KR20190027776A - 필름 및 적층체 - Google Patents
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Abstract
가시광선 투과율이 높고, 높은 반사율을 갖기 위해서는 지금까지의 층 설계에서는 파장 1200㎚까지의 반사가 한계이었다. 한편, 711 구성을 사용하면 파장 1200㎚ 이상의 파장을 반사시키면서 가시광선 투과율을 높은 상태로 유지할 수 있지만, 높은 반사율을 얻기 위해서는 많은 층수가 필요하여 필름 두께가 커지기 때문에 곡률이 높은 유리로의 접합이 나빠진다. 이들을 해결한다. 적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 1200~1800㎚의 범위에 있어서 연속해서 100㎚ 이상의 범위에서 반사율이 30% 이상이 되는 반사대역을 적어도 1개 갖고, 또한 파장 430~600㎚의 범위에 있어서의 평균 투과율이 70% 이상이며, 필름의 주배향축 방향과 그것에 직교하는 방향의 축 강성의 평균값이 45N/m 이하인 필름이다.
Description
본 발명은 필름 및 적층체에 관한 것이다.
최근, 환경 보호에 의한 이산화탄소 배출 규제를 받아 여름철의 외부, 특히 태양광에 의한 열의 유입을 억제할 수 있는 차열 유리를 자동차나 전차 등의 탈것, 건물의 창문 유리에 사용하는 것이 주목받아 있다.
이러한 차열 유리의 일례로서 유리 중이나 합판 유리에 사용되는 중간막 중에 열선 흡수제를 함유시켜 열선을 열선 흡수제로 차단하는 것(예를 들면, 특허문헌 1), 금속막을 유리 표면 상에 스퍼터 등에 의해 형성하여 열선을 반사시켜서 차단하는 것(예를 들면, 특허문헌 2), 굴절률이 상이한 폴리머가 교대로 적층된 폴리머 다층 적층 필름을 유리 및 중간막 사이에 삽입하여 열선을 반사시켜서 차단하는 것(예를 들면, 특허문헌 3) 등이 있다.
특허문헌 1에 기재되는 열선 흡수제를 사용하는 방법에서는 외부로부터 입사되는 태양광을 열 에너지로 변환하기 때문에 그 열이 실내로 방사되어 차열 효율이 저하되는 문제가 있다. 또한, 열선을 흡수함으로써 유리 온도가 상승하고, 외기온과의 차에 의해 유리 본체가 파손하는 경우도 있다. 또한, 특허문헌 2에 기재되는 금속막을 유리 표면 상에 스퍼터 등에 의해 형성하는 방법에서는 열선뿐만 아니라 전자파도 차폐하기 때문에 자동차나 건물 내부에서 통신기기 등을 사용할 수 없는 경우도 있다.
한편, 특허문헌 3에 기재되는 폴리머 다층 적층 필름은 그 층 두께를 제어하여 반사하는 파장을 선택할 수 있기 때문에 근적외 영역의 광을 선택적으로 반사할 수 있고, 가시광선 투과율을 유지하면서 차열성능을 향상시킬 수 있다. 또한, 금속 등 전파를 차단하는 것을 포함하지 않기 때문에 우수한 전파 투과성을 유지한 것이 된다. 폴리머 다층 적층 필름에 있어서, 광을 선택적으로 반사하는 층 구성으로서는, 예를 들면 특허문헌 4에 기재되어 있는 하기 식(1)을 만족하는 층 구성이 알려져 있다.
이 경우, 목적으로 하는 반사 파장(주반사 파장 λ) 이외에도 λ/m(m은 자연수)의 파장에 있어서도 m차 간섭 반사가 생긴다. 이 때문에, 예를 들면 1200㎚ 이상의 파장대역에 주반사 파장(1차)이 존재하도록 층 두께를 제어했을 경우, 3차의 간섭 반사가 400㎚ 이상인 가시광 영역에도 발생하게 된다. 이러한 경우 투명성이 중시되는 차의 앞유리 등과 같은 용도에는 사용할 수 없게 되어버리는 과제가 있었다.
이러한 고차 반사를 억제하는 방법으로서 특허문헌 5에 기재와 같이 층 두께의 비율을 1:7:1로 하는 층 구성(711 구성이라고 불리는 층 구성)이 알려져 있다. 그러나 본 발명자들이 검토한 결과, 이 711 구성으로 이루어지는 다층 적층 필름은 특허문헌 4에 기재된 층 구성에 비해 반사율이 낮기 때문에 소망의 반사율을 얻고자 했을 경우, 층수가 늘어나기 때문에 장치 비용이 높아진다는 과제가 있었다. 또한, 층수가 늘어나면 필름 두께도 두꺼워진다. 필름이 두꺼워지면 필름의 강성이 강해지기 때문에 곡률이 높은 유리에 붙일 경우, 필름이 유리에 추종하기 어렵기 때문에 붙일 수 없다. 또한, 붙일 수 있었다고 해도 바람이나 진동의 영향에 의해 바로 벗겨져버리는 과제가 있었다. 특히, 최근에는 디자인에 의해 곡률이 높은 유리가 증가되어 와 있어 그 과제가 명확화되어 와 있다.
즉, 특허문헌 4에 기재되는 바와 같은 층 설계에서는 가시광선 대역의 투과율을 높게 하면서 근적외 영역의 반사율을 향상시키고자 하면 반사율을 높게 할 수 있는 것은 파장 1200㎚까지가 한계이었다. 한편, 특허문헌 5에 기재되는 바와 같은 711 구성에서는 파장 1200㎚ 이상의 반사대역을 반사시키면서 가시광선 대역의 투과율을 높게 할 수 있지만, 높은 반사율을 얻기 위해서는 많은 층수가 필요하며, 필름 두께가 커지기 때문에 곡률이 높은 유리에 붙일 수 없는 것이 문제이었다.
이러한 과제를 해결하기 위해서 본 발명은 적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 1200~1800㎚의 범위에 있어서 연속해서 100㎚ 이상의 범위에서 반사율이 30% 이상이 되는 반사대역을 적어도 1개 갖고, 또한 파장 430~600㎚의 범위에 있어서의 평균 투과율이 70% 이상이며, 필름의 주배향축 방향과 그것에 직교하는 방향의 축 강성의 평균값이 10N/m 이상 45N/m 이하인 필름이다.
(발명의 효과)
본 발명에 의해 지금까지의 반사대역을 확대시키면서 고반사율을 유지하며, 또한 높은 가시광선 투과율을 갖는 필름을 제공하는 것이 가능하게 되어 축 강성이 작기 때문에 곡률이 높은 유리에도 용이하게 접합할 수 있다.
도 1은 적층 유닛 1의 개념도를 나타낸다.
도 2는 적층 유닛 2의 개념도를 나타낸다.
도 3은 슬릿 플레이트 1과 슬릿 플레이트 2를 조합했을 때에 생기는 층 구성의 일례를 나타낸다.
도 4는 적층 장치 1에서의 슬릿 플레이트 1과 슬릿 플레이트 2의 관계를 나타낸다.
도 5(a)는 적층 장치 1~2를 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 5(b)는 1~51층까지의 확대도를 나타낸다.
도 6(a)는 비교예 2의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 6(b)는 631~681층까지의 확대도를 나타낸다.
도 7(a)는 적층 장치 3을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 7(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 8(a)는 적층 장치 5을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 8(b)는 431~481층까지의 확대도를 나타낸다.
도 9(a)는 적층 장치 6을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 9(b)는 481~531층까지의 확대도를 나타낸다.
도 10(a)는 적층 장치 7을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 10(b)는 481~531층까지의 확대도를 나타낸다.
도 11(a)는 적층 장치 11을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 11(b)는 61~111층까지의 확대도를 나타낸다.
도 12(a)는 적층 장치 26을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 12(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 13(a)는 적층 장치 27을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 13(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 14(a)는 적층 장치 28을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 14(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 15(a)는 적층 장치 29를 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 15(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 16(a)는 적층 장치 30을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 16(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 17(a)는 적층 장치 31을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 17(b)는 201~251층까지의 확대도를 나타낸다.
도 2는 적층 유닛 2의 개념도를 나타낸다.
도 3은 슬릿 플레이트 1과 슬릿 플레이트 2를 조합했을 때에 생기는 층 구성의 일례를 나타낸다.
도 4는 적층 장치 1에서의 슬릿 플레이트 1과 슬릿 플레이트 2의 관계를 나타낸다.
도 5(a)는 적층 장치 1~2를 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 5(b)는 1~51층까지의 확대도를 나타낸다.
도 6(a)는 비교예 2의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 6(b)는 631~681층까지의 확대도를 나타낸다.
도 7(a)는 적층 장치 3을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 7(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 8(a)는 적층 장치 5을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 8(b)는 431~481층까지의 확대도를 나타낸다.
도 9(a)는 적층 장치 6을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 9(b)는 481~531층까지의 확대도를 나타낸다.
도 10(a)는 적층 장치 7을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 10(b)는 481~531층까지의 확대도를 나타낸다.
도 11(a)는 적층 장치 11을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 11(b)는 61~111층까지의 확대도를 나타낸다.
도 12(a)는 적층 장치 26을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 12(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 13(a)는 적층 장치 27을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 13(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 14(a)는 적층 장치 28을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 14(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 15(a)는 적층 장치 29를 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 15(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 16(a)는 적층 장치 30을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 16(b)는 131~181층까지의 확대도를 나타낸다.
도 17(a)는 적층 장치 31을 사용했을 때의 필름의 전체 층 두께 분포, 도 17(b)는 201~251층까지의 확대도를 나타낸다.
이하에 본 발명의 실시형태에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예를 포함하는 실시형태에 한정해서 해석되는 것은 아니며, 발명의 목적을 달성할 수 있고, 또한 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에 있어서의 여러 가지 변경은 당연히 있을 수 있다.
본 발명의 필름은 적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 1200~1800㎚의 범위에 있어서 연속해서 100㎚ 이상의 범위에서 반사율이 30% 이상이 되는 반사대역을 적어도 1개 갖고, 또한 파장 430~600㎚의 범위에 있어서의 평균 투과율이 70% 이상 필요하다. 파장 1200~1800㎚에서의 반사율은 보다 바람직하게는 50% 이상이며, 더 바람직하게는 70% 이상이다. 여기에서 말하는 30% 이상이 되는 반사대역을 적어도 1개 갖는다란 연속해서 100㎚ 이상 반사율이 30% 이상이 되는 반사대역을 갖는 것을 나타낸다. 반사율이 30% 이상이 되는 대역은 보다 바람직하게는 200㎚ 이상이며, 더 바람직하게는 300㎚ 이상이다. 파장 1200~1800㎚ 범위의 파장을 반사함으로써 전체 태양광 에너지 중 12% 커트할 수 있다. 한편, 광의 간섭을 이용해서 1200~1800㎚의 범위를 반사시킬 경우, 그 파장의 2분의 1, 또는 3분의 1 부근에 고차 반사가 일어나 가시광선 투과율이 저하된다. 가시광선 투과율을 향상시키기 위해서는 파장 430~600㎚에서의 평균 투과율을 70% 이상으로 할 필요가 있고, 보다 바람직하게는 80% 이상이다. 파장 430~600㎚에서의 평균 투과율을 향상시키기 위해서는 고차 반사를 억제하는 층 설계로 할 필요가 있다.
또한, 필름의 주배향축 방향과 그것에 직교하는 방향의 축 강성의 평균값이 10N/m 이상 45N/m 이하일 필요가 있다. 주배향축이란 필름면내에서 굴절률을 측정했을 때에 굴절률이 가장 높은 방향이다. 또한, 축 강성이란 영률과 필름 단면적의 곱으로 표기할 수 있다. 축 강성이 크면 곡률이 큰 유리로의 추종성이 나빠지기 때문에, 예를 들면 자동차 앞유리와 같은 곡률이 큰 유리로의 접합성이 나빠지기 때문에 바람직하지 않다. 축 강성의 평균값은 최대로 45N/m 이하이며, 보다 바람직하게는 40N/m 이하, 더 바람직하게는 35N/m 이하이다. 한편 축 강성이 지나치게 작으면, 필름 자체가 무르게 되어 핸들링성이 저하된다. 따라서, 축 강성은 10N/m 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15N/m 이상, 더 바람직하게는 20N/m 이상이다.
또한, 적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 400~800㎚의 범위에 있어서의 평균 투과율이 80% 이상인 것도 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써 투명성이 높은 필름이 되기 때문에 열선 흡수제를 포함하는 층을 형성했다고 해도 높은 투명성을 유지하기 쉽기 때문에 보다 많은 종류의 열선 흡수제와 조합할 수 있고, 그 두께를 두껍게 할 수 있게 되기 때문에 높은 차열성능을 가질 수 있다.
본 발명의 필름은 파장 900~1400㎚의 범위에 있어서의 평균 반사율이 70% 이상이 되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 가시광 영역보다 약간 큰 파장 900~1200㎚(전체 태양광 중, 파장 900~1200㎚에 차지하는 강도의 비율은 약 18%)의 광을 반사함으로써 투명하며 게다가 높은 열선 컷성능을 갖는 필름으로 할 수 있다. 또한, 반사대역을 넓혀 파장 900~1400㎚에 걸쳐 태양광을 반사할 수 있으면, 전체 태양광의 강도 중 22%를 커트하는 필름을 작성할 수 있다. 태양광은 가시광 영역에 주로 강도 분포를 구비하고 있어 파장이 커짐에 따라 그 강도 분포는 작아지는 경향이 있지만, 높은 투명성이 요구되는 용도로 사용하기 때문에 가시광 영역보다 약간 큰 파장 900~1400㎚의 광을 효율적으로 반사함으로써 높은 열선 컷성능을 부여할 수 있고, 반사대역을 넓힘으로써 ISO9050으로 규정되는 일사열 취득률을 70% 이하로 할 수 있게 된다.
