KR20190112394A - Touch sensor and method of manufacturing the same - Google Patents

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KR20190112394A
KR20190112394A KR1020180034326A KR20180034326A KR20190112394A KR 20190112394 A KR20190112394 A KR 20190112394A KR 1020180034326 A KR1020180034326 A KR 1020180034326A KR 20180034326 A KR20180034326 A KR 20180034326A KR 20190112394 A KR20190112394 A KR 20190112394A
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조성훈
김상국
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

A touch sensor of embodiments of the present invention comprises: a base layer; an optical control layer formed on the base layer and including first and second parts having different hardness, wherein the hardness of the first part is larger than the hardness of the second part; and a sensing electrode disposed on the second part of the optical control layer. The optical characteristics of the touch sensor may be improved by the refractive index matching of the first part.

Description

터치 센서 및 이의 제조 방법{TOUCH SENSOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}TOUCH SENSOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 터치 센서 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 도전성 패턴 및 절연성 구조를 포함하는 터치 센서 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch sensor and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a touch sensor including a conductive pattern and an insulating structure, and a method of manufacturing the same.

최근 정보화 사회가 발전함에 따라 디스플레이 분야에 대한 요구도 다양한 형태로 제시되고 있다. 예를 들면, 박형화, 경량화, 저소비 전력화 등의 특징을 지닌 여러 평판 표시 장치(Flat Panel Display device), 예를 들어, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전계발광표시장치(Electro Luminescent Display device), 유기발광다이오드표시장치(Organic Light-Emitting Diode Display device) 등이 연구되고 있다.Recently, with the development of the information society, the demand for the display field is also presented in various forms. For example, a flat panel display device having features such as thinness, light weight, and low power consumption, for example, a liquid crystal display device, a plasma display panel device, Electro luminescent display devices and organic light-emitting diode display devices have been studied.

한편, 상기 표시 장치 상에 부착되어 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치인 터치 패널(touch panel)이 디스플레이 장치와 결합되어 화상 표시 기능 및 정보 입력 기능이 함께 구현된 전자 기기들이 개발되고 있다. On the other hand, a touch panel, which is an input device attached to the display device and inputs a user's command by selecting an instruction displayed on the screen with a human hand or an object, is combined with a display device to display an image display function. And electronic devices in which information input functions are implemented together.

상기 터치 패널은 센싱 전극과 같은 도전성 구조물 및 절연 구조들을 포함하며, 상기 도전성 구조물 및 절연 구조의 광학적 특성 차이가 발생할 수 있다. 따라서, 상기 터치 패널이 상기 디스플레이 장치에 삽입되는 경우 사용자에게 터치 패널에 포함된 패턴 형상이 시인될 수 있으며, 디스플레이 장치의 투과도가 저하될 수 있다. The touch panel includes conductive structures and insulating structures such as sensing electrodes, and optical characteristics of the conductive structures and the insulating structures may be different. Therefore, when the touch panel is inserted into the display device, a pattern shape included in the touch panel may be recognized by the user, and transmittance of the display device may be reduced.

따라서, 디스플레이 장치의 이미지 품질, 광학 특성을 열화시키지 않으면서 터치 센싱 기능 구현을 위한 터치 패널 개발이 진행되고 있다. 예를 들면, 한국공개특허 제2014-0092366호에서와 같이 최근 다양한 화상 표시 장치에 터치 센서가 결합된 터치 스크린 패널이 개발되고 있으나, 상술한 바와 같이 광학적 특성이 향상된 터치 센서 또는 터치 패널의 요구가 지속되고 있다.Accordingly, development of a touch panel for realizing a touch sensing function without deteriorating image quality and optical characteristics of the display device is in progress. For example, as disclosed in Korean Patent Application Publication No. 2014-0092366, a touch screen panel in which a touch sensor is coupled to various image display devices has recently been developed, but as described above, there is a need for a touch sensor or a touch panel having improved optical characteristics. It's going on.

한국공개특허 제2014-0092366호Korean Patent Publication No. 2014-0092366

본 발명의 일 과제는 광학적 특성 및 기계적 신뢰성이 향상된 터치 센서를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a touch sensor with improved optical characteristics and mechanical reliability.

본 발명의 일 과제는 광학적 특성 및 기계적 신뢰성이 향상된 터치 센서의 제조 방법을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a method of manufacturing a touch sensor with improved optical characteristics and mechanical reliability.

본 발명의 일 과제는 광학적 특성 및 기계적 신뢰성이 향상된 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide an image display device including a touch sensor with improved optical characteristics and mechanical reliability.

1. 베이스 층; 상기 베이스 층 상에 형성되며 서로 상이한 경화도를 갖는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하고, 상기 제2 부분의 경화도는 상기 제1 부분의 경화도 대비 60 내지 80%인 광학 조절층; 및 상기 광학 조절층의 상기 제2 부분 상에 배치된 센싱 전극을 포함하는, 터치 센서.1. Base layer; An optical control layer formed on the base layer and including a first portion and a second portion having different degrees of cure, wherein the degree of cure of the second portion is 60 to 80% of the degree of cure of the first portion; And a sensing electrode disposed on the second portion of the optical control layer.

2. 위 1에 있어서, 상기 제1 부분은 노광부, 상기 제2 부분은 비노광부인, 터치 센서.2. In the above 1, wherein the first portion is an exposed portion, the second portion is a non-exposed portion, the touch sensor.

3. 위 1에 있어서, 상기 제1 부분의 굴절률은 상기 제2 부분의 굴절률보다 큰, 터치 센서.3. In the above 1, the refractive index of the first portion is larger than the refractive index of the second portion, the touch sensor.

4. 위 3에 있어서, 상기 제1 부분 및 상기 제2 부분의 굴절률 차이는 0.05 내지 0.2인, 터치 센서.4. In the above 3, the refractive index difference between the first portion and the second portion is 0.05 to 0.2, the touch sensor.

5. 위 3에 있어서, 상기 센싱 전극의 굴절률은 상기 제1 부분의 굴절률보다 크며, 상기 센싱 전극 및 상기 제1 부분의 굴절률 차이는 0.05 내지 0.2인, 터치 센서.5. In the above 3, the refractive index of the sensing electrode is greater than the refractive index of the first portion, the difference in refractive index of the sensing electrode and the first portion is 0.05 to 0.2, the touch sensor.

6. 위 1에 있어서, 상기 광학 조절층은 하기 화학식 1로 표시되는 카도계 화합물을 포함하는 코팅 조성물로부터 형성된, 터치 센서.6. In the above 1, wherein the optical control layer is formed from a coating composition comprising a cardo-based compound represented by the following formula (1), the touch sensor.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(화학식 1 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 히드록실기 또는 중합 반응성 기를 함유하는 탄소수 3 내지 10의 탄화수소 그룹임).(In formula 1, R <1> and R <2> is a C3-C10 hydrocarbon group containing a hydroxyl group or a polymerization reactive group each independently.

7. 위 6에 있어서, 상기 화학식 1 중, 상기 중합 반응성 기는 아크릴레이트기, 비닐기, 알릴기 또는 에폭시기 중 적어도 하나를 포함하는, 터치 센서.7. In the above 6, wherein in the formula 1, the polymerization reactive group includes at least one of an acrylate group, vinyl group, allyl group or epoxy group, touch sensor.

8. 위 6에 있어서, 상기 카도계 화합물은 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 포함하는, 터치 센서:8. In the above 6, wherein the cardo-based compound comprises a compound represented by the following formula 1-1, touch sensor:

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00002
Figure pat00002

(화학식 1-1 중, n은 1 내지 5의 정수이다).(In Formula 1-1, n is an integer of 1-5.).

9. 1에 있어서, 상기 센싱 전극 및 상기 광학 조절층 상에 형성된 상부 절연층을 더 포함하는, 터치 센서.9. The touch sensor of claim 1, further comprising an upper insulating layer formed on the sensing electrode and the optical control layer.

10. 위 9에 있어서, 상기 베이스 층은 유기 고분자 물질을 포함하는 하부 절연층을 포함하는, 터치 센서.10. The touch sensor of claim 9, wherein the base layer includes a lower insulating layer including an organic polymer material.

11. 위 10에 있어서, 상기 하부 절연층은 캐리어 기판과의 박리를 위한 분리층으로 제공되는, 터치 센서.11. In the above 10, wherein the lower insulating layer is provided as a separation layer for peeling with the carrier substrate, the touch sensor.

12. 위 10에 있어서, 상기 하부 절연층 및 상기 광학 조절층 사이에 배치되는 보호층을 더 포함하는, 터치 센서.12. The touch sensor of claim 10, further comprising a protective layer disposed between the lower insulating layer and the optical control layer.

13. 베이스 층 상에 중합성 화합물을 포함하는 코팅 조성물을 도포하여 광학 조절층을 형성하는 단계; 상기 광학 조절층을 선택적으로 노광하여 경화도가 증가된 노광부를 형성하는 단계; 및 상기 광학 조절층의 비노광부 상에 선택적으로 센싱 전극을 형성하는 단계를 포함하는, 터치 센서의 제조 방법.13. Applying a coating composition comprising a polymerizable compound on the base layer to form an optical control layer; Selectively exposing the optical control layer to form an exposed portion with increased degree of curing; And selectively forming a sensing electrode on the non-exposed part of the optical control layer.

14. 위 13에 있어서, 상기 코팅 조성물의 상기 중합성 화합물은 카도계 화합물을 포함하는, 터치 센서의 제조 방법.14. In the above 13, wherein the polymerizable compound of the coating composition comprises a cardo-based compound, a method of manufacturing a touch sensor.

15. 위 13에 있어서, 상기 센싱 전극을 형성하는 단계는,15. In the above 13, the step of forming the sensing electrode,

상기 광학 조절층 상에 전극층을 형성하는 단계; 상기 전극층 상에 포토레지스트 층을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 층에 대해 노광 공정 및 현상 공정을 수행하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴을 사용하여 상기 전극층을 식각하는 단계를 포함하는, 터치 센서의 제조 방법.Forming an electrode layer on the optical control layer; Forming a photoresist layer on the electrode layer; Forming a photoresist pattern by performing an exposure process and a developing process on the photoresist layer; And etching the electrode layer using the photoresist pattern.

16. 위 15에 있어서, 상기 포토레지스트 층에 대한 상기 노광 공정 및 상기 광학 조절층에 대한 노광 공정은 동일한 노광 마스크를 사용하여 수행되는, 터치 센서의 제조 방법.16. The method of manufacturing the touch sensor of 15 above, wherein the exposure process for the photoresist layer and the exposure process for the optical control layer are performed using the same exposure mask.

17. 윈도우 기판; 및 상기 윈도우 기판의 일면 상에 적층된 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 따른 터치 센서를 포함하는, 윈도우 적층체.17. window substrate; And a touch sensor according to any one of claims 1 to 12 stacked on one surface of the window substrate.

