JP2015194799A - Substrate for touch panel sensor and touch panel sensor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、タッチパネルセンサとした際に透明電極層の骨見えを好適に抑制することができるタッチパネルセンサ用基板、およびこれを用いたタッチパネルセンサに関する。 The present invention relates to a touch panel sensor substrate that can suitably suppress the appearance of a transparent electrode layer when a touch panel sensor is used, and a touch panel sensor using the same.
今日、入力手段として、タッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルは表示装置の表示面上に配置され、これにより、タッチパネルは表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。 Today, touch panels are widely used as input means. In many cases, a touch panel is used together with a display device as an input means for various devices in which a display device such as a liquid crystal display or a plasma display is incorporated (for example, a ticket vending machine, an ATM device, a mobile phone, a game machine). Yes. In such a device, the touch panel is placed on the display surface of the display device, which allows the touch panel to make a very direct input to the display device.
このようなタッチパネルとしては、様々な方式のものが実用化されている。このなかで、静電容量方式と呼ばれるものは、例えば第１電極と、上記第１電極と絶縁された第２電極とを有するセンサ電極を有する。そして、タッチパネルの表面のタッチパネル面に微弱な電流を流して電界を形成し、指等の導電体が軽く触れた場合の静電容量値の変化を電圧の低下等に変換して検知することにより得られた接触位置を信号として出力する。 Various types of touch panels have been put into practical use. Among these, what is called a capacitance system has a sensor electrode having, for example, a first electrode and a second electrode insulated from the first electrode. Then, a weak current is passed through the touch panel surface of the touch panel to form an electric field, and the change in capacitance value when a finger or other conductor is lightly touched is converted into a voltage drop or the like and detected. The obtained contact position is output as a signal.
上述したタッチパネルセンサは、表示装置とともに用いられることから、通常、透明性を有することが求められ、上述したセンサ電極としては、例えばＩＴＯ等の無機透明導電材料が用いられる。また、センサ電極の第１電極および第２電極は、通常、透明基板上に所定のパターン形状で形成される。
この場合、タッチパネルセンサにおいては、透明電極層が形成されている領域（以下、パターン形成領域と称して説明する場合がある。）と、透明電極層が形成されていない領域（以下、非パターン形成領域と称して説明する場合がある。）とで光の反射率、透過率、透過光の色等の光学特性が異なることにより、透明電極層のパターン形状がタッチパネル操作者に観察される、いわゆる透明電極層の骨見えが生じるという問題がある。
Since the touch panel sensor described above is used together with a display device, it is usually required to have transparency. As the sensor electrode described above, an inorganic transparent conductive material such as ITO is used, for example. Further, the first electrode and the second electrode of the sensor electrode are usually formed in a predetermined pattern shape on the transparent substrate.
In this case, in the touch panel sensor, a region in which the transparent electrode layer is formed (hereinafter sometimes referred to as a pattern formation region) and a region in which the transparent electrode layer is not formed (hereinafter, non-pattern formation). The pattern shape of the transparent electrode layer is observed by the touch panel operator because the optical characteristics such as light reflectance, transmittance, and color of transmitted light are different from each other. There is a problem that bone appearance of the transparent electrode layer occurs.
この問題に対しては、例えば、透明基板上の全面に、高屈折率層および低屈折率層の積層体で構成されるインデックスマッチング層（不可視化層）を形成することが提案されている（特許文献１）。不可視化層は、上述したパターン形成領域と、非パターン形成領域との光学特性の差を調整することにより、上述した透明電極層の骨見えを抑制する機能層である。 For this problem, for example, it has been proposed to form an index matching layer (invisible layer) composed of a laminate of a high refractive index layer and a low refractive index layer on the entire surface of the transparent substrate ( Patent Document 1). The invisible layer is a functional layer that suppresses the bone appearance of the transparent electrode layer described above by adjusting the difference in optical characteristics between the pattern forming region and the non-pattern forming region described above.
上記不可視化層としては、例えば、屈折率の異なるＮｂ２Ｏ５、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＯ２等の無機材料の層を複数積層させて構成されたものが好適に用いられている。このような無機材料は薄膜で形成可能であり、上述した骨見えを好適に抑制することができる。しかしながら、無機材料を用いて不可視化層を形成する場合は、例えば、真空蒸着法、スパッタ法等の特殊な設備を必要とし、不可視化層の形成方法が煩雑になるという問題がある。そのため、タッチパネルセンサの製造コストが高くなるという問題がある。 As the invisible layer, for example, a layer formed by laminating a plurality of layers of inorganic materials such as Nb 2 O 5 , SiN, SiON, and SiO 2 having different refractive indexes is preferably used. Such an inorganic material can be formed as a thin film, and can appropriately suppress the above-described bone appearance. However, when an invisible layer is formed using an inorganic material, for example, special equipment such as a vacuum deposition method or a sputtering method is required, and there is a problem that the method for forming the invisible layer becomes complicated. Therefore, there exists a problem that the manufacturing cost of a touch panel sensor becomes high.
そこで、近年では、不可視化層を有機材料を用いて形成する方法が検討されている。このような不可視化層は、例えば、屈折率が調整された樹脂材料を用いて形成される。タッチパネルセンサにおいては、加工性の観点から、従来、樹脂フィルムが基板として好適に用いられている。また、不可視化層としては、樹脂フィルムの耐熱性の観点から光硬化性樹脂が好適に用いられている。
ここで、不可視化層は、その厚さが厚い場合は光の干渉の影響により虹ムラが観察されてしまうという問題があることから、その厚さについてはナノオーダーで形成されることが求められる。しかしながら、光硬化性樹脂を用いて薄膜を形成する際に大気雰囲気下で露光による硬化処理を行なった場合は、膜の表面での酸素阻害により光硬化反応が十分に進行しない場合がある。このような不可視化層は、フォトリソグラフィ法による透明電極層の形成の際に用いられるエッチング用の酸性溶液、レジスト剥離用のアルカリ性溶液に対する耐薬品性が不十分となり、不可視化層が劣化する場合や、不可視化層自体が透明基板から剥離する場合があるという問題がある。
Therefore, in recent years, a method for forming an invisible layer using an organic material has been studied. Such an invisible layer is formed using, for example, a resin material whose refractive index is adjusted. In the touch panel sensor, conventionally, a resin film has been suitably used as a substrate from the viewpoint of workability. As the invisible layer, a photocurable resin is suitably used from the viewpoint of the heat resistance of the resin film.
Here, since the invisible layer has a problem that rainbow unevenness is observed due to the influence of light interference when the thickness is thick, the thickness is required to be formed on the nano order. . However, when a thin film is formed using a photocurable resin, when the curing process is performed by exposure in an air atmosphere, the photocuring reaction may not sufficiently proceed due to oxygen inhibition on the surface of the film. Such an invisible layer becomes insufficient in chemical resistance against an acidic solution for etching and an alkaline solution for resist removal used for forming a transparent electrode layer by a photolithography method, and the invisible layer is deteriorated. In addition, there is a problem that the invisible layer itself may be peeled off from the transparent substrate.
上述した酸素阻害を抑制するために、例えば、窒素雰囲気下で光硬化性樹脂を含む膜を露光して、良好な硬度を有し、薬品耐性が良好な不可視化層を形成することも検討されているが、この場合、窒素雰囲気下で露光を行うための特殊な設備が必要となり、製造コストが高くなるという問題がある。 In order to suppress the above-described oxygen inhibition, for example, it is considered to expose a film containing a photocurable resin under a nitrogen atmosphere to form an invisible layer having good hardness and good chemical resistance. However, in this case, there is a problem that special equipment for performing exposure in a nitrogen atmosphere is required, resulting in an increase in manufacturing cost.
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、耐薬品性が良好な不可視化層を有する安価なタッチパネルセンサ用基板、およびこれを用いたタッチパネルセンサを提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its main object to provide an inexpensive touch panel sensor substrate having an invisible layer with good chemical resistance and a touch panel sensor using the same.
上記目的を達成するために、本発明は、ガラス基板と、上記ガラス基板の一方の表面上に形成され、透明樹脂を含み、屈折率の異なる複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層と、を有し、上記不可視化層は、上記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることを特徴とするタッチパネルセンサ用基板を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a glass substrate and an invisibility formed of a laminate of a plurality of resin layers formed on one surface of the glass substrate and including a transparent resin and having different refractive indexes. And the invisible layer provides a substrate for a touch panel sensor, wherein the uppermost layer of the laminate is a layer containing a thermosetting resin.
本発明によれば、上記不可視化層は、上記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることにより、耐薬品性が良好な不可視化層を有する安価なタッチパネルセンサ用基板とすることができる。 According to the present invention, the invisible layer is an inexpensive touch sensor substrate having an invisible layer with good chemical resistance, because the uppermost layer of the laminate is a layer containing a thermosetting resin. be able to.
上記発明においては、上記最上層が低屈折率層であり、上記最上層に接する上記樹脂層が高屈折率層であることが好ましい。タッチパネルセンサとした際に透明電極層の骨見えを好適に抑制することが可能なタッチパネルセンサ用基板とすることができるからである。 In the above invention, it is preferable that the uppermost layer is a low refractive index layer and the resin layer in contact with the uppermost layer is a high refractive index layer. It is because it can be set as the board | substrate for touch panel sensors which can suppress suitably the bone | frame appearance of a transparent electrode layer when it is set as a touch panel sensor.
