KR20180072780A - Membrane separator - Google Patents

Abstract

이 막 분리 장치 (1) 는, 케이싱과, 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조를 갖고, 케이싱을 피처리수 (W2) 가 공급되는 농축측 공간 (S) 과 피처리수 (W2) 로부터 분리되는 투과수 (PW) 가 수용되는 투과측 공간 (P) 으로 구획하는 여과막과, 비침지 상태의 농축측 공간 (S) 에 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치 (11) 와, 농축측 공간 (S) 으로부터 가스를 배출하는 가스 배출부 (14) 를 구비한다.This membrane separation apparatus 1 has a casing and a single layer structure in which a hydrophilic monomer is copolymerized and the casing is divided into a concentrated side space S to which the for-treatment water W2 is supplied and a permeate A first gas supply device 11 for supplying a gas to a concentrated side space S in an unfiltered state, a second gas supply device 11 for supplying a gas to the concentrated side space S, And a gas discharge portion (14) for discharging gas from the gas discharge portion (14).

Description

막 분리 장치 Membrane separator

본 발명은, 배설물 등의 유기성 폐수를 처리하는 막 분리 장치에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a membrane separation apparatus for treating organic wastewater such as fecal matter.

본원은, 2015년 12월 11일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2015-242328호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.The present application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2015-242328 filed on December 11, 2015, the contents of which are incorporated herein by reference.

배설물 등의 유기성 폐수를 처리하는 경우, 고액 (固液) 의 분리에 MF (정밀 여과), UF (한외 여과) 등의 막 분리를 이용하는 것이 주류로 되어 있다. In the case of treating organic wastewater such as fecal matter, it is mainstream to use membrane separation such as MF (microfiltration) and UF (ultrafiltration) for separation of a solid (liquid).

막 분리 장치로는, 케이싱과, 케이싱을 원수 (피처리수) 가 공급되는 농축측 공간과, 원수로부터 분리되는 투과수가 수용되는 투과측 공간으로 구획하는 여과막을 구비한 막 모듈을 사용하는 것이 알려져 있다. 막 분리 장치는, 농축측 공간으로 원수를 순환시키면서 여과하는 방식이 일반적이다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조). 여과막을 투과한 투과수는, 흡인 펌프에 의해 흡인되어, 예를 들어, 저류조에 저류되어 적절히 이용된다. As a membrane separation device, it is known to use a membrane module having a casing, and a filtration membrane that separates the casing into a permeation side space in which permeate water separated from raw water is contained and a concentrated side space where raw water (for-treatment water) is supplied have. The membrane separation apparatus is generally a system that performs filtration while circulating raw water into a concentrated side space (see, for example, Patent Document 1). The permeated water that has permeated the filtration membrane is sucked by a suction pump and stored in, for example, a storage tank and suitably used.

배설물 등의 유기성 폐수는, 오니 농도가 고농도 (10,000 ㎎/리터-15,000 ㎎/리터) 이기 때문에, 여과막의 표면이나 세공 내에 오니 등의 이물질이 부착되거나 퇴적되거나 한다. 이로써, FLUX (유출량) 가 저하되기 때문에, 필요에 따라, 약품 세정을 실시하고 있다. 약품 세정은, 여과막의 열화를 억제하기 위해서, 여과막을 침지 상태로 유지하면서 실시하는 것이 일반적이다.Organic wastewater such as feces has a high sludge concentration (10,000 mg / liter-15,000 mg / liter), so foreign matter such as sludge adheres to or deposits in the surface or pores of the filtration membrane. As a result, the FLUX (outflow amount) is lowered, so that drug cleaning is carried out if necessary. In order to suppress deterioration of the filtration membrane, the chemical cleaning is generally carried out while maintaining the filtration membrane in an immersed state.

일본 공개특허공보 2013-052338호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-052338

그러나, 약품 세정에 의해 여과막을 세정한 경우에 있어서도, 충분히 이물질을 제거할 수 없어, FLUX 의 회복이 곤란한 경우가 있다. 또, 약품의 비용이 비싸거나, 약품의 조정이나 세정에 필요한 시간도 많다는 과제도 있다. However, even when the filtration membrane is cleaned by chemical cleaning, foreign matter can not be sufficiently removed, and recovery of FLUX may be difficult. In addition, there is a problem that the cost of the medicine is expensive, and the time required for adjustment and cleaning of the medicine is also large.

본 발명은, 여과막에 퇴적된 이물질을 보다 확실하게 세정할 수 있는 막 분리 장치를 제공한다.The present invention provides a membrane separation device capable of more reliably cleaning foreign matter deposited on a filtration membrane.

본 발명의 제 1 양태에 의하면, 막 분리 장치는, 케이싱과, 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조를 갖고, 상기 케이싱을 피처리수가 공급되는 농축측 공간과 상기 피처리수로부터 분리되는 투과수가 수용되는 투과측 공간으로 구획하는 여과막과, 비침지 상태의 상기 농축측 공간에 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치와, 상기 농축측 공간으로부터 상기 가스를 배출하는 가스 배출부를 구비한다. According to the first aspect of the present invention, there is provided a membrane separation apparatus comprising a casing and a single layer structure in which a hydrophilic monomer is copolymerized, wherein the casing is provided with a concentrated side space to which water to be treated is supplied and permeate separated from the for- A first gas supply device for supplying gas to the concentrated side space in the non-immersed state, and a gas discharge part for discharging the gas from the concentrated side space.