18. 위 17에 있어서, 상기 윈도우 기판의 상기 일면 상에 적층된 편광층을 더 포함하는, 윈도우 적층체.18. The window laminate of claim 17, further comprising a polarizing layer laminated on the one surface of the window substrate.

19. 표시 패널; 및 상기 표시 패널 상에 적층되며 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 따른 터치 센서를 포함하는 윈도우 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.19. display panel; And a window stack stacked on the display panel, the window stack including a touch sensor according to any one of claims 1 to 12.

본 발명의 실시예들에 따르는 터치 센서는 센싱 전극 및 베이스 층 사이에 형성되고 서로 다른 경화도를 갖는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하는 광학 조절층을 포함할 수 있다. 상기 제1 부분은 상기 제2 부분보다 높은 경화도 및 굴절률을 가지며 비전극 영역에 형성될 수 있다. 따라서, 상기 비전극 영역의 굴절률을 전극 영역에 근접시켜 영역별 굴절률 편차에 따른 반사율을 저감시킬 수 있고, 굴절률 정합을 통해 전극 패턴의 시인을 억제할 수 있다.The touch sensor according to the embodiments of the present invention may include an optical control layer formed between the sensing electrode and the base layer and including a first portion and a second portion having different degrees of cure. The first portion may have a higher degree of curing and refractive index than the second portion and may be formed in the non-electrode region. Therefore, the refractive index of the non-electrode region may be close to the electrode region to reduce the reflectance according to the refractive index variation of each region, and the visibility of the electrode pattern may be suppressed through the matching of the refractive indices.

상기 광학 조절층은 카도계 화합물을 포함할 수 있으며, 이에 따라 향상된 굴절률을 확보하면서, 내화학성, 내열성등의 신뢰성이 함께 향상될 수 있다. 따라서, 상기 터치 센서가 플렉시블 디스플레이 장치에 적용되는 경우에도 벤딩 시 크랙, 파단 발생을 방지할 수 있다.The optical control layer may include a cardo-based compound, thereby ensuring improved refractive index, reliability of chemical resistance, heat resistance and the like may be improved together. Therefore, even when the touch sensor is applied to the flexible display device, cracks and breaks may be prevented during bending.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 2 내지 도 5는 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서의 제조 방법을 나타내는 개략적인 단면도들이다.
도 6은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 7 내지 9는 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서의 제조 방법을 나타내는 개략적인 단면도들이다.
도 10 및 도 11은 일부 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서를 나타내는 개략적인 평면도 및 단면도이다.
도 12는 예시적인 실시예들에 따른 윈도우 적층체 및 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.1 is a schematic cross-sectional view illustrating a touch sensor according to example embodiments.
2 to 5 are schematic cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch sensor according to exemplary embodiments.
6 is a schematic cross-sectional view illustrating a touch sensor in accordance with example embodiments.
7 to 9 are schematic cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch sensor in accordance with example embodiments.
10 and 11 are schematic plan views and cross-sectional views illustrating a touch sensor in accordance with some example embodiments.
12 is a schematic diagram illustrating a window stack and an image display device according to example embodiments.

본 발명의 실시예들에 따르면, 센싱 전극들 및 광학 조절층을 포함하며 향상된 광학 특성을 갖는 터치 센서 및 이의 제조 방법이 제공된다. 또한, 상기 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치가 제공된다.According to embodiments of the present invention, a touch sensor including sensing electrodes and an optical control layer and having improved optical properties and a method of manufacturing the same are provided. In addition, an image display device including the touch sensor is provided.

이하 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예를 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following drawings attached to the present specification are intended to illustrate preferred embodiments of the present invention, and together with the contents of the present invention serves to further understand the technical spirit of the present invention, the present invention described in such drawings It should not be construed as limited to matters.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서를 나타내는 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a touch sensor according to example embodiments.

도 1을 참조하면, 상기 터치 센서는 베이스 층(100), 광학 조절층(110) 및 센싱 전극(125)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the touch sensor may include a base layer 100, an optical control layer 110, and a sensing electrode 125.

베이스 층(100)은 센싱 전극(125) 및 광학 조절층(110) 형성을 위해 지지층 또는 필름 타입 기재를 포괄하는 의미로 사용된다. 예를 들면, 베이스 층(100)은 터치 센서에 통상적으로 사용되는 필름 소재가 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 유리, 고분자 및/또는 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. 상기 고분자의 예로서, 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 들 수 있다. 상기 무기 절연 물질의 예로서, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물, 금속 산화물 등을 들 수 있다.The base layer 100 is used to encompass the supporting layer or the film type substrate to form the sensing electrode 125 and the optical control layer 110. For example, the base layer 100 may be a film material commonly used in a touch sensor without particular limitation, and may include, for example, glass, a polymer, and / or an inorganic insulating material. Examples of the polymer include cyclic olefin polymer (COP), polyethylene terephthalate (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), poly Polyallylate, polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer (COC), poly Methyl methacrylate (PMMA) etc. are mentioned. Examples of the inorganic insulating material include silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, metal oxides, and the like.

일부 실시예들에 있어서, 상기 터치 센서가 삽입되는 화상 표시 장치의 층 또는 필름 부재가 베이스 층(100)으로 제공될 수도 있다. 예를 들면, 디스플레이 패널에 포함되는 인캡슐레이션 층 또는 패시베이션 층 등이 베이스 층(100)으로 제공될 수도 있다.In some embodiments, the layer or film member of the image display device into which the touch sensor is inserted may be provided as the base layer 100. For example, an encapsulation layer or a passivation layer included in the display panel may be provided as the base layer 100.

광학 조절층(110)은 베이스 층(100)의 상면 상에 형성될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 광학 조절층(110)은 베이스 층(100)의 상면과 직접 접촉할 수 있으며, 광학 코팅 조성물을 베이스 층(100) 상에 직접 도포하여 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 광학 코팅 조성물은 카도계(cardo-type) 화합물 또는 수지를 포함하도록 형성될 수 있다.The optical control layer 110 may be formed on the top surface of the base layer 100. According to example embodiments, the optical control layer 110 may be in direct contact with the top surface of the base layer 100, and may be formed by directly applying the optical coating composition on the base layer 100. In some embodiments, the optical coating composition may be formed to include a cardo-type compound or resin.

예시적인 실시예들에 따르면, 광학 조절층(110)은 서로 다른 경화도를 갖는 제1 부분(113) 및 제2 부분(115)을 포함하며, 제1 부분(113)은 제2 부분(115)보다 큰 경화도를 가질 수 있다.According to example embodiments, the optical control layer 110 includes a first portion 113 and a second portion 115 having different degrees of cure, the first portion 113 being the second portion 115. It may have a greater degree of cure.

본 출원에서 사용되는 용어 "경화도"는 고분자 물질의 경화 공정에 의한 중합 정도 또는 가교 정도를 나타낼 수 있다. 상기 경화도는 겔 투과 크로마토그래피(GPC)를 통해 측정될 수 있다. 예를 들면, GPC 칼럼에 THF 용매를 계속 이동 시키면서, THF 용매에 녹인 희석된 고분자 용액을 주입할 수 있다. 경화도가 높은 샘플일수록 용제(THF)에 대한 용해도는 감소하며 GPC에서 검출되는 피크의 면적 역시 감소한다. 광학 조절층(110)에 대한 제1 부분(113) 및 제2 부분(115)의 샘플을 분리하고 과노광(1600mJ)조건에서의 피크의 면적을 100%로 기준으로 하고 분리된 샘플의 경화도를 측정할 수 있다.The term "curing degree" used in the present application may refer to the degree of polymerization or the degree of crosslinking by the curing process of the polymer material. The degree of cure can be measured via gel permeation chromatography (GPC). For example, while continuously moving the THF solvent to the GPC column, a diluted polymer solution dissolved in the THF solvent may be injected. The higher the degree of cure, the lower the solubility in solvents (THF) and the smaller the area of peak detected in GPC. The samples of the first portion 113 and the second portion 115 with respect to the optical control layer 110 are separated, and the degree of cure of the separated sample is determined based on the area of the peak under overexposure (1600 mJ). It can be measured.

일부 실시예들에 있어서, 광학 조절층(110)의 제2 부분(115)의 경화도는 제1 부분(113) 대비 약 60 내지 80%일 수 있다. 제2 부분(115)의 경화도가 약 60% 미만인 경우, 광학 조절층(110)의 전체적인 경도가 약화되어 충분한 언더 코팅 특성이 확보되지 않을 수 있다. 제2 부분(115)의 경화도가 약 80%를 초과하는 경우 후술하는 전극 영역 및 비전극 영역에서의 굴절률 매칭 효과가 충분히 확보되지 않을 수 있다.In some embodiments, the degree of cure of the second portion 115 of the optical control layer 110 may be about 60 to 80% of the first portion 113. When the degree of curing of the second portion 115 is less than about 60%, the overall hardness of the optical control layer 110 may be weakened, so that sufficient undercoating characteristics may not be secured. When the degree of curing of the second portion 115 exceeds about 80%, the refractive index matching effect in the electrode region and the non-electrode region described below may not be sufficiently secured.

예시적인 실시예들에 따르면, 광학 조절층(110)은 굴절률 정합층(refractive index layer: IML) 및 터치 센서의 언더 코팅층으로 제공될 수 있다. According to example embodiments, the optical control layer 110 may be provided as an refractive index matching layer (IML) and an undercoating layer of the touch sensor.

제1 부분(113) 및 제2 부분(115)은 측면들이 서로 접하며 교대로 반복적으로 배열될 수 있다. 광학 조절층(110)의 제1 부분(113)은 상술한 바와 같이 제2 부분(115) 보다 상승된 경화도를 가지며, 높은 굴절률을 가질 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제1 부분(113)의 굴절률은 약 1.65 내지 1.8 범위일 수 있다. 제2 부분(115)의 굴절률은 약 1.5 내지 1.6 범위일 수 있다.The first portion 113 and the second portion 115 may be alternately and repeatedly arranged in contact with each other. As described above, the first portion 113 of the optical control layer 110 may have a higher degree of curing than the second portion 115 and may have a high refractive index. In one embodiment, the refractive index of the first portion 113 may range from about 1.65 to 1.8. The refractive index of the second portion 115 may range from about 1.5 to 1.6.

센싱 전극(125)은 광학 조절층(110) 상에 배치될 수 있다. 센싱 전극(125)은 터치 지점에서 정전 용량이 생성되는 도메인으로서 제공될 수 있으며, 복수의 센싱 전극들(125)이 광학 조절층(110) 상에 배열될 수 있다.The sensing electrode 125 may be disposed on the optical control layer 110. The sensing electrode 125 may be provided as a domain in which capacitance is generated at the touch point, and the plurality of sensing electrodes 125 may be arranged on the optical control layer 110.

