KR20200011018A

KR20200011018A - Optical apparatus, projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Info

Publication number: KR20200011018A
Application number: KR1020190084912A
Authority: KR
Inventors: 유고 시바타; 스나오 엔도; 나오토 후세
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2018-07-23
Filing date: 2019-07-15
Publication date: 2020-01-31
Also published as: CN110750034B; JP7075302B2; KR102500506B1; CN110750034A; JP2020016708A

Abstract

Provided is a technology advantageous in the aspect of vibration of a corresponding optical element when an adjustment mechanism which adjusts the position of the optical element is provided. In an optical apparatus provided with the adjustment mechanism for adjusting the position of the optical element, the adjustment mechanism comprises: a first guide unit for guiding movement of the optical element in a first direction in a plane perpendicular to an optical axis of the optical element; a second guide unit for guiding movement of the optical element in a second direction different from the first direction in the plane; and a third guide unit for guiding movement of the optical element in a third direction crossing the plane and the optical axis.

Description

광학 장치, 투영 광학계, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 {OPTICAL APPARATUS, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}OPTICAL APPARATUS, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}

본 발명은, 광학 소자의 위치를 조정하는 조정 기구를 구비한 광학 장치, 투영 광학계, 노광 장치 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the optical device provided with the adjustment mechanism which adjusts the position of an optical element, a projection optical system, an exposure apparatus, and the manufacturing method of an article.

액정 패널 등의 표시 소자나 반도체 디바이스 등의 제조 공정(리소그래피 공정)에서 사용되는 장치의 하나로서, 마스크의 패턴을 기판 상에 투영하여 해당 기판을 노광하는 노광 장치가 있다. 특허문헌 1에는, 볼록 거울이나 오목 거울 등의 복수의 광학 소자를 사용하여 마스크의 패턴상을 기판 상에 투영하는 투영 광학계를 갖는, 소위 반사 미러형(미러 프로젝션형) 노광 장치가 개시되어 있다.As an apparatus used in manufacturing processes (lithography process), such as a display element, such as a liquid crystal panel, and a semiconductor device, there exists an exposure apparatus which exposes the board | substrate by projecting the pattern of a mask on a board | substrate. Patent Document 1 discloses a so-called reflection mirror type (mirror projection type) exposure apparatus having a projection optical system that projects a pattern image of a mask onto a substrate using a plurality of optical elements such as a convex mirror or a concave mirror.

일본 특허 공개 제2016-109741호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2016-109741

투영 광학계에서는, 비점 수차 등의 결상 성능을 조정하기 위해, 광학 소자(예를 들어 볼록 거울)의 위치를 조정하는 조정 기구가 마련되는 것이 바람직하다. 그러나, 조정 기구를 마련함으로써, 외란의 영향을 받았을 때의 광학 소자의 진동이 커져 버리면, 마스크의 패턴상을 기판 상에 고정밀도로 투영하기가 곤란해질 수 있다.In the projection optical system, it is preferable to provide an adjustment mechanism for adjusting the position of the optical element (for example, a convex mirror) in order to adjust the imaging performance such as astigmatism. However, by providing the adjustment mechanism, if the vibration of the optical element under the influence of disturbance becomes large, it may be difficult to accurately project the pattern image of the mask onto the substrate.

그래서, 본 발명은 광학 소자의 위치를 조정하는 조정 기구를 마련하였을 때의 해당 광학 소자의 진동의 점에서 유리한 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, an object of the present invention is to provide an advantageous technique in terms of vibration of the optical element when the adjustment mechanism for adjusting the position of the optical element is provided.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 측면으로서의 광학 장치는, 광학 소자의 위치를 조정하는 조정 기구를 구비한 광학 장치이며, 상기 조정 기구는, 상기 광학 소자의 광축에 수직인 면 내에 있어서의 제1 방향으로, 상기 광학 소자의 이동을 안내하는 제1 안내부와, 상기 면 내에 있어서 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로, 상기 광학 소자의 이동을 안내하는 제2 안내부와, 상기 면 및 상기 광축과 교차하는 제3 방향으로, 상기 광학 소자의 이동을 안내하는 제3 안내부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the said objective, the optical apparatus as one side of this invention is an optical apparatus provided with the adjustment mechanism which adjusts the position of an optical element, The said adjustment mechanism is in surface perpendicular | vertical to the optical axis of the said optical element. A first guide portion for guiding movement of the optical element in a first direction, a second guide portion for guiding movement of the optical element in a second direction different from the first direction in the surface, and the surface And a third guide part for guiding movement of the optical element in a third direction crossing the optical axis.

본 발명의 추가적인 목적 또는 그 밖의 측면은, 이하, 첨부 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시 형태에 의해 밝혀질 것이다.Further objects or other aspects of the present invention will be apparent from the preferred embodiments described below with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따르면, 예를 들어 광학 소자의 위치를 조정하는 조정 기구를 마련하였을 때의 해당 광학 소자의 진동의 점에서 유리한 기술을 제공할 수 있다.According to the present invention, an advantageous technique can be provided in terms of vibration of the optical element, for example, when an adjustment mechanism for adjusting the position of the optical element is provided.

도 1은, 노광 장치의 개략도이다.
도 2는, 조정 기구의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 3은, 조정 기구의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 4는, 제3 조정부(제3 안내부)를 도시하는 도면이다.
도 5는, 볼록 거울의 위치를 조정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은, 종래의 조정 기구와 본 실시 형태의 조정 기구의 비교를 도시하는 도면이다.1 is a schematic view of an exposure apparatus.
2 is a diagram illustrating a configuration example of an adjustment mechanism.
3 is a diagram illustrating a configuration example of an adjustment mechanism.
4 is a diagram illustrating a third adjustment unit (third guide unit).
5 is a diagram for explaining a method of adjusting the position of the convex mirror.
It is a figure which shows the comparison of the conventional adjustment mechanism and the adjustment mechanism of this embodiment.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서, 동일한 부재 내지 요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 부여하고, 중복되는 설명은 생략한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described with reference to an accompanying drawing. In addition, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected about the same member or element, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

<제1 실시 형태><1st embodiment>

본 발명에 관한 제1 실시 형태에 대하여 설명한다. 도 1은, 본 실시 형태에 있어서의, 투영 광학계(PL)를 포함하는 노광 장치(10)의 개략도이다. 본 실시 형태의 노광 장치(10)는, 마스크(M)와 기판(S)(예를 들어 유리 기판)을 Y 방향으로 상대적으로 이동시키면서, 마스크(M)에 형성된 패턴의 상을, 포토레지스트가 도포된 기판(S)에 투영하여, 기판(S)을 노광한다. 노광 장치(10)는, 마스크(M)를 조명하는 조명 광학계(IL)와, 마스크(M)의 패턴을 기판 상에 투영하는 투영 광학계(PL)와, 제어부(CNT)를 갖는다. 제어부(CNT)는, 예를 들어 CPU나 메모리 등을 포함하는 컴퓨터에 의해 구성되며, 노광 장치(10)의 각 부를 제어한다.A first embodiment according to the present invention will be described. 1 is a schematic view of an exposure apparatus 10 including a projection optical system PL in the present embodiment. In the exposure apparatus 10 of the present embodiment, a photoresist is used to move an image of a pattern formed on the mask M while moving the mask M and the substrate S (for example, a glass substrate) in the Y direction. It projects on the apply | coated board | substrate S, and exposes the board | substrate S. The exposure apparatus 10 has the illumination optical system IL which illuminates the mask M, the projection optical system PL which projects the pattern of the mask M on a board | substrate, and the control part CNT. The control part CNT is comprised by the computer containing a CPU, a memory, etc., for example, and controls each part of the exposure apparatus 10. FIG.