上記発明においては、上記最上層の下層に形成された上記樹脂層が光硬化性樹脂を含む層であってもよい。屈折率が調整された汎用の光硬化性樹脂を用いて不可視化層の光学特性を調整しやすく、また、不可視化層の材料選択性を広くすることができるからである。 In the said invention, the layer containing the photocurable resin may be sufficient as the said resin layer formed in the lower layer of the said uppermost layer. This is because it is easy to adjust the optical characteristics of the invisible layer using a general-purpose photocurable resin having an adjusted refractive index, and the material selectivity of the invisible layer can be widened.
上記発明においては、上記最上層の下層に形成された上記樹脂層が熱硬化性樹脂を含む層であってもよい。不可視化層の耐薬品性をより良好なものとすることができるからである。 In the said invention, the layer containing a thermosetting resin may be sufficient as the said resin layer formed in the lower layer of the said uppermost layer. This is because the chemical resistance of the invisible layer can be improved.
上記発明においては、上記最上層が屈折率を調整するための粒子を含まないことが好ましい。不可視化層の耐薬品性をより良好なものとすることができるからである。 In the said invention, it is preferable that the said uppermost layer does not contain the particle | grains for adjusting a refractive index. This is because the chemical resistance of the invisible layer can be improved.
上記発明においては、上記最上層の厚さが２００ｎｍ以下であることが好ましい。最上層の厚さが上記値以下である場合、上記最上層が光硬化性樹脂を含む場合に比べて、より硬化性が高い最上層を得ることができるからである。 In the said invention, it is preferable that the thickness of the said uppermost layer is 200 nm or less. This is because when the thickness of the uppermost layer is equal to or less than the above value, it is possible to obtain the uppermost layer having higher curability than in the case where the uppermost layer includes a photocurable resin.
本発明は、ガラス基板と、上記ガラス基板上に形成され、透明樹脂を含み、異なる屈折率を有する複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層と、上記不可視化層上にパターン状に形成され、無機導電性材料を含む透明電極層と、を有し、上記不可視化層は、上記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることを特徴とするタッチパネルセンサを提供する。 The present invention includes a glass substrate, an invisible layer formed on the glass substrate, including a transparent resin and composed of a laminate of a plurality of resin layers having different refractive indexes, and a pattern on the invisible layer. And a transparent electrode layer containing an inorganic conductive material, wherein the invisible layer is a layer containing a thermosetting resin as a top layer of the laminate. To do.
本発明によれば、上記構成を有する不可視化層を有することにより、不可視化層の劣化の少ない安価なタッチパネルセンサとすることができる。 According to this invention, it can be set as the cheap touch panel sensor with little deterioration of an invisible layer by having an invisible layer which has the said structure.
本発明においては、耐薬品性が良好な不可視化層を有する安価なタッチパネルセンサ用基板とすることができるといった作用効果を奏する。 In this invention, there exists an effect that it can be set as the cheap board | substrate for touchscreen sensors which has an invisible layer with favorable chemical resistance.
以下、本発明のタッチパネルセンサ用基板、およびタッチパネルセンサについて説明する。 Hereinafter, the substrate for a touch panel sensor and the touch panel sensor of the present invention will be described.
Ａ．タッチパネルセンサ用基板
本発明のタッチパネルセンサ用基板は、ガラス基板と、上記ガラス基板の一方の表面上に形成され、透明樹脂を含み、屈折率の異なる複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層と、を有し、上記不可視化層は、上記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることを特徴とするものである。
A. Touch Panel Sensor Substrate The touch panel sensor substrate according to the present invention is formed on a glass substrate and one surface of the glass substrate, includes a transparent resin, and includes a laminate of a plurality of resin layers having different refractive indexes. The invisible layer is characterized in that the uppermost layer of the laminate is a layer containing a thermosetting resin.
本発明のタッチパネルセンサ用基板について図を用いて説明する。
図１は本発明のタッチパネルセンサ用基板の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明のタッチパネルセンサ用基板１は、ガラス基板２と、ガラス基板２の一方の表面上に形成され、透明樹脂を含有し、屈折率の異なる複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層３と、を有するものである。不可視化層３は、積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含有する層であることを特徴とする。図１においては、不可視化層３が、ガラス基板２上に形成された高屈折率層３１と、高屈折率層３１上に形成された低屈折率層３２との２層の樹脂層の積層体で構成され、最上層が低屈折率層３２である例について示している。
The touch panel sensor substrate of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a touch panel sensor substrate of the present invention. As shown in FIG. 1, a touch
図２は本発明のタッチパネルセンサ用基板の他の例を示す概略断面図である。
本発明においては、不可視化層３は、ガラス基板２の少なくとも一方の表面上に形成されていればよく、図１に示すようにガラス基板２の一方の表面上のみに形成されていてもよく、図２に示すように、ガラス基板２の両方の表面上に形成されていてもよい。なお、図２において説明していない符号については上述した図１で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of the touch panel sensor substrate of the present invention.
In the present invention, the
本発明によれば、上記不可視化層は、上記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることにより、耐薬品性が良好な不可視化層を有する安価なタッチパネルセンサ用基板とすることができる。 According to the present invention, the invisible layer is an inexpensive touch sensor substrate having an invisible layer with good chemical resistance, because the uppermost layer of the laminate is a layer containing a thermosetting resin. be able to.
より具体的には、本発明によれば、上記不可視化層の最上層が熱硬化性樹脂を含有する層であることにより、上記不可視化層の形成工程においては、熱硬化性樹脂を含有する最上層形成用組成物を不可視化層の他の樹脂層上に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を加熱処理により十分に硬化させて上記最上層を形成することができる。よって、不可視化層の最上層が十分に硬化されていることにより、タッチパネルセンサの透明電極層をフォトリソグラフィ法を用いて形成する場合、透明電極層のエッチングに用いられる酸性溶液、透明電極層のパターニングに使用されたレジストの剥離に用いられるアルカリ性溶液による最上層の劣化を抑制することができる。
また、本発明によれば、上記不可視化層の最上層が熱硬化性樹脂を含有する層であることにより、上記不可視化層の形成工程においては、大気雰囲気下で上述した塗膜の加熱処理を行うことにより、上記最上層を形成することができるため、特殊な設備が必要なく、簡便な方法で不可視化層を形成することができる。よって、タッチパネルセンサ用基板の製造コストを削減することができ、安価なものとすることができる。
More specifically, according to the present invention, since the uppermost layer of the invisible layer is a layer containing a thermosetting resin, the forming step of the invisible layer contains a thermosetting resin. The uppermost layer-forming composition can be applied onto another resin layer of the invisible layer to form a coating film, and the coating film can be sufficiently cured by heat treatment to form the uppermost layer. Therefore, when the transparent electrode layer of the touch panel sensor is formed using a photolithography method because the uppermost layer of the invisible layer is sufficiently cured, the acidic solution used for etching the transparent electrode layer, the transparent electrode layer Deterioration of the uppermost layer due to the alkaline solution used for stripping the resist used for patterning can be suppressed.
Further, according to the present invention, since the uppermost layer of the invisible layer is a layer containing a thermosetting resin, in the step of forming the invisible layer, the above-described heat treatment of the coating film in an air atmosphere Since the uppermost layer can be formed by performing the above, no special equipment is required, and the invisible layer can be formed by a simple method. Therefore, the manufacturing cost of the touch panel sensor substrate can be reduced, and the cost can be reduced.
以下、本発明のタッチパネルセンサ用基板の詳細について説明する。 Details of the touch panel sensor substrate of the present invention will be described below.
１．不可視化層
本発明における不可視化層は、上記ガラス基板の一方の表面上に形成され、透明樹脂を含み、屈折率の異なる複数の樹脂層の積層体で構成された層である。また、本発明においては、上記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることを特徴とする。
1. Invisible layer The invisible layer in the present invention is a layer formed on one surface of the glass substrate and composed of a laminate of a plurality of resin layers containing a transparent resin and having different refractive indexes. In the present invention, the uppermost layer of the laminate is a layer containing a thermosetting resin.
不可視化層は、所定のパターン状に形成された透明電極層を有するタッチパネルセンサにおいて、パターン形成領域と、非パターン形成領域との光学特性を合わせることにより、上述した透明電極層の骨見えを抑制するために形成される層である。 The invisible layer suppresses the above-mentioned bone appearance of the transparent electrode layer by combining the optical characteristics of the pattern formation region and the non-pattern formation region in the touch panel sensor having the transparent electrode layer formed in a predetermined pattern. It is a layer formed for the purpose.
不可視化層は、通常、少なくとも１層の低屈折率層と、少なくとも１層の高屈折率層とを有するものであるが、低屈折率層の数、高屈折率層の数、低屈折率層および高屈折率層の積層順等についてはタッチパネルセンサの透明電極層に用いられる無機導電性材料、厚さ等に応じて適宜選択することができる。
本発明における不可視化層としては、上記最上層が低屈折率層であり、上記最上層に接する上記樹脂層が高屈折率層であることが好ましい。透明電極層の骨見えを良好に抑制することができるからである。また、本発明における不可視化層としては、ガラス基板上に形成された高屈折率層と、上記高屈折率層上に形成された低屈折率層とを有する２層の樹脂層の積層体であることが特に好ましい。不可視化層を少ない層数で構成することができるため、タッチパネルセンサ用基板の製造工程をより簡便にすることができ、製造コストを削減して安価なものとすることができるからである。
The invisible layer usually has at least one low refractive index layer and at least one high refractive index layer. The number of low refractive index layers, the number of high refractive index layers, and the low refractive index The order of stacking the layers and the high refractive index layer can be appropriately selected according to the inorganic conductive material used for the transparent electrode layer of the touch panel sensor, the thickness, and the like.