일부 실시예들에 있어서, 센싱 전극들(125)은 각각 섬(island) 패턴으로 존재하며, 상기 센싱 전극으로부터 트레이스가 분기되어 예를 들면, 구동 회로와 연결될 수 있다. 이 경우, 상기 터치 센서는 자기 정전용량(Self Capacitance) 방식의 터치 센서일 수 있다.In some embodiments, the sensing electrodes 125 are each present in an island pattern, and traces may be branched from the sensing electrodes to be connected to, for example, a driving circuit. In this case, the touch sensor may be a self-capacitance touch sensor.

일부 실시예들에 있어서, 상기 터치 센서는 도 10 및 도 11을 참조로 후술하는 바와 같이 서로 교차하도록 배열된 제1 센싱 전극 및 제2 센싱 전극을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 터치 센서는 상호 정전용량(Mutual Capacitance) 방식의 터치 센서일 수 있다.In some embodiments, the touch sensor may include a first sensing electrode and a second sensing electrode arranged to cross each other as described below with reference to FIGS. 10 and 11. In this case, the touch sensor may be a mutual capacitive touch sensor.

센싱 전극(125)은 투명 도전성 산화물 또는 금속을 포함할 수 있다. 상기 투명 도전성 산화물은 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO) 등을 포함할 수 있다. 상기 금속은 예를 들면, 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 주석(Sn) 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.The sensing electrode 125 may include a transparent conductive oxide or a metal. The transparent conductive oxide may include, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), or the like. The metal is, for example, silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), chromium (Cr), titanium (Ti), tungsten (W). ), Niobium (Nb), tantalum (Ta), vanadium (V), iron (Fe), manganese (Mn), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc (Zn), tin (Sn) or alloys thereof It may include. These may be used alone or in combination of two or more.

일부 실시예들에 있어서, 터치 센서의 투명성 또는 투과도 확보를 위해 센싱 전극(125)은 예를 들면, ITO와 같은 상기 투명 도전성 산화물을 포함하도록 형성될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 센싱 전극(125)은 투명 도전성 산화물 단일층 구조를 가지며, 이 경우 투과도가 보다 향상될 수 있다. 예를 들면, 센싱 전극(125)의 굴절률은 약 1.75 내지 2.2 범위일 수 있다. 일 실시예에 있어서, 센싱 전극(125)의 굴절률은 약 1.75 내지 1.9 범위일 수 있다.In some embodiments, the sensing electrode 125 may be formed to include the transparent conductive oxide such as, for example, ITO in order to secure transparency or transmittance of the touch sensor. In one embodiment, the sensing electrode 125 has a transparent conductive oxide single layer structure, in which case the transmittance may be further improved. For example, the refractive index of the sensing electrode 125 may range from about 1.75 to 2.2. In one embodiment, the refractive index of the sensing electrode 125 may range from about 1.75 to 1.9.

예시적인 실시예들에 따르면, 센싱 전극(125)은 광학 조절층(110)의 제2 부분들(115) 상에 선택적으로 배열될 수 있다. 이에 따라, 상기 터치 센서는 센싱 전극들(125)이 형성된 전극 영역 및 센싱 전극들(125)이 미포함된 비전극 영역으로 구분될 수 있다.According to example embodiments, the sensing electrode 125 may be selectively arranged on the second portions 115 of the optical control layer 110. Accordingly, the touch sensor may be divided into an electrode region in which the sensing electrodes 125 are formed and a non-electrode region in which the sensing electrodes 125 are not included.

상기 전극 영역에서는 센싱 전극(125)에 의해 상대적으로 높은 굴절률을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 전극 영역 및 비전극 영역에서의 굴절률 편차에 따른 반사율 증가에 기인한 패턴 시인이 발생할 수 있다.In the electrode region, the sensing electrode 125 may have a relatively high refractive index. Accordingly, pattern recognition may occur due to an increase in reflectance due to refractive index deviation in the electrode region and the non-electrode region.

그러나, 예시적인 실시예들에 따르면 상기 비전극 영역에서는 상대적으로 높은 경화도 및 굴절률을 갖는 광학 조절층(110)의 제1 부분(113)이 배치되어 센싱 전극(125)의 굴절률에 보다 근접하므로 상기 굴절률 차이를 완화 또는 감소시킬 수 있다. 따라서, 상기 비전극 영역으로부터 발생하는 패턴 시인을 억제 또는 감소시킬 수 있다.However, according to exemplary embodiments, since the first portion 113 of the optical control layer 110 having a relatively high degree of cure and refractive index is disposed in the non-electrode region, it is closer to the refractive index of the sensing electrode 125. The difference in refractive index may be alleviated or reduced. Therefore, pattern recognition generated from the non-electrode region can be suppressed or reduced.

또한, 상기 비전극 영역에서 제1 부분(113)이 보다 높은 경화도를 가지므로 상기 전극 영역과의 경도 차이에 따른 기계적 불량, 크랙 발생 등을 감소시킬 수 있다.In addition, since the first portion 113 has a higher degree of curing in the non-electrode region, mechanical defects, cracks, and the like caused by hardness differences with the electrode region may be reduced.

또한, 상기 전극 영역에서는 제2 부분(115)이 베이스 층(100) 및 센싱 전극(125) 사이에 배치되어 베이스 층(100)으로부터 순차적으로 굴절률이 점진적으로 증가할 수 있다. 따라서, 굴절률의 급격한 변화에 의한 광반사를 감소시킬 수 있다.In addition, in the electrode region, the second portion 115 may be disposed between the base layer 100 and the sensing electrode 125 to gradually increase the refractive index from the base layer 100. Therefore, it is possible to reduce the light reflection due to the sudden change in the refractive index.

예시적인 실시예들에 따르면, 센싱 전극(125) 및 제1 부분(113)의 굴절률 차이는 약 0.05 내지 0.2 범위일 수 있으며. 센싱 전극(125) 및 제2 부분의 굴절률(115) 차이는 약 0.15 내지 0.25 범위일 수 있다. 또한, 제1 부분(113) 및 제2 부분(115)의 굴절률 차이는 0.05 내지 0.2 범위, 바람직하게는 0.05 내지 0.15 범위일 수 있다.According to example embodiments, the difference in refractive index between the sensing electrode 125 and the first portion 113 may range from about 0.05 to 0.2. The difference in refractive index 115 between the sensing electrode 125 and the second portion may range from about 0.15 to 0.25. In addition, the difference in refractive index between the first portion 113 and the second portion 115 may be in the range of 0.05 to 0.2, preferably in the range of 0.05 to 0.15.

센싱 전극(125) 및 광학 조절층(110) 상에는 상부 절연층(130)이 형성될 수 있다.An upper insulating layer 130 may be formed on the sensing electrode 125 and the optical control layer 110.

상부 절연층(130)은 투명 절연 소재로 형성될 수 있다. 예를 들면, 실리콘 산화물과 같은 무기 절연 물질, 또는 아크릴계 수지와 같은 투명 유기 물질을 사용하여 상부 절연층(130)이 형성될 수 있다.The upper insulating layer 130 may be formed of a transparent insulating material. For example, the upper insulating layer 130 may be formed using an inorganic insulating material such as silicon oxide or a transparent organic material such as acrylic resin.

상부 절연층(130)의 굴절률은 광학 조절층(110)의 굴절률보다 작을 수 있다. 예를 들면, 센싱 전극(125) 및 상부 절연층(130)의 굴절률의 차이는 약 0.3을 초과할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상부 절연층(130)과 센싱 전극(125)의 계면에서의 반사 증가를 억제하기 위해 센싱 전극(125) 및 상부 절연층(130)의 굴절률의 차이는 약 0.3 내지 0.5 범위로 조절될 수 있다.The refractive index of the upper insulating layer 130 may be smaller than the refractive index of the optical control layer 110. For example, the difference in refractive index between the sensing electrode 125 and the upper insulating layer 130 may exceed about 0.3. In some embodiments, the difference in refractive index between the sensing electrode 125 and the upper insulating layer 130 is about 0.3 to 0.5 to suppress an increase in reflection at the interface between the upper insulating layer 130 and the sensing electrode 125. The range can be adjusted.

상부 절연층(130)은 도 1에 도시된 바와 같이, 센싱 전극들(125) 및 광학 조절층(110)을 공통적으로 덮는 오버 코팅층으로 제공될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상부 절연층(130)은 이웃하는 센싱 전극들(125) 사이를 절연시키기 위한 섬 패턴 형상으로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 1, the upper insulating layer 130 may be provided as an overcoat layer that covers the sensing electrodes 125 and the optical control layer 110 in common. In some embodiments, the upper insulating layer 130 may be formed in an island pattern shape to insulate the neighboring sensing electrodes 125.

도 2 내지 도 5는 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서의 제조 방법을 나타내는 개략적인 단면도들이다.2 to 5 are schematic cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch sensor according to exemplary embodiments.

도 2를 참조하면, 베이스 층(100) 상에 광학 조절층(110)을 형성할 수 있다. 광학 조절층(110)은 광학 코팅 조성물을 스핀 코팅, 슬릿 코팅 공정과 같은 코팅 공정을 통해 베이스 층(100) 상면에 도포한 후, 건조 및/또는 소프트-베이킹 공정을 통해 형성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the optical control layer 110 may be formed on the base layer 100. The optical control layer 110 may be formed through a drying and / or soft-baking process after applying the optical coating composition to the upper surface of the base layer 100 through a coating process such as spin coating, slit coating process.

상기 광학 코팅 조성물은 중합성 화합물, 중합 개시제 및 용제를 포함할 수 있다.The optical coating composition may include a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a solvent.

상기 중합성 화합물은 광경화성 혹은 광반응성을 갖는 적어도 하나의 작용기를 갖는 단량체를 포함할 수 있다. 예를 들면, 유기 조성물 분야에서 널리 공지된 단관능 단량체, 2관능 단량체 및 기타 다관능 단량체들을 사용할 수 있다. The polymerizable compound may include a monomer having at least one functional group having photocurability or photoreactivity. For example, monofunctional monomers, difunctional monomers, and other polyfunctional monomers well known in the field of organic compositions can be used.

상기 단관능 단량체의 예로서 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 스티렌, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. Examples of the monofunctional monomers are nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, styrene, and N-vinylpi A ralidone etc. are mentioned.

상기 2관능 단량체의 예로서 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional monomers include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentylglycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and bisphenol Bis (acryloyloxyethyl) ether of A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, etc. are mentioned.

상기 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tree ( Meta) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned.

바람직하게는, 상기 광중합성 화합물은 2관능 이상의 아크릴레이트계 단량체를 포함할 수 있다.Preferably, the photopolymerizable compound may include a bifunctional or higher acrylate monomer.

