 표면에 부착된 염료를 수지체에 정착시키는 염료 정착 장치와, 제어부를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 판독부에 의해 판독된 상기 정보에 기초하여, 상기 반송 유닛에 포함되는 수지체에 대하여 실행할 처치의 파라미터를 취득하는 파라미터 취득 스텝과, 상기 정보를 판독한 상기 반송 유닛의 수지체를 상기 염료 정착 장치에 의해 가열할 때, 취득된 상기 파라미터에 따라 상기 염료 정착 장치의 구동을 제어하는 정착 제어 스텝을 실행한다.
본 개시에 관한 염색 시스템에 따르면, 수지체가 자동적 또한 적절하게 염색된다.
도 1은, 염색 시스템(1)의 시스템 구성을 도시하는 블록도이다.
도 2는, 2개의 렌즈(L)가 설치되고, 또한 기체(S)가 설치되어 있지 않은 상태의 염색용 트레이(80)를 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 3은, 도 2에 있어서의 2개의 장착부(82) 중 한쪽에 장착되는 적재 프레임(89), 렌즈(L) 및 스페이서(87)를 분해하여 도시하는, 염색용 트레이(80)의 사시도이다.
도 4는, 자동 염색 장치(3)를 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 5는, 전사ㆍ정착 유닛(4)을 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 6은, 반송 장치(10)를 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 7은, 제1 인도부(110)를 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 8은, 전사 장치(40)를 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 9는, 전사 장치(40)의 종단면을 후방으로부터 본 단면도이다.
도 10은, 폐색실 세트부(430)를 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 11은, 기체 보유 지지 장치(90)를 우측 비스듬하게 상방으로부터 본 사시도이다.
도 12는, 염료 정착 장치(50)를 정면으로부터 본 부분 단면도이다.
도 13은, 컨트롤러(71)가 실행하는 제1 염색 제어 처리의 일례를 도시하는 흐름도이다.
도 14는, 컨트롤러(71)가 실행하는 제2 염색 제어 처리의 일례를 도시하는 흐름도이다.
도 15는, 컨트롤러(71)가 실행하는 제3 염색 제어 처리의 일례를 도시하는 흐름도이다.
도 16은, 컨트롤러(71)가 실행하는 토출량 메인터넌스 처리의 일례를 도시하는 흐름도이다.
도 17은, 컨트롤러(71)가 실행하는 염색 품질 판정 처리의 흐름도이다.
<개요>
(제1 양태)
본 개시에서 예시하는 염색 시스템은, 반송 장치, 판독부, 염료 정착 장치 및 컨트롤러를 구비한다. 반송 장치는, 수지체를 포함하는 반송 유닛을 연속해서 반송한다. 반송 유닛은, 반송 장치에 의해 반송되는 단위이다. 판독부는, 반송 유닛에 관한 정보를 판독한다. 염료 정착 장치는, 반송 장치에 의해 반송된 반송 유닛의 수지체를 가열함으로써, 수지체의 표면에 부착된 염료를 수지체에 정착시킨다. 컨트롤러는, 파라미터 취득 스텝과 정착 제어 스텝을 실행한다. 파라미터 취득 스텝에서는, 컨트롤러는, 판독부에 의해 판독된 정보에 기초하여, 정보를 판독한 반송 유닛에 포함되는 수지체에 대하여 실행할 처치의 파라미터를 취득한다. 정착 제어 스텝에서는, 컨트롤러는, 정보를 판독한 반송 유닛의 수지체를 염료 정착 장치에 의해 가열할 때, 취득된 파라미터에 따라 염료 정착 장치의 구동을 제어한다.
본 개시에서 예시하는 염색 시스템에 따르면, 판독부에 의해 판독된 반송 유닛에 관한 정보에 기초하여, 수지체에 대하여 실행할 처치의 파라미터가 반송 유닛마다 취득된다. 취득된 파라미터에 따라, 각각의 수지체에 따른 적절한 방법으로 수지체가 가열되고, 염료가 정착된다. 따라서, 수지체가 자동적 또한 적절하게 염색된다.
반송 장치는, 복수의 반송 유닛을 연속해서 반송해도 된다. 판독부는, 각각의 반송 유닛마다, 반송 유닛에 관한 정보를 판독해도 된다. 염료 정착 장치는, 반송 장치에 의해 반송되는 반송 유닛마다, 반송 유닛에 포함되는 수지체를 가열함으로써, 수지체의 표면에 부착된 염료를 수지체에 정착시켜도 된다. 이 경우, 복수의 수지체의 각각이 연속해서 자동적으로 염색된다. 한편, 복수의 반송 유닛을 연속해서 반송하면서, 각각의 반송 유닛에 포함되는 수지체를 염색하는 경우에는, 반송 유닛의 반송순이 바뀌는 경우나, 일부의 반송 유닛이 반송 도중에 반송 장치로부터 분리되는 경우 등도 있다. 그 결과, 예정하고 있었던 양태와 다른 양태로 수지체가 염색되어 버릴 가능성이 있다. 그러나, 본 개시의 염색 시스템에서는, 반송 유닛의 반송순이 바뀌는 경우 등이라도, 판독부에 의해 판독된 반송 유닛에 관한 정보에 기초하여, 각각의 수지체에 따른 방법으로 수지체가 염색된다. 따라서, 복수의 수지체가, 각각의 수지체에 따라 적절하게 염색된다.
염료 정착 장치는, 전자파를 발생시키는 전자파 발생부를 구비하고 있어도 된다. 염료 정착 장치는, 전자파를 수지체에 조사함으로써, 수지체를 가열해도 된다. 이 경우, 염색 시스템은, 수지체에 따라 전자파에 의한 수지체의 가열을 적절하게 제어할 수 있다. 따라서, 수지체가 자동적 또한 적절하게 염색된다.
또한, 염료 정착 장치가 수지체에 전자파를 조사하기 위한 구체적인 방법은 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 염료 정착 장치의 전자파 발생부는, 레이저광을 출사시키는 레이저 광원이어도 된다. 염료 정착 장치는, 레이저 광원으로부터 출사된 레이저광을 수지체 상에서 주사하는 주사부를 구비하고 있어도 된다. 컨트롤러는, 정보를 판독한 반송 유닛의 수지체를 염료 정착 장치에 의해 가열할 때, 취득된 파라미터에 따라, 염료 정착 장치의 주사부의 구동을 제어해도 된다. 이 경우, 복수의 수지체의 각각에 따라 레이저광이 주사되므로, 적절하게 염료가 수지체에 정착된다. 또한, 염료 정착 장치는, 전자파 발생부로부터 수지체로 조사되는 전자파의 강도 분포를 조정하는 분포 조정부를 구비해도 된다. 분포 조정부는, 예를 들어 전자파의 일부를 통과시키는 개구부를 구비하고 있고, 전자파 발생부와 수지체의 사이에 설치되어도 된다. 컨트롤러는, 예를 들어 취득된 파라미터에 따라, 분포 조정부의 위치 및 개구부의 형상 등 중 적어도 어느 것을 변경해도 된다. 이 경우에도, 수지체에 따라 적절하게 전자파가 조사된다.
레이저 광원 또는 분포 조정부 등을 사용하는 경우에는, 다른 방법을 사용하는 경우(예를 들어, 수지체의 주위의 기체 또는 액체의 온도를 상승시킴으로써 수지체를 가열하는 경우 등)에 비하여, 염료를 정착시키기 위해 필요한 시간을 단축시키기 쉽다. 한편, 전자파를 수지체에 조사하면, 수지체의 표면의 온도가 급격하게 상승하므로, 수지체의 부위(예를 들어, 중앙부와 주변부의 차이 등)에 따라 온도차가 생기는 경우가 있다. 부위에 따른 온도차가 생기면, 염색 품질이 저하되는 경우가 있다. 온도차의 발생 방법은, 수지체의 형상 등에 따라 다르다. 또한, 수지체의 재질에 따라 전자파의 조사 방법을 변경하는 것이 바람직한 경우도 있다. 이에 비해, 본 개시의 염색 시스템은, 각각의 수지체에 따라, 전자파에 의한 수지체의 가열을 적절하게 제어할 수 있다. 따라서, 수지체가 자동적 또한 적절하게 염색된다.
판독부는, 발송 유닛마다 마련된 식별자를 판독하는 식별자 판독부를 포함하고 있어도 된다. 컨트롤러는, 파라미터 취득 스텝에 있어서, 반송 유닛마다 파라미터를 기억하는 데이터베이스로부터, 식별자 판독부에 의해 판독된 식별자에 대응하는 반송 유닛의 파라미터를 취득해도 된다. 이 경우, 예를 들어 복수의 반송 유닛의 순번이 바뀌는 경우 등이라도, 각각의 반송 유닛의 파라미터가 컨트롤러에 의해 적절하게 파악된다.
컨트롤러는, 수지체에 대하여 실행할 처치 내용을 나타내는 처치 정보에 기초하여, 처치 내용을 나타내는 파라미터를, 수지체가 포함되는 반송 유닛의 식별자에 대응지어 데이터베이스에 기억시키는 대응짓기 스텝을 실행해도 된다. 이 경우, 반송 유닛마다(즉, 수지체마다), 식별자와 파라미터가 적절하게 대응지어진 상태로 데이터베이스에 기억된다. 따라서, 식별자가 판독됨으로써, 수지체마다 적절한 처치가 실행된다.
염색 시스템은, 인쇄 장치 및 전사 장치를 더 구비하고 있어도 된다. 인쇄 장치는, 시트형 기체에 염료를 인쇄한다. 전사 장치는, 반송 장치에 의해 반송된 반송 유닛의 수지체를, 염료가 인쇄된 기체에 대향시킨 상태로, 염료를 수지체에 전사한다. 컨트롤러는, 인쇄 장치를 제어함으로써, 반송 유닛에 대응하는 식별자를 염료와 함께 기체에 인쇄시키는 식별자 인쇄 제어 스텝을 더 실행해도 된다. 이 경우, 수지체가 설치되는 설치부(예를 들어 트레이) 등에 식별자가 마련되어 있지 않은 경우라도, 파라미터가 반송 유닛마다 적절하게 취득된다. 또한, 염색 공정의 실행 후라도, 수지체와 함께 반송된 기체의 식별자가 판독됨으로써, 염색 공정의 예정과 결과(예를 들어, 염색 공정이 예정대로 행해졌는지 여부 등)가 용이하게 확인된다.
또한, 컨트롤러는, 식별자와 함께, 반송 유닛에 포함되는 수지체에 대하여 실행할 처치 내용을 나타내는 문자 및 기호 등 중 적어도 어느 것을 기체에 인쇄시켜도 된다. 이 경우, 작업자는, 판독부에 식별자를 판독시키지 않아도, 수지체에 대하여 실행하는(또는 실행된) 처치 내용을 용이하게 확인할 수 있다.
반송 유닛은, 수지체가 설치되는 설치부(예를 들어, 수지체가 적재되는 트레이 등)를 포함하고 있어도 된다. 식별자는 설치부에 마련되어 있어도 된다. 이 경우, 수지체가 설치되는 설치부의 식별자가 판독부에 의해 판독됨으로써, 수지체에 대하여 실행할 처치의 파라미터가 적절하게 취득된다.
단, 식별자를 마련하는 부재를 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 수지체 자체에 식별자가 마련되어 있어도 된다. 이 경우, 수지체의 파라미터가 취득될 때, 어떤 수지체의 파라미터와, 다른 수지체의 파라미터를 혼동할 가능성이 더 저하된다.
판독부는, 반송 유닛에 마련된 기입 가능한 태그로부터 정보를 판독하는 태그 판독부를 포함하고 있어도 된다. 컨트롤러는, 파라미터 취득 스텝에 있어서, 태그 판독부에 의해 판독된 정보에 포함되는 파라미터를 취득해도 된다. 이 경우, 처치 내용을 나타내는 파라미터를 미리 태그에 기억시켜 둠으로써, 예를 들어 복수의 반송 유닛의 순번이 바뀌는 경우 등이라도, 각각의 반송 유닛의 파라미터가 컨트롤러에 의해 적절하게 파악된다.
판독부는, 렌즈인 수지체의 광학 특성을 측정하는 광학 특성 측정 장치를 포함하고 있어도 된다. 컨트롤러는, 파라미터 취득 스텝에 있어서, 광학 특성 측정 장치에 의해 측정된 렌즈의 광학 특성에 기초하여, 염료 정착 장치의 구동을 제어하는 파라미터를 취득해도 된다. 수지체가 렌즈인 경우, 렌즈의 형상에 따라 광학 특성이 변화한다. 렌즈의 형상이 다르면, 염료 정착 장치에 의해 렌즈를 가열할 때의, 렌즈의 부위에 따른 온도차의 발생 방법이 다르다. 따라서, 염색 시스템은, 광학 특성 측정 장치에 의해 측정된 렌즈의 광학 특성에 기초하여, 렌즈의 형상에 따른 파라미터를 취득함으로써, 각각의 렌즈에 따른 적절한 방법으로 렌즈를 가열할 수 있다. 또한, 렌즈의 재질에 따라 광학 특성이 변화한다. 렌즈의 재질에 따라, 염료 정착 장치에 의한 렌즈의 가열 방법을 변경하는 것이 바람직한 경우도 있다. 따라서, 염색 시스템은, 광학 특성 측정 장치에 의해 측정된 광학 특성에 기초하여, 렌즈의 재질에 따른 파라미터를 취득함으로써, 각각의 렌즈에 따른 적절한 방법으로 렌즈를 가열할 수 있다.
또한, 컨트롤러는, 광학 특성 측정 장치에 의해 실제로 측정된 렌즈의 광학 특성이, 식별자 또는 태그 등이 판독됨으로써 취득된 파라미터에 포함되는 광학 특성과 다른 경우에는, 작업자에 대한 경고 처리, 및 염색 공정을 중단하는 처리 중 적어도 어느 것을 실행해도 된다. 이 경우, 보다 적절하게 렌즈가 염색된다.
염색 시스템은, 수지체를 염색하는 염색 공정 중, 염료 정착 장치에 의해 실행되는 염료 정착 공정 이외의 공정을 실행하는 적어도 하나의 염색 공정 실행 장치를 더 구비하고 있어도 된다. 반송 장치는, 반송 유닛을 염료 정착 장치 및 염색 공정 실행 장치의 각각으로 반송해도 된다. 컨트롤러는, 정보를 판독한 반송 유닛의 수지체에 대한 염색 공정을, 염색 공정 실행 장치에 실행시킬 때, 취득된 파라미터에 따라 염색 공정 실행 장치의 구동을 제어해도 된다. 즉, 컨트롤러는, 각각의 수지체에 대하여 실행되는 복수의 염색 공정을, 판독부에 의해 판독된 정보에 기초하여 제어해도 된다. 이 경우, 복수의 염색 공정이, 각각의 수지체에 따라 적절하게 실행된다. 따라서, 보다 적절하게 각각의 수지체가 염색된다.
또한, 염색 공정 중, 염료 정착 공정 이외의 공정은, 시트 상의 기체에 염료를 부착시키는 염료 부착 공정, 및 기체에 부착된 염료를 수지체에 전사하는 전사 공정 중 적어도 어느 것을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 염색 시스템은, 일련의 염색 공정을 보다 원활하게 실행할 수 있다.
컨트롤러는, 정보를 판독한 반송 유닛에 사용하는 기체에의 염료의 인쇄를, 염색 공정 실행 장치의 하나인 인쇄 장치에 실행시킬 때, 취득된 파라미터에 따라 인쇄 장치의 구동을 제어하는 인쇄 제어 스텝을 더 실행해도 된다. 이 경우, 수지체를 염색하기 위한 염료 구비 기체가, 각각의 수지체에 따라 적절하게 인쇄된다.
염색 시스템은, 염색 공정 실행 장치의 하나인 회전 장치를 더 구비하고 있어도 된다. 회전 장치는, 반송 장치에 의해 반송되는 반송 유닛마다 수지체를 회전시킴으로써, 염료 구비 기체에 대한 수지체의 방향을 규정한다. 컨트롤러는, 정보를 판독한 반송 유닛의 수지체를 회전 장치에 의해 회전시킬 때, 취득된 파라미터에 따라 회전 장치의 구동을 제어하는 회전 제어 스텝을 더 실행해도 된다. 예를 들어, 원주 렌즈 및 누진 렌즈 등에 그라데이션 염색을 행하는 경우 등에는, 염료 구비 기체에 대한 렌즈의 배향(방향)을 회전 장치에 의해 적절하게 규정할 필요가 있다. 염색 시스템은, 파라미터에 따라 회전 장치의 구동을 제어함으로써, 염료 구비 기체에 대한 수지체의 방향을 반송 유닛마다 적절하게 규정할 수 있다.
염색 시스템은, 코팅 장치를 더 구비하고 있어도 된다. 코팅 장치는, 반송 장치에 의해 반송되는 반송 유닛마다, 염료 정착 장치에 의해 염료가 정착된 수지체의 표면에 코팅을 행한다. 컨트롤러는, 정보를 판독한 반송 유닛의 수지체에 코팅을 행할 때, 취득된 파라미터에 따라 코팅 장치의 구동을 제어하는 코팅 제어 스텝을 더 실행해도 된다. 이 경우, 수지체에 대한 코팅이, 각각의 수지체에 따라 적절하게 실행된다.
반송 장치는, 반송 유닛을 인쇄 장치로부터 전사 장치로 반송해도 된다. 이 경우, 인쇄 장치에 있어서 염료가 인쇄된 기체가 반송 유닛에 설치됨으로써, 기체가 반송 유닛과 함께 전사 장치로 반송된다. 따라서, 기체를 반송하는 공정이 간략화된다.
(제2 양태)
일본 특허 공개 제2018-127722호 공보에 기재된 염색 방법에서는, 레이저 광원 및 수지체의 주위가 개방되어 있으므로, 바람직하지 않은 방향으로의 레이저광의 반사 등이 생길 가능성이 있다. 따라서, 레이저광의 광로의 주위의 적어도 일부를 차단하는 것이 바람직하다. 그러나, 레이저광의 광로의 주위를 차단하면, 가열되어 가스화된 염료가, 레이저광 조사부의 대물 렌즈에 부착되기 쉬워진다. 대물 렌즈에 염료가 부착되면, 대물 렌즈의 광학 특성이 악화된다. 나아가, 대물 렌즈에 부착된 염료가 레이저광에 의해 가열됨으로써, 대물 렌즈 등의 각종 부재의 온도가 상승하여 손상 등의 문제가 생길 가능성도 있다. 본 개시의 제2 측면은, 레이저광 조사부의 대물 렌즈에 염료가 부착되는 것의 영향을 억제하는 것이 가능한 염료 정착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시의 제2 측면에 관한 염료 정착 장치는, 수지체에 레이저광을 조사함으로써, 상기 수지체의 표면에 부착된 염료를 상기 수지체에 정착시키는 염료 정착 장치이며, 레이저광을 출사시키는 레이저 광원을 구비하고, 대물 렌즈를 통하여 상기 수지체에 레이저광을 조사하는 레이저광 조사부와, 상기 레이저광 조사부의 상기 대물 렌즈로부터 상기 수지체로 연장되는 레이저광의 광로의 주위의 적어도 일부를 덮음으로써, 상기 광로 외로의 레이저광의 누설을 차단하는 통형의 레이저광 차단부와, 상기 레이저광 차단부에 형성되고, 상기 레이저광 차단부의 외부로부터 내부에 기체를 유입시키는 유입구와, 상기 레이저광 차단부에 형성되고, 상기 레이저광 차단부의 내부로부터 외부로 기체를 배출하는 배출구와, 상기 유입구로부터 상기 배출구로 기체를 흘리기 위한 압력차를 발생시키는 압력차 발생부를 구비한다.
본 개시에서 예시하는 염료 정착 장치는, 레이저광 조사부, 레이저광 차단부, 유입구, 배출구 및 압력차 발생부를 구비한다. 레이저광 조사부는, 레이저광을 출사시키는 레이저 광원을 구비하고, 대물 렌즈를 통하여 수지체에 레이저광을 조사한다. 레이저광 차단부는, 레이저광 조사부의 대물 렌즈로부터 수지체로 연장되는 레이저광의 광로의 주위의 적어도 일부를 덮음으로써, 광로 외로의 레이저광의 누설을 차단하는 통형의 부재이다. 유입구는, 레이저광 차단부에 형성되고, 레이저광 차단부의 외부로부터 내부에 기체를 유입시킨다. 배출구는, 레이저광 차단부에 형성되고, 레이저광 차단부의 내부로부터 외부로 기체를 배출한다. 압력차 발생부는, 유입구로부터 배출구로 기체를 흘리기 위한 압력차를 발생시킨다.
본 개시에서 예시하는 염료 정착 장치에 따르면, 유입구로부터 배출구를 향하여 기체가 흐른다. 즉, 레이저광 차단부의 내부를 기체가 흐른다. 따라서, 수지체의 표면의 염료가 가열되어 가스화되어도, 염료는, 레이저광 조사부의 대물 렌즈에 부착되기 어려워진다. 따라서, 레이저광 조사부의 대물 렌즈에 염료가 부착됨으로써 생기는 여러 가지 영향이 적절하게 억제된다.
또한, 배출구는, 레이저광 차단부 중, 레이저광 조사부의 대물 렌즈보다 레이저광의 광로의 하류측에 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 유입구로부터 배출구로 흐르는 기체에 가스화된 염료가 포함되어 있는 경우라도, 기체는 대물 렌즈에 도달하기 어렵다. 따라서, 배출구가 대물 렌즈보다 레이저광의 광로의 상류측에 형성되어 있는 경우에 비하여, 가스화된 염료가 대물 렌즈에 부착될 가능성이 더 저하된다.
또한, 레이저광의 광로가 연장되는 방향은 적절하게 규정할 수 있다. 예를 들어, 레이저 광원이 상방으로부터 하방을 향하여 레이저광을 출사시키는 경우에는, 레이저광의 광로의 하류측은 하측, 광로의 상류측은 상측으로 된다. 또한, 레이저 광원이 좌측 방향으로 레이저광을 출사시키는 경우에는, 레이저광의 광로의 하류측은 좌측, 상류측은 우측으로 된다.
또한, 본 개시에서 예시하는 유입구 및 배출구는, 레이저광 차단부의 벽면에 형성된 구멍이다. 그러나, 유입구 및 배출구의 구성을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 유입구 및 배출구 중 적어도 어느 것은, 레이저광 차단부와 다른 부재(예를 들어, 레이저광 조사부 또는 수지체 등)의 사이에 형성되는 간극이어도 된다.
배출구는, 레이저광 차단부 중, 유입구보다 레이저광의 광로의 하류측에 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 레이저광 차단부의 내측에서는, 레이저광의 광로의 상류측으로부터 하류측으로 기체가 흐른다. 따라서, 가스화된 염료가 레이저광 조사부의 대물 렌즈에 부착될 가능성이 더 저하된다.
배출구는, 레이저광 차단부 중, 수지체가 설치되는 위치보다 레이저광의 광로의 상류측에 마련되어 있어도 된다. 레이저광 차단부 중, 수지체가 설치되는 위치, 또는 수지체가 설치되는 위치보다 광로의 하류측에 배출구가 설치되어 있는 경우에는, 유입구로부터 유입된 기체는 수지체를 통과한다. 기체가 수지체를 통과하면, 가열 대상의 수지체가 기체에 의해 냉각되므로, 가열 효율이 악화된다. 이에 비해, 배출구를 수지체의 위치보다 광로의 상류측에 마련한 경우에는, 유입구로부터 유입된 기체는 수지체까지 도달하기 어려워진다. 따라서, 염료 정착 장치는, 기체에 의해 수지체가 냉각되는 것을 억제하면서, 가스화된 염료가 대물 렌즈에 부착되는 것을 적절하게 억제할 수 있다.
단, 유입구 및 배출구의 위치를 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 레이저광 차단부 중, 레이저광 조사부의 대물 렌즈와 수지체가 설치되는 위치의 사이에, 유입구와 배출구가 광로를 사이에 두고 대향하도록 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 레이저광의 광로를 가로지르도록 기체가 통과한다. 따라서, 가스화된 염료가 수지체로부터 대물 렌즈를 향하여 이동해도, 가스화된 염료는, 대물 렌즈에 도달하기 전에 배출구로 흐르기 쉬워진다. 또한, 레이저광 차단부 중, 수지체가 설치되는 위치, 또는 수지체가 설치되는 위치보다 광로의 하류측에 배출구가 마련되어 있어도 된다. 이 경우에도, 가스화된 염료는 대물 렌즈에 부착되기 어려워진다.
염료 정착 장치는, 서모 카메라를 구비하고 있어도 된다. 서모 카메라는, 레이저광 차단부의 내부에 마련되며, 수지체의 열 분포를 검출한다. 이 경우, 염료 정착 장치는, 서모 카메라에 의한 열 분포의 검출 결과에 기초하여, 보다 적절하게 수지체의 가열 제어를 실행할 수 있다.
염료 정착 장치는, 레이저 광원으로부터 출사된 레이저광을 수지체에 대하여 상대적으로 주사시키는 주사부를 더 구비하고 있어도 된다. 염료 정착 장치의 컨트롤러는, 서모 카메라에 의해 검출된 수지체의 열 분포에 기초하여, 주사부의 구동을 제어해도 된다. 이 경우, 실제의 수지체의 열 분포에 기초하여, 보다 적절하게 레이저광에 의한 수지체의 가열 처리가 행해진다.
