KR20200043909A - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents
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Abstract
기판을 수납한 기판 처리 용기를 일시적으로 대기시키는 보관부가 차지하는 바닥 전유 면적을 저감한다.
기판을 처리하는 기판 처리 장치이며, 상기 기판 처리 장치의 최상부에 마련되며, 기판을 수납하는 기판 수납 용기가 적재되는 보관부와, 상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 기판 수납 용기를 적재하여 기판을 기판 처리 장치의 처리부와의 사이에서 반입출하는 반입출부와, 상기 보관부의 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 직접 또는 간접적으로 전달하는 제1 이동 탑재 장치를 갖고, 상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 기판 처리 장치의 상방을 이동하는 천장 주행차와의 사이에서 상기 기판 수납 용기가 전달 가능하다.
기판을 처리하는 기판 처리 장치이며, 상기 기판 처리 장치의 최상부에 마련되며, 기판을 수납하는 기판 수납 용기가 적재되는 보관부와, 상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 기판 수납 용기를 적재하여 기판을 기판 처리 장치의 처리부와의 사이에서 반입출하는 반입출부와, 상기 보관부의 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 직접 또는 간접적으로 전달하는 제1 이동 탑재 장치를 갖고, 상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 기판 처리 장치의 상방을 이동하는 천장 주행차와의 사이에서 상기 기판 수납 용기가 전달 가능하다.
Description
본 개시는, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
특허문헌 1에는, 기판의 처리 시스템이며, 당해 기판의 처리 시스템에 반입되는 복수의 카세트를 대기시키는 카세트 대기 블록이, 기판의 처리 시스템에 대한 반입출 블록에 인접하여 마련되는 구성이 개시되어 있다.
본 개시에 관한 기술은, 기판을 수납한 기판 처리 용기를 일시적으로 대기시키는 보관부가 차지하는 바닥 전유 면적을 저감한다.
본 개시의 일 양태는, 기판을 처리하는 기판 처리 장치이며, 상기 기판 처리 장치의 최상부에 마련되며, 기판을 수납하는 기판 수납 용기가 적재되는 보관부와, 상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 기판 수납 용기를 적재하여 기판을 기판 처리 장치의 처리부와의 사이에서 반입출하는 반입출부와, 상기 보관부의 사이에서, 직접 또는 간접적으로 상기 기판 수납 용기를 전달하는 제1 이동 탑재 장치를 갖고, 상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 기판 처리 장치의 상방을 이동하는 천장 주행차와의 사이에서 상기 기판 수납 용기가 전달 가능하다.
본 개시에 의하면, 기판을 수납한 기판 처리 용기를 일시적으로 대기시키는 보관부가 차지하는 바닥 전유 면적을 저감할 수 있다.
도 1은 웨이퍼 처리 장치의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 평면도.
도 2는 웨이퍼 처리 장치의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 3은 웨이퍼 처리 장치의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 4는 제2 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 5는 제2 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 평면도.
도 6은 본 실시 형태에 관한 제1 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 7은 본 실시 형태에 관한 제1 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 8은 미처리 카세트의 반송 플로우의 개략을 나타내는 흐름도.
도 9는 미처리 카세트의 반송 플로우의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 10은 빈 카세트의 반송 플로우의 개략을 나타내는 흐름도.
도 11은 빈 카세트의 반송 플로우의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 12는 처리 완료 카세트의 반송 플로우의 개략을 나타내는 흐름도.
도 13은 처리 완료 카세트의 반송 플로우의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 14는 제1 이동 탑재부의 변형예에 관한 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 15는 도 14의 제1 이동 탑재부의 변형예의 동작을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 2는 웨이퍼 처리 장치의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 3은 웨이퍼 처리 장치의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 4는 제2 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 5는 제2 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 평면도.
도 6은 본 실시 형태에 관한 제1 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 7은 본 실시 형태에 관한 제1 이동 탑재부의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 8은 미처리 카세트의 반송 플로우의 개략을 나타내는 흐름도.
도 9는 미처리 카세트의 반송 플로우의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 10은 빈 카세트의 반송 플로우의 개략을 나타내는 흐름도.
도 11은 빈 카세트의 반송 플로우의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 12는 처리 완료 카세트의 반송 플로우의 개략을 나타내는 흐름도.
도 13은 처리 완료 카세트의 반송 플로우의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 14는 제1 이동 탑재부의 변형예에 관한 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 사시도.
도 15는 도 14의 제1 이동 탑재부의 변형예의 동작을 모식적으로 도시하는 사시도.
우선, 특허문헌 1에 개시되어 있는 종래 기판(이하, 웨이퍼라 함)의 처리 시스템의 구성에 대하여 설명한다. 특허문헌 1에 개시된 처리 시스템에는, 처리 시스템의 반입출 블록에 인접하여, 당해 반입출 블록에 반입출되는 복수의 카세트를 수용하는 스토커로서의 카세트 대기 블록이 마련되어 있다. 카세트 대기 블록은 분위기 제어를 행하기 위한 케이싱으로 덮여 있고, 당해 케이싱의 천장면에는, 카세트의 반입출구가 형성되어 있다. 또한, 카세트 대기 블록의 상방에는 장치간 카세트 반송 장치의 레일이 배치되어 있고, 장치간 카세트 반송 장치는, 상기 반입출구를 통해, 상방으로부터 카세트 대기 블록에 대하여 카세트를 반입출할 수 있도록 구성되어 있다.
상술한 바와 같이, 일반적으로 FEX(Foup Exchanger)라 호칭되는 카세트 대기 블록은, 처리 시스템에서 처리되는 복수매, 예를 들어 25매의 웨이퍼가 수용된 기판 수납 용기로서의 카세트(Foup)를 일시적으로 복수 스톡하기 위한 장치이다. 당해 FEX의 내부에는, 복수, 예를 들어 10개 이상의 카세트가 스톡된다. 이와 같이 FEX는, 처리 시스템에 반입출되는 카세트를 일시적으로 스톡하는 기능을 갖기 때문에, 일반적으로 처리 시스템의 반입출 블록에 인접하여, 즉, 예를 들어 특허문헌 1에 있어서는 기판의 처리 시스템에 있어서의 반입출 블록의 전방면측에 마련된다.
그러나, FEX가 복수의 카세트를 스톡하는 경우, 당연히 FEX의 규모는 커진다. 그리고, 상술한 바와 같이 FEX를 처리 시스템에 인접하여 마련하면, FEX가 차지하는 바닥 전유 면적이 증대되고, 결과적으로 당해 처리 시스템 전체로서의 바닥 전유 면적이 증가되어 버린다.
따라서, 본 개시에 따른 기술의 일 양태는, FEX를 기판 처리 장치의 상부에 마련함으로써, 기판 처리 장치에 있어서의 FEX의 바닥 전유 면적을 저감시킨다.
이하, 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치로서의 웨이퍼 처리 장치의 구성에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 실질적으로 동일한 기능 구성을 갖는 요소에 있어서는, 동일한 번호를 부여함으로써 중복 설명을 생략한다.
<웨이퍼 처리 장치>
우선, 본 실시 형태에 관한 웨이퍼 처리 장치의 구성에 대하여 설명한다. 도 1 내지 도 3은 각각 웨이퍼 처리 장치(1)의 구성의 개략을 모식적으로 도시하는 평면도, 측면도 및 사시도이다.
웨이퍼 처리 장치(1)는, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 복수매의 웨이퍼 W를 수납한 기판 수납 용기(이하, 카세트 C라 함)의 반입출부로서의 반입출 스테이션(10)과, 웨이퍼 W에 소정의 처리를 실시하는 복수의 각종 처리 장치(도시하지 않음)를 구비한 처리부로서의 처리 스테이션(20)을 일체로 접속한 구성을 갖고 있다.