이와 같은 구성에 의하면, 여과막의 표면에 부착되는 이물질을 가스의 흐름에 의해 세정할 수 있다. According to such a constitution, the foreign matter attached to the surface of the filtration film can be cleaned by the flow of gas.

또, 여과막을 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조로 함으로써, 여과막을 비침지 상태로 한 경우에 있어서도 여과막이 열화되는 경우가 없다. 따라서, 여과막을 건조시켜, 분리 대상 물질을 박리되기 쉽게 할 수 있다. Further, the filtration membrane is not deteriorated even when the filtration membrane is in the non-infiltrated state by making the filtration membrane a single layer structure in which the hydrophilic monomer is copolymerized. Therefore, the filtration film can be dried to facilitate separation of the separation target material.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 투과측 공간으로부터 상기 가스를 흡인하는 가스 흡인 장치를 구비해도 된다. In the film separating apparatus, a gas suction device for sucking the gas from the permeation-side space may be provided.

이와 같은 구성에 의하면, 가스 흡인 장치를 사용하여 투과측 공간으로부터 가스를 흡인함으로써, 공급되는 가스의 유속을 높일 수 있기 때문에, 세정에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다. According to this configuration, since the flow rate of the supplied gas can be increased by sucking the gas from the permeation-side space by using the gas suction device, the time required for cleaning can be shortened.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 제 1 가스 공급 장치를 제어하여 상기 농축측 공간의 압력을 변동시키는 제어 장치를 구비해도 된다. In the above-described membrane separation device, a control device for controlling the first gas supply device and varying the pressure of the concentration-side space may be provided.

이와 같은 구성에 의하면, 농축측 공간에 공급되는 가스의 압력을 변동시킴으로써 여과막이 진동한다. 이로써, 여과막으로부터의 이물질의 박리성을 향상시킬 수 있다. According to this configuration, the filtration membrane vibrates by changing the pressure of the gas supplied to the concentrated side space. This makes it possible to improve the peeling property of the foreign matter from the filtration membrane.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 투과측 공간에 상기 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 장치를 구비해도 된다. In the membrane separation apparatus, a second gas supply device for supplying the gas to the permeation-side space may be provided.

이와 같은 구성에 의하면, 농축측 공간측으로부터 여과막에 퇴적된 이물질이 여과막의 투과측 공간측으로부터 공급되는 가스에 의해서도 떨쳐내어진다. 이로써, 세정에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다. According to such a constitution, the foreign matter deposited on the filtration film from the concentrated side space side is also removed by the gas supplied from the permeation side space side of the filtration film. Thus, the time required for cleaning can be shortened.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 제 1 가스 공급 장치와 상기 제 2 가스 공급 장치의 적어도 일방을 제어하여 상기 농축측 공간과 상기 투과측 공간의 적어도 일방의 압력을 변동시키는 제어 장치를 구비해도 된다. The membrane separation apparatus may further comprise a control device for controlling at least one of the first gas supply device and the second gas supply device to vary the pressure of at least one of the concentration side space and the permeation side space.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 농축측 공간과 상기 투과측 공간의 압력 차에 기초하여 상기 제 1 가스 공급 장치와 상기 제 2 가스 공급 장치의 적어도 일방을 제어해도 된다. In the above-described membrane separation device, the control device may control at least one of the first gas supply device and the second gas supply device based on a pressure difference between the concentrated side space and the permeated side space.

이와 같은 구성에 의하면, 농축측 공간과 투과측 공간의 압력 차에 기초하여 가스의 공급을 제어함으로써, 이물질의 박리성을 향상시킬 수 있다. According to such a configuration, it is possible to improve the releasability of the foreign substance by controlling the gas supply based on the pressure difference between the concentrated side space and the permeable side space.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 제 1 가스 공급 장치로부터 공급되는 상기 가스의 습도를 조정하는 분무 장치를 구비해도 된다. The membrane separation apparatus may include a spray device for adjusting the humidity of the gas supplied from the first gas supply device.

이와 같은 구성에 의하면, 농축측 공간에 공급되는 가스의 습도를 조정할 수 있다. 이로써, 여과막에 부착되는 이물질을 박리되기 쉽게 하거나, 여과막이 과도하게 건조되는 것을 방지할 수 있다. According to this configuration, the humidity of the gas supplied to the concentrated side space can be adjusted. This makes it possible to easily remove the foreign matter adhering to the filtration membrane or to prevent the filtration membrane from being excessively dried.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 농축측 공간의 습도에 기초하여 상기 분무 장치를 제어해도 된다. In the film separating apparatus, the control apparatus may control the atomizing apparatus based on the humidity of the concentrated side space.

이와 같은 구성에 의하면, 농축측 공간의 가스의 습도에 기초하여, 분무 장치를 제어함으로써, 여과막의 건조 상태를 적절히 유지할 수 있다. According to such a configuration, the drying state of the filtration film can be appropriately maintained by controlling the atomizing device based on the humidity of the gas in the concentration side space.