투영 광학계(PL)는, 마스크(M)로부터의 광을 반사하는 복수의 광학 소자에 의해 구성될 수 있다. 구체적으로는, 투영 광학계(PL)는, 제1 반사면(11a) 및 제2 반사면(11b)을 갖는 다면 광학 부재(11)와, 제1 오목 반사면(12a) 및 제2 오목 반사면(12b)을 갖는 오목 거울(12)과, 반사면(13a)을 갖는 볼록 거울(13)을 포함할 수 있다. 다면 광학 부재(11), 오목 거울(12) 및 볼록 거울(13)은, 마스크(M)(물체면)의 패턴을 기판(S)(상(像)면) 상에 결상하는 결상 광학계를 구성한다. 오목 거울(12) 및 볼록 거울(13)의 광축(14)은 공통이며, 도 1에서는 일점쇄선에 의해 도시되어 있다. 또한, 투영 광학계(PL)는, 이들 광학 소자를 수납하는 경통(15)을 갖는다.Projection optical system PL may be comprised by the some optical element which reflects the light from the mask M. FIG. Specifically, the projection optical system PL has a multi-faceted optical member 11 having a first reflective surface 11a and a second reflective surface 11b, a first concave reflective surface 12a and a second concave reflective surface. A concave mirror 12 having a 12b and a convex mirror 13 having a reflective surface 13a may be included. The multifaceted optical member 11, the concave mirror 12, and the convex mirror 13 constitute an imaging optical system for forming a pattern of the mask M (object surface) onto the substrate S (image surface). do. The optical axis 14 of the concave mirror 12 and the convex mirror 13 is common, and is shown by the dashed-dotted line in FIG. Moreover, the projection optical system PL has the barrel 15 which accommodates these optical elements.

여기서, 본 실시 형태에서는, 연직 방향(예를 들어 기판(S)의 면과 수직인 방향)을 Z 방향이라고 하고, 수평면 내(예를 들어 기판(S)의 면과 평행인 면 내)에 있어서 서로 직행하는 2개의 방향을 X 방향, Y 방향이라고 한다. 또한, 본 실시 형태의 Y 방향은, 볼록 거울(13)(오목 거울(12))의 광축(14)과 평행인 방향(광축 방향)인 것으로서 정의된다.Here, in this embodiment, a vertical direction (for example, the direction perpendicular | vertical to the surface of the board | substrate S) is called Z direction, and is in a horizontal plane (for example, in surface parallel to the surface of the board | substrate S). The two directions which run parallel to each other are referred to as the X direction and the Y direction. In addition, the Y direction of this embodiment is defined as being a direction (optical axis direction) parallel to the optical axis 14 of the convex mirror 13 (concave mirror 12).

다면 광학 부재(11)는, 예를 들어 YZ 단면이 삼각 형상 또는 사다리꼴 형상의 부재이며, 제1 반사면(11a), 제2 반사면(11b) 및 이면(11c)을 포함하는 복수의 평면으로 구성된다. 다면 광학 부재(11)의 제1 반사면(11a), 제2 반사면(11b)에는 반사막이 형성되고, 입사광을 반사시켜, 광로를 절곡시키는 기능을 갖는다. 또한, 본 실시 형태의 다면 광학 부재(11)에는, 볼록 거울(13)을 지지하는 지지 부재(16)가 관통하는 관통 구멍(11d)이 마련되어 있다.The multi-faceted optical member 11 is a member having a triangular or trapezoidal shape having a YZ cross section, for example, in a plurality of planes including a first reflective surface 11a, a second reflective surface 11b, and a rear surface 11c. It is composed. A reflecting film is formed on the first reflecting surface 11a and the second reflecting surface 11b of the multifaceted optical member 11, and reflects incident light, and has a function of bending an optical path. Moreover, the multi-hole optical member 11 of this embodiment is provided with 11 d of through-holes through which the support member 16 which supports the convex mirror 13 penetrates.

조명 광학계(IL)로부터 -Z 방향으로 사출된 광은, 마스크(M)를 투과하고, 마스크(M)의 하방에 배치된 다면 광학 부재(11)의 제1 반사면(11a)에서 +Y 방향으로 절곡된다. 다면 광학 부재(11)의 제1 반사면(11a)에서 절곡된 광은, 제1 오목 반사면(12a), 볼록 거울(13)의 반사면(13a), 제2 오목 반사면(12b), 제2 반사면(11b)의 순으로 반사되어, 기판(S)에 입사된다. 즉, 투영 광학계(PL)에서는, 물체면으로부터의 광이, 제1 반사면(11a), 제1 오목 반사면(12a), 반사면(13a), 제2 오목 반사면(12b), 제2 반사면(11a)의 순으로 반사되도록, 다면 광학 부재(11), 오목 거울(12) 및 볼록 거울(13)이 구성될 수 있다.The light emitted from the illumination optical system IL in the -Z direction passes through the mask M, and is disposed below the mask M, and in the + Y direction on the first reflective surface 11a of the optical member 11. Is bent. The light bent at the first reflective surface 11a of the multi-faceted optical member 11 includes the first concave reflective surface 12a, the reflective surface 13a of the convex mirror 13, the second concave reflective surface 12b, It is reflected in the order of the 2nd reflective surface 11b, and is incident on the board | substrate S. FIG. That is, in the projection optical system PL, light from an object plane is the 1st reflecting surface 11a, the 1st concave reflecting surface 12a, the reflecting surface 13a, the 2nd concave reflecting surface 12b, and the 2nd. The multifaceted optical member 11, the concave mirror 12 and the convex mirror 13 can be configured to reflect in the order of the reflecting surface 11a.

볼록 거울(13)은, 지지 부재(16)에 의해 지지될 수 있다. 지지 부재(16)는, 볼록 거울(13)의 광축(14)의 방향(Y 방향)을 따라 연신된 부재이며, 한쪽의 단부는, 투영 광학계(PL)의 경통(15)에 접속되고, 다른 쪽의 단부는, 볼록 거울(13)의 반사면(13a)의 반대측의 면에 조정 기구(20)를 통하여 접속된다. 즉, 지지 부재(16)는, 한쪽의 단부가 경통(15)에 지지되고, 다른 쪽의 단부로 볼록 거울(13)을 지지하는 외팔보의 구조로 되어 있다.The convex mirror 13 may be supported by the support member 16. The support member 16 is a member extended along the direction (Y direction) of the optical axis 14 of the convex mirror 13, and one end part is connected to the barrel 15 of the projection optical system PL, and the other The end part of the side is connected to the surface on the opposite side of the reflective surface 13a of the convex mirror 13 via the adjustment mechanism 20. That is, the support member 16 has the structure of the cantilever beam in which one end part is supported by the barrel 15 and the convex mirror 13 is supported by the other end part.

[조정 기구의 구성][Configuration of Adjustment Mechanism]

투영 광학계(PL)에서는, 비점 수차 등의 결상 성능(광학 성능)을 조정하는 광학 장치에 있어서, 광학 소자(예를 들어 볼록 거울(13))의 위치를 3축 방향(X 방향, Y 방향, Z 방향)으로 조정하기 위한 기구가 마련되는 것이 바람직하다. 본 실시 형태에서는, 볼록 거울(13)의 위치를 조정하기 위한 조정 기구(20)가, 볼록 거울(13)과 지지 부재(16)의 사이에 마련될 수 있다. 그러나, 조정 기구(20)를 마련함으로써 볼록 거울(13)의 지지 강성이 저하되어, 외란의 영향을 받았을 때의 볼록 거울(13)의 진동이 커져 버리면, 마스크(M)의 패턴상을 기판 상에 고정밀도로 투영하기가 곤란해질 수 있다. 그래서, 본 실시 형태의 조정 기구(20)는, 볼록 거울(13)의 지지 강성의 저하를 억제할 수 있도록 구성되어 있다.In the projection optical system PL, in the optical device which adjusts the imaging performance (optical performance), such as astigmatism, the position of an optical element (for example, the convex mirror 13) is changed into three-axis directions (X direction, Y direction, It is preferable to provide a mechanism for adjusting in the Z direction). In this embodiment, the adjustment mechanism 20 for adjusting the position of the convex mirror 13 can be provided between the convex mirror 13 and the support member 16. However, by providing the adjustment mechanism 20, the support rigidity of the convex mirror 13 is lowered, and when the vibration of the convex mirror 13 when the influence of disturbance increases, the pattern image of the mask M is formed on the substrate. It may be difficult to project with high accuracy. Therefore, the adjustment mechanism 20 of this embodiment is comprised so that the fall of the support rigidity of the convex mirror 13 can be suppressed.