또한 웨이퍼 처리 장치(1)는, 반입출 스테이션(10)에 반입출되는 복수의 카세트 C를 일시적으로 보유 지지하여 스톡하는 보관부로서의 FEX(100)를 갖고 있다. FEX(100)는, 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부, 구체적으로는, 웨이퍼 처리 장치(1)의 천장부 상면에 마련되어 있다.
반입출 스테이션(10)은, 반입출 블록(11)과, 반송 블록(12)을 갖고 있다. 반입출 블록(11)은, 반송 블록(12) 및 처리 스테이션(20)보다도 한층 낮게 구성되어 있고, 당해 반입출 블록(11)의 상면에는, 카세트 적재대(13)가 마련되어 있다. 카세트 적재대(13)에는, FEX(100)나 웨이퍼 처리 장치(1)의 외부, 즉 후술하는 OHT(Overhead Hoist Transport : 천장 주행차) 등에 대하여 카세트 C를 반입출할 때, 카세트 C를 적재하는 카세트 적재판(14)이 마련되어 있다.
반입출 블록(11)에는, 복수의 미처리 웨이퍼 W, 복수의 처리 완료 웨이퍼 W를 각각 수용 가능한 미처리 카세트 C1, 처리 완료 카세트 C3, 및 웨이퍼 W를 반출하여 비어 있는 빈 카세트 C2가 반입출된다. 그리고, 카세트 적재대(13)에는, 이들 카세트 C를 Y축 방향으로 일렬로 적재 가능하게 되어 있고, 본 실시 형태에 있어서는 예를 들어 4개의 카세트 적재판(14)이 배치되어 있다.
또한 카세트 적재대(13)에는, 상기 미처리 카세트 C1이 적재되고, 웨이퍼 처리 장치(1) 내로 웨이퍼 W를 반입하는 Sender 영역(반입 전용부)과, 상기 처리 완료 카세트 C3이 적재되어, 웨이퍼 처리 장치(1) 내로부터 웨이퍼 W가 반출되는 Receiver 영역(반출 전용부)이 설정되어 있다. 이하의 설명에 있어서는, 상기 Sender 영역에 위치하는 카세트 적재판(14)을 카세트 적재판(14s), 상기 Receiver 영역에 위치하는 카세트 적재판(14)을 카세트 적재판(14r)이라 하는 경우가 있다.
또한 이하의 설명에 있어서는, 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 카세트 적재판(14s) 및 카세트 적재판(14r)을 각각 Y축 방향으로 2개씩 배열하여 설치되도록 편의적으로 도시하고 있다. 그러나, 4개의 카세트 적재판(14) 중, 특히 중앙에 위치하는 2개의 카세트 적재판(14)은, Sender 및 Receiver 양쪽의 역할을 실행할 수 있다. 즉 4개의 상기 카세트 적재판(14)은, Y 방향 정방향측으로부터 3개가 Sender 영역, Y 방향 부방향측으로부터 3개가 Receiver 영역에 포함되고, 중앙에 위치하는 2개의 카세트 적재판(14)은, Sender 영역 및 Receiver 영역의 중복 영역 T에 포함된다.
반송 블록(12)의 내부에는, 도 1의 Y 방향으로 연장되는 반송로(도시하지 않음) 상을 이동 가능한 웨이퍼 반송 장치(15)가 마련되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(15)는, 상하 방향 및 연직축 주위(θ 방향)로도 이동 가능하며, 상기 카세트 적재판(14) 상의 카세트 C와, 처리 스테이션(20)의 내부에 마련되는 웨이퍼 전달 장치(도시하지 않음) 사이에서 웨이퍼 W를 반송할 수 있다.
반입출 스테이션(10)의 반입출 블록(11)의 상방에는, 예를 들어 Y 방향으로 연장되는 반송로 R0을 따라서 이동 가능한 OHT가 마련되어 있다. OHT는 웨이퍼 처리 장치(1)의 외부에 마련된 다른 웨이퍼 처리 장치와의 사이에서 카세트 C를 반송할 수 있고, 상방으로부터 후술하는 FEX(100)에 마련된 이동 탑재 장치로서의 제1 이동 탑재부(110)에 대하여 액세스하여 카세트 C를 전달할 수 있다. 또한, 후술하는 바와 같이 OHT는, 반입출 스테이션(10)의 카세트 적재판(14)에 대해서도, 직접적으로 카세트 C를 전달하는 것이 가능하다.
처리 스테이션(20)에는, 웨이퍼 W에 대하여 소정의 처리를 실시하기 위한 복수의 각종 처리 장치(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 이러한 처리 장치의 종류나 구성은 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 처리 스테이션(20)은, 도포 현상 처리 시스템이나 플라스마 처리 시스템 등, 임의의 구성을 취할 수 있다. 또한 처리 스테이션(20)은 한 번에 100매 이상, 예를 들어 150매의 웨이퍼 W에 대하여 소정의 처리를 실시하는 처리 능력을 갖고 있다.
또한 처리 스테이션(20)의 상부에는, 처리 스테이션(20)의 내부에 청정한 공기류를 형성하기 위한 FFU(Fan Filter Unit)(21)가 마련되어 있어도 된다. 당해 FFU(21)는, 처리 스테이션(20)의 종류나 구성에 의해 생략될 수 있다.
도 2, 도 3에 도시한 바와 같이, FEX(100)는, 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부, 예를 들어 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부인 천장부 상면에 마련되며, 이동 탑재 장치로서의 제1 이동 탑재부(110) 및 다른 이동 탑재 장치로서의 제2 이동 탑재부(120), 수납 용기 보유 지지부로서의 카세트 보유 지지부(130)를 갖고 있다. FEX(100)는, 웨이퍼 처리 장치(1)에 반입출되는 카세트 C를, 일시적으로 퇴피, 보유 지지하기 위한 스토커로서 기능하고, 상기 OHT, 상기 반입출 스테이션(10)의 카세트 적재판(14), 및 카세트 보유 지지부(130)와의 사이에서 카세트 C를 전달 가능하게 구성되어 있다.
제1 이동 탑재부(110)는, 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부에 있어서의 X 방향 부방향측, 구체적으로는 상기 반송 블록(12)의 최상부에 있어서, Y 방향으로 연신되어 마련되는 반송로 R1 상을 이동 가능하게 구성되어 있다. 또한, 제1 이동 탑재부(110)는 회전 기구(도시하지 않음)에 의해 연직축 주위로 회전 가능하게 구성되어 있다. 이에 의해 제1 이동 탑재부(110)는, 상기 OHT와의 사이에서 전달되는 카세트 C를, 카세트 적재판(14)과 후술하는 제2 이동 탑재부(120) 및 근처에 있는 카세트 보유 지지대(131)와의 사이에서 전달할 수 있다. 또한, 제1 이동 탑재부(110)의 상세한 구성에 대해서는 후술한다.
본 실시 형태에 있어서 제1 이동 탑재부(110)는, 예를 들어 2대 마련되어 있고, 각각 동일한 반송로 R1 상에 배치되어 있다. 이러한 경우, 2대의 제1 이동 탑재부(110)의 각각이 반송로 R1을 따라서 이동 가능하게 되어 있다.
2대의 제1 이동 탑재부(110)는, 각각이 상기 Sender 영역 또는 상기 Receiver 영역 중 어느 것에 대하여 액세스 가능하게 구성되어 있다. 즉, 예를 들어 Sender측에 마련된 제1 이동 탑재부(110)는, 중복 영역 T를 포함하는 Sender 영역에 위치하는 3개의 카세트 적재판(14s)과의 사이에서, 카세트 C를 전달할 수 있다. 한편, Receiver 영역측에 마련된 제1 이동 탑재부(110)는, 중복 영역 T를 포함하는 Receiver 영역에 위치하는 3개의 카세트 적재판(14r)과의 사이에서, 카세트 C를 전달할 수 있다.