상기 막 분리 장치에 있어서, 상기 제 1 가스 공급 장치로부터 공급되는 상기 가스에 약품을 분무하는 약품 분무 장치를 구비해도 된다. The membrane separation apparatus may further comprise a chemical spraying device for spraying the chemical gas supplied from the first gas supply device.

이와 같은 구성에 의하면, 약품을 사용함으로써, 세정 효과를 보다 향상시킬 수 있다. 또, 약품을 미스트상으로 하여 공급함으로써, 약품의 사용량을 저감시킬 수 있다.According to such a constitution, by using chemicals, the cleaning effect can be further improved. In addition, by supplying the medicine in the form of a mist, the amount of medicine to be used can be reduced.

본 발명에 의하면, 여과막의 표면에 부착되는 이물질을 가스의 흐름에 의해 세정할 수 있다. 또, 여과막을 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조로 함으로써, 여과막을 비침지 상태로 한 경우에 있어서도 여과막이 열화되는 경우가 없다. 따라서, 여과막을 건조시켜, 분리 대상 물질을 박리되기 쉽게 할 수 있다. According to the present invention, the foreign matter adhering to the surface of the filtration membrane can be cleaned by the flow of gas. Further, the filtration membrane is not deteriorated even when the filtration membrane is in the non-infiltrated state by making the filtration membrane a single layer structure in which the hydrophilic monomer is copolymerized. Therefore, the filtration film can be dried to facilitate separation of the separation target material.

도 1 은, 본 발명의 제 1 실시형태의 수처리 시스템의 개략 구성도이다.
도 2 는, 본 발명의 제 1 실시형태의 막 모듈의 개략 단면도이다.
도 3 은, 본 발명의 제 1 실시형태의 막 분리 장치의 세정 방법을 설명하는 플로 차트이다.
도 4 는, 본 발명의 제 1 실시형태의 변형예의 막 모듈의 개략 단면도이다.
도 5 는, 본 발명의 제 2 실시형태의 수처리 시스템의 개략 구성도이다.
도 6 은, 본 발명의 제 3 실시형태의 수처리 시스템의 개략 구성도이다.
도 7 은, 본 발명의 제 4 실시형태의 수처리 시스템의 개략 구성도이다.
도 8 은, 본 발명의 제 5 실시형태의 수처리 시스템의 개략 구성도이다.
도 9 는, 본 발명의 제 6 실시형태의 수처리 시스템의 개략 구성도이다.
도 10 은, 본 발명의 제 7 실시형태의 수처리 시스템의 개략 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a water treatment system according to a first embodiment of the present invention.
2 is a schematic sectional view of a membrane module according to a first embodiment of the present invention.
3 is a flow chart for explaining the cleaning method of the membrane separation apparatus of the first embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of a membrane module according to a modification of the first embodiment of the present invention.
5 is a schematic configuration diagram of a water treatment system according to a second embodiment of the present invention.
6 is a schematic configuration diagram of a water treatment system according to a third embodiment of the present invention.
7 is a schematic configuration diagram of a water treatment system according to a fourth embodiment of the present invention.
8 is a schematic configuration diagram of a water treatment system according to a fifth embodiment of the present invention.
9 is a schematic configuration diagram of a water treatment system according to a sixth embodiment of the present invention.
10 is a schematic configuration diagram of a water treatment system according to a seventh embodiment of the present invention.

〔제 1 실시형태〕 [First Embodiment]

이하, 본 발명의 제 1 실시형태의 막 분리 장치를 갖는 수처리 시스템에 대해 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, a water treatment system having a membrane separation device according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 수처리 시스템 (10) 은, 배관 (16) 을 통하여 공급되는 피처리수 (W1) (제 1 피처리수, 즉, 배설물, 정화조 오니를 함유하는 유기성 폐수) 가 수용되는 원수조 (15) 와, 원수조 (15) 로부터 공급되는 피처리수 (W2) (제 2 피처리수, 즉, 원수) 를 투과수 (PW) 와 농축수 (W3) 로 분리하는 막 분리 장치 (1) 를 구비하고 있다. As shown in Fig. 1, the water treatment system 10 of the present embodiment is provided with a water treatment apparatus 10 for treating water W1 (first treated water, that is, organic wastewater containing excreta, And the water to be treated W2 (second to-be-treated water, i.e., raw water) supplied from the raw water tank 15 is separated into permeated water PW and concentrated water W3 And a membrane separator 1 for separating the membrane.

원수조 (15) 의 상류측에는, 피처리수 (W1) 에 함유되는 유기물을 처리하는 생물 처리수조를 설치해도 된다. 생물 처리수조는, 예를 들어, 질화균과 탈질균의 작용에 의해 액 중의 BOD, 질소 화합물 등을 분해 제거하는 장치이다. On the upstream side of the raw water tank 15, a biological treatment water tank for treating the organic matter contained in the for-treatment water W1 may be provided. The biological treatment water tank is an apparatus for decomposing and removing BOD, nitrogen compounds and the like in liquid by the action of, for example, nitrifying bacteria and denitrifying bacteria.