또한, 파장 900~1800㎚의 평균 반사율이 70% 이상이 되는 것도 바람직하다. 파장 900~1800㎚까지 반사대역을 넓히면 약 29%의 태양광을 커트하게 되고, 파장 900㎚ 이상으로만 한정하여 말하면, 약 99%를 커트할 수 있는 필름을 작성할 수 있고, 또한 일사열 취득률을 낮출 수 있다. 평균 반사율을 크게 하기 위해서는 광학 특성이 상이한 2종 이상의 수지의 면내 굴절률의 차를 크게 함으로써 실현할 수 있으므로 2축 연신 필름으로 할 경우에는 결정성인 폴리에스테르 수지로 이루어지는 층과, 연신 시에 비정성을 유지 또는 열처리 공정에서 융해되는 저굴절률의 공중합 폴리에스테르로 이루어지는 층이 교대로 적층된 다층 적층 필름으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 평균 반사율을 크게 하기 위해서는 층수를 증가하는 방법이 사용되지만, 필름 두께의 증가로 이어져 필름 축 강성의 증가 및 핸들링성을 악화시키기 때문에 적절한 범위로 설정할 필요가 있다. 특히, 본 발명에서는 후술하는 적층 유닛 1과 적층 유닛 2의 비율을 변화시킴으로써 필름 두께가 되도록이면 얇아지도록 설계했다.
본 발명의 필름은 열가소성 수지 A를 주성분으로 하는 층(A층)과 열가소성 수지 B를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 적층한 이하 (i)을 만족하는 적층 유닛 1과, 열가소성 수지 C를 주성분으로 하는 층(C층)과 열가소성 수지 D를 주성분으로 하는 층(D층)을 교대로 적층한 이하 (ii)을 만족하는 적층 유닛 2를 갖는 것이 바람직하다.
(i) 인접하는 A층과 B층의 두께의 비(A층 두께/B층 두께)가 0.7 이상, 1.4 이하인 것.
(ii) 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층에 대하여 한쪽 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 다른쪽 두께가 5 이상 9 이하인 것.
여기에서 열가소성 수지 A와 열가소성 수지 C는 동일 수지, 열가소성 수지 B와 열가소성 수지 D는 동일 수지인 것이 바람직하고, 열가소성 수지 A와 C만이 동일, 열가소성 수지 B와 D만이 동일해도 좋다. 열가소성 수지 A는 열가소성 수지 B와, 열가소성 수지 C는 열가소성 수지 D와 광학적으로 다른 성질을 가질 필요가 있다. 광학적으로 다른 성질이란 면내에서 임의로 선택되는 직교하는 2방향 및 상기 면에 수직인 방향으로부터 선택되는 방향 중 어느 하나에 있어서 굴절률이 0.01 이상 다른 것을 말한다. 또한, 여기에서 말하는 교대로 적층되어 이루어진다란 다른 수지로 이루어지는 층이 두께 방향으로 규칙적인 배열로 적층되어 있는 것을 말하고, 예를 들면 다른 광학적 성질을 갖는 2개의 폴리에스테르 수지 A, 폴리에스테르 수지 B로 이루어질 경우, 각각의 층을 A층, B층으로 표현하면, A(BA)n(n은 자연수)라고 한 바와 같이 규칙적인 배열로 적층된 것이다. 이와 같이 광학적 성질이 다른 수지가 교대로 적층됨으로써 각 층의 굴절률의 차와 층 두께의 관계에 의해 특정 파장의 광을 반사시키는 것이 가능해진다. 또한, 적층하는 층의 전체 총 수가 많을수록 넓은 대역에 걸쳐 높은 반사율을 얻을 수 있다. 본 발명의 필름의 전체 층수는 바람직하게는 51층 이상이며, 보다 바람직하게는 201층 이상이다. 상술한 간섭 반사는 층수가 늘어날수록 보다 넓은 파장대역의 광에 대하여 높은 반사율을 달성할 수 있게 되고, 높은 광선 컷성능을 구비한 필름이 얻어지게 된다. 또한, 층수에 상한은 없지만, 층수가 늘어남에 따라 제조 장치의 대형화에 따르는 제조 비용의 증가나, 필름 두께가 두꺼워지는 것에 의한 핸들링성의 악화가 발생하기 때문에 현실적으로는 각각 1000층 이내가 실용 범위가 된다.
여기에서 상기 적층 유닛 1(도 1 참조)은 인접하는 A층과 B층의 광학 두께가 하기 (1) (2)식을 동시에 만족하는 것이 바람직하다.
여기에서 λ는 반사 파장, nA는 A층의 면내 굴절률, dA는 A층의 두께, nB는 B층의 면내 굴절률, dB는 B층의 두께, m은 차수이며, 자연수이다. (1)식과 (2)식을 동시에 만족하는 층 두께 분포를 가짐으로써 짝수차의 반사를 해소할 수 있다. 그 때문에 파장 900㎚~1200㎚의 범위에 있어서의 평균 반사율을 높게 하면서 가시광 영역인 파장 400~800㎚의 범위에 있어서의 평균 반사율을 낮게 할 수 있고, 투명하며 또한 열선 컷성능이 높은 필름을 얻을 수 있다. 일반적으로 열가소성 수지를 성형하고, 연신한 후의 필름의 굴절률로서는 약 1.4~1.9가 되기 때문에 인접하는 A층과 B층의 두께의 비(A층의 두께/B층의 두께)를 0.7 이상 1.4 이하로 함으로써 짝수차의 반사를 억제한 필름을 얻을 수 있다. 따라서, 인접하는 A층과 B층의 두께의 비(A층의 두께/B층의 두께)를 0.7 이상 1.4 이하로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.8 이상 1.2 이하이다.
또한, 상기 적층 유닛 2는 적층 유닛 2에 있어서의 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층에 대해서 한쪽 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 다른쪽 두께가 5 이상 9 이하의 두께인 것이 바람직하다. 상기 구성은 미국 특허 5360659호 명세서에 기재되어 있는 711 구성을 기본으로 하고 있다. 이 구성은 어떤 층에 대하여 광학적으로 성질이 다르며, 또한 두께가 약1/7인 층으로 끼운 층을 형성함으로써 의사적으로 1층으로 간주할 수 있고, 그에 따라 2차의 반사뿐만 아니라 3차의 반사도 억제하는 방법이다(도 2 참조). 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 두꺼운 층은 바람직하게는 5~9배, 보다 바람직하게는 6~8배이며, 또 다른 한쪽 층은 바람직하게는 1.0~1.4배이며, 보다 바람직하게는 1.0~1.2배인 것이 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써 반사대역을 1200㎚ 이상으로 해도 가시광 영역(파장 400~800㎚)에 있어서 2차, 3차의 반사가 해소된 필름을 얻을 수 있다. 이때의 층 두께로서는 도 2와 같이 위로부터 1~3층째까지가 C'층, 4~6층째까지가 D'층으로 간주되기 때문에 반사 파장은 식(1) (2)를 개량한 하기 식(3) (4)가 적용된다.
본 발명의 필름을 개발함에 있어서, 적층 유닛 1만으로 이루어지는 필름으로 파장 900㎚~1800㎚의 범위의 파장을 반사시키고자 했을 경우, 3차(m=3)의 반사가 300㎚~600㎚ 부근에 발생하기 때문에 가시광 영역인 400㎚~600㎚의 범위에서 간섭 반사되어버려 가시광선 투과율이 저하되어 버리는 경우가 있었다. 한편, 본 발명자가 적층 유닛 2만으로 이루어지는 필름으로 검토한 결과, 소망의 반사대역(예를 들면, 파장 900~1800㎚)이며, 또한 적층 유닛 1과 같은 정도의 평균 반사율을 달성하고자 했을 경우, 적층 유닛 1로만 이루어지는 필름에 비교해서 같은 정도의 필름 두께에서는 평균 반사율이 뒤떨어지는 경우가 있었다. 이것은 적층 유닛 2가 박막에 의해 의사적인 계면을 형성하고 있기 때문에 평균 반사율이 향상되지 않는다는 것이 원인인 것으로 추정하고 있다. 따라서, 적층 유닛 2만으로 이루어지는 필름을 구성했을 경우, 보다 많은 층이 필요하기 때문에 장치 비용이 높아질 뿐만 아니라 필름 두께도 두꺼워져 필름 축 강성의 증가 및 핸들링성이 나빠진다는 것을 알 수 있었다. 그래서 본 발명자가 예의 검토한 결과, 적층 유닛 1과 적층 유닛 2를 적절한 비율 및 조건에서 조합함으로써 파장 900~1400㎚ 또는 파장 900~1800㎚의 반사대역을 고반사율로 반사하며, 또한 필름 두께를 얇게 하는 것에 성공했다. 또한, 적층 유닛 1과 적층 유닛 2를 단순하게 조합했을 경우, 후술하는 슬릿 플레이트 및 슬릿에 가해지는 수지의 압력이 적층 유닛 1과 적층 유닛 2에서는 상이하기 때문에 플로우 마크가 나오기 쉬워진다는 과제나, 폭 방향의 광학 특성에 불균일이 생성되는 것이 판명되었다. 이것에 관해서도 본 발명자가 예의 검토한 결과, 각 슬릿 플레이트에서의 적층 유닛의 두께 비의 조정, 슬릿 플레이트 사이로의 중간 후막층의 삽입에 의해 최적인 처방을 발견하는 것에 성공했다.
본 발명의 필름의 층 구성으로서 적층 유닛 1은 파장 1200㎚ 이하의 파장을 반사시키도록 설계하는 것이 바람직하다. 상기에서 나타낸 바와 같이 적층 유닛 1은 1200㎚ 이상의 파장을 반사시키고자 하면, 3차의 반사가 가시광 영역에 발생해버린다. 한편, 적층 유닛 2는 900㎚ 이상의 파장을 반사시켜도 좋지만, 적층 유닛 1이 900~1200㎚의 광을 충분히 반사하고 있을 경우에는 1200㎚ 이상의 광을 선택적으로 반사시키도록 설계하는 것이 바람직하다. 1200㎚ 이하이어도 3차의 반사는 발생하지 않지만, 파장 900~1800㎚에 걸쳐 반사시키고자 했을 경우, 층수의 증가로 이어진다. 따라서, 적층 유닛 2는 적층 유닛 1의 반사대역을 보충하도록 1200㎚ 이상의 대역을 반사시키는 것이 바람직하다. 상기 반사대역으로 하기 위해서는 식(1)로부터 적층 유닛 1의 1유닛 부근의 두께(서로 이웃하는 A층과 B층의 합)는 250㎚ 이상 400㎚ 이하에서 층 두께 분포를 갖는 것이 바람직하고, 적층 유닛 2의 6층분의 두께(도 2 중의 dc'와 dD '의 합)는 300㎚ 이상 600㎚ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이러한 영역으로 함으로써 굴절률이 1.5~1.8인 물질을 적층시킬 경우에는 파장 900~1800㎚의 파장을 반사시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 필름의 적층 유닛 1의 총 두께 d1은 5㎛ 이상인 것이 바람직하다. 적층 유닛 1의 총 두께 d1이 5㎛ 이상이면, 파장 900~1200㎚의 대역을 효율 좋게 반사하는 것이 가능해진다. 더 바람직하게는 10㎛ 이상이지만, 지나치게 두꺼워져도 최종적인 필름 두께의 증가, 또한 소망의 반사대역에 있어서 반사율이 상한의 100%가 되어버리기 때문에 바람직하게는 50㎛ 이하이다.
또한, 본 발명의 필름의 적층 유닛 2의 총 두께 d2는 20㎛ 이상인 것이 바람직하다. 적층 유닛 2의 총 두께 d2가 20㎛ 이상이면, 파장 1200㎚~1800㎚에서의 평균 반사율을 50% 이상으로 할 수 있기 때문에 파장 900~1800㎚의 범위에 있어서, 평균 반사율이 70% 이상을 달성하는 것이 용이해진다. 보다 바람직하게는 20㎛ 이상 50㎛ 이하이다.
또한, 본 발명의 필름의 총 두께는 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 필름의 전체 두께가 100㎛를 초과하면, 핸들링성의 악화로 이어지기 때문에, 특히 유리의 시공업자 등의 작업 부담으로도 이어진다. 또한, 권취 모습도 거대해지기 때문에 반송의 비용이 증대한다.
본 발명의 필름 중의 적층 유닛 1, 상기 적층 유닛 2, 또는 상기 적층 유닛 1과 상기 적층 유닛 2 양쪽이, 인접하는 6층의 층 두께의 합이 필름의 두께 방향에 대하여 연속한 층 두께 분포를 갖는 것이 바람직하다. 식(1)이나 식(3)으로부터도 알 수 있는 바와 같이 서로 이웃하는 층의 두께가 일정하면 단파장의 반사만이 되어버린다. 또한, 연속적으로 분포를 갖는 것이 바람직하고, 예를 들면 적층 유닛 1과 적층 유닛 2가 교대가 되는 것 같은 층 두께 분포이어도 상관없지만, 층 두께 분포는 연속하고 있었던 편이 간섭 반사는 강해지기 때문에 반사율의 향상으로 이어진다. 그러기 위해서는 두께 방향에 대하여 어떤 일정 경사를 연속으로 갖는 층 두께 분포인 것이 바람직하다. 연속이란 A(BA)n으로 했을 경우에 n=10 이상이며, 더 바람직하게는 20 이상이다.
또한, 상기 적층 유닛 1, 상기 적층 유닛 2, 또는 상기 적층 유닛 1과 상기 적층 유닛 2 양쪽이, 인접하는 6층의 층 두께의 합이 필름의 어느 한쪽의 표면으로부터 중앙부를 향해서 서서히 얇아지는 영역을 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명자들이 예의 연구를 거듭한 결과, 층 두께 분포가 적어도 한쪽 표면으로부터 얇아짐으로써 가시광 영역에서의 반사율이 저하되는 것을 알 수 있었다. 그 때문에 적어도 한쪽 면으로부터 층 두께가 서서히 감소함으로써 유리 등에 본 발명의 필름을 접합하고, 밖으로부터 관찰할 때에 돋보임이 좋아진다.
더 바람직한 형태로서는 필름의 양면으로부터 중앙을 향해서 서서히 얇아지는 영역을 포함하는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써 합판 유리화와 같은 양면으로부터의 돋보임이 중요한 장소에 있어서도 광학성능이 좋아지기 때문에 범용성이 높아진다.