또한, 주사부의 구체적인 구성은 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 주사부는, 레이저광의 진행 방향을 편향시키는 스캐너(예를 들어, 갈바노 미러, 폴리곤 미러, 음향 광학 소자 등 중 적어도 어느 것)여도 된다. 이 경우, 주사부는, 레이저광 조사부에 마련되어 있어도 된다. 또한, 주사부는, 레이저광에 대하여 수지체의 위치를 이동시키는 이동부여도 된다. 스캐너와 이동부가 함께 사용되어도 된다.
배출구는, 레이저광 차단부 중, 서모 카메라에 전자파를 입사시키는 전자파 입사부보다 레이저광의 광로의 하류측에 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 레이저광에 의해 가열되어 가스화된 염료는, 레이저광 조사부의 대물 렌즈에 더하여, 서모 카메라의 전자파 입사부에도 부착되기 어려워진다. 따라서, 전자파 입사부에 염료가 부착되어 서모 카메라의 성능이 저하되는 것이, 적절하게 억제된다.
또한, 전자파 입사부는, 예를 들어 수지체로부터 생기는 전자파(적외선 등)를 서모 카메라의 검출 소자에 결상시키는 결상 렌즈(예를 들어 게르마늄 렌즈 등)여도 된다. 또한, 서모 카메라에는, 레이저광 조사부에 의해 조사되는 레이저광의 파장의 광을 차단하는 필터가 마련되어 있어도 된다. 이 경우, 전자파 입사부는, 결상 렌즈와 필터에 의해 구성되어 있어도 된다.
압력차 발생부는, 유입 송풍기 및 배출 송풍기 중 적어도 어느 것을 구비하고 있어도 된다. 유입 송풍기는, 유입구로부터 레이저광 차단부의 내부로 기체를 송풍한다. 배출 송풍기는, 배출구로부터 레이저광 차단부의 외부로 기체를 송풍한다. 염료 정착 장치는, 유입 송풍기 및 배출 송풍기 중 적어도 어느 것을 구비함으로써, 유입구로부터 배출구로 기체를 흘리기 위한 압력차를, 간이한 구성으로 적절하게 발생시킬 수 있다.
염료 정착 장치는, 압력차 발생부가 정상적으로 구동하고 있는지 여부를 검출하는 구동 검출부를 더 구비하고 있어도 된다. 염료 정착 장치의 컨트롤러는, 압력차 발생부가 정상적으로 구동하지 않았다는 취지가 구동 검출부에 의해 검출된 경우에, 작업자에 대한 경고 처리, 및 레이저광 조사부에 의한 수지체의 가열 동작을 금지하는 처리 중 적어도 어느 것을 실행해도 된다. 이 경우, 압력차 발생부의 고장 등에 의해 레이저광 조사부의 대물 렌즈에 염료가 부착되는 것이 적절하게 억제된다.
(제3 양태)
일본 특허 공개 제2018-127722호 공보에 기재된 염색 방법에서는, 레이저 광원 및 수지체의 주위가 개방되어 있다. 따라서, 수지체의 열이 주위로 확산되어, 수지체의 온도가 상승하기 어려웠다. 또한, 수지체의 열은, 외주부 쪽이 내측보다 주위로 확산되기 쉬우므로, 수지체의 외주부와 내측에 온도차가 생겨, 색 불균일이 발생해 버리는 문제가 생기는 경우도 있었다. 본 개시의 제3 측면은, 수지체에 염료를 적절하게 정착시키는 것이 가능한 염료 정착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시의 제3 측면에 관한 염료 정착 장치는, 수지체에 레이저광을 조사함으로써, 상기 수지체의 표면에 부착된 염료를 상기 수지체에 정착시키는 염료 정착 장치이며, 상기 수지체에 레이저광을 조사하는 레이저광 조사부와, 상기 레이저광 조사부로부터 상기 수지체로 연장되는 레이저광의 광로의 주위의 적어도 일부를 덮음으로써, 상기 광로 외로의 레이저광의 누설을 차단하는 통형의 레이저광 차단부와, 상기 레이저광 차단부 중 적어도, 상기 수지체의 주위를 덮는 수지체 주변부의 내주면에 마련되고, 상기 수지체로부터의 복사열을 반사하는 복사열 반사부를 구비한다.
본 개시에서 예시하는 염료 정착 장치는, 레이저광 조사부, 레이저광 차단부 및 복사열 반사부를 구비한다. 레이저광 조사부는, 수지체에 레이저광을 조사한다. 레이저광 차단부는, 레이저광 조사부로부터 수지체로 연장되는 레이저광의 광로의 주위의 적어도 일부를 덮음으로써, 광로 외로의 레이저광의 누설을 차단하는 통형의 부재이다. 복사열 반사부는, 레이저광 차단부 중 적어도, 수지체의 주위를 덮는 수지체 주변부의 내주면에 마련되어 있으며, 수지체로부터의 복사열을 반사한다.
본 개시에서 예시하는 염료 정착 장치에 따르면, 광로 외로의 레이저광의 누설이, 레이저광 차단부에 의해 차단된다. 또한, 레이저광 차단부 중, 수지체의 주위를 덮는 수지체 주변부의 내주면에, 복사열 반사부가 마련되어 있다. 따라서, 레이저광에 의해 가열된 수지체로부터 방출되는 복사열의 적어도 일부가, 복사열 반사부에 의해 수지체를 향하여 반사된다. 그 결과, 수지체(특히 외주부)의 열이 주위로 확산되기 어려워지므로, 수지체의 온도가 레이저광에 의해 적절하게 상승하기 쉬워진다. 따라서, 염료가 적절하게 수지체에 정착하기 쉬워진다.
복사열 반사부는, 통형인 수지체 주변부의 전체 둘레에 마련되어 있어도 된다. 이 경우, 수지체로부터 방출되는 복사열이, 더 효율적으로 복사열 반사부에 의해 수지체에 반사되기 쉬워진다. 따라서, 보다 적절하게 수지체가 레이저광에 의해 가열된다.
단, 복사열 반사부는, 수지체 주변부의 둘레 방향의 일부에(예를 들어 간헐적으로) 마련되어 있어도 된다. 이 경우에도, 복사열 반사부가 마련되어 있지 않은 경우에 비하여, 수지체는 적절하게 가열된다.
레이저광 차단부 중, 수지체 주변부와는 다른 부위의 적어도 일부가, 레이저광 조사부로부터 조사되는 레이저광을 차단하고, 또한 가시광을 투과시키는 광투과성 부재에 의해 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 작업자는, 광투과성 부재를 통하여, 레이저광 차단부에 덮인 수지체의 상태를 볼 수 있다. 따라서, 보다 적절하게 작업이 행해진다.
또한, 통형인 레이저광 차단부의 본체의 전체가, 광투과성 부재에 의해 형성되어 있어도 된다. 광투과성 부재에 의해 형성된 레이저광 차단부의 본체에, 복사열 반사부가 장착됨으로써, 레이저광 차단부가 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 작업자는, 복사열 반사부 이외의 다양한 부위로부터 수지체를 볼 수 있다.
단, 레이저광 차단부의 구성을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 레이저광 차단부의 본체의 전체가, 복사열 반사부에 의해 형성되어 있어도 된다.
복사열 반사부는, 알루미늄 또는 스테인리스를 포함하는 금속에 의해 형성되어 있어도 된다. 알루미늄 및 스테인리스는, 복사열(전자파)을 반사하기 쉽다. 따라서, 수지체의 온도가 더 상승하기 쉬워진다.
단, 복사열 반사부는, 알루미늄 및 스테인리스 이외의 금속에 의해 형성되어 있어도 된다. 또한, 금속 이외의 재질에 의해 복사열 반사부가 형성되어 있어도 된다.
(제4 양태)
기상 전사법에 의해 승화성 염료를 수지체에 전사하고, 수지체를 염색하는 방법을, 기상 전사 염색법이라고 한다. 기상 전사 염색법에서는, 염색할 예정 색을 수지체에 염색하기 위해, 예정 색에 대응하는 토출량으로 염료가 인쇄 장치에 의해 기체에 인쇄될 필요가 있다. 여기서, 예정 색에 대응하는 토출량으로 염료를 인쇄하도록 인쇄 장치가 제어되었다고 해도, 인쇄 장치의 개체차, 사용에 의한 인쇄 장치의 상태의 변화, 염색 시스템의 설치 환경(예를 들어 기온 등), 수지체를 가열하는 가열 수단의 개체차 등에 따라, 염색된 수지체의 색이 예정 색으로 되지 않는 경우도 있다. 종래의 방법에서는, 작업자는, 염색된 수지체의 색을 확인하고, 이후의 염색 공정에 있어서 예정 색이 염색되도록, 인쇄 장치에 의한 염료의 토출량을 스스로 조정할 필요가 있었다. 따라서, 작업자의 작업 공정을 억제하는 것은 곤란하였다. 본 개시의 제4 측면은, 예정되어 있는 색을 적절하게 수지체에 염색하는 것이 가능한 염색 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시의 제4 측면에 관한 염색 시스템은, 수지체를 염색하는 염색 시스템이며, 기체에 염료를 인쇄하는 인쇄 장치와, 상기 염료가 인쇄된 상기 기체에 상기 수지체를 대향시킨 상태로, 상기 염료를 수지체에 전사하는 전사 장치와, 상기 염료가 전사된 상기 수지체를 가열함으로써, 상기 수지체에 상기 염료를 정착시키는 염료 정착 장치와, 상기 염료가 정착된 상기 수지체의 색 정보를 계측하는 색 정보 계측기와, 컨트롤러를 구비하고, 상기 컨트롤러는, 염색할 예정 색을 상기 수지체에 염색하기 위한, 상기 인쇄 장치에 의한 상기 기체에 대한 염료의 토출량을 결정하는 토출량 결정 스텝과, 상기 토출량 결정 스텝에 있어서 결정된 토출량의 염료가 사용됨으로써, 상기 인쇄 장치, 상기 전사 장치 및 상기 염료 정착 장치에 의해 실제로 염색된 수지체에 대하여, 상기 색 정보 계측기에 의해 계측된 색 정보인 결과 색 정보를 취득하는 결과 색 정보 취득 스텝과, 상기 결과 색 정보 취득 스텝에 있어서 취득된 상기 결과 색 정보와, 상기 예정 색에 기초하여, 상기 토출량 결정 스텝에 있어서 결정되는 염료의 토출량을 보정함으로써, 이후의 염색 공정에 있어서 염색되는 수지체의 색을 예정 색에 접근시키는 보정 스텝을 실행한다.
본 개시에서 예시하는 염색 시스템은, 인쇄 장치, 전사 장치, 염료 정착 장치, 색 정보 계측기 및 컨트롤러를 구비한다. 인쇄 장치는, 기체에 염료를 인쇄한다. 전사 장치는, 염료가 인쇄된 기체(염료 구비 기체)에 수지체를 대향시킨 상태로, 염료를 수지체에 전사한다. 염료 정착 장치는, 염료가 전사된 수지체를 가열함으로써, 수지체에 염료를 정착시킨다. 색 정보 계측기는, 염료가 정착된 수지체(즉, 염색된 수지체)의 색 정보를 계측한다. 컨트롤러는, 토출량 결정 스텝, 결과 색 정보 취득 스텝 및 보정 스텝을 실행한다. 토출량 결정 스텝에서는, 컨트롤러는, 염색할 예정의 색(예정 색)을 수지체에 염색하기 위한, 인쇄 장치에 의한 기체에의 염료의 토출량을, 결정 수순에 따라 결정한다. 결과 색 정보 취득 스텝에서는, 컨트롤러는, 토출량 결정 스텝에 있어서 결정된 토출량의 염료가 사용됨으로써, 인쇄 장치, 전사 장치 및 염료 정착 장치에 의해 실제로 염색된 수지체에 대하여, 색 정보 계측기에 의해 계측된 색 정보인 결과 색 정보를 취득한다. 보정 스텝에서는, 컨트롤러는, 결과 색 정보와 예정 색에 기초하여, 토출량 결정 스텝에 있어서 결정되는 염료의 토출량을 보정함으로써, 이후의 염색 공정에 있어서 염색되는 수지체의 색을 예정 색에 접근시킨다.
본 개시의 염색 시스템에 따르면, 염색할 예정의 예정 색과, 실제로 염색된 수지체의 색(결과 색)에 따라, 이후에 토출량 결정 스텝에 있어서 결정되는 염료의 토출량(즉, 예정 색을 수지체에 염색하기 위한 염료의 토출량)이 보정된다. 그 결과, 이후의 염색 공정에 있어서, 예정 색을 염색하기 위해 기체에 인쇄되는 염료의 토출량이 보정되므로, 실제로 염색되는 수지체의 색이, 적절하게 예정 색에 가까워진다. 따라서, 예정되어 있는 색이 적절하게 수지체에 염색된다.
토출량 결정 스텝에 있어서 결정되는 염료의 토출량을 보정하기 위한 구체적인 방법은, 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 컨트롤러는, 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보의 비교 처리의 결과에 따라, 염료의 토출량을 보정해도 된다. 비교 처리는, 예를 들어 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보의 차를 취득하는 처리여도 되고, 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보의 비율을 취득하는 처리여도 된다.
예를 들어, 컨트롤러는, 토출량 결정 스텝에 있어서 염료의 토출량을 결정하기 위한 결정 수순을 보정함으로써, 이후에 토출량 결정 스텝에 있어서 결정되는 염료의 토출량을 보정해도 된다. 염료의 토출량을 결정하기 위한 결정 수순(즉, 염료의 토출량을 결정하는 알고리즘)에는, 여러 가지 수순을 채용할 수 있다. 예를 들어, 수지체를 염색하는 각각의 색과, 각 염료의 토출량을 대응짓는 테이블이, 기억 장치에 기억되어 있어도 된다. 컨트롤러는, 예정 색에 대응하는 각 염료의 토출량을, 테이블로부터 취득함으로써, 토출량을 결정해도 된다. 이 경우, 보정 스텝에서는, 테이블의 정보를 보정함으로써, 결정 수순을 보정해도 된다. 또한, 색이 다른 복수의 염료(예를 들어, 적(Red), 황(Yellow) 및 청(Blue))의 각각을 예정의 농도로 수지체에 염색하기 위한, 각 염료의 토출량의 정보(베이스 색 정보)가, 기억 장치에 기억되어 있어도 된다. 컨트롤러는, 베이스 색 정보에 기초하여, 예정 색을 염색하기 위한 각 염료의 토출량을 연산함으로써, 토출량을 결정해도 된다. 이 경우, 보정 스텝에서는, 베이스 색 정보를 보정함으로써, 결정 수순을 보정해도 된다.
또한, 본 개시에서는, 염료를 수지체에 전사하는 전사 방식으로서, 진공 중에서 수지체와 염료 구비 기체를 비접촉으로 대향시킨 상태로, 기체에 인쇄된 승화성 염료를 승화시킴으로써, 염료를 수지체에 전사하는 기상 전사 방식을 예시한다. 그러나, 전사 방식을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 염료 구비 기체를 수지체에 접촉시킨 상태로, 염료가 수지체에 전사되어도 된다.
컨트롤러는, 토출량 결정 스텝에 있어서, 인쇄 장치가 토출 가능한 복수의 염료 중, 하나의 특정한 염료에 의해 염색되는, 예정 농도의 색을 예정 색으로 하여, 특정한 염료의 토출량을 결정해도 된다. 컨트롤러는, 보정 스텝에 있어서, 결과 색 정보가 나타내는 농도와, 예정 색의 농도에 기초하여, 이후의 토출량 결정 스텝에 있어서 결정되는 특정한 염료의 토출량을 보정해도 된다. 이 경우, 특정한 염료에 대하여, 예정하는 농도로 적절하게 수지체가 염색되도록, 염료의 토출량이 보정된다. 따라서, 특정한 염료로 염색되는 색이, 예정하는 농도로 적절하게 수지체에 염색된다.
컨트롤러는, 인쇄 장치가 토출 가능한 복수의 염료의 각각을 특정한 염료로 하여, 토출량 결정 스텝, 결과 색 정보 취득 스텝 및 보정 스텝을 반복하여 실행해도 된다. 이 경우, 복수의 염료의 각각에 대하여, 예정하는 농도로 적절하게 수지체가 염색되도록, 토출량이 보정된다. 따라서, 복수의 염료의 조합에 의해 표현되는 다수의 색이, 적절하게 수지체에 염색된다.
컨트롤러는, 토출량 결정 스텝에 있어서, 인쇄 장치가 토출 가능한 복수의 염료 중 복수의 염료에 의해 염색되는, 예정 농도의 색을 예정 색으로 하여, 복수의 염료의 토출량을 결정해도 된다. 컨트롤러는, 보정 스텝에 있어서, 결과 색 정보와 예정 색에 기초하여, 복수의 염료 중 적어도 어느 토출량을 보정해도 된다. 이 경우, 복수의 염료의 토출량을, 통합하여 보정하는 것도 가능하다.
색 정보 계측기는, 수지체의 분광 스펙트럼을 색 정보로서 계측하는 분광 계측기여도 된다. 이 경우에는, RGB 카메라 등을 색 정보 계측기로서 사용하는 경우에 비하여, 조명 환경 등의 영향이 억제된 색 정보가 취득된다. 따라서, 염색 품질이 더 향상된다. 또한, 복수의 염료가 사용되어 수지체가 염색된 경우라도, 파장마다의 강도의 분포인 분광 스펙트럼이 취득되므로, 복수의 염료의 각각의 토출량이 적절하게 보정된다.
분광 스펙트럼에 기초하여 염료의 토출량을 보정하기 위한 구체적인 방법도, 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 컨트롤러는, 염색된 수지체의 분광 투과율을 결과 색 정보로서 취득하고, 각 염료의 최대 흡수 피크의 투과율과, 예정 색의 투과율에 기초하여, 염료의 토출량을 보정해도 된다. 즉, 컨트롤러는, 특정한 염료로 염색되는 색의 투과율이 예정보다 높으면, 특정한 염료의 토출량을 보정 전보다 증가시킴과 함께, 투과율이 예정보다 낮으면, 특정한 염료의 토출량을 보정 전보다 감소시켜도 된다. 복수의 염료를 사용하여 수지체를 염색한 경우에는, 컨트롤러는, 개개의 염료의 최대 흡수 피크의 투과율에 기초하여, 각 염료마다 토출량을 보정해도 된다.
단, 분광 계측기 이외의 계측기(예를 들어 RGB 카메라 등)가, 색 정보 계측기로서 사용되어도 된다. 또한, 일반적인 카메라와 RGB 필터가 조합됨으로써, 수지체의 분광 특성이 색 정보로서 추정되어도 된다.
컨트롤러는, 결과 색 정보 취득 스텝에 있어서 취득된 결과 색 정보와, 예정 색의 차가 허용 범위를 초과한 경우에, 수지체의 염색의 품질이 불량함을 유저에게 통지하는 통지 스텝을 더 실행해도 된다. 이 경우, 유저는, 수지체의 염색이 적절하게 행해지지 않았다는 취지를 용이하게 파악할 수 있다.
컨트롤러는, 결과 색 정보 취득 스텝에 있어서 취득된 결과 색 정보와, 예정 색의 차가 역치를 초과한 경우에, 보정 스텝을 실행해도 된다. 이 경우, 염색의 품질이 양호하지 않으면, 염료의 토출량이 보정되어, 그 후의 염색의 품질이 향상된다. 따라서, 보다 적절하게 수지체가 염색된다.
컨트롤러는, 수지체의 염색 공정을 실행할 때마다 보정 스텝을 반복하는 피드백 제어를 실행해도 된다. 이 경우, 수지체가 실제로 염색될 때마다, 염료의 토출량이 적절하게 보정되므로, 보다 적절하게 수지체가 염색된다.
단, 보정 스텝을 실행하는 타이밍은 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 염색 시스템을 메이커에서 출하하는 출하 시, 염색 시스템의 최초의 가동 시, 또는 염색 시스템의 메인터넌스 시 등에, 보정 스텝이 실행되어도 된다. 또한, 보정 스텝을 실행시키는 지시가 유저에 의해 입력되었을 때, 컨트롤러는 보정 스텝을 실행해도 된다. 또한, 결과 색 정보와 예정 색의 차가 역치를 초과한 횟수가 소정 횟수로 되었을 때, 컨트롤러는 보정 스텝을 실행해도 된다.
색 정보 계측기는, 종류가 서로 다른 복수의 광원(예를 들어, 규격으로 정해진 표준 광원(일례로서, CIE 표준 광원 D65 등), 백색 광원, 및 태양광에 근사하는 광을 출사시키는 광원 등의 2개 이상)을 구비하고 있어도 된다. 이 경우, 유저가 원하는 광원에 따라, 염색된 수지체의 색 정보가 적절하게 취득된다.
염색되는 수지체는, 안경에 사용되는 렌즈여도 된다. 컨트롤러는, 보정 스텝에 있어서, 염색될 렌즈의 기재의 종류마다, 이후에 결정되는 염료의 토출량을 보정해도 된다. 염료의 토출량이 동일한 경우라도, 렌즈의 기재의 종류에 따라, 염색되는 색이 다르다. 따라서, 렌즈의 기재의 종류마다 염료의 토출량이 보정됨으로써, 각각의 기재를 적절하게 염색하기 위해 필요한 염료의 토출량이, 기재에 따라 결정된다.
또한, 컨트롤러는, 염색되기 전의 렌즈의 색 정보를 취득하고, 결과 색 정보로부터, 염색되기 전의 렌즈의 색 정보를 감산함으로써, 염색된 색에 대한 색 정보를 취득해도 된다. 이 경우, 염색되기 전의 렌즈의 색의 영향이 제외되므로, 염료의 토출량과 염색 결과의 관계가 적절하게 파악된다.
(제5 양태)
기상 전사 염색법에서는, 수지체는 설치부의 일례인 염색용 트레이에 적재된 상태로 염색된다. 따라서, 염색용 트레이 중, 수지체가 적재되는 부위의 근방에는, 염색 공정이 실행되는 과정에서 염료가 부착되기 쉽다. 과거에 부착된 염료가 잔존한 채 이후의 염색 공정이 실행되면, 잔존해 있던 염료도 수지체에 정착되어 버려, 염색 품질이 저하될 가능성이 있다. 한편, 염색 공정이 실행될 때마다 염색용 트레이를 세정 또는 파기하면, 효율이 저하된다. 이상과 같이, 종래의 기술에서는, 염색 공정을 효율적으로 적절하게 실행하기는 곤란하였다. 본 개시의 제5 측면은, 기상 전사 염색법에 의해 효율적으로 적절하게 수지체를 염색하는 것이 가능한 염색용 트레이, 적재 프레임 및 스페이서를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시의 제5 측면에 관한 염색용 트레이는, 기상 전사 염색법에 의한 염색 공정에 있어서, 염색되는 수지체가 적재되는 염색용 트레이이며, 트레이 본체와, 수지체가 적재됨과 함께, 상기 트레이 본체에 착탈 가능한 적재 프레임을 구비한다.
본 개시의 제5 측면에 관한 적재 프레임은, 기상 전사 염색법에 의한 염색 공정에 있어서 사용되는 적재 프레임이며, 염색되는 수지체가 적재됨과 함께, 트레이 본체에 탈착된다.
본 개시의 제5 측면에 관한 스페이서는, 기상 전사 염색법에 의한 염색 공정에 있어서 사용되는 스페이서이며, 승화성 염료가 부착되고, 또한 트레이 본체에 적재된 기체와, 염색되는 수지체가 적재됨과 함께 상기 트레이 본체에 설치된 적재 프레임의 사이에 공간을 형성한다.
본 개시에서 예시하는 염색용 트레이에는, 기상 전사 염색법에 의한 염색 공정에 있어서, 염색되는 수지체가 적재된다. 본 개시에서 예시하는 염색용 트레이는, 트레이 본체와, 수지체가 적재되는 적재 프레임을 구비한다. 적재 프레임은, 트레이 본체에 대하여 탈착 가능하다.
작업자는, 본 개시의 염색용 트레이를 사용하는 경우, 트레이 본체로부터 적재 프레임을 분리하고, 분리한 적재 프레임을 세정 또는 파기할 수 있다. 따라서, 작업자는, 트레이 전체를 세정 또는 파기하는 경우에 비하여, 염색 공정을 효율적으로 적절하게 실행할 수 있다.
트레이 본체에는, 적재 프레임이 착탈 가능하게 장착되는 장착부가 마련되어 있어도 된다. 이 경우, 적재 프레임이 적절한 위치에 장착되기 쉬워지므로, 염색 품질이 더 향상된다.
트레이 본체에는 기체 적재부가 형성되어 있어도 된다. 기체 적재부는, 트레이 본체 중 장착부보다 상방의 외측에 형성되어도 된다. 기체 적재부에는, 승화성 염료가 부착되는 기체가 적재된다. 이 경우, 기체 적재부에 기체가 적재된 상태로 승화성 염료가 승화됨으로써, 염료가 적절하게 수지체에 전사된다.