막 분리 장치 (1) 는, 복수의 막 모듈 (2) 과, 막 모듈 (2) 을 세정하는 세정 장치 (5) 를 구비하고 있다. 복수의 막 모듈 (2) 은 병렬로 배열되어 있다.The membrane separation apparatus 1 is provided with a plurality of membrane modules 2 and a cleaning device 5 for cleaning the membrane module 2. The plurality of membrane modules 2 are arranged in parallel.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 막 모듈 (2) 은, 케이싱 (3) 과, 케이싱 (3) 의 내부에 배치된 복수의 관상 (管狀) 의 여과막 (4) 을 갖고 있다. 막 분리 장치 (1) 는, 여과막 (4) 의 내측에 피처리수 (W2) 를 순환시키면서 여과하는 방식을 이용하여, 피처리수 (W2) 로부터 투과수 (PW) 를 취출하는 장치이다. 2, the membrane module 2 has a casing 3 and a plurality of tubular filtration membranes 4 disposed inside the casing 3. The membrane module 2 includes: The membrane separation apparatus 1 is an apparatus for extracting permeated water PW from the for-treatment water W2 using a method of circulating the water W2 inside the filtration membrane 4 while circulating the water W2.

여과막 (4) 은, 케이싱 (3) 을, 피처리수 (W2) 가 공급되는 농축측 공간 (S) 과, 피처리수 (W2) 로부터 분리되는 투과수 (PW) 가 수용되는 투과측 공간 (P) 으로 구획한다. The filtration membrane 4 has a structure in which the casing 3 is divided into a concentrated side space S to which the for-treatment water W2 is supplied and a permeated side space S for receiving the permeated water PW separated from the for- P).

도 1 에 나타내는 바와 같이, 세정 장치 (5) 는, 각각의 막 모듈 (2) 에 세정용의 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치 (11) 와, 가스를 배출하는 가스 배출부 (14) 와, 세정 장치 (5) 의 동작을 제어하는 세정 제어 장치 (6) 를 갖고 있다.1, the cleaning device 5 includes a first gas supply device 11 for supplying a cleaning gas to each of the membrane modules 2, a gas discharge portion 14 for discharging gas, , And a cleaning control device (6) for controlling the operation of the cleaning device (5).

제 1 가스 공급 장치 (11) 는, 막 모듈 (2) 의 농축측 공간 (S) 에 가스를 공급하는 장치이다. The first gas supply device 11 is a device for supplying gas to the concentration side space S of the membrane module 2.

가스 배출부 (14) 는, 농축측 공간 (S) 으로부터 가스를 배출하는 기능을 갖는다. 가스 배출부 (14) 는 가스 배출 배관 (14A) 을 갖고 있다. The gas discharge portion 14 has a function of discharging the gas from the concentration side space S. The gas discharge portion 14 has a gas discharge pipe 14A.

세정 제어 장치 (6) 는, 가스 배출부 (14) 의 가스 배출 배관 (14A) 에 형성된 이물질 검출부 (41) 와, 이물질 검출부 (41) 로부터 송신되는 신호에 기초하여 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 제어하는 제어 장치 (7) 를 갖고 있다. The cleaning control device 6 is provided with a foreign matter detecting portion 41 formed on the gas discharge pipe 14A of the gas discharging portion 14 and a foreign substance detecting portion 41 formed on the first gas supplying device 11 based on a signal transmitted from the foreign matter detecting portion 41. [ And a control unit 7 for controlling the control unit.

원수조 (15) 와 막 분리 장치 (1) 는 원수 공급 배관 (17) 을 통하여 접속되어 있다. 원수 공급 배관 (17) 에는 순환 펌프 (21) 가 형성되어 있다. 원수조 (15) 에 저류된 피처리수 (W2) 는, 순환 펌프 (21) 에 의해 가압되면서, 막 분리 장치 (1) 에 공급된다. 원수 공급 배관 (17) 에는, 원수 공급 배관 (17) 을 흐르는 피처리수 (W2) 의 흐름을 정지시킬 수 있는 원수 공급 밸브 (27) 가 형성되어 있다. The raw water tank 15 and the membrane separation device 1 are connected via a raw water supply pipe 17. A circulation pump 21 is formed in the raw water supply pipe 17. The to-be-treated water W2 stored in the raw water tank 15 is supplied to the membrane separation device 1 while being pressurized by the circulation pump 21. The raw water supply pipe 17 is provided with a raw water supply valve 27 capable of stopping the flow of the water W2 flowing in the raw water supply pipe 17.

막 분리 장치 (1) 로부터 분리되는 투과수 (PW) 는 투과수 배관 (18) 에 도입된다. 투과수 배관 (18) 은 저류조 (20) 에 접속되어 있다. 즉, 막 모듈 (2) 의 투과수 배출구 (39) (도 2 참조) 는 투과수 배관 (18) 에 접속되어 있다. 투과수 배관 (18) 에는 흡인 펌프 (22) 가 형성되어 있다. The permeated water PW separated from the membrane separator 1 is introduced into the permeated water pipe 18. The permeated water pipe 18 is connected to the storage tank 20. That is, the permeated water outlet 39 (see FIG. 2) of the membrane module 2 is connected to the permeated water pipe 18. The permeate water pipe 18 is provided with a suction pump 22.