또한, 상기 적층 유닛 1, 상기 적층 유닛 2, 또는 상기 적층 유닛 1과 상기 적층 유닛 2 양쪽이, 인접하는 6층의 층 두께의 합이 필름의 어느 한쪽의 표면으로부터 중앙부를 향해서 서서히 얇아지는 영역과, 서서히 두꺼워지는 영역의 양쪽을 포함하는 것도 바람직하다. 이렇게 함으로써 그 파장에서의 반사율의 증가로 이어지고, 또한 한쪽(예를 들면, 서서히 얇아지는 영역)의 층 두께가 흐트러졌다고 해도 다른 쪽(예를 들면, 서서히 두꺼워지는 영역)에서 보완할 수 있기 때문에 소망의 반사대역 및 반사율이 얻어지기 쉬워진다. 두꺼워지는 영역과 얇아지는 영역을 더 반복하면, 반사율의 증가 및 반사대역의 누락은 적어지지만, 반복이 많아지면 필름 두께의 증가로 이어지기 때문에 적층 유닛 1과 적층 유닛 2를 합해 서서히 얇아지는 영역이 2회, 서서히 두꺼워지는 영역이 2회 이하가 바람직하다.
또한, 본 발명의 필름은 두께가 1㎛ 이상인 층을 갖는 것이 바람직하다. 특히 표층에 1㎛ 이상의 층을 갖는 것이 바람직하다. 층 두께가 1㎛ 이상인 층을 가짐으로써 폭방향으로 적층 두께 불균일의 발생을 억제할 수 있어 폭방향의 광학성능을 안정시키는 것이 가능해진다. 특히, 표층이 1㎛ 이상인 경우, 유리와 접합했을 때에 유리와의 계면에서의 간섭을 억제하고, 여러 색의 얼룩의 발생을 억제하는 것이 가능해진다. 그 때문에 본 발명의 필름은 표층에는 1㎛ 이상, 더 바람직하게는 2㎛ 이상, 가장 바람직하게는 3㎛ 이상의 층을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 필름의 표층 이외(내부)에도 1㎛ 이상의 층을 갖는 것이 바람직하다. 특히, 적층 유닛 1과 적층 유닛 2의 사이, 또는 후술하는 필름의 제조 단계에 있어서의 각 슬릿 플레이트의 끝이 형성하는 층(표층 후막층 또는 중간 후막층에 닿는 부분)에 갖는 것이 바람직하다. 적층 유닛 1과 적층 유닛 2는 층 두께 구성이 다르기 때문에 각 슬릿에 가해지는 수지압이 다르다. 그 때문에 특히 적층 유닛 1과 적층 유닛 2의 경계선에서 층혼란을 일으키기 쉽다. 또한, 필름 제조 단계에 있어서의 슬릿 플레이트 사이에서도 전단에 의한 수지의 발열의 영향을 받기 때문에 적층 불균일이 생기기 쉽다. 그 때문에 필름의 사이, 특히 필름 제조 단계에 있어서의 슬릿 플레이트와의 경계에 닿는 층은 1㎛ 이상, 더 바람직하게는 2㎛ 이상의 층이 있는 것이 바람직하다. 중간 후막층의 작성 방법의 일례로서는 도 3에 기재된 바와 같이 필름 제조 단계에 있어서의 슬릿 플레이트 1로부터 배출되는 A층과 슬릿 플레이트 2로부터 배출되는 A층을 서로 겹쳐 한층(도 3의 슬릿 플레이트 1로부터 배출되는 A(중간 후막층)와 슬릿 플레이트 2로부터 배출되는 A(중간 후막층)는 서로 합쳐져서 1층의 중간 후막층을 형성함)으로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 필름은 파장 900~1400㎚를 반사시킬 경우, 적층 유닛 1의 총 두께를 d1, 적층 유닛 2를 총 두께 d2로 했을 경우, 하기 식(5)을 만족하는 것이 바람직하다.
상기 식은 적층 유닛 1의 총 두께(d1(㎛))가 적층 유닛 1과 적층 유닛 2의 총 두께의 합(d1+d2(㎛))에 대하여 40% 이상 100% 미만인 것을 나타낸다. 적층 유닛 1은 적은 층수이어도 비교적 높은 반사율을 갖기 때문에 가능한 한 넓은 범위에 걸쳐 반사대역을 형성하는 것이 바람직하지만, 모든 층이 적층 유닛 1인 경우, 상술한 바와 같이 파장 900~1400㎚의 범위에서 평균 반사율을 높게 하려고 했을 경우 파장 400~450㎚에서 고차의 반사가 생긴다. 그 때문에 파장 900~1200㎚의 범위를 가능한 한 적은 층수로 반사시키는 것이 바람직하다. 한편, 적층 유닛 2는 모든 유닛을 적층 유닛 2로 해도 고차의 반사는 생기기 어렵지만, 반사율이 저하되기 쉽다. 그 때문에 적층 유닛 1과 적층 유닛 2에서 같은 정도의 굴절률 차를 갖는 수지를 적층시킬 경우, 가능한 한 반사율을 높게 유지하며, 또한 가시광 영역에 고차의 반사를 발생하지 않게 하기 위해서는 적층 유닛 1과 적층 유닛 2의 총 두께의 합(d1+d2(㎛))에 차지하는 적층 유닛 1의 총 두께(d1(㎛))의 비율이 40% 이상이 바람직하고, 더 바람직하게는 50% 이상이며, 상한은 100% 미만이 바람직하고, 더 바람직하게는 60% 미만이다. 이러한 범위로 함으로써 가장 효율 좋게 파장 900~1400㎚의 범위의 파장을 반사할 수 있고, 필름 두께도 얇게 할 수 있는 것이다.
또한, 본 발명의 필름은 파장 900~1800㎚를 반사시킬 경우, 적층 유닛 1의 총 두께를 d1, 적층 유닛 2를 총 두께 d2로 했을 경우, 하기 식(6)을 만족하는 것이 바람직하다.
상기 식은 적층 유닛 1의 총 두께(d1(㎛))가 적층 유닛 1과 적층 유닛 2의 총 두께의 합(d1+d2(㎛))에 대하여 1% 이상 40% 미만인 것을 나타낸다. 적층 유닛 1은 적은 층수이어도 비교적 높은 반사율을 갖기 때문에 가능한 한 넓은 범위에 걸쳐 반사대역을 형성하는 것이 바람직하지만, 모든 층이 적층 유닛 1인 경우 상술한 바와 같이 파장 900~1800㎚의 범위에서 평균 반사율을 높게 하려고 했을 경우, 파장 400~600㎚에서 고차의 반사가 생긴다. 그 때문에 파장 900~1200㎚의 범위를 가능한 한 적은 층수로 반사시키는 것이 바람직하다. 한편, 적층 유닛 2는 모든 유닛을 적층 유닛 2로 해도 고차의 반사는 생기기 어렵지만, 반사율이 저하되기 쉽다. 그 때문에 적층 유닛 1과 적층 유닛 2에서 같은 정도의 굴절률 차를 갖는 수지를 적층시킬 경우, 가능한 한 반사율을 높게 유지하며, 또한 가시광 영역에 고차의 반사를 발생하게 하지 않기 위해서는 적층 유닛 1과 적층 유닛 2의 총 두께의 합(d1+d2(㎛))에 차지하는 적층 유닛 1의 총 두께(d1(㎛))의 비율이 1% 이상이 바람직하고, 더 바람직하게는 10% 이상이며, 상한은 40% 미만이 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써 가장 효율 좋게 파장 900~1800㎚의 범위의 파장을 반사할 수 있고, 필름 두께도 얇게 할 수 있는 것이다.
본 발명에 의한 다층 적층 필름에 사용할 수 있는 열가소성 수지로서는, 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리(4-메틸펜텐-1) 등의 폴리올레핀,
시클로올레핀으로서는 노보넨류의 개환 메타세시스 중합, 부가 중합, 다른 올레핀류와의 부가 공중합체인 지환족 폴리올레핀,
폴리락트산, 폴리부틸숙시네이트 등의 생분해성 폴리머, 나일론 6, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 66 등의 폴리아미드,
아라미드, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 에틸렌아세트산비닐 코폴리머, 폴리아세탈, 폴리글리콜산, 폴리스티렌, 스티렌 공중합 폴리메타크릴산메틸, 폴리카보네이트,
폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 등의 폴리에스테르,
폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 변성 폴리페닐렌에테르, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 폴리아릴레이트,
4불화에틸렌 수지, 3불화에틸렌 수지, 3불화염화에틸렌 수지, 4불화에틸렌-6불화프로필렌 공중합체, 폴리불화비닐리덴 등을 들 수 있다. 이들 중에서 강도·내열성·투명성의 관점으로부터 특히 폴리에스테르를 사용하는 것이 바람직하고, 폴리에스테르로서는 방향족 디카르복실산 또는 지방족 디카르복실산과 디올 또는 그들의 유도체를 사용하여 얻어지는 폴리에스테르가 바람직하다. 여기에서 방향족 디카르복실산으로서, 예를 들면 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 1,5-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 4,4'-디페닐디카르복실산, 4,4'-디페닐에테르디카르복실산, 4,4'-디페닐술폰디카르복실산 등을 들 수 있다. 지방족 디카르복실산으로서는, 예를 들면 아디프산, 수베르산, 세박산, 다이머산, 도데칸디온산, 시클로헥산디카르복실산과 그들의 에스테르 유도체 등을 들 수 있다. 그 중에서도 바람직하게는 테레프탈산과 2,6-나프탈렌디카르복실산을 들 수 있다. 이들의 산 성분은 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋고, 또한 하이드록시벤조산 등의 옥시산 등을 일부 공중합해도 좋다.
또한, 디올 성분으로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리알킬렌글리콜, 2,2-비스(4-하이드록시에톡시페닐)프로판, 이소소르베이트, 스피로글리콜 등을 들 수 있다. 그 중에서도 에틸렌글리콜이 바람직하게 사용된다. 이들의 디올 성분은 1종만 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다.
상기 폴리에스테르 중, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 그 공중합체, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 그 공중합체, 폴리부틸렌테레프탈레이트 및 그 공중합체, 폴리부틸렌나프탈레이트 및 그 공중합체, 또한 폴리헥사메틸렌테레프탈레이트 및 그 공중합체 및 폴리헥사메틸렌나프탈레이트 및 그 공중합체 중으로부터 선택되는 폴리에스테르를 사용하는 것이 바람직하다.
특히, 상기 중에서도 고굴절률측의 수지는 폴리에틸렌나프탈레이트계의 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 그렇게 함으로써 저굴절 수지와의 굴절률 차가 나기 쉽기 때문에 반사대역의 증가와 필름 두께의 감소를 동시에 달성할 수 있다.
또한, 상기 열가소성 수지에는 각종 첨가제, 예를 들면 산화 방지제, 내열 안정제, 내후 안정제, 자외선 흡수제, 유기계 이활제, 안료, 염료, 유기 또는 무기의 미립자, 충전제, 대전 방지제, 핵제, 양호 유동화제 등이 그 특성을 악화시키지 않을 정도로 첨가되어 있어도 좋다.
본 발명의 필름의 상기 열가소성 수지 A 및 열가소성 수지 C의 미배향 상태에서의 굴절률이 1.55~1.7, 상기 열가소성 수지 B 및 열가소성 수지 D의 미배향 상태에서의 굴절률이 1.5~1.65인 것이 바람직하다. 미배향 상태에서의 굴절률이란 적층 필름 각각의 수지를 깎아 낸 후 융해시킨 수지의 굴절률이다. 열가소성 수지 A와 열가소성 수지 C의 미배향 상태에서의 굴절률이 1.55~1.7까지이면 연신 후에도 굴절률이 높아지기 쉽다. 한편, 상기 열가소성 수지 B 및 열가소성 수지 D의 미배향 상태에서의 굴절률이 1.5~1.65, 더 바람직하게는 1.55~1.6이면, 연신 후의 열가소성 수지 A 및 열가소성 수지 C의 굴절률 차를 두기 쉽다. 상기 측정 방법으로서는 연신한 필름을 깎아 낸 후 한번 고온에서 융해시킨 후, 각종 측정법 방법으로 굴절률을 측정함으로써 측정할 수 있다.
또한, 수지를 배향시킨 후에 인접하는 층(즉, A층과 B층, C층과 D층)의 굴절률 차를 두기 위해서는 A층과 C층에 사용하는 수지가 결정성이며, 또한 B층과 D층에 사용하는 수지가 융점 이상의 열처리에 의해 배향이 완화되어 굴절률이 작아지는 수지, 또는 비정성 또는 비정성 열가소성 수지와 결정성 열가소성 수지의 혼합물로 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 필름의 제조에 있어서의 연신, 열처리 공정에 있어서 굴절률 차를 더 넓히는 것이 가능해져 반사율이 30% 이상이 되는 반사대역을 갖는 것이 용이해진다.