기체 적재부는, 트레이 본체 중 장착부보다 상방의 외측에 형성되어도 된다. 이 경우, 기체 적재부에 기체가 적재됨으로써, 적재 프레임에 적재된 수지체에 기체가 적절하게 대향한다.
염색용 트레이는 스페이서를 더 구비하고 있어도 된다. 스페이서는, 기체 적재부에 적재된 기체와, 적재 프레임의 사이에 공간을 형성한다. 이 경우, 스페이서에 의해 형성된 공간을 통하여, 기체로부터 수지체로 승화성 염료가 적절하게 전사된다. 또한, 승화된 염료가 외부로 누설되는 것이, 스페이서에 의해 적절하게 억제된다.
스페이서는, 적재 프레임 중, 수지체가 적재되는 부위의 외주부로부터 상방으로 통형으로 연장되어 있어도 된다. 이 경우, 기체와 적재 프레임의 사이에, 스페이서에 의해 적절하게 공간이 형성된다.
또한, 스페이서가 트레이 본체에 장착되었을 때, 스페이서의 상단부는 기체 적재부의 적재면보다 상방으로 돌출되어도 된다. 이 경우, 기체와 스페이서의 상단부가 밀착되기 쉬워지므로, 승화된 염료가 더 외부로 누설되기 어려워진다.
스페이서는, 적재 프레임과는 다른 부재여도 된다. 즉, 스페이서와 적재 프레임은 일체가 아니라 분리되어 있어도 된다. 스페이서는, 적재 프레임과 함께 트레이 본체에 탈착되어도 된다. 이 경우, 작업자는, 스페이서를 분리한 상태로, 트레이 본체에 설치된 적재 프레임에 수지체를 적재할 수 있다. 스페이서가 분리되어 있는 경우에는, 적재 프레임과 스페이서가 모두 트레이 본체에 설치되어 있는 경우에 비하여, 적재 프레임의 주위의 공간이 넓어진다. 따라서, 작업자는 용이하게 수지체를 적재 프레임에 적재할 수 있다. 또한, 적재 프레임과 스페이서를 별도 부재로 하는 경우, 적재 프레임의 재질과 스페이서의 재질을 다른 재질로 하기 쉽다. 따라서, 염색용 트레이의 제조자는, 적재 프레임 및 스페이서의 각각의 기능에 따른 재질을 적절하게 선택할 수 있다.
단, 적재 프레임과 스페이서가 일체로 되어 있어도 된다. 이 경우라도, 승화성 염료는 적절하게 수지체로 전사되며, 또한 외부로 누설되기 어렵다.
트레이 본체는, 위치 결정부를 더 구비하고 있어도 된다. 위치 결정부는, 기체 적재부에 적재되는 기체를 수지체에 대하여 위치 결정한다. 이 경우, 수지체에 대한 기체의 위치가, 위치 결정부에 의해 정확하게 위치 결정된다. 또한, 기체의 위치가 수지체에 대하여 어긋나 버릴 가능성도 저하된다. 따라서, 보다 용이하게 높은 품질로 염색이 행해진다. 또한, 위치 결정부는, 트레이 본체 중, 기체 적재부보다 외측으로부터 상방으로 돌출되어 있어도 된다. 이 경우, 위치 결정부의 내측에 기체가 적절하게 위치 결정된다.
트레이 본체는, 기체 보호부를 더 구비하고 있어도 된다. 기체 보호부는, 트레이 본체 중, 기체 적재부에 있어서 기체가 적재되는 적재면보다, 기체의 두께 이상으로 상방의 위치까지 연장된다. 이 경우, 기체가 적재된 상태의 염색용 트레이 상에 어떤 물체(예를 들어, 다른 염색용 트레이 등)가 적층된 경우라도, 적층된 물체는 기체가 아니라 기체 보호부에 접촉하기 쉬우므로, 기체의 손상 등이 생기기 어렵다. 따라서, 염색 품질이 저하되는 것이 적절하게 억제된다. 또한, 기체 적재부의 적재면으로부터의 기체 보호부의 높이는, 기체의 두께보다 큰 편이 보다 바람직하다. 이 경우, 기체가 보다 적절하게 보호된다.
위치 결정부의 적어도 일부와, 기체 보호부의 적어도 일부가 겸용되어도 된다. 이 경우, 기체를 위치 결정하는 기능과, 기체를 보호하는 기능을 모두 갖는 염색용 트레이의 구조가, 용이하게 간소화된다.
트레이 본체는, 저부 감합부 및 상부 감합부를 더 구비하고 있어도 된다. 저부 감합부는, 트레이 본체부의 저부에 형성된 오목부이다. 상부 감합부는, 트레이 본체의 상부에 형성된 돌기부이며, 다른 트레이 본체가 상부에 적층되었을 때, 적층된 트레이 본체의 저부 감합부에 감합된다. 이 경우, 복수의 염색용 트레이가, 안정된 상태로 상하에 적층된다.
위치 결정부의 적어도 일부와, 상부 감합부의 적어도 일부가 겸용되어도 된다. 또한, 기체 보호부의 적어도 일부와, 상부 감합부의 적어도 일부가 겸용되어도 된다. 이 경우, 염색용 트레이의 구조가 용이하게 간소화된다.
기체 적재부의 적재면으로부터의 상부 감합부의 높이는, 저부 감합부의 깊이와 기체의 두께의 합 이상이어도 된다. 이 경우, 복수의 염색용 트레이가 상하에 적층되어도, 기체는 상부에 적층된 염색용 트레이에 접촉하기 어려우므로, 기체의 손상 등이 생기기 어렵다. 따라서, 염색 품질이 저하되는 것이 적절하게 억제된다. 또한, 기체 적재부의 적재면으로부터의 기체 보호부의 높이는, 저부 감합부의 깊이와 기체의 두께의 합보다 큰 편이 보다 바람직하다. 이 경우, 기체가 보다 적절하게 보호된다.
염색 대상으로 되는 수지체는, 안경에 사용되는 렌즈여도 된다. 1개의 트레이 본체에는, 적재 프레임이 장착되는 장착부가 2개 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 1쌍(좌우)의 안경 렌즈가, 1개의 염색용 트레이에 적재된 상태로 염색된다. 따라서, 작업자의 작업 효율이 더 향상된다.
염색되는 렌즈의 직경에 따라, 복수 종류의 적재 프레임이 마련되어 있어도 된다. 이 경우, 렌즈의 직경에 대응하는 적재 프레임이 적절하게 선택됨으로써, 직경이 다른 여러 가지 렌즈가, 1개의 트레이 본체를 사용하여 적절하게 염색된다.
적재 프레임 및 장착부의 각각에, 광을 상하 방향으로 투과하는 광투과부가 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 염색용 트레이에 렌즈가 설치(적재)된 상태 그대로, 렌즈의 색 정보 및 광학 특성 중 적어도 어느 것을 측정할 수 있다. 따라서, 작업 효율이 더 향상된다.
트레이 본체에 있어서의 장착부의 주위에, 장착부로부터 외측을 향하여 넓어지는 오목부가 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 작업자는, 오목부에 손가락 등을 삽입함으로써, 장착부에 대한 각종 부재(예를 들어, 적재 프레임 및 수지체 등)의 착탈을 용이하게 행할 수 있다.
장착부에는, 광 센서에 의해 출사된 광을 투과시키는 센서용 투과부가 더 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 수지체, 적재 프레임 및 스페이서 중 적어도 어느 것이 트레이 본체에 설치되어 있는지 여부가, 광 센서에 의해 적절하게 검출된다.
적재 프레임 중, 적어도 수지체가 접촉하는 부위의 재질의 융점은, 200℃ 이상이어도 된다. 기상 전사 염색법에 있어서의 정착 공정에서는, 수지체가 고온으로 된다. 따라서, 적재 프레임의 재질의 융점을 200℃ 이상으로 함으로써, 적재 프레임의 변형 등이 적절하게 억제된다. 또한, 적재 프레임 중, 적어도 수지체가 접촉하는 부위의 재질의 열전도율은, 0.5W/mK 이하여도 된다. 이 경우, 가열된 수지체로부터 열이 외부로 전도되기 어려워지므로, 수지체가 적절하게 가열되기 쉬워진다. 적재 프레임의 재질의 융점을 200℃ 이상으로 하고, 또한 열전도율을 0.5W/mK 이하로 함으로써, 적재 프레임의 변형 등이 억제됨과 함께, 수지체가 가열되기 쉬워진다.
전술한 식별자 또는 태그는, 트레이 본체에 마련되어 있어도 된다. 트레이 본체는, 적재 프레임 등에 비하여 많은 횟수 사용할 수 있다. 따라서, 적재 프레임 등에 식별자 또는 태그가 마련되어 있는 경우에 비하여, 식별자 또는 태그를 부재에 설치하는 빈도가 저하된다.
또한, 본 개시에서는, 수지체가 적재되는 트레이가, 수지체가 설치되는 설치부로서 사용된다. 그러나, 설치부의 구성을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 설치부는, 수지체를 측방으로부터 끼워 넣어서 보유 지지해도 된다.
<실시 형태>
이하, 본 개시에 관한 전형적인 실시 형태의 하나에 대하여, 도면을 참조하여 설명한다. 염색 시스템(1)은, 수지체를 자동적으로 연속해서 염색한다. 본 실시 형태에서는, 염색할 대상으로 하는 수지체는, 안경에 사용되는 플라스틱제의 렌즈(L)(도 2 등 참조)이다. 그러나, 본 개시에서 예시하는 기술의 적어도 일부는, 렌즈(L) 이외의 수지체를 염색하는 경우에도 적용할 수 있다. 예를 들어, 고글, 휴대 전화의 커버, 라이트용 커버, 액세서리, 완구, 필름(예를 들어, 두께가 400㎛ 이하), 판재(예를 들어, 두께가 400㎛ 이상) 등, 여러 가지 수지체를 염색하는 경우에, 본 개시에서 예시하는 기술의 적어도 일부를 적용하는 것도 가능하다. 염색되는 수지체에는, 수지체와는 다른 부재(예를 들어, 목재 또는 유리 등)에 부가된 수지체도 포함된다. 또한, 본 실시 형태의 염색 시스템(1)은, 복수의 수지체를 연속해서 반송하면서 염색한다. 그러나, 수지체를 1세트씩 반송하여 염색하는 염색 시스템에도, 본 개시에서 예시하는 기술의 적어도 일부를 채용할 수 있다.
(시스템 구성)
도 1을 참조하여, 본 실시 형태의 염색 시스템(1)의 시스템 구성에 대하여 개략적으로 설명한다. 본 실시 형태의 염색 시스템(1)은, 반송 장치(10), 전 준비 유닛(20), 인쇄 장치(30), 전사 장치(40), 염료 정착 장치(50), 코팅 장치(60) 및 제어 장치(70)를 구비한다.
상세는 후술하지만, 본 실시 형태의 전사 장치(40) 및 염료 정착 장치(50)는, 복수의 렌즈(L)에 대한 염료의 전사 및 정착을 자동적으로 연속해서 실행하는 자동 염색 장치(3)에 포함된다. 또한, 자동 염색 장치(3)에는, 전사 장치(40) 및 염료 정착 장치(50) 이외의 장치(예를 들어 인쇄 장치(30) 등)도 내장되어 있어도 된다.
반송 장치(10)는, 반송 유닛(U)(도 4, 5, 6, 8 참조)을 자동 염색 장치(3) 등으로 반송한다. 상세하게는, 본 실시 형태의 반송 장치(10)는, 복수의 반송 유닛(U)을, 인쇄 장치(30) 및 자동 염색 장치(3) 등으로 연속해서 반송한다. 본 실시 형태의 반송 장치(10)는, 전 준비 유닛(20), 인쇄 장치(30), 전사 장치(40), 염료 정착 장치(50) 및 코팅 장치(60)의 순으로(즉, 도 1에 있어서의 좌측으로부터 우측으로) 반송 유닛(U)을 반송한다. 반송 유닛(U)에는, 염색용 트레이(80)(도 2 참조)와, 염색용 트레이(80)에 적재된 렌즈(L)가 포함된다. 염색용 트레이(80)는, 수지체인 렌즈(L)가 설치되는 설치부의 일례이다. 또한, 반송 유닛(U)에는, 표면에 염료가 부착된 시트형의 기체(염료 구비 기체)(S)(도 5, 6, 8 참조)가 포함되는 경우도 있다.
전 준비 유닛(20)은, 렌즈(L)에 대한 염료의 전사 및 정착을 실제로 실행하기 전의 준비를 행한다. 상세하게는, 본 실시 형태의 전 준비 유닛(20)은, 광학 특성 측정 장치(21) 및 회전 장치(22)를 구비한다.
광학 특성 측정 장치(21)는, 렌즈(L)의 광학 특성을 측정하는 측정 광학계를 구비한다. 광학 특성 측정 장치(21)는, 렌즈(L)에 측정 광속을 투광시키고, 렌즈(L)를 거친 측정 광속을 수광함으로써, 렌즈(L)의 광학 특성(예를 들어, 구면 도수, 난시 도수, 난시축 각도, 프리즘 도수 등)을 판독한다. 렌즈(L)의 난시축 각도가 측정됨으로써, 렌즈(L)의 회전 방향의 각도가 판별된다. 광학 특성 측정 장치(21)에는 공지의 구성을 채용할 수 있으므로, 그 상세한 설명은 생략한다(광학 특성 측정 장치(21)의 구성은, 예를 들어 일본 특허 공개 제2012-107910호 공보 등에 기재되어 있음).
회전 장치(22)는, 렌즈(L)를 지지하는 지지부와, 지지부에 의해 지지된 렌즈(L)를 회전시키는 액추에이터(예를 들어 모터 등)를 구비한다. 회전 장치(22)는, 반송 장치(10)에 의해 반송되는 반송 유닛(U)마다, 수지체의 1종인 렌즈(L)를 회전시킴으로써, 렌즈(L)의 회전 방향을 규정한다. 본 실시 형태의 회전 장치(22)는, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 측정된 렌즈(L)의 회전 방향의 각도에 기초하여, 렌즈(L)를 회전시킴으로써, 렌즈(L)의 회전 방향을 목표로 하는 방향으로 규정한다. 상세는 후술하지만, 본 실시 형태의 염색 시스템(1)은, 그라데이션 염색을 실행하는 경우이며, 또한 렌즈(L)가 기하 중심축을 중심으로 하여 대상의 형상이 아닌 경우에, 렌즈(L)를 회전시킴으로써, 기체(S)에 인쇄되는 염료의 각도에 대하여 렌즈(L)의 각도를 맞춘다.
또한, 회전 장치(22)에 의해 렌즈(L)를 회전시키기 위한 구체적인 방법을 변경하는 것도 가능하다. 우선, 렌즈(L)의 회전 방향의 각도를 판별하는 방법은, 렌즈(L)의 난시축 각도를 측정하는 방법에 한정되지 않는다. 예를 들어, 전 준비 유닛(20)은, 렌즈(L)의 회전 방향의 각도를 나타내는 은폐 마크를 검출하는 은폐 마크 검출부를 구비하고 있어도 된다. 이 경우, 회전 장치(22)는, 은폐 마크 검출부에 의해 검출된 은폐 마크에 기초하여, 렌즈(L)의 회전 방향의 각도를 판별하고, 판별 결과에 기초하여 렌즈(L)를 회전시켜도 된다. 또한, 렌즈(L)의 각도의 판별 및 렌즈(L)의 회전 중 적어도 한쪽이, 작업자에 의해 행해져도 된다. 또한, 렌즈(L)가 기하 중심축을 중심으로 하여 대상의 형상인 경우, 렌즈(L)를 회전시키는 처치를 생략할 수 있는 것은 물론이다.
인쇄 장치(30)는, 시트형의 기체(S)(도 5, 6, 8 참조)에 염료를 인쇄한다. 본 실시 형태에서는, 기체(S)에는, 적당한 경도의 종이 또는 금속성(본 실시 형태에서는 알루미늄제)의 필름이 사용된다. 그러나, 기체(S)의 재질에는, 유리판, 내열성 수지, 세라믹 등의 다른 재질을 사용하는 것도 가능하다. 또한, 상세는 후술하지만, 본 실시 형태의 염색 시스템(1)에서는, 염료의 응집 등을 방지하면서 염료를 적절하게 렌즈(L)에 전사하기 위해, 진공(대략 진공을 포함함)의 환경 하에서 기체(S)와 렌즈(L)를 이격시켜 대향시킨 상태로, 기체(S)의 염료가 가열됨으로써, 염료가 렌즈(L)의 표면에 전사(증착)된다(본 실시 형태에 있어서의 염색 방법을, 기상 전사 염색 방법이라고 함). 따라서, 인쇄 장치(30)에는, 승화성 염료를 함유한 잉크를 기체(S)에 인쇄하는 잉크젯 프린터가 사용된다. 또한, 인쇄 장치(30)는, 승화성 염료를 함유하고 있지 않은 통상의 잉크를 기체(S)에 인쇄하는 것도 가능하다. 인쇄 장치(30)는, 정보 처리 장치(본 실시 형태에서는 퍼스널 컴퓨터(이하 「PC」라고 함)인 제어 장치(70)에 의해 작성된 인쇄 데이터에 기초하여 인쇄를 실행한다. 그 결과, 기체(S)의 적절한 위치에 적절한 양의 염료가 부착된다. 그라데이션 염색을 행하기 위한 염료 구비 기체(S)의 작성도 용이하다.
또한, 인쇄 장치(30)의 구성을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 인쇄 장치는 레이저 프린터여도 된다. 이 경우, 토너에 승화성 염료가 포함되어 있어도 된다. 또한, 인쇄 장치(30) 대신에, 디스펜서(액체 정량 도포 장치), 롤러 등에 의해, 기체(S)에 염료가 부착되어도 된다.
전사 장치(40)는, 반송 장치(10)에 의해 반송되는 반송 유닛(U)마다, 염료가 인쇄된 기체(S)를 렌즈(L)에 대향시킨 상태로, 염료를 기체(S)로부터 렌즈(L)로 전사한다. 전술한 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 기상 전사법에 의해 기체(S)로부터 렌즈(L)로 염료가 전사된다. 단, 염료를 렌즈(L)에 전사하는 방법을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 기체(S)와 렌즈(L)를 접촉시킨 상태로, 염료가 기체(S)로부터 렌즈(L)로 전사되어도 된다. 전사 장치(40)의 구성의 상세에 대해서는 후술한다.
염료 정착 장치(50)는, 반송 장치(10)에 의해 반송되는 반송 유닛(U)마다 렌즈(L)를 가열함으로써, 렌즈(L)의 표면에 부착된 염료를 수지체에 정착시킨다. 본 실시 형태의 염료 정착 장치(50)는, 전자파인 레이저광을 렌즈(L)에 조사함으로써, 렌즈(L)를 가열한다. 단, 레이저광 이외의 전자파를 렌즈(L)에 조사하는 장치(예를 들어 오븐 등)가, 염료 정착 장치로서 사용되어도 된다. 염료 정착 장치(50)의 구성의 상세에 대해서는 후술한다.
반송 장치(10)에 의한 반송 유닛(U)의 반송 경로 중, 염료 정착 장치(50)보다 하류측(본 실시 형태에서는, 염료 정착 장치(50)와 코팅 장치(60)의 사이의 경로 상)에는, 전사 장치(40) 및 염료 정착 장치(50)에 의해 염료가 염색된(정착된) 렌즈(L)의 색 정보를 계측하는 색 정보 계측기(51)가 마련되어 있다. 본 실시 형태의 색 정보 계측기(51)는, 렌즈(L)의 분광 스펙트럼(상세하게는, 본 실시 형태에서는 투과 스펙트럼)을 색 정보로서 계측하는 분광 계측기이다. 따라서, RGB 카메라 등을 사용하는 경우에 비하여, 조명 환경 등의 영향이 억제된 상태로 색 정보가 취득된다. 또한, 복수의 염료가 사용되어 렌즈(L)가 염색된 경우라도, 파장마다의 강도의 분포인 분광 스펙트럼이 취득되므로, 염색된 렌즈(L)의 색 정보가 적절하게 취득된다.
단, 분광 계측기 이외의 디바이스(예를 들어 RGB 카메라 등)가, 색 정보 계측기로서 사용되어도 된다. 또한, 색 정보 계측기(51)가 마련되는 장소를 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 염료 정착 장치(50)에 색 정보 계측기(51)가 마련되어 있어도 된다. 반송 경로 중 코팅 장치(60)보다 하류측에, 색 정보 계측기(51)가 마련되어 있어도 된다.
코팅 장치(60)는, 반송 장치(10)에 의해 반송되는 반송 유닛(U)마다, 염료 정착 장치(50)에 의해 염료가 정착된 렌즈(L)의 표면에 코팅을 행한다. 코팅 장치(60)가 렌즈(L)의 코팅을 행하기 위한 구체적인 방법은, 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 스프레이 방식, 잉크젯 방식, 스핀 방식, 딥 방식 등 중 적어도 어느 것이, 코팅 방법으로서 채용되어도 된다. 코팅의 종류도, 많은 종류(예를 들어, 하드 코트, 반사 방지 코트, 발수 코트, 프라이머 코트 등)로부터 적절하게 선택되면 된다.
제어 장치(70)는, 염색 시스템(1)에 있어서의 각종 제어를 담당한다. 제어 장치(70)에는, 여러 가지 정보 처리 장치(예를 들어, PC, 서버 및 휴대 단말기 등 중 적어도 어느 것)를 사용할 수 있다. 제어 장치(70)는, 제어를 담당하는 컨트롤러(예를 들어 CPU 등)(71)와, 각종 데이터를 기억하는 데이터베이스(72)를 구비한다. 또한, 제어 장치(70)의 구성을 변경하는 것도 가능하다. 우선, 복수의 디바이스가 협동하여 제어 장치(70)로서 기능해도 된다. 예를 들어, 염색 시스템(1)에 있어서의 각종 제어를 담당하는 제어 장치와, 데이터베이스(72)를 구비한 제어 장치가 다른 디바이스여도 된다. 또한, 복수의 디바이스의 컨트롤러가 협동하여, 염색 시스템(1)에 있어서의 각종 제어를 실행해도 된다. 예를 들어, 반송 장치(10), 광학 특성 측정 장치(21), 회전 장치(22), 인쇄 장치(30), 전사 장치(40), 염료 정착 장치(50) 및 코팅 장치(60) 중 적어도 어느 것이 컨트롤러를 구비하는 경우도 많다. 이 경우, 제어 장치(70)의 컨트롤러와 다른 장치의 컨트롤러가 협동하여, 염색 시스템(1)의 제어를 담당해도 된다.
염색 시스템(1)은, 각각의 반송 유닛(U)마다, 반송 유닛(U)에 관한 정보를 판독하는 판독부(2)를 구비한다. 일례로서, 본 실시 형태의 판독부(2)는, 반송 유닛(U)에 마련된 식별자를 판독하는 식별자 판독부이다. 식별자 판독부(2)에 의해 판독되는 식별자에 의해, 반송 유닛(U)이 특정된다. 염색 시스템(1)에 사용하는 식별자의 종류는 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, QR 코드(등록 상표), 바코드, 소정의 규칙으로 형성된 식별 구멍 등 중 적어도 어느 것을, 식별자로서 채용할 수 있다. 식별자 판독부(2)는, 사용되고 있는 식별자에 대응하는 식별자 리더(예를 들어, QR 코드(등록 상표) 리더, 바코드 리더, 식별 구멍 리더 등)이면 된다.
본 실시 형태에서는, 염료 정착 장치(50)에 의해 렌즈(L)가 가열될 때, 반송 유닛(U)의 온도가 상승한다. 또한, 전사 장치(40)에 의해 염료가 렌즈(L)에 전사될 때에도, 기체(S)가 가열됨으로써 반송 유닛(U)의 온도가 상승한다. 또한, 본 실시 형태의 전사 장치(40)는, 대략 진공의 환경 하에서 염료를 렌즈(L)에 전사한다. 따라서, 열 및 기압의 영향으로, 판독부(2)에 의한 정보의 판독이 곤란하게 되는 것도 생각된다. 그러나, 본 실시 형태에서는, 열 및 기압의 영향을 받기 어려운 식별자가 반송 유닛(U)에 마련되어 있다. 따라서, 본 실시 형태의 염색 시스템(1)은, 가열 및 감압이 필요한 염색 공정을 실행하면서, 반송 유닛(U)에 관한 정보를 적절하게 판독할 수 있다.
단, 판독부(2)의 구성을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 정보를 기입 가능한 태그(예를 들어 IC 태그 등)가 반송 유닛(U)에 마련되어 있어도 된다. 태그에 기입되는 정보에는, 반송 유닛(U)에 포함되는 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치의 파라미터가 포함되어 있어도 된다. 이 경우, 판독부(2)로는, 태그로부터 정보를 판독하는 태그 판독부를 채용하면 된다. 태그 판독부(2)에 의해 태그로부터 정보가 판독됨으로써, 각각의 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치의 파라미터가, 제어 장치(70)에 의해 적절하게 취득된다.
또한, 렌즈(L)의 광학 특성을 판독하는 광학 특성 측정 장치(21)가, 반송 유닛(U)에 관한 정보를 판독하는 판독부로서 기능해도 된다. 또한, 렌즈(L)의 은폐 마크를 검출하는 은폐 마크 검출부가, 반송 유닛(U)에 관한 정보를 판독하는 판독부로서 기능해도 된다.