As the invisible layer in the present invention, the uppermost layer is preferably a low refractive index layer, and the resin layer in contact with the uppermost layer is preferably a high refractive index layer. This is because the bone appearance of the transparent electrode layer can be satisfactorily suppressed. The invisible layer in the present invention is a laminate of two resin layers having a high refractive index layer formed on a glass substrate and a low refractive index layer formed on the high refractive index layer. It is particularly preferred. This is because since the invisible layer can be configured with a small number of layers, the manufacturing process of the touch panel sensor substrate can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing cost can be reduced.
ここで、本発明における「低屈折率層」とは、屈折率が１．４０以上１．６５未満の範囲内を示す樹脂層をいう。
また、本発明における「高屈折率層」とは、屈折率が１．６５以上２．００以下の範囲内を示す樹脂層をいう。
Here, the “low refractive index layer” in the present invention refers to a resin layer having a refractive index in the range of 1.40 or more and less than 1.65.
The “high refractive index layer” in the present invention refers to a resin layer having a refractive index in the range of 1.65 or more and 2.00 or less.
上述した低屈折率層、および高屈折率層の屈折率は、樹脂層を５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
以下、不可視化層の構成について説明する。
The refractive indexes of the low refractive index layer and the high refractive index layer described above are values calculated by measuring the resin layer using an ellipsometer at a wavelength of 550 nm.
Hereinafter, the configuration of the invisible layer will be described.
（１）最上層
本発明における不可視化層の最上層は、不可視化層を構成する複数の樹脂層の積層体のうち、タッチパネル用基板のガラス基板側とは反対側の最外面に位置する層である。上記最上層は熱硬化性樹脂を含む層である。
(1) Uppermost layer The uppermost layer of the invisible layer in the present invention is a layer located on the outermost surface on the side opposite to the glass substrate side of the substrate for touch panel among the laminate of a plurality of resin layers constituting the invisible layer. It is. The uppermost layer is a layer containing a thermosetting resin.
熱硬化性樹脂としては、加熱されることにより重合反応を起こして硬化する成分を含むものであれば良く、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができる。
また、上記熱硬化性樹脂としては、硬化させて樹脂層とした際の耐薬品性がより高いものであることがより好ましく、耐アルカリ性が高いものが特に好ましい。タッチパネルセンサ用基板上に透明電極層をフォトリソグラフィ法を用いて形成する場合においては、レジストを剥離する際に用いられるアルカリ性溶液による不可視化層の劣化が生じやすいからである。
As the thermosetting resin, any resin may be used as long as it contains a component that is cured by heating to cause a polymerization reaction. For example, polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, Examples thereof include hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin and the like.
Moreover, as said thermosetting resin, it is more preferable that it is a thing with higher chemical resistance at the time of hardening and setting it as a resin layer, and a thing with high alkali resistance is especially preferable. This is because when the transparent electrode layer is formed on the touch panel sensor substrate by using a photolithography method, the invisible layer is easily deteriorated by the alkaline solution used when the resist is peeled off.
また、上記最上層としては、重合反応が開始され易くするための開始助剤として、カルボン酸無水物などの低分子化合物がさらに含まれていてもよい。低分子化合物から構成される開始助剤の含有比率は、上記熱硬化性樹脂の含有比率や最上層の形成条件等に応じて適宜選択することができる。上記開始助剤の比率としては、最上層を形成するための最上層形成用組成物の固形分１００質量部当り０．５質量部〜１５質量部の範囲内、なかでも１質量部〜１０質量部の範囲内であることが好ましい。 The uppermost layer may further contain a low molecular compound such as a carboxylic acid anhydride as an initiation aid for facilitating the initiation of the polymerization reaction. The content ratio of the initiation assistant composed of the low molecular weight compound can be appropriately selected according to the content ratio of the thermosetting resin, the formation condition of the uppermost layer, and the like. As the ratio of the above-mentioned starting aid, it is in the range of 0.5 to 15 parts by mass, particularly 1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content of the composition for forming the uppermost layer for forming the uppermost layer. It is preferably within the range of parts.
上記最上層は、上述した熱硬化性樹脂を含んでいれば特に限定されず、例えば、屈折率を調整するための粒子（以下、屈折率調整用粒子と称して説明する場合がある。）を含んでいてもよく、屈折率調整用粒子を含まなくてもよい。本発明においては、なかでも、最上層は屈折率調整用粒子を含まないことがより好ましい。最上層が屈折率調整用粒子を含む場合、最上層の表面に屈折率調整用粒子が露出して最上層の表面の耐薬品性が低下する可能性があるからである。なお、最上層の表面の耐薬品性に影響しない程度であれば、上記屈折率調整用粒子を含有していてもよい。なお、上記屈折率調整用粒子については後述する。 The uppermost layer is not particularly limited as long as it contains the above-described thermosetting resin. For example, particles for adjusting the refractive index (hereinafter may be referred to as “refractive index adjusting particles”). It may be included, and the refractive index adjusting particles may not be included. In the present invention, it is more preferable that the uppermost layer contains no refractive index adjusting particles. This is because when the uppermost layer includes refractive index adjusting particles, the refractive index adjusting particles are exposed on the surface of the uppermost layer, and the chemical resistance of the surface of the uppermost layer may be lowered. The refractive index adjusting particles may be contained as long as the chemical resistance of the surface of the uppermost layer is not affected. The refractive index adjusting particles will be described later.
上記最上層の厚さとしては、不可視化層を構成することができれば特に限定されないが、不可視効果の観点から２００ｎｍ以下であることが好ましく、なかでも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
光硬化性樹脂を用いた層を形成するに際して、その厚さを上述した値以下とした場合においては大気雰囲気下で露光を行なった場合の酸素阻害により、樹脂層の硬化反応が進行しにくくなりやすい。そこで、最上層の厚さが上記値以下である場合は、本発明の作用効果を好適に発揮することができるからである。
また、最上層の厚さが厚いと、不可視化層の厚さが厚くなり、例えば、光の干渉による虹ムラが観察される可能性があるからである。
最上層の厚さの下限値としては、最上層の光学特性を所定の値に調整することができれば特に限定されないが、成膜の容易性の観点から、例えば、５ｎｍ程度である。
The thickness of the uppermost layer is not particularly limited as long as the invisible layer can be formed, but is preferably 200 nm or less from the viewpoint of the invisible effect, and particularly within the range of 5 nm to 100 nm, particularly 10 nm to 50 nm. It is preferable to be within the range.
When forming a layer using a photo-curing resin, if the thickness is less than the above-mentioned value, the curing reaction of the resin layer is less likely to proceed due to oxygen inhibition when exposure is performed in an air atmosphere. Cheap. Therefore, when the thickness of the uppermost layer is not more than the above value, the effects of the present invention can be suitably exhibited.
Moreover, if the thickness of the uppermost layer is large, the thickness of the invisible layer is increased, and for example, rainbow unevenness due to light interference may be observed.
The lower limit of the thickness of the uppermost layer is not particularly limited as long as the optical characteristics of the uppermost layer can be adjusted to a predetermined value, but is about 5 nm, for example, from the viewpoint of film formation.
本発明における最上層、後述する他の樹脂層、および不可視化層全体の厚さについては、一般的な測定方法によって測定することができる。厚さの測定方法としては、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察像を用いて測定する方法、触針で表面をなぞり凹凸を検出することによって厚さを算出する触針式の方法や、分光反射スペクトルに基づいて厚さを算出する光学式の方法等を挙げることができる。具体的には、ケーエルエー・テンコール株式会社製の触針式膜厚計Ｐ−１５を用いて厚さを測定することができる。なお、厚さとして対象となる部材の複数箇所における厚さ測定結果の平均値が用いられてもよい。 The thickness of the uppermost layer, the other resin layers described later, and the entire invisible layer in the present invention can be measured by a general measurement method. As a method of measuring the thickness, for example, a method of measuring using an observation image of a transmission electron microscope (TEM), a stylus type method of calculating the thickness by tracing the surface with a stylus and detecting irregularities, And an optical method for calculating the thickness based on the spectral reflection spectrum. Specifically, the thickness can be measured using a stylus type film thickness meter P-15 manufactured by KLA-Tencor Corporation. In addition, the average value of the thickness measurement result in several places of the member used as object may be used as thickness.
（２）他の樹脂層
本発明における不可視化層の他の樹脂層は、最上層の下層に形成された樹脂層である。
本発明においては、最上層が熱硬化性樹脂を含む層であれば、不可視化層の最表面を十分に硬化させることができることから、不可視化層に耐薬品性を付与することができる。そのため、上記最上層の下層に形成された上記樹脂層は光硬化性樹脂を含む層であってもよく、熱硬化性樹脂を含む層であってもよい。上記他の樹脂層が光硬化性樹脂を含む層である場合は、屈折率が調整された汎用の光硬化性樹脂を用いて不可視化層の光学特性を調整しやすく、また、不可視化層の材料選択性を広くすることができる。一方、上記他の樹脂層が熱硬化性樹脂を含む層である場合は、不可視化層の耐薬品性をより良好なものとすることができる。
(2) Other resin layer The other resin layer of the invisible layer in this invention is a resin layer formed in the lower layer of the uppermost layer.
In the present invention, if the uppermost layer includes a thermosetting resin, the outermost surface of the invisible layer can be sufficiently cured, so that chemical resistance can be imparted to the invisible layer. Therefore, the resin layer formed in the lower layer of the uppermost layer may be a layer containing a photocurable resin or a layer containing a thermosetting resin. When the other resin layer is a layer containing a photocurable resin, it is easy to adjust the optical characteristics of the invisible layer using a general-purpose photocurable resin having an adjusted refractive index. The material selectivity can be widened. On the other hand, when the other resin layer is a layer containing a thermosetting resin, the chemical resistance of the invisible layer can be improved.