또한, 본 발명의 필름에 있어서는 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층이 근접하고 있고, ISO9050으로 규정되는 가시광선 투과율이 70% 이상, 일사열 취득률이 50% 이하인 적층체로 하는 것도 바람직하다. 본 발명에 있어서의 하드 코트층이란 JIS K5600-5-4에 의거하는 연필 경도가 HB 이상인 층을 가리킨다. 이러한 층을 형성함으로써 차열 부재로서 적용했을 때의 내절창성이나 신뢰성이 우수한 필름으로 할 수 있다. 또한, 하드 코트층에는 열선 흡수제가 포함되어 있는 것이 바람직하다. 열선 흡수제로서는 텅스텐 화합물, 란탄 화합물, 안티몬 화합물, 인듐 화합물, 주석 화합물 등이 예시되지만, 그 중에서도 산화텅스텐 화합물이 바람직하게 사용된다. 산화텅스텐 화합물은 파장 1500㎚보다 장파장대역뿐만 아니라 파장 700~1500㎚의 파장대역에 있어서도 높은 열선 흡수성능을 갖는다. 한편, 란탄 화합물, 안티몬 화합물, 인듐 화합물, 주석 화합물에 있어서는 파장 1500㎚보다 장파장대역에 있어서는 높은 흡수성능을 구비하지만, 한편 파장 700~1500㎚의 범위에 있어서는 그 흡수성능은 충분하지 않은 경우가 있다. 특히, 본 발명의 필름은 파장 900~1800㎚의 반사대역을 갖지만, 파장 1200㎚ 이후에는 적층 유닛 2로 구성되기 때문에 반사율이 충분하지 않은 경우가 있다. 그 때문에 본 발명의 필름에 란탄 화합물이나 안티몬 화합물, 인듐 화합물을 사용했을 경우, 700~850㎚ 및 1200~1500㎚의 파장대역의 광을 충분히 차폐할 수 없다. 한편, 산화텅스텐 화합물은 란탄 화합물이나 안티몬 화합물, 인듐 화합물, 주석 화합물과 비교해서 700~1500㎚에 있어서도 높은 차열성능을 나타내기 때문에, 특히 본 발명의 필름에 산화텅스텐 화합물을 사용했을 경우 파장 700㎚ 이상의 파장대역의 광을 대부분 커트할 수 있어 높은 차열성능을 달성할 수 있다. 그 때문에 본 발명의 적층체의 하드 코트층은 란탄 화합물, 안티몬 화합물, 인듐 화합물, 주석 화합물의 함유량의 합이 1질량% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1질량% 이하, 더 바람직하게는 0.01질량% 이하이다. 여기에서 말하는 산화텅스텐 화합물이란 단순한 텅스텐 산화물에 추가하여 텅스텐 이외의 금속을 함유하는 산화텅스텐도 포함된다. 여기에서 말하는 텅스텐 이외의 금속으로서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 세슘산화텅스텐, 탈륨산화텅스텐, 인듐산화텅스텐, 마그네슘산화텅스텐 등이 적합하게 사용된다. 특히, 본 발명에 있어서는 적외선의 커트율이 높고(열선 흡수 효율이 높고), 가시광선의 흡수가 적은 것이나 그 광학 특성의 안정성이라는 관점으로부터 세슘산화텅스텐인 것이 바람직하다. 하드 코트층 중의 산화텅스텐 화합물의 함유량은 후술하는 파장 400~800㎚나 파장 900~1200㎚의 평균 투과율이 바람직한 범위이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 하드 코트층 전체에 대하여 1질량% 이상 80질량% 이하가 바람직하다. 1질량% 미만이면, 파장 900~1200㎚의 투과율을 낮게 하기 위해서 하드 코트층을 과도하게 두껍게 할 필요가 있어 핸들링성이나 비용의 관점으로부터 바람직하지 않은 경우가 있다. 한편, 80질량%보다 많이 함유할 경우에는 필름 두께 제어에 의한 광의 투과율의 제어가 곤란하게 되어 산화텅스텐 화합물(열선 흡수제)의 탈락 등이 일어나기 쉬워지는 경우가 있다. 바람직하게는 10질량% 이상 75% 이하, 더 바람직하게는 20질량% 이상 70% 이하가 바람직하다.
상기 하드 코트층을 형성하는 수지로서는 아크릴 수지나 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지나 실라놀 등으로부터 선택되며, 그 종류는 특별히 한정되는 것은 아니고, 이들을 단체 또는 조합하여 사용된다. 아크릴 수지로서는, 예를 들면 메타크릴산, 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산이소프로필, 메타크릴산n-부틸, 메타크릴산이소부틸, 메타크릴산n-헥실, 메타크릴산라우릴, 메타크릴산2-하이드록시에틸, 메타크릴산하이드록시프로필, 아크릴산, 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산이소프로필, 아크릴산n-부틸, 아크릴산이소부틸, 아크릴산n-헥실, 아크릴산라우릴, 아크릴산 2-에틸헥실글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르, 4-하이드록시부틸메타아크릴레이트글리시딜에테르, 페닐글리시딜아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에폭시메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등이 바람직하게 예시된다.
또한, 개시제나 경화제나 촉매를 포함하면 경화가 보다 촉진되기 때문에 바람직하다. 개시제로서는 음이온, 양이온, 라디칼 반응 등에 의한 중합, 축합 또는 가교 반응을 개시 또는 촉진할 수 있는 것이 바람직하다. 개시제, 경화제 및 촉매는 여러 가지의 것을 사용할 수 있다. 또한, 개시제, 경화제 및 촉매는 각각 단독으로 사용되어도 좋고, 복수의 개시제, 경화제 및 촉매를 동시에 사용해도 좋다. 또한, 산성 촉매나, 열중합 개시제나 광중합 개시제를 병용해도 좋지만, 그 중에서도 광중합 개시제가 바람직하다. 산성 촉매의 예로서는 염산 수용액, 포름산, 아세트산 등을 들 수 있다. 열중합 개시제의 예로서는 과산화물, 아조 화합물을 들 수 있다. 또한, 광중합 개시제의 예로서는 알킬페논계 화합물, 함황계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 아민계 화합물 등을 들 수 있다. 광중합 개시제로서는 경화성의 점으로부터 알킬페논계 화합물이 바람직하다. 알킬페논형 화합물의 구체예로서는 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2.2-디메톡시-1.2-디페닐에탄-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-페닐)-1-부탄, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-(4-페닐)-1-부탄, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부탄, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부탄, 1-시클로힉실-페닐케톤, 2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서의 하드 코트층의 두께는 특별히 제약되는 것은 아니지만, 0.1㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 30㎛ 이하, 더 바람직하게는 10㎛ 이하이다. 하드 코트층의 두께가 0.1㎛ 미만일 경우, 고정밀도로 하드 코트층의 두께를 제어하는 것이 어려워지는 경향이 있고, 차열성능에 불균일이 생기는 경우도 있다. 한편, 하드 코트층의 두께가 50㎛보다 클 경우에는 기재 필름 에 대한 하드 코트층의 두께가 커지기 때문에 본 발명의 필름의 기계 물성에 대하여 하드 코트층의 영향이 발생하여 바람직하지 않은 경우가 있다. 하드 코트층의 두께가 0.1㎛ 이상 50㎛ 이하인 경우에 있어서는 하드 코트층을 형성해도 층 두께를 고도로 제어하기 쉬워지기 때문에 차열성능의 불균일을 억제할 수 있게 되고, 또한 기재 필름의 두께에 대하여 충분히 하드 코트층의 두께가 얇기 때문에 본 발명의 적층체의 물성에 변화 등이 생기는 것을 억제하는 것도 가능하게 된다.
본 발명의 적층체는 기재 필름의 한쪽 면에만 하드 코트층을 형성하여 이루어지는 것이 바람직하다. 본 발명의 적층체에 사용되는 산화텅스텐은 850~1200㎚의 파장대역에 있어서 높은 흡수성능을 나타내지만, 하드 코트층을 통해 기재 필름에 입사한 광은 하드 코트층에서 대부분 커트되어 있기 때문에 반사에 의한 차열 효과가 기대되지 않는다. 여기에서 반사에 의해 커트된 광은 차열 부재의 입사면의 반대측에 유입하는 일이 없지만, 흡수에 의해 커트된 광은 열이 되어 일부 유입하므로 반사와 비교하면 차열 부재로서 성능이 저하된다. 그 때문에 차열 부재로서 사용할 때에는 광이 입사하는 면에 기재 필름을 설치함으로써 반사에 따르는 차열 효율을 높이고, 한편 광이 출사하는 면에 하드 코트층을 형성함으로써 기재 필름에서는 커트할 수 없었던 광을 커트하는 구성으로 한다. 이러한 구성이면, 보다 효율적으로 광·열의 유입을 억제할 수 있어 높은 차열성능을 구비한 차열 부재로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 적층체에 있어서는 기재 필름의 한쪽 면에 하드 코트층을 근접해서 갖고, 또 다른 한쪽 면에 점착층을 적층해서 이루어지는 것이 바람직하다. 점착층으로서는 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제 등이 적합하게 사용된다. 또한, 창문 유리에 부착하여 태양광에 노출하는 것을 전제로 하고 있기 때문에 점착층에는 본 발명의 필름의 UV에 의한 열화 억제로서 파장 200~400㎚에 흡수대역을 갖는 UV 흡수제를 첨가하는 것이 바람직하다. 또한, 여기에서의 점착층이란 상온 상습하에서 유리 위에 상기 층을 갖는 면을 겹쳐둔 후에 박리할 때의 박리력이 0.1N/㎜ 이상인 층을 가리킨다.
이어서, 본 발명의 필름의 바람직한 제조 방법을 열가소성 수지 A와 열가소성 수지 C가 동일 수지, 열가소성 수지 B와 열가소성 수지 D가 동일 수지인 경우를 예로 들어 2종의 폴리에스테르 수지를 사용한 예를 이하에 설명한다. 물론 본 발명은 관련된 예에 한정해서 해석되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 필름의 적층 구조의 형성 자체는 일본 특허공개 2007-307893호 공보의 [0053]~[0063] 단락의 기재를 참고로 하면 실현할 수 있는 것이다.
폴리에스테르 수지를 펠렛 등의 형태로 준비한다. 펠렛은 필요에 따라 열풍 중 또는 진공하에서 건조된 후, 각각의 압출기에 공급된다. 압출기 내에 있어서 융점 이상으로 가열 용융된 수지는 기어 펌프 등에 의해 수지의 압출량이 균일화되고, 필터 등을 통해 이물이나 변성된 수지 등이 제거된다. 이들 수지는 다이로 목적의 형상으로 성형된 후 토출된다. 그리고 다이로부터 토출된 다층으로 적층된 시트는 캐스팅 드럼 등의 냉각체 상으로 압출되고, 냉각 고화되어 캐스팅 필름이 얻어진다. 이때, 와이어상, 테이프상, 바늘상 또는 나이프상 등의 전극을 사용하여 정전기력에 의해 캐스팅 드럼 등의 냉각체에 밀착시켜 급랭 고화시키는 것이 바람직하다. 또한, 슬릿상, 스폿상, 면상의 장치로부터 공기를 분출하여 캐스팅 드럼 등의 냉각체에 밀착시켜 급랭 고화시키거나, 닙 롤로 냉각체에 밀착시켜 급랭 고화시키거나 하는 방법도 바람직하다.
또한, 복수의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층 필름을 제작할 경우에는 복수의 수지를 2대 이상의 압출기를 사용하여 다른 유로로부터 내보내 적층 장치에 보낸다. 적층 장치로서는 멀티 매니폴드 다이나 피드 블록이나 스태틱 믹서 등을 사용할 수 있지만, 특히 본 발명의 구성을 효율 좋게 얻기 위해서는 다수의 미세 슬릿을 갖는 부재를 적어도 별개로 2개 이상 포함하는 피드 블록을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 피드 블록을 사용하면 장치가 극단적으로 대형화되는 일이 없기 때문에 열 열화에 의한 이물이 적고, 적층수가 극단적으로 많은 경우에도 고정밀도한 적층이 가능해진다. 또한, 폭방향의 적층 정밀도도 종래 기술에 비교하여 각별히 향상된다. 또한, 임의의 층 두께 구성을 형성하는 것도 가능해진다. 이 장치로는 각 층의 두께를 슬릿의 형상(길이, 폭)으로 조정할 수 있기 때문에 임의의 층 두께를 달성하는 것이 가능해진 것이다.
이렇게 하여 소망의 층 구성으로 형성한 용융 다층 적층체를 다이로 유도하여 상기와 마찬가지로 캐스팅 필름이 얻어진다.
이렇게 하여 얻어진 캐스팅 필름은 2축 연신되는 것이 바람직하다. 여기에서 2축 연신이란 길이 방향 및 폭방향으로 연신하는 것을 말한다. 연신은 축차로 2방향으로 연신해도 좋고, 동시에 2방향으로 연신해도 좋다. 또한, 길이 방향 및/또는 폭방향으로 재연신을 더 행해도 좋다.
축차 2축 연신의 경우에 대해서 우선 설명한다. 여기에서 길이 방향으로의 연신이란 필름에 길이 방향의 분자 배향을 부여하기 위한 연신을 말하고, 통상은 롤의 주속 차에 의해 실시되며, 이 연신은 1단계로 행해도 좋고, 또한 복수개의 롤쌍을 사용해서 다단계로 행해도 좋다. 연신의 배율로서는 수지의 종류에 따라 다르지만 통상 2~15배가 바람직하고, 2~7배가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 연신 온도로서는 본 발명의 적층 필름을 구성하는 수지 중에서 가장 유리 전위점이 높은 수지의 유리 전이 온도~유리 전이 온도+100℃의 범위가 바람직하다.
이렇게 해서 얻어진 1축 연신된 필름에 필요에 따라 코로나 처리나 프레임 처리, 플라스마 처리 등의 표면 처리를 실시한 후, 이활성, 이접착성, 대전 방지성 등의 기능을 인라인 코팅에 의해 부여해도 좋다.
또한, 폭방향의 연신이란 필름에 폭방향의 배향을 부여하기 위한 연신을 말하고, 통상은 텐터를 사용하여 필름의 양단을 클립으로 파지하면서 반송하고, 폭방향으로 연신한다. 연신의 배율로서는 수지의 종류에 따라 상이하지만, 통상 2~15배가 바람직하고, 2~7배가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 연신 온도로서는 본 발명의 적층 필름을 구성하는 수지 중에서 가장 유리 전위점이 높은 수지의 유리전이 온도~유리 전이 온도+120℃의 범위가 바람직하다.
이렇게 해서 2축 연신된 필름은 평면성, 치수 안정성을 부여하기 위해서 텐터 내에서 연신 온도 이상 융점 Tm 이하의 온도에서 열처리를 행하는 것이 바람직하다. 열처리를 행함으로써 필름의 치수 안정성이 향상된다. 이렇게 하여 열처리된 후, 균일하게 서랭 후 실온까지 식혀서 권취된다. 또한, 필요에 따라 열처리로부터 서랭 시에 이완 처리 등을 병용해도 좋다.
동시 2축 연신의 경우에 대해서 이어서 설명한다. 동시 2축 연신의 경우에는 얻어진 캐스트 필름에 필요에 따라 코로나 처리나 프레임 처리, 플라스마 처리 등의 표면 처리를 실시한 후, 이활성, 이접착성, 대전 방지성 등의 기능을 인라인 코팅에 의해 부여해도 좋다.
이어서, 캐스트 필름을 동시 2축 텐터로 유도하고, 필름의 양단을 클립으로 파지하면서 반송하고, 길이 방향과 폭방향으로 동시 및/또는 단계적으로 연신한다. 동시 2축 연신기로서는 팬타그래프 방식, 스크류 방식, 구동 모터 방식, 리니어 모터 방식이 있지만, 임의로 연신 배율을 변경 가능하며, 임의의 장소에서 이완 처리를 행할 수 있는 구동 모터 방식 또는 리니어 모터 방식이 바람직하다. 연신의 배율로서는 수지의 종류에 따라 다르지만, 통상 면적 배율로서 6~50배가 바람직하고, 8~30배가 특히 바람직하게 사용된다. 특히 동시 2축 연신의 경우에는 면내의 배향 차를 억제하기 위해서 길이 방향과 폭방향의 연신 배율을 동일하게 함과 아울러, 연신 속도도 거의 동일해지도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 연신 온도로서는 본 발명의 적층 필름을 구성하는 수지의 유리 전이 온도~유리 전이 온도+120℃의 범위가 바람직하다.