일부 실시예들에 있어서, 상기 중합성 화합물은 에폭시기 함유 화합물을 포함할 수도 있다. 이 경우, 광학 조절층(110) 내에서 후술하는 노광 공정을 통해 광라디칼 반응 및 열에 의한 양이온 반응이 함께 진행될 수 있다. In some embodiments, the polymerizable compound may include an epoxy group-containing compound. In this case, an optical radical reaction and a cationic reaction by heat may proceed together through an exposure process described later in the optical control layer 110.

상기 중합성 화합물로서 고분자 조성물 분야에서 상용되는 알칼리 가용성 바인더 수지가 함께 사용될 수 있다.As the polymerizable compound, an alkali-soluble binder resin commonly used in the polymer composition field may be used together.

상기 중합 개시제는 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 옥심에스테르계 화합물 등을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다. The polymerization initiator may include, for example, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a triazine compound, a biimidazole compound, a thioxanthone compound, an oxime ester compound, and the like. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 용제로서 예를 들면, 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 부틸디올모노알킬에테르류; 부탄디올모노알킬에테르아세테이트류; 부탄디올모노알킬에테르프로피오네이트류; 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디알킬에테르류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 케톤류; 알코올류; 에스테르류; 테트라히드로푸란, 피란 등의 고리형 에테르류; γ-부티로락톤 등의 고리형 에스테르류 등의 화합물들이 사용될 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다.As the solvent, for example, ethylene glycol monoalkyl ethers; Diethylene glycol dialkyl ethers; Ethylene glycol alkyl ether acetates; Alkylene glycol alkyl ether acetates; Propylene glycol monoalkyl ethers; Propylene glycol dialkyl ethers; Propylene glycol alkyl ether propionates; Butyl diol monoalkyl ethers; Butanediol monoalkyl ether acetates; Butanediol monoalkyl ether propionate; Dipropylene glycol dimethyl ether and dipropylene glycol dialkyl ethers; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; Ketones; Alcohols; Esters; Cyclic ethers such as tetrahydrofuran and pyran; Compounds, such as cyclic esters, such as (gamma) -butyrolactone, can be used. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 광학 코팅 조성물은 카도계(cardo-type) 화합물을 상기 중합성 화합물로서 포함할 수 있다. According to exemplary embodiments, the optical coating composition may include a cardo-type compound as the polymerizable compound.

예를 들면, 상기 카도계 화합물은 하기의 화학식 1로 표시될 수 있다.For example, the cardo-based compound may be represented by Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00003
Figure pat00003

화학식 1 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 히드록실기 또는 중합 반응성 기를 함유하는 탄소수 3 내지 10의 탄화수소 그룹을 나타낸다. 상기 중합 반응성 기의 예로서 아크릴레이트기, 비닐기, 알릴기 또는 에폭시기를 들 수 있다.In formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms containing a hydroxyl group or a polymerization reactive group. As an example of the said polymerization reactive group, an acrylate group, a vinyl group, an allyl group, or an epoxy group is mentioned.

화학식 1로 표시되는 카도계 화합물의 비제한적인 예로서, 하기의 화학식 1-1 또는 화학식 1-2의 화합물 등을 들 수 있다.As a non-limiting example of the cardo-type compound represented by General formula (1), the following compound of General formula (1-1) or general formula (1-2) etc. are mentioned.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00004
Figure pat00004

(화학식 1-1 중, n은 1 내지 5의 정수이다)(N is an integer of 1-5 in Formula 1-1.)

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00005
Figure pat00005

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00006
Figure pat00006

바람직한 일 실시예에 있어서, 상기 카도계 화합물은 열 경화에 의한 양이온 중합을 함께 촉진하기 위해 에폭시기를 포함할 수 있으며, 예를 들면, 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.In a preferred embodiment, the cardo-based compound may include an epoxy group to promote cationic polymerization by thermal curing together, for example, may include a compound represented by the formula (1-1).

상술한 카도계 화합물이 광학 조절층(110)에 포함됨에 따라, 광학 조절층의 굴절률을 추가적으로 상승시킬 수 있으며, 광학 조절층(110)의 내화학성 및 기계적 내구성 역시 함께 향상될 수 있다.As the cardo-based compound described above is included in the optical control layer 110, the refractive index of the optical control layer may be further increased, and chemical resistance and mechanical durability of the optical control layer 110 may also be improved.

도 3을 참조하면, 광학 조절층(110)에 대해 노광 공정을 수행할 수 있다. Referring to FIG. 3, an exposure process may be performed on the optical control layer 110.

예시적인 실시예들에 따르면, 노광 마스크(50)를 광학 조절층(110) 상에 배치한 후, 예를 들면 자외선 광원(60)을 통해 노광 마스크(50)에 포함된 투과부를 통해 노광 공정을 수행할 수 있다. 상기 투과부와 중첩되는 광학 조절층(110) 부분은 제1 부분(113)(예를 들면, 노광부)으로 변환될 수 있다. 노광 마스크(50)와 중첩되는 광학 조절층(110) 부분은 제2 부분(115)(예를 들면, 비노광부)으로 잔류할 수 있다.According to exemplary embodiments, the exposure mask 50 is disposed on the optical control layer 110, and then, for example, the exposure process is performed through the transmission part included in the exposure mask 50 through the ultraviolet light source 60. Can be done. A portion of the optical control layer 110 overlapping with the transmissive portion may be converted into a first portion 113 (eg, an exposed portion). The portion of the optical control layer 110 overlapping the exposure mask 50 may remain as the second portion 115 (eg, the non-exposed portion).

제1 부분(113)에서는 상기 노광 공정에 의해 광중합이 개시되어, 경화도가 증가할 수 있다. 예를 들면, 상술한 중합성 화합물 및 카도계 화합물의 가교, 중합 반응이 생성되어 경화도 상승과 함께 굴절률이 증가할 수 있다.In the first portion 113, photopolymerization may be initiated by the exposure process, thereby increasing the degree of curing. For example, crosslinking and polymerization reaction of the polymerizable compound and the cardo-based compound described above may be generated to increase the refractive index with an increase in the degree of curing.

일부 실시예들에 있어서, 제2 부분(115)의 경화도는 제1 부분(113) 대비 약 60 내지 80% 범위로 조절되도록 노광 공정이 수행될 수 있다. 또한, 제1 부분(113)은 제2 부분(115) 대비 굴절률이 상승하며, 제1 부분(113) 및 제2 부분(115)의 굴절률 차이는 0.05 내지 0.2 범위일 수 있다.In some embodiments, an exposure process may be performed such that the degree of curing of the second portion 115 is adjusted to about 60 to 80% of the range of the first portion 113. In addition, the first portion 113 has a higher refractive index than the second portion 115, and the difference in refractive index between the first portion 113 and the second portion 115 may range from 0.05 to 0.2.

일 실시예에 있어서, 상기 노광 공정 이후 포스트-베이킹 공정을 더 수행할 수 있으며, 광경화 코팅층(110)의 경화도 및 굴절률이 추가적으로 증가할 수 있다.In one embodiment, the post-baking process may be further performed after the exposure process, and the curing degree and the refractive index of the photocurable coating layer 110 may be further increased.

도 4를 참조하면, 제1 부분(113) 및 제2 부분(115)이 형성된 광학 조절층(110) 상에 전극 층(120)을 형성할 수 있다. 예를 들면, 전극 층(120)은 ITO와 같은 투명 도전성 산화물을 포함하도록 스퍼터링 공정과 같은 증착 공정을 통해 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4, an electrode layer 120 may be formed on the optical control layer 110 on which the first portion 113 and the second portion 115 are formed. For example, electrode layer 120 may be formed through a deposition process, such as a sputtering process, to include a transparent conductive oxide, such as ITO.

도 5를 참조하면, 전극 층(120)을 식각하여 센싱 전극들(125)을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 5, the sensing layers 125 may be formed by etching the electrode layer 120.

예를 들면, 전극 층(120) 상에 포토레지스트 패턴(150)을 형성하고, 포토레지스트 패턴(150)을 식각 마스크로 사용하여 전극 층(120)을 패터닝함으로써 센싱 전극들(125)을 형성할 수 있다.For example, the sensing electrodes 125 may be formed by forming the photoresist pattern 150 on the electrode layer 120 and patterning the electrode layer 120 using the photoresist pattern 150 as an etching mask. Can be.

포토레지스트 패턴(150)은 전극 층(120) 상에 포토레지스트 층을 형성한 후, 상기 포토레지스트 층을 노광 및 현상 공정을 통해 부분적으로 제거함으로써 형성될 수 있다. The photoresist pattern 150 may be formed by forming a photoresist layer on the electrode layer 120 and then partially removing the photoresist layer through an exposure and development process.

일부 실시예들에 있어서, 상기 포토레지스트 층에 대한 상기 노광 공정에 있어 광학 조절층(110)에 대한 노광 공정시 사용된 노광 마스크(50)와 실질적으로 동이한 노광 마스크가 사용될 수 있다. 이에 따라, 상기 포토레지스트 층의 노광부가 상기 현상 공정을 통해 제거된 후 잔류하는 포토레지스트 패턴(150)을 통해 광학 조절층(110)의 제1 부분(113)과 실질적으로 중첩되는 전극 층(120) 부분이 노출될 수 있다.In some embodiments, an exposure mask that is substantially the same as the exposure mask 50 used in the exposure process for the optical control layer 110 may be used in the exposure process for the photoresist layer. Accordingly, the electrode layer 120 substantially overlaps the first portion 113 of the optical control layer 110 through the photoresist pattern 150 remaining after the exposed portion of the photoresist layer is removed through the developing process. ) Part may be exposed.

포토레지스트 패턴(150)을 통한 상기 식각 공정을 통해 광학 조절층(110)의 제2 부분들(115) 상에 선택적으로 센싱 전극들(125)이 형성될 수 있다.The sensing electrodes 125 may be selectively formed on the second portions 115 of the optical control layer 110 through the etching process through the photoresist pattern 150.

상기 식각 공정 후, 포토레지스트 패턴(150)은 애싱(ashing) 공정 및/또는 스트립(strip) 공정을 통해 제거될 수 있다.After the etching process, the photoresist pattern 150 may be removed through an ashing process and / or a strip process.

이후, 다시 도 1을 참조하면, 센싱 전극들(125) 및 광학 조절층(110) 상에 상부 절연층(130)을 형성할 수 있다. 상부 절연층(130)은 실리콘 산화물과 같은 무기 절연 물질, 또는 아크릴계 수지와 같은 투명 유기 물질을 사용하여, CVD 공정과 같은 증착 공정 또는 스핀 코팅 공정과 같은 코팅 공정을 통해 형성될 수 있다.Subsequently, referring again to FIG. 1, the upper insulating layer 130 may be formed on the sensing electrodes 125 and the optical control layer 110. The upper insulating layer 130 may be formed through a deposition process such as a CVD process or a coating process such as a spin coating process by using an inorganic insulating material such as silicon oxide or a transparent organic material such as an acrylic resin.