본 실시 형태에서는, 염색 시스템(1)을 구성하는 복수의 장치의 각각에 판독부(2)가 마련되어 있다. 상세하게는, 반송 장치(10)에 의한 반송 유닛(U)의 반송 경로 중, 전 준비 유닛(20)에 반송 유닛(U)이 도달하는 위치보다 전(상류측)의 위치에, 판독부(2A)가 마련되어 있다. 전 준비 유닛(20)에 판독부(2B)가 마련되어 있다. 인쇄 장치(30)에 판독부(2C)가 마련되어 있다. 전사 장치(40)에 판독부(2D)가 마련되어 있다. 염료 정착 장치(50)에 판독부(2E)가 마련되어 있다. 코팅 장치(60)에 판독부(2F)가 마련되어 있다. 복수의 장치의 각각에 판독부(2)가 마련됨으로써, 반송 유닛(U)이 각각의 장치로 반송될 때마다, 반송 유닛(U)에 관한 정보가 판독된 후에 적절하게 각종 공정이 실행된다.
단, 판독부(2)의 위치를 변경하는 것도 가능하다. 우선, 도 1에 도시하는 복수의 판독부(2A 내지 2F) 중 적어도 어느 것을 생략하는 것도 가능하다. 예를 들어, 반송 경로의 상류측에 마련된 판독부(2A)만이 채용되어도 된다. 제어 장치(70)는, 각각의 반송 유닛(U)이 반송 장치(10)에 의해 반송되고 있는 위치를 판별해도 된다. 이 경우, 제어 장치(70)는, 각각의 반송 유닛(U)의 위치와, 반송 유닛(U)에 관하여 판독부(2)에 의해 판독된 정보에 기초하여, 각 렌즈(L)에 대한 처치를 실행해도 된다.
(염색용 트레이)
도 2 및 도 3을 참조하여, 본 실시 형태의 염색 시스템(1)에서 사용되는 염색용 트레이(80)에 대하여 설명한다. 전술한 바와 같이, 염색용 트레이(80)는, 반송 중에 렌즈(L)가 설치되는 설치부의 일례이다. 도 2는, 2개의 렌즈(L)가 설치(적재)되고, 또한 기체(S)가 설치되어 있지 않은 상태의 염색용 트레이(80)의 사시도이다. 도 3은, 2개의 장착부(82) 중 한쪽에 장착되는 적재 프레임(89), 렌즈(L) 및 스페이서(87)를 분해하여 도시하는, 염색용 트레이(80)의 사시도이다.
도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태의 염색용 트레이(80)는, 트레이 본체(81), 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)를 구비한다. 트레이 본체(81), 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)는, 모두, 고온 및 저압(대략 진공)에 견디는 것이 가능한 재질로 형성되어 있다. 본 실시 형태에서는, 적재 프레임(89) 중, 적어도 렌즈(L)가 적재되어 접촉하는 부위(본 실시 형태에서는 적재 프레임(89)의 전체)는, 융점이 200℃ 이상인 재질(예를 들어, 테플론(등록 상표) 등의 불소 수지, 스테인리스 및 알루미늄 등 중 적어도 어느 것)에 의해 형성되어 있다. 기상 전사 염색법에 있어서의 정착 공정(상세는 후술함)에서는, 렌즈(L)가 고온으로 된다. 따라서, 적재 프레임(89)의 재질의 융점을 200℃ 이상으로 함으로써, 적재 프레임(89)의 변형 등이 적절하게 억제된다. 또한, 적재 프레임(89) 중, 적어도 렌즈(L)가 적재되어 접촉하는 부위(본 실시 형태에서는 적재 프레임(89)의 전체)는, 열전도율이 0.5W/mK 이하인 재질(예를 들어, 테플론(등록 상표) 등의 불소 수지 등)에 의해 형성되는 것이 보다 바람직하다. 적재 프레임(89)의 재질의 열전도율을 0.5W/mK 이하로 함으로써, 가열된 렌즈(L)로부터 열이 적재 프레임(89)으로 전도되기 어려워지므로, 렌즈(L)가 적절하게 가열되기 쉬워진다. 본 실시 형태에서는, 트레이 본체(81) 및 스페이서(87)는 금속(알루미늄)에 의해 형성되어 있고, 적재 프레임(89)은 테플론(등록 상표)에 의해 형성되어 있다. 그러나, 염색용 트레이(80)의 재질을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 트레이 본체(81) 및 스페이서(87)가 수지 등에 의해 형성되어 있어도 된다. 적재 프레임(89)이 금속 등에 의해 형성되어 있어도 된다.
적재 프레임(89)에는, 염색 대상으로 되는 수지체(본 실시 형태에서는 렌즈(L))가 적재된다. 본 실시 형태의 적재 프레임(89)은, 렌즈(L)보다 약간 큰 외경을 갖는 링형으로 형성되어 있다. 적재 프레임(89)의 중앙부에는, 광을 상하 방향으로 투과하는 원형의 구멍인 광투과부(89S)가 형성되어 있다. 광투과부(89S)는, 구멍 대신에, 광을 투과하는 물질(예를 들어 유리 등)에 의해 형성되어 있어도 된다. 설치되는 렌즈(L)의 직경에 따라, 렌즈(L)가 적재되는 환형의 단차부의 직경이 다른 복수 종류의 적재 프레임(89)이 준비되어 있다. 작업자는, 염색하는 렌즈(L)의 직경에 따른 적재 프레임(89)을 사용하여, 렌즈(L)를 염색용 트레이(80)에 적재한다.
스페이서(87)는, 적재 프레임(89) 중, 렌즈(L)가 적재되는 부위의 외주부로부터 상방으로 통형(원통형)으로 연장된다. 전술한 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 스페이서(87)와 적재 프레임(89)은 다른 부재이다. 따라서, 작업자는, 스페이서(87)를 분리한 상태로, 적재 프레임(89)에 렌즈(L)를 적재할 수 있다. 따라서, 작업자는 용이하게 렌즈(L)를 적재 프레임(89)에 적재할 수 있다. 또한, 적재 프레임(89)과 스페이서(87)가 별도 부재이기 때문에, 적재 프레임(89)의 재질과 스페이서(87)의 재질을 다른 재질로 하기 쉽다. 단, 적재 프레임(89)과 스페이서(87)가 일체로 되어 있어도 된다.
트레이 본체(81)에는 장착부(82)가 형성되어 있다. 장착부(82)에는, 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)가 착탈 가능하게 장착된다. 따라서, 작업자는, 트레이 본체(81)의 장착부(82)로부터 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)를 분리하고, 분리한 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)만을 세정 또는 파기할 수 있다. 따라서, 염색용 트레이(80) 중, 염색 공정 중에 염료가 부착되기 쉬운 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)만이, 효율적으로 세정 또는 파기된다.
본 실시 형태의 장착부(82)는, 링형인 적재 프레임(89)의 직경, 및 원통형인 스페이서(87)의 직경보다 약간 큰 직경을 갖는 바닥이 있는 통형으로 형성되어 있다. 따라서, 작업자는, 장착부(82)에 적재 프레임(89)을 용이하게 장착할 수 있다. 단, 적재 프레임(89) 및 장착부(82)의 형상을 적절하게 변경할 수 있는 것은 물론이다.
도 3에 도시하는 바와 같이, 바닥이 있는 통형인 장착부(82)의 저부(본 실시 형태에서는 저부의 중앙)에는, 광을 상하 방향으로 투과하는 구멍(본 실시 형태에서는 원형의 구멍)인 광투과부(82S)가 형성되어 있다. 광투과부(82S)는, 구멍 대신에, 광을 투과하는 물질(예를 들어 유리 등)에 의해 형성되어 있어도 된다. 장착부(82)에 광투과부(82S)가 형성되고, 또한 적재 프레임(89)에도 광투과부(89S)가 형성되어 있으므로, 염색용 트레이(80)에 렌즈(L)가 설치(적재)되고, 또한 기체(S)가 염색용 트레이(80)로부터 분리된 상태로, 렌즈(L)의 색 정보 및 광학 특성 등을 측정할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 1개의 트레이 본체(81)에 2개의 장착부(82)가 형성되어 있다. 따라서, 1개의 안경에 사용되는 한 쌍(좌우)의 렌즈(L)가, 1개의 염색용 트레이(80)에 적재된 상태로 염색된다. 따라서, 작업자의 작업 효율이 향상된다.
트레이 본체(81) 중, 장착부(82)보다 상방의 외측에, 승화성 염료가 부착되는 시트형의 기체(S)(도 5, 도 6 및 도 8 참조)가 적재되는 기체 적재부(85)가 형성되어 있다. 기체 적재부(85)에 기체(S)가 적재됨으로써, 기체(S)에 부착된 승화성 염료가, 적재 프레임(89)에 적재된 렌즈(L)에 대향한다. 따라서, 염료가 적절하게 수지체에 전사된다.
통형인 스페이서(87)는, 기체 적재부(85)에 적재된 기체(S)와, 적재 프레임(89)에 적재된 렌즈(L)의 사이에 공간을 형성한다. 따라서, 스페이서(87)에 의해 형성된 공간을 통하여, 기체(S)로부터 렌즈(L)로 승화성 염료가 적절하게 전사된다. 또한, 승화된 염료가 외부로 누설되는 것이, 스페이서(87)에 의해 적절하게 억제된다. 따라서, 공간의 외부가 염료에 의해 더럽혀지기 어렵고, 또한 염색 품질도 저하되기 어렵다.
적재 프레임(89) 및 스페이서(87)가 장착부(82)에 장착되면, 스페이서(87)의 상단부는, 기체 적재부(85)의 적재면보다 상방으로 돌출된다. 따라서, 기체 적재부(85)에 적재된 기체(S)와, 스페이서(87)의 상단부가 밀착되기 쉬워지므로, 승화된 염료가 더 외부로 누설되기 어려워진다.
트레이 본체(81) 중 장착부(82)의 주위에, 장착부(82)로부터 외측을 향하여 넓어지는 오목부(83)(즉, 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)와, 트레이 본체(81)의 사이에 공간을 형성하는 오목부(83))가 형성되어 있다. 따라서, 작업자는, 오목부(83)에 손가락 등을 삽입함으로써, 장착부(82)로부터 적재 프레임(89), 스페이서(87) 및 렌즈(L)를 용이하게 분리할 수 있다. 본 실시 형태의 오목부(83)는, 대략 판형의 트레이 본체(81)에 형성된 절결이다. 그러나, 오목부(83)의 구성을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 장착부(82)에 장착된 상태의 적재 프레임(89)의 상면보다 하방으로 오목한 오목부가 형성되어도 된다. 또한, 본 실시 형태의 오목부(83)는, 각각의 장착부(82)의 주위에 4개씩 형성되어 있다. 그러나, 오목부(83)의 수를 적절하게 변경할 수 있는 것은 물론이다.
도 3에 도시하는 바와 같이, 대략 바닥이 있는 통형인 장착부(82)의 측면에는, 광 센서에 의해 출사된 광을 투과시키는 한 쌍의 센서용 투과부(82T)가 형성되어 있다. 따라서, 렌즈(L), 적재 프레임(89) 및 스페이서(87) 중 적어도 어느 것(본 실시 형태에서는 스페이서(87))이 장착부(82)에 장착되어 있는지 여부가, 광 센서에 의해 적절하게 검출된다. 본 실시 형태의 염색 시스템(1)은, 스페이서(87)가 장착부(82)에 장착되어 있지 않음이 광 센서에 의해 검출된 경우에, 전사 장치(40)에 의한 전사 공정, 및 염료 정착 장치(50)에 의한 정착 공정(즉, 염료를 정착시키기 위한 레이저광의 조사)을 금지한다.
트레이 본체(81) 중, 장착부(82)보다 외측(상세하게는, 기체 적재부(85)보다 외측)의 위치에는, 기체(S)가 적재되는 기체 적재부(85)의 적재면보다 상방으로 돌출되는 돌기부(84(84A, 84B))가 마련되어 있다.
본 실시 형태의 기체(S)의 형상은, 2개의 장착부(82)를 모두 덮는 직사각형의 시트형이다. 본 실시 형태에서는, 염색용 트레이(80)의 적절한 위치에 적재된 상태(즉, 기체 적재부(85)에 적절하게 적재된 상태)의 기체(S)의 외주를 따르는 위치에, 복수(8개)의 돌기부(84)가 형성되어 있다. 따라서, 복수의 돌기부(84)에 의해 둘러싸이는 영역(기체 적재부(85))에 기체(S)가 적재됨으로써, 기체(S)가 렌즈(L)에 대하여 적절하게 위치 결정된다. 또한, 적재된 기체(S)의 위치가 렌즈(L)에 대하여 어긋나 버릴 가능성도 저하된다. 즉, 본 실시 형태에 있어서의 복수의 돌기부(84)의 적어도 일부(본 실시 형태에서는, 모든 돌기부(84A, 84B))는, 기체(S)를 렌즈(L)에 대하여 위치 결정하는 위치 결정부로서 기능한다.
또한, 복수의 돌기부(84)의 적어도 일부(본 실시 형태에서는, 모든 돌기부(84A, 84B))는, 기체(S)가 적재되는 기체 적재부(85)의 적재면보다, 기체(S)의 두께 이상으로 상방의 위치까지 돌출되어 있다. 따라서, 기체(S)가 적재된 상태의 염색용 트레이(80)에 어떤 물체가 적층된 경우라도, 적층된 물체는 돌기부(84)에 접촉하기 쉬우므로, 물체는 기체(S)에 접촉하기 어렵다. 따라서, 기체(S)의 손상 등이 생기기 어렵다. 이상과 같이, 본 실시 형태의 돌기부(84)는, 염색용 트레이(80)에 적재된 기체(S)를, 기체(S)의 상부에 적층된 물체로부터 보호하는 기체 보호부로서 기능한다.
본 실시 형태에서는, 복수의 돌기부(84)가, 위치 결정부와 기체 보호부를 겸용한다. 환언하면, 위치 결정부의 적어도 일부와, 기체 보호부의 적어도 일부가, 돌기부(84)에 의해 겸용되고 있다. 따라서, 염색용 트레이(80)의 구조가 용이하게 간소화된다.
트레이 본체(81)의 저부(본 실시 형태에서는, 각각의 장착부(82)의 저부의 2개소)에는, 상방을 향하여 오목한 오목부인 저부 감합부(86)가 형성되어 있다. 트레이 본체(81)의 상부에 형성된 복수의 돌기부(84) 중, 장착부(82)에 인접하는 4개의 돌기부(84B)는, 염색용 트레이(80)의 상부에 다른 염색용 트레이(80)(트레이 본체(81))가 적층되었을 때, 적층된 염색용 트레이(80)의 저부 감합부(86)에 감합된다. 즉, 4개의 돌기부(84B)는, 상부에 적층된 다른 트레이 본체(81)의 저부 감합부(86)에 감합하는 상부 감합부로서 기능한다. 따라서, 복수의 염색용 트레이(80)가, 안정된 상태로 상하에 적층된다. 또한, 본 실시 형태의 저부 감합부(86) 및 상부 감합부의 각각은, 비대칭(예를 들어 회전 비대칭 등)으로 배치되어 있다. 따라서, 작업자는, 복수의 염색용 트레이(80)를, 배향을 맞춘 상태로 적층하기 쉽다.
또한, 기체 적재부(85)의 적재면으로부터의 돌기부(84B)의 높이는, 저부 감합부(86)의 깊이(오목부의 깊이)와, 기체(S)의 두께의 합 이상으로 되어 있다. 따라서, 기체 적재부(85)에 기체(S)가 적재된 상태로, 복수의 염색용 트레이(80)가 적층된 경우라도, 기체(S)는 상부에 적층된 염색용 트레이(80)에 접촉하기 어려우므로, 기체(S)의 손상 등이 생기기 어렵다.
이상과 같이, 본 실시 형태에서는, 돌기부(84B)는, 상부 감합부, 위치 결정부 및 기체 보호부를 겸용한다. 따라서, 염색용 트레이(80)의 구조가 용이하게 간소화된다. 단, 상부 감합부, 위치 결정부 및 기체 보호부 중 2개 또는 전부가, 별개의 부재로 구성되어 있어도 된다.
또한, 복수의 돌기부(84)를 트레이 본체(81)에 마련하는 경우, 돌기부(84)의 수가 8개로 한정되지 않는 것은 물론이다. 또한, 돌기부(84)의 형상을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 돌기부는, 기체(S)의 외주를 따르는 위치로부터 상방으로 연장되는 리브형의 부재여도 된다.
트레이 본체(81)에는, 판독부(2)에 의해 판독되는 식별자(88)가 마련되어 있다. 트레이 본체(81)는, 적재 프레임(89) 등에 비하여 많은 횟수 사용할 수 있다. 따라서, 적재 프레임(89) 등에 식별자(88)가 마련되어 있는 경우에 비하여, 식별자(88)를 부재에 설치하는 빈도가 저하된다. 또한, 판독부(2)(도 1 참조)로서, 태그로부터 정보를 판독하는 태그 판독부가 사용되는 경우, 정보를 기입 가능한 태그가, 식별자(88) 대신에 트레이 본체(81)에 마련되어도 된다.
(자동 염색 장치)
도 4 내지 도 12를 참조하여, 본 실시 형태의 자동 염색 장치(3)에 대하여 설명한다. 전술한 바와 같이, 본 실시 형태의 자동 염색 장치(3)는, 전사 장치(40) 및 염료 정착 장치(50)를 구비하고, 복수의 렌즈(L)에 대한 염료의 전사 및 정착을 자동적으로 연속해서 실행한다. 자동 염색 장치(3)는, 인쇄 장치(30) 등과 함께 염색 시스템(1)에 내장된다. 또한, 전술한 바와 같이, 인쇄 장치(30) 등도 자동 염색 장치(3)에 내장되어 있어도 된다.
도 4에 도시하는 바와 같이, 자동 염색 장치(3)는 대략 상자형의 하우징(31)을 구비한다. 하우징(31)의 내부에는, 전사 장치(40) 및 염료 정착 장치(50) 등이 반송 장치(10)의 일부에 조립된 전사ㆍ정착 유닛(4)(도 5 참조)이 내장되어 있다. 전사ㆍ정착 유닛(4) 중, 반송 장치(10)의 좌우의 단부는, 하우징(31)으로부터 외측으로 돌출되어 있다.
하우징(31)의 정면(32)(도 3의 좌측 전방측)은, 우측 단부에서 힌지를 통하여 하우징(31)의 본체에 접속되어 있고, 하우징(31)의 본체에 대하여 회동 가능하게 마련되어 있다. 자동 염색 장치(3)의 메인터넌스 등이 행해지는 경우에는, 정면(32)의 전체가 개방된다. 또한, 하우징(31)의 상하 방향 중앙부보다 약간 상방의 넓은 범위는, 투명한 부재로 형성되어 있다. 따라서, 작업자는, 자동 염색 장치(3)가 실행하고 있는 처치를, 투명한 부재를 통하여 확인할 수 있다. 하우징(31)의 정면(32)에 있어서의 상하 방향 중앙부보다 약간 하방에는, 자동 염색 장치(3)의 동작을 강제적으로 정지시키는 지시를 입력하기 위한 긴급 정지 버튼(34) 등이 마련되어 있다. 또한, 하우징(31)의 정면(32)에 있어서의 상부에는, 유저가 각종 조작 지시를 입력하는 터치 패널(35)이 마련되어 있다.
도 5에 도시하는 바와 같이, 전사ㆍ정착 유닛(4)은, 반송 장치(10)의 일부, 전사 장치(40), 염료 정착 장치(50) 및 기체 보유 지지 장치(90)를 구비한다. 본 실시 형태의 반송 장치(10)는, 개략적으로는 반송 방향의 상류측(도 5의 지면 좌측)으로부터 하류측(도 5의 지면 우측)으로, 복수의 반송 유닛(U)을 연속해서 반송한다. 전사ㆍ정착 유닛(4)에서는, 반송 방향의 상류측으로부터, 전사 장치(40), 염료 정착 장치(50) 및 기체 보유 지지 장치(90)의 순으로 각 장치가 배치되어 있다. 반송 장치(10)는, 전사 장치(40), 기체 보유 지지 장치(90), 염료 정착 장치(50), 기체 보유 지지 장치(90)의 순으로 반송 유닛(U)을 반송한다. 또한, 염료 정착 장치(50)와 기체 보유 지지 장치(90)의 배치는 반대여도 된다. 본 실시 형태의 자동 염색 장치(3)는, 염료가 부착된 기체(S)를 포함하는 반송 유닛(U)을, 전사ㆍ정착 유닛(4)으로 반송한다.
(반송 장치)
도 6 및 도 7을 참조하여, 전사ㆍ정착 유닛(4)에 포함되는 반송 장치(10)에 대하여 설명한다. 도 6에 도시하는 바와 같이, 반송 장치(10)는, 반송 방향으로 연장되는 한 쌍의 레일(101)을 구비한다. 레일(101)의 근방에는, 레일(101)을 따라 배치된 회전 벨트(102)가 마련되어 있다. 회전 벨트(102)는, 반송 모터(103)(예를 들어 스텝 모터 등)에 접속되어 있다. 반송 모터(103)가 구동됨으로써, 회전 벨트(102)가 회전한다. 회전 벨트(102)가 회전함으로써, 반송 유닛(U)이 레일(101)을 따라 반송 방향으로 이동한다.
레일(101)의 복수의 위치에는, 반송 유닛(U)의 유무를 검출하기 위한 센서(본 실시 형태에서는 광전 센서)(104)가 마련되어 있다. 제어 장치(70)는, 복수의 센서(104)의 각각의 검출 결과에 기초하여, 반송 장치(10)에 의해 반송되고 있는 반송 유닛(U)의 위치를 검출할 수 있다.
반송 장치(10)는, 제1 인도부(110) 및 제2 인도부(120)를 구비한다. 제1 인도부(110)는, 전사 장치(40)(도 5 참조)의 근방의 전사 인도 위치에 마련되어 있고, 반송 장치(10)와 전사 장치(40)의 사이에서 반송 유닛(U)을 전달하기 위해 사용된다. 제2 인도부(120)는, 염료 정착 장치(50)(도 5 참조)의 근방의 정착 인도 위치에 마련되어 있고, 반송 장치(10)와 염료 정착 장치(50)의 사이에서 반송 유닛(U)의 수지체(렌즈(L))를 전달하기 위해 사용된다.
도 7에 도시하는 바와 같이, 제1 인도부(110)는, 기부(111), 좌측 암부(112), 우측 암부(113) 및 상하 이동부(114)를 구비한다. 기부(111)는, 좌측 암부(112)와 우측 암부(113)를 접속시킨다. 상세하게는, 좌측 암부(112)는, 기부(111)의 좌측단으로부터 상방으로 연장되고, 또한 상단부로부터 우측 방향으로 굴곡되어 있다. 우측 암부(113)는, 기부(111)의 우측단으로부터 상방으로 연장되고, 또한 상단부로부터 좌측 방향으로 굴곡되어 있다. 좌측 암부(112)의 상단과 우측 암부(113)의 상단의 사이의 거리는, 염색용 트레이(80)(도 2 및 도 3 참조)의 좌우 방향의 길이보다 약간 짧아지도록 설정되어 있다.
상하 이동부(114)는 기부(111)에 고정되어 있다. 상하 이동부(114)는, 모터, 실린더 또는 솔레노이드 등의 액추에이터(본 실시 형태에서는 실린더)이다. 상하 이동부(114)가 구동됨으로써, 기부(111), 좌측 암부(112) 및 우측 암부(113)가 일체로 되어 상하 이동한다. 반송 유닛(U)이 전사 장치(40)의 근방의 소정의 전사 인도 위치로 반송된 상태로, 좌측 암부(112) 및 우측 암부(113)가 상방으로 이동됨으로써, 전사 인도 위치의 반송 유닛(U)이 들어올려진다. 제1 인도부(110)에 의해 들어올려진 반송 유닛(U)은, 전사 장치(40)에 전달된다(상세는 후술함). 또한, 반송 유닛(U)은, 좌측 암부(112) 및 우측 암부(113)가 상방으로 이동된 상태로, 전사 장치(40)로부터 제1 인도부(110)로 전달된다. 그 후, 좌측 암부(112) 및 우측 암부(113)가 하강됨으로써, 반송 유닛(U)이 반송 경로로 되돌려진다.