이렇게 해서 2축 연신된 필름은 평면성, 치수 안정성을 부여하기 위해서 계속해서 텐터 내에서 연신 온도 이상 융점 이하의 열처리를 행하는 것이 바람직하다. 이 열처리 시에 폭방향에서의 주배향축의 분포를 억제하기 위해서 열처리 존에 들어가기 직전 및/또는 직후에 순시에 길이 방향으로 이완 처리하는 것이 바람직하다. 이렇게 하여 열처리된 후, 균일하게 서랭 후 실온까지 식혀서 권취된다.
열가소성 수지 A와 열가소성 수지 C, 열가소성 수지 B와 열가소성 수지 D가 다를 경우에는, 예를 들면 열가소성 수지 A와 열가소성 수지 B를 상기 방법으로 작성한 적층 필름과 열가소성 수지 C와 열가소성 수지 D를 상기 방법으로 작성한 적층 필름을 서로 겹치게 함으로써 달성할 수도 있다. 또한, 2개의 적층 장치를 사용하여 각각 2개의 수지를 적층 용융체로 한 후, 멀티 매니폴드 다이 등을 사용하여 2개의 적층 용융체를 겹침으로써 달성할 수 있다. 예를 들면, 적층 장치 1에는 적층 유닛 1만으로 구성되는 슬릿 플레이트를 갖고, 적층 장치 2에는 적층 유닛 2만으로 구성되는 슬릿 플레이트를 갖는 것도 가능하다. 그 경우, 열가소성 수지 A와 열가소성 수지 C로 서로 겹치도록 설계하는 것이 바람직하다.
이렇게 하여 얻어진 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층을 형성하는 것도 바람직하다.
기재 필름의 편면 또는 양면에 하드 코트층을 형성하기 위해서는, 예를 들면 하드 코트층을 형성하기 위해서 사용하는 조성물과, 필요에 따라 용매를 포함하는 도포액을 기재 필름의 편면 또는 양면에 도포하는 방법을 들 수 있다. 또한, 도포 방법으로서는 그라비아 코팅법, 마이크로그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 리버스 코팅법, 나이프 코팅법, 바 코팅법 등 공지의 도포 방법을 적용할 수 있다.
기재 필름에 하드 코트층을 형성하기 위해서 사용하는 조성물이 도포된 후, 가열에 의해 용매를 휘발시킨다. 가열 방법은 가열 효율의 점으로부터 열풍으로 행하는 것이 바람직하고, 공지의 열풍 건조기, 또는 롤 반송이나 플로팅 등의 연속 반송이 가능한 열풍로 등을 적용할 수 있다. 여기에서의 건조 온도는 120℃ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100℃ 이하, 더 바람직하게는 80℃ 이하이다.
또한, 경우에 따라서는 가열 후에 광경화·전자 경화시키는 것도 가능하다. 광경화성 수지 또는 전자 경화성 수지를 병용함으로써 보다 단시간에 하드 코트층을 고정하는 것이 가능해지기 때문에 생산성이나 막의 안정성 등의 성능이 향상된다. 광경화·전자 경화시킬 경우에는 범용성의 점으로부터 전자선(EB선) 또는 자외선(UV선)이 바람직하다. 또한, 자외선을 조사할 때에 사용하는 자외선 램프의 종류로서는, 예를 들면 방전 램프 방식, 플래시 방식, 레이저 방식, 무전극 램프 방식 등을 들 수 있다. 그 중에서도 방전 램프 방식인 고압 수은등을 사용하여 자외선 경화시키는 것이 바람직하다.
본 발명의 적층체는 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층을 근접하게 갖는 것이 바람직하다. 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층을 근접하게 갖는 것이란 기재 필름의 적어도 한쪽 면과 하드 코트층의 계면의 거리가 1㎛ 이하인 것을 말한다. 즉, 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층을 근접하게 갖는 것이란 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층이 직접 형성되어 이루어지는 양태나, 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 두께 1㎛ 이하의 그 밖의 층을 개재하여 하드 코트층이 형성되어 이루어지는 양태를 포함한다. 본 발명에 있어서는 기재 필름과 하드 코트층 사이에 접착성을 향상시키기 위해서 접착층을 형성하는 것도 바람직한 양태로서 들 수 있다.
본 발명의 필름 및 적층체는 특히 900~1800㎚의 열선을 반사할 수 있고, 점착제 등을 통해 유리에 부착하는 것이 용이하기 때문에 건재용, 자동차용의 열선 반사 필름이나, 옥외용의 대형 디스플레이의 보호 필름 등에 적합하게 사용할 수 있다.
[물성의 측정 방법]
(1) 층 두께, 적층 수, 적층 구조
필름의 층 구성은 마이크로톰를 사용하여 단면을 잘라낸 샘플에 대해서 투과형 전자현미경(TEM) 관찰에 의해 구했다. 즉, 투과형 전자현미경 H-7100FA형(Hitachi, Ltd.제)을 사용하여 가속 전압 75㎸의 조건에서 필름의 단면을 10000~40000배로 확대 관찰하고, 단면 사진을 촬영, 층 구성 및 각층 두께를 측정했다. 또한, 경우에 따라서는 콘트라스트를 높게 얻기 위해서 공지의 RuO4나 OsO4 등을 사용한 염색 기술을 사용했다. 또한, 1매의 화상에 도입되는 모든 층 중에서 가장 두께가 얇은층(박막층)의 두께에 맞춰 박막층 두께가 50㎚ 미만인 경우에는 10만배, 박막층 두께가 50㎚ 이상 500㎚ 미만인 경우에는 4만배, 500㎚ 이상인 경우에는 1만배의 확대 배율로 관찰을 실시했다.
(2) 층 두께의 산출 방법
(1)항에서 얻어진 TEM 사진 화상을 화상 처리 소프트 Image-Pro Plus ver.4(판매원 프라네트론(주))를 사용하여 이 파일을 열어 화상 해석을 행했다. 화상 해석 처리는 수직 시크 프로파일 모드로 두께 방향 위치와 폭방향의 2개의 라인 사이에서 끼워진 영역의 평균 명도의 관계를 수치 데이터로서 판독했다. 표 계산 소프트(Excel 2000)를 사용하여 위치(㎚)와 명도의 데이터에 대하여 샘플링 스텝 2(INDIRECT 2)로 데이터 채용한 후에 5점 이동 평균의 수치 처리를 실시했다. 또한, 이 얻어진 주기적으로 명도가 변화되는 데이터를 미분하여 VBA(Visual Basic for Applications) 프로그램에 의해 그 미분 곡선의 극대값과 극소값을 판독하고, 서로 이웃하는 명도가 극대 영역과 극소 영역의 간격을 1층의 층 두께로 하여 층 두께를 산출했다. 이 조작을 사진마다 행하여 모든 층의 층 두께를 산출했다.
(3) 반사율, 투과율, 일사열 취득률, 가시광선 반사율
5㎝×5㎝로 잘라낸 샘플을 Hitachi, Ltd.제 분광 광도계(U-4100 Spectrophotomater)에 부속된 적분구를 사용한 기본 구성으로 반사율 측정을 행했다. 반사율 측정에서는 장치 부속의 산화알루미늄의 부백판을 기준으로 하여 측정한 후, 샘플의 길이 방향을 상하 방향으로 해서 측정했다. 측정 조건: 슬릿은 2㎚(가시)/자동 제어(적외)로 하고, 게인은 2로 설정하고, 주사 속도를 600㎚/분으로 측정하고, 방위각 0°에 있어서의 반사율, 투과율을 얻었다. 얻어진 스펙트럼을 바탕으로 1㎚마다의 반사율을 1200-1800㎚에 걸쳐 평균화했다. 또한, 연속으로 반사율 30%, 50%, 70%를 초과하는 반사대역의 폭에 대해서 최장의 것을 표 4, 표 8에 기재했다.
또한, 반사율 측정 및 투과율 측정의 결과를 사용하여 ISO9050에 기재되어 있는 계산 방법을 사용하여 일사열 취득률, 가시광선 반사율을 계산했다. 또한, ISO9050에서는 태양광 에너지에 중하 계수를 사용하여 계산하고 있기 때문에 가시광선 영역에서의 반사율과 가시광선 반사율은 엄밀하게는 같지 않다.
(4) 굴절률(면내배향 굴절률)
JIS K7142(1996) A법에 따라서 측정했다. 또한, 본 발명의 필름의 미배향 상태의 굴절률은 각 층을 잘라낸 후, 한번 융점 이상에서 가열한 후, 상기 방법으로 굴절률을 측정했다.
(5) 필름의 Tm 측정
측정하는 필름을 잘라내고, 시차 열량 분석(DSC)을 사용하여 JIS-K-7122(1987년)에 따라 Seiko Instruments & Electronics Ltd.제 시차주사 열량측정 장치 "로봇 DSC-RDC220"을, 데이터 해석에는 디스크 세션 "SSC/5200"을 사용하여 25℃로부터 300℃까지 20℃/min으로 승온(제 1 승온)하여 그 상태에서 5분간 유지하고, 이어서 25℃ 이하가 되도록 급랭했다. 계속해서 다시 실온으로부터 20℃/min의 승온 속도로 300℃까지 승온(제 2 승온)을 행하여 측정을 행했다. 얻어진 시차조작 열량측정 차트(제 2 승온 커브)를 사용하여 융점 Tm을 구했다. 또한, 복수 존재할 경우에는 각각 온도가 가장 높은 값으로써 각각의 값으로 했다.
(6) 다층 적층 필름을 구성하는 재료의 구조 해석
다층 적층 필름을 구성하는 재료의 구조 해석 방법은 특별히 방법은 한정되지 않지만, 이하와 같은 방법을 예시할 수 있다. 예를 들면, 우선 가스크로마토그래피 질량 분석(GC-MS)에 의해 중량 피크를 확인한다. 이어서, 푸리에 변환형 적외 분광(FT-IR)에 의해 추정되는 구조가 갖는 각 원자 간의 결합으로부터 유래되는 피크의 유무를 확인한다. 또한, 프로톤 핵자기 공명 분광(1H-NMR)에 의해 구조식상의 수소원자의 위치로부터 유래되는 화학 시프트의 위치와 수소 원자의 개수로부터 유래되는 프로톤 흡수선 면적을 확인한다. 이들의 결과를 합쳐서 종합적으로 판단하는 것이 바람직하다.
(7) 플로우 마크
길이 방향의 어떤 지점에 대하여 A4의 크기로 샘플링하고, 하기 요령으로 채점했다.
◎; 스트라이프가 전혀 보이지 않음
○; 랜덤하게 10매 채취한 것 중에서 1~2매에서 스트라이프가 보임
△; 랜덤하게 10매 채취한 것 중에서 3매 이상에서 스트라이프가 보임
×; 모든 필름에서 스트라이프가 보임.
(8) 폭방향의 분광 편차
폭방향으로 1m에 걸쳐 100㎜ 간격으로 분광을 측정했을 때에 ISO9050으로 규정되는 일사열 취득률, 가시광선 반사율의 값에 의해 상대 오차=(최대값-최소값)/평균값×100으로 하여 구했다.
◎; 일사열 취득률, 가시광선 반사율 모두 상대 오차가 2% 이내
○; 일사열 취득률, 가시광선 반사율의 상대 오차 중 큰 쪽의 상대 오차가 2% 이상 5% 미만
△; 일사열 취득률, 가시광선 반사율의 상대 오차 중 큰 쪽의 상대 오차가 5% 이상 10% 미만
×; 일사열 취득률, 가시광선 반사율의 상대 오차 중 큰 쪽의 상대 오차가 10% 이상.
(8) 축 강성
필름면내에서 굴절률이 높은 방향 및 그것과 수직으로 교차하는 방향에 대하여 폭 1㎝×10㎝의 스트립을 각각 3개 작성하고, Baldwin Corporation제 텐실론 만능 시험기(RTG-1210)를 사용하여 필름의 영률을 측정했다. 그 영률을 평균하여 평균 영률×단면적(두께㎛×1㎝)÷길이(10㎝)로 함으로써 축 강성을 산출했다.
(9) 유리 표면으로의 접합
A4사이즈의 필름의 한쪽 면에 TOMOEGAWA CO.,LTD.제 감압 점착제(PSA) 시트를 라미네이트한 후 곡면 유리(R1000㎜, 210㎜×247㎜×3㎜)에 히트 건으로 온풍을 쐬면서 유리로의 접합을 행했다. 그 유리를 24시간 정치한 후, 관찰을 행하여 기포가 없는 것, 유리 엣지 부근에서의 박리가 없는 것을 ○, 그 이외를 ×로 했다.
(10) 연필 경도
JIS K5600(1999년 제정)에 준거하여 측정했다. 측정면은 하드 코트면으로 했다. 하드 코트면이 없는 경우에는 양면을 측정하여 경도가 높은 쪽을 채용했다.
실시예
이하, 본 발명에 대해서 실시예를 들어 설명하지만, 본 발명은 이러한 예에 한정하여 해석되는 것은 아니다.
(비교예 1)
열가소성 수지 A로서 고유 점도 0.60, Tm=268℃의 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN)를 사용하고, 열가소성 수지 B로서 시클로헥산디메탄올을 30㏖% 공중합한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지와 PET(TORAY INDUSTRIES, INC.제; IV 0.65, Tg 79℃, Tm 255℃)를 82:18의 질량비가 되도록 혼합한 것(표 중에서 PETG계 수지로 나타냄)을 사용했다. 또한, 미배향 상태에서의 굴절률은 PEN이 1.65, PETG계 수지가 1.58이었다.