도 2 및 도 3은, 본 실시 형태의 조정 기구(20)의 구성예를 도시하는 도면이다. 도 2는, 조정 기구(20)를 X 방향으로 본 도면이고, 도 3은, 조정 기구(20)를 Z 방향으로 본 도면이다. 본 실시 형태의 조정 기구(20)는, 예를 들어 볼록 거울(13)의 광축 방향(Y 방향)을 따라 직렬로 배치된 제1 조정부(20a), 제2 조정부(20b) 및 제3 조정부(20c)를 포함할 수 있다. 도 2 및 도 3에 도시하는 조정 기구(20)의 구성예에서는, 볼록 거울(13)측으로부터 제1 조정부(20a), 제2 조정부(20b), 제2 조정부(20c)의 순으로 배열되어 있지만, 각 조정부(20a 내지 20c)의 배열순은 임의일 수 있다.FIG.2 and FIG.3 is a figure which shows the structural example of the adjustment mechanism 20 of this embodiment. FIG. 2 is a view of the adjustment mechanism 20 viewed in the X direction, and FIG. 3 is a view of the adjustment mechanism 20 viewed in the Z direction. The adjustment mechanism 20 of this embodiment is the 1st adjustment part 20a, the 2nd adjustment part 20b, and the 3rd adjustment part which were arrange | positioned in series along the optical axis direction (Y direction) of the convex mirror 13, for example. 20c). In the structural example of the adjustment mechanism 20 shown to FIG. 2 and FIG. 3, it arranges in order of the 1st adjustment part 20a, the 2nd adjustment part 20b, and the 2nd adjustment part 20c from the convex mirror 13 side. However, the arrangement order of each adjustment unit 20a to 20c may be arbitrary.

제1 조정부(20a)는, 볼록 거울(13)의 광축(14)에 수직인 면 내(본 실시 형태에서는 XZ면 내)에 있어서의 제1 방향(본 실시 형태에서는 Z 방향)으로, 볼록 거울(13)의 위치를 조정하기 위한 기구이다. 제1 조정부(20a)는, 볼록 거울(13)의 자세를 유지하면서, 제1 방향(Z 방향)을 따른 볼록 거울(13)의 병진 이동을 안내하는 제1 안내부(21)를 포함한다. 제1 안내부(21)는, 예를 들어 Z 방향으로 연신된 가이드 레일(21a)(고정 부재)과, 가이드 레일(21a)을 따라 이동 가능한 이동체(21b)(가동 부재)를 포함하는 리니어 가이드에 의해 구성될 수 있다. 가이드 레일(21a)은, 볼록 거울(13)에 설치된 베이스판(24)에 고정되고, 이동체(21b)는, 베이스판(25)에 고정될 수 있다. 여기서, 제1 안내부(21)에서는, 볼록 거울(13)의 자세 변동을 저감하기 위해, 도 3에 도시하는 바와 같이, X 방향으로 이격된 복수(본 실시 형태에서는 2개)의 리니어 가이드가 마련되면 된다. 제1 안내부(21)는, 리니어 가이드를 사용하는 구성 이외에도, 크로스 롤러 가이드를 사용하는 구성이나, V자형 홈에 볼을 배치하는 구성, 도브테일 홈 가이드를 사용하는 구성, 무급유 가이드를 사용하는 구성 등을 적용할 수 있다.The 1st adjustment part 20a is a convex mirror in the 1st direction (Z direction in this embodiment) in the surface perpendicular | vertical to the optical axis 14 of the convex mirror 13 (in this embodiment, inside the XZ plane). It is a mechanism for adjusting the position of (13). The 1st adjustment part 20a contains the 1st guide part 21 which guides the translational movement of the convex mirror 13 along a 1st direction (Z direction), maintaining the attitude | position of the convex mirror 13. The first guide portion 21 includes, for example, a linear guide including a guide rail 21a (fixed member) extended in the Z direction and a movable body 21b (movable member) movable along the guide rail 21a. It can be configured by. The guide rail 21a is fixed to the base plate 24 provided in the convex mirror 13, and the movable body 21b can be fixed to the base plate 25. As shown in FIG. Here, in the 1st guide part 21, in order to reduce the fluctuation | variation in the attitude | position of the convex mirror 13, as shown in FIG. 3, the linear guide of two (two in this embodiment) spaced apart in the X direction is provided. It is enough. In addition to the structure using a linear guide, the 1st guide part 21 uses the structure which uses a cross roller guide, the structure which arrange | positions a ball to a V-shaped groove, the structure which uses a dovetail groove guide, and the structure which uses a lubrication-free guide. Etc. can be applied.

또한, 제1 조정부(20a)는, 제1 안내부(21)를 따라 볼록 거울(13)을 제1 방향(Z 방향)으로 구동하는 제1 구동부를 포함할 수 있다. 제1 구동부는, 예를 들어 스테핑 모터나 리니어 모터 등의 액추에이터를 포함하고, 제1 안내부(21)의 가이드 레일(21a)과 이동체(21b)를 Z 방향으로 상대적으로 구동함으로써, 볼록 거울(13)을 Z 방향으로 구동할 수 있다. 스테핑 모터는, 범용 액추에이터이기 때문에 비교적 저렴하며, 또한 구동 펄스수로 위치를 제어할 수 있기 때문에, 위치 조정 제어가 용이하다는 점에서 우수하다. 리니어 모터는, 직선 구동 액추에이터이기 때문에, 스테핑 모터와 같은 회전 구동 액추에이터를 사용하는 경우에 필요한 회전 운동을 직선 운동으로 변환하는 기구가 불필요하여, 제1 구동부의 구성을 간소화할 수 있다고 하는 점에서 우수하다. 본 실시 형태의 제1 구동부는, 예를 들어 제1 안내부(21)의 가이드 레일(21a)을 고정자로 하고, 이동체(21b)를 가동자로 하는 리니어 모터에 의해 구성될 수 있다.In addition, the first adjusting part 20a may include a first driving part for driving the convex mirror 13 along the first guide part 21 in a first direction (Z direction). The first drive part includes an actuator such as a stepping motor or a linear motor, for example, and drives the guide rail 21a and the movable body 21b of the first guide part 21 relatively in the Z direction, thereby providing a convex mirror ( 13) can be driven in the Z direction. Since the stepping motor is a general-purpose actuator, it is relatively inexpensive and the position can be controlled by the number of drive pulses, which is excellent in that the position adjustment control is easy. Since the linear motor is a linear drive actuator, a mechanism for converting the rotational motion necessary for the use of a rotational drive actuator such as a stepping motor into a linear motion is unnecessary, and the configuration of the first drive unit can be simplified. Do. The 1st drive part of this embodiment can be comprised by the linear motor which uses the guide rail 21a of the 1st guide part 21 as a stator, and makes the movable body 21b a mover, for example.