도 1에 도시된 바와 같이, 상부 절연층(130)은 센싱 전극들(125) 및 광학 조절층(110)을 전체적으로 덮도록 형성될 수 있다. 이 경우, 상부 절연층(130)은 센싱 전극들(125) 사이의 공간을 채우며 광학 조절층(110)의 제1 부분(113)과 접촉할 수 있다.As shown in FIG. 1, the upper insulating layer 130 may be formed to cover the sensing electrodes 125 and the optical control layer 110 as a whole. In this case, the upper insulating layer 130 may fill the space between the sensing electrodes 125 and contact the first portion 113 of the optical control layer 110.

일부 실시예들에 있어서, 상부 절연층(130)은 센싱 전극들(125) 및/또는 광학 조절층(110)을 부분적으로 덮도록 형성될 수 있다.In some embodiments, the upper insulating layer 130 may be formed to partially cover the sensing electrodes 125 and / or the optical control layer 110.

도 6은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서를 나타내는 개략적인 단면도이다. 도 1을 참조로 설명한 바와 실질적으로 동일하거나 유사한 구성 및 구조에 대한 상세한 설명은 생략된다.6 is a schematic cross-sectional view illustrating a touch sensor in accordance with example embodiments. Detailed descriptions of substantially the same or similar structures and structures as those described with reference to FIG. 1 will be omitted.

도 6을 참조하면, 상기 터치 센서는 제1 부분(113) 및 제2 부분(115)을 포함하는 광학 조절층(110) 및 광학 조절층(110)의 제2 부분(115) 상에 배치된 센싱 전극들(125)을 포함할 수 있다. 광학 조절층(110) 아래에는 하부 절연층(80)이 배치될 수 있다.Referring to FIG. 6, the touch sensor is disposed on the optical adjusting layer 110 including the first portion 113 and the second portion 115 and the second portion 115 of the optical adjusting layer 110. The sensing electrodes 125 may be included. The lower insulating layer 80 may be disposed under the optical control layer 110.

하부 절연층(80)은 캐리어 기판(50)(도 7 내지 도 9 참조)으로부터 터치 센서의 분리 공정 또는 박리 공정을 촉진하기 위한 기능층 또는 분리층으로 포함될 수 있다. 하부 절연층(80)은 고분자 유기물질을 포함할 수 있으며, 비제한적인 예로서 폴리이미드(polyimide)계 고분자, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol)계 고분자, 폴리아믹산(polyamic acid)계 고분자, 폴리아미드(polyamide)계 고분자, 폴리에틸렌(polyethylene)계 고분자, 폴리스티렌(polystyrene)계 고분자, 폴리노보넨(polynorbornene)계 고분자, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer)계 고분자, 폴리아조벤젠(polyazobenzene)계 고분자, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide)계 고분자, 폴리에스테르(polyester)계 고분자, 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate)계 고분자, 폴리아릴레이트(polyarylate)계 고분자, 신나메이트(cinnamate)계 고분자, 쿠마린(coumarin)계 고분자, 프탈리미딘(phthalimidine)계 고분자, 칼콘(chalcone)계 고분자, 방향족 아세틸렌계 고분자 등의 고분자 재질을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 사용할 수 있다.The lower insulating layer 80 may be included as a functional layer or a separation layer for promoting a separation process or a separation process of the touch sensor from the carrier substrate 50 (see FIGS. 7 to 9). The lower insulating layer 80 may include a high molecular organic material. Examples of the non-limiting example may include a polyimide polymer, a polyvinyl alcohol polymer, a polyamic acid polymer, and a poly Amide polymer, polyethylene polymer, polystyrene polymer, polynorbornene polymer, phenylmaleimide copolymer polymer, polyazobenzene polymer, Polyphenylenephthalamide-based polymer, polyester-based polymer, polymethyl methacrylate-based polymer, polyarylate-based polymer, cinnamate-based polymer, coumarin ( Polymer materials such as coumarin polymer, phthalimidine polymer, chalcone polymer, and aromatic acetylene polymer can do. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

일부 실시예들에 있어서, 하부 절연층(80) 및 광학 조절층(110) 사이에 보호층(90)이 더 형성될 수 있다. 보호층(90)은 상기 분리 공정 또는 박리 공정 중 센싱 전극(125) 보호를 위해 포함될 수 있다. 또한, 보호층(90)에 의해 하부 절연층(80) 및 광학 조절층(110) 사이에서 추가적인 굴절률 매칭이 구현될 수 있다.In some embodiments, a passivation layer 90 may be further formed between the lower insulating layer 80 and the optical control layer 110. The protective layer 90 may be included to protect the sensing electrode 125 during the separation process or the peeling process. In addition, additional refractive index matching may be implemented between the lower insulating layer 80 and the optical control layer 110 by the protective layer 90.

보호층(90)은 예를 들면, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물 등과 같은 무기 절연 물질, 또는 고분자 계열의 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.The protective layer 90 may include, for example, an inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, or the like, or a polymer-based organic insulating material.

도 6에 도시된 터치 센서에 있어서, 별도의 기재는 생략될 수 있으며, 하부 절연층(80), 또는 하부 절연층(80) 및 보호층(90)을 포함하는 적층 구조가 실질적으로 베이스 층으로 제공될 수 있다. 이 경우, 상기 터치 센서는 실질적으로 무기재 필름 터치 센서로 제공될 수 있다.In the touch sensor illustrated in FIG. 6, a separate description may be omitted, and the laminated structure including the lower insulating layer 80 or the lower insulating layer 80 and the protective layer 90 may be substantially the base layer. Can be provided. In this case, the touch sensor may be substantially provided as an inorganic film touch sensor.

도 7 내지 도 9는 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서의 제조 방법을 나타내는 개략적인 단면도들이다.7 to 9 are schematic cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch sensor, according to some example embodiments.

도 7을 참조하면, 캐리어 기판(50) 상에 순차적으로 하부 절연층(80) 및 보호층(90)을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 7, the lower insulating layer 80 and the protective layer 90 may be sequentially formed on the carrier substrate 50.

캐리어 기판(50)은 예를 들면, 글래스 기판, 금속 기판 등을 포함할 수 있다. 하부 절연층(80)은 상술한 유기 고분자 물질을 포함하는 조성물을 스핀 코팅 공정 등을 통해 캐리어 기판(50) 상에 도포 후 경화 공정을 통해 형성될 수 있다. 보호층(90)은 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질을 포함하도록 CVD 공정과 증착 공정 또는 스핀 코팅 공정과 같은 코팅 공정을 통해 형성될 수 있다.The carrier substrate 50 may include, for example, a glass substrate, a metal substrate, or the like. The lower insulating layer 80 may be formed through a curing process after coating the composition including the organic polymer material on the carrier substrate 50 through a spin coating process or the like. The protective layer 90 may be formed through a coating process such as a CVD process and a deposition process or a spin coating process to include an inorganic insulating material or an organic insulating material.

도 8을 참조하면, 도 2 내지 도 5를 참조로 설명한 공정들과 실질적으로 동일하거나 유사한 공정들을 수행할 수 있다. Referring to FIG. 8, processes substantially the same as or similar to those described with reference to FIGS. 2 to 5 may be performed.

이에 따라, 보호층(90) 상에 광학 조절층(110)을 형성한 후, 노광 공정을 통해 제1 부분(113)(예를 들면, 노광부) 및 제2 부분(115)(예를 들면, 비노광부)을 형성할 수 있다. 이후, 광학 조절층(110)의 제2 부분(115) 상에 센싱 전극들(125)을 형성하고, 센싱 전극들(125) 및 제1 부분(113) 상에는 상부 절연층(130)이 형성될 수 있다. Accordingly, after the optical control layer 110 is formed on the protective layer 90, the first part 113 (eg, the exposure part) and the second part 115 (eg, through the exposure process are performed. , A non-exposed part) can be formed. Thereafter, the sensing electrodes 125 are formed on the second portion 115 of the optical control layer 110, and the upper insulating layer 130 is formed on the sensing electrodes 125 and the first portion 113. Can be.

도 9를 참조하면, 캐리어 기판(50)을 하부 절연층(80)으로부터 박리 혹은 분리시킬 수 있다. 상술한 바와 같이, 하부 절연층(80)은 캐리어 기판(50)과의 분리를 촉진시킬 수 있는 유기 고분자 물질을 포함하므로, 상기 분리 공정 시 터치 센서에 인가되는 스트레스, 손상을 감소시킬 수 있다.Referring to FIG. 9, the carrier substrate 50 may be peeled or separated from the lower insulating layer 80. As described above, since the lower insulating layer 80 includes an organic polymer material that may facilitate separation from the carrier substrate 50, stress and damage applied to the touch sensor during the separation process may be reduced.

일부 실시예들에 있어서, 상기 분리 공정 이후 열경화 혹은 광경화 공정을 추가로 수행하여 하부 절연층(80)의 경도를 상승시킬 수 있다. 이 경우, 하부 절연층(80)이 실질적으로 터치 센서의 기재층으로 기능할 수 있다.In some embodiments, the thermal curing or photocuring process may be further performed after the separation process to increase the hardness of the lower insulating layer 80. In this case, the lower insulating layer 80 may function as a base layer of the touch sensor.

도 10 및 도 11은 일부 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서를 나타내는 개략적인 평면도 및 단면도이다. 구체적으로, 도 11은 도 10의 I-I' 라인을 따라 절단한 단면도이다.10 and 11 are schematic plan views and cross-sectional views illustrating a touch sensor in accordance with some example embodiments. Specifically, FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 10.

도 10 및 도 11을 참조하면, 상기 터치 센서는 베이스 층(200) 상에 형성된 광학 조절층(220) 및 센싱 전극들(260)을 포함할 수 있다. 상술한 바와 같이, 광학 조절층(220)은 제1 부분(223) 및 제2 부분(225)을 포함하며, 제1 부분(223)은 제2 부분(225)보다 큰 굴절률 및 경화도를 가질 수 있다.10 and 11, the touch sensor may include an optical control layer 220 and sensing electrodes 260 formed on the base layer 200. As described above, the optical adjustment layer 220 may include a first portion 223 and a second portion 225, and the first portion 223 may have a refractive index and a degree of curing greater than the second portion 225. have.

센싱 전극들(260)은 광학 조절층(220)의 제2 부분(225) 상에 배치되며, 평면 상에서 서로 다른 방향으로 배열되는 센싱 전극들을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제1 센싱 전극(240)(예를 들면, y 방향을 따라 배열) 및 제2 센싱 전극(250)(예를 들면, x 방향을 따라 배열)이 서로 교차하도록 배열될 수 있다. The sensing electrodes 260 may be disposed on the second portion 225 of the optical control layer 220 and may include sensing electrodes arranged in different directions on a plane. For example, the first sensing electrode 240 (eg, arranged along the y direction) and the second sensing electrode 250 (eg, arranged along the x direction) may be arranged to cross each other.