준비한 열가소성 수지 A, B는 각각 벤트가 부착된 2축 압출기로 300℃에서 용융 상태로 한 후, 기어 펌프 및 필터를 개재하여 필름의 후막층을 제외한 광학 두께의 비가 A층/B층=0.9가 되도록 계량하면서 적층 장치 1에서 합류시켜 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 111층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 111층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 225층의 적층 필름으로 했다. 또한, A층끼리를 서로 겹쳐서 형성하는 층 및 양쪽 표층의 후막층분이 있기 때문에 2매의 슬릿 플레이트의 간극 수는 각각 113개가 된다(도 4 참조). 또한, 중간 후막층용의 층은 최종적인 필름으로서 각 슬릿 플레이트에서 3.5, 1.5㎛의 배분이 되도록 중간 후막층용의 간극을 삽입하고, 또한 양쪽 표층에 각각 7, 3㎛의 후막층이 오도록 간극을 삽입했다. 또한, 적층 장치 1은 적층 유닛 1만으로 구성되어 있고, 파장 1800㎚ 이하의 반사대역이며, 또한 파장 900㎚~1800㎚ 이하의 평균 반사율이 70% 이상으로 하기 위해서 적층 필름의 층 두께 분포가 도 5가 되도록 했다. 적층 장치 1에서 합류시킨 후, T-다이로 유도하여 시트상으로 성형한 후, 정전 인가로 표면 온도 25℃로 유지된 캐스팅 드럼 상에서 급랭 고화하여 캐스트 필름을 얻었다.
얻어진 캐스트 필름을 135℃로 설정한 롤 군에서 가열한 후, 연신 구간 길이 100㎜ 사이에서 필름 양면으로부터 라디에이션 히터에 의해 급속 가열하면서 세로방향으로 4.2배 연신하고, 그 후 일단 냉각했다. 연신 시의 필름 온도는 135℃이었다. 계속해서 이 1축 연신 필름의 양면에 공기 중에서 코로나 방전 처리를 실시하고, 기재 필름의 젖음 장력을 55mN/m로 하며, 그 처리면에 (유리 전이 온도가 18℃인 폴리에스테르 수지)/(유리 전이 온도가 82℃인 폴리에스테르 수지)/평균 입경 100㎚의 실리카 입자로 이루어지는 도포액을 도포하여 투명·이활·이접착층을 형성했다.
이 1축 연신 필름을 텐터로 유도하고, 135℃의 열풍으로 예열 후, 140℃의 온도에서 가로 방향으로 균일한 연신 속도로 4.0배 연신했다. 연신한 필름은 그대로 텐터 내에서 240℃의 열풍에 의해 열처리를 행하고, 계속해서 동 온도에서 폭방향으로 3%의 이완 처리를 실시하고, 그 후 실온까지 서랭 후 권취했다. 얻어진 적층 필름의 두께는 약 60㎛이었다.
얻어진 적층 필름은 430~600㎚에 걸쳐 반사율이 높은 영역이 있고, 청록으로 물든 필름이 얻어졌다. 한편, 파장 1200~1800㎚에서의 평균 반사율, 파장 900~1800㎚에서의 평균 반사율은 각각 78%, 75%로 매우 높은 결과이었다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 1)
열가소성 수지 C로서 고유 점도 0.60, Tm=268℃의 PEN을 사용하고, 열가소성 수지 D로서 시클로헥산디메탄올을 30㏖% 공중합한 PET 수지와 폴리에틸렌테레프탈레이트(TORAY INDUSTRIES, INC.제; IV 0.65, Tg 79℃, Tm 255℃)를 82:18의 질량비가 되도록 혼합한 것(표 중에서 PETG계 수지로 나타냄)을 사용하고, 적층 장치를 적층 장치 2로 변경시킨 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 해서 행했다. 적층 장치 2는 양쪽 표층에 각각 7, 3㎛의 후막층과 중간 후막층, 또한 적층 유닛 2가 654층만으로 구성되는 적층 장치이며, (열가소성 수지 C로 이루어지는 표층 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 327층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 C로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 327층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 C로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 657층의 적층 필름이 얻어진다. 각 슬릿 플레이트에는 327층의 적층 유닛 2용의 간극(711 구성의 층 두께비가 1:7:1)이 있고, 또한 중간 후막을 형성하는 층이 2매의 슬릿 플레이트에 각각 3㎛, 2㎛ 있어 토털로 중간 후막층이 5㎛가 되도록 했다. 토털 층 두께는 약 60㎛가 되었다. 적층 장치 2의 층 두께 분포를 도 5에 나타낸다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이며, 투명성은 높지만, 파장 1200~1800㎚만큼의 평균 반사율, 파장 900~1800㎚의 평균 반사율은 각각 67%, 65%이어서 비교예 1에 비교해서 낮았다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(비교예 2)
실시예 1의 적층 장치 2를 사용해서 얻어지는 용융체를 면내에 2개로 분할하여 두께 방향으로 겹침으로써 1313층(후막층에서 C층이 합류하기 때문에 외관상 1층분 줄어듦)으로 이루어지는 용융체를 T-다이로 유도하여 시트상으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 행했다. 층 두께 분포는 도 6과 같이 되었다.
얻어진 적층 필름은 두께가 120㎛이었다. 광학 특성은 실시예 1과 비교해도 가시광 반사율이 낮은 상태를 유지한 상태에서 파장 900~1800㎚의 평균 반사율이 높아져 있는 것을 알 수 있다. 그러나 축 강성이 46N/m이었기 때문에 곡률 유리로의 접합은 나빴다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 2)
적층 장치 3으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 3의 층 두께의 구성은 표층 후막층으로서 5㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 149층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 297층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 5㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 297층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 449층의 적층 필름(총 두께 60㎛)이 얻어진다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 23㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 21㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.52이다. 이들은 적층 유닛 1과 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 1매씩으로 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 2㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 3㎛, 토털로 계 5㎛로 했다. 또한, 적층 장치 3 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 255~360㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.84~1.18이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 330~540㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.17 또는 6.0~8.3으로 했다. 적층 장치의 층 두께 분포를 도 7에 나타낸다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 또한, 파장 1200~1800의 평균 반사율은 실시예 1보다 낮았지만, 파장 900~1200㎚의 반사율을 높게 할 수 있었기 때문에 파장 900~1800㎚의 평균 반사율은 실시예 1보다 높고, 같은 정도의 두께이면 실시예 1보다 우수한 차열성능(≒일사열 취득률)이 얻어졌다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 3)
적층 장치 4로 변경한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 4의 층 두께의 구성은 표층 후막층으로서 6㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 149층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 357층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 4㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 357층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 599층의 적층 필름(총 두께 63㎛)이 얻어진다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 23㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 25㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.47이다. 이들은 적층 유닛 1과 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 1매씩으로 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 3㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 2㎛, 토털로 계 5㎛로 했다. 또한, 적층 장치 3 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~360㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.84~1.18이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 340~540㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.17 또는 6.6~8.2로 했다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 또한, 파장 900~1800㎚의 평균 반사율은 실시예 2보다 높고, 파장 1200~1800㎚의 반사율도 향상하고 있었다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 4)
적층 장치 5로 변경한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 5는 적층 장치 2의 슬릿 플레이트 2를 한 장 더 같은 구성의 슬릿 플레이트를 추가하여 전부 3매 구성으로 한 것이며, 총 두께의 구성은 표층 후막층으로서 6㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 149층, 그 후 중간 후막층 1을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 297층 있고, 중간 후막층 2를 5㎛, 또한 적층 유닛 2가 297층 있고, 그 후 표층 후막층으로서 5㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층 1)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 297층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 C로 이루어지는 중간 후막층 2)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 297층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 C로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 747층의 적층 필름(총 두께 86㎛)이 얻어진다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 23㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 43㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.35이다. 이들은 적층 유닛 1을 1매, 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 2매로 하여 각 중간 후막층으로 분할하도록 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 중간 후막 부분에서 조정했다(예를 들면, 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 1.5㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 3.5㎛, 토털로 계 5㎛). 또한, 적층 장치 5 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~360㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.84~1.18이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 340~540㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.17 또는 6.6~8.2로 했다. 적층 장치의 층 두께 분포를 도 8에 나타낸다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 또한, 파장 1200~1800㎚의 평균 반사율은 실시예 3보다 높고, 적층 유닛 2의 비율을 높임으로써 실시예 2보다 높은 반사율이 얻어졌다. 또한, 파장 900~1800㎚에 대해서도 실시예 3보다 높은 반사율이 얻어져 있어 결과적으로 높은 차열 효과가 얻어졌다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 5)
적층 장치 6으로 변경한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 6은 실시예 4의 슬릿 플레이트 2 및 3에 넣는 적층 유닛 2의 층수를 각각 357층으로 한 것 이외에는 마찬가지로 했다. 즉, 표층 후막층으로서 7㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 149층, 그 후 중간 후막층 1을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 357층 있고, 중간 후막층 2를 5㎛, 또한 적층 유닛 2가 357층 있고, 그 후 표층 후막층으로서 5㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층 1)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 357층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 C로 이루어지는 중간 후막층 2)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 357층 적층된 적층 유닛 2)/열가소성 수지 C로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 867층의 적층 필름(총 두께 99㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 23㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 55㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.29이다. 이들은 적층 유닛 1을 1매, 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 2매로 하고, 각 중간 후막층으로 분할하도록 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 중간 후막 부분에서 조정했다(예를 들면, 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 3㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 2㎛, 토털로 계 5㎛). 또한, 적층 장치 5 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~360㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.84~1.18이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 340~540㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.17 또는 6.6~8.2로 했다. 적층 장치의 층 두께 분포를 도 9에 나타낸다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 또한, 파장 900~1800㎚의 평균 반사율은 실시예 1보다 높아 우수한 광학 특성을 나타냈다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 6)
적층 장치 7로 변경한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 7은 실시예 5의 슬릿 플레이트의 층 배치를 도 9의 구성으로부터 도 10과 같이 변경하고, 슬릿 플레이트 2측에서 파장 1050~1400㎚, 슬릿 플레이트 3측에서 파장 1350~1800㎚를 반사하도록 설계한 것 이외에는 마찬가지로 했다. 전체 적층수 867층의 적층 필름(총 두께 95㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 23㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 52㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.30이다. 이들은 적층 유닛 1을 1매, 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 2매로 하고, 각 중간 후막층으로 분할하도록 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 중간 후막 부분에서 조정했다(예를 들면, 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 3㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 2㎛, 토털로 계 5㎛). 또한, 적층 장치 5 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~360㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.84~1.18이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 340~540㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.17 또는 6.6~8.2로 했다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 또한, 1200~1800㎚의 반사율은 실시예 5보다 높은 것이었다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 7)
적층 장치 8로 변경한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 8의 층 두께의 구성은 표층 후막층으로서 2㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 149층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 183층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 8㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 183층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 339층의 적층 필름(총 두께 48㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 23㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 10㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.63이다. 이들은 적층 유닛 1과 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 1매씩으로 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 1㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 4㎛, 토털로 계 5㎛로 했다. 또한, 적층 장치 8 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~360㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.84~1.18이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 340~540㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.17 또는 6.6~8.2로 했다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 그러나 711 구성이 적기 때문인지 1200~1800㎚에 있어서 반사대역 30% 이상이 되는 대역은 있지만, 그 반사율은 낮아 결과적으로 파장 900~1800㎚의 평균 반사율은 실시예 2보다 낮아져 있었다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(비교예 3)
적층 장치 9로 변경한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 9는 적층 장치 8의 슬릿 플레이트 1만을 사용하여 새로운 적층 장치로서 사용했다(적층 유닛 1만).
얻어진 적층 필름은 실시예 7에 있었던 1200~1800㎚의 반사가 소실된 결과, 900~1800㎚에서의 평균 반사율은 낮아져 있었다. 그 결과, 일사열 취득률은 높아 72%가 되어 있었다. 이상의 결과로부터 비교예 3과 실시예 7을 비교함으로써 711 구성을 약간 포함함으로써 일사열 취득률이 오르는 것을 알 수 있었다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
또한, 축 강성이 낮기 때문에 필름 자체가 물러져 있기 때문에 핸들링성이 나빠 곡면 유리에 접합시킬 때에 잡아 당길 수 없어 접합하는 것이 불가능했다.
(실시예 8)
적층 장치 10로 변경한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 9의 층 두께의 구성은 적층 장치 2의 슬릿 플레이트 1의 표층 후막층 5㎛의 뒤에 적층 유닛 1이 46층만큼 들어간 층 구성으로 한 것 이외에는 전부 마찬가지로 했다. 또한, 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 263~347㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.84~1.18로 하여 파장 900~1050㎚까지를 반사하도록 설계하고, 또한 적층 유닛 1은 실시예 1의 층 두께 분포가 되도록 하고, 파장 900~1800㎚를 반사하도록 설계했다.
얻어진 적층 필름은 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 또한, 실시예 1와 비교하여 적층 유닛 1이 실시예 1에 융합함으로써 파장 900~1200㎚에서의 반사율이 높아져 있고, 그 결과 파장 900~1800㎚에서의 반사율이 증가한 결과, 일사열 취득률이 낮아져 있는 것을 알 수 있었다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 9)
열가소성 수지 A 및 C로서 고유 점도 0.60, Tm=247℃의 네오펜틸글리콜을 10㏖% 공중합한 PEN(이하, PEN/NPG(10))을 사용하고, 열가소성 수지 B, D로서 시클로헥산디메탄올을 30㏖% 공중합한 PET 수지(표 중에서 PETG로 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 행했다. 또한, 미배향 상태에서의 굴절률은 PEN이 1.64, PETG계 수지가 1.56이었다.
얻어진 적층 필름은 굴절률 차가 커진 것에 기인하여 파장 900~1200m에서의 반사율이 증대하고 있으며, 일사열 취득률도 증가하고 있었다. 또한, 축 강성도 26N/m이었으므로 유리로의 접합성도 양호했다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 10)
열가소성 수지 A 및 C로서 PEN/NPG에 점도 조정제로서 폴리부틸렌테레프탈레이트계 수지를 5% 정도 첨가한 수지(표 중 PEN/NPG+PBT계 수지), 열가소성 수지 B 및 D로서 스피로글리콜을 21㏖%, 시클로헥산디카르복실산을 15㏖% 공중합한 PET와 폴리에틸렌테레프탈레이트(TORAY INDUSTRIES, INC.제; IV 0.65, Tg 79℃, Tm 255℃)를 85:15의 비율로 혼합한 수지(표 중 SPG계 수지로 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 9와 마찬가지로 하여 행했다. PEN/NPG+PBT계 수지의 미배향 상태에서의 굴절률은 1.64, SPG계 수지의 굴절률은 1.55이었다.