上記他の樹脂層に用いられる熱硬化性樹脂については、上述した「（１）最上層」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The thermosetting resin used for the other resin layers can be the same as the contents described in the above-mentioned section “(1) Top layer”, and thus the description thereof is omitted here.
上記他の樹脂層に用いられる光硬化性樹脂としては、一般的なタッチパネルセンサに用いられるものを使用することができる。光硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。光硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム、等の反応性ビニル基などの光反応性基を有する感光性樹脂を１種以上を用いることができる。上記アクリル系樹脂では、例えば、多官能アクリレート系モノマー、光重合開始剤、その他添加剤などからなる感光性樹脂を樹脂層の樹脂成分として用いることができる。
上記多官能アクリレート系モノマーには、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、などを１種以上用いることができる。
なお、本発明において、（メタ）アクリレートとは、メタクリレート、又は、アクリレートのいずれかであることを意味する。
As a photocurable resin used for said other resin layer, what is used for a general touch panel sensor can be used. The photocurable resin is preferably an ultraviolet curable resin. Examples of the photocurable resin include photosensitive resins having a photoreactive group such as an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, a polyvinyl cinnamate resin, and a cyclized rubber. One or more types can be used. In the acrylic resin, for example, a photosensitive resin composed of a polyfunctional acrylate monomer, a photopolymerization initiator, and other additives can be used as the resin component of the resin layer.
Examples of the polyfunctional acrylate monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. The above can be used.
In the present invention, (meth) acrylate means either methacrylate or acrylate.
上記光重合開始剤には、アルキルフェノン系、オキシムエステル系、トリアジン系、チタネート系などを１種以上用いることができる。例えば、アルキルフェノン系では、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）９０７、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モノフォリオフェニル）ブタノン−１（イルガキュア（登録商標）３６９、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、オキシムエステル系では、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）（イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）などを用いることができる。 As the photopolymerization initiator, one or more alkylphenone series, oxime ester series, triazine series, titanate series and the like can be used. For example, in the alkylphenone series, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (Irgacure (registered trademark) 907, manufactured by BASF Japan Ltd.), 2-benzyl- In 2-dimethylamino-1- (4-monofoliophenyl) butanone-1 (Irgacure (registered trademark) 369, manufactured by BASF Japan Ltd.), an oxime ester system, 1,2-octanedione, 1- [4- ( Phenylthio) phenyl]-, 2- (O-benzoyloxime) (Irgacure (registered trademark) OXE01, manufactured by BASF Japan Ltd.) and the like can be used.
また、上記他の樹脂層は、屈折率調整用粒子を含んでいてもよい。屈折率調整用粒子としては、例えば、屈折率調整用粒子が、樹脂層に上述した高屈折率層に該当する屈折率を付与するものであることが好ましい。 In addition, the other resin layer may include refractive index adjusting particles. As the refractive index adjusting particles, for example, it is preferable that the refractive index adjusting particles impart a refractive index corresponding to the above-described high refractive index layer to the resin layer.
上記屈折率調整用粒子としては、例えば、金属酸化物粒子を挙げることができる。
金属酸化物粒子に用いられる金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン等を挙げることができる。これらの金属酸化物は１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
また、必要に応じて屈折率調整用粒子表面を各種カップリング剤などにより修飾することができる。各種カップリング剤としては例えば、珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなどを有機置換した金属アルコキシド、有機酸塩などが挙げられる。
Examples of the refractive index adjusting particles include metal oxide particles.
Examples of the metal oxide used for the metal oxide particles include zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, zirconium oxide, and antimony oxide. These metal oxides may be used alone or in combination of two or more.
Further, the surface of the refractive index adjusting particles can be modified with various coupling agents as required. Examples of the various coupling agents include metal alkoxides and organic acid salts obtained by organic substitution of silicon compounds, aluminum, titanium, zirconium, antimony, and the like.
上記屈折率調整用粒子の平均粒径としては、不可視化層を構成する樹脂層を形成することができれば、特に限定されないが、５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、なかでも１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
屈折率調整用粒子の平均粒径が小さすぎる場合、または大きすぎる場合は、樹脂層の屈折率を調整することが困難となる可能性があるからである。また、屈折率調整用粒子の平均粒径が大きすぎる場合は、樹脂層の強度の低下や光散乱が発生する可能性があるからである。
ここで、平均粒径は、顕微鏡観察による平均粒径である。顕微鏡観察による平均粒径は、例えば、１００倍で顕微鏡観察を行い、画像処理ソフト等により任意の粒子の粒子径を１００個測定して個数平均することにより得られる。なお、粒径とは粒子の長軸径と短軸径の平均値を指す。
The average particle diameter of the refractive index adjusting particles is not particularly limited as long as the resin layer constituting the invisible layer can be formed, but is within the range of 5 nm to 200 nm, particularly within the range of 10 nm to 100 nm. It is preferable to be within the range of 10 nm to 60 nm.
This is because if the average particle size of the refractive index adjusting particles is too small or too large, it may be difficult to adjust the refractive index of the resin layer. Further, when the average particle diameter of the refractive index adjusting particles is too large, there is a possibility that the strength of the resin layer is reduced or light scattering occurs.
Here, an average particle diameter is an average particle diameter by microscopic observation. The average particle diameter by microscopic observation is obtained, for example, by performing microscopic observation at a magnification of 100, measuring 100 particle diameters of arbitrary particles with image processing software or the like, and averaging the number. The particle diameter refers to the average value of the major axis diameter and minor axis diameter of the particles.
屈折率調整用粒子の含有量としては、不可視化層を構成する樹脂層に所定の屈折率を付与することができる程度であれば特に限定されないが、樹脂層に含まれる樹脂１００質量部当たり、２０質量部〜９０質量部の範囲内、なかでも４０質量部〜８０質量部の範囲内、特に６０質量部〜８０質量部の範囲内であることが好ましい。
屈折率調整用粒子の含有量が多いと、樹脂層が脆くなる可能性や樹脂層自体を形成することが困難となる可能性があるからである。また、屈折率調整用粒子の含有量が少ないと、樹脂層の屈折率を十分に調整することが困難となる可能性があるからである。
The content of the refractive index adjusting particles is not particularly limited as long as a predetermined refractive index can be imparted to the resin layer constituting the invisible layer, but per 100 parts by mass of the resin contained in the resin layer, It is preferably in the range of 20 parts by mass to 90 parts by mass, especially in the range of 40 parts by mass to 80 parts by mass, and particularly in the range of 60 parts by mass to 80 parts by mass.
This is because if the content of the refractive index adjusting particles is large, the resin layer may become brittle or it may be difficult to form the resin layer itself. Further, if the content of the refractive index adjusting particles is small, it may be difficult to sufficiently adjust the refractive index of the resin layer.
上記他の樹脂層の厚さとしては、不可視化層を構成することができれば特に限定されないが、例えば、５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、なかでも１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
上記他の樹脂層の厚さが厚すぎると、不可視化層自体の厚さが厚くなることから光の干渉による虹ムラが観察される可能性があるからである。また、上記他の樹脂層の厚さが薄すぎると、ガラス基板上の全面に樹脂層を良好に形成することが困難となる可能性があるからである。
The thickness of the other resin layer is not particularly limited as long as the invisible layer can be formed. For example, the thickness is in the range of 5 nm to 200 nm, particularly in the range of 10 nm to 100 nm, particularly in the range of 10 nm to 50 nm. It is preferable that
This is because if the thickness of the other resin layer is too large, the thickness of the invisible layer itself increases, so that rainbow unevenness due to light interference may be observed. Moreover, it is because it may become difficult to form a resin layer favorable on the whole surface on a glass substrate when the thickness of said other resin layer is too thin.
（３）不可視化層
本発明における不可視化層全体の厚さとしては、タッチパネルセンサとした際に透明電極層の骨見えを抑制することができれば特に限定されないが、１０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内、なかでも２０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、特に２０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
不可視層全体の厚さが薄すぎると、ガラス基板上に良好な不可視化層を形成することが困難となる可能性があるからであり、不可視化層全体の厚さが厚すぎると光の干渉により虹ムラを生じる可能性があるからである。
(3) Invisible layer The thickness of the entire invisible layer in the present invention is not particularly limited as long as the bone appearance of the transparent electrode layer can be suppressed when it is used as a touch panel sensor, but in the range of 10 nm to 400 nm. However, it is preferably in the range of 20 nm to 200 nm, particularly in the range of 20 nm to 100 nm.
This is because if the thickness of the entire invisible layer is too thin, it may be difficult to form a good invisible layer on the glass substrate. If the entire thickness of the invisible layer is too thick, light interference may occur. This is because rainbow unevenness may occur.
不可視化層の透過率としては、特に限定されないが、８０％以上であることが好ましく、なかでも９０％以上であることが好ましく、特に９５％以上であることが好ましい。
不可視化層の透過率が小さいと、タッチパネルとして表示装置とともに用いた場合に、表示画像が見にくくなる可能性があるからである。
不可視化層の透過率は、例えば、ヘイズメーター（商品名：ＮＤＨ２０００、日本電色工業株式会社製）を用いて測定された全光線透過率である。
The transmittance of the invisible layer is not particularly limited, but is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
This is because if the transmittance of the invisible layer is small, the display image may be difficult to see when used with a display device as a touch panel.