도 6의 설명으로 되돌아간다. 제2 인도부(120)는, 렌즈 리프트부(121), 상하 이동부(122) 및 수지체 전환부(123)를 구비한다. 렌즈 리프트부(121)는, 정착 인도 위치로 반송된 상태의 반송 유닛(U)의 하방에 위치한다. 상하 이동부(122)는, 렌즈 리프트부(121)에 고정되어 있다. 상하 이동부(122)는, 모터, 실린더 또는 솔레노이드 등의 액추에이터(본 실시 형태에서는 실린더)이다. 상하 이동부(122)가 구동됨으로써, 렌즈 리프트부(121)가 상하 방향으로 이동한다. 렌즈 리프트부(121)가 상방으로 이동하면, 반송 유닛(U)의 2개의 렌즈(L) 중 한쪽이, 염료 정착 장치(50)에 의한 정착 공정이 행해지는 정착 위치에 전달된다. 또한, 렌즈 리프트부(121)가 하방으로 이동하면, 렌즈(L)가 정착 위치로부터 반송 경로로 전달된다. 수지체 전환부(123)는, 모터, 실린더 또는 솔레노이드 등의 액추에이터(본 실시 형태에서는 실린더)를 구비한다. 수지체 전환부(123)는, 액추에이터에 의해 렌즈 리프트부(121)를 반송 방향으로 이동시킴으로써, 반송 유닛(U)에 포함되는 2개의 렌즈(L) 중, 정착 위치에 배치할 렌즈(L)를 전환한다.
반송 장치(10)는, 복수의 유닛 위치 결정부(130)를 구비한다. 유닛 위치 결정부(130)는, 한 쌍의 레일(101)의 사이의 반송 경로 상의 소정 위치에 마련되어 있다. 상하 이동 액추에이터(도시하지 않음)에 의해 유닛 위치 결정부(130)가 상방으로 이동하면, 반송 경로를 반송되어 온 반송 유닛(U)에 유닛 위치 결정부(130)가 접촉하고, 소정 개소에서 반송 유닛(U)의 반송이 정지된다. 따라서, 본 실시 형태의 반송 장치(10)는, 반송 경로 상의 소정 위치에서 반송 유닛(U)을 정확하게 정지시킬 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 자동 염색 장치(3)는, 센서(104) 및 유닛 위치 결정부(130)를 함께 사용함으로써, 보다 정확한 위치에서 반송 유닛(U)을 정지시킬 수 있다. 단, 센서(104) 및 유닛 위치 결정부(130) 중 한쪽을 생략하는 것도 가능하다.
(전사 장치)
도 8 내지 도 10을 참조하여, 전사 장치(40)에 대하여 설명한다. 도 8에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태의 전사 장치(40)는, 다이부(401), 전자파 통과부(410R, 410L), 전자파 발생부(420), 폐색실 세트부(430) 및 기압 제어부(450)를 구비한다. 다이부(401)는 전사 장치(40)를 지지한다. 전자파 통과부(410R, 410L)는, 전자파 발생부(420)가 발생시킨 전자파를, 후술하는 폐색실(C)(도 9 참조) 내에 배치된 기체(S)에 통과시킨다. 전자파 발생부(420)는, 기체(S)를 가열하기 위한 전자파를 발생시킨다. 폐색실 세트부(430)는, 다이부(401) 등과 함께 폐색실(C)을 형성한다. 즉, 폐색실(C)의 내부는, 폐색실 세트부(430) 및 다이부(401) 등에 둘러싸인 밀폐 공간으로 된다. 또한, 폐색실 세트부(430)는, 반송 장치(10)의 제1 인도부(110)(도 7 참조)로부터 전달된 반송 유닛(U)을, 폐색실(C)의 내부에 세트한다. 기압 제어부(450)는, 폐색실(C) 내의 기압을 변동시킨다.
다이부(401)는, 저부(402), 우측 기둥부(403R), 좌측 기둥부(403L) 및 기부(404)를 구비한다. 저부(402)는, 설치 장소에 적재되며, 전사 장치(40)의 전체를 지지한다. 우측 기둥부(403R)는, 저부(402)의 우측 단부로부터 상방으로 연장된다. 좌측 기둥부(403L)는, 저부(402)의 좌측 단부로부터 상방으로 연장된다. 기부(404)는, 우측 기둥부(403R)의 상단부와 좌측 기둥부(403L)의 상단부에 고정되어 있다. 따라서, 다이부(401)를 전후 방향으로부터 보면, 다이부(401)에는 직사각형의 개구가 형성된다. 기부(404)는, 충분한 강도를 갖는 대략 판형의 부재이다. 기부(404)에는, 폐색실 세트부(430)에 의해 폐색실(C) 내에 세트되는 2개의 렌즈(L)의 각각에 대향하는 위치에, 개구부가 형성되어 있다.
전자파 통과부(410R, 410L)는 원통형의 부재이며, 기부(404)에 형성된 2개의 개구부의 각각과 전자파 발생부(420)의 사이에 마련되어 있다. 도 9에 도시하는 바와 같이, 전자파 발생부(420)는, 전자파를 발생시키는 발생원(본 실시 형태에서는 할로겐 히터)(421R, 421L)을 내부에 구비한다. 발생원(421R)은, 통형인 전자파 통과부(410R)의 축 상에 배치되어 있다. 마찬가지로, 발생원(421L)은, 통형인 전자파 통과부(410L)의 축 상에 배치되어 있다.
도 10에 도시하는 바와 같이, 폐색실 세트부(430)는, 기대(431), 폐색실 저부(440), 전후 이동부(432), 상하 이동부(433) 및 가이드 폴(434R, 434L)(도 10에서는 가이드 폴(434R)만이 도시되어 있음)을 구비한다. 기대(431)는, 대략 판형의 부재이며, 폐색실 세트부(430)의 베이스로 된다. 도 8에 도시하는 바와 같이, 기대(431)는, 다이부(401)에 있어서의 직사각형의 개구의 내부에 배치된다. 도 10에 도시하는 바와 같이, 폐색실 저부(440)는, 충분한 강도를 갖는 대략 판형의 부재이다. 폐색실 저부(440)의 상면에는, 기체(S)를 포함하는 반송 유닛(U)(도 8 등 참조)이 적재되는 반송 유닛 적재부(441)가 형성되어 있다. 본 실시 형태의 반송 유닛 적재부(441)는, 염색용 트레이(80)(도 2, 도 3 및 도 9 참조)의 형상에 합치하는 요철을 갖는다.
상세는 후술하지만, 폐색실 저부(440)는, 다이부(401)에 있어서의 기부(404)(도 8 및 도 9 참조)에 대하여 하방으로부터 상방을 향하여 압박됨으로써, 폐색실(C)(도 9 참조)의 저면을 폐색한다. 도 10에 도시하는 바와 같이, 폐색실 저부(440)의 상면에는, 트레이 압박부(442) 및 시일부(443)가 마련되어 있다.
트레이 압박부(442)는, 반송 유닛 적재부(441)에 있어서의 복수의 위치(본 실시 형태에서는, 반송 유닛 적재부(441)의 4개의 구석부)의 각각으로부터 상방으로 돌출됨과 함께, 가압 부재(예를 들어 스프링 등)에 의해 상방을 향하여 가압되어 있다. 폐색실 저부(440)가 기부(404)에 대하여 하방으로부터 상방으로 압박되면, 반송 유닛(U)의 염색용 트레이(80)가, 복수의 트레이 압박부(442)에 의해 폐색실(C)의 내부에 압박된다. 그 결과, 전자파에 의해 가열되어 기체(S)로부터 승화한 염료가, 염색용 트레이(80)의 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)(도 2 및 도 3 참조)의 외부로 누설되기 어려워진다.
시일부(443)는, 반송 유닛 적재부(441)의 외주를 환형으로 간극없이 덮도록 배치되어 있다. 시일부(443)는, 반송 유닛 적재부(441)의 상면보다 약간 상방으로 돌출되어 있다. 시일부(443)는, 고온 및 압력 변화에 견딜 수 있음과 함께, 적당한 탄성을 갖는 재질에 의해 형성되어 있다. 따라서, 폐색실 저부(440)가 기부(404)에 대하여 하방으로부터 상방으로 압박되면, 시일부(443)가 기부(404)의 저면에 압박되고 변형되어, 폐색실(C)(도 9 참조)의 기밀성이 향상된다.
전후 이동부(432)는, 작용축(432A)을 전후 방향으로 이동시키는 액추에이터(본 실시 형태에서는 실린더)이며, 기대(431)에 고정되어 있다. 전후 이동부(432)의 작용축(432A)은, 폐색실 저부(440)에 고정되어 있다. 전후 이동부(432)가 구동되면, 폐색실 저부(440)가 전후 방향으로 이동한다.
도 9에 도시하는 바와 같이, 상하 이동부(433)는, 작용축(433A)을 상하 방향으로 이동시키는 액추에이터(본 실시 형태에서는 실린더)이며, 다이부(401)의 저부(402)에 고정되어 있다. 상하 이동부(433)의 작용축(433A)은, 기대(431)에 고정되어 있다. 또한, 가이드 폴(434R, 434L)은, 기대(431)의 저면으로부터 하방으로 연장되는 막대형의 부재이다. 가이드 폴(434R, 434L)은, 다이부(401)의 저부(402)에 마련된 통부(405R, 405L)의 각각에, 상하 이동 가능하게 삽입되어 있다. 상하 이동부(433)가 구동되면, 기대(431)가 상하 방향으로 이동한다. 기대(431)의 상하 이동은, 가이드 폴(434R, 434L) 및 통부(405R, 405L)에 의해 안내된다. 기대(431)가 상하 방향으로 이동함으로써, 기대(431)에 의해 지지된 폐색실 저부(440)가 상하 방향으로 이동한다.
도 9에 도시하는 바와 같이, 원통형인 전자파 통과부(410R)의 중앙부에는, 마스크부(412R)가 마련되어 있다. 마찬가지로, 전자파 통과부(410L)의 중앙부에는, 마스크부(412L)가 마련되어 있다. 마스크부(412R, 412L)는, 전자파 발생부(420)의 발생원(421R, 421L)으로부터 기체(S)로 조사되는 전자파의 경로 중, 기체(S)에 원형으로 부착된 염료의 중앙부에 조사되는 전자파의 경로를 차단한다. 일례로서, 본 실시 형태의 마스크부(412R, 412L)는, 원통형인 전자파 통과부(410R, 410L)의 축을 따라 하방으로 연장되는 축부와, 축부의 하부로부터 축을 중심으로 하여 원형으로 외측으로 넓어지는 원반부를 구비한다. 원형의 염료의 중앙부에 조사되는 전자파는, 원반부에 의해 차단된다.
마스크부(412R, 412L)가 마련되어 있지 않은 경우, 원형으로 부착된 염료의 중앙부에 조사되는 전자파의 강도는, 염료의 주변부에 조사되는 전자파의 강도보다 커진다. 또한, 원형의 염료의 중앙부의 열은, 주변부의 열에 비하여 발산되기 어렵다. 따라서, 원형의 염료의 중앙부에 조사되는 전자파가, 마스크부(412R, 412L)에 의해 차단됨으로써, 염료의 중앙부의 온도가 주변부의 온도에 비하여 과도하게 상승하는 것이 억제된다. 그 결과, 염료가 균일하게 렌즈(L)에 전사되기 쉬워진다.
전자파 통과부(410R)에는, 내부의 온도를 검출하는 온도 검출부(414R)가 마련되어 있다. 마찬가지로, 전자파 통과부(410L)에는, 내부의 온도를 검출하는 온도 검출부(414L)가 마련되어 있다. 컨트롤러(71)는, 발생원(421R, 421L)에 의해 전자파를 조사해도 폐색실(C) 내의 온도가 상승하지 않는 경우, 고장이 발생하였다는 취지를 작업자에게 경고하는 처리, 및 전사 공정의 실행을 금지하는 처리 중 적어도 어느 것을 실행한다.
기압 제어부(450)(도 8 참조)는, 펌프 및 전자 밸브를 구비한다. 펌프가 구동됨으로써, 폐색실(C) 내의 기체가 급배기관(도시하지 않음)을 통하여 외부로 배출된다. 그 결과, 폐색실(C) 내가 대략 진공 상태로 된다. 전자 밸브가 폐쇄됨으로써, 폐색실(C) 내의 기밀성이 유지된다. 또한, 전자 밸브(33)가 개방됨으로써, 감압 상태의 폐색실(C) 내에 외부로부터 기체가 도입되어, 폐색실(C) 내의 기압이 상승한다. 또한, 폐색실(C) 내에는, 폐색실(C) 내의 기압을 검출하는 압력 센서가 마련되어 있다. 컨트롤러(71)는, 펌프를 구동시켜도 폐색실(C) 내의 기압이 저하되지 않는 경우에는, 전사 장치(40)가 고장났다는 취지를 작업자에게 경고하는 처리, 및 전사 공정의 실행을 금지하는 처리 중 적어도 어느 것을 실행한다.
전사 장치(40)에 의한 전사 공정의 동작에 대하여 설명한다. 우선, 컨트롤러(71)는, 제1 인도부(110)(도 5 내지 도 7 참조)에 의해 반송 유닛(U)을 상승시킨 상태로, 폐색실 세트부(430)의 전후 이동부(432)(도 8 및 도 10 참조)를 구동시킴으로써, 폐색실 저부(440)를 다이부(401)의 개구 내로부터 전방(반송 경로측)으로 이동시킨다. 그 결과, 폐색실 저부(440)는, 반송 유닛(U)의 하방에 위치한다. 다음에, 컨트롤러(71)는, 제1 인도부(110)에 의해 반송 유닛(U)을 하강시킴으로써, 반송 유닛(U)을, 폐색실 저부(440)의 반송 유닛 적재부(441)에 적재시킨다. 다음에, 컨트롤러(71)는, 폐색실 세트부(430)의 전후 이동부(432)를 구동시킴으로써, 반송 유닛(U)이 적재된 폐색실 저부(440)를, 다이부(401)에 있어서의 기부(404)의 하방으로 이동시킨다. 다음에, 컨트롤러(71)는, 폐색실 세트부(430)의 상하 이동부(433)를 구동시킴으로써, 반송 유닛(U)이 적재된 폐색실 저부(440)를 상방으로 이동시켜, 기부(404)에 대하여 하방으로부터 상방으로 압박시킨다.
여기서, 전사 장치(40)는 폐색실(C)을 형성할 필요가 있다. 폐색실(C)의 내부는 대략 진공 상태로 되므로, 폐색실(C)을 형성하는 부재의 중량은 커지기 쉽다. 따라서, 전사 장치(40)의 전체를 이동시켜, 반송 유닛(U)을 폐색실(C)의 내부에 배치하는 것은 효율이 나쁘다. 이에 비해, 본 실시 형태의 전사 장치(40)는, 폐색실(C)을 형성하는 부재 중, 폐색실(C)의 저부를 폐색하는 폐색실 저부(440)만을 상승시킴으로써, 폐색실(C)을 형성하면서, 반송 유닛(U)을 폐색실(C)의 내부에 배치한다. 따라서, 전사 공정이 효율적으로 실행된다.
또한, 전술한 바와 같이, 반송 유닛(U)의 염색용 트레이(80)는, 트레이 압박부(442)에 의해 폐색실(C)의 내부에 하방으로부터 압박된다. 그 결과, 승화된 염료가, 간극을 통하여 염색용 트레이(80)의 적재 프레임(89) 및 스페이서(87)의 외부로 누설되기 어려워진다. 또한, 폐색실 저부(440)가 기부(404)에 대하여 하방으로부터 압박되면, 시일부(443)가 기부(404)의 저면에 압박되어 변형된다. 그 결과, 시일성이 향상된다.
다음에, 컨트롤러(71)는, 기압 제어부(450)를 구동시킴으로써, 폐색실(C) 내를 대략 진공 상태로 한다. 컨트롤러(71)는, 전자파 발생부(420)의 발생원(421R, 421L)에 전자파를 발생시킴으로써, 반송 유닛(U)에 포함되는 기체(S)의 염료를 가열한다. 가열된 염료는 승화되고, 기체(S)에 대향하여 배치된 렌즈(L)의 표면(본 실시 형태에서는 상면)에 전사된다. 여기서, 마스크부(412R, 412L)는, 기체(S)에 원형으로 부착된 염료의 중앙부에 조사되는 전자파의 경로를 차단한다. 따라서, 원형의 염료가 균일하게 가열되기 쉽다.
다음에, 컨트롤러(71)는, 발생원(421R, 421L)의 구동을 정지시킴과 함께, 기압 제어부(450)에 의해 폐색실(C) 내의 기압을 상승시킨다. 컨트롤러(71)는, 폐색실 세트부(430)의 상하 이동부(433)를 구동시킴으로써, 반송 유닛(U)이 적재된 폐색실 저부(440)를 하방으로 이동시킨다. 다음에, 컨트롤러(71)는, 폐색실 세트부(430)의 전후 이동부(432)를 구동시킴으로써, 반송 유닛(U)이 적재된 폐색실 저부(440)를 반송 경로측으로 이동시킨다. 그 결과, 제1 인도부(110)의 좌측 암부(112)와 우측 암부(113)의 상단의 굴곡부는, 폐색실 저부(440)와 염색용 트레이(80)의 사이에 위치한다. 컨트롤러(71)는, 좌측 암부(112)와 우측 암부(113)를 상승시켜, 반송 유닛(U)을 들어올린 상태로, 폐색실 저부(440)를 반송 경로로부터 후방으로 퇴피시킨다. 컨트롤러(71)는, 제1 인도부(110)에 의해 반송 유닛(U)을 하강시켜, 반송 경로 상에 전달한다. 이상의 처리에 의해, 전사 공정이 종료된다.
(기체 보유 지지 장치)
도 11을 참조하여, 기체 보유 지지 장치(90)에 대하여 설명한다. 기체 보유 지지 장치(90)는, 전사 공정이 실행된 후, 또한 정착 공정이 실행되기 전에, 반송 유닛(U)으로부터 기체(S)를 제거한다. 또한, 본 실시 형태의 기체 보유 지지 장치(90)는, 정착 공정이 실행된 후에, 제거한 기체(S)를 반송 유닛(U)에 다시 적재한다.
본 실시 형태의 기체 보유 지지 장치(90)는, 전후 이동부(901), 상하 이동부(902) 및 기체 보유 지지부(903)를 구비한다. 전후 이동부(901)는, 작용축(901A)을 전후 방향으로 이동시키는 액추에이터(본 실시 형태에서는 실린더)이다. 전후 이동부(901)의 작용축(901A)은, 상하 이동부(902)에 고정되어 있다. 상하 이동부(902)는, 작용축(도시하지 않음)을 상하 방향으로 이동시키는 액추에이터(본 실시 형태에서는 실린더)이다. 상하 이동부(902)의 작용축은, 기체 보유 지지부(903)에 고정되어 있다. 전후 이동부(901)가 구동되면, 상하 이동부(902) 및 기체 보유 지지부(903)가 전후 방향으로 이동한다. 상하 이동부(902)가 구동되면, 기체 보유 지지부(903)가 상하 방향으로 이동한다.
기체 보유 지지부(903)는, 흡착구(904) 및 유로 접속부(905)를 구비한다. 흡착구(904)는 하방을 향하고 있다. 본 실시 형태의 기체 보유 지지부(903)에는 6개의 흡착구(904)가 마련되어 있다(도 11에서는, 5개의 흡착구(904)만이 도시되어 있음). 그러나, 흡착구(904)의 수를 변경할 수 있는 것은 물론이다. 유로 접속부(905)는, 튜브를 통하여, 흡인압을 발생시키는 펌프(도시하지 않음)에 접속된다. 복수의 흡착구(904)와 유로 접속부(905)는, 기체 보유 지지부(903)의 내부에 형성된 기체의 유로(도시하지 않음)에 의해 접속되어 있다. 펌프가 구동됨으로써, 흡착구(904)로부터 기체가 흡인된다.
기체 보유 지지 장치(90)에 의해 기체(S)를 반송 유닛(U)으로부터 제거하는 경우, 컨트롤러(71)는, 전후 이동부(901)를 구동시켜, 기체 보유 지지 장치(90)의 전방의 기체 제거 위치로 반송된 반송 유닛(U)의 상방에, 기체 보유 지지부(903)를 이동시킨다. 다음에, 컨트롤러(71)는, 상하 이동부(902)를 구동시켜, 기체 보유 지지부(903)를 하방으로 이동시킨다. 기체 보유 지지부(903)가 하강하면, 반송 유닛(U)에 적재된 기체(S)의 상면에, 기체 보유 지지부(903)의 흡착구(904)가 접촉한다. 컨트롤러(71)는, 펌프를 구동시켜, 흡착구(904)로부터 기체를 흡인시킨다. 그 결과, 흡착구(904)에 의해 기체(S)가 흡인되어 보유 지지된다. 컨트롤러(71)는, 기체 보유 지지부(903)에 기체(S)를 보유 지지시킨 상태로 전후 이동부(901)를 구동시켜, 기체 보유 지지부(903) 및 기체(S)를 후방(즉, 반송 경로로부터 퇴피한 퇴피 위치)으로 퇴피시킨다.
또한, 상세는 후술하지만, 염색 시스템(1)은, 반송 유닛(U)을 식별하기 위한 식별자를, 염료와 함께 기체(S)에 인쇄하는 경우도 있다. 이 경우, 염료 정착 장치(50)의 판독부(2E)(도 1 참조)는, 퇴피 위치로 이동한 상태의 기체 보유 지지부(903)의 하방에 배치되어 있다. 전술한 바와 같이, 염료는, 시트형의 기체(S)의 상면 및 하면 중, 렌즈(L)에 대향하는 하면에 인쇄된다. 따라서, 인쇄 장치(30)는, 염료와 마찬가지로 식별자도 기체(S)의 하면에 인쇄하면, 식별자를 기체(S)의 상면에 인쇄하는 경우에 비하여 공정수가 감소한다. 한편, 기체(S)의 하면에 식별자가 인쇄되어 있는 경우, 기체(S)가 반송 유닛(U)에 적재된 상태로 식별자를 판독하는 것은 곤란하다. 이에 비해, 본 개시에서는, 퇴피 위치에 있는 기체 보유 지지부(903)의 하방에 판독부(2E)가 배치되어 있다. 따라서, 염색 시스템(1)은, 기체(S)의 하면에 인쇄된 식별자를 적절하게 판독할 수 있다. 단, 식별자는 기체(S)의 상면에 인쇄되어 있어도 된다. 이 경우, 판독부(2E)는, 퇴피 위치로 이동한 상태의 기체 보유 지지부(903)의 상방에 배치되어 있어도 된다.
또한, 기체 보유 지지 장치(90)의 근방에는, 전술한 색 정보 계측기(51)(도 1 참조)가 마련되어 있다. 컨트롤러(71)는, 기체 보유 지지 장치(90)에 의해 기체(S)를 염색용 트레이(80) 상으로부터 퇴피시킨 상태로, 색 정보 계측기(51)에 의한 렌즈(L)의 색 정보의 계측을 실행시킨다. 전술한 바와 같이, 본 실시 형태의 염색용 트레이(80)(도 2 및 도 3 참조)에서는, 장착부(82)에 광투과부(82S)가 형성되고, 또한 적재 프레임(89)에도 광투과부(89S)가 형성되어 있다. 따라서, 염색용 트레이(80)에 렌즈(L)가 설치(적재)되고, 또한 기체(S)가 염색용 트레이(80)로부터 분리된 상태로, 렌즈(L)의 색 정보가 색 정보 계측기(51)에 의해 적절하게 측정된다.
염료 정착 장치(50)에 의한 정착 공정이 종료되면, 컨트롤러(71)는, 전후 이동부(901)를 구동시켜, 기체 제거 위치로 반송된 반송 유닛(U)의 상방에, 기체 보유 지지부(903)를 이동시킨다. 다음에, 컨트롤러(71)는, 상하 이동부(902)를 구동시켜, 기체 보유 지지부(903)를 하방으로 이동시킨다. 컨트롤러(71)는, 펌프의 구동을 정지시킴으로써, 기체 보유 지지부(903)에 의한 기체(S)의 보유 지지를 해제한다. 그 결과, 반송 유닛(U)으로부터 일단 제거된 기체(S)가, 반송 유닛(U)으로 되돌려진다. 정착 공정의 종료 후에, 반송 유닛(U)에 기체(S)가 되돌려짐으로써, 작업자는, 염색된 렌즈(L)와, 염색에 사용된 기체(S)를 용이하게 비교할 수 있다. 따라서, 작업자는, 염색 품질의 확인, 및 염색 품질이 낮은 경우의 원인의 확인 등을 적절하게 행할 수 있다.
또한, 반송 유닛(U)에 기체(S)를 다시 적재하는 타이밍은, 염료 정착 장치(50)에 의한 정착 공정과, 코팅 장치(60)(도 1 참조)에 의한 코팅 공정이 모두 종료된 후여도 된다. 이 경우, 반송 유닛(U)으로부터 기체(S)가 제거된 상태로, 정착 공정과 코팅 공정이 용이하게 실행된다.
(염료 정착 장치)
도 12를 참조하여, 염료 정착 장치(50)에 대하여 설명한다. 염료 정착 장치(50)는, 렌즈(L)를 가열함으로써, 렌즈(L)의 표면에 부착된 염료를 렌즈(L)에 정착시키는 정착 공정을 실행한다. 상세하게는, 본 실시 형태의 염료 정착 장치(50)는, 전자파인 레이저광을 렌즈(L)에 조사함으로써, 렌즈(L)를 가열한다. 염료 정착 장치(50)는, 레이저광 조사부(510), 레이저광 차단부(520), 서모 카메라(530), 유입구(540), 배출구(550), 압력차 발생부(560) 및 복사열 반사부(570)를 구비한다.