제2 이동 탑재부(120)는, 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부에 있어서의 상기 반송로 R1의 X 방향 정방향측에 있어서, X 방향으로 연신되어 평행하게 마련되는 2개의 반송로 R2 상을, 각 제2 이동 탑재부(120)가 이동 가능하게 구성되어 있다. 제2 이동 탑재부(120)는, 상기 제1 이동 탑재부(110)와의 사이에서 전달되는 카세트 C를, 후술하는 카세트 보유 지지부(130)와의 사이에서 반송할 수 있다.
도 4 및 도 5는 각각 제2 이동 탑재부(120)의 구성의 개략을 모식적으로 도시한 측면도, 및 평면도이다. 도 4 및 도 5에 도시한 바와 같이, 각 제2 이동 탑재부(120)는, 상기 반송로 R2 상을 주행하는 기대부(121), 관절 암(122) 및 반송 암(123)을 갖는 다관절 암 구조를 갖고 있다.
관절 암(122)은 선회 및 신축 가능하게 구성되어 있고, 제1 관절 암(122a)과 제2 관절 암(122b)을 갖는다. 제1 관절 암(122a)은, 그 기단측이 기대부(121)에 연직축 주위로 회전 가능하게 접속되어 있다. 제2 관절 암(122b)은, 제1 관절 암(122a)의 선단측에 연직축 주위로 회전 가능하게 접속되어 있다. 반송 암(123)은 제2 관절 암(122b)의 선단측에 연직축 주위로 회전 가능하게 접속되어 있다.
또한, 제2 이동 탑재부(120)는, 반송 암(123)의 연직 방향의 높이를 조절하기 위한 승강 기구(도시하지 않음)를 기대부(121)의 내부에 갖고 있다. 승강 기구는 승강축 M을 따라서 관절 암(122) 및 반송 암(123)을 승강 가능하게 구성되어 있고, 관절 암(122)을 통해 반송 암(123)을 승강시킴으로써, 제1 이동 탑재부(110)와의 사이에서 카세트 C를 전달할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서 제2 이동 탑재부(120)는 상기한 바와 같이 예를 들어 2대 마련되어 있고, 각각 Y 방향으로 병설된 2개의 반송로 R2 상, 즉, Sender측 및 Receiver측에 대응하여 각각 1대씩 배치되어 있다. 2대의 제2 이동 탑재부(120)는 각각이 X 방향으로 이동 가능하며, 각각의 제2 이동 탑재부(120)가, 반송로 R2에 인접하여 마련되는 카세트 보유 지지부(130)에 액세스하여 상기 제1 이동 탑재부(110)와의 사이에서 카세트 C를 전달할 수 있다.
또한, Sender측 및 Receiver측에 각각 마련된 제2 이동 탑재부(120)는, 마찬가지로 Sender측 및 Receiver측에 각각 마련된 상기 제1 이동 탑재부(110)에 각각이 대응하여, 카세트 C의 전달을 행할 수 있다. 즉, 1대의 제2 이동 탑재부(120)는, 특정 1대의 제1 이동 탑재부(110)와의 사이에서 카세트 C의 전달을 행할 수 있다.
도 3에 도시한 바와 같이, 카세트 보유 지지부(130)는, 상기 2개의 반송로 R2의 Y 방향으로 인접하여, 합계 3열이 마련되어 있다. 각 카세트 보유 지지부(130)는, 카세트 C를 일시적으로 보유 지지하기 위한 카세트 보유 지지대(131)를 복수, 예를 들어 본 실시 형태에 있어서는 X축 방향으로 배열하여 3개씩 갖고 있다. 따라서, 보관부로서의 FEX(100)에는, 합계 9개의 카세트 보유 지지대(131)가 마련되어 있다. 각 카세트 보유 지지대(131)에는, 상기 제2 이동 탑재부(120)에 의해 카세트 C가 적재된다. 또한, 카세트 보유 지지부(130)에 보유 지지되는 카세트 C로서는, 예를 들어 상기 미처리 카세트 C1, 빈 카세트 C2, 및 처리 완료 카세트 C3 등을 들 수 있다.
또한, 상기 카세트 보유 지지대(131)는, 회전 기구(도시하지 않음)에 의해 연직축 주위로 회전 가능하게 구성되어 있어도 된다. 이러한 구성을 가짐으로써, 카세트 C가 제2 이동 탑재부(120)에 의해 카세트 보유 지지부(130)로부터 반출될 때, 적절하게 카세트 C의 방향을 조절할 수 있다. 즉, 적절한 방향으로 반입출 스테이션(10)에 대하여 카세트 C를 전달할 수 있다.
이상의 웨이퍼 처리 장치(1)에는, 제어 장치(200)가 마련되어 있다. 제어 장치(200)는, 예를 들어 컴퓨터이며, 프로그램 저장부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 프로그램 저장부에는, 웨이퍼 처리 장치(1)에 있어서의 웨이퍼 W의 처리를 제어하는 프로그램이 저장되어 있다. 또한, 프로그램 저장부에는, 상술한 각종 장치나 제1 이동 탑재부(110), 제2 이동 탑재부(120)를 비롯하여, 다른 반송 장치나 각종 구동계 장치의 동작을 제어하는 각종 프로그램이 저장된다. 따라서 본 실시 형태에서는, 제어 장치와 다른 제어 장치는 하나의 제어 장치(200)로서 구체화되어 있다. 제어 장치(200)는 그 밖에 웨이퍼 처리 장치(1)에 있어서의 웨이퍼 처리를 실현시키기 위한 프로그램도 저장되어 있다. 또한, 상기 프로그램은, 컴퓨터에 판독 가능한 기억 매체 H에 기록되어 있던 것이며, 당해 기억 매체 H로부터 제어 장치(200)에 인스톨된 것이어도 된다.
<제1 이동 탑재부>
다음에, 상기 제1 이동 탑재부(110)의 상세한 구성에 대하여 설명한다.
도 6 및 도 7은 각각 제1 이동 탑재부(110)의 구성의 개략을 모식적으로 도시한 측면도 및 사시도이다. 도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이, 제1 이동 탑재부(110)는, 상기 반송로 R1 상을 주행하는 본체부(111)를 갖고 있다. 본체부(111)에는, 카세트 C를 상면에 보유 지지하는 암(112)이 암 보유 지지부(113)와 일체로 마련되어 있다. 또한, 암 보유 지지부(113)는, 본체부(111)의 내부에 마련되는 승강 기구(114)가 구비하는 권취 부재(115)에 접속되어 있다.
암(112)은, 통상 시에 있어서 반송로 R1로부터 X 방향 부방향측을 향하여 돌출되어 있다. 즉, 암(112)은, 상기 반입출 스테이션(10)의 카세트 적재판(14)의 상방 또한, 상기 OHT의 하방을 향하여 돌출되어 있다. 이에 의해, 제1 이동 탑재부(110)는 상방으로부터 액세스되는 OHT와의 사이에서 직접적으로 카세트 C의 전달이 가능하게 되어 있다.