얻어진 적층 필름은 굴절률 차가 커진 것에 기인하여 파장 900~1200m에서의 반사율이 증대하고 있으며, 일사열 취득률도 증가하고 있었다. 또한, 축 강성도 26N/m이었으므로 유리로의 접합성도 양호했다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 11)
열가소성 수지 A 및 C로서 IV=0.65의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)를 사용하고, PET의 연신 조건에서 제막한 것 이외에는 마찬가지로 행했다. PET 조건에서의 제막이란 종연신 온도를 90℃, 배율을 3.3배, 횡연신 온도를 110℃, 가로 확대율을 4.0배, 열처리 온도를 240℃의 조건에서 행했다. 또한, 미배향 상태에서의 굴절률은 PET에서 1.60, SPG계 수지에서 1.55이었다.
얻어진 적층 필름은 굴절률 차가 작기 때문에 반사율은 실시예 9, 10에 뒤떨어지지만 900~1800㎚에 걸쳐 균일하게 반사되어 있어 유리로의 접합성도 양호했다. 결과를 표 1~표 4에 나타낸다.
(실시예 12)
실시예 12 이후는 반사대역이 900~1400㎚가 되도록 설계하고 있고, 적층 장치 11로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 11을 사용해서 작성되는 필름은 양 표층에 5㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 73층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 219층인 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 73층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 219층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 295층의 적층 필름(총 두께 40㎛)이 얻어진다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 11㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 14㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.44이다. 이들은 적층 유닛 1과 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 1매씩으로 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 맞도록 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 4㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 1㎛, 토털로 계 5㎛가 되도록 설계했다. 적층 장치 11의 층 두께 분포를 도 11에 나타낸다. 적층 장치 11 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 6.2~7.9로 했다.
얻어진 적층 필름은 900~1400㎚까지의 반사대역을 갖고 있으며, 플로우 마크가 거의 없고, 가시광 영역의 파장 400~800㎚에서의 투과율도 높고, 투명했다. 반사대역이 좁고, 반사율도 낮기 때문에 일사열 취득률은 낮지만, 필름 자체는 얇기 때문에 유리로의 접합은 문제 없었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 13)
적층 장치 12로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 12를 사용해서 작성되는 필름의 층 두께의 구성은 적층 장치 11을 사용한 것과 거의 같지만, 표층 후막층으로서 8㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 53층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 255층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 2㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 53층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 255층 적층된적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 311층의 적층 필름(총 두께 40㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 8㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 17㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.32이다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 맞도록 적층 유닛 1측에 A층이 되는 층이 4㎛, 적층 유닛 2측에 1㎛, 토털로 계 5㎛가 되도록 설계했다. 또한, 적층 장치 12 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 6.2~7.8로 했다.
얻어진 적층 필름은 약간 플로우 마크가 발생하고 있었지만, 실시예 12에 비교하여 900~1200㎚의 반사율이 낮기 때문에 일사열 취득률은 낮았다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 14)
적층 장치 13으로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 13을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께의 구성은 적층 장치 11을 사용한 것과 거의 같지만, 표층 후막층으로서 8㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 35층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 297층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 2㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 35층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 297층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 335층의 적층 필름(총 두께 40㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 5㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 20㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.20이다. 이들은 적층 유닛 1과 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 1매씩으로 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 4㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 1㎛, 토털로 계 5㎛로 했다. 또한, 적층 장치 5 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 6.1~7.8로 했다.
얻어진 적층 필름은 약간 플로우 마크가 발생하고 있었지만, 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 투과율이 높기 때문에 투명성이 높은 필름이었다. 한편, 파장 900~1200㎚의 광의 반사율이 상당히 낮아지기 때문에 파장 900~1400㎚에서의 평균 반사율도 비교예 2보다 악화되어 있어 일사열 취득률은 악화되어 있었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 15)
적층 장치 14로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 14를 사용한 필름의 층 두께의 구성은 적층 장치 11을 사용한 것과 거의 같지만, 표층 후막층으로서 2㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 149층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 45층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 8㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 45층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 197층의 적층 필름(총 두께 40㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 22㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 5㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.88이다. 이들은 적층 유닛 1과 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 1매씩으로 했다. 또한, 각 슬릿 플레이트로부터 나오는 두께가 가능한 한 근접하게 되도록 적층 유닛 1측에 A층이 되는 중간 후막을 4㎛, 적층 유닛 2측의 A층이 되는 중간 후막을 1㎛, 토털로 계 5㎛로 했다. 또한, 적층 장치 5 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 6.1~7.8로 했다.
얻어진 적층 필름은 약간 플로우 마크가 발생하고 있었지만, 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이었다. 한편, 파장 900~1200㎚의 광의 반사율이 상당히 커지기 때문에 일사열 취득률은 실시예 12보다 양화되어 있었다. 한편, 파장 1200㎚~1400㎚에서의 반사율은 상당히 낮아져 있었기 때문에 파장 1200~1800㎚에서의 평균 반사율은 낮았다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 16)
적층 장치 15로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 층 두께의 구성은 적층 장치 11을 사용한 것과 거의 같지만, 표층에 6㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 99층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 297층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 4㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 99층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 297층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 399층의 적층 필름(총 두께 50㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 15㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 20㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.43이다. 이들은 적층 유닛 1과 적층 유닛 2로 슬릿 플레이트 1매씩으로 했다. 또한, 적층 장치 15를 사용했을 때의 필름의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며 인접하는 2층의 두께의 비가 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 6.1~8.0으로 했다.
얻어진 적층 필름은 실시예 12와 마찬가지로 플로우 마크도 거의 없고, 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이며, 파장 900~1800㎚에서의 반사율은 실시예 12보다 높고, 일사열 취득률은 실시예 12보다 양화되었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 17)
적층 장치 16으로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 하여 행했다. 적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께의 구성은 적층 장치 3을 사용한 것과 거의 같지만, 표층에 8㎛의 층이 있고, 적층 유닛 1이 149층, 그 후 중간 후막층을 5㎛ 형성한 후, 적층 유닛 2가 447층 있고, 또한 적층 유닛 2측의 표층 후막층으로서 4㎛의 층이 있어 (열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층이 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(C층과 D층이 두께 방향으로 교대로 447층 적층된 적층 유닛 2)/(열가소성 수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 전체 적층수 599층의 적층 필름(총 두께 68㎛)이 얻어졌다. 적층 유닛 1의 총 두께(d1)는 22㎛, 적층 유닛 2의 총 두께(d2)는 29㎛이며, d1/(d1+d2)은 0.43이다. 또한, 적층 장치 8 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며, 인접하는 2층의 두께의 비가 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚이며, 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 6.1~8.0으로 했다.
얻어진 적층 필름은 실시예 12와 마찬가지로 플로우 마크도 거의 없고, 가시광 영역의 파장 400~800㎚에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포이며, 파장 900~1800㎚에서의 반사율은 실시예 12보다 높고, 일사열 취득률은 실시예 13보다 양화되었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(비교예 4)
적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 적층 유닛 2의 층 두께 비율을 1:5:1로 변경시키고, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 4.5~6이 되도록 한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 17).
얻어진 적층 필름은 실시예 16과 마찬가지로 플로우 마크도 없었지만, 가시광 영역의 파장 400~450㎚에 있어서 반사율이 향상되어버렸다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 18)
적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 적층 유닛 2의 층 두께 비율을 1:6:1로 변경시키고, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~1.2 또는 5.3~7이 되도록 한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 18).
얻어진 적층 필름은 실시예 16과 마찬가지로 플로우 마크도 없었지만, 가시광 영역의 파장 400~450㎚에 있어서 약간 높아져 버렸지만, 충분히 투명성을 확보할 수 있는 것이었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 19)
적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 적층 유닛 2의 층 두께의 비율을 1:8:1로 변경시키고, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~2 또는 7.0~9.3이 되도록 한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 19).
얻어진 적층 필름은 실시예 16과 마찬가지로 플로우 마크도 없었지만, 가시광 영역의 파장 400~450㎚에 있어서, 약간 높아져 버렸지만 충분히 투명성을 확보할 수 있는 것이었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(비교예 5)
적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 적층 유닛 2의 층 두께 비율을 1:9:1로 변경시키고, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~2 또는 7.9~10.5가 되도록 한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 20).
얻어진 적층 필름은 실시예 16과 마찬가지로 플로우 마크도 없었지만, 가시광 영역의 파장 400~450㎚에 있어서 반사율이 향상되어버렸다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 20)
적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 적층 유닛 2의 층 두께의 비율을 1:7:1.3으로 변경시키고, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~5 또는 6.1~8.0이 되도록 한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 21).
얻어진 적층 필름은 실시예 12와 마찬가지로 플로우 마크도 없었지만, 가시광 영역의 파장 400~450㎚에 있어서 약간 높아져 버렸지만, 충분히 투명성을 확보할 수 있는 것이었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(비교예 6)
적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 적층 유닛 2의 층 두께 비율을 1:7:1.4로 변경시키고, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께를 1~6 또는 6.1~8.0이 되도록 한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 22).
얻어진 적층 필름은 실시예 16과 마찬가지로 플로우 마크도 없었지만, 가시광 영역의 파장 400~450㎚에 있어서 반사율이 향상되어버렸다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(비교예 7)
적층 장치 15를 사용해서 작성되는 필름의 적층 유닛 1의 적층비(A/B)가 0.65가 되도록 변경시키고, 적층 유닛 1의 인접하는 층의 두께가 0.65~1.55가 되도록 한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 23).
얻어진 적층 필름은 실시예 12와 마찬가지로 플로우 마크도 없었지만, 가시광 영역의 파장 400~450㎚에 있어서 높아져 버려 필름 자체가 청색으로 물들어 있었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 21)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 양쪽 표층의 두께를 0.5㎛로 변경시키고, 중간 후막층을 슬릿 플레이트 1측에 8㎛, 슬릿 플레이트 2측에 1㎛로 하고, 중간 후막층으로서 9㎛로 변경한 것 이외에는 실시예 17와 같은 조건에서 행했다(적층 장치 24). 필름 전체의 두께는 61㎛가 되었다.
얻어진 적층 필름은 실시예 12와 마찬가지로 플로우 마크가 약간 발생하고 있으며, 또한 폭방향(필름의 길이 방향에 대하여 직각의 방향)에서의 분광 편차가 커 적층 정밀도의 악화가 추측되었다. 필름 중앙에서의 광학 특성은 실시예 3과 같은 정도의 것이었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(비교예 8)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 중간 후막층을 각 플레이트에서 0.5㎛로 하고, 중간 후막층으로서 1㎛가 되도록 하고, 플레이트 1과 플레이트 2로부터 나오는 두께가 동일하게 되도록 적층 유닛 1측의 표층 후막층을 12㎛, 적층 유닛 2측의 표층 후막층을 5㎛로 변경한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지의 조건에서 행했다(적층 장치 25). 필름 전체의 두께는 69㎛가 되었다.
얻어진 적층 필름은 실시예 17과 달리 플로우 마크가 현저하게 발생했다. 샘플 물성을 능숙하게 측정할 수 없었다.
그래서 수지의 압출 온도 PEN측을 320℃, PETG계 수지측을 300℃로 조정하고, 수지 점도를 변경함으로써 플로우 마크가 나오기 어렵도록 조정했다. 그러나 합류부에서의 수지 간에서의 열 이동이 커졌기 때문에 적층 정밀도가 나빠지고, 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 비가 0.73~1.3, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께가 1~1.5 또는 5.0~10.5인 적층 필름이 되었다. 얻어진 적층 필름은 가시광 영역에서의 반사율이 높은 상태이었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 22)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께 분포의 배치를 도 12에 기재된 바와 같은 배치(적층 유닛 1을 표층 부근으로부터 적층 유닛 2를 또 다른 한쪽의 표층 부근으로부터 서로 중앙을 향해서 두껍게 함)로 변경시킨 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 26). 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 비가 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께가 1~1.2 또는 6.1~8.0이었다.
(실시예 23)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께 분포의 배치를 도 13에 기재된 바와 같은 배치(실시예 17의 적층 유닛 1만을 중앙으로 감에 따라 감소시킨 것)로 변경시킨 것 이외에는 실시예 15와 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 27). 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 비 0.89~1.11이며, 적층 유닛 2의 인접하는 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층의 두께가 1~1.2 또는 6.1~8.0이었다. 그 결과, 실시예 16과 실시예 22와 실시예 23은 거의 광학성능적으로는 바뀌지 않는 결과를 얻었다. 적층 유닛 1 및 적층 유닛 2 각각의 층 두께 분포에 요철이 없을 경우, 그 광학 특성은 거의 바뀌지 않는 것을 알 수 있었다.
(실시예 24)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께 분포의 배치를 도 14에 기재된 바와 같은 배치(실시예 17의 배치에 적층 유닛 1을 아래로 볼록해지도록 배치한 것)로 변경시킨 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 28). 또한, 적층 장치 29 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚가 되었다.
(실시예 25)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께 분포의 배치를 도 15에 기재된 바와 같은 배치(실시예 24의 배치의 적층 유닛 1을 위로 볼록하게 변경시킨 것) 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 29). 또한, 적층 장치 30 중의 후막층을 제외한 적층 유닛 1의 인접하는 2층의 두께의 합은 260~350㎚이며, 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 두께의 합은 345~430㎚가 되었다.
그 결과, 실시예 22, 23과 비교하여 실시예 24, 25는 반사율이 약간 뒤떨어지지만 파장 400~450㎚의 반사율이 저하되어 보다 물들기 어려운 필름이 되었다. 또한, 적층 유닛 1이 2단 구성으로 되어 있기 때문에 길이 방향으로도 반사 누락이 적은 필름이 되었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 26)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께 분포의 배치를 도 16에 기재된 바와 같은 배치(실시예 24의 배치에, 또한 적층 유닛 2도 아래로 볼록해지도록 배치한 것)로 변경한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 30).
반사율은 실시예 23에 비교하여 약간 저하되었지만, 적외 영역 및 가시광 영역 모두에 열선 컷성능으로서는 충분히 만족하는 것이었다. 또한, 폭방향에 대하여 분광 특성이 가장 편차가 적은 것이었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 27)
적층 장치 16을 사용해서 작성되는 필름의 층 두께 분포의 배치를 도 17에 기재된 바와 같은 배치로 변경한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 행했다(적층 장치 31). 단, 슬릿 플레이트 1과 슬릿 플레이트 2는 좌우 대칭이기 때문에 표층 후막층(5㎛)과 중간 후막층(각 플레이트에서 2.5㎛)은 같은 두께로 했다.