투과수 (PW) 가 분리되어 막 분리 장치 (1) 로부터 배출되는 농축수 (W3) 는, 순환 배관 (19) 을 통하여 원수조 (15) 에 도입된다. 즉, 막 모듈 (2) 의 농축수 배출구 (38) (도 2 참조) 는, 순환 배관 (19) 에 접속되어, 농축수 (W3) 는 수처리 시스템 (10) 의 배관을 순환한다. The concentrated water W3 separated from the permeated water PW and discharged from the membrane separation device 1 is introduced into the raw water tank 15 through the circulation pipe 19. [ 2) of the membrane module 2 is connected to the circulation pipe 19 and the concentrated water W3 circulates in the piping of the water treatment system 10. [

상기 서술한 바와 같이, 복수의 막 모듈 (2) 은 병렬로 배열되어 있다. 구체적으로는, 원수 공급 배관 (17), 투과수 배관 (18), 및 순환 배관 (19) 은 각각의 막 모듈 (2) 에 접속되어 있다. As described above, the plurality of membrane modules 2 are arranged in parallel. Specifically, raw water supply pipe 17, permeate water pipe 18, and circulation pipe 19 are connected to respective membrane modules 2.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 막 모듈 (2) 은, 원통 형상의 케이싱 (3) 과 복수의 여과막 (4) 을 구비하고 있다.As shown in Fig. 2, the membrane module 2 has a cylindrical casing 3 and a plurality of filtration membranes 4, respectively.

케이싱 (3) 은, 원통 형상을 이루는 케이싱 본체 (3A) 와, 케이싱 본체 (3A) 의 하단을 폐쇄하는 제 1 측벽 (35) 과, 케이싱 본체 (3A) 의 상단을 폐쇄하는 제 2 측벽 (36) 과, 케이싱 본체 (3A) 에 형성된 피처리수 도입구 (37) 와, 케이싱 본체 (3A) 에 형성된 농축수 배출구 (38) 와, 케이싱 본체 (3A) 에 형성된 투과수 배출구 (39) 를 갖고 있다. The casing 3 includes a casing main body 3A having a cylindrical shape, a first side wall 35 for closing the lower end of the casing main body 3A and a second side wall 36 for closing the upper end of the casing main body 3A A water-containing water inlet port 37 formed in the casing main body 3A, a concentrated water outlet port 38 formed in the casing main body 3A, and a permeated water outlet port 39 formed in the casing main body 3A have.

케이싱 (3) 은, 케이싱 (3) 의 내부에 가스를 도입하는 가스 공급 배관 (13) 과, 케이싱 (3) 의 내부로부터 가스를 배출하는 가스 배출 배관 (14A) 을 갖고 있다. The casing 3 has a gas supply pipe 13 for introducing gas into the casing 3 and a gas discharge pipe 14A for discharging gas from the inside of the casing 3. [

막 모듈 (2) 은, 케이싱 (3) 의 내부를 3 개의 공간으로 분할하는, 제 1 격벽 (30) 과 제 2 격벽 (31) 을 구비하고 있다. 제 1 격벽 (30) 과 제 2 격벽 (31) 에는, 복수의 삽입 통과공 (32) 이 형성되어 있다. 삽입 통과공 (32) 은, 제 1 격벽 (30) 및 제 2 격벽 (31) 의 판 두께 방향으로 관통하는 구멍이다. 삽입 통과공 (32) 의 내경은, 여과막 (4) 의 외경과 동일하거나 또는 당해 외경보다 약간 크다. The membrane module 2 has a first partition 30 and a second partition 31 dividing the interior of the casing 3 into three spaces. A plurality of insertion holes 32 are formed in the first partition 30 and the second partition 31. The insertion hole 32 is a hole penetrating in the thickness direction of the first partition 30 and the second partition 31. The inner diameter of the insertion hole 32 is equal to or slightly larger than the outer diameter of the filtration membrane 4.

제 1 격벽 (30) 은 판 형상을 이루는 부재이고, 케이싱 (3) 내부의 하방 (제 1 측벽 (35) 측) 에 고정되어 있다. 케이싱 본체 (3A) 와 제 1 격벽 (30) 과 제 1 측벽 (35) 에 의해 둘러싸이는 공간은 제 1 헤더 공간 (S1) 이다. The first partition 30 is a plate-shaped member and is fixed to the lower side (the first sidewall 35 side) of the casing 3. The space enclosed by the casing main body 3A, the first partition wall 30 and the first side wall 35 is the first header space S1.

제 2 격벽 (31) 은 판 형상을 이루는 부재이고, 케이싱 (3) 내부의 상방 (제 2 측벽 (36) 측) 에 고정되어 있다. 케이싱 본체 (3A) 와 제 2 격벽 (31) 과 제 2 측벽 (36) 에 의해 둘러싸이는 공간은 제 2 헤더 공간 (S2) 이다. The second partition 31 is a plate-shaped member and is fixed to the upper side (the side of the second side wall 36) inside the casing 3. The space enclosed by the casing main body 3A, the second partition 31 and the second side wall 36 is the second header space S2.