암 보유 지지부(113)는, 상술과 같이 승강 기구(114)의 권취 부재(115)에 접속되어 있다. 권취 부재(115)는 구동부(도시하지 않음)의 동작에 의해 권취 가능하게 구성되어 있다. 예를 들어, 권취 부재(115)를 본체부(111)로부터 감아 내리는 방향으로 구동부를 동작함으로써, 권취 부재(115)의 일단에 접속된 암 보유 지지부(113)가 하방, 즉 카세트 적재판(14) 방향으로 강하된다. 한편, 예를 들어 구동부를 권취 부재(115)가 본체부(111)로 감아 올리는 방향으로 구동시킴으로써, 권취 부재(115)의 일단에 접속된 암 보유 지지부(113)가 상방, 즉 본체부(111) 방향으로 상승한다. 이에 의해, 암 보유 지지부(113)에 접속된 암(112) 및, 당해 암(112)에 적재된 카세트 C를, 반입출 스테이션(10)의 카세트 적재판(14)과 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부 사이에서 승강시킬 수 있다.
또한, 본체부(111)에는 회전 기구(도시하지 않음)가 마련되어 있고, 암(112)이 본체부(111)측으로 상승된 상태에 있어서, 연직축 주위로 회전 가능하게 구성되어 있다. 이에 의해 암(112)을 X 방향 정방향측, 즉 제2 이동 탑재부(120)측으로 이동시킬 수 있어, 제2 이동 탑재부(120)와의 사이에서 카세트 C를 전달할 수 있다.
<카세트의 반송 동작>
본 실시 형태에 관한 웨이퍼 처리 장치(1)는 이상과 같이 구성되어 있고, 다음에, 이러한 웨이퍼 처리 장치(1)를 사용한 카세트 C의 반입출 방법에 대하여 도면을 참조하여 설명한다.
도 8 및 도 9는 각각 미처리 카세트 C1의 반입에 있어서의 해당 미처리 카세트 C1의 흐름을 나타낸 흐름도 및 해당 미처리 카세트 C1의 반송에 있어서의 주된 동작을 모식적으로 도시한 웨이퍼 처리 장치(1)의 사시도이다. 미처리 카세트 C1은, 복수의 미처리의 웨이퍼 W를 수납하고 있고, 반입출 스테이션(10)으로 반송됨으로써 미처리 웨이퍼 W가 웨이퍼 처리 장치(1)의 처리 스테이션(20)에 반입되고, 미처리 웨이퍼 W에 대하여 소정의 웨이퍼 처리를 실시한다.
우선, 미처리 카세트 C1을 파지한 OHT가 웨이퍼 처리 장치(1)의 반입출 스테이션(10)의 상방으로 이동한다(도 8, 도 9의 스텝 S1). 다음에, 카세트 적재대(13)의 Sender 영역에 있어서의 카세트 적재판(14s)의 카세트 적재 상황을 확인한다. 카세트 적재판(14s)이 비어 있는 경우, 즉 카세트 적재판(14s) 상에 다른 미처리 카세트 C1이 적재되어 있지 않은 경우, OHT로부터 당해 비어 있는 카세트 적재판(14s)에 대하여 직접적으로 미처리 카세트 C1이 전달된다(도 8, 도 9의 스텝 S2). 이러한 때, OHT로부터 카세트 적재판(14s)으로의 이동 궤도상(전달 경로상)에 제1 이동 탑재부(110)가 존재하고 있었던 경우, 당해 제1 이동 탑재부(110)는 반송로 R1을 따라서 Y 방향으로 이동하여, 미처리 카세트 C1의 반입에 지장이 없도록 퇴피한다.
한편, 예를 들어 카세트 적재판(14s)에 빔이 없는 경우, 즉 카세트 적재판(14s) 상에 이미 다른 미처리 카세트 C1이 적재되어 있는 경우, 미처리 카세트 C1은 카세트 보유 지지부(130)에 일시적으로 스톡되게 된다. 이러한 때, 먼저 OHT로부터 제1 이동 탑재부(110)의 암(112)에 대하여 미처리 카세트 C1이 전달되고(도 8, 도 9의 스텝 S3), 계속해서 제1 이동 탑재부(110)는, 제2 이동 탑재부(120)에 대하여 당해 미처리 카세트 C1을 전달한다. 그 후 당해 미처리 카세트 C1을 수취한 제2 이동 탑재부(120)는, FEX(100)에 있어서의 카세트 보유 지지부(130)의 카세트 보유 지지대(131)에 미처리 카세트 C1을 적재한다(도 8, 도 9의 스텝 S4).
그 후, 카세트 적재판(14s) 상의 다른 미처리 카세트 C1이 이동하여, 카세트 적재판(14s)에 빔이 발생하면, 카세트 적재판(14s)측으로부터 카세트 보유 지지부(130) 및 제2 이동 탑재부(120)에 대하여 미처리 카세트 C1의 반송 요구가 발해진다. 미처리 카세트 C1의 반송 요구를 받은 제2 이동 탑재부(120)는, 카세트 보유 지지대(131) 상에 일시적으로 보유 지지되어 있는 미처리 카세트 C1을 픽업하여, 제1 이동 탑재부(110)에 전달한다(도 8, 도 9의 스텝 S5). 그리고, 제1 이동 탑재부(110)에 전달된 미처리 카세트 C1은, 제1 이동 탑재부(110)에 의해 반입출 블록(11)의 카세트 적재판(14s) 상으로 반송된다(도 8, 도 9의 스텝 S6). 그 후, 반송 블록(12)의 웨이퍼 반송 장치(15)에 의해, 미처리 카세트 C1로부터 미처리 웨이퍼 W가 취출되고, 웨이퍼 처리 장치(1) 내부의 처리 스테이션(20)에 대하여 반송된다(도 8의 스텝 S7).
도 10 및 도 11은, 각각 상기 스텝 S7에 의해 비어 있는 빈 카세트 C2의 반송에 관한 흐름을 나타낸 흐름도, 및 빈 카세트 C2의 반송에 있어서의 주된 동작을 모식적으로 도시한 웨이퍼 처리 장치(1)의 사시도이다.
웨이퍼 W의 반송 블록(12)으로의 불출에 의해 비어 있는 빈 카세트 C2는, 당해 빈 카세트 C2가 수납하고 있던 복수의 웨이퍼 W의 처리가 종료될 때까지의 동안, 카세트 보유 지지부(130)에 있어서 대기하게 된다. 즉 우선, 스텝 S7에 의해 비어 있는 빈 카세트 C2는, 제1 이동 탑재부(110)에 의해 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부까지 상승한다(도 10의 스텝 S11). 그 후, 빈 카세트 C2는, 제2 이동 탑재부(120)를 통해 카세트 보유 지지부(130)의 카세트 보유 지지대(131)에 적재된다(도 10의 스텝 S12).
이와 같이, FEX(100)는 웨이퍼 처리 장치(1)에 웨이퍼 W를 반입한 후의 빈 카세트 C2를 카세트 보유 지지부(130)에 있어서 일시적으로 스톡할 수 있다. 이에 의해, 상술한 바와 같이 예를 들어 150매의 처리 능력을 갖는 웨이퍼 처리 장치(1)에 대하여 효율적으로 웨이퍼 W의 반송을 행할 수 있다. 즉, 반입출 스테이션(10)에는 예를 들어 25매의 웨이퍼 W를 수납하는 카세트 C를 적재하는 카세트 적재판(14)이 4개밖에 없기 때문에, 그 상태 그대로는 합계 100매의 웨이퍼 W밖에 웨이퍼 처리 장치(1)에 반입할 수 없다. 그러나, 빈 카세트 C2를 카세트 보유 지지부(130)에 스톡함으로써 새로운 미처리 카세트 C1을 카세트 적재판(14s)에 적재하여 웨이퍼 W를 웨이퍼 처리 장치(1)에 순차적으로 반입할 수 있기 때문에, 웨이퍼 처리 장치(1)의 처리 능력을 적절하게 또한 최대한으로 발휘시킬 수 있다.