레이저광 조사부(510)는, 레이저 광원(511) 및 대물 렌즈(512)를 구비한다. 레이저 광원(511)은, 렌즈(L)의 재질에 흡수되는 파장의 레이저광을 출사한다. 레이저 광원(511)으로부터 출사된 레이저광은, 대물 렌즈(512)를 통하여, 정착 위치(501)에 설치된 렌즈(L)에 조사된다. 또한, 본 실시 형태의 레이저 광원(511)은, 레이저광을 하방을 향하여 조사한다. 따라서, 레이저광의 광로의 하류측은, 레이저 광원(511)으로부터 보아 하측으로 된다. 그러나, 레이저광이 조사되는 방향은, 하측 방향 이외의 방향(예를 들어, 횡방향, 상측 방향 또는 경사 방향 등)이어도 된다. 레이저광의 광로의 상류측 및 하류측의 방향은, 레이저광이 조사되는 방향에 따라 일의적으로 정해진다.
또한, 레이저광 조사부(510)는 주사부(513)를 구비한다. 주사부(513)는, 레이저 광원(511)으로부터 출사된 레이저광을, 렌즈(L)에 대하여 상대적으로 주사시킨다. 본 실시 형태의 주사부(513)는, 레이저광의 진행 방향을 편향시키는 스캐너를 구비한다. 레이저 광원(511)으로부터 출사된 레이저광은, 스캐너에 의해 진행 방향을 편향시킨 후, 대물 렌즈(512)를 거쳐 렌즈(L)를 향하여 조사된다. 상세하게는, 본 실시 형태의 주사부(513)는, 레이저광의 광축에 교차하는 X 방향으로 레이저광을 주사하는 X 스캐너와, 광축 및 X 방향에 모두 교차하는 Y 방향으로 레이저광을 주사하는 Y 스캐너를 구비한다. 주사부(513)는, X 스캐너와 Y 스캐너에 의해, 레이저광을 이차원 방향으로 주사할 수 있다. 일례로서, 본 실시 형태의 스캐너(X 스캐너 및 Y 스캐너의 각각)에는 갈바노 미러가 채용되고 있다. 그러나, 갈바노 미러 이외의 스캐너(예를 들어, 폴리곤 미러 또는 음향 광학 소자 등)가 사용되어도 된다. 또한, 주사부는, 레이저광에 대하여 렌즈(L)의 위치를 이동시키는 이동부여도 된다. 주사부로서, 스캐너와 이동부가 함께 사용되어도 된다.
레이저광 차단부(520)는, 레이저광을 차단하는 재질(예를 들어, 아크릴, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리염화비닐 등의 수지 및 금속 등 중 적어도 어느 것)에 의해 형성된 통형의 부재이다. 레이저광 차단부(520)는, 레이저광 조사부(510)의 대물 렌즈(512)로부터, 정착 위치(501)에 설치된 렌즈(L)로 연장되는 광로의 주위(즉, 대물 렌즈(512)의 광축(O)의 주위)의 적어도 일부를 덮음으로써, 광로 외로의 레이저광의 누설을 차단한다. 따라서, 레이저광 차단부(520)에 의해 안전성이 향상된다. 상세하게는, 본 실시 형태의 레이저광 차단부(520)는, 대물 렌즈(512)로부터 렌즈(L)로 연장되는 광로의 전체 주위를 덮는다. 따라서, 안전성이 더 향상된다. 본 실시 형태의 레이저광 차단부(520)의 형상은 대략 원통형이다. 그러나, 레이저광 차단부(520)의 형상은, 대략 원통형에 한정되지 않는다.
레이저광 차단부(520) 중, 정착 위치(501)에 설치되는 렌즈(L)의 주위를 덮는 수지체 주변부(525)와는 다른 부위의 적어도 일부는, 레이저광을 차단하고, 또한 가시광을 투과시키는 광투과성 부재(일례로서, 본 실시 형태에서는 투명한 아크릴 수지)에 의해 형성되어 있다. 따라서, 작업자는, 광투과성 부재를 통하여, 레이저광 차단부(520)에 덮인 렌즈(L)의 상태를 볼 수 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 수지체 주변부(525) 이외의 레이저광 차단부(520)의 본체의 전체가, 광투과성 부재에 의해 형성되어 있다. 따라서, 작업자는, 수지체 주변부 이외의 다양한 부위로부터 렌즈(L)를 볼 수 있다.
레이저광 차단부(520)에는, 정착 위치(501)에 렌즈(L)가 배치되어 있는지 여부를 검출하는 렌즈 검출 센서(521)가 마련되어 있다. 컨트롤러(71)는, 정착 위치(501)에 렌즈(L)가 배치되어 있지 않음이 렌즈 검출 센서(521)에 의해 검출된 경우에, 렌즈(L)가 배치되어 있지 않음을 작업자에게 경고하는 경고 처리, 및 정착 공정의 실행(즉, 레이저광의 조사)을 금지하는 금지 처리 중 적어도 어느 것을 실행한다.
서모 카메라(530)는, 통형인 레이저광 차단부(520)의 내부에 마련되어 있다. 서모 카메라(530)는, 정착 위치(501)에 배치된 렌즈(L)의 열 분포를 검출한다. 상세하게는, 서모 카메라(530)는, 정착 위치(501)에 배치된 렌즈(L)로부터 생기는 전자파를, 전자파 입사부(531)를 통하여 내부에 입사시켜, 검출 소자에 의해 검출한다. 서모 카메라(530)는, 검출된 전자파에 기초하여, 렌즈(L)의 열 분포를 검출할 수 있다. 또한, 전자파 입사부(531)는, 렌즈(L)로부터 생기는 전자파를 검출 소자에 결상시키는 결상 렌즈(예를 들어 게르마늄 렌즈 등)를 포함한다. 또한, 전자파 입사부(531)에는, 레이저광 조사부(510)에 의해 조사되는 레이저광의 파장을 차단하는 필터를 포함한다. 따라서, 서모 카메라(530)의 검출 결과에 레이저광이 영향을 주기 어려워진다.
컨트롤러(71)는, 서모 카메라(530)에 의해 검출된 렌즈(L)의 열 분포에 기초하여, 주사부(513)의 구동을 제어한다. 따라서, 실제의 렌즈(L)의 열 분포에 기초하여, 보다 적절하게 렌즈(L)의 가열 처리가 실행된다.
유입구(540) 및 배출구(550)는, 모두, 통형인 레이저광 차단부(520)에 형성되어 있다. 유입구(540)는, 레이저광 차단부(520) 중, 배출구(550)보다 레이저광의 광로의 상류측에 마련되어 있다. 유입구(540)는, 레이저광 차단부(520)의 외부로부터 내부에 기체를 유입시킨다. 배출구(550)는, 레이저광 차단부(520) 중, 유입구(540)보다 레이저광의 광로의 하류측(즉, 유입구(540)보다 렌즈(L)에 가까운 측)에 마련되어 있다. 또한, 배출구(550)는, 레이저광 차단부(520) 중, 서모 카메라(530)의 전자파 입사부(531)보다 레이저광의 광로의 하류측에 마련되어 있다. 또한, 배출구(550)는, 레이저광 차단부(520) 중, 정착 위치(501)에 배치된 렌즈(L)의 위치보다 레이저광의 광로의 상류측에 마련되어 있다. 배출구(550)는, 레이저광 차단부(520)의 내부로부터 외부로 기체를 배출한다. 배출구(550)에는, 배출되는 기체를 소정의 위치로 유도하는 배기관(551)이 접속되어 있다. 따라서, 기체가 보다 적절하게 레이저광 차단부(520)로부터 배출된다.
압력차 발생부(560)는, 유입구(540)로부터 배출구(550)로 기체를 흘리기 위한 압력차를 발생시킨다. 일례로서, 본 실시 형태의 압력차 발생부(560)는, 유입구(540)로부터 레이저광 차단부(520)의 내부로 기체를 송풍하는 유입 송풍기이다. 즉, 본 실시 형태의 압력차 발생부(560)는 유입구(540)에 마련되어 있다. 그러나, 유입 송풍기와는 별도로 또는 유입 송풍기와 함께, 배출구(550)로부터 레이저광 차단부(520)의 외부로 기체를 송풍하는 배출 송풍기가, 배출구(550) 및 배기관(551) 중 적어도 어느 것에 마련되어 있어도 된다. 즉, 압력차 발생부(560)는, 유입구(540)로부터 레이저광 차단부(520)의 내부에 유입되는 기체의 경로, 및 배출구(550)로부터 레이저광 차단부(520)의 외부로 배출되는 기체의 경로 중 적어도 어느 것에 마련되어 있으면 된다.
압력차 발생부(560)에는 구동 검출부(561)가 마련되어 있다. 구동 검출부(561)는, 압력차 발생부가 정상적으로 구동하고 있는지 여부를 검출한다. 컨트롤러(71)는, 압력차 발생부(560)가 정상적으로 구동하고 있지 않음이 구동 검출부(561)에 의해 검출된 경우에, 작업자에 대한 경고 처리, 및 레이저광 조사부(510)에 의한 렌즈(L)의 가열 동작을 금지하는 처리 중 적어도 어느 것을 실행한다. 따라서, 압력차 발생부(560)가 고장난 상태로 정착 공정이 실행될 가능성이 저하된다.
레이저광 차단부(520) 중 적어도 수지체 주변부(525)의 내주면에는, 수지체인 렌즈(L)로부터 발생하는 복사열을 반사하는 복사열 반사부(570)가 마련되어 있다. 따라서, 레이저광에 의해 가열된 렌즈(L)로부터 방출되는 복사열의 적어도 일부가, 복사열 반사부(570)에 의해 렌즈(L)를 향하여 반사된다. 그 결과, 렌즈(L)(특히, 렌즈(L)의 외주부)의 열이 주위로 확산되기 어려워지므로, 렌즈(L)의 온도가 레이저광에 의해 적절하게 상승하기 쉬워진다. 즉, 복사열 반사부(570)에 의해, 렌즈(L)의 전체 온도가 상승하기 쉬워지며, 또한 렌즈(L)의 외주부와 내측의 온도차도 생기기 어려워진다. 따라서, 염료가 적절하게 렌즈(L)에 정착하기 쉬워진다.
복사열 반사부(570)는, 통형인 수지체 주변부(525)의 내주면에 있어서의 둘레 방향의 전체 둘레에 마련된다. 따라서, 수지체 주변부(525)의 내주면에 있어서의 둘레 방향의 일부에 복사열 반사부가 마련되어 있는 경우에 비하여, 렌즈(L)로부터 방출되는 복사열이, 더 효율적으로 복사열 반사부(570)에 의해 렌즈(L)에 반사되기 쉬워진다.
전술한 바와 같이, 레이저광 차단부(520) 중, 복사열 반사부(570)가 마련되는 수지체 주변부(525) 이외의 부위의 적어도 일부는, 광투과성 부재에 의해 형성되어 있다. 따라서, 본 실시 형태의 염료 정착 장치(50)에 따르면, 렌즈(L)가 적절하게 가열되며, 또한 렌즈(L)의 상태를 확인하는 것도 용이하다.
복사열 반사부(570)는, 수지체 주변부(525)의 내주면의 하단부보다 하방으로 돌출되어 있다. 따라서, 정착 위치(501)에 설치되는 렌즈(L)의 주위가, 보다 적절하게 복사열 반사부(570)에 의해 덮인다. 따라서, 렌즈(L)가 보다 적절하게 가열된다.
복사열 반사부(570)는, 알루미늄 또는 스테인리스를 포함하는 금속(본 실시 형태에서는, 알루미늄의 단체 또는 스테인리스의 단체)에 의해 형성되어 있다. 알루미늄 및 스테인리스는, 복사열(전자파)을 반사하기 쉽다. 따라서, 렌즈(L)의 온도가 보다 적절하게 상승한다.
염료 정착 장치(50)에 의한 정착 공정의 동작에 대하여 설명한다. 컨트롤러(71)는, 반송 장치(10)의 제2 인도부(120)(도 6 참조)에 의해 렌즈(L)를 정착 위치(501)로 이동시킴과 함께, 압력차 발생부(560)를 구동시킨다. 컨트롤러(71)는, 압력차 발생부(560)를 구동시킨 상태로, 레이저 광원(511)으로부터 레이저광을 출사시킴과 함께, 주사부(513)의 구동을 제어한다. 상세하게는, 컨트롤러(71)는, 판독부(2E)(도 1 참조)에 의해 판독된 반송 유닛(U)에 관한 정보에 기초하여, 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치의 파라미터를 취득한다. 컨트롤러(71)는, 취득한 파라미터와, 서모 카메라(530)에 의해 검출된 렌즈(L)의 열 분포에 기초하여, 주사부(513)의 구동을 제어한다. 파라미터에는, 예를 들어 렌즈(L)의 목표 온도의 파라미터가 포함되어 있어도 된다. 또한, 정착 공정에서는, 렌즈(L)의 각 부위의 온도차가 발생하는 정도는, 렌즈(L)의 형상에 따라 다르다. 따라서, 파라미터에는, 렌즈(L)의 형상에 관한 파라미터(예를 들어, 렌즈(L)의 파워에 관한 파라미터 등)가 포함되어 있어도 된다. 또한, 렌즈(L)의 재질에 따라 렌즈(L)의 온도 추이를 변경하는 편이, 염료가 적절하게 렌즈(L)에 정착되는 경우도 있다. 따라서, 파라미터에는, 렌즈(L)의 재질에 관한 파라미터가 포함되어 있어도 된다. 또한, 렌즈(L)에 염색할 색의 농도에 따라, 렌즈(L)의 온도 추이를 변경하는 편이, 염료가 적절하게 렌즈(L)에 정착되는 경우도 있다. 따라서, 파라미터에는, 렌즈(L)에 염색할 색의 농도에 관한 파라미터가 포함되어 있어도 된다. 또한, 컨트롤러(71)는, 서모 카메라(530)에 의해 검출된 렌즈(L)의 열 분포에 기초하여, 렌즈(L)의 각 부위의 온도차가 작아지도록 주사부(513)의 구동을 제어해도 된다.
여기서, 본 실시 형태의 염료 정착 장치(50)에서는, 레이저광 차단부(520)의 내부에 유입구(540)로부터 배출구(550)를 향하여 기체가 흐른다. 즉, 레이저광의 광로의 상류측(본 실시 형태에서는 상방)으로부터 하류측(본 실시 형태에서는 하방)을 향하여 기체가 흐른다. 따라서, 렌즈(L)의 표면의 염료가 가열되어 가스화되어도, 염료는, 레이저광 조사부(510)의 대물 렌즈(512)에 부착되기 어려워진다. 따라서, 대물 렌즈(512)에 염료가 부착됨으로써 생기는 영향이 억제된다.
또한, 배출구(550)는, 레이저광 차단부(520) 중, 정착 위치(501)에 배치된 렌즈(L)의 위치보다 레이저광의 광로의 상류측에 마련되어 있다. 따라서, 유입구(540)로부터 레이저광 차단부(520)의 내부에 유입된 기체는, 가열되어 있는 렌즈(L)까지는 도달하기 어렵다. 따라서, 가열하는 대상의 렌즈(L)가, 레이저광 차단부(520)의 내부에 유입되는 기체에 의해 냉각되는 것이 억제된다. 따라서, 가열 효율이 저하되는 것이 억제된다.
또한, 배출구(550)는, 레이저광 차단부(520) 중, 서모 카메라(530)의 전자파 입사부(531)보다 레이저광의 광로의 하류측에 마련되어 있다. 따라서, 렌즈(L)의 표면의 염료가 가열되어 가스화되어도, 염료는, 서모 카메라(530)의 전자파 입사부(531)에 부착되기 어렵다. 따라서, 서모 카메라(530)의 성능이 저하되는 것도 적절하게 억제된다.
또한, 유입구(540) 및 배출구(550)의 위치를 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 레이저광 차단부(520) 중, 레이저광 조사부(510)의 대물 렌즈(512)와, 정착 위치(501)에 배치된 렌즈(L)의 위치의 사이에, 유입구와 배출구가 레이저광의 광로를 사이에 두고 대향하도록 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 가스화된 염료가 렌즈(L)로부터 대물 렌즈(512)를 향하여 이동해도, 가스화된 염료는, 대물 렌즈(512)에 도달하기 전에 배출구로 흐르기 쉬워진다.
레이저광에 의한 렌즈(L)의 가열 처리가 종료되면, 컨트롤러(71)는, 반송 장치(10)의 제2 인도부(120)(도 6 참조)에 의해, 렌즈(L)를 반송 경로로 되돌린다. 컨트롤러(71)는, 이미 가열 처리가 종료된 렌즈(L) 이외에도, 가열 처리가 필요한 렌즈(L)가 염색용 트레이(80)(도 2 및 도 3 참조)에 적재되어 있는지 여부를, 파라미터에 기초하여 판단한다. 또한 가열 처리가 필요한 렌즈(L)가 염색용 트레이(80)에 적재되어 있지 않으면, 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)의 렌즈(L)에 대한 정착 공정을 종료하고, 반송 유닛(U)을 하류측(본 실시 형태에서는 기체 보유 지지 장치(90))으로 반송시킨다. 또한 가열 처리가 필요한 렌즈(L)가 염색용 트레이(80)에 적재되어 있는 경우, 컨트롤러(71)는, 제2 인도부(120)의 수지체 전환부(123)를 구동시킴으로써, 정착 위치(501)에 배치하는 렌즈(L)를 전환시킨다. 그 후, 컨트롤러(71)는, 정착 위치(501)에 배치된 렌즈(L)를 가열하여, 반송 유닛(U)을 하류측으로 반송시킨다.
또한, 본 실시 형태의 염색 시스템(1)에서는, 반송 장치(10)에 의한 반송 경로 중, 전사 장치(40)의 상류측 및 염료 정착 장치(50)의 상류측에, 광 센서(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 광 센서는, 염색용 트레이(80)의 장착부(82)에 형성된 한 쌍의 광투과부(82S)를 모두 통과하는 방향으로 광을 출사시킴으로써, 염색용 트레이(80)에 렌즈(L), 적재 프레임(89) 및 스페이서(87) 중 적어도 어느 것(본 실시 형태에서는 스페이서(87))이 설치되어 있는지 여부를 검출한다. 따라서, 컨트롤러(71)는, 염색용 트레이(80)에 있어서의 한 쌍의 장착부(82)의 각각에 스페이서(87)가 장착되어 있는지 여부(즉, 렌즈(L)가 설치되어 있는지 여부)를 적절하게 파악하는 것이 가능하다.
(제1 염색 제어 처리)
도 13을 참조하여, 염색 시스템(1)의 컨트롤러(71)가 실행하는 제1 염색 제어 처리에 대하여 설명한다. 제1 염색 제어 처리는, 염색용 트레이(80)(본 실시 형태에서는 트레이 본체(81))에 식별자가 마련되어 있는 경우에 실행된다. 즉, 제1 염색 제어 처리에서는, 반송 유닛(U)에 마련된 식별자의 정보가 판독되어, 판독된 정보에 대응하는 파라미터가 취득된다. 취득된 파라미터에 따라, 염료 정착 장치(50) 등에 의한 염색 공정의 동작이 제어된다. 컨트롤러(71)는, 복수의 반송 유닛(U)의 각각에 적재된 렌즈(L)에 대하여 염색 공정을 실행할 때, 기억 장치에 기억된 염색 제어 프로그램에 따라, 도 13에 예시하는 제1 염색 제어 처리를 실행한다.
우선, 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치 내용을 나타내는 처치 정보를 취득하였는지 여부를 판단한다(S1). 처치 정보는, 예를 들어 작업자가 조작부(도시하지 않음)를 조작함으로써 컨트롤러(71)에 입력되어도 되고, 다른 디바이스에 의해 작성되어도 된다. 제1 염색 제어 처리에서는, S1에서 취득되는 처치 정보에는, 그라데이션 염색의 실행 유무 및 방향을 나타내는 정보, 1개의 반송 유닛(U)에 포함시키는 렌즈(L)의 수(1개 또는 2개)의 정보, 렌즈(L)에 염색할 색(즉, 기체(S)에 인쇄하는 염료의 색)의 정보, 염색할 색의 농도의 정보, 렌즈(L)의 재질의 정보, 및 렌즈(L)에 대하여 실행할 코팅에 관한 정보 중 적어도 어느 것이 포함된다. 또한, S1에서 취득되는 처치 정보에는, 렌즈(L)의 형상에 관한 정보가 포함되어 있어도 된다. 렌즈(L)의 형상(커브값 및 두께 등)은, 렌즈(L)의 광학 특성(예를 들어 구면 도수 등)에 영향을 미친다. 따라서, 렌즈(L)의 형상에 관한 정보에는, 렌즈(L)의 커브값, 두께 및 렌즈(L)의 광학 특성에 관한 정보가 포함되어 있어도 된다. 렌즈(L)의 형상에 관한 정보가 S1에서 취득되는 경우, 후술하는 S6의 처리는 생략되어도 된다. 또한, 렌즈(L)의 광학 특성은, 렌즈(L)의 재질에 따라 변화한다. 따라서, 렌즈(L)의 재질의 정보는, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 측정된 렌즈(L)의 광학 특성에 기초하여 취득되어도 된다. 또한, 렌즈(L)의 형상에 관한 정보에는, 렌즈(L)의 직경 및 외형 형상 등 중 적어도 어느 것이 포함되어 있어도 된다. 처치 정보가 취득되지 않았으면(S1: "아니오"), 처리는 그대로 S4로 이행한다.
렌즈(L)에 대한 처치 정보가 취득된 경우(S1: "예"), 처치 정보의 취득 대상으로 된 렌즈(L)가 적재되는 반송 유닛(U)의 식별자(88)가, 판독부(2A)에 의해 판독된다(S2). 컨트롤러(71)는, S1에서 취득된 처치 정보에 기초하여, 처치 내용을 나타내는 파라미터를, S2에서 판독된 식별자에 대응지어 데이터베이스(72)에 기억시킨다(S3). S3에서 기억되는 파라미터에는, 그라데이션 염색의 실행 유무 및 방향을 나타내는 그라데이션 파라미터, 1개의 반송 유닛(U)에 포함시킬 렌즈(L)의 수를 나타내는 렌즈수 파라미터, 렌즈(L)에 염색할 색(즉, 기체(S)에 인쇄할 염료의 색)을 나타내는 색 파라미터, 렌즈(L)에 염색할 색(즉, 기체(S)에 인쇄할 색의 농도)을 나타내는 농도 파라미터, 렌즈(L)의 재질을 나타내는 재질 파라미터, 및 렌즈(L)에 대하여 실행할 코팅의 내용을 나타내는 코팅 파라미터 중 적어도 어느 것이 포함된다. 또한, 렌즈(L)의 형상에 관한 정보가 S1에서 취득된 경우에는, 렌즈(L)의 형상을 나타내는 형상 파라미터가 S3에서 기억되어도 된다.
다음에, 반송 유닛(U)이 전 준비 유닛(20)으로 반송되었는지 여부가 판단된다(S4). 반송 유닛(U)이 전 준비 유닛(20)으로 반송되지 않았으면(S4: "아니오"), 처리는 그대로 S8로 이행한다. 반송 유닛(U)이 전 준비 유닛(20)에 도달하면(S4: "예"), S5에 있어서, 전 준비 유닛(20)에 도달한 반송 유닛(U)의 식별자(88)가, 판독부(2B)에 의해 판독된다. 또한, 판독된 식별자(88)에 대응하는 파라미터(S5에서는, 적어도 그라데이션 파라미터)가, 데이터베이스(72)로부터 취득된다(S5). 다음에, 컨트롤러(71)는, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 판독된 렌즈(L)의 광학 특성에 기초하여, 렌즈(L)의 형상 파라미터를 취득하고, S5에서 판독된 식별자에 대응지어 데이터베이스(72)에 기억시킨다(S6). 컨트롤러(71)는, S5에서 판독된 식별자에 대응하는 그라데이션 파라미터와, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 판독된 렌즈(L)의 방향에 기초하여, 회전 장치(22)에 의한 렌즈(L)의 회전 구동을 제어한다(S7). 즉, 컨트롤러(71)는, 그라데이션 염색을 실행하는 경우이며, 또한 렌즈(L)가 기하 중심축을 중심으로 하여 대상의 형상이 아닌 경우에, 렌즈(L)를 회전시킴으로써, 기체(S)에 인쇄되는 염료의 각도에 대하여 렌즈(L)의 각도를 맞춘다. 또한, 렌즈(L)의 형상이, 기하 중심축을 중심으로 하여 대상인 경우, S7의 처리는 생략되어도 된다.
또한, 염색 시스템(1)은, 회전 장치(22)에 의해 수지체인 렌즈(L)를 회전시키는 대신에, 판독한 렌즈(L)의 방향에 맞추어, 후술하는 인쇄 장치(30)에 인쇄시키는 염료의 영역의 회전 방향의 각도를 결정해도 된다. 이 경우에도, 그라데이션 염색 등이 적절하게 수지체에 실시된다. 또한, 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)의 광학 특성의 파라미터를 S5에서 취득해도 된다. 컨트롤러(71)는, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 판독된 렌즈(L)의 광학 특성이, S5에서 취득된 광학 특성과 다른 경우에, 작업자에게 경고를 행하는 경고 처리, 및 렌즈(L)에 대한 염색 공정을 중단하는 중단 처리 중 적어도 어느 것을 실행해도 된다. 이 경우, 염색 대상의 렌즈(L)와는 다른 렌즈(L)에 잘못해서 염색이 행해질 가능성이 저하된다.