제1 센싱 전극(240) 및 제2 센싱 전극(250)은 터치되는 지점의 X 좌표 및 Y 좌표에 대한 정보를 제공한다. 예를 들면, 사람의 손 또는 물체가 커버 윈도우 기판에 접촉되면, 제1 센싱 전극(240), 제2 센싱 전극(250) 및 위치 검출라인을 경유하여 구동회로 측으로 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달된다. 이후, 상기 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 의해 접촉 위치가 파악될 수 있다.The first sensing electrode 240 and the second sensing electrode 250 provide information about the X coordinate and the Y coordinate of the touched point. For example, when a human hand or an object comes into contact with the cover window substrate, the capacitance changes according to the contact position toward the driving circuit via the first sensing electrode 240, the second sensing electrode 250, and the position detection line. Is passed. Thereafter, the contact position can be determined by converting the change in capacitance into an electrical signal.

제1 센싱 전극들(240)은 각각 이격된 섬(island) 형상을 가질 수 있다. 한편, 제2 센싱 전극들(250)은 행 방향(예를 들면, x 방향)을 따라 연결부(250a)를 통해 서로 연결될 수 있다.Each of the first sensing electrodes 240 may have an island shape spaced apart from each other. The second sensing electrodes 250 may be connected to each other through the connection part 250a in a row direction (for example, the x direction).

제1 센싱 전극(240) 및 제2 센싱 전극(250)이 서로 동일 레벨 상에 배치되는 경우, 제1 센싱 전극들(240)을 제2 센싱 전극(250)과 절연시키면서, 서로 연결시키기 위해 브릿지 전극(280)이 더 형성될 수 있다. 브릿지 전극(280)은 열 방향(예를 들면, y 방향)으로 서로 이웃하는 제1 센싱 전극들(240)을 서로 전기적으로 연결시킬 수 있다.When the first sensing electrode 240 and the second sensing electrode 250 are disposed on the same level with each other, the first sensing electrodes 240 and the second sensing electrode 250 are insulated from each other while being bridged to connect each other. The electrode 280 may be further formed. The bridge electrode 280 may electrically connect the first sensing electrodes 240 adjacent to each other in the column direction (eg, the y direction).

도 11에 도시된 바와 같이, 절연층(270)이 예를 들면, 연결부(250a) 및 제1 부분(223) 상에 형성되고, 이웃하는 한 쌍의 제1 센싱 전극들(240)을 부분적으로 커버할 수 있다.As shown in FIG. 11, an insulating layer 270 is formed on, for example, the connection portion 250a and the first portion 223, and partially neighbors a pair of first sensing electrodes 240. You can cover it.

브릿지 전극(280)은 절연층(270) 상에 배치되어 이웃하는 한 쌍의 제1 센싱 전극들(240)을 서로 전기적으로 연결시킬 수 있다. 예를 들면, 브릿지 전극(280)은 절연층(270) 상에서 연결부(250a)와 서로 교차할 수 있다.The bridge electrode 280 may be disposed on the insulating layer 270 to electrically connect the adjacent pair of first sensing electrodes 240 to each other. For example, the bridge electrode 280 may cross the connection portion 250a on the insulating layer 270.

일부 실시예들에 있어서, 절연층(270) 내에 이웃하는 한 쌍의 제1 센싱 전극들(240)의 상면들을 부분적으로 노출시키는 콘택 홀들이 형성될 수 있다. 이 경우, 브릿지 전극(280)은 절연층(270) 상에 형성되어, 상기 콘택 홀들을 채울 수 있다.In some embodiments, contact holes may be formed in the insulating layer 270 to partially expose the top surfaces of the pair of neighboring first sensing electrodes 240. In this case, the bridge electrode 280 may be formed on the insulating layer 270 to fill the contact holes.

브릿지 전극(280)은 금속 또는 투명 도전성 산화물을 포함할 수 있다. 도 11에 도시된 바와 같이, 브릿지 전극(280)은 터치 센서의 두께 방향으로 제1 부분(223)과 중첩될 수 있으며, 브릿지 전극(280) 및 제1 부분(223)의 굴절률 차이는 약 0.15 내지 0.2 범위일 수 있다.The bridge electrode 280 may include a metal or a transparent conductive oxide. As shown in FIG. 11, the bridge electrode 280 may overlap the first portion 223 in the thickness direction of the touch sensor, and a difference in refractive index between the bridge electrode 280 and the first portion 223 may be about 0.15. To 0.2.

따라서, 브릿지 전극(280)에 의한 굴절률 차이에 따른 패턴 시인 현상이 제1 부분(223)에 의해 함께 완충 또는 감소될 수 있다.Therefore, the pattern recognition phenomenon according to the refractive index difference by the bridge electrode 280 may be buffered or reduced together by the first portion 223.

브릿지 전극(280) 상에는 패시베이션 층(290)이 형성될 수 있다. 패시베이션 층(290)은 센싱 전극들(240) 및 절연층(270)을 함께 커버할 수 있다. 패시베이션 층(290)은 실리콘 산화물과 같은 무기 산화물, 또는 유기 절연물질을 포함할 수 있다.The passivation layer 290 may be formed on the bridge electrode 280. The passivation layer 290 may cover the sensing electrodes 240 and the insulating layer 270 together. The passivation layer 290 may include an inorganic oxide, such as silicon oxide, or an organic insulating material.

예를 들면, 도 1 또는 도 6에 도시된 상부 절연층(130)은 절연층(270) 및 패시베이션 층(290)을 포괄할 수 있다.For example, the upper insulating layer 130 illustrated in FIG. 1 or 6 may include the insulating layer 270 and the passivation layer 290.

또한, 본 발명의 실시예들은 전술한 터치 센서를 포함하는 터치 스크린 패널을 제공한다. 예를 들면, 상기 터치 센서에 당분야에 공지된 구성이 부가되어 터치 스크린 패널이 제조될 수 있다. In addition, embodiments of the present invention provides a touch screen panel including the aforementioned touch sensor. For example, a touch screen panel may be manufactured by adding a configuration known in the art to the touch sensor.

도 12는 예시적인 실시예들에 따른 윈도우 적층체 및 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 도면이다. 윈도우 적층체(350)는 윈도우 기판(330), 편광층(310) 및 상술한 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서(300)을 포함할 수 있다.12 is a schematic diagram illustrating a window stack and an image display device according to example embodiments. The window stack 350 may include a window substrate 330, a polarization layer 310, and a touch sensor 300 according to the above-described exemplary embodiments.

윈도우 기판(330)은 예를 들면 하드 코팅 필름을 포함하며, 일 실시예에 있어서, 윈도우 기판(330)의 일면의 주변부 상에 차광 패턴(335)이 형성될 수 있다. 차광 패턴(335)은 예를 들면 컬러 인쇄 패턴을 포함할 수 있으며, 단층 또는 복층 구조를 가질 수 있다. 차광 패턴(335)에 의해 화상 표시 장치의 베젤부 혹은 비표시 영역이 정의될 수 있다.The window substrate 330 may include, for example, a hard coating film. In one embodiment, the light blocking pattern 335 may be formed on a periphery of one surface of the window substrate 330. The light shielding pattern 335 may include, for example, a color printing pattern, and may have a single layer or a multilayer structure. The bezel part or the non-display area of the image display device may be defined by the light blocking pattern 335.

편광층(310)은 코팅형 편광자 또는 편광판을 포함할 수 있다. 상기 코팅형 편광자는 중합성 액정 화합물 및 이색성 염료를 포함하는 액정 코팅층을 포할 수 있다. 이 경우, 편광층(310)은 상기 액정 코팅층에 배향성을 부여하기 위한 배향막을 더 포함할 수 있다The polarization layer 310 may include a coated polarizer or a polarizer. The coated polarizer may include a liquid crystal coating layer including a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye. In this case, the polarization layer 310 may further include an alignment layer for imparting orientation to the liquid crystal coating layer.

예를 들면, 상기 편광판은 폴리비닐알코올계 편광자 및 상기 폴리비닐알코올계 편광자의 적어도 일면에 부착된 보호필름을 포함할 수 있다.For example, the polarizing plate may include a polyvinyl alcohol polarizer and a protective film attached to at least one surface of the polyvinyl alcohol polarizer.

편광층(310)은 윈도우 기판(330)의 상기 일면과 직접 접합되거나, 제1 점접착층(320)을 통해 부착될 수도 있다.The polarization layer 310 may be directly bonded to the one surface of the window substrate 330 or may be attached through the first adhesive layer 320.

터치 센서(300)는 필름 또는 패널 형태로 윈도우 적층체(350)에 포함될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 터치 센서(300)는 제2 점접착층(325)를 통해 편광층(310)과 결합될 수 있다.The touch sensor 300 may be included in the window stack 350 in the form of a film or panel. In one embodiment, the touch sensor 300 may be coupled to the polarization layer 310 through the second adhesive layer 325.

도 12에 도시된 바와 같이, 사용자의 시인측으로부터 윈도우 기판(330), 편광층(310) 및 터치 센서(300) 순으로 배치될 수 있다. 이 경우, 터치 센서(300)의 센싱 전극들이 편광층(310) 아래에 배치되므로 패턴 시인 현상을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. As shown in FIG. 12, the window substrate 330, the polarizing layer 310, and the touch sensor 300 may be arranged in order from the user's visual recognition side. In this case, since the sensing electrodes of the touch sensor 300 are disposed under the polarization layer 310, the pattern recognition phenomenon may be more effectively prevented.

터치 센서(300)가 기판을 포함하는 경우, 상기 기판은 예를 들면 예를 들면 트리아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 시클로올레핀, 시클로올레핀 공중합체, 폴리노르보르넨 공중합체 등을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 정면 위상차가 ±2.5nm 이하일 수 있다.When the touch sensor 300 includes a substrate, the substrate may include, for example, triacetyl cellulose, triacetyl cellulose, cycloolefin, cycloolefin copolymer, polynorbornene copolymer, and the like. Preferably, the front retardation may be ± 2.5 nm or less.

일 실시예에 있어서, 터치 센서(300)는 윈도우 기판(330) 또는 편광층(310) 상에 직접 전사될 수도 있다. 일 실시예에 있어서, 사용자의 시인측으로부터 윈도우 기판(330), 터치 센서(300) 및 편광층(310) 순으로 배치될 수도 있다.In one embodiment, the touch sensor 300 may be directly transferred onto the window substrate 330 or the polarizing layer 310. In an exemplary embodiment, the window substrate 330, the touch sensor 300, and the polarization layer 310 may be arranged in order from the user's visual recognition side.