빈 카세트 C2가 수납하고 있던 복수의 웨이퍼 W의 처리가 종료되면, 카세트 적재판(14r)측으로부터 카세트 보유 지지부(130) 및 제2 이동 탑재부(120)에 대하여 빈 카세트 C2의 반송 요구가 발해진다. 빈 카세트 C2의 반송 요구를 받은 제2 이동 탑재부(120)는, 카세트 보유 지지대(131) 상에 일시적으로 보유 지지되어 있는 빈 카세트 C2를 픽업하여 제1 이동 탑재부(110)에 전달한다(도 10의 스텝 S13). 또한, 이때 반송되는 빈 카세트 C2는, 처리가 종료된 복수의 웨이퍼 W를 원래 수납하고 있던 미처리 카세트 C1과 동일한 것이며, 웨이퍼 W에 할당된 ID와, 카세트 C에 할당된 ID의 조합이 변동되는 일이 없도록 제어된다. 그리고, 제1 이동 탑재부(110)에 적재된 빈 카세트 C2는, 제1 이동 탑재부(110)에 의해 카세트 적재대(13)의 Receiver 영역에 있어서의 카세트 적재판(14r) 상에 전달된다(도 10의 스텝 S14). 그 후, 웨이퍼 처리 장치(1)의 내부로부터 반송 블록(12)을 거쳐 당해 빈 카세트 C2에 대하여, 처리 완료 웨이퍼 W가 반환된다(도 10의 스텝 S15).
또한, 상기 스텝 S14에 있어서의 제1 이동 탑재부(110)에 의한 카세트 적재판(14r)으로의 빈 카세트 C2의 반송은, 상기 카세트 적재판(14s)측에 위치하는 카세트 적재판(14r)에 대하여 우선적으로 행해진다. 구체적으로는, 빈 카세트 C2를 반송하는 제1 이동 탑재부(110)는, 상기 Receiver 영역 중, 상기 중복 영역 T에 위치하는 카세트 적재판(14r)에 대하여 우선적으로 빈 카세트 C2를 반송한다.
도 12 및 도 13은, 각각 상기 스텝 S15에 의해 처리 완료 웨이퍼 W가 반환된 처리 완료 카세트 C3의 반출에 관한 흐름을 나타낸 흐름도, 및 해당 처리 완료 카세트 C3의 반송에 있어서의 주된 동작을 모식적으로 도시한 웨이퍼 처리 장치(1)의 사시도이다.
스텝 S15에 의해 처리 완료 웨이퍼 W가 반환된 처리 완료 카세트 C3은, OHT의 가동 상태를 확인한다. OHT가 다른 카세트 C의 반송 동작을 행하고 있지 않고, 빈 상태(수취 가능 상태)인 경우, 당해 OHT가 처리 완료 카세트 C3을 적재하는 카세트 적재판(14r)에 대하여 직접적으로 액세스하여, 처리 완료 카세트 C3이 전달된다(도 12, 도 13의 스텝 S21). 이러한 때, 카세트 적재판(14r)으로부터 OHT로의 이동 궤도상(전달 경로상)에 제1 이동 탑재부(110)가 존재하고 있었던 경우, 당해 제1 이동 탑재부(110)는 반송로 R1을 따라서 Y 방향으로 이동하여, 처리 완료 카세트 C3의 반출에 지장이 없도록 퇴피한다.
한편, 예를 들어 OHT가 비어 있지 않은 경우(수취 가능한 상태가 아닌 경우), 즉 예를 들어 OHT가 다른 카세트 C의 반송 동작 중이었던 경우, 처리 완료 카세트 C3은 카세트 보유 지지부(130)에 일시적으로 스톡된다. 이러한 때, 먼저, 카세트 적재판(14r)으로부터 제1 이동 탑재부(110)의 암(112)에 대하여 처리 완료 카세트 C3이 전달되고(도 12, 도 13의 스텝 S22), 제2 이동 탑재부(120)를 통해 카세트 보유 지지부(130)의 카세트 보유 지지대(131)에 처리 완료 카세트 C3이 적재된다(도 12, 도 13의 스텝 S23).
이때, 상술한 바와 같이 상기 스텝 S14에 있어서 빈 카세트 C2가 중복 영역 T에 대하여 우선적으로 반송되기 때문에, 2대의 제1 이동 탑재부(110)의 양쪽이, 반출되는 상기 처리 완료 카세트 C3에 대하여 액세스할 수 있다. 이에 의해, 카세트 보유 지지부(130)에 대한 처리 완료 카세트 C3의 반출을 효율적으로 행할 수 있다.
그 후, OHT의 다른 카세트 C의 반송 동작이 종료되고, OHT에 빔이 발생하면(수취 가능한 상태가 되면), 카세트 보유 지지대(131) 상에 일시적으로 스톡된 처리 완료 카세트 C3은, 제2 이동 탑재부(120)를 통해 제1 이동 탑재부(110)에 전달된다(도 12, 도 13의 스텝 S24). 그리고, 제1 이동 탑재부(110)에 적재된 처리 완료 카세트 C3은 OHT에 전달된다(도 12, 도 13의 스텝 S25). 그리고, 스텝 S21 또는 스텝 S25에 있어서 OHT에 전달된 처리 완료 카세트 C3은, 웨이퍼 처리 장치(1)의 외부로 반출된다(도 12, 도 13의 스텝 S26). 이에 의해, 일련의 카세트 C의 반입출 동작이 종료된다.
상기 실시 형태에 따르면, 종래의 웨이퍼 처리 장치의 전방면에 마련되어 있던 FEX를 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부에 설치하였기 때문에, 웨이퍼 처리 장치(1)에 있어서의 FEX의 바닥 전유 면적을 저감, 구체적으로는 FEX 자체의 바닥 전유 면적을 없앨 수 있다.
또한 본 실시 형태에 있어서 FEX(100)는, 예를 들어 웨이퍼 처리 장치(1)가 마련되는 클린룸의 천장면에 매달리지 않고, 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부에 마련되기 때문에, 웨이퍼 처리 장치(1)의 외부 설비나 주변 환경에 좌우되지 않고, FEX(100)를 설치할 수 있다. 따라서 소위 레트로피트가 가능하다. 또한 마찬가지로, OHT가 반송하는 카세트 C의 반송 궤도에 대하여 FEX(100)가 간섭하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따르면, FEX(100)는 웨이퍼 처리 장치(1)의 최상부에 있어서 그냥 그대로 마련되어 있었지만, 예를 들어 웨이퍼 처리 장치(1)의 측벽면을 상방으로 연장함으로써 FEX(100)의 주위에 울타리가 설치되어 있어도 된다. 이러한 구성을 가짐으로써, 예를 들어 제1 이동 탑재부(110), 제2 이동 탑재부(120)나 카세트 보유 지지부(130) 등의 문제에 의해 카세트 C가 웨이퍼 처리 장치(1)의 상부로부터 낙하되어 버리는 것을 억제할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에 따르면, 카세트 적재판(14)의 카세트 적재 상황이나 OHT의 카세트 끼움 지지 상황으로부터, 직접적으로 카세트 적재판(14)과 OHT 사이에서 카세트 C의 전달을 행할 것인지, 일단 FEX(100)를 통해 카세트 C의 전달을 행할 것인지를 판단함으로써, 카세트 C의 반송 대기 시간을 없애거나, 최소한으로 억제할 수 있다. 이에 의해 웨이퍼 처리 장치(1)에 있어서의 스루풋을 향상시킬 수 있다. 이러한 판단은 제어 장치(200)에 있어서 행해진다.