케이싱 본체 (3A) 와 제 1 격벽 (30) 과 제 2 격벽 (31) 에 의해 둘러싸이고, 또한, 여과막 (4) 의 외주측의 공간은 투과측 공간 (P) 이다. 복수의 여과막 (4) 으로부터 취출된 투과수 (PW) 는 투과측 공간 (P) 에 배출된 후, 투과수 배출구 (39) 를 통하여 투과수 배관 (18) (도 1 참조) 에 도입된다. The space on the outer peripheral side of the filtration film 4 is surrounded by the casing main body 3A and the first bank 30 and the second bank 31. The space on the outer peripheral side of the filtration film 4 is the transmission side space P. [ The permeated water PW taken out from the plurality of filtration membranes 4 is discharged to the permeated side space P and then introduced into the permeated water pipe 18 (see FIG. 1) through the permeated water outlet 39.

피처리수 도입구 (37) 는, 케이싱 (3) 의 외부와 제 1 헤더 공간 (S1) 을 연통시키는 개구이다. 피처리수 도입구 (37) 는, 케이싱 본체 (3A) 에 형성되어 있다. 피처리수 도입구 (37) 는, 케이싱 (3) 의 축선 (A) 을 따른 축선 방향에 있어서의 제 1 격벽 (30) 과 제 1 측벽 (35) 사이에 형성되어 있다. The for-treatment water inlet port 37 is an opening for communicating the outside of the casing 3 and the first header space S1. The for-treatment water inlet port 37 is formed in the casing main body 3A. The untreated water inlet port 37 is formed between the first partition wall 30 and the first sidewall 35 in the axial direction along the axis A of the casing 3.

농축수 배출구 (38) 는, 케이싱 (3) 의 외부와 제 2 헤더 공간 (S2) 을 연통시키는 개구이다. 농축수 배출구 (38) 는 케이싱 본체 (3A) 에 형성되어 있다. 농축수 배출구 (38) 는, 케이싱 (3) 의 축선 방향에 있어서의 제 2 격벽 (31) 과 제 2 측벽 (36) 사이에 형성되어 있다. The concentrated water outlet 38 is an opening for communicating the outside of the casing 3 and the second header space S2. The concentrated water outlet 38 is formed in the casing main body 3A. The concentrated water discharge port 38 is formed between the second partition wall 31 and the second side wall 36 in the axial direction of the casing 3.

투과수 배출구 (39) 는, 케이싱 (3) 의 외부와 투과측 공간 (P) 을 연통시키는 개구이다. The permeated water outlet port 39 is an opening for communicating the outside of the casing 3 and the permeation-side space P with each other.

투과수 배출구 (39) 는 케이싱 본체 (3A) 에 형성되어 있다. 투과수 배출구 (39) 는, 케이싱 (3) 의 축선 방향에 있어서의 제 1 격벽 (30) 과 제 2 격벽 (31) 사이에 형성되어 있다.  The permeated water outlet 39 is formed in the casing main body 3A. The permeated water outlet port 39 is formed between the first partition 30 and the second partition 31 in the axial direction of the casing 3.

농축측 공간 (S) 은, 피처리수 (W) 가 도입되는 공간이고, 제 1 헤더 공간 (S1), 여과막 (4) 의 내주측의 공간인 여과막 내 공간 (S3), 및 제 2 헤더 공간 (S2) 으로 이루어지는 공간이다. The concentrated side space S is a space into which the WTB W is introduced and has a first header space S1, a filtration membrane space S3 as a space on the inner circumferential side of the filtration membrane 4, (S2).

투과측 공간 (P) 은, 피처리수 (W) 로부터 분리된 투과수 (PW) 가 수용되는 공간이다. The permeation-side space P is a space in which the permeated water PW separated from the for-treatment water W is accommodated.

각각의 여과막 (4) 의 제 1 단은, 제 1 격벽 (30) 의 삽입 통과공 (32) 에 삽입 통과된 후에, 삽입 통과공 (32) 의 내주면에 고정되어 있다. 삽입 통과공 (32) 의 내주면과 여과막 (4) 의 외주면 사이는, 시일재 (도시 생략) 에 의해 시일되어 있다. 시일재로는, 에폭시 수지나 우레탄 수지 등, 초기에 점성을 갖고, 시간 경과적으로 경화되는 재료가 바람직하다. The first end of each filtration membrane 4 is fixed to the inner peripheral surface of the insertion hole 32 after being inserted into the insertion hole 32 of the first partition 30. The inner peripheral surface of the insertion hole 32 and the outer peripheral surface of the filtration film 4 are sealed by a sealing material (not shown). As the sealing material, a material such as an epoxy resin or a urethane resin that has an initial viscosity and cures over time is preferable.

각각의 여과막 (4) 의 제 2 단은, 여과막 (4) 의 제 1 단과 동일한 방법으로 제 2 격벽 (31) 의 삽입 통과공 (32) 에 고정되어 있다. The second end of each filtration membrane 4 is fixed to the insertion hole 32 of the second partition 31 in the same manner as the first end of the filtration membrane 4.