상기 화상 표시 장치는 표시 패널(460) 및 표시 패널(460) 상에 결합된 상술한 윈도우 적층체(350)를 포함할 수 있다.The image display device may include a display panel 460 and the above-described window stack 350 coupled to the display panel 460.

표시 패널(460)은 패널 기판(400) 상에 배치된 화소 전극(410), 화소 정의막(420), 표시층(430), 대향 전극(440) 및 인캡슐레이션 층(450)을 포함할 수 있다.The display panel 460 may include a pixel electrode 410, a pixel defining layer 420, a display layer 430, an opposite electrode 440, and an encapsulation layer 450 disposed on the panel substrate 400. Can be.

패널 기판(400) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하는 화소 회로가 형성되며, 상기 화소 회로를 덮는 절연막이 형성될 수 있다. 화소 전극(410)은 상기 절연막 상에서 예를 들면 TFT의 드레인 전극과 전기적으로 연결될 수 있다.A pixel circuit including a thin film transistor TFT may be formed on the panel substrate 400, and an insulating layer covering the pixel circuit may be formed. The pixel electrode 410 may be electrically connected to the drain electrode of the TFT, for example.

화소 정의막(420)은 상기 절연막 상에 형성되어 화소 전극(410)을 노출시켜 화소 영역을 정의할 수 있다. 화소 전극(410) 상에는 표시층(430)이 형성되며, 표시 층(430)은 예를 들면, 액정층 또는 유기 발광층을 포함할 수 있다.The pixel defining layer 420 may be formed on the insulating layer to expose the pixel electrode 410 to define a pixel region. The display layer 430 is formed on the pixel electrode 410, and the display layer 430 may include, for example, a liquid crystal layer or an organic emission layer.

화소 정의막(420) 및 표시층(430) 상에는 대향 전극(440)이 배치될 수 있다. 대향 전극(440)은 예를 들면, 화상 표시 장치의 공통 전극 또는 캐소드로 제공될 수 있다. 대향 전극(440) 상에 표시 패널(460) 보호를 위한 인캡슐레이션 층(450)이 적층될 수 있다.The opposite electrode 440 may be disposed on the pixel defining layer 420 and the display layer 430. The counter electrode 440 may be provided as, for example, a common electrode or a cathode of the image display device. An encapsulation layer 450 may be stacked on the counter electrode 440 to protect the display panel 460.

일부 실시예들에 있어서, 표시 패널(460) 및 윈도우 적층체(350)는 점접착층(360)을 통해 결합될 수도 있다. 예를 들면, 점접착층(360)의 두께는 제1 및 제2 점접착층(320, 325) 각각의 두께보다 클 수 있으며, -20 내지 80℃?에서의 점탄성이 약 0.2MPa 이하일 수 있다. 이 경우, 표시 패널(460)로부터의 노이즈를 차페할 수 있고, 굴곡 시에 계면 응력을 완화하여 윈도우 적층체(350)의 손상을 억제할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 점탄성은 약 0.01 내지 0.15MPa일 수 있다.In some embodiments, the display panel 460 and the window stack 350 may be coupled through the adhesive layer 360. For example, the thickness of the adhesive layer 360 may be greater than the thickness of each of the first and second adhesive layers 320 and 325, and the viscoelasticity at −20 to 80 ° C. may be about 0.2 MPa or less. In this case, noise from the display panel 460 can be shielded, and interfacial stress can be alleviated during bending to suppress damage to the window stack 350. In one embodiment, the viscoelasticity may be about 0.01 to 0.15 MPa.

또한, 본 발명은 전술한 터치 스크린 패널을 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다. 본 발명의 터치 센서는 통상의 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display device)뿐만 아니라, 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전계발광표시장치(Electro Luminescent Display device), 유기발광다이오드표시장치(Organic Light-Emitting Diode Display device) 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다. 예를 들면, 상기 터치 센서는 플렉시블 디스플레이 장치의 터치 패턴 또는 터치 센서층으로 삽입되어 박형화된 고투명, 고유연성의 화상 표시 장치가 구현될 수 있다.In addition, the present invention provides an image display device including the above-described touch screen panel. The touch sensor of the present invention is not only a conventional liquid crystal display device, but also a plasma display panel device, an electro luminescent display device, and an organic light emitting diode display device. Applicable to various image display devices such as Emitting Diode Display device. For example, the touch sensor may be inserted into a touch pattern or a touch sensor layer of a flexible display device to implement a thin, highly transparent, highly flexible image display device.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예들을 포함하는 실험예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, experimental examples including preferred embodiments are provided to help understanding of the present invention, but these examples are only for exemplifying the present invention, and do not limit the appended claims, and the scope and spirit of the present invention. It is apparent to those skilled in the art that various changes and modifications to the embodiments can be made within the scope, and such variations and modifications are within the scope of the appended claims.

광학 코팅 조성물 제조예 1Optical Coating Composition Preparation Example 1

중합성 화합물로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 일본화약㈜ 제조) 10중량% 및 아래 화학식 1-3의 카도계 화합물 10중량%, 중합개시제로서 Irgacure184(BASF) 1중량%, 및 잔량의 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 용제를 혼합하여 광학 코팅 조성물을 제조하였다.10% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 10% by weight of a cardo-based compound represented by Chemical Formula 1-3, 1% by weight of Irgacure184 (BASF) as a polymerization initiator, and the remaining amount The propylene glycol monomethyl ether acetate solvent was mixed to prepare an optical coating composition.

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00007
Figure pat00007

광학 코팅 조성물 제조예 2Optical Coating Composition Preparation Example 2

중합성 화합물로서 하기 화학식 1-1-1의 에폭시기 함유 카도계 화합물 20중량% 및 광산발생제로서 Irgacure250(BASF) 화합물 1중량%, 및 잔량의 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 용제를 혼합하여 광학 코팅 조성물을 제조하였다.An optical coating composition comprising 20% by weight of an epoxy group-containing cardo-based compound of Formula 1-1-1 as a polymerizable compound, 1% by weight of Irgacure250 (BASF) compound as a photoacid generator, and a residual propylene glycol monomethyl ether acetate solvent Was prepared.

[화학식 1-1-1][Formula 1-1-1]

Figure pat00008
Figure pat00008

광학 코팅 조성물 제조예 3Optical Coating Composition Preparation Example 3

중합성 화합물로서 하기 화학식 2로 표시되는 에폭시 화합물 20중량% 및 광산발생제로서 Irgacure250(BASF) 1중량%, 및 잔량의 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 용제를 혼합하여 광학 코팅 조성물을 제조하였다.An optical coating composition was prepared by mixing 20% by weight of an epoxy compound represented by the following Chemical Formula 2 as a polymerizable compound, 1% by weight of Irgacure250 (BASF) as a photoacid generator, and a residual amount of propylene glycol monomethyl ether acetate solvent.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00009
Figure pat00009

광학 코팅 조성물 제조예 4Optical Coating Composition Preparation Example 4

중합성 화합물로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 일본화약㈜ 제조) 20중량% 및 중합개시제로서 Irgacure184(BASF) 1중량%, 및 잔량의 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 용제를 혼합하여 광학 코팅 조성물을 제조하였다.Optical coating by mixing 20% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 1% by weight of Irgacure184 (BASF) as a polymerization initiator, and a residual propylene glycol monomethyl ether acetate solvent. The composition was prepared.

실시예 1 및 2Examples 1 and 2

유리 기판 상에 제조예 1 및 2의 광학 코팅 조성물을 스핀 코팅하고 90℃에서 125 초간 프리베이크하여 광학 조절층(두께: 500Å)을 형성하였다.The optical coating compositions of Preparation Examples 1 and 2 were spin coated on a glass substrate and prebaked at 90 ° C. for 125 seconds to form an optical control layer (thickness: 500 kPa).

상기 프리베이크한 기판을 상온으로 냉각 후 노광기(MA6; SUSS MicroTec (주) 제조)를 사용하여 1600mJ의 노광량(365㎚ 기준)으로 노광 마스크를 통해 광을 조사하여 노광부인 제1 부분 및 비노광부인 제2 부분을 형성하였다. 이후 수세 및 건조 후, 클린 오븐을 이용하여 230℃에서 10분간 포스트베이크를 실시하였다. The prebaked substrate was cooled to room temperature and then irradiated with light through an exposure mask at an exposure amount of 1600 mJ (365 nm standard) using an exposure machine (MA6; manufactured by SUSS MicroTec Co., Ltd.) The second part was formed. Thereafter, after washing with water and drying, post-baking was performed at 230 ° C. for 10 minutes using a clean oven.

비교예 1 및 2Comparative Examples 1 and 2

제조예 3 및 4의 광학 코팅 조성물을 사용한 것을 제외하고는 실시예들과 동일한 방법으로 유리 기판 상에 제1 부분 및 제2 부분을 포함하는 광학 조절층을 형성하였다.Except for using the optical coating composition of Preparation Examples 3 and 4 in the same manner as in the Example was formed an optical control layer comprising a first portion and a second portion on a glass substrate.

실험예Experimental Example

(1) 경화도 평가(1) hardening degree evaluation

실시예 및 비교예의 광학 조절층을 고형분 상태로 추출한 후, GPC 장비를 이용해 경화도를 분석하였다. 구체적으로 1600mJ로 경화된 제1 부분의 경화도를 100%로 설정하여 제2 부분의 경화도 비율을 측정하였다.After extracting the optical control layer of the Examples and Comparative Examples in a solid state, the degree of cure was analyzed using a GPC equipment. Specifically, the degree of cure of the second portion was measured by setting the degree of cure of the first portion cured at 1600 mJ to 100%.

(2) 굴절률 평가(2) refractive index evaluation

박막두께 측정기 (ST4000-DLX; K-MAC (주) 제조)를 이용하여 상기 경화막이 형성된 기판의 굴절율을 측정하였다. The refractive index of the board | substrate with the said cured film was measured using the thin-film thickness meter (ST4000-DLX; K-MAC Co., Ltd. product).

(3) 패턴 시인 평가(3) pattern recognition evaluation

실시예 및 비교예의 광학 조절층 상에 ITO를 증착 후 패터닝하여 450Å 두께의 센싱 전극들을 제2 부분들 상에 형성하였다. 이후, 아크릴계 수지를 상기 센싱 전극들 및 광학 조절층 상에 도포하여 3㎛ 두께의 절연층을 형성하여 터치 센서 샘플을 제조하였다. 실시예들 및 비교예에 따른 터치 센서 샘플을 육안으로 관찰하여 패턴 시인 여부를 하기의 기준으로 평가하였다.ITO was deposited and patterned on the optical control layers of Examples and Comparative Examples to form 450 kHz thick sensing electrodes on the second portions. Thereafter, an acrylic resin was applied onto the sensing electrodes and the optical control layer to form an insulating layer having a thickness of 3 μm, thereby preparing a touch sensor sample. The touch sensor samples according to the Examples and Comparative Examples were visually observed to evaluate whether the pattern was recognized based on the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

○: 패턴 형상 미관찰○: unobserved pattern shape

△: 패턴의 일부 라인, 실루엣 미세하게 관찰됨(Triangle | delta): Some lines of a pattern and a silhouette are observed finely

×: 패턴 형상, 경계 명확히 관찰됨×: pattern shape, boundary clearly observed

평가 결과는 하기의 표 1에 나타낸다.The evaluation results are shown in Table 1 below.