상기 실시 형태에서는, 카세트 C의 이동 탑재 장치로서의, 제1 이동 탑재부(110) 및 제2 이동 탑재부(120)는 합계 4대 마련되어 있다. 종래의 FEX에 있어서는, 일반적으로 카세트 C를 반송하기 위한 이동 탑재 수단은 FEX 내에 1대밖에 마련되어 있지 않고, 또한 카세트 C가 반송되는 웨이퍼 처리 장치(1)의 카세트 적재판의 설치 영역에 따라, 당해 이동 탑재 수단을 구분지어 사용하는 것도 이루어져 있지 않았다. 이 점에서 본 실시 형태에 따르면, 복수의 이동 탑재 장치를 갖고 있으므로, 카세트 C의 반송 대기 시간을 없애거나, 최소한으로 억제할 수 있다. 특히, 예를 들어 상기 Sender측과 상기 Receiver측에 있어서 이동 탑재 장치의 역할을 분담함으로써, 적절하게 카세트 C의 반송을 행할 수 있어, 웨이퍼 처리 장치(1)에 있어서의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는 상술한 바와 같이 제1 이동 탑재부(110) 및 제2 이동 탑재부(120)는 각각 2대씩 마련되었지만, 이동 탑재 장치의 설치 대수는 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제1 이동 탑재부(110) 및 제2 이동 탑재부를 각각 3대 이상 마련해도 되고, 1대씩의 설치여도 된다. 또한, 제1 이동 탑재부(110) 및 제2 이동 탑재부(120)의 설치 대수는 각각 동일한 수가 아니어도 된다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는 제1 이동 탑재부(110) 및 제2 이동 탑재부(120)가, 각각 Sender측 및 Receiver측에 각각 1대씩 마련되어 있었다. 그러나, 제1 이동 탑재부(110) 및 제2 이동 탑재부(120)의 기능을 겸비한 이동 탑재 장치가 마련되어 있어도 된다. 즉, 상기 제1 이동 탑재부(110) 및 제2 이동 탑재부(120)를 별개로 하지 않고, 하나의 이동 탑재 장치(예를 들어 제1 이동 탑재부(110))에 의해 OHT, 카세트 적재판(14), 카세트 보유 지지부(130)와의 사이에서 카세트 C를 전달 가능하게 구성해도 된다. 이러한 때, 당해 이동 탑재 장치는 Sender측 및 Receiver측에 각각 1대씩, 합계 2대 마련되어 있는 것이 바람직하다.
또한 Sender측 및 Receiver측 영역에 대응하는 제1 이동 탑재부(110) 모두가 제2 이동 탑재부(120)를 경유하여 카세트 C를 전달할 수 있는 FEX(100)에 있어서의 중앙의 카세트 보유 지지부(130)에 카세트 C를 이동 탑재하는 경우, 제2 이동 탑재부(120)는, 당해 중앙의 카세트 보유 지지부(130)에는, 웨이퍼 W를 수납하고 있지 않은 빈 카세트 C를 우선적으로 이동 탑재하도록 해도 된다. 그와 같이 웨이퍼 W를 수납하고 있지 않은 빈 카세트 C를 중앙의 카세트 보유 지지부(130)에 우선적으로 이동 탑재함으로써 예를 들어 다음과 같은 효과가 얻어진다.
즉, 예를 들어 미처리의 웨이퍼 W를 수납한 카세트 C를 Sender측에, 처리 완료된 웨이퍼 W를 수납한 카세트 C를 Receiver측에 이동 탑재하도록 설정한 경우, 빈 카세트 C를 중앙의 카세트 보유 지지부(130)에 우선적으로 이동 탑재하도록 하면, 그것들 Sender측 영역, Receiver측을 최대한 점유하지 않을 수 있다. 따라서, 웨이퍼 W를 수용한 카세트 C의 출납 시의 동작을 최소한으로 할 수 있다. 또한 빈 카세트 C가 여러 케이스이며 Sender측 영역, Receiver측의 양쪽간에서 전달되는 점을 고려해도, 양쪽간에서 그것이 가능한 장소(즉 중앙의 카세트 보유 지지부(130))에 이동 탑재해 둔 쪽이, 범용성이 넓어지고 또한 이동 탑재의 수순 등의 자유도가 커진다.
어쨌든, 이동 탑재를 위한 거리를 최단으로 하기 위해, Sender측 영역에는 미처리 웨이퍼 W를 수납한 카세트 C를 이동 탑재하고, Receiver측 영역에는, 처리가 완료된 웨이퍼 W를 수납한 카세트 C를 이동 탑재하는 것을 원칙으로 한다.
그러나 불규칙한 케이스, 예를 들어 웨이퍼 처리 장치(1) 내에 있는 웨이퍼 W를 갑작스럽게 회수할 필요가 발생하였을 때는, 카세트 보유 지지부(130)의 어느 장소에도 빈 카세트 C를 적재할 수 있도록, OHT를 통해 빈 카세트 C를 Sender측 영역과 Receiver측의 양쪽간에서 전달할 수 있도록 하고 있으면 된다.
또한, 상기 실시 형태에 있어서의 카세트 보유 지지대(131)는, 각각의 카세트 보유 지지부(130)에 대하여 3개씩, 합계 9개 마련되어 있었지만, 카세트 보유 지지대(131)의 수도 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 처리 스테이션(20)에 FFU(21)가 마련되지 않는 경우, 처리 스테이션(20) 상부의 X 방향 정방향측으로 카세트 보유 지지부(130)를 연장해도 된다. 또한, 처리 스테이션(20)에 FFU(21)가 마련되어 있는 경우라도, 당해 FFU(21)보다도 연직 방향 상방으로 카세트 보유 지지부(130)를 마련함으로써, 카세트 보유 지지부(130)를 연장해도 된다.
또한, 상기 실시 형태에 따르면 카세트 보유 지지부(130)는, 반송로 R2를 사이에 두고 Y 방향으로 배열되어 3개 배치되었지만, 모든 카세트 보유 지지부(130)에 대하여 카세트 C를 적절하게 반송, 전달할 수 있는 구성이면, 카세트 보유 지지부(130)의 수는 이것에 한정되지 않는다.
또한, 본 실시 형태에 따르면, 제1 이동 탑재부(110)에 적재된 카세트 C는, 제1 이동 탑재부(110)에 마련된 승강 기구(114)가 갖는 권취 부재(115)의 감아 올림, 감아 내림에 의해 카세트 적재판(14)과의 사이에서 승강하도록 하였다. 그러나, 승강 기구(114)의 구성은 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 권취 부재(115)를 본체부(111)와는 독립적으로 마련된 승강부(도시하지 않음)의 내부에 마련하고, 당해 승강부를 카세트 적재판(14)의 상방으로 돌출되도록 구성해도 된다.
또한 승강 기구(114)는, 예를 들어 실린더나 액추에이터를 이용하여 승강 동작을 행하도록 구성되어 있어도 된다.
또한, 승강 기구(114)는, 본체부(111)로부터 돌출되어 마련되는 암(112)의 상면에 카세트 C를 보유 지지하여 승강 동작을 행하는 것이 아니라, 도 2의 OTH에 나타낸 구성과 같이, 카세트 C를 양측으로부터 끼움 지지하여 승강 동작을 행하도록 구성되어 있어도 된다.