The transmittance of the invisible layer is, for example, the total light transmittance measured using a haze meter (trade name: NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
不可視化層の設計方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば以下の方法を挙げることができる。
まず、タッチパネルセンサにおいて透明電極層が形成された部分と透明電極層が形成されていない部分との反射率の差、透過率の差および透過色差がそれぞれ所望の値となるように光学特性の目標値を設定する。次に、不可視化層の各層の厚さおよび屈折率と、タッチパネルセンサとした際に用いられる透明電極層の厚さおよび屈折率とに基づいて、シミュレーションにより反射率の差、透過率の差、透過色差の光学特性の値を求める。次に、不可視化層の各層の厚さと屈折率を可変のパラメータとして、上述した光学特性の目標値を達成することが可能な不可視化層の各層の厚さと屈折率を算出することにより、不可視化層を設計することができる。上述したシミュレーションは、例えば、サイバネットシステムズ（株）製の薄膜設計ソフトウェア（ＯＰＴＡＳ−ＦＩＬＭ）を用いて行うことができる。不可視化層の設計方法の詳細については、特開２０１２−１４６２１７号公報に記載の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
As a method for designing the invisible layer, a known method can be used, and examples thereof include the following methods.
First, in the touch panel sensor, the optical characteristic target is set so that the difference in reflectance, the difference in transmittance, and the transmission color difference between the portion where the transparent electrode layer is formed and the portion where the transparent electrode layer is not formed are respectively desired values. Set the value. Next, based on the thickness and refractive index of each layer of the invisible layer and the thickness and refractive index of the transparent electrode layer used when the touch panel sensor is used, a difference in reflectance, a difference in transmittance, The optical characteristic value of the transmission color difference is obtained. Next, using the thickness and refractive index of each layer of the invisible layer as variable parameters, the thickness and refractive index of each layer of the invisible layer capable of achieving the target value of the optical property described above are calculated. A visualization layer can be designed. The simulation described above can be performed using, for example, thin film design software (OPTAS-FILM) manufactured by Cybernet Systems. The details of the design method of the invisible layer are the same as the contents described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-146217, and thus the description thereof is omitted here.
また、不可視化層の形成方法としては、一般的なタッチパネルセンサに用いられる樹脂層の形成方法と同様とすることができる。
具体的には、ガラス基板上に、上記他の層を形成するための樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する。次に、上記塗膜に硬化処理を行い、上記他の層を形成する。上記他の層が熱硬化性樹脂を含む層である場合は、加熱により硬化処理を行う。一方、上記他の層が光硬化性樹脂を含む層である場合は、光照射により硬化処理を行う。この際、必要に応じて上記塗膜にさらに加熱処理を行ってもよい。次に、上記他の層上に最上層を形成するための最上層形成用樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する。次に、上記塗膜を加熱して硬化させることにより、上記最上層を形成する。
Moreover, as a formation method of an invisible layer, it can be made to be the same as the formation method of the resin layer used for a general touch panel sensor.
Specifically, a coating film is formed by applying a resin composition for forming the other layer on a glass substrate. Next, the coating film is cured to form the other layer. When the other layer is a layer containing a thermosetting resin, the curing process is performed by heating. On the other hand, when the other layer is a layer containing a photocurable resin, a curing process is performed by light irradiation. Under the present circumstances, you may heat-process the said coating film further as needed. Next, the uppermost layer-forming resin composition for forming the uppermost layer is applied on the other layers to form a coating film. Next, the uppermost layer is formed by heating and curing the coating film.
上記最上層形成用樹脂組成物、および他の層を形成するための樹脂組成物については、必要に応じて溶媒を含んでいてもよい。溶媒については一般的なものとすることができる。 The uppermost layer forming resin composition and the resin composition for forming other layers may contain a solvent as necessary. The solvent can be general.
上記最上層形成用樹脂組成物等の塗布方法については、一般的な樹脂層の形成方法に用いられる方法と同様とすることができ、例えば、スピンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、バーコート法等を挙げることができる。 The coating method for the uppermost layer-forming resin composition or the like can be the same as the method used for a general resin layer forming method, for example, spin coating, die coating, spray coating, dip coating. Method, roll coating method, bead coating method, bar coating method and the like.
加熱による硬化処理の加熱温度としては、熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、１５０℃〜２５０℃の範囲内、なかでも１８０℃〜２４０℃の範囲内、特に２００℃〜２３０℃の範囲内であることが好ましい。
上記加熱温度が低いと、最上層等を十分に硬化させることが困難となる可能性があるからであり、上記加熱温度が高いと不可視化層を構成する樹脂層が変性する可能性があるからである。
The heating temperature of the curing treatment by heating can be appropriately selected according to the type of the thermosetting resin, and is not particularly limited. For example, it is in the range of 150 ° C to 250 ° C, particularly 180 ° C to 240 ° C. It is preferable to be in the range, particularly in the range of 200 ° C to 230 ° C.
If the heating temperature is low, it may be difficult to sufficiently cure the uppermost layer, and if the heating temperature is high, the resin layer constituting the invisible layer may be modified. It is.
光硬化処理、および光硬化処理に伴い行なわれる加熱処理については、一般的な樹脂層の形成方法として用いられる方法と同様とすることができる。 About the photocuring process and the heat processing performed with a photocuring process, it can be made to be the same as that of the method used as a formation method of a general resin layer.
２．ガラス基板
本発明におけるガラス基板は、上述した不可視化層を支持するものである。
2. Glass substrate The glass substrate in this invention supports the invisible layer mentioned above.
ガラス基板としては、上述した不可視化層を形成することができ、タッチパネルセンサの支持基材として用いることができるものであればガラスの種類については特に限定されない。 As the glass substrate, the type of glass is not particularly limited as long as the above-described invisibility layer can be formed and can be used as a support base material of the touch panel sensor.
ガラス基板の厚さとしては、上述した不可視化層を形成することができ、タッチパネルセンサの支持基材として用いることができるものであれば特に限定されないが、５０μｍ〜１５００μｍの範囲内、なかでも４００μｍ〜１０００μｍの範囲内、特に５００μｍ〜７００μｍの範囲内であることが好ましい。
ガラス基板の厚さが薄すぎる場合は、本発明のタッチパネルセンサ用基板に十分な強度を付与することが困難となる可能性があるからである。一方、ガラス基板の厚さが厚すぎる場合は、タッチパネルセンサ用基板を用いたタッチパネルセンサの薄膜化、軽量化を図ることが困難となる可能性があるからである。
The thickness of the glass substrate is not particularly limited as long as the above-described invisibility layer can be formed and can be used as a support base material of the touch panel sensor, but it is within a range of 50 μm to 1500 μm, and in particular, 400 μm. It is preferable to be within a range of ˜1000 μm, particularly within a range of 500 μm to 700 μm.
It is because it may become difficult to give sufficient intensity | strength to the board | substrate for touchscreen sensors of this invention when the thickness of a glass substrate is too thin. On the other hand, when the glass substrate is too thick, it may be difficult to reduce the thickness and weight of the touch panel sensor using the touch panel sensor substrate.
ガラス基板の屈折率としては、ガラス基板の種類に応じて適宜決定されるものであり、特に限定されないが、通常、１．４０〜１．６０の範囲内であり、特に１．４５〜１．５５の範囲内であることが好ましい。
ガラス基板の屈折率は、５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
The refractive index of the glass substrate is appropriately determined according to the type of the glass substrate, and is not particularly limited, but is usually in the range of 1.40 to 1.60, particularly 1.45 to 1.5. It is preferable to be within the range of 55.
The refractive index of the glass substrate is a value calculated by measurement using an ellipsometer at a wavelength of 550 nm.
３．その他の構成
本発明のタッチパネルセンサ用基板は、上述したガラス基板、および不可視化層を有することができれば特に限定されず、必要に応じて他の構成を適宜選択して追加することができる。このような構成としては、例えば、不可視化層上の全面に形成され、無機導電性材料を含む全面透明電極層を挙げることができる。上記全面透明電極層に用いられる無機導電性材料、および厚さについては、後述する「Ｂ．タッチパネルセンサ」の項で説明する透明電極層に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
3. Other Configurations The touch panel sensor substrate of the present invention is not particularly limited as long as it can have the glass substrate and the invisible layer described above, and other configurations can be appropriately selected and added as necessary. As such a structure, for example, a full-surface transparent electrode layer formed on the entire surface of the invisible layer and containing an inorganic conductive material can be exemplified. The inorganic conductive material used for the entire transparent electrode layer and the thickness thereof can be the same as those used for the transparent electrode layer described in the section “B. Touch panel sensor” described later. Description of is omitted.
Ｂ．タッチパネルセンサ
本発明のタッチパネルセンサは、ガラス基板と、上記ガラス基板上に形成され、透明樹脂を含み、異なる屈折率を有する複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層と、上記不可視化層上にパターン状に形成され、無機導電性材料を含む透明電極層と、を有し、上記不可視化層は、上記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることを特徴とするものである。
B. Touch Panel Sensor The touch panel sensor of the present invention includes a glass substrate, an invisible layer formed on the glass substrate, including a transparent resin, and made of a laminate of a plurality of resin layers having different refractive indexes, and the invisible A transparent electrode layer including an inorganic conductive material formed in a pattern on the layer, wherein the invisible layer is a layer in which the uppermost layer of the laminate includes a thermosetting resin. To do.