제2 부분
경화도 비율(%)Second part
Hardness rate (%) 센싱 전극
굴절률
(R1)Sensing electrode
Refractive index
(R1) 제1 부분
굴절률
(R3)First part
Refractive index
(R3) 제2 부분
굴절률
(R2)Second part
Refractive index
(R2) R1-R3R1-R3 R3-R2R3-R2 R1-R2R1-R2 패턴
시인 여부pattern
Poet 실시예 1
(제조예 1)Example 1
(Manufacture example 1) 7070 1.781.78 1.671.67 1.591.59 0.110.11 0.080.08 0.190.19 △△ 실시예 2(제조예 2)Example 2 (Manufacturing Example 2) 8080 1.781.78 1.691.69 1.621.62 0.090.09 0.070.07 0.160.16 ○○ 비교예 1(제조예 3)Comparative Example 1 (Manufacturing Example 3) 5858 1.781.78 1.581.58 1.571.57 0.20.2 0.010.01 0.210.21 XX 비교예 2(제조예 4)Comparative Example 2 (Manufacturing Example 4) 5252 1.781.78 1.511.51 1.481.48 0.270.27 0.030.03 0.30.3 XX

표 1을 참조하면, 광학 조절층에 경화도 차이를 통해 제1 부분의 굴절률을 향상시킴으로써, 패턴 시인 현상이 감소됨을 확인하였다. 또한, 카도계 에폭시 화합물이 중합성 화합물로서 사용된 실시예 2의 경우 보다 향상된 노광부 굴절률 상승을 통해 패턴 시인 현상이 효과적으로 억제되었다. Referring to Table 1, it was confirmed that the pattern recognition phenomenon was reduced by improving the refractive index of the first portion through the degree of curing in the optical control layer. In addition, in the case of Example 2 in which the cardo-based epoxy compound was used as the polymerizable compound, the pattern recognition phenomenon was effectively suppressed through an improved increase in the refractive index of the exposed portion.

80: 하부 절연층 90: 보호층
100: 베이스 층 110: 광학 조절층
113: 제1 부분 115: 제2 부분
125: 센싱 전극 130: 상부 절연층
240: 제1 센싱 전극 250: 제2 센싱 전극
270: 절연층 280: 브릿지 전극
290: 패시베이션 층80: lower insulating layer 90: protective layer
100: base layer 110: optical control layer
113: first portion 115: second portion
125: sensing electrode 130: upper insulating layer
240: first sensing electrode 250: second sensing electrode
270: insulating layer 280: bridge electrode
290: passivation layer

Claims (19)

베이스 층;
상기 베이스 층 상에 형성되며 서로 상이한 경화도를 갖는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하고, 상기 제2 부분의 경화도는 상기 제1 부분의 경화도 대비 60 내지 80%인 광학 조절층; 및
상기 광학 조절층의 상기 제2 부분 상에 배치된 센싱 전극을 포함하는, 터치 센서.
Base layer;
An optical control layer formed on the base layer and including a first portion and a second portion having different degrees of cure, wherein the degree of cure of the second portion is 60 to 80% of the degree of cure of the first portion; And
And a sensing electrode disposed on the second portion of the optical adjustment layer.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 부분은 노광부, 상기 제2 부분은 비노광부인, 터치 센서.
The touch sensor of claim 1, wherein the first portion is an exposed portion and the second portion is a non-exposed portion.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 부분의 굴절률은 상기 제2 부분의 굴절률보다 큰, 터치 센서.
The touch sensor of claim 1, wherein the refractive index of the first portion is greater than the refractive index of the second portion.
청구항 3에 있어서, 상기 제1 부분 및 상기 제2 부분의 굴절률 차이는 0.05 내지 0.2인, 터치 센서.
The touch sensor of claim 3, wherein a difference in refractive index between the first portion and the second portion is between 0.05 and 0.2.
청구항 3에 있어서, 상기 센싱 전극의 굴절률은 상기 제1 부분의 굴절률보다 크며, 상기 센싱 전극 및 상기 제1 부분의 굴절률 차이는 0.05 내지 0.2인, 터치 센서.
The touch sensor of claim 3, wherein a refractive index of the sensing electrode is greater than a refractive index of the first portion, and a difference in refractive index between the sensing electrode and the first portion is 0.05 to 0.2.
청구항 1에 있어서, 상기 광학 조절층은 하기 화학식 1로 표시되는 카도계 화합물을 포함하는 코팅 조성물로부터 형성된, 터치 센서.
[화학식 1]
Figure pat00010

(화학식 1 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 히드록실기 또는 중합 반응성 기를 함유하는 탄소수 3 내지 10의 탄화수소 그룹임).
The touch sensor as set forth in claim 1, wherein the optical control layer is formed from a coating composition comprising a cardo-based compound represented by Formula 1 below.
[Formula 1]
Figure pat00010

(In formula 1, R <1> and R <2> is a C3-C10 hydrocarbon group containing a hydroxyl group or a polymerization reactive group each independently.
청구항 6에 있어서, 상기 화학식 1 중, 상기 중합 반응성 기는 아크릴레이트기, 비닐기, 알릴기 또는 에폭시기 중 적어도 하나를 포함하는, 터치 센서.
The touch sensor as set forth in claim 6, wherein the polymerization reactive group includes at least one of an acrylate group, a vinyl group, an allyl group, or an epoxy group.
청구항 6에 있어서, 상기 카도계 화합물은 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 포함하는, 터치 센서:
[화학식 1-1]
Figure pat00011

(화학식 1-1 중, n은 1 내지 5의 정수이다)
The touch sensor of claim 6, wherein the cardo-based compound comprises a compound represented by Chemical Formula 1-1:
[Formula 1-1]
Figure pat00011

(N is an integer of 1-5 in Formula 1-1.)
청구항 1에 있어서, 상기 센싱 전극 및 상기 광학 조절층 상에 형성된 상부 절연층을 더 포함하는, 터치 센서.
The touch sensor of claim 1, further comprising an upper insulating layer formed on the sensing electrode and the optical control layer.
청구항 9에 있어서, 상기 베이스 층은 유기 고분자 물질을 포함하는 하부 절연층을 포함하는, 터치 센서.
The touch sensor of claim 9, wherein the base layer comprises a lower insulating layer including an organic polymer material.
청구항 10에 있어서, 상기 하부 절연층은 캐리어 기판과의 박리를 위한 분리층으로 제공되는, 터치 센서.
The touch sensor of claim 10, wherein the lower insulating layer serves as a separation layer for peeling from a carrier substrate.
청구항 10에 있어서, 상기 하부 절연층 및 상기 광학 조절층 사이에 배치되는 보호층을 더 포함하는, 터치 센서.
The touch sensor of claim 10, further comprising a protective layer disposed between the lower insulating layer and the optical control layer.
베이스 층 상에 중합성 화합물을 포함하는 코팅 조성물을 도포하여 광학 조절층을 형성하는 단계;
상기 광학 조절층을 선택적으로 노광하여 경화도가 증가된 노광부를 형성하는 단계; 및
상기 광학 조절층의 비노광부 상에 선택적으로 센싱 전극을 형성하는 단계를 포함하는, 터치 센서의 제조 방법.
Applying a coating composition comprising a polymerizable compound on the base layer to form an optical control layer;
Selectively exposing the optical control layer to form an exposed portion with increased degree of curing; And
And selectively forming a sensing electrode on the non-exposed part of the optical control layer.
청구항 13에 있어서, 상기 코팅 조성물의 상기 중합성 화합물은 카도계 화합물을 포함하는, 터치 센서의 제조 방법.
The method of claim 13, wherein the polymerizable compound of the coating composition comprises a cardo-based compound.
청구항 13에 있어서, 상기 센싱 전극을 형성하는 단계는,
상기 광학 조절층 상에 전극층을 형성하는 단계;
상기 전극층 상에 포토레지스트 층을 형성하는 단계;
상기 포토레지스트 층에 대해 노광 공정 및 현상 공정을 수행하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 포토레지스트 패턴을 사용하여 상기 전극층을 식각하는 단계를 포함하는, 터치 센서의 제조 방법.
The method of claim 13, wherein the forming of the sensing electrode comprises:
Forming an electrode layer on the optical control layer;
Forming a photoresist layer on the electrode layer;
Forming a photoresist pattern by performing an exposure process and a developing process on the photoresist layer; And
And etching the electrode layer using the photoresist pattern.
청구항 15에 있어서, 상기 포토레지스트 층에 대한 상기 노광 공정 및 상기 광학 조절층에 대한 노광 공정은 동일한 노광 마스크를 사용하여 수행되는, 터치 센서의 제조 방법.
The method of claim 15, wherein the exposing process to the photoresist layer and the exposing process to the optical control layer are performed using the same exposure mask.
윈도우 기판; 및
상기 윈도우 기판의 일면 상에 적층된 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 따른 터치 센서를 포함하는, 윈도우 적층체.
Window substrates; And
A window laminate comprising the touch sensor according to any one of claims 1 to 12 stacked on one surface of the window substrate.
청구항 17에 있어서, 상기 윈도우 기판의 상기 일면 상에 적층된 편광층을 더 포함하는, 윈도우 적층체.
The window laminate according to claim 17, further comprising a polarizing layer laminated on the one surface of the window substrate.
표시 패널; 및
상기 표시 패널 상에 적층되며 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 따른 터치 센서를 포함하는 윈도우 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.Display panel; And
An image display device comprising a window stack stacked on the display panel and comprising a touch sensor according to any one of claims 1 to 12.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111721815A (en) * 2020-06-18 2020-09-29 业成科技（成都）有限公司 Touch device and curing rate detection method thereof
WO2021201440A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 삼성전자 주식회사 Electronic device including display and method for controlling viewing angle of display

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140092366A (en) 2011-10-25 2014-07-23 유니-픽셀 디스플레이스, 인코포레이티드 Polarizer resistive touch screen

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140092366A (en) 2011-10-25 2014-07-23 유니-픽셀 디스플레이스, 인코포레이티드 Polarizer resistive touch screen

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021201440A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 삼성전자 주식회사 Electronic device including display and method for controlling viewing angle of display
CN111721815A (en) * 2020-06-18 2020-09-29 业成科技（成都）有限公司 Touch device and curing rate detection method thereof

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