여기서, 제1 구동부는, 조립 시나 메인터넌스 시에 있어서 볼록 거울(13)의 위치를 조정하는 경우에는, 액추에이터 이외에도, 푸시 풀 나사나, 푸시 나사와 인장 스프링으로 여압(餘壓)을 변경하는 기구 등, 수동으로 볼록 거울(13)을 구동하는 구성이어도 된다. 제1 구동부를 상기 수동 기구로 구성한 경우, 제1 구동부의 구성을 간소화할 수 있음과 함께, 저렴하게 제작할 수 있다. 또한, 액추에이터 등의 발열원이 없기 때문에, 발열에 의한 투영 광학계(PL)의 결상 성능의 열화를 저감할 수도 있다.Here, when adjusting the position of the convex mirror 13 at the time of assembly or maintenance, a 1st drive part is a mechanism which changes a pressurization pressure with a push pull screw, a push screw, and a tension spring, etc. besides an actuator. The convex mirror 13 may be manually driven. When the 1st drive part is comprised by the said manual mechanism, the structure of a 1st drive part can be simplified and it can manufacture at low cost. In addition, since there is no heat source such as an actuator, deterioration of the imaging performance of the projection optical system PL due to heat generation can be reduced.

또한, 제1 조정부(20a)는, 조정 후의 볼록 거울(13)의 위치를 보유 지지(유지)하기 위한 보유 지지부를 포함해도 된다. 해당 보유 지지부는, 예를 들어 제1 안내부(21)의 가이드 레일(21a)과 이동체(21b)의 상대 위치를 로크(고정)하는 로크 기구(고정 기구)를 포함할 수 있다. 로크 기구로서는, 예를 들어 에어 클램퍼 등이 사용되며, 이 경우, 가이드 레일(21a)과 이동체(21b)의 상대 위치를 원격으로 로크할 수 있다. 또한, 로크 기구는, 나사 체결에 의해 가이드 레일(21a)과 이동체(21b)의 상대 위치를 로크하는 기구여도 된다. 이 경우, 제1 조정부(20a)에 의한 볼록 거울(13)의 지지 강성을 향상시킬 수 있다.In addition, the 1st adjustment part 20a may also contain the holding part for holding (holding) the position of the convex mirror 13 after adjustment. The holding part may include, for example, a locking mechanism (fixing mechanism) that locks (fixes) the relative position of the guide rail 21a of the first guide portion 21 and the movable body 21b. As a locking mechanism, an air clamper etc. are used, for example, In this case, the relative position of the guide rail 21a and the movable body 21b can be locked remotely. Moreover, the lock mechanism may be a mechanism which locks the relative position of the guide rail 21a and the moving body 21b by screwing. In this case, the support rigidity of the convex mirror 13 by the 1st adjustment part 20a can be improved.

제2 조정부(20b)는, 볼록 거울(13)의 광축(14)에 수직인 면 내(XZ면 내)에 있어서 제1 방향과 상이한 제2 방향(본 실시 형태에서는, 제1 방향(Z 방향)에 수직인 X 방향)으로, 볼록 거울(13)의 위치를 조정하기 위한 기구이다. 제2 조정부(20b)는, 볼록 거울(13)의 자세를 유지하면서, 제2 방향(X 방향)을 따라 볼록 거울(13)의 병진 이동을 안내하는 제2 안내부(22)를 포함한다. 제2 안내부(22)는, 예를 들어 X 방향으로 연신된 가이드 레일(22a)(고정 부재)과, 가이드 레일(22a)을 따라 이동 가능한 이동체(22b)(가동 부재)를 포함하는 리니어 가이드에 의해 구성된다. 가이드 레일(22a)은, 제1 안내부(21)의 이동체(21b)가 고정된 베이스판(25)에 고정되고, 이동체(22b)는, 베이스판(26)에 고정될 수 있다. 여기서, 제2 안내부(22)에서는, 볼록 거울(13)의 자세 변동을 저감하기 위해, 도 2에 도시하는 바와 같이, Z 방향으로 이격된 복수(본 실시 형태에서는 2개)의 리니어 가이드가 마련되면 된다. 제2 안내부(22)는, 제1 안내부(21)와 마찬가지로, 리니어 가이드를 사용하는 구성 이외의 구성을 적용할 수 있다.The 2nd adjustment part 20b is a 2nd direction (in this embodiment, a 1st direction (Z direction) different from a 1st direction in the surface (in XZ plane) perpendicular | vertical to the optical axis 14 of the convex mirror 13. Is a mechanism for adjusting the position of the convex mirror 13. The 2nd adjustment part 20b contains the 2nd guide part 22 which guides the translational movement of the convex mirror 13 along a 2nd direction (X direction), maintaining the attitude | position of the convex mirror 13. The 2nd guide part 22 is a linear guide containing the guide rail 22a (fixed member) extended in the X direction, for example, and the movable body 22b (movable member) which can move along the guide rail 22a. It is composed by. The guide rail 22a can be fixed to the base plate 25 to which the movable body 21b of the first guide part 21 is fixed, and the movable body 22b can be fixed to the base plate 26. Here, in the 2nd guide part 22, in order to reduce the fluctuation | variation of the attitude | position of the convex mirror 13, as shown in FIG. 2, the plurality of linear guides spaced in Z direction (two in this embodiment) is It is enough. Similarly to the first guide portion 21, the second guide portion 22 can apply a configuration other than the configuration using the linear guide.

또한, 제2 조정부(20b)는, 제2 안내부(22)를 따라 볼록 거울(13)을 제2 방향(X 방향)으로 구동하는 제2 구동부를 포함할 수 있다. 제2 구동부는, 예를 들어 스테핑 모터나 리니어 모터 등의 액추에이터를 포함하고, 제2 안내부(22)의 가이드 레일(22a)과 이동체(22b)를 X 방향으로 상대적으로 구동함으로써, 볼록 거울(13)을 X 방향으로 구동할 수 있다. 본 실시 형태의 제2 구동부는, 제1 구동부와 마찬가지로, 예를 들어 제2 안내부(22)의 가이드 레일(22a)을 고정자로 하고, 이동체(22b)를 가동자로 하는 리니어 모터에 의해 구성될 수 있지만, 리니어 모터 이외의 액추에이터나 상기 수동 기구 등으로 구성되어도 된다. 또한, 제2 조정부(20b)는, 조정 후의 볼록 거울(13)의 위치를 보유 지지(유지)하기 위한 보유 지지부를 포함해도 된다. 해당 보유 지지부는, 제1 조정부(20a)와 마찬가지로, 제2 안내부(22)의 가이드 레일(22a)과 이동체(22b)의 상대 위치를 로크하는 로크 기구를 포함할 수 있다.In addition, the second adjusting unit 20b may include a second driving unit for driving the convex mirror 13 along the second guide portion 22 in the second direction (X direction). The second drive part includes an actuator such as a stepping motor or a linear motor, for example, and drives the guide rail 22a and the moving body 22b of the second guide part 22 relatively in the X direction, thereby forming a convex mirror ( 13) can be driven in the X direction. Similarly to the first drive unit, the second drive unit of the present embodiment may be constituted by a linear motor that uses the guide rail 22a of the second guide unit 22 as a stator and uses the movable body 22b as a mover. Although it is possible, it may be comprised by actuators other than a linear motor, the said manual mechanism, etc. In addition, the 2nd adjustment part 20b may also contain the holding part for holding (holding) the position of the convex mirror 13 after adjustment. Similarly to the 1st adjustment part 20a, the said holding part may contain the locking mechanism which locks the relative position of the guide rail 22a of the 2nd guide part 22, and the movable body 22b.