다음에, 반송 유닛(U)이 인쇄 장치(30)로 반송되었는지 여부가 판단된다(S8). 반송 유닛(U)이 인쇄 장치(30)로 반송되지 않았으면(S8: "아니오"), 처리는 그대로 S11로 이행한다. 반송 유닛(U)이 인쇄 장치(30)에 도달하면(S8: "예"), S9에 있어서, 인쇄 장치(30)에 도달한 반송 유닛(U)의 식별자(88)가, 판독부(2C)에 의해 판독된다. 또한, 판독된 식별자(88)에 대응하는 파라미터(S9에서는, 그라데이션 파라미터, 렌즈수 파라미터, 색 파라미터, 농도 파라미터, 재질 파라미터 및 형상 파라미터(광학 특성의 파라미터가 포함되어 있어도 됨) 중 적어도 어느 것)가, 데이터베이스(72)로부터 취득된다. 컨트롤러(71)는, S9에서 취득된 파라미터에 따라 인쇄 장치(30)의 구동을 제어함으로써, 기체(S)에 대한 염료의 인쇄 동작을 인쇄 장치(30)에 실행시킨다(S10). 예를 들어, 컨트롤러(71)는, 색 파라미터가 나타내는 색의 염료를, 그라데이션 파라미터가 나타내는 그라데이션의 유무 등에 따라, 농도 파라미터가 나타내는 농도로 인쇄 장치(30)에 인쇄시켜도 된다. 또한, 컨트롤러(71)는, 렌즈수 파라미터가 나타내는 렌즈수와 동일 수의 원형의 염료 영역을, 인쇄 장치(30)에 인쇄시켜도 된다. 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)의 기재의 재질에 따른 토출량으로 염료를 인쇄 장치(30)에 인쇄시켜도 된다.
다음에, 반송 유닛(U)이 전사 장치(40)로 반송되었는지 여부가 판단된다(S11). 반송 유닛(U)이 전사 장치(40)로 반송되지 않았으면(S11: "아니오"), 처리는 그대로 S13으로 이행한다. 반송 유닛(U)이 전사 장치(40)에 도달하면(S11: "예"), 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)에 적재되어 있는 렌즈(L)의 수(렌즈(L)의 수가 1개인 경우에는, 렌즈(L)의 위치)에 따라, 전사 장치(40)에 전사 공정을 실행시킨다(S12). 구체적으로는, S12에서는, 전사 장치(40)에 도달한 반송 유닛(U)의 식별자(88)가, 전사 장치(40)의 판독부(2D)에 의해 판독된다. 또한, 판독된 식별자(88)에 대응하는 파라미터(S12에서는, 적어도 렌즈수 파라미터)가, 데이터베이스(72)로부터 취득된다. 컨트롤러(71)는, 취득된 파라미터에 따라 전사 장치(40)의 동작을 제어한다.
다음에, 반송 유닛(U)이 염료 정착 장치(50)로 반송되었는지 여부가 판단된다(S13). 반송 유닛(U)이 염료 정착 장치(50)로 반송되지 않았으면(S13: "아니오"), 처리는 그대로 S16으로 이행한다. 반송 유닛(U)이 염료 정착 장치(50)에 도달하면(S13: "예"), S14에 있어서, 염료 정착 장치(50)에 도달한 반송 유닛(U)의 식별자(88)가, 판독부(2E)에 의해 판독된다. 또한, 판독된 식별자(88)에 대응하는 파라미터(S14에서는, 적어도 그라데이션 파라미터, 렌즈수 파라미터, 색 파라미터, 농도 파라미터, 재질 파라미터 및 형상 파라미터(광학 특성의 파라미터 및 렌즈 직경의 파라미터 등 중 적어도 어느 것이 포함되어 있어도 됨))가, 데이터베이스(72)로부터 취득된다. 컨트롤러(71)는, 취득된 파라미터에 따라 염료 정착 장치(50)의 구동을 제어한다(S15).
상세하게는, 컨트롤러(71)는, 그라데이션 파라미터에 따라, 렌즈(L) 중 색이 연한 부위(시감 투과율이 높은 부분)의 온도를, 색이 진한 부분의 온도보다 낮은 온도로 제한한다. 그 결과, 색이 연한 부위의 온도가 과도하게 상승하여 기재가 변색되는 것이 억제된다. 또한, 컨트롤러(71)는, 렌즈수 파라미터에 따른 수의 렌즈(L)에 대한 정착 공정을, 염료 정착 장치(50)에 실행시킨다. 또한, 컨트롤러(71)는, 색 파라미터에 따라 렌즈(L)의 목표 온도를 설정함으로써, 염색할 색에 따른 적절한 온도로 렌즈(L)의 온도를 상승시킨다. 또한, 컨트롤러(71)는, 재질 파라미터에 따라 렌즈(L)의 온도 추이를 제어함으로써, 렌즈(L)의 재질에 따른 적절한 방법으로 염료를 렌즈(L)에 정착시킨다. 상세하게는, 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)의 재질에 따라, 렌즈(L)의 온도를 목표 온도에 도달시킬 때까지의 시간, 온도 상승 비율, 렌즈(L)의 온도를 목표 온도로 유지하는 시간의 길이 등 중 적어도 어느 것을 제어한다. 또한, 컨트롤러(71)는, 형상 파라미터에 따라 주사부(513)의 구동을 제어함으로써, 렌즈(L)의 형상에 기인하는 부위별 온도차가 과도하게 커지는 것을 억제한다. 상세하게는, 본 실시 형태의 컨트롤러(71)는, 레이저광의 출력을 일정하게 한 상태로, 렌즈(L) 상에 있어서의 레이저광의 주사 속도를 부위에 따라 변화시킴으로써, 렌즈(L)에 가하는 에너지를 부위마다 조정한다. 레이저광의 주사 속도가 작은 위치에서는, 주사 속도가 큰 위치에 비하여, 단위 시간당 부위에 가해지는 에너지가 커진다. 각 부위에 균등하게 레이저광의 에너지가 가해진 경우, 렌즈(L) 중 두께가 작은 부위에서는, 두께가 큰 위치에 비하여 온도가 상승하기 쉽다. 또한, 렌즈(L)의 주위 부위는, 렌즈(L)의 중심 부위에 비하여 열이 방출되기 쉬우므로, 주변 부위의 온도는 중심 부위에 비교하여 상승하기 어렵다. 따라서, 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)의 형상 파라미터에 따라, 렌즈(L)의 두께 및 위치에 따른 적절한 주사 속도로 레이저광을 주사시킴으로써, 부위별 온도차가 과도하게 커지는 것을 억제한다.
다음에, 반송 유닛(U)이 코팅 장치(60)로 반송되었는지 여부가 판단된다(S16). 반송 유닛(U)이 코팅 장치(60)로 반송되지 않았으면(S16: "아니오"), 처리는 그대로 S1로 되돌아간다. 반송 유닛(U)이 코팅 장치(60)에 도달하면(S16: "예"), S17에 있어서, 코팅 장치(60)에 도달한 반송 유닛(U)의 식별자(88)가, 판독부(2F)에 의해 판독된다. 또한, 판독된 식별자(88)에 대응하는 파라미터(S17에서는, 적어도 코팅 파라미터)가, 데이터베이스(72)로부터 취득된다. 컨트롤러(71)는, 취득된 파라미터에 따라, 코팅 장치(60)의 구동을 제어한다(S18). 그 후, 처리는 S1로 되돌아간다.
(제2 염색 제어 처리)
도 14를 참조하여, 염색 시스템(1)의 컨트롤러(71)가 실행하는 제2 염색 제어 처리에 대하여 설명한다. 제2 염색 제어 처리에서는, 컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30)를 제어함으로써, 염료와 함께 식별자를 기체(S)에 인쇄시킨다. 즉, 제2 염색 제어 처리가 실행되는 경우에는, 제1 염색 제어 처리가 실행되는 경우와는 달리, 식별자는 염색용 트레이(80)가 아니라 기체(S)에 마련된다. 또한, 제2 염색 제어 처리에 있어서의 일부의 처리에는, 전술한 제1 염색 제어 처치(도 13 참조)와 마찬가지의 처리를 채용할 수 있다. 따라서, 제2 염색 제어 처리 중, 제1 염색 제어 처리와 마찬가지의 처리를 채용할 수 있는 스텝에 대해서는, 제1 염색 제어 처리에서 부여한 스텝 번호와 동일한 번호를 부여하고, 그 설명을 생략 또는 간략화한다. 또한, 제2 염색 제어 처리가 실행되는 경우, 염색 시스템(1)에 마련되는 복수의 판독부(2)(도 1 참조) 중, 적어도 판독부(2A), 판독부(2B) 및 판독부(2C) 생략은 생략해도 된다.
우선, 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치 내용을 나타내는 처치 정보를 취득하였는지 여부를 판단한다(S1). 처치 정보가 취득되지 않았으면(S1: "아니오"), 처리는 그대로 S11로 이행한다. 렌즈(L)에 대한 처치 정보가 취득된 경우(S1: "예"), 컨트롤러(71)는, 처치 정보의 취득 대상으로 된 렌즈(L)에 대응지을 식별자를 결정한다(S21). 다음에, 컨트롤러(71)는, 처치 정보의 취득 대상으로 된 렌즈(L)가 포함되는 반송 유닛(U)을, 전 준비 유닛(20)으로 반송시킨다(S22). 컨트롤러(71)는, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 판독된 렌즈(L)의 광학 특성에 기초하여, 렌즈(L)의 형상 파라미터를 취득하고, S21에서 결정한 식별자에 대응지어 데이터베이스(72)에 기억시킨다(S6). 또한, 렌즈(L)의 형상에 관한 정보가 S1에서 취득된 경우에는, S6의 처리를 생략해도 된다. 컨트롤러(71)는, S1에서 취득된 그라데이션의 처치 정보에 대응하는 그라데이션 파라미터와, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 판독된 렌즈(L)의 방향에 기초하여, 회전 장치(22)에 의한 렌즈(L)의 회전 구동을 제어한다(S7).
다음에, 컨트롤러(71)는, 처치 정보의 취득 대상으로 된 렌즈(L)가 포함되는 반송 유닛(U)을, 인쇄 장치(30)로 반송시킨다(S23). 컨트롤러(71)는, S1에서 취득된 처치 정보에 기초하는 파라미터(그라데이션 파라미터, 렌즈수 파라미터, 색 파라미터, 농도 파라미터, 재질 파라미터 및 형상 파라미터(광학 특성의 파라미터가 포함되어 있어도 됨) 중 적어도 어느 것)에 따라 인쇄 장치(30)의 구동을 제어함으로써, 기체(S)에 대한 염료의 인쇄 동작을 인쇄 장치(30)에 실행시킨다(S10). 또한, 컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30)의 구동을 제어함으로써, S21에서 결정한 식별자를, 염료와 함께 기체(S)에 인쇄시킨다(S24). 또한, 컨트롤러(25)는, 인쇄 장치(30)의 구동을 제어함으로써, 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치 내용을 나타내는 문자 및 기호 등 중 적어도 어느 것을, 기체(S)에 인쇄시킨다(S25). 따라서, 작업자는, 기체(S)에 인쇄된 문자 및 기호 등 중 적어도 어느 것을 봄으로써, 렌즈(L)에 대하여 실행되는(또는 실행된) 처치 내용을 용이하게 확인할 수 있다.
다음에, 반송 유닛(U)이 전사 장치(40)에 도달하면(S11: "예"), 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)에 적재되어 있는 렌즈(L)의 수(렌즈(L)의 수가 1개인 경우에는, 렌즈(L)의 위치)에 따라, 전사 장치(40)에 전사 공정을 실행시킨다(S12). 구체적으로는, S12에서는, 반송 유닛(U)에 포함되는 기체(S)에 인쇄되어 있는 식별자가, 전사 장치(40)의 판독부(2D)에 의해 판독된다. 판독된 식별자에 대응하는 파라미터(S12에서는, 적어도 렌즈수 파라미터)가, 데이터베이스(72)로부터 취득된다. 컨트롤러(71)는, 취득된 파라미터에 따라 전사 장치(40)의 동작을 제어한다.
반송 유닛(U)이 염료 정착 장치(50)에 도달하면(S13: "예"), 기체(S)에 인쇄되어 있는 식별자가 판독부(2E)에 의해 판독되어, 판독된 식별자에 대응하는 파라미터가 취득된다(S14). 컨트롤러(71)는, 취득된 파라미터에 따라 염료 정착 장치(50)의 구동을 제어한다(S15).
반송 유닛(U)이 코팅 장치(60)에 도달하면(S16: "예"), 기체(S)에 인쇄되어 있는 식별자가 판독부(2F)에 의해 판독되어, 판독된 식별자에 대응하는 파라미터가 취득된다(S17). 컨트롤러(71)는, 취득된 파라미터에 따라, 코팅 장치(60)의 구동을 제어한다(S18). 그 후, 처리는 S1로 되돌아간다.
(제3 염색 제어 처리)
도 15를 참조하여, 염색 시스템(1)의 컨트롤러(71)가 실행하는 제3 염색 제어 처리에 대하여 설명한다. 제3 염색 제어 처리에서는, 컨트롤러(71)는, 태그 판독부(2)에 의해 판독된 파라미터에 따라, 각 장치의 동작을 제어한다. 즉, 제2 염색 제어 처리가 실행되는 경우에는, 제1ㆍ제2 염색 제어 처리가 실행되는 경우와는 달리, 파라미터 자체가 반송 유닛(U)의 태그에 기억된다. 또한, 제3 염색 제어 처리에 있어서의 일부의 처리에는, 전술한 제1 염색 제어 처치(도 13 참조)와 마찬가지의 처리를 채용할 수 있다. 따라서, 제3 염색 제어 처리 중, 제1 염색 제어 처리와 마찬가지의 처리를 채용할 수 있는 스텝에 대해서는, 제1 염색 제어 처리에서 부여한 스텝 번호와 동일한 번호를 부여하고, 그 설명을 생략 또는 간략화한다. 또한, 제3 염색 제어 처리가 실행되는 경우, 염색 시스템(1)에 마련되는 복수의 판독부(2)(도 1 참조) 중 적어도 어느 것(본 실시 형태에서는, 판독부(2B, 2C, 2D, 2E, 2F))은, 태그로부터 정보를 판독하는 태그 판독부를 포함한다. 또한, 제3 염색 제어 처리가 실행되는 경우, 도 1에 도시하는 판독부(2A)는, 태그에 정보를 기입하는 태그 기입부(2A)로 변경된다. 또한, 이하 설명하는 실시 형태에서는, 도 1에 도시하는 판독부(2B)는, 태그로부터의 정보의 판독 및 태그로의 정보의 기입이 모두 실행의 태그 판독ㆍ기입부(2B)로 변경된다. 태그는, 반송 유닛(U)에 포함되는 부재(예를 들어, 염색용 트레이(80)의 트레이 본체(81) 등)에 마련되어 있다.
우선, 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치 내용을 나타내는 처치 정보를 취득하였는지 여부를 판단한다(S1). 처치 정보가 취득되지 않았으면(S1: "아니오"), 처리는 그대로 S4로 이행한다. 렌즈(L)에 대한 처치 정보가 취득된 경우(S1: "예"), 컨트롤러(71)는, S1에서 취득된 처치 정보에 포함되는 파라미터를, 정보 기입부(2A)에 의해, 처치 정보가 취득된 반송 유닛(U)의 태그에 기입한다(S31).
다음에, 반송 유닛(U)이 전 준비 유닛(20)에 도달하면(S4: "예"), 태그 판독ㆍ기입부(2B)에 의해, 반송 유닛(U)의 태그로부터 정보가 판독된다(S32). 컨트롤러(71)는, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 판독된 렌즈(L)의 광학 특성에 기초하여, 렌즈(L)의 형상 파라미터를 취득하고, 태그 판독ㆍ기입부(2B)에 의해 태그에 기입한다(S33). 또한, 렌즈(L)의 형상에 관한 정보가 S1에서 취득된 경우에는, S33의 처리를 생략해도 된다. 컨트롤러(71)는, S32에서 판독된 정보에 포함되는 그라데이션 파라미터와, 광학 특성 측정 장치(21)에 의해 판독된 렌즈(L)의 방향에 기초하여, 회전 장치(22)에 의한 렌즈(L)의 회전 구동을 제어한다(S7).
반송 유닛(U)이 인쇄 장치(30)에 도달하면(S8: "예"), 판독부(2C)에 의해, 반송 유닛(U)의 태그로부터 정보가 판독된다(S34). 컨트롤러(71)는, S34에서 판독된 정보에 포함되는 파라미터에 따라 인쇄 장치(30)의 구동을 제어함으로써, 기체(S)에 대한 염료의 인쇄 동작을 인쇄 장치(30)에 실행시킨다(S10).
반송 유닛(U)이 전사 장치(40)에 도달하면(S11: "예"), 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)에 적재되어 있는 렌즈(L)의 수(렌즈(L)의 수가 1개인 경우에는, 렌즈(L)의 위치)에 따라, 전사 장치(40)에 전사 공정을 실행시킨다(S12). 구체적으로는, S12에서는, 반송 유닛(U)의 태그에 기입된 정보가, 전사 장치(40)의 판독부(2D)에 의해 판독된다. 판독된 정보에 포함되는 파라미터(S12에서는, 적어도 렌즈수 파라미터)에 따라, 전사 장치(40)의 동작이 제어된다.
반송 유닛(U)이 염료 정착 장치(50)에 도달하면(S13: "예"), 판독부(2E)에 의해, 반송 유닛(U)의 태그로부터 정보가 판독된다(S35). 컨트롤러(71)는, S35에서 판독된 정보에 포함되는 파라미터에 따라, 염료 정착 장치(50)의 구동을 제어한다.
반송 유닛(U)이 코팅 장치(60)에 도달하면(S16: "예"), 판독부(2F)에 의해, 반송 유닛(U)의 태그로부터 정보가 판독된다(S36). 컨트롤러(71)는, S36에서 판독된 정보에 포함되는 파라미터에 따라, 코팅 장치(60)의 구동을 제어한다(S18).
(토출량 메인터넌스 처리)
도 16을 참조하여, 염색 시스템(1)의 컨트롤러(71)가 실행하는 토출량 메인터넌스 처리에 대하여 설명한다. 토출량 메인터넌스 처리에서는, 염색할 예정의 색(색의 농도도 포함함)이 적절하게 렌즈(L)에 염색되도록, 인쇄 장치(30)에 의해 기체(S)로 토출(인쇄)되는 염료의 토출량이 보정된다. 작업자는, 토출량 메인터넌스 처리를 실행시키는 지시를, 염색 시스템(1)에 입력할 수 있다. 작업자는, 예를 들어 염색 시스템(1)을 메이커에서 고객에게 출하하는 출하 시, 염색 시스템(1)을 최초로 가동시키는 초기 가동 시, 염색 시스템(1)의 메인터넌스 시, 및 렌즈(L)의 염색 품질이 악화된 경우 등에, 토출량 메인터넌스 처리의 실행 지시를 입력할 수 있다. 컨트롤러(71)는, 토출량 메인터넌스 처리를 실행시키는 지시가 입력된 경우에, 기억 장치에 기억된 토출량 메인터넌스 제어 프로그램에 따라, 도 16에 예시하는 토출량 메인터넌스 처리를 실행한다.
우선, 컨트롤러(71)는, 염색될 렌즈(L)의 기재의 종류의 정보를 취득한다(S40). 인쇄 장치(30)로 토출시키는 염료의 토출량이 동일한 경우라도, 렌즈(L)의 기재의 종류에 따라, 염색되는 색(예를 들어 색의 농도 등)이 다르다. 따라서, 컨트롤러(71)는, S40에서 취득된 기재의 종류마다, 후술하는 S42 내지 S52의 처리를 실행한다. 그 결과, 각각의 기재를 적절하게 염색하기 위해 필요한 염료의 토출량이, 기재에 따라 결정된다.
다음에, 컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30)가 토출(인쇄)하는 것이 가능한 복수의 염료(일례로서, 본 실시 형태에서는 적(Red), 황(Yellow) 및 청(Blue)) 중 하나를, 토출량을 보정하는 대상의 염료로서 특정한다(S41).
다음에, 컨트롤러(71)는, S41에서 특정한 염료에 의해 염색되는, 예정 농도의 색을, 렌즈(L)에 염색할 예정 색으로서 결정한다(S42). 예정 색 등의 색 정보는, 색상, 명도(또는 농도) 및 채도로 표현되어도 된다. 본 실시 형태에서는, 예정 색을 포함하는 렌즈(L)의 색을 특정하는 색 정보로서, 분광 투과율 데이터가 사용된다. 예를 들어, 색 정보에는, L*a*b* 색 공간이 사용되어도 된다. 또한, 색 정보에는, 시감 투과율 Y값이 사용되어도 된다. L*는 명도, a*와 b*는 색도(색상과 채도)를 나타낸다. 또한, 시감 투과율 Y값은, 렌즈(L)가 가시광선을 투과시키는 비율을 나타낸다. 단, 렌즈(L)의 색 정보로서, 다른 표색계가 사용되어도 되는 것은 말할 필요도 없다.
다음에, 컨트롤러(71)는, S42에서 결정한 예정 색을 렌즈(L)에 염색하기 위해, 인쇄 장치(30)로 토출(인쇄)시킬 특정한 염료의 토출량을, 결정 수순에 따라 결정한다(S43). 일례로서, 본 실시 형태에서는, 복수의 염료(본 실시 형태에서는 적, 황, 청)의 각각을 예정의 농도로 수지체에 염색하기 위한, 각 염료의 토출량의 정보(베이스 색 정보)가, 기억 장치(예를 들어 데이터베이스(72) 등)에 미리 기억되어 있다. 컨트롤러(71)는, 베이스 색 정보에 기초하여, 예정 색을 렌즈(L)에 염색하기 위한 각 염료의 토출량(S43에서는, 특정한 염료의 토출량)을 연산함으로써, 토출량을 결정한다. 즉, 본 실시 형태에서는, 토출량을 결정하는 결정 수순(알고리즘)으로서, 베이스 색 정보와 예정 색에 기초하여 각 염료의 토출량을 연산하는 수순이 사용된다. 전술한 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 토출량을 결정하는 결정 수순은, 염색하는 렌즈(L)의 기재의 종류마다 정해져 있다.
단, 각 염료의 토출량의 결정 수순을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 예정 색의 색 정보와, 예정 색을 렌즈(L)에 염색하기 위해 필요한 각 염료의 토출량을 대응짓는 테이블이, 기억 장치(예를 들어 데이터베이스(72) 등)에 미리 기억되어 있어도 된다. 컨트롤러(71)는, 예정 색에 대응하는 각 염료의 토출량을, 테이블로부터 취득함으로써, 염료의 토출량을 결정해도 된다. 즉, 토출량을 결정하는 결정 수순(알고리즘)으로서, 예정 색과 토출량을 대응짓는 테이블이 사용되어도 된다.
다음에, 컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30)에 대하여, 특정한 염료를, S43에서 결정한 토출량만큼 기체(S)로 토출(인쇄)시키는 지시를 출력한다(S44). 인쇄가 완료되면, 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)을 전사 장치(40)로 반송시켜, 전사 장치(40)에 전사 공정을 실행시킨다(S45). 전사 공정이 완료되면, 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)을 염료 정착 장치(50)로 반송시켜, 염료 정착 장치(50)에 정착 공정을 실행시킨다(S46). S46에 있어서의 정착 제어 처리에는, S15(도 13 내지 도 15 참조)와 마찬가지의 처리를 채용할 수 있다.
다음에, 컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30), 전사 장치(40) 및 염료 정착 장치(50)에 의해 실제로 염색된 렌즈(L)에 대하여, 색 정보 계측기(51)(도 1 참조)에 의해 계측된 색 정보(결과 색 정보)를 취득한다(S47). 일례로서, 본 실시 형태에서는, 결과 색 정보로서, 전술한 바와 같이 분광 투과율 데이터(상세하게는, L*a*b* 색 공간, 및 시감 투과율 Y값)가 사용된다.
여기서, 본 실시 형태의 색 정보 계측기(51)는, 종류가 서로 다른 복수의 광원(예를 들어, 표준 광원(일례로서, CIE 표준 광원 D65 등), 백색 광원, 태양광에 근사하는 광을 출사시키는 광원 등 중 2개 이상)을 구비하고 있다. 색 정보 계측기(51)는, 작업자에 의해 지정된 광원을 사용하여, 렌즈(L)의 결과 색 정보를 취득한다. 따라서, 유저가 원하는 광에 의해, 렌즈(L)의 결과 색 정보가 적절하게 취득된다.