그 결과, 플로우 마크가 거의 없고, 폭방향의 분광 편차도 거의 없는 것이었다. 열선 컷성능으로서는 실시예 17에 비교하면 약간 뒤떨어지지만, 슬릿 플레이트 간의 두께를 동일하게 할 수 있었기 때문에 토털 필름 두께를 가장 얇게 할 수 있었다. 결과를 표 5~표 8에 나타낸다.
(실시예 28)
실시예 12에서 작성한 필름에 하드 코트층을 도포했다. 하드 코트층을 형성하기 위한 도포재로서 DPHA(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트)와 광 개시제(BASF Japan Ltd.제 IRGACURE(등록상표) 184)를 중량비 99:1로 혼합시킨 것을 MEK(메틸에틸케톤)로 고형부 농도 40%로 조정한 도포제 A를 얻는다. 이 도포제 A와, 세슘산화텅스텐 입자 Cs0.33WO3의 고형분 농도 18.5질량%의 슬러리를 중량비 2:7의 비율로 혼합하여 하드 코트층 형성용의 도포제 B로 했다. 이 도포제를 와이어 바코터로 기재 필름의 편면에 코팅한 후 열풍 오븐에서 80℃에서 2분간 건조시키고, UV 조사 장치로 자외선을 300mJ/㎠ 조사하여 도막을 경화시켜서 하드 코트층을 형성하여 적층 필름을 얻었다. 얻어진 하드 코트층의 두께는 3.3㎛이었다.
얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 29)
실시예 13에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 30)
실시예 14에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 31)
실시예 15에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 32)
실시예 16에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 33)
실시예 18에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 34)
실시예 19에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 35)
실시예 22에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 36)
하드 코트층의 두께를 2.5㎛로 한 것 이외에는 실시예 35와 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 37)
하드 코트층의 두께를 1.7㎛로 한 것 이외에는 실시예 35과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1400㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 38)
실시예 4에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1800㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(실시예 39)
실시예 10에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1800㎚의 광의 반사율이 높으며, 또한 투과율이 낮은 것이었다. 결과를 표 9에 나타낸다.
(비교예 9)
비교예 5에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 400~900㎚의 광의 반사율이 높고, 가시광선 투과율 70%가 되도록 하드 코트층을 형성하면 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 10)
비교예 6에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 400~900㎚의 광의 반사율이 높고, 가시광선 투과율 70%가 되도록 하드 코트층을 형성하면 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 11)
비교예 7에서 작성한 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 28과 마찬가지로 행했다. 얻어진 적층체는 파장 400~900㎚의 광의 반사율이 높고, 가시광선 투과율 70%가 되도록 하드 코트층을 형성하면 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 12)
하드 코트층의 두께를 얇게 한 것 이외에는 실시예 36과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 투과율이 낮아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 또한, 연필 경도가 낮기 때문에 상처가 나기 쉬워 품위가 나쁜 것이었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 13)
하드 코트층을 형성하는 도포제 A의 고형분 농도를 1/3로 한(도포제 A') 것 이외에는 실시예 36과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 투과율이 낮아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 14)
세슘산화텅스텐 입자가 아니라 주석 도프 산화인듐(ITO)을 사용하고(도포제 B), 가시광선 투과율이 75%가 되도록 하드 코트층을 형성한 것 이외에는 실시예 36과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 투과율이 낮아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 15)
가시광선 투과율이 70%가 되도록 하드 코트층을 형성한 것 이외에는 비교예 14와 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 투과율이 낮아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 16)
세슘산화텅스텐 입자가 아니라 안티몬 도프 산화주석(ATO)을 사용하고(도포제 C), 가시광선 투과율이 75%가 되도록 하드 코트층을 형성한 것 이외에는 실시예 36과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 투과율이 낮아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 17)
가시광선 투과율이 70%가 되도록 하드 코트층을 형성한 것 이외에는 비교예 9와 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 투과율이 낮아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 18)
열가소성 수지 A, B로서 폴리에틸렌테레프탈레이트(TORAY INDUSTRIES, INC.제: IV 0.65, Tg 79℃, Tm 255℃)를 사용하여 단막의 기재 필름을 얻은 것 이외에는 실시예 36과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 반사를 반사하지 않아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 19)
가시광선 투과율이 75%가 되도록 하드 코트층을 형성한 것 이외에는 비교예 18과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 반사를 반사하지 않아 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(비교예 20)
가시광선 투과율이 80%가 되도록 하드 코트층을 형성한 것 이외에는 비교예 18과 마찬가지로 하여 행했다. 얻어진 적층체는 파장 900~1200㎚의 광의 반사를 반사하지 않고, 일사열 취득률이 낮은 것이 되었다. 결과를 표 10에 나타낸다.
(산업상의 이용 가능성)
본 발명의 적층 필름은 특히 투명성이 우수하며, 또한 광대역에 걸쳐 열선 반사되는 것이 가능하기 때문에 건재, 자동차, 액정 디스플레이 등 여러 가지 용도에 사용되며, 특히 특정 파장의 광을 반사시키는 광학 필름으로서 이용할 수 있다. 또한, 곡률이 높은 유리에도 접합할 수 있다.
Claims (20)
- 적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 1200~1800㎚의 범위에 있어서 연속해서 100㎚ 이상의 범위에서 반사율이 30% 이상이 되는 반사대역을 적어도 1개 갖고,
또한 파장 430~600㎚의 범위에 있어서의 평균 투과율이 70% 이상이며, 필름의 주배향축 방향과 그것에 직교하는 방향의 축 강성의 평균값이 10N/m 이상 45N/m 이하인 필름. - 제 1 항에 있어서,
적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 400~800㎚의 범위에 있어서의 평균 투과율이 80% 이상인 필름. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
열가소성 수지 A를 주성분으로 하는 층(A층)과 열가소성 수지 B를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 적층한 이하 (i)을 만족하는 적층 유닛 1과,
열가소성 수지 C를 주성분으로 하는 층(C층)과 열가소성 수지 D를 주성분으로 하는 층(D층)을 교대로 적층한 이하 (ii)를 만족하는 적층 유닛 2를 갖는 필름.
(i) 인접하는 A층과 B층의 두께의 비(A층 두께/B층 두께)가 0.7 이상, 1.4 이하인 것
(ii) 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1로 했을 경우에 나머지 2층에 대해서 한쪽 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 다른 쪽이 5 이상 9 이하인 것 - 제 3 항에 있어서,
상기 적층 유닛 1의 총 층 두께 d1가 5㎛ 이상인 필름. - 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 적층 유닛 2의 총 층 두께 d2가 20㎛ 이상인 필름. - 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 열가소성 수지 A 및 C가 결정성 수지이며, 상기 열가소성 수지 B 및 D가 비정성 수지인 필름. - 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층 유닛 1, 상기 적층 유닛 2, 상기 적층 유닛 1과 상기 적층 유닛 2의 양쪽이 연속하는 6층의 층 두께의 합이 필름의 두께 방향에 대하여 층 두께 분포를 갖는 필름. - 제 3 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층 유닛 1의 인접하는 6층의 층 두께의 합이 한쪽 표면으로부터 중앙부를 향해서 서서히 얇아지는 영역을 포함하는 필름. - 제 3 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 층 두께의 합이 한쪽 표면으로부터 중앙부를 향해서 서서히 얇아지는 영역을 포함하는 필름. - 제 3 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층 유닛 1의 인접하는 6층의 층 두께의 합이 한쪽 표면으로부터 중앙부를 향해서 서서히 얇아지는 영역을 포함하고,
또한 상기 적층 유닛 2의 인접하는 6층의 층 두께의 합이 또 다른 한쪽 표면으로부터 중앙부를 향해서 서서히 얇아지는 영역을 포함하는 필름. - 제 3 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
1층의 두께가 1㎛ 이상인 층을 갖는 필름. - 제 3 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층 유닛 1의 총 층 두께 d1(㎛)과 상기 적층 유닛 2의 총 층 두께d2(㎛)가 하기 식(1) 또는 식(2)을 만족하는 필름.
0.4≤d1/(d1+d2)<1 식(1)
0.01≤d1/(d1+d2)<0.4 식(2) - 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
필름 두께가 100㎛ 이하인 필름. - 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 900~1400㎚의 범위에 있어서의 평균 반사율이 70% 이상인 필름. - 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 한쪽 면으로부터 광을 입사했을 때에 파장 900㎚~1800㎚의 범위에 있어서의 평균 반사율이 70% 이상인 필름. - 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기재된 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층을 근접하게 갖는 적층체로서,
상기 적층체의 ISO9050으로 규정되는 가시광선 투과율이 70% 이상, 일사열 취득률이 50% 이하인 적층체. - 제 16 항에 있어서,
상기 하드 코트층이 열선 흡수제를 포함하는 적층체. - 제 17 항에 있어서,
상기 열선 흡수제가 산화텅스텐 성분을 포함하는 적층체. - 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기재된 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코트층을 근접하게 가지며, 또 다른 한쪽 면에 점착층을 적층해서 이루어지는 적층체.
- 제 16 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하드 코트층의 두께가 0.1㎛ 이상 50㎛ 이하인 적층체.
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113924513B (zh) * | 2019-03-26 | 2024-05-14 | 东丽株式会社 | 层叠体及其制造方法、导光板单元、光源单元、显示装置、投影图像显示部件、投影图像显示装置以及显示画面用滤光器 |
JP7516426B2 (ja) * | 2019-05-23 | 2024-07-16 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多層光学フィルム |
CN110456348B (zh) * | 2019-08-19 | 2020-08-25 | 中国石油大学(华东) | 多视向sar海浪谱数据融合的海浪截断波长补偿方法 |
CN115574485A (zh) * | 2019-10-31 | 2023-01-06 | 高丽大学校产学协力团 | 辐射冷却元件及其制作方法 |
WO2024014417A1 (ja) * | 2022-07-13 | 2024-01-18 | Agc株式会社 | 熱線反射基板及びその製造方法、並びに窓ガラス |
WO2024079723A1 (en) * | 2022-10-14 | 2024-04-18 | Red Sea Farms Ltd | A structure for facilitating spectrally selective transformation of light waves |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5360659A (en) | 1993-05-24 | 1994-11-01 | The Dow Chemical Company | Two component infrared reflecting film |
WO2005095097A1 (ja) | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Toray Industries, Inc. | 積層フィルム |
KR20060096064A (ko) * | 2003-10-27 | 2006-09-05 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | 근적외선 차폐 필름 |
JP3901911B2 (ja) | 2000-04-28 | 2007-04-04 | 帝人株式会社 | 透明積層フィルム |
KR20070095418A (ko) * | 2005-01-20 | 2007-09-28 | 린텍 가부시키가이샤 | 반사방지필름 |
JP2010017854A (ja) | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Bridgestone Corp | 機能性フィルム |
WO2014010532A1 (ja) * | 2012-07-10 | 2014-01-16 | コニカミノルタ株式会社 | 誘電多層膜構造を有する赤外遮蔽フィルム |
WO2014024873A1 (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-13 | コニカミノルタ株式会社 | 光反射フィルムおよびこれを用いた光反射体 |
KR20140041611A (ko) * | 2011-06-17 | 2014-04-04 | 데이진 가부시키가이샤 | 반사 편광 필름, 그것으로 이루어지는 액정 표시 장치용 광학 부재 및 액정 표시 장치 |
KR20140102681A (ko) * | 2011-11-29 | 2014-08-22 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | 2 축 연신 적층 폴리에스테르 필름, 그것으로 이루어지는 합판 유리용 적외선 차폐 구성체 및 그들로 이루어지는 합판 유리 |
JP2014228837A (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-08 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 二軸延伸積層ポリエステルフィルム |
WO2016006388A1 (ja) * | 2014-07-08 | 2016-01-14 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム |
KR20160020449A (ko) * | 2013-05-30 | 2016-02-23 | 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 | 적외선 반사 필름 및 이를 사용하는 적층 유리 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1283106A4 (en) * | 2001-03-15 | 2005-12-14 | Mitsui Chemicals Inc | LAMINATED BODY AND DISPLAY DEVICE USING THE LAMINATED BODY |
EP1437609A4 (en) * | 2001-10-18 | 2004-11-17 | Bridgestone Corp | OPTICAL ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND BAND PASS FILTER, CLOSE-INFRARED BLOCKING FILTER AND ANTIREFLEX FILM |
CN102004393B (zh) * | 2004-04-27 | 2013-05-01 | 伊利诺伊大学评议会 | 用于软光刻法的复合构图设备 |
JP2007307893A (ja) | 2006-04-20 | 2007-11-29 | Toray Ind Inc | マット調フィルムおよび成形品 |
JP2009042578A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Andes Denki Kk | 光制御多層膜構造体および調光構造体 |
US8339700B2 (en) * | 2007-10-25 | 2012-12-25 | Techno Polymer Co., Ltd | Infrared reflective laminate |
JP2012013822A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 光反射性フィルムの製造方法、及び光反射性フィルム |
US20150177433A1 (en) * | 2012-07-13 | 2015-06-25 | Konica Minolta, Inc. | Infrared shielding film |
EP2883847B1 (en) * | 2012-07-31 | 2018-03-07 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Intermediate film for laminated glass, laminated glass, and method of mounting laminated glass |
-
2017
- 2017-06-23 WO PCT/JP2017/023202 patent/WO2018012252A1/ja unknown
- 2017-06-23 KR KR1020187032421A patent/KR102301855B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-23 JP JP2017534747A patent/JP7006270B2/ja active Active
- 2017-06-23 EP EP17827382.7A patent/EP3486697B1/en active Active
- 2017-06-23 US US16/316,106 patent/US11360251B2/en active Active
- 2017-06-23 CN CN201780042145.XA patent/CN109416422B/zh active Active
- 2017-07-05 TW TW106122533A patent/TWI733848B/zh active
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5360659A (en) | 1993-05-24 | 1994-11-01 | The Dow Chemical Company | Two component infrared reflecting film |
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KR20060096064A (ko) * | 2003-10-27 | 2006-09-05 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | 근적외선 차폐 필름 |
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