제3 조정부(20c)는, 볼록 거울(13)의 광축 방향(본 실시 형태에서는 Y 방향)으로 볼록 거울(13)의 위치를 조정하기 위한 기구이다. 제3 조정부(20c)는, 볼록 거울(13)의 자세를 유지하면서, 볼록 거울(13)의 광축(14)에 수직인 면(XZ면) 및 볼록 거울(13)의 광축(14)에 교차하는 제3 방향(본 실시 형태에서는 Y' 방향)을 따른 볼록 거울의 병진 이동을 안내하는 제3 안내부(23)를 포함한다. 또한, 이하에서는, 볼록 거울(13)의 광축(14)에 수직인 면을 「수직면」이라고 칭하는 경우가 있다.The 3rd adjustment part 20c is a mechanism for adjusting the position of the convex mirror 13 in the optical axis direction (Y direction in this embodiment) of the convex mirror 13. The third adjustment unit 20c intersects the surface perpendicular to the optical axis 14 of the convex mirror 13 (XZ plane) and the optical axis 14 of the convex mirror 13 while maintaining the posture of the convex mirror 13. And a third guide portion 23 for guiding the translational movement of the convex mirror in the third direction (Y 'direction in this embodiment). In addition, below, the surface perpendicular | vertical to the optical axis 14 of the convex mirror 13 may be called a "vertical surface."

여기서, 제3 방향은, 수직면(XZ면)에 대하여 기울어진 방향이며, 본 실시 형태에서는, 제1 방향(Z 방향)과 볼록 거울(13)의 광축 방향(Y 방향)을 포함하는 면 내(YZ면 내)에 있어서의 일방향(Y' 방향)으로서 정의될 수 있다. 그러나, 제3 방향은, YZ면 내의 일방향에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 제2 방향(X 방향)과 볼록 거울(13)의 광축 방향(Y 방향)을 포함하는 면 내(XY면 내)에 있어서의 일방향 등, 수직면(XZ면)에 교차하는 방향이면 된다. 또한, 수직면(XZ면)과 제3 방향(Y' 방향)의 사이의 각도 θ는, 실험이나 시뮬레이션에 의해 얻어진 볼록 거울(13)의 지지 강성(대 진동 성능)과 볼록 거울(13)의 광축 방향으로의 이동 스트로크의 관계로부터, 0.6도 이상 또한 30도 이하의 범위 내이면 좋다. 보다 바람직하게는, 2.5도 이상 또한 3.5도 이하의 범위 내이면 좋다.Here, the third direction is a direction inclined with respect to the vertical plane (XZ plane), and in the present embodiment, in the plane including the first direction (Z direction) and the optical axis direction (Y direction) of the convex mirror 13. It can be defined as one direction (Y 'direction) in YZ plane. However, the third direction is not limited to one direction in the YZ plane, for example, in-plane (in the XY plane) including the second direction (X direction) and the optical axis direction (Y direction) of the convex mirror 13. What is necessary is just a direction which cross | intersects a vertical surface (XZ surface), such as one direction in. In addition, the angle θ between the vertical plane (XZ plane) and the third direction (Y 'direction) indicates the support stiffness (large vibration performance) of the convex mirror 13 and the optical axis of the convex mirror 13 obtained by experiments or simulations. It is good in the range of 0.6 degree | times or more and 30 degrees or less from the relationship of the movement stroke to a direction. More preferably, it is good in it being in the range of 2.5 degrees or more and 3.5 degrees or less.

제3 안내부(23)는, 예를 들어 Y' 방향으로 연신된 가이드 레일(23a)(고정 부재)과, 가이드 레일(23a)을 따라 이동 가능한 이동체(23b)(가동 부재)를 포함하는 리니어 가이드에 의해 구성될 수 있다. 가이드 레일(23a)은, 제2 안내부(22)의 이동체(22b)가 고정된 베이스판(26)에 고정 부재(28)를 통하여 고정되고, 이동체(23b)는, 지지 부재(16)에 설치된 베이스판(27)에 고정 부재(29)를 통하여 고정될 수 있다. 고정 부재(28)는, 베이스판(26)에 대한 접촉면과 가이드 레일(23a)에 대한 접촉면이 각도 θ를 이루도록 구성되고, 고정 부재(29)도 마찬가지로, 베이스판(27)에 대한 접촉면과 이동체(23b)에 대한 접촉면이 각도 θ를 이루도록 구성된다. 이에 의해, 가이드 레일(23a)과 이동체(23b)를 Y' 방향으로 상대적으로 이동시켜, Y' 방향으로의 볼록 거울(13)의 병진 이동을 안내할 수 있다. 여기서, 제3 안내부(23)에서는, 볼록 거울(13)의 자세 변동을 저감하기 위해, 도 3에 도시하는 바와 같이, X 방향으로 이격된 복수(본 실시 형태에서는 2개)의 리니어 가이드가 마련되면 된다. 제2 안내부(22)는, 제1 안내부(21)와 마찬가지로, 리니어 가이드를 사용하는 구성 이외의 구성을 적용할 수 있다.The 3rd guide part 23 is a linear which contains the guide rail 23a (fixing member) extended in the Y 'direction, for example, and the movable body 23b (movable member) which can move along the guide rail 23a. It can be configured by a guide. The guide rail 23a is fixed to the base plate 26 on which the movable body 22b of the second guide portion 22 is fixed through the fixing member 28, and the movable body 23b is attached to the support member 16. It can be fixed through the fixing member 29 to the installed base plate (27). The fixing member 28 is comprised so that the contact surface with respect to the base board 26 and the contact surface with respect to the guide rail 23a may make angle (theta), The fixing member 29 is also similar to the contact surface with respect to the base board 27, and a mobile body. The contact surface with respect to 23b is comprised in the angle (theta). Thereby, the guide rail 23a and the movable body 23b can be moved relatively to a Y 'direction, and guide the translational movement of the convex mirror 13 to a Y' direction. Here, in the 3rd guide part 23, in order to reduce the fluctuation | variation of the attitude | position of the convex mirror 13, as shown in FIG. 3, the linear guide of two (two in this embodiment) spaced apart in the X direction is provided. It is enough. Similarly to the first guide portion 21, the second guide portion 22 can apply a configuration other than the configuration using the linear guide.

또한, 제3 조정부(20c)는, 제3 안내부(23)를 따라 볼록 거울(13)을 제3 방향(Y' 방향)으로 구동하는 제3 구동부를 포함할 수 있다. 제3 구동부는, 예를 들어 스테핑 모터나 리니어 모터 등의 액추에이터를 포함하고, 제3 안내부(23)의 가이드 레일(23a)과 이동체(23b)를 Y' 방향으로 상대적으로 구동할 수 있다. 본 실시 형태의 제3 구동부는, 제1 구동부와 마찬가지로, 예를 들어 제3 안내부(23)의 가이드 레일(23a)을 고정자로 하고, 이동체(23b)를 가동자로 하는 리니어 모터에 의해 구성될 수 있지만, 리니어 모터 이외의 액추에이터나 상기 수동 기구 등으로 구성되어도 된다. 또한, 제3 조정부(20c)는, 조정 후의 볼록 거울(13)의 위치를 보유 지지(유지)하기 위한 보유 지지부를 포함해도 된다. 해당 보유 지지부는, 제1 조정부(20a)와 마찬가지로, 제3 안내부(23)의 가이드 레일(23a)과 이동체(23b)의 상대 위치를 로크하는 로크 기구를 포함할 수 있다.In addition, the third adjusting unit 20c may include a third driving unit for driving the convex mirror 13 along the third guide unit 23 in the third direction (Y 'direction). For example, the third drive unit may include an actuator such as a stepping motor or a linear motor, and may relatively drive the guide rail 23a and the moving body 23b of the third guide unit 23 in the Y 'direction. Similarly to the first drive unit, the third drive unit of the present embodiment may be constituted by a linear motor having, for example, a guide rail 23a of the third guide unit 23 as a stator and a movable body 23b as a mover. Although it is possible, it may be comprised by actuators other than a linear motor, the said manual mechanism, etc. In addition, the 3rd adjustment part 20c may also contain the holding part for holding (holding) the position of the convex mirror 13 after adjustment. Similarly to the 1st adjustment part 20a, the said holding part may include the locking mechanism which locks the relative position of the guide rail 23a of the 3rd guide part 23, and the movable body 23b.