또한, 제1 이동 탑재부(110)의 암(112)은, 예를 들어 수평 방향, 특히 도 1의 X 방향에 대하여 신축 가능하게 구성되어 있어도 된다. 이와 같이, 암(112)이 X 방향에 대하여 신축 가능하게 구성됨으로써, 예를 들어 어떠한 요인에 의해 클린룸에 고정 설치되는 반송로 R0과 카세트 적재판(14)의 간격, 위치 관계가 변화된 경우라도, 적절하게 OHT와의 사이에서 카세트를 전달할 수 있다. 또한, 반송로 R0과 카세트 적재판(14)의 간격이 Y 방향으로 변화된 경우에 있어서는, 암(112)을 반송로 R1을 따라서 Y으로 방향 이동시킴으로써, 적절하게 카세트를 전달할 수 있다.
<제1 이동 탑재부의 변형예>
다음에, 제1 이동 탑재부(110)의 변형예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 14는 제1 이동 탑재부(110)의 변형예로서의 제1 이동 탑재부(210)의 구성의 개략을 모식적으로 도시한 사시도이다.
도 14에 도시한 바와 같이, 제1 이동 탑재부(210)는, 대향하는 내면측에 반송로 R3을 갖는 2개의 지주(211)와, 반송로 R3을 따라서 승강 가능하게 구성된 빔(212)을 갖는 문형 형상으로 구성되어 있다. 빔(212)에는, 당해 빔의 측면에 형성된 반송로 R4를 따라서 이동 가능하게 구성된 암(213)이 암 지지부(214)를 통해 마련되어 있다. 이러한 구성에 의해 제1 이동 탑재부(210)는, 암(213) 상에 적재된 카세트 C를, 반송로 R3 및 반송로 R4를 따라서 수평 방향 및 연직 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있어, 임의의 카세트 적재판(14)에 대하여 카세트 C를 전달 가능하게 되어 있다.
또한 암(213)은, 당해 암(213)의 하면이 빔(212)의 상면보다도 상방이 되도록 구성되어 있다. 암(213)은, 회전 기구(도시하지 않음) 및 신축 기구(도시하지 않음)를 갖고 있고, 도 15에 도시한 바와 같이, 연직축 주위로 회전 가능하게, 및 수평 방향으로 신축 가능하게 구성되어 있다. 이러한 구성을 가짐으로써, 암(213)은, 암(213) 상에 적재된 카세트 C를 상기 제2 이동 탑재부(120) 및 근처에 있는 카세트 보유 지지대(131)와의 사이에서 적절하게 전달할 수 있다. 또한 이러한 구성의 제1 이동 탑재부(210)는, 예를 들어 웨이퍼 처리 장치(1)에 있어서의 반입출 스테이션(10)의 양측에 설치된다.
금회 개시된 실시 형태는 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 상기 실시 형태는, 첨부의 청구범위 및 그 주지를 일탈하지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 된다.
예를 들어, 본 개시에 관한 FEX(보관부)는, 직접적으로 웨이퍼 처리 장치의 천장부 상면에 마련되는 것이 아니어도 된다. 예를 들어, 천장부 상면에 지지 부재를 통해 패널재를 마련하고, 당해 패널재의 상면에, 제1 이동 탑재부, 제2 이동 탑재부, 카세트 보유 지지부 및 반송로 등을 설치하여 구성되어 있어도 된다. 이 경우에는, 당해 패널재의 상면이 최상부가 된다. 이러한 구성을 가짐으로써, 기존의 웨이퍼 처리 장치의 상부에 당해 패널재를 설치함으로써, 기존의 웨이퍼 처리 장치에 대하여 본 개시에 관한 기술을 용이하게 적용할 수 있다.
또한, 본 개시에 관한 FEX(보관부)에 의하면, 카세트를 웨이퍼 처리 장치의 최상부와 카세트 적재대 사이에서 승강시키는 승강 기구가 제1 이동 탑재부에 마련되어 있기 때문에, 기존의 웨이퍼 처리 장치에 대하여 당해 FEX를 도입할 수 있다.
또한, 이하와 같은 구성도 본 개시의 기술적 범위에 속한다.
기판을 처리하는 기판 처리 장치는, 상기 기판 처리 장치의 최상부에 마련되며, 기판을 수납하는 기판 수납 용기가 적재되는 보관부와, 상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 기판 수납 용기를 적재하여 기판을 기판 처리 장치의 처리부와의 사이에서 반입출하는 반입출부와, 상기 보관부의 사이에서, 직접 또는 간접적으로 상기 기판 수납 용기를 전달하는 제1 이동 탑재 장치를 갖고, 상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 기판 처리 장치의 상방을 이동하는 천장 주행차와의 사이에서 상기 기판 수납 용기가 전달 가능하다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 제1 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 제1 제어 장치를 갖고, 상기 제1 제어 장치는, 상기 천장 주행차가 상기 기판 수납 용기를 상기 반입출부에 대하여 전달 경로를 따라 직접 전달하는 것이 가능한 경우에는, 당해 전달에 지장이 없도록 상기 제1 이동 탑재 장치를 상기 전달 경로로부터 퇴피시키도록 상기 제1 이동 탑재 장치의 동작을 제어한다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 반입출부는, 반입 전용부와 반출 전용부를 갖고, 상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 복수 마련되어 있다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 제1 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 제1 제어 장치를 갖고, 상기 제1 제어 장치는, 상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 마련된 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치의 각각의 동작을 독립적으로 제어하도록 구성되어 있다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 보관부와 상기 제1 이동 탑재 장치 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 전달 가능한 제2 이동 탑재 장치를 갖는다.
상기한 제2 이동 탑재 장치는 복수 마련되어 있어도 된다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 제2 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 제2 제어 장치를 갖고, 상기 제2 제어 장치는, 상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 마련된 상기 제1 이동 탑재 장치의 복수의 제1 이동 탑재 장치의 모두가 상기 제2 이동 탑재 장치를 통해 기판 수납 용기를 전달하는 것이 가능한 상기 보관부에 있어서의 영역에, 기판을 수용하고 있지 않은 빈 기판 수납 용기를 이동 탑재하도록 상기 제2 이동 탑재 장치의 동작을 제어한다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 제1 이동 탑재 장치는, 수평 방향으로 이동 가능하다. 여기서 수평 방향이란, X 방향, Y 방향 중 어느 것이어도 된다. 또한 X 방향, Y 방향의 양쪽으로 이동 가능해도 된다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 따르면, 기판을 처리하는 기판 처리 장치를 사용한 기판 처리 방법으로서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 기판 처리 장치의 최상부에 마련되며, 기판을 수납하는 기판 수납 용기가 적재되는 보관부와, 상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 기판 수납 용기를 적재하여 기판을 기판 처리 장치의 처리부와의 사이에서 반입출하는 반입출부와, 상기 보관부의 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 전달하는 제1 이동 탑재 장치와, 상기 보관부와 상기 제1 이동 탑재 장치 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 전달 가능한 제2 이동 탑재 장치를 갖고, 상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 기판 처리 장치의 상방을 이동하는 천장 주행차와의 사이에서 상기 기판 수납 용기가 전달 가능하도록 구성되고, 상기 천장 주행차가 상기 기판 수납 용기를 상기 반입출부에 대하여 전달 경로를 따라 직접 전달하는 것이 가능한 경우에는, 당해 전달에 지장이 없도록 상기 제1 이동 탑재 장치는 당해 전달 경로로부터 퇴피한다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 기판 처리 장치에 있어서는, 상기 제1 이동 탑재 장치 및 상기 제2 이동 탑재 장치는 각각 복수 구비되고, 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치 중의 하나와 그에 대응하는 상기 복수의 제2 이동 탑재 장치 중의 하나에 의해 상기 기판 수납 용기를 전달한다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 기판 처리 장치에 있어서의 상기 반입출부는, 반입 전용부와 반출 전용부를 갖고, 또한 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치는, 상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 복수 마련되고, 상기 기판 수납 용기는, 미처리 기판이 수납된 미처리 기판 수납 용기, 처리 완료 기판을 수납한 처리 완료 기판 수납 용기 또는 상기 기판을 수납하지 않는 빈 기판 수납 용기이고, 상기 반입 전용부에는 상기 미처리 기판 수납 용기가 적재되고, 상기 반출 전용부에는, 상기 처리 완료 기판 수납 용기 또는 상기 빈 기판 수납 용기가 적재되고, 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치는, 상기 반입 전용부에 적재된 상기 미처리 기판 수납 용기, 상기 반출 전용부에 적재된 상기 처리 완료 기판 수납 용기 또는 상기 빈 기판 수납 용기를 전달한다.