가스 공급 배관 (13) 은, 케이싱 (3) 의 제 1 측벽 (35) 에 접속되어 있다. 가스 공급 배관 (13) 은, 제 1 가스 공급 장치 (11) 의 가스 공급부 (12) 와 제 1 헤더 공간 (S1) 을 접속하는 배관이다. 가스 공급 배관 (13) 은, 가스 공급부 (12) 와 제 1 헤더 공간 (S1) 을 접속할 수 있으면, 제 1 측벽 (35) 에 형성할 필요는 없다. The gas supply pipe 13 is connected to the first side wall 35 of the casing 3. The gas supply pipe 13 is a pipe connecting the gas supply unit 12 of the first gas supply device 11 and the first header space S1. The gas supply pipe 13 need not be formed in the first sidewall 35 as long as it can connect the gas supply unit 12 and the first header space S1.

또, 가스 공급 배관 (13) 을 원수 공급 배관 (17) 또는 피처리수 도입구 (37) 에 접속하여, 피처리수 도입구 (37) 로부터 가스를 공급해도 된다. The gas supply pipe 13 may be connected to the raw water supply pipe 17 or the water treatment water inlet 37 so as to supply the gas from the water treatment water inlet 37.

가스 배출 배관 (14A) 은, 케이싱 (3) 의 제 2 측벽 (36) 에 접속되어 있다. 가스 배출 배관 (14A) 은, 케이싱 (3) 의 외부와 제 2 헤더 공간 (S2) 을 연통하는 배관이다. 가스 배출 배관 (14A) 은, 케이싱 (3) 의 외부와 제 2 헤더 공간 (S2) 을 연통할 수 있으면, 제 2 측벽 (36) 에 형성할 필요는 없다. The gas discharge pipe 14A is connected to the second side wall 36 of the casing 3. The gas discharge pipe 14A is a pipe for communicating the outside of the casing 3 and the second header space S2. It is not necessary to form the gas discharge pipe 14A in the second side wall 36 as long as the gas discharge pipe 14A can communicate with the outside of the casing 3 and the second header space S2.

또, 가스 배출 배관 (14A) 을 순환 배관 (19) 또는 농축수 배출구 (38) 에 접속하고, 농축수 배출구 (38) 로부터 가스를 배출해도 된다. The gas discharge pipe 14A may be connected to the circulation pipe 19 or the concentrated water discharge port 38 to discharge the gas from the concentrated water discharge port 38.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 제 1 가스 공급 장치 (11) 는, 가스 공급부 (12) (팬, 송풍기) 와, 가스 공급부 (12) 에 의해 에너지가 부여된 가스를 막 모듈 (2) 의 농축측 공간 (S) 에 공급하는 가스 공급 배관 (13) 과, 가스 공급 배관 (13) 에 형성된 가스 공급 밸브 (24) 를 갖고 있다. 1, the first gas supply device 11 includes a gas supply part 12 (fan, blower) and a gas supply part 12 for supplying gas energized by the gas supply part 12 to the concentration side of the membrane module 2 A gas supply pipe 13 for supplying the gas to the space S and a gas supply valve 24 formed in the gas supply pipe 13. [

가스 공급부 (12) 로는 송풍기를 채용할 수 있다. 송풍기는, 날개차와, 날개차를 회전 구동하는 전동기를 갖고, 날개차의 회전 운동에 의해 가스에 에너지를 부여하는 기계이다. 가스 공급부 (12) 는, 송풍기에 한정하지 않고, 압축기 (컴프레서) 나 봄베여도 된다.As the gas supply unit 12, a blower may be employed. The blower has a bladed wheel and an electric motor for rotating the bladed wheel, and is a machine for imparting energy to the gas by rotational motion of the bladed wheel. The gas supply unit 12 is not limited to the blower, but may be a compressor (compressor) or a bomb.

가스 공급부 (12) 에 의해 공급되는 가스는, 여과막 (4) 에 영향을 주지 않는 가스이다. 여과막 (4) 의 상세한 것에 대해서는 후술한다.The gas supplied by the gas supply unit 12 is a gas that does not affect the filtration film 4. [ Details of the filtration membrane 4 will be described later.

가스 공급부 (12) 에 의해 공급되는 가스는, 예를 들어, 공기나, 질소 가스등의 불활성 가스이다. 질소 가스를 공급하는 경우에는, PSA (Pressure Swing Adsorption : 압력 변동 흡착) 장치를 사용하여, 공기로부터 질소를 분리할 수 있다.The gas supplied by the gas supply unit 12 is, for example, inert gas such as air or nitrogen gas. When nitrogen gas is supplied, nitrogen can be separated from the air by using a PSA (Pressure Swing Adsorption) apparatus.