本発明のタッチパネルセンサについて、図を用いて説明する。
図３（ａ）は本発明のタッチパネルセンサの一例を示す概略平面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。図３（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明のタッチパネルセンサ１０は、ガラス基板２と、ガラス基板２上に形成され、透明樹脂を含み、異なる屈折率を有する複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層３と、不可視化層３上にパターン状に形成され、無機導電性材料を含む透明電極層４と、を有するものである。不可視化層３については、上述した図１で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
図３（ａ）、（ｂ）に示すタッチパネルセンサ１０は、透明電極層４が、アクティブエリア内に形成された第１電極４１および第２電極４２を有するセンサ電極、ならびに第１電極４１同士を接続する第１導電部４３および第２電極４２同士を接続する第２導電部４４を有する導電部である例について示している。また、図３（ａ）、（ｂ）においては、ガラス基板２の一方の表面上に形成された不可視化層３上に第１電極４１、および第１導電部４３が形成され、絶縁層６を介してさらに第２電極４２および第２導電部４４が形成されている例について示している。また、図３（ａ）、（ｂ）においては、不可視化層３上、および絶縁層６上のアクティブエリアの外側にそれぞれ第１電極４１または第２電極４２と接続された取り出し配線５１、および外部接続端子５２が形成されている例について示している。なお、説明の容易の為、図３（ａ）においては不可視化層および絶縁層については省略して示している。
The touch panel sensor of this invention is demonstrated using figures.
FIG. 3A is a schematic plan view showing an example of the touch panel sensor of the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. As shown in FIGS. 3A and 3B, the
In the
本発明によれば、上記構成を有する不可視化層を有することにより、不可視化層の劣化が少ない安価なタッチパネルセンサとすることができる。 According to this invention, it can be set as the cheap touch panel sensor with little deterioration of an invisible layer by having the invisible layer which has the said structure.
以下、本発明のタッチパネルセンサの詳細について説明する。なお、本発明におけるガラス基板、および不可視化層については、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ用基板」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 Hereinafter, details of the touch panel sensor of the present invention will be described. In addition, about the glass substrate in this invention, and the invisible layer, since it can be made to be the same as that of the content demonstrated by the term of the "A. touch-panel sensor board | substrate" mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
１．透明電極層
本発明における透明電極層は、不可視化層上にパターン状に形成され、無機導電性材料を含む層である。
1. Transparent electrode layer The transparent electrode layer in this invention is a layer which is formed in a pattern shape on an invisible layer, and contains an inorganic electroconductive material.
本発明に用いられる無機導電性材料としては、一般的なタッチパネルセンサに用いられるものを使用することができ、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物や、これらの金属酸化物が２種以上複合された材料が挙げられる。 As the inorganic conductive material used in the present invention, those used for a general touch panel sensor can be used. For example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide, indium oxide, antimony-added tin oxide, fluorine Additive tin oxide, aluminum-added zinc oxide, potassium-added zinc oxide, silicon-added zinc oxide, metal oxides such as zinc oxide-tin oxide system, indium oxide-tin oxide system, zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide system, Examples thereof include materials in which two or more of these metal oxides are combined.
本発明に用いられる透明電極層の導電性としては、タッチパネルセンサの電極として機能することができる程度であれば特に限定されない。本発明においては、透明電極層の表面抵抗が、例えば、１０Ω／□〜１００Ω／□の範囲内であることが好ましく、なかでも１０Ω／□〜３０Ω／□の範囲内であることが好ましく、特に、１４Ω／□〜２２Ω／□の範囲内であることが好ましい。上記シート抵抗であることにより、上記センサ電極を高感度なものとすることができるからである。
上記透明電極層の表面抵抗は、ロレスタＧＰ ＭＣＰ-Ｔ６０１型 （ＪＩＳ Ｋ７１９４準拠）を用い、４端子４探針法 定電流印加方式により確認することができる。
The conductivity of the transparent electrode layer used in the present invention is not particularly limited as long as it can function as an electrode of a touch panel sensor. In the present invention, the surface resistance of the transparent electrode layer is preferably in the range of, for example, 10Ω / □ to 100Ω / □, and more preferably in the range of 10Ω / □ to 30Ω / □. It is preferably within the range of 14Ω / □ to 22Ω / □. This is because the sensor electrode can be made highly sensitive by the sheet resistance.
The surface resistance of the transparent electrode layer can be confirmed using a Loresta GP MCP-T601 type (conforming to JIS K7194) by a four-terminal four-probe method and a constant current application method.
透明電極層の厚さとしては、所定の導電性を示すことができれば特に限定されず、例えば、３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、なかでも１００ｎｍ〜１８０ｎｍの範囲内、特に１３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。透明電極層の厚さが薄すぎると、電極として十分に機能しない可能性があるからであり、透明電極層の厚さが厚すぎると、透明電極層にクラック、剥離等が生じやすくなる可能性があるからである。
透明電極層の厚さについては、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察像を用いて測定することができる。
The thickness of the transparent electrode layer is not particularly limited as long as it can exhibit predetermined conductivity. For example, the thickness is in the range of 30 nm to 200 nm, particularly in the range of 100 nm to 180 nm, and particularly in the range of 130 nm to 150 nm. It is preferable. This is because if the thickness of the transparent electrode layer is too thin, it may not function sufficiently as an electrode. If the thickness of the transparent electrode layer is too thick, cracks, peeling, etc. may easily occur in the transparent electrode layer. Because there is.
About the thickness of a transparent electrode layer, it can measure using the observation image of a transmission electron microscope (TEM), for example.
透明電極層の屈折率としては、透明電極層の材料に応じて適宜決定されるものであるが、通常、１．７０〜２．２０の範囲内であり、特に１．８０〜２．００の範囲内であることが好ましい。
透明電極層の屈折率は、５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
The refractive index of the transparent electrode layer is appropriately determined according to the material of the transparent electrode layer, but is usually in the range of 1.70 to 2.20, particularly 1.80 to 2.00. It is preferable to be within the range.
The refractive index of the transparent electrode layer is a value calculated by measurement using an ellipsometer at a wavelength of 550 nm.
本発明における透明電極層の形成方法としては、フォトリソグラフィ法を好適に用いることができる。具体的には、上述したタッチパネルセンサ用基板を準備し、不可視化層上の全面に透明電極層を形成する。次に、透明電極層上にレジストを塗布して塗膜を形成し、上記塗膜をフォトマスク等を介して露光した後、現像し、所定のパターン形状を有するレジスト層を形成する。次に、透明電極層の露出部分をエッチングして透明電極層を所定のパターン形状に形成する。次に、レジスト層を剥離することにより、上述した透明電極層を形成することができる。 As a method for forming the transparent electrode layer in the present invention, a photolithography method can be suitably used. Specifically, the touch panel sensor substrate described above is prepared, and a transparent electrode layer is formed on the entire surface of the invisible layer. Next, a resist is applied on the transparent electrode layer to form a coating film, and the coating film is exposed through a photomask or the like and then developed to form a resist layer having a predetermined pattern shape. Next, the exposed portion of the transparent electrode layer is etched to form the transparent electrode layer in a predetermined pattern shape. Next, the transparent electrode layer described above can be formed by peeling the resist layer.
透明電極層の成膜方法としては、一般的な方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いる方法を挙げることができる。
また、透明電極層のエッチングに用いられるエッチング液としては、上記透明電極層を構成する無機導電性材料等に応じて適宜設定されるものである。具体的には、上記透明電極層がＩＴＯからなる場合には、塩化第二鉄と塩酸との混合水溶液や塩酸、シュウ酸、臭化水素酸等を用いることができる。
レジストについては、一般的なフォトリソグラフィ法に用いられているものと同様とすることができる。また、レジストの現像液、レジストの剥離液としては、例えば、水酸化カリウム水溶液等を挙げることができる。
As a method for forming the transparent electrode layer, a general method can be used, and examples thereof include a method using a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, and an ion plating method.
Moreover, as an etching liquid used for the etching of a transparent electrode layer, it sets suitably according to the inorganic electroconductive material etc. which comprise the said transparent electrode layer. Specifically, when the transparent electrode layer is made of ITO, a mixed aqueous solution of ferric chloride and hydrochloric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, hydrobromic acid, or the like can be used.
The resist can be the same as that used in general photolithography. Examples of the resist developer and the resist stripper include an aqueous potassium hydroxide solution.
透明電極層としては、タッチパネルセンサに用いられる電極であれば特に限定されないが、アクティブエリア内に形成されるセンサ電極であることが好ましい。 Although it will not specifically limit if it is an electrode used for a touch panel sensor as a transparent electrode layer, It is preferable that it is a sensor electrode formed in an active area.
２．タッチパネルセンサの電極
本発明のタッチパネルセンサに用いられる電極としては、タッチパネルセンサの形態に応じて適宜選択することができるが、タッチパネルセンサが静電容量方式のものである場合は、アクティブエリア内に形成されるセンサ電極および導電部、アクティブエリアの外側に形成される取り出し配線および外部接続端子を挙げることができる。
2. Electrode of touch panel sensor The electrode used in the touch panel sensor of the present invention can be appropriately selected according to the form of the touch panel sensor. If the touch panel sensor is of the capacitive type, it is formed in the active area. Sensor electrodes and conductive parts to be formed, lead wires formed outside the active area, and external connection terminals.
（１）センサ電極
本発明におけるセンサ電極は、第１電極および上記第１電極と絶縁された第２電極を含み、アクティブエリア内に形成され、接触位置を検出するために用いられるものである。
なお、第１電極と絶縁された第２電極とは、両電極が電気的に接続されていないことをいうものである。
(1) Sensor electrode The sensor electrode in the present invention includes a first electrode and a second electrode insulated from the first electrode, is formed in the active area, and is used to detect a contact position.
In addition, the 2nd electrode insulated from the 1st electrode means that both electrodes are not electrically connected.
本発明におけるセンサ電極は、上述した透明電極層であってもよく、透明電極層でなくてもよいが、透明電極層であることが好ましい。 The sensor electrode in the present invention may be the transparent electrode layer described above or not the transparent electrode layer, but is preferably a transparent electrode layer.