[볼록 거울의 이동 성분][Movement Component of Convex Mirror]

이와 같이 구성된 조정 기구(20)에서는, 제3 안내부(23)에 의해 볼록 거울(13)의 이동이 제3 방향(Y' 방향)으로 안내되면, 볼록 거울(13)에는, 광축 방향(Y 방향)에 대한 이동 성분에 추가하여, 제1 방향(Z 방향)에 대한 이동 성분이 생길 수 있다. 그 때문에, 3축 방향(X 방향, Y 방향, Z 방향)에 있어서의 볼록 거울(13)의 위치의 목표 조정량을, 각 조정부(20a 내지 20c)에서의 조정량(즉, 가이드 레일과 이동체의 상대 이동량)으로서 그대로 사용할 수 없다. 즉, 본 실시 형태의 조정 기구(20)를 사용하는 경우, 볼록 거울(13)의 위치의 목표 조정량에 기초하여, 각 조정부(20a 내지 20c)에서의 조정량을 결정할 필요가 있다. 이하에, 각 조정부(20a 내지 20c)에서의 조정량의 결정 처리에 대하여, 도 4를 참조하면서 설명한다. 여기서, 각 조정부(20a 내지 20c)의 조정량은, 제어부(CNT)에 의해 결정되어도 된다. 이 경우, 제어부(CNT)는, 결정한 조정량에 기초하여, 각 조정부(20a 내지 20c)의 구동부를 제어할 수 있다.In the adjustment mechanism 20 comprised in this way, when the movement of the convex mirror 13 is guided to a 3rd direction (Y 'direction) by the 3rd guide part 23, the convex mirror 13 will have an optical axis direction Y Direction, in addition to the moving component relative to the first direction (Z direction). Therefore, the amount of adjustment of the target adjustment amount of the position of the convex mirror 13 in the three axis direction (X direction, Y direction, Z direction) in each adjustment part 20a-20c (namely, a guide rail and a moving body) Relative movement amount). That is, when using the adjustment mechanism 20 of this embodiment, it is necessary to determine the adjustment amount in each adjustment part 20a-20c based on the target adjustment amount of the position of the convex mirror 13. Hereinafter, the determination process of the adjustment amount in each adjustment part 20a-20c is demonstrated, referring FIG. Here, the adjustment amount of each adjustment part 20a-20c may be determined by the control part CNT. In this case, the control part CNT can control the drive part of each adjustment part 20a-20c based on the determined adjustment amount.

도 4는, 제3 조정부(20c)(제3 안내부(23))를 도시하는 도면이다. 또한, 각 방향에 있어서의 볼록 거울(13)의 목표 조정량, 각 조정부(20a 내지 20c)에서의 조정량, 제3 조정부(20c)에 의한 위치 조정으로 생긴 볼록 거울(13)의 이동 성분을 이하와 같이 정의한다.4 is a diagram illustrating the third adjustment unit 20c (the third guide unit 23). In addition, the moving component of the convex mirror 13 resulting from the target adjustment amount of the convex mirror 13 in each direction, the adjustment amount in each adjustment part 20a-20c, and the position adjustment by the 3rd adjustment part 20c is It is defined as follows.

Sz: Z 방향에 있어서의 볼록 거울의 목표 조정량Sz: target adjustment amount of the convex mirror in the Z direction

Sx: X 방향에 있어서의 볼록 거울의 목표 조정량Sx: target adjustment amount of the convex mirror in the X direction

Sy: Y 방향에 있어서의 볼록 거울의 목표 조정량Sy: target adjustment amount of the convex mirror in the Y direction

Tz: 제1 조정부에서의 조정량Tz: Adjustment amount in the 1st adjustment part

Tx: 제2 조정부에서의 조정량Tx: Adjustment amount in 2nd adjustment part

Ty': 제3 조정부에서의 조정량Ty ': Adjustment amount in the third adjustment part

Y'z: 제3 조정부에 의한 위치 조정으로 생긴 Z 방향에 대한 볼록 거울의 이동 성분Y'z: the moving component of the convex mirror with respect to the Z direction resulting from the position adjustment by the third adjusting unit

Y'y: 제3 조정부에 의한 위치 조정으로 생긴 Y 방향에 대한 볼록 거울의 이동 성분Y'y: the moving component of the convex mirror with respect to the Y direction resulting from the position adjustment by the third adjusting unit

θ: XZ면과 Y' 방향의 사이의 각도θ: angle between XZ plane and Y 'direction

이 경우, 제3 조정부(20c)에 의한 위치 조정으로 생긴 Z 방향에 대한 볼록 거울(13)의 이동 성분 Y'z 및 Y 방향에 대한 볼록 거울(13)의 이동 성분 Y'y는, 이하의 식 (1)에 의해 나타낼 수 있다.In this case, the moving component Y'z of the convex mirror 13 with respect to the Z direction resulting from the position adjustment by the 3rd adjustment part 20c, and the moving component Y'y of the convex mirror 13 with respect to the Y direction are as follows. It can be represented by Formula (1).

또한, 각 방향에 있어서의 볼록 거울(13)의 목표 조정량과, 각 조정부(20a 내지 20c)에서의 조정량의 관계는, 이하의 식 (2)에 의해 나타낼 수 있다.In addition, the relationship between the target adjustment amount of the convex mirror 13 in each direction, and the adjustment amount in each adjustment part 20a-20c can be represented by following formula (2).

따라서, 상기 식 (1) 및 식 (2)로부터, 각 조정부(20a 내지 20c)에서의 조정량을, 이하의 식 (3)에 기초하여 결정할 수 있다.Therefore, from the said Formula (1) and Formula (2), the adjustment amount in each adjustment part 20a-20c can be determined based on following formula (3).

[볼록 거울의 위치 보정][Position correction of convex mirror]

상술한 바와 같이, 제3 안내부(23)에 의해 볼록 거울(13)의 이동이 제3 방향(Y' 방향)으로 안내되면, 볼록 거울(13)에는, 광축 방향(Y 방향)에 대한 이동 성분에 추가하여, 제1 방향(Z 방향)에 대한 이동 성분이 생길 수 있다. 이와 같이 제3 안내부(23)에 의해 볼록 거울(13)의 이동이 안내되었을 때의 제1 방향(Z 방향)에 대한 이동 성분은, 제1 안내부(21)로 안내되는 볼록 거울(13)의 이동에 의해 보정할 수 있다. 즉, 제3 조정부(20c)에 의한 조정으로 생긴 Z 방향에 대한 이동 성분을, 제1 조정부(20a)에 의한 조정으로 보정 가능하다. 이하에, 그 보정 방법에 대하여, 도 5를 참조하면서 설명한다. 여기서, 이하에 나타내는 보정 방법은, 제어부(CNT)에 의해 각 조정부(20a 내지 20c)의 구동부를 제어함으로써 행해져도 된다.As described above, when the movement of the convex mirror 13 is guided in the third direction (Y 'direction) by the third guide portion 23, the convex mirror 13 is moved in the optical axis direction (Y direction). In addition to the component, a moving component with respect to the first direction (Z direction) may occur. In this way, the moving component in the first direction (Z direction) when the movement of the convex mirror 13 is guided by the third guide portion 23 is the convex mirror 13 guided to the first guide portion 21. Can be corrected by moving. That is, the moving component with respect to the Z direction resulting from the adjustment by the 3rd adjustment part 20c can be corrected by the adjustment by the 1st adjustment part 20a. The correction method will be described below with reference to FIG. 5. Here, the correction method shown below may be performed by controlling the drive part of each adjustment part 20a-20c by the control part CNT.