또한, 본 개시의 실시 형태에 있어서, 상기 보관부에 있어서의 상기 반입 전용부와 상기 반출 전용부에 대응하여 마련된 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치 모두가 상기 기판 수납 용기를 전달하는 것이 가능한 상기 보관부에 있어서의 영역에, 상기 기판을 수용하고 있지 않은 상기 빈 기판 수납 용기를 상기 제2 이동 탑재 장치가 이동 탑재한다.
Claims (12)
- 기판을 처리하는 기판 처리 장치이며,
상기 기판 처리 장치의 최상부에 마련되며, 기판을 수납하는 기판 수납 용기가 적재되는 보관부와,
상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 기판 수납 용기를 적재하여 기판을 기판 처리 장치의 처리부와의 사이에서 반입출하는 반입출부와, 상기 보관부의 사이에서, 직접 또는 간접적으로 상기 기판 수납 용기를 전달하는 제1 이동 탑재 장치를 포함하고,
상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 기판 처리 장치의 상방을 이동하는 천장 주행차와의 사이에서 상기 기판 수납 용기가 전달 가능한 기판 처리 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 제1 제어 장치를 포함하고,
상기 제1 제어 장치는, 상기 천장 주행차가 상기 기판 수납 용기를 상기 반입출부에 대하여 전달 경로를 따라 직접 전달하는 것이 가능한 경우에는, 당해 전달에 지장이 없도록 상기 제1 이동 탑재 장치를 상기 전달 경로로부터 퇴피시키도록 상기 제1 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 기판 처리 장치. - 제1항에 있어서,
상기 반입출부는, 반입 전용부와 반출 전용부를 포함하고,
상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 복수 마련되어 있는 기판 처리 장치. - 제3항에 있어서,
상기 제1 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 제1 제어 장치를 포함하고,
상기 제1 제어 장치는, 상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 마련된 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치의 각각의 동작을 독립적으로 제어하도록 구성되어 있는 기판 처리 장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 보관부와 상기 제1 이동 탑재 장치 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 전달 가능한 제2 이동 탑재 장치를 포함하는 기판 처리 장치. - 제5항에 있어서,
상기 제2 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 제2 제어 장치를 포함하고,
상기 제2 제어 장치는,
상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 마련된 상기 제1 이동 탑재 장치의 복수의 제1 이동 탑재 장치의 모두가 상기 제2 이동 탑재 장치를 통해 기판 수납 용기를 전달하는 것이 가능한 상기 보관부에 있어서의 영역에, 기판을 수용하고 있지 않은 빈 기판 수납 용기를 이동 탑재하도록 상기 제2 이동 탑재 장치의 동작을 제어하는 기판 처리 장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 이동 탑재 장치는, 수평 방향으로 이동 가능한 기판 처리 장치. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판 수납 용기는, 복수 마련되고,
상기 보관부는, 상면에서 보아 상기 반입출부로부터 상기 처리부측을 향하는 방향으로 상기 복수의 기판 수납 용기를 배열하여 적재 가능하게 마련되어 있는 기판 처리 장치 - 기판을 처리하는 기판 처리 장치를 사용한 기판 처리 방법이며,
상기 기판 처리 장치는,
상기 기판 처리 장치의 최상부에 마련되며, 기판을 수납하는 기판 수납 용기가 적재되는 보관부와,
상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 기판 수납 용기를 적재하여 기판을 기판 처리 장치의 처리부와의 사이에서 반입출하는 반입출부와, 상기 보관부의 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 전달하는 제1 이동 탑재 장치와,
상기 보관부와 상기 제1 이동 탑재 장치 사이에서, 상기 기판 수납 용기를 전달 가능한 제2 이동 탑재 장치를 포함하고,
상기 제1 이동 탑재 장치는, 상기 기판 처리 장치의 상방을 이동하는 천장 주행차와의 사이에서 상기 기판 수납 용기가 전달 가능하도록 구성되고,
상기 천장 주행차가 상기 기판 수납 용기를 상기 반입출부에 대하여 전달 경로를 따라 직접 전달하는 것이 가능한 경우에는, 당해 전달에 지장이 없도록 상기 제1 이동 탑재 장치는 당해 전달 경로로부터 퇴피하는 기판 처리 방법. - 제9항에 있어서,
상기 기판 처리 장치에 있어서는, 상기 제1 이동 탑재 장치 및 상기 제2 이동 탑재 장치는 각각 복수 포함되고, 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치 중의 하나와 그에 대응하는 상기 복수의 제2 이동 탑재 장치 중의 하나에 의해 상기 기판 수납 용기를 전달하는 기판 처리 방법. - 제10항에 있어서,
상기 기판 처리 장치에 있어서 상기 반입출부는, 반입 전용부와 반출 전용부를 포함하고,
또한 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치는, 상기 반입 전용부와 반출 전용부에 대응하여 마련되고,
상기 기판 수납 용기는, 미처리 기판이 수납된 미처리 기판 수납 용기, 처리 완료 기판이 수납된 처리 완료 기판 수납 용기, 또는 상기 기판을 수납하지 않은 빈 기판 수납 용기이고,
상기 반입 전용부에는 상기 미처리 기판 수납 용기가 적재되고,
상기 반출 전용부에는, 상기 처리 완료 기판 수납 용기 또는 상기 빈 기판 수납 용기가 적재되고,
상기 복수의 제1 이동 탑재 장치는, 상기 반입 전용부에 적재된 상기 미처리 기판 수납 용기와, 상기 반출 전용부에 적재된 상기 처리 완료 기판 수납 용기 또는 상기 빈 기판 수납 용기를 전달하는 기판 처리 방법. - 제11항에 있어서,
상기 보관부에 있어서의 상기 반입 전용부와 상기 반출 전용부에 대응하여 마련된 상기 복수의 제1 이동 탑재 장치의 모두가 상기 기판 수납 용기를 전달하는 것이 가능한 상기 보관부에 있어서의 영역에, 상기 기판을 수용하고 있지 않은 상기 빈 기판 수납 용기를 상기 제2 이동 탑재 장치가 이동 탑재하는 기판 처리 방법.
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009010287A (ja) | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理システム |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008263004A (ja) * | 2007-04-11 | 2008-10-30 | Rorze Corp | コンテナの受渡、留置、並びに供給装置。 |
JP4887332B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2012-02-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理装置 |
KR101077566B1 (ko) * | 2008-08-20 | 2011-10-28 | 세메스 주식회사 | 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법 |
JP2010184760A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Muratec Automation Co Ltd | 移載システム |
EP2433299B1 (en) * | 2009-05-18 | 2022-10-26 | Brooks Automation US, LLC | Substrate container storage system |
US8881297B2 (en) * | 2012-09-06 | 2014-11-04 | Brooks Automation, Inc. | Access arbitration module and system for semiconductor fabrication equipment and methods for using and operating the same |
JP6727048B2 (ja) * | 2016-07-12 | 2020-07-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置および接合システム |
-
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009010287A (ja) | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理システム |
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