上記センサ電極の平面視形状、平面視外形形状としては、例えば、特開２０１１−２１０１７６号公報、特開２０１０−２３８０５２号公報、特許第４６１０４１６号公報、特開２０１０-２８６８８６号公報、特開２００４-１９２０９３号公報、特開２０１０-２７７３９２号公報や特開２０１１−１２９５０１号公報、特開２０１３−１５６７７３号公報、特開２０１３−１４３０５９号公報に挙げられるような一般的なタッチパネルセンサに用いられるものと同様とすることができる。
本発明においては、センサ電極の平面視形状としては、開口部を含まない面状であることが好ましい。また、センサ電極の平面視外形形状としては、具体的には長方形、平面視略正方形形状等の多角形状等とすることができる。
As the planar view shape and the planar view outer shape of the sensor electrode, for example, JP 2011-210176 A, JP 2010-238052 A, JP 4610416 A, JP 2010-286886 A, and JP 2004. Used for general touch panel sensors such as those described in JP-A-202093, JP-A 2010-277392, JP-A 2011-129501, JP-A 2013-156773, and JP-A 2013-143059 And can be similar.
In the present invention, the planar shape of the sensor electrode is preferably a planar shape that does not include an opening. Further, the outer shape of the sensor electrode in plan view can be specifically a polygonal shape such as a rectangle or a substantially square shape in plan view.
また、本発明における第１電極および第２電極のガラス基板に対する形成箇所としては、タッチパネルセンサのアクティブエリア内であって両者が絶縁されるように形成されていれば特に限定されない。例えば、図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、ガラス基板２の一方の表面上に形成された不可視化層３上に第１電極４１および第２電極４２の両方が形成されていてもよく、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板２の一方の表面上に形成された不可視化層３上に第１電極４１が形成され、絶縁層６を介して第２電極４２が形成されていてもよい。また、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板２の両面に不可視化層３を有する場合は、一方の不可視化層３上に第１電極４１が形成され、他方の不可視化層３上に第２電極４２が形成されていてもよい。
また、図示はしないが、上述したタッチパネルセンサ用基板を２枚準備し、各タッチパネルセンサ用基板の不可視化層上に、それぞれ第１電極および第２電極を別々で形成してもよい。
なお、図４（ａ）は本発明のタッチパネルセンサの他の例を示す概略平面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ線断面図であり、図４（ｃ）は図４（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。また、図５（ａ）は本発明のタッチパネルセンサの他の例を示す概略平面図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
Moreover, as a formation location with respect to the glass substrate of the 1st electrode and 2nd electrode in this invention, if it is formed in the active area of a touch panel sensor and both are insulated, it will not specifically limit. For example, as shown in FIGS. 4A to 4C, both the
Although not shown, two touch panel sensor substrates described above may be prepared, and the first electrode and the second electrode may be separately formed on the invisible layer of each touch panel sensor substrate.
4A is a schematic plan view showing another example of the touch panel sensor of the present invention, FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 4A, and FIG. ) Is a sectional view taken along line BB in FIG. FIG. 5A is a schematic plan view showing another example of the touch panel sensor of the present invention, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
（２）導電部
本発明における導電部は、上記センサ電極を構成する第１電極間および第２電極間をそれぞれ接続する第１導電部および第２導電部を含むものである。
また、通常、上記第１導電部および第２導電部はその一部が平面視上重なるように形成されるものである。
(2) Conductive part The conductive part in this invention contains the 1st conductive part and 2nd conductive part which connect between the 1st electrodes which comprise the said sensor electrode, and between 2nd electrodes, respectively.
Further, the first conductive portion and the second conductive portion are usually formed so that a part thereof overlaps in plan view.
上記導電部は、上述した透明電極層であってもよく、透明電極層でなくてもよい。導電部が透明電極層ではない場合、導電部に用いられる導電性材料としては、例えば、アルミニウム、モリブデン、銀、クロム等の金属およびその合金等を用いることができる。 The above-mentioned conductive part may be the transparent electrode layer mentioned above, and may not be a transparent electrode layer. When the conductive part is not a transparent electrode layer, examples of the conductive material used for the conductive part include metals such as aluminum, molybdenum, silver, and chromium, and alloys thereof.
上記導電部の平面視外形形状としては、一般的なタッチパネルセンサと同様とすることができ、例えば、センサ電極の平面視外形形状より幅の狭いライン形状、センサ電極の平面視外形形状と同等の幅を有するライン形状等とすることができる。 The external shape of the conductive part in plan view can be the same as that of a general touch panel sensor. For example, the line shape is narrower than the external shape of the sensor electrode in plan view, and is equivalent to the external shape of the sensor electrode in plan view. A line shape having a width can be used.
また、上記第１導電部および第２導電部の形成箇所としては、上記第１電極間および第２電極間をそれぞれ安定的に接続でき、かつ、両者が絶縁されるように形成されるものであれば特に限定されるものではない。例えば、既に説明した図３、および図５に示すように第１電極４１および第２電極４２が、異なる表面上または異なる部材上に形成される場合には、第１導電部４３および第２導電部４４をそれぞれ上記第１電極４１および第２電極４２と同一表面上に形成されるものとすることができる。
また、図４に示すように第１電極４１および第２電極４２の両者が同一のガラス基板２の一方の表面上に形成される場合には、第１導電部４３および第２導電部４４が絶縁層６を介して形成されるものとすることができる。
In addition, the first conductive portion and the second conductive portion are formed so that the first electrode and the second electrode can be stably connected to each other and are insulated from each other. There is no particular limitation as long as it is present. For example, when the
As shown in FIG. 4, when both the
（３）取り出し配線
本発明における取り出し配線は、上記センサ電極に接続されるものである。上記取り出し配線の形成箇所としては、本発明のタッチパネルセンサの種類や用途等に応じて適宜設定されるものであるが、本発明のタッチパネルセンサがタッチパネル付表示装置に用いられる場合には、通常、非アクティブエリアに形成されるものである。
取り出し配線としては、上述した透明電極層であってもよく、上述した透明電極層でなくてもよい。通常は、取り出し配線は、上述した透明電極層でないことが好ましい。
上記取り出し配線が上記透明電極層ではない場合、取り出し配線の形成に用いられる導電性材料としては、具体的には、銀、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金などを例示することができる。金属合金としては、ＡＰＣ、すなわち銀・パラジウム合金が汎用される。また、金属の複合体としては、ＭＡＭ（Ｍｏ−Ａｌ−Ｍｏ、すなわちモリブデン・アルミニウム・モリブデンの３層構造体）なども適用可能である。
(3) Extraction wiring The extraction wiring in the present invention is connected to the sensor electrode. As the location where the lead-out wiring is formed, it is appropriately set according to the type and application of the touch panel sensor of the present invention, but when the touch panel sensor of the present invention is used for a display device with a touch panel, It is formed in an inactive area.
The extraction wiring may be the above-described transparent electrode layer, or may not be the above-described transparent electrode layer. Usually, it is preferable that the lead-out wiring is not the transparent electrode layer described above.
When the lead-out wiring is not the transparent electrode layer, the conductive material used to form the lead-out wiring is specifically composed of silver, gold, chromium, platinum, aluminum alone or any one of them. An alloy to be used can be exemplified. As the metal alloy, APC, that is, a silver / palladium alloy is generally used. Further, as the metal composite, MAM (Mo—Al—Mo, that is, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum) can be used.
上記取り出し配線の線幅としては、一般的なタッチパネルセンサと同様とすることができ、例えば、０．０１ｍｍ〜０．２ｍｍ程度とすることができる。 The line width of the extraction wiring can be the same as that of a general touch panel sensor, and can be, for example, about 0.01 mm to 0.2 mm.
（４）外部接続端子
本発明における外部接続端子は、上記取り出し配線に接続され、例えば、フレキシブルプリント配線基板等のタッチパネルセンサの外部の構成との接続に用いられるものである。
(4) External connection terminal The external connection terminal in this invention is connected to the said extraction wiring, for example, is used for connection with the external structure of touch panel sensors, such as a flexible printed wiring board.
このような外部接続端子の形成箇所および外部接続端子が透明電極層でない場合の導電性材料としては、タッチパネルセンサに一般的に用いられるものとすることができ、具体的には、上記取り出し配線と同様とすることができる。
上記外部接続端子の端子幅、厚みおよび平面視形状や、外部接続端子部内における外部接続端子間の間隔については、一般的なタッチパネルセンサと同様とすることができる。具体的には、特開２０１１−２１０１７６号公報に記載されるものと同様とすることができる。
As a conductive material in the case where the external connection terminal is formed and the external connection terminal is not a transparent electrode layer, it can be generally used for a touch panel sensor. The same can be said.
About the terminal width of the said external connection terminal, thickness, and planar view shape, and the space | interval between the external connection terminals in an external connection terminal part can be made to be the same as that of a general touch panel sensor. Specifically, it can be the same as that described in JP2011-210176A.
３．その他の構成
本発明のタッチパネルセンサは、上述したガラス基板と、不可視化層と、透明電極層とを有していれば特に限定されず、必要に応じて他の構成を適宜選択して追加することができる。
このような構成としては、例えば、絶縁層、被覆層等を挙げることができる。
3. Other Configurations The touch panel sensor of the present invention is not particularly limited as long as it includes the glass substrate, the invisible layer, and the transparent electrode layer described above, and other configurations are appropriately selected and added as necessary. be able to.
Examples of such a configuration include an insulating layer and a coating layer.
（１）絶縁層
上記絶縁層は、上記センサ電極を構成する第１電極および第２電極間の短絡を防止するために形成されるものである。
絶縁層の詳細については、例えば特開２０１３−２１０７３３号公報に記載のものと同様とすることができる。
(1) Insulating layer The insulating layer is formed to prevent a short circuit between the first electrode and the second electrode constituting the sensor electrode.