도 5는, 볼록 거울(13)의 위치를 조정하는 방법을 설명하기 위한 도면이며, 볼록 거울(13)의 위치를 +Y 방향으로 목표 조정량 Ya만큼 조정하는 예를 도시하고 있다. 도 5의 (a)는, 볼록 거울(13)의 좌표가 (X,Y,Z)=(0,0,0)인 조정 전의 상태를 도시하고 있다. 또한, 도 5의 (b)는, 제3 조정부(20c)에 의한 조정을 행한 후의 상태를 도시하고 있고, 도 5의 (c)는, 제1 조정부(20a)에 의한 보정을 행한 후의 상태를 도시하고 있다.FIG. 5: is a figure for demonstrating the method of adjusting the position of the convex mirror 13, and shows the example which adjusts the position of the convex mirror 13 by the target adjustment amount Ya in the + Y direction. FIG.5 (a) has shown the state before adjustment whose coordinate of the convex mirror 13 is (X, Y, Z) = (0,0,0). 5B shows the state after the adjustment by the 3rd adjustment part 20c, and FIG. 5C shows the state after the correction by the 1st adjustment part 20a. It is shown.

볼록 거울(13)의 위치를 +Y 방향으로 목표 조정량 Ya만큼 조정하는 경우, 제3 조정부(20c)의 조정량 Ty'a(즉, Y' 방향에 있어서의 가이드 레일(23a)과 이동체(23b)의 상대 이동량)를, 이하의 식 (4)에 의해 구할 수 있다. 또한, 제3 조정부(20c)에 의해 조정을 행하였을 때 생기는 Z 방향에 대한 볼록 거울(13)의 이동 성분 Tza는, 이하의 식 (5)에 의해 구해진다. 따라서, 구한 조정량 Ty'a만큼, 제3 조정부에 의해 볼록 거울(13)을 Y' 방향으로 이동시키면, 도 5의 (b)에 도시하는 바와 같이, 볼록 거울(13)의 좌표가 (X,Y,Z)=(0,Ya,-Tza)로 된다.When the position of the convex mirror 13 is adjusted by the target adjustment amount Ya in the + Y direction, the adjustment amount Ty'a (that is, the guide rail 23a and the moving body in the Y 'direction) of the third adjustment portion 20c is adjusted. Relative movement amount of 23b) can be obtained by the following equation (4). In addition, the moving component Tza of the convex mirror 13 with respect to the Z direction which arises when adjustment is performed by the 3rd adjustment part 20c is calculated | required by following formula (5). Therefore, when the convex mirror 13 is moved to the Y 'direction by the third adjustment unit by the obtained adjustment amount Ty'a, as shown in Fig. 5B, the coordinates of the convex mirror 13 are (X , Y, Z) = (0, Ya, -Tza).

이와 같이 제3 조정부(20c)에 의해 볼록 거울(13)을 +Y 방향으로 목표 조정량 Ya만큼 조정하면, Z 방향에 대한 볼록 거울(13)의 이동 성분 Tza가 생긴다. 그 때문에, 당해 이동 성분 Tza가 보정되도록, 제1 조정부(20a)에 의해 볼록 거울(13)을 Z 방향으로 이동시킨다. 이에 의해, 도 5의 (c)에 도시하는 바와 같이, 볼록 거울(13)의 좌표를 (X,Y,Z)=(0,Ya,0)으로 할 수 있다.In this way, when the convex mirror 13 is adjusted by the third adjustment unit 20c in the + Y direction by the target adjustment amount Ya, the moving component Tza of the convex mirror 13 in the Z direction is generated. Therefore, the convex mirror 13 is moved to Z direction by the 1st adjustment part 20a so that the said moving component Tza may be correct | amended. Thereby, as shown in FIG.5 (c), the coordinate of the convex mirror 13 can be set to (X, Y, Z) = (0, Ya, 0).

여기서, 제3 방향이, YZ면 내에 없는 경우에는, 제3 안내부(23)에 의해 볼록 거울(13)의 이동이 안내되었을 때, 제2 방향(X 방향)에 대한 이동 성분이 생기는 경우가 있다. 이 경우에는, 제2 안내부(22)로 안내되는 볼록 거울(13)의 이동에 의해, 제2 방향에 대한 이동 성분을 보정할 수 있다. 즉, 제3 조정부(20c)에 의한 조정으로 생긴 XZ 방향에 대한 이동 성분을, 제1 조정부(20a) 및 제2 조정부(20b)를 사용하여 보정할 수 있다.Here, when the 3rd direction is not in the YZ plane, when the movement of the convex mirror 13 is guided by the 3rd guide part 23, the movement component with respect to a 2nd direction (X direction) may arise. have. In this case, the movement component in the second direction can be corrected by the movement of the convex mirror 13 guided to the second guide portion 22. That is, the moving component with respect to the XZ direction resulting from the adjustment by the 3rd adjustment part 20c can be correct | amended using the 1st adjustment part 20a and the 2nd adjustment part 20b.

[효과][effect]

이어서, 본 실시 형태의 조정 기구(20)의 구성에 있어서의 효과에 대하여 설명한다. 도 6은, 종래의 조정 기구(30)와 본 실시 형태의 조정 기구(20)의 비교를 도시하는 도면이다. 도 6의 (a)는, 종래의 조정 기구(30)의 구성을 도시하는 개략도이고, 도 6의 (b)는, 본 실시 형태의 조정 기구(20)의 구성을 도시하는 개략도이다. 또한, 도 6의 (c)는, 종래의 조정 기구(30)와 본 실시 형태의 조정 기구(20)에 있어서의 고유 진동수의 비교를 도시하는 도면이다.Next, the effect in the structure of the adjustment mechanism 20 of this embodiment is demonstrated. FIG. 6: is a figure which shows the comparison of the conventional adjustment mechanism 30 and the adjustment mechanism 20 of this embodiment. FIG. 6A is a schematic diagram showing the configuration of a conventional adjustment mechanism 30, and FIG. 6B is a schematic diagram showing the configuration of the adjustment mechanism 20 of the present embodiment. 6C is a diagram showing a comparison of natural frequencies in the conventional adjustment mechanism 30 and the adjustment mechanism 20 of the present embodiment.

종래의 조정 기구(30)에서는, 도 6의 (a)에 도시하는 바와 같이, 3축 방향의 각각에 대하여 안내부가 마련되어 있었다. 구체적으로는, Z 방향으로의 볼록 거울(13)의 이동을 안내하는 안내부(31)와, X 방향으로의 볼록 거울(13)의 이동을 안내하는 안내부(32)와, Y 방향으로의 볼록 거울(13)의 이동을 안내하는 안내부(33)가 마련되어 있었다. 그에 비해, 본 실시 형태의 조정 기구(20)에서는, 도 6의 (b)에 도시하는 바와 같이, Y 방향으로의 볼록 거울의 이동을 안내하는 안내부 대신에, Y' 방향(제3 방향)으로의 볼록 거울(13)의 이동을 안내하는 제3 안내부(23)가 마련된다. 이에 의해, 도 6의 (c)에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태의 조정 기구(20)에서는, 도 6의 (c)에 도시하는 바와 같이, 종래의 조정 기구(30)와 비교하여 고유 진동수를 크게 하고, 볼록 거울(13)의 지지 강성(예를 들어, ωx 방향, ωz 방향)을 높일 수 있다.In the conventional adjustment mechanism 30, as shown to Fig.6 (a), the guide part was provided about each of the triaxial directions. Specifically, the guide part 31 which guides the movement of the convex mirror 13 to Z direction, the guide part 32 which guides the movement of the convex mirror 13 to X direction, and the Y direction The guide part 33 which guides the movement of the convex mirror 13 was provided. On the other hand, in the adjustment mechanism 20 of this embodiment, as shown in FIG.6 (b), instead of the guide part which guides the movement of a convex mirror to a Y direction, it is Y 'direction (third direction) A third guide 23 is provided for guiding the movement of the convex mirror 13. Thereby, as shown in FIG.6 (c), in the adjustment mechanism 20 of this embodiment, as shown in FIG.6 (c), it is natural frequency compared with the conventional adjustment mechanism 30. Can be increased, and the supporting rigidity (for example, the ωx direction and the ωz direction) of the convex mirror 13 can be increased.