다음에, 컨트롤러(71)는, S47에서 취득된 결과 색 정보와, S42에서 결정된 예정 색의 색 정보의 비교 처리의 결과에 따라, 이후의 염색 공정에 있어서 염색될 렌즈(L)의 색이 예정 색에 근접하도록, 특정한 염료의 인쇄 장치(30)에 의한 토출량(일례로서, 본 실시 형태에서는 토출량의 결정 수순)을 보정한다(S49). 본 실시 형태에서는, 비교 처리로서, 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보의 차를 산출하는 처리가 행해진다. 그러나, 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보의 비율을 산출하는 처리 등이, 비교 처리로서 사용되어도 된다. 본 실시 형태의 S49에서는, 결과 색 정보가 나타내는 색의 농도와, 예정 색의 색 정보가 나타내는 농도의 차에 기초하여, 특정한 염료의 토출량을 결정하기 위한 결정 수순이 보정된다. 상세하게는, 토출량의 결정 수순(알고리즘)으로서, 베이스 색 정보와 예정 색에 기초하는 연산이 사용되고 있는 경우에는, 색 정보의 차에 기초하여 연산 수순이 보정된다. 또한, 토출량의 결정 수순(알고리즘)으로서, 예정 색과 토출량을 대응짓는 테이블이 사용되고 있는 경우에는, 테이블에 있어서의 대응짓기가 보정된다. 또한, 결정 수순을 보정하는 구체적인 방법은, 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보의 차 또는 비율 등에 따라, 결정 수순의 보정량이 미리 정해져 있어도 된다. 또한, 기계 학습 알고리즘에 의해 훈련된 수학 모델에, 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보의 차 또는 비율이 입력됨으로써, 결정 수순의 보정량이 취득되어도 된다. 전술한 바와 같이, S49에 예시하는 보정 처리는, 렌즈(L)의 기재의 종류에 따라 실행된다.
다음에, 컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30)가 토출(인쇄)하는 것이 가능한 복수의 염료 전부에 대하여, S42 내지 S49의 처리가 완료되었는지 여부를 판단한다(S51). 완료되지 않은 경우에는(S51: "아니오"), 복수의 염료 중, 처리가 완료되어 있지 않은 다른 염료가 특정되고(S52), S42 내지 S49의 처리가 반복된다. 그 결과, 모든 염료의 토출량이 적절하게 보정된다. 따라서, 복수의 염료의 조합에 의해 표현되는 다수의 색도, 적절하게 수지체에 염색된다. 모든 염료에 대한 처리가 완료되면(S51: "예"), 토출량 메인터넌스 처리는 종료된다.
또한, 도 16에 예시한 토출량 메인터넌스 처리에서는, 복수의 염료(본 실시 형태에서는 적, 황, 청) 전부에 대하여, 토출량(본 실시 형태에서는 토출량의 결정 수순)이 보정된다. 그러나, 복수의 염료의 일부에 대해서만, 토출량이 보정되어도 된다. 또한, 도 16에 예시한 토출량 메인터넌스 처리에서는, 각각의 염료마다 토출량이 보정된다. 그러나, S42에서는, 복수의 염료에 의해 염색되는 예정 색이 결정되어도 된다. S43에서는, 예정 색을 염색하기 위한 복수의 염료의 각각의 토출량이 결정되어도 된다. S44에서는, 복수의 염료가 기체(S)에 인쇄되어도 된다. S49에서는, 결과 색 정보와 예정 색의 색 정보에 따라, 복수의 염료의 각각의 토출량이 보정되어도 된다. 또한, S49에서는, 결과 색 정보인 분광 투과율 데이터로부터 취득되는, 각 염료의 최대 흡수 피크의 파장의 투과율의 값에 기초하여, 각 염료의 토출량이 보정되어도 된다. 이 경우, S42 내지 S49의 처리가 1회 행해짐으로써, 복수의 염료의 토출량이 적절하게 보정된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 색 정보 계측기(51)로서, 렌즈(L)의 분광 스펙트럼을 계측하는 분광 계측기가 사용된다. 따라서, 복수의 염료에 의해 렌즈(L)가 염색되는 경우라도, 각각의 염료의 토출량은 적절하게 보정된다.
(염색 품질 판정 처리)
도 17을 참조하여, 염색 시스템(1)의 컨트롤러(71)가 실행하는 염색 품질 판정 처리에 대하여 설명한다. 염색 품질 판정 처리에서는, 실제로 염색된 렌즈(L)의 결과 색과, 예정 색의 차가 허용 범위를 초과하였는지 여부(즉, 염색의 품질이 불량인지 여부)가 판정되고, 판정 결과에 따른 처리가 행해진다.
또한, 염색 품질 판정 처리는, 전술한 제1 내지 제3 염색 제어 처리(도 13 내지 도 15 참조)에 넣어 실행하는 것도 가능하다. 즉, 염색 품질 판정 처리에서도, 도 13 내지 도 15에서 설명한, 식별자 및 태그를 사용한 처리, 전 준비 유닛(20)에 의한 처리 및 코팅 장치(60)에 의한 처리를 실행하는 것이 가능하다. 그러나, 염색 품질 판정 처리에 대한 설명을 간략화하기 위해, 이하에서는 식별자 및 태그를 사용한 처리 등의 설명은 생략한다. 또한, 염색 품질 판정 처리에 있어서의 일부의 처리(예를 들어, S44 내지 S47의 처리 등)에는, 전술한 토출량 메인터넌스 처리(도 16 참조)와 마찬가지의 처리를 채용할 수 있다. 따라서, 염색 품질 판정 처리 중, 토출량 메인터넌스 처리와 마찬가지의 처리를 채용할 수 있는 스텝에 대해서는, 토출량 메인터넌스 처리에서 부여한 스텝 번호와 동일한 번호를 부여하여, 그 설명을 생략 또는 간략화한다. 컨트롤러(71)는, 복수의 반송 유닛(U)의 각각에 적재된 렌즈(L)에 대하여 염색 공정을 실행할 때, 기억 장치에 기억된 염색 제어 프로그램에 따라, 도 17에 예시하는 염색 품질 판정 처리를 실행한다.
우선, 컨트롤러(71)는, 염색될 렌즈(L)의 기재의 종류의 정보를 취득한다(S40). 후술하는 S61 내지 S66의 처리는, S40에서 취득된 기재의 종류마다 실행된다. 다음에, 컨트롤러(71)는, 렌즈(L)를 염색할 예정 색의 정보(색 정보)를 취득한다(S61). 전술한 바와 같이, 컨트롤러(71)는, 식별자(88)에 대응지어진 색 파라미터, 또는 태그로부터 판독된 색 파라미터를, 예정 색의 정보로서 취득해도 된다.
컨트롤러(71)는, S61에서 취득한 예정 색을 렌즈(L)에 염색하기 위한, 각각의 염료의 토출량을 결정한다(S62). 각각의 염료의 토출량을 결정하는 결정 수순에는, 전술한 S42(도 16 참조)와 마찬가지의 수순을 채용할 수 있다. S62의 처리는, 렌즈(L)의 기재의 종류에 따라 실행된다.
컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30)에 대하여, S62에서 결정한 토출량만큼 각각의 염료를 기체(S)로 토출(인쇄)시키는 지시를 출력한다(S44). 인쇄가 완료되면, 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)을 전사 장치(40)로 반송시켜, 전사 장치(40)에 전사 공정을 실행시킨다(S45). 전사 공정이 완료되면, 컨트롤러(71)는, 반송 유닛(U)을 염료 정착 장치(50)로 반송시켜, 염료 정착 장치(50)에 정착 공정을 실행시킨다(S46). 다음에, 컨트롤러(71)는, 인쇄 장치(30), 전사 장치(40) 및 염료 정착 장치(50)에 의해 실제로 염색된 렌즈(L)에 대하여, 색 정보 계측기(51)(도 1 참조)에 의해 계측된 색 정보(결과 색 정보)를 취득한다(S47).
다음에, 컨트롤러(71)는, 결과 색 정보와, S61에서 취득된 예정 색의 색 정보의 차가 허용 범위(역치)를 초과하였는지 여부를 판정한다(S62). 역치는, 요구되고 있는 염색 품질의 정도 등에 따라 적절하게 설정되면 된다. 결과 색 정보와 예정 색의 차가 역치 이하인 경우에는(S62: "아니오"), 염색 품질은 허용 범위 내이므로, 처리는 그대로 종료한다.
결과 색 정보와 예정 색의 차가 역치를 초과한 경우에는(S62: "예"), 품질 불량 통지 처리가 실행된다(S63). 품질 불량 통지 처리에서는, 렌즈(L)의 염색의 품질이 불량함이, 유저에게 통지된다. 염색 품질이 불량함을 통지하는 방법은, 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 메시지를 모니터에 표시시키는 방법, 음성으로 통지하는 방법, 또는 경고 램프에 의해 통지하는 방법 등을 채용할 수 있다.
다음에, 컨트롤러(71)는, 토출량 보정 모드가 작업자에 의해 선택되었는지 여부를 판단한다(S65). 본 실시 형태에서는, 작업자는, 염색 시스템(1)에 염색 공정을 실행시킬 때, 토출량 보정 모드 또는 품질 불량 판정 모드를 선택할 수 있다. 토출량 보정 모드에서는, 염색 품질이 불량인 경우에, 각 염료의 토출량이 보정된다. 품질 불량 판정 모드에서는, 단순히, 염색 품질이 불량인 경우에, 품질이 불량하다는 취지가 작업자에게 통지된다.
토출량 보정 모드가 선택되어 있지 않고, 품질 불량 판정 모드가 선택되어 있는 경우에는(S65: "아니오"), 처리는 그대로 종료된다. 토출량 보정 모드가 선택되어 있는 경우에는(S65: "예"), 컨트롤러(71)는, S47에서 취득된 결과 색 정보와, S61에서 취득된 예정 색의 색 정보에 따라, 이후의 염색 공정에 있어서 염색될 렌즈(L)의 색이 예정 색에 근접하도록, 각 염료의 인쇄 장치(30)에 의한 토출량(본 실시 형태에서는, 토출량의 결정 수순)을 보정한다(S66). 본 실시 형태의 S66에서는, 결과 색 정보가 나타내는 색의 농도와, 예정 색의 색 정보가 나타내는 농도의 차에 기초하여, 각 염료의 토출량을 결정하기 위한 결정 수순이, 렌즈(L)의 기재의 종류마다 보정된다. 상세하게는, 토출량의 결정 수순(알고리즘)으로서, 베이스 색 정보와 예정 색에 기초하는 연산이 사용되고 있는 경우에는, 색 정보의 차에 기초하여 연산 수순이 보정된다. 또한, 토출량의 결정 수순(알고리즘)으로서, 예정 색과 토출량을 대응짓는 테이블이 사용되고 있는 경우에는, 테이블에 있어서의 대응짓기가 보정된다.
토출량 보정 모드가 항상 선택되어 있는 경우에는, 렌즈(L)의 염색 공정을 실행할 때마다, S66의 보정 처리가 반복하여 실행된다. 즉, 염색 공정이 실행될 때마다, 결과 색 정보에 따라 염료의 토출량을 보정하는 피드백 제어가 행해진다.
상기 실시 형태에서 개시된 기술은 일례에 지나지 않는다. 따라서, 상기 실시 형태에서 예시된 기술을 변경하는 것도 가능하다. 예를 들어, 상기 실시 형태에서 예시한 복수의 기술의 일부만을 채용해도 된다. 일례로서, 상기 실시 형태에서 예시한 제1 염색 제어 처리 내지 제3 염색 제어 처리에서는, 렌즈(L)에 대하여 실행할 처치의 파라미터가 다수 취득되고, 취득된 다수의 파라미터에 따라, 염색 시스템(1)에 의한 각종 동작이 제어된다. 그러나, 상기 실시 형태에서 예시한 다수의 파라미터 중 일부만을 참조하여, 염색 시스템(1)에 있어서의 일부의 동작을 제어하는 것도 가능하다.
또한, 도 13의 S5, S9, S14, S17, 도 14의 S14, S17 및 도 15의 S32, S34, S35, S36에서 파라미터를 취득하는 처리는, 「파라미터 취득 스텝」의 일례이다. 도 13 내지 도 15의 S15에서 염료 정착 장치의 구동을 제어하는 처리는, 「정착 제어 스텝」의 일례이다. 도 13의 S3에서 파라미터를 식별자에 대응지어 기억시키는 처리는, 「대응짓기 스텝」의 일례이다. 도 14의 S24에서 식별자를 기체(S)에 인쇄시키는 처리는, 「식별자 인쇄 제어 스텝」의 일례이다. 도 13 내지 도 15의 S10에서 인쇄 장치(30)에 염료를 인쇄시키는 처리는, 「인쇄 제어 스텝」의 일례이다. 도 13 내지 도 15의 S7에서 회전 장치(22)의 구동을 제어하는 처리는, 「회전 제어 스텝」의 일례이다. 도 13 내지 도 15의 S18에서 코팅 장치의 구동을 제어하는 처리는, 「코팅 제어 스텝」의 일례이다.
도 16의 S43 및 도 17의 S62에서, 예정 색을 렌즈(L)에 염색하기 위한 염료의 토출량을 결정하는 처리는, 「토출량 결정 스텝」의 일례이다. 도 16 및 도 17의 S47에서 결과 색 정보를 취득하는 처리는, 「결과 색 정보 취득 스텝」의 일례이다. 도 16의 S49 및 도 17의 S66에서 결정 수순을 보정하는 처리는, 「보정 스텝」의 일례이다. 도 17의 S63에서 실행되는 품질 불량 통지 처리는, 「통지 스텝」의 일례이다.
1: 염색 시스템
2: 판독부
10: 반송 장치
21: 광학 특성 측정 장치
22: 회전 장치
30: 인쇄 장치
40: 전사 장치
50: 염료 정착 장치
51: 색 정보 계측기
60: 코팅 장치
71: 컨트롤러
72: 데이터베이스
80: 염색용 트레이
81: 트레이 본체
82: 장착부
82S: 광투과부
83: 오목부
84A: 돌기부(위치 결정부, 기체 보호부)
84B: 돌기부(위치 결정부, 기체 보호부, 상부 감합부)
85: 기체 적재부
86: 저부 감합부
87: 스페이서
88: 식별자
89: 적재 프레임
89S: 광투과부
510: 레이저광 조사부
511: 레이저 광원
512: 대물 렌즈
513: 주사부
520: 레이저광 차단부
525: 수지체 주변부
530: 서모 카메라
540: 유입구
550: 배출구
560: 압력차 발생부
570: 복사열 반사부
L: 렌즈
S: 기체
U: 반송 유닛

Claims (13)

  1. 수지체를 염색하는 염색 시스템이며,
    수지체를 포함하는 반송 유닛을 반송하는 반송 장치와,
    상기 반송 유닛에 관한 정보를 판독하는 판독부와,
    상기 반송 장치에 의해 반송된 상기 반송 유닛의 수지체를 가열함으로써, 수지체의 표면에 부착된 염료를 수지체에 정착시키는 염료 정착 장치와,
    제어부
    를 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 판독부에 의해 판독된 상기 정보에 기초하여, 상기 반송 유닛에 포함되는 수지체에 대하여 실행할 처치의 파라미터를 취득하는 파라미터 취득 스텝과,
    상기 정보를 판독한 상기 반송 유닛의 수지체를 상기 염료 정착 장치에 의해 가열할 때, 취득한 상기 파라미터에 따라 상기 염료 정착 장치의 구동을 제어하는 정착 제어 스텝
    을 실행하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 염료 정착 장치는, 전자파를 발생시키는 전자파 발생부를 구비하고, 전자파를 수지체에 조사함으로써 수지체를 가열하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 판독부는,
    상기 반송 유닛마다 마련된 식별자를 판독하는 식별자 판독부를 포함하고,
    상기 제어부는,
    상기 파라미터 취득 스텝에 있어서, 상기 반송 유닛마다 상기 파라미터를 기억하는 데이터베이스로부터, 상기 식별자 판독부에 의해 판독된 상기 식별자에 대응하는 상기 반송 유닛의 상기 파라미터를 취득하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제어부는,
    수지체에 대하여 실행할 처치 내용을 나타내는 처치 정보에 기초하여, 상기 처치 내용을 나타내는 상기 파라미터를, 상기 수지체가 포함되는 상기 반송 유닛의 상기 식별자에 대응지어 상기 데이터베이스에 기억시키는 대응짓기 스텝을 더 실행하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    시트형의 기체에 염료를 인쇄하는 인쇄 장치와,
    상기 반송 장치에 의해 반송된 상기 반송 유닛의 수지체를, 상기 염료가 인쇄된 상기 기체에 대향시킨 상태로, 상기 염료를 수지체에 전사하는 전사 장치
    를 더 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 인쇄 장치를 제어함으로써, 상기 반송 유닛에 대응하는 상기 식별자를 상기 염료와 함께 상기 기체에 인쇄시키는 식별자 인쇄 제어 스텝을 더 실행하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  6. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 반송 유닛은, 수지체가 설치되는 설치부를 포함하고,
    상기 식별자가 상기 설치부에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 판독부는,
    상기 반송 유닛에 마련된 기입 가능한 태그로부터 상기 정보를 판독하는 태그 판독부를 포함하고,
    상기 제어부는,
    상기 파라미터 취득 스텝에 있어서, 상기 태그 판독부에 의해 판독된 상기 정보에 포함되는 상기 파라미터를 취득하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 판독부는, 렌즈인 수지체의 광학 특성을 측정하는 광학 특성 측정 장치를 포함하고,
    상기 제어부는,
    상기 파라미터 취득 스텝에 있어서, 상기 광학 특성 측정 장치에 의해 측정된 상기 렌즈의 광학 특성에 기초하여, 상기 염료 정착 장치의 구동을 제어하는 상기 파라미터를 취득하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    수지체를 염색하는 염색 공정 중, 상기 염료 정착 장치에 의해 실행되는 염료 정착 공정 이외의 공정을 실행하는 적어도 하나의 염색 공정 실행 장치를 더 구비하고,
    상기 반송 장치는, 상기 반송 유닛을 상기 염료 정착 장치 및 상기 염색 공정 실행 장치의 각각으로 반송하고,
    상기 제어부는,
    상기 정보를 판독한 상기 반송 유닛의 수지체에 대한 염색 공정을, 상기 염색 공정 실행 장치에 실행시킬 때, 취득한 상기 파라미터에 따라 상기 염색 공정 실행 장치의 구동을 제어하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    시트형의 기체에 염료를 인쇄하는 인쇄 장치와,
    상기 반송 장치에 의해 반송된 상기 반송 유닛의 수지체를, 상기 염료가 인쇄된 상기 기체에 대향시킨 상태로, 상기 염료를 수지체에 전사하는 전사 장치
    를 더 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 정보를 판독한 상기 반송 유닛에 사용하는 상기 기체로의 상기 염료의 인쇄를, 상기 인쇄 장치에 실행시킬 때, 취득한 상기 파라미터에 따라 상기 인쇄 장치의 구동을 제어하는 인쇄 제어 스텝을 더 실행하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 반송 장치에 의해 반송되는 상기 반송 유닛마다 수지체를 회전시킴으로써, 상기 염료가 인쇄된 상기 기체에 대한 수지체의 방향을 규정하는 회전 장치를 더 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 정보를 판독한 상기 반송 유닛의 수지체를 상기 회전 장치에 의해 회전시킬 때, 취득한 상기 파라미터에 따라 상기 회전 장치의 구동을 제어하는 회전 제어 스텝을 더 실행하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송 장치에 의해 반송되는 상기 반송 유닛마다, 상기 염료 정착 장치에 의해 상기 염료가 정착된 수지체의 표면에 코팅을 행하는 코팅 장치를 더 구비하고,
    상기 제어부는,
    상기 정보를 판독한 상기 반송 유닛의 수지체에 코팅을 행할 때, 취득한 상기 파라미터에 따라 상기 코팅 장치의 구동을 제어하는 코팅 제어 스텝을 더 실행하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    시트형의 기체에 염료를 인쇄하는 인쇄 장치와,
    상기 반송 장치에 의해 반송된 상기 반송 유닛의 수지체를, 상기 염료가 인쇄된 상기 기체에 대향시킨 상태로, 상기 염료를 수지체에 전사하는 전사 장치
    를 더 구비하고,
    상기 반송 장치는, 상기 반송 유닛을 상기 인쇄 장치로부터 상기 전사 장치로 반송하는 것을 특징으로 하는 염색 시스템.
KR1020200092092A 2019-07-30 2020-07-24 염색 시스템 KR20210014581A (ko)

Applications Claiming Priority (14)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2019-140255 2019-07-30
JPJP-P-2019-140256 2019-07-30
JP2019140255 2019-07-30
JP2019140256 2019-07-30
JPJP-P-2020-004758 2020-01-15
JPJP-P-2020-004757 2020-01-15
JP2020004759A JP2021021182A (ja) 2019-07-30 2020-01-15 染料定着装置
JP2020004761A JP2021021928A (ja) 2019-07-30 2020-01-15 染色用トレイ、載置枠、およびスペーサ
JPJP-P-2020-004760 2020-01-15
JP2020004760A JP7415578B2 (ja) 2019-07-30 2020-01-15 染色システム
JP2020004757A JP7467922B2 (ja) 2019-07-30 2020-01-15 染色システム
JPJP-P-2020-004759 2020-01-15
JPJP-P-2020-004761 2020-01-15
JP2020004758A JP7467923B2 (ja) 2019-07-30 2020-01-15 染料定着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210014581A true KR20210014581A (ko) 2021-02-09

Family

ID=71846278

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200092092A KR20210014581A (ko) 2019-07-30 2020-07-24 염색 시스템

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20210032809A1 (ko)
EP (2) EP3771552B1 (ko)
KR (1) KR20210014581A (ko)
CN (2) CN117548305A (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023037201A (ja) * 2021-09-03 2023-03-15 株式会社ニデック 染色データ管理方法、および染色システム
JP2023050841A (ja) * 2021-09-30 2023-04-11 株式会社ニデック 転写装置および染色システム
EP4197763A1 (en) * 2021-12-16 2023-06-21 Essilor International Method for determining a dipping orientation of an ophthalmic lens
JP2023149810A (ja) * 2022-03-31 2023-10-16 株式会社ニデック 染色システム
WO2024023177A1 (en) * 2022-07-26 2024-02-01 Essilor International Method and system for obtaining a customized optical article having at least one predetermined optical property

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018127722A (ja) 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ニデック 染色装置及び染色方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4819264B2 (ja) * 2001-09-28 2011-11-24 株式会社ニデック 眼鏡レンズの染色システム
US7014664B2 (en) * 2002-08-05 2006-03-21 Nidek Co., Ltd. Dyeing method of dyeing plastic lens and dyeing device
JP2004077933A (ja) * 2002-08-20 2004-03-11 Fuji Xerox Co Ltd 画像形成装置
JP4743835B2 (ja) * 2004-12-27 2011-08-10 Ｈｏｙａ株式会社 光学レンズのコーティング装置
JP4988404B2 (ja) * 2006-09-29 2012-08-01 株式会社ニデック プラスチックレンズの染色方法及びプラスチックレンズ染色用基体作成装置
JP2011209645A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Hoya Corp プラスチックレンズ用染料塗布装置
JP5658004B2 (ja) 2010-11-15 2015-01-21 株式会社ニデック レンズメータ
JP6010349B2 (ja) * 2011-06-09 2016-10-19 株式会社ニデック 染色方法及び染色装置
WO2014129435A1 (ja) * 2013-02-19 2014-08-28 株式会社ニデック 染色装置
WO2016208584A1 (ja) * 2015-06-22 2016-12-29 東海光学株式会社 眼鏡レンズ製造システム
BR112020004508B1 (pt) * 2017-09-07 2023-04-04 Transitions Optical, Ltd Sistema de revestimento para revestir um substrato ótico e método do mesmo

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018127722A (ja) 2017-02-06 2018-08-16 株式会社ニデック 染色装置及び染色方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN117548305A (zh) 2024-02-13
EP3771552A2 (en) 2021-02-03
EP3771552A3 (en) 2021-04-21
CN112295872A (zh) 2021-02-02
US20210032809A1 (en) 2021-02-04
CN112295872B (zh) 2023-09-15
EP3771552B1 (en) 2024-03-20
EP4335556A3 (en) 2024-06-26
EP4335556A2 (en) 2024-03-13
EP3771552C0 (en) 2024-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20210014581A (ko) 염색 시스템
US10889935B2 (en) Dyeing method and dyeing apparatus
JP7467923B2 (ja) 染料定着装置
EP1992734A2 (en) Lens dyeing method and lens dyeing apparatus
JP2018127722A (ja) 染色装置及び染色方法
JP2024083425A (ja) 染色システム
US11446870B2 (en) Stereolithography apparatus with optical imaging detector, and method of operating the same
US20210268743A1 (en) Stereolithography apparatus equipped for detecting amount of resin, and method of operating same
JP2022102469A (ja) 染色システム
EP4159422A1 (en) Transfer device and dyeing system
JP7404866B2 (ja) 染色偏光レンズの製造方法
US20230366148A1 (en) Dyeing system
EP4005782B1 (en) Dye-deposited base body manufacturing apparatus and dyeing system
EP3771553A1 (en) Dyeing apparatus and dyeing method
JP2023149810A (ja) 染色システム
JP6432202B2 (ja) 染色装置および染色樹脂体の製造方法
FI20185589A1 (en) Stereolithography equipment provided to obtain parameter value data and method for operating the same
FI20185590A1 (en) Stereolithography equipment equipped to detect excess material on the substrate, and method of using the same equipment