The details of the insulating layer can be the same as those described in JP 2013-210733 A, for example.
（２）被覆層
上記被覆層としては、絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、上記配線層を覆うように形成されるものである場合には、透明性を有するものであることが好ましい。
このような絶縁性および透明性を有する被覆層としては、例えば、アクリル樹脂やＳｉＯ２等の無機材料等からなるものを挙げることができる。
(2) Coating layer The coating layer is not particularly limited as long as it has insulating properties, but when it is formed so as to cover the wiring layer, it has transparency. It is preferable that
Examples of such an insulating and transparent coating layer include those made of an inorganic material such as an acrylic resin or SiO 2 .
４．製造方法
本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、上述した各構成を有するタッチパネルセンサを製造することができれば特に限定されない。また、本発明のタッチパネルセンサの各構成の製造方法については、すでに説明したため、ここでの説明は省略する。
4). Manufacturing method The manufacturing method of the touch panel sensor of this invention will not be specifically limited if the touch panel sensor which has each structure mentioned above can be manufactured. Moreover, since the manufacturing method of each structure of the touchscreen sensor of this invention has already been demonstrated, description here is abbreviate | omitted.
５．その他
本発明のタッチパネルセンサは、上述した不可視化層を有することにより、パターン形成領域と、非パターン形成領域との光学特性が調整されたものである。パターン形成領域と、非パターン形成領域との光学特性については、本発明のタッチパネルセンサの用途に応じて適宜調整することができる。
5. Others The touch panel sensor of the present invention has the above-described invisible layer so that the optical characteristics of the pattern formation region and the non-pattern formation region are adjusted. About the optical characteristic of a pattern formation area | region and a non-pattern formation area | region, it can adjust suitably according to the use of the touch panel sensor of this invention.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明のタッチパネルセンサ用基板およびタッチパネルの詳細について説明する。 The details of the touch panel sensor substrate and touch panel of the present invention will be described below with reference to examples and comparative examples.
［実施例１］
（準備）
下記の高屈折率層用樹脂組成物を調製した。
＜高屈折率層用樹脂組成物の組成＞
・アクリル系樹脂を主成分としたＵＶ硬化性樹脂組成物：３０質量％
・酸化チタン粒子（平均粒径３０ｎｍ）：７０質量％
上記高屈折率層用樹脂組成物を用いた高屈折率層の屈折率は１．７５であった。
[Example 1]
(Preparation)
The following resin composition for high refractive index layers was prepared.
<Composition of resin composition for high refractive index layer>
-UV curable resin composition based on acrylic resin: 30% by mass
-Titanium oxide particles (average particle size 30 nm): 70% by mass
The refractive index of the high refractive index layer using the above resin composition for high refractive index layer was 1.75.
低屈折率層用樹脂組成物として、エポキシ系樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物を用いた。
上記低屈折率層用樹脂組成物を用いた低屈折率層の屈折率は１．５５であった。
As the low refractive index layer resin composition, a thermosetting resin composition containing an epoxy resin as a main component was used.
The refractive index of the low refractive index layer using the above resin composition for low refractive index layer was 1.55.
ガラス基板として、厚さ０．５５ｍｍ、屈折率１．５１のガラス基板を準備した。 A glass substrate having a thickness of 0.55 mm and a refractive index of 1.51 was prepared as a glass substrate.
（タッチパネルセンサ用基板の作製）
上記ガラス基板上に上記高屈折率層用樹脂組成物を厚さ３０ｎｍになるようにスピンコーティングした後、大気雰囲気下で露光量２００ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた後、２３０℃で２５分間乾燥し、高屈折率層を得た。
(Production of touch panel sensor substrate)
After spin-coating the resin composition for a high refractive index layer to a thickness of 30 nm on the glass substrate, it was cured at an exposure amount of 200 mJ / cm 2 in an air atmosphere, and then dried at 230 ° C. for 25 minutes. A high refractive index layer was obtained.
次に、高屈折率層上に上記低屈折率層用樹脂組成物を厚さ３０ｎｍになるようにスピンコーティングした後、２３０℃で２５分間乾燥し、低屈折率層を得た。
以上の工程により、タッチパネルセンサ用基板を得た。
Next, the low refractive index layer resin composition was spin-coated on the high refractive index layer to a thickness of 30 nm, and then dried at 230 ° C. for 25 minutes to obtain a low refractive index layer.
Through the above steps, a touch panel sensor substrate was obtained.
［実施例２］
高屈折率層を下記のように形成したこと以外は、実施例１と同様にして、タッチパネルセンサ用基板を作製した。
下記の高屈折率樹脂組成物を調製した。
＜高屈折率層用樹脂組成物の組成＞
・エポキシ系樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物：３０質量％
・酸化チタン粒子（平均粒径３０ｎｍ）：７０質量％
上記高屈折率層用樹脂組成物を用いた高屈折率層の屈折率は１．７５であった。
[Example 2]
A touch panel sensor substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that the high refractive index layer was formed as follows.
The following high refractive index resin composition was prepared.
<Composition of resin composition for high refractive index layer>
-Thermosetting resin composition mainly composed of epoxy resin: 30% by mass
-Titanium oxide particles (average particle size 30 nm): 70% by mass
The refractive index of the high refractive index layer using the above resin composition for high refractive index layer was 1.75.
上記ガラス基板上に、上記高屈折率層用樹脂組成物を厚さ３０ｎｍになるようにスピンコーティングした後、２３０℃で２５分間乾燥し、高屈折率層を得た。 The high refractive index layer resin composition was spin-coated on the glass substrate so as to have a thickness of 30 nm, and then dried at 230 ° C. for 25 minutes to obtain a high refractive index layer.
［比較例］
低屈折率層を下記のように形成したこと以外は、実施例１と同様にして、タッチパネルセンサ用基板を作製した。
低屈折率層用樹脂組成物として、アクリル系樹脂を主成分としたＵＶ硬化型樹脂組成物を準備した。
上記低屈折率層用樹脂組成物を用いた低屈折率層の屈折率は１．５５であった。
[Comparative example]
A touch panel sensor substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer was formed as follows.
As a resin composition for a low refractive index layer, a UV curable resin composition mainly composed of an acrylic resin was prepared.
The refractive index of the low refractive index layer using the above resin composition for low refractive index layer was 1.55.
高屈折率層上に上記低屈折率層用樹脂組成物を厚さ３０ｎｍになるようにスピンコーティングした後、大気雰囲気下で露光量２００ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた後、２３０℃で２５分間乾燥し、低屈折率層を得た。
以上の工程により、タッチパネルセンサ用基板を得た。
The low refractive index layer resin composition is spin-coated on the high refractive index layer so as to have a thickness of 30 nm, cured at an exposure amount of 200 mJ / cm 2 in an air atmosphere, and then dried at 230 ° C. for 25 minutes. Thus, a low refractive index layer was obtained.
Through the above steps, a touch panel sensor substrate was obtained.
［評価］
得られたタッチパネルセンサ用基板を定温に保持した下記溶液にそれぞれ浸漬し、目視にて不可視化層の剥がれが確認できるまでの時間を測定した。
結果を表１に示す。
・アルカリ性溶液：２％ＫＯＨ水溶液
・酸性溶液：４８％ＨＢｒ水溶液
[Evaluation]
Each of the obtained touch panel sensor substrates was immersed in the following solutions maintained at a constant temperature, and the time until the peeling of the invisible layer could be confirmed visually was measured.
The results are shown in Table 1.
・ Alkaline solution: 2% KOH aqueous solution ・ Acid solution: 48% HBr aqueous solution
比較例のタッチパネルセンサ用基板をアルカリ性水溶液に浸漬させた場合は、１分を満たずに不可視化層が剥離した。
比較例に比べて、実施例１〜２のタッチパネルセンサ用基板においては、不可視化層のアルカリ耐性、酸耐性のいずれも向上させることができることが確認できた。
When the substrate for touch panel sensors of the comparative example was immersed in an alkaline aqueous solution, the invisible layer was peeled off in less than 1 minute.
It was confirmed that both the alkali resistance and acid resistance of the invisible layer can be improved in the touch panel sensor substrates of Examples 1 and 2 as compared with the comparative example.
１ … タッチパネルセンサ用基板
２ … ガラス基板
３ … 不可視化層
４ … 透明電極層
１０ … タッチパネルセンサ
３１ … 高屈折率層
３２ … 低屈折率層
４１ … 第１電極
４２ … 第２電極
４３ … 第１導電部
４４ … 第２導電部
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記ガラス基板の一方の表面上に形成され、透明樹脂を含み、屈折率の異なる複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層と、
を有し、
前記不可視化層は、前記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることを特徴とするタッチパネルセンサ用基板。 A glass substrate;
An invisible layer formed on one surface of the glass substrate, comprising a transparent resin and composed of a laminate of a plurality of resin layers having different refractive indexes;
Have
The invisible layer is a touch panel sensor substrate, wherein an uppermost layer of the laminate includes a thermosetting resin.
前記ガラス基板上に形成され、透明樹脂を含み、異なる屈折率を有する複数の樹脂層の積層体で構成された不可視化層と、
前記不可視化層上にパターン状に形成され、無機導電性材料を含む透明電極層と、
を有し、
前記不可視化層は、前記積層体の最上層が熱硬化性樹脂を含む層であることを特徴とするタッチパネルセンサ。 A glass substrate;
An invisible layer formed of a laminate of a plurality of resin layers formed on the glass substrate, including a transparent resin and having different refractive indexes;
A transparent electrode layer formed in a pattern on the invisible layer and containing an inorganic conductive material;
Have
The invisible layer is a touch panel sensor, wherein the uppermost layer of the laminate is a layer containing a thermosetting resin.
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