<물품의 제조 방법의 실시 형태><Embodiment of the manufacturing method of the article>

본 발명의 실시 형태에 관한 물품의 제조 방법은, 예를 들어 반도체 디바이스 등의 마이크로 디바이스나 미세 구조를 갖는 소자 등의 물품을 제조하기에 적합하다. 본 실시 형태의 물품의 제조 방법은, 기판에 도포된 감광제에 상기 노광 장치를 사용하여 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 이러한 공정으로 잠상 패턴이 형성된 기판을 현상(가공)하는 공정을 포함한다. 또한, 이러한 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함한다. 본 실시 형태의 물품의 제조 방법은, 종래의 방법에 비하여, 물품의 성능ㆍ품질ㆍ생산성ㆍ생산 비용 중 적어도 하나에 있어서 유리하다.The manufacturing method of the article concerning embodiment of this invention is suitable for manufacturing articles, such as a microdevice, such as a semiconductor device, and the element which has a microstructure, for example. The manufacturing method of the article of this embodiment is a process (process of exposing a board | substrate) which uses the said exposure apparatus to the photosensitive agent apply | coated to the board | substrate, and develops (processes) the board | substrate with which the latent image pattern was formed by such a process. It includes a process to make. Such manufacturing methods also include other well-known processes (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like). The manufacturing method of the article of this embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of an article compared with the conventional method.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않는다는 것은 물론이며, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, it is a matter of course that this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and a change are possible within the range of the summary.

11: 다면 광학 부재
12: 오목 거울
13: 볼록 거울
14: 광축
16: 지지 부재
20: 조정 기구
21: 제1 안내부
22: 제2 안내부
23: 제3 안내부11: faceted optical member
12: concave mirror
13: convex mirror
14: optical axis
16: support member
20: adjustment mechanism
21: First guide
22: second guide
23: third guide

Claims

광학 소자의 위치를 조정하는 조정 기구를 구비한 광학 장치이며,
상기 조정 기구는,
상기 광학 소자의 광축에 수직인 면 내에 있어서의 제1 방향으로, 상기 광학 소자의 이동을 안내하는 제1 안내부와,
상기 면 내에 있어서 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로, 상기 광학 소자의 이동을 안내하는 제2 안내부와,
상기 면 및 상기 광축과 교차하는 제3 방향으로, 상기 광학 소자의 이동을 안내하는 제3 안내부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.It is an optical device provided with the adjustment mechanism which adjusts the position of an optical element,
The adjustment mechanism,
A first guide part for guiding the movement of the optical element in a first direction in a plane perpendicular to the optical axis of the optical element;
A second guide part for guiding movement of the optical element in a second direction different from the first direction in the plane;
And a third guide portion for guiding movement of the optical element in a third direction crossing the surface and the optical axis.

제1항에 있어서,
상기 광학 소자를 지지하는 지지 부재를 더 포함하고,
상기 조정 기구는, 상기 지지 부재와 상기 광학 소자의 사이에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method of claim 1,
Further comprising a support member for supporting the optical element,
The said adjustment mechanism is provided between the said support member and the said optical element, The optical apparatus characterized by the above-mentioned.

제1항에 있어서,
상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부는, 상기 광학 소자의 광축 방향을 따라 직렬로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method of claim 1,
The first guide portion, the second guide portion, and the third guide portion are arranged in series along the optical axis direction of the optical element.

제1항에 있어서,
상기 면과 상기 제3 방향의 사이의 각도는, 0.6도 이상 또한 30도 이하의 범위 내인 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method of claim 1,
The angle between the surface and the third direction is in a range of 0.6 degrees or more and 30 degrees or less.

제1항에 있어서,
상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부는 각각, 상기 광학 소자의 자세를 유지하면서, 상기 광학 소자의 병진 이동을 안내하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method of claim 1,
And the first guide portion, the second guide portion, and the third guide portion are configured to guide translational movement of the optical element while maintaining the posture of the optical element, respectively.

제1항에 있어서,
상기 조정 기구는, 상기 제3 안내부로 상기 광학 소자의 이동을 안내하였을 때의 상기 제1 방향의 이동 성분을, 상기 제1 안내부로 안내되는 상기 광학 소자의 이동에 의해 보정 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method of claim 1,
The said adjustment mechanism is comprised so that correction of the movement component of the said 1st direction when the movement of the said optical element was guided to the said 3rd guide part by the movement of the said optical element guided to the said 1st guide part is carried out. An optical device.

제1항에 있어서,
상기 조정 기구는, 상기 제3 안내부로 상기 광학 소자의 이동을 안내하였을 때의 상기 제2 방향의 이동 성분을, 상기 제2 안내부로 안내되는 상기 광학 소자의 이동에 의해 보정 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method of claim 1,
The said adjustment mechanism is comprised so that correction of the movement component of the said 2nd direction at the time of guiding the movement of the said optical element to the said 3rd guide part by the movement of the said optical element guided to the said 2nd guide part is possible. An optical device.

제1항에 있어서,
상기 조정 기구는, 상기 제1 안내부를 따라 상기 광학 소자를 구동하는 제1 구동부와, 상기 제2 안내부를 따라 상기 광학 소자를 구동하는 제2 구동부와, 상기 제3 안내부를 따라 상기 광학 소자를 구동하는 제3 구동부를 포함하고,
상기 광학 장치는, 상기 광학 장치의 위치의 목표 조정량에 기초하여, 상기 제1 구동부, 상기 제2 구동부 및 상기 제3 구동부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.The method of claim 1,
The adjustment mechanism includes a first drive unit for driving the optical element along the first guide unit, a second drive unit for driving the optical element along the second guide unit, and the optical element along the third guide unit. Including a third driving unit,
The optical device further comprises a control unit for controlling the first drive unit, the second drive unit and the third drive unit based on a target adjustment amount of the position of the optical device.

마스크의 패턴상을 기판 상에 투영하는 투영 광학계이며,
광의 반사면을 갖는 광학 소자와,
상기 광학 소자의 위치를 조정하는 조정 기구를 구비한, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.It is a projection optical system which projects the pattern image of a mask on a board | substrate,
An optical element having a reflective surface of light,
The optical system as described in any one of Claims 1-8 provided with the adjustment mechanism which adjusts the position of the said optical element. The projection optical system characterized by the above-mentioned.

제9항에 있어서,
상기 투영 광학계는, 오목 거울 및 볼록 거울을 포함하고,
상기 조정 기구는, 상기 광학 소자로서 상기 볼록 거울의 위치를 조정하는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.The method of claim 9,
The projection optical system includes a concave mirror and a convex mirror,
And the adjustment mechanism adjusts the position of the convex mirror as the optical element.

기판을 노광하는 노광 장치이며,
마스크를 조명하는 조명 광학계와,
상기 마스크의 패턴상을 상기 기판 상에 투영하는, 제9항에 기재된 투영 광학계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.An exposure apparatus that exposes a substrate,
Illumination optical system which illuminates mask,
The projection optical system of Claim 9 which projects the pattern image of the said mask on the said board | substrate, The exposure apparatus characterized by the above-mentioned.

제11항에 기재된 노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과,
상기 공정에서 노광이 행해진 상기 기판을 현상하는 공정을 포함하고,
현상된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 것을 특징으로 하는, 물품의 제조 방법.Exposing the substrate using the exposure apparatus according to claim 11;
Developing the substrate subjected to exposure in the step;
A method for producing an article, characterized in that the article is produced from the developed substrate.