가스 배출부 (14) 는, 가스 배출 배관 (14A) 과, 가스 배출 배관 (14A) 에 형성된 가스 배출 밸브 (25) 를 갖고 있다. 가스 배출부 (14) 는, 농축측 공간 (S) 으로부터 가스를 배출하는 기능이 있으면, 배관의 형상을 가질 필요는 없다. 예를 들어, 케이싱 (3) 의 벽에 자유롭게 개폐할 수 있는 덮개를 설치해도 된다.The gas discharge portion 14 has a gas discharge pipe 14A and a gas discharge valve 25 formed in the gas discharge pipe 14A. The gas discharging portion 14 need not have the shape of a pipe if it has a function of discharging the gas from the concentrated side space S. [ For example, a cover that can be freely opened and closed may be provided on the wall of the casing 3. [

세정 제어 장치 (6) 의 이물질 검출부 (41) 는, 가스 배출 배관 (14A) 을 흐르는 가스 (G) 에 이물질이 함유되는지의 여부를 검출하는 센서이다. 이물질 검출부 (41) 로는, 예를 들어, 적외선 센서를 채용할 수 있다. 이물질 검출부 (41) 는, 단위 시간당의 이물질의 수 또는 농도를 검출하고, 가스 배출 배관 (14A) 을 흐르는 가스 (G) 에 소정량의 이물질이 함유되지 않는 상태가 된 경우에 제어 장치 (7) 에 신호를 송신하고, 제어 장치 (7) 는, 이물질 검출부 (41) 로부터 송신된 신호를 수신하면, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 정지하도록 설정되어 있다.The foreign matter detecting portion 41 of the cleaning control device 6 is a sensor for detecting whether or not foreign matter is contained in the gas G flowing through the gas discharge pipe 14A. As the foreign substance detecting unit 41, for example, an infrared sensor may be employed. The foreign matter detecting unit 41 detects the number or concentration of foreign matter per unit time and controls the control unit 7 when the gas G flowing through the gas discharge pipe 14A enters a state in which a predetermined amount of foreign matter is not contained. And the control device 7 is set to stop the first gas supply device 11 upon receiving the signal transmitted from the foreign substance detection portion 41. [

또는, 이물질 검출부 (41) 는, 상기 이물질의 수 또는 농도를 검출하여, 단위 시간마다 연속적으로 당해 검출 결과를 제어 장치 (7) 에 신호로서 송신하고, 이것을 수신한 제어 장치 (7) 가 상기 소정량의 이물질이 함유되지 않는 상태가 되었는지의 여부를 판정하고, 그 판정 결과에 기초하여 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 정지하는 구성으로 해도 된다. Alternatively, the foreign substance detecting unit 41 detects the number or the concentration of the foreign substances, and transmits the detection result to the control device 7 as a signal continuously for each unit time. When the control device 7 receives the detection result, The first gas supply device 11 may be stopped based on a result of the determination whether or not a predetermined amount of foreign matter is contained.

이물질 검출부 (41) 는, 적외선 센서에 한정하지 않고, 레이저 센서, 음향 센서, 진동 센서 등을 사용하여 이물질을 검출해도 된다. The foreign matter detecting unit 41 is not limited to the infrared ray sensor, but may detect foreign matter using a laser sensor, an acoustic sensor, a vibration sensor, or the like.

제어 장치 (7) 는, 가스 배출 배관 (14A) 을 흐르는 가스 (G) 에 이물질이 함유되지 않게 된 단계에서, 농축측 공간 (S) 에 공급되는 가스 (G) 를 정지하도록 설정되어 있다. 구체적으로는, 제어 장치 (7) 는, 가스 공급부 (12) 를 정지함과 함께, 가스 공급 밸브 (24) 와 가스 배출 밸브 (25) 를 닫아, 농축측 공간 (S) 으로의 가스 (G) 의 공급을 정지한다. The control device 7 is set so as to stop the gas G supplied to the concentrated side space S at the stage where the gas G flowing through the gas discharge pipe 14A becomes free of foreign substances. Specifically, the control device 7 stops the gas supply part 12, closes the gas supply valve 24 and the gas discharge valve 25, and supplies the gas G to the concentrated side space S, .

또한, 세정 개시시, 지시 장치 (62) (예를 들어, 스위치) 로부터 세정 개시의 지시 신호를 받은 세정 제어 장치 (6) 의 제어 장치 (7) 가, 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급하도록 설정되어 있다. 구체적으로는, 제어 장치 (7) 는, 지시 신호를 받은 것에 의해, 순환 펌프 (21) 및 흡인 펌프 (22) 를 정지시키고, 원수 공급 밸브 (27) 를 닫고, 후술하는 드레인 밸브를 열어 여과막 내 공간 (S3) 에 피처리수 (W2) 가 존재하지 않는 비침지 상태로 한 후, 당해 드레인 밸브를 닫고, 그리고, 가스 공급 밸브 (24) 와 가스 배출 밸브 (25) 를 열어, 가스 공급부 (12) 를 동작시켜 농축측 공간 (S) 으로의 가스 (G) 의 공급을 개시한다. At the start of the cleaning, the control device 7 of the cleaning control device 6, which receives the instruction to start the cleaning from the indicating device 62 (for example, a switch) ) Is supplied. Specifically, the control device 7 stops the circulation pump 21 and the suction pump 22, closes the raw water supply valve 27, opens the drain valve, which will be described later, The drain valve is closed and the gas supply valve 24 and the gas discharge valve 25 are opened so that the gas supply part 12 To start the supply of the gas (G) to the concentrated side space (S).

여과막 (4) 은, 원통 형상을 이루고, 단일 주요 구성 소재에 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조의 고분자 여과막에 의해 형성되어 있다.The filtration membrane (4) has a cylindrical shape and is formed by a polymer filtration membrane having a single-layer structure in which a hydrophilic monomer is copolymerized with a single main constituent material.

즉, 여과막 (4) 은, 주요 재료가 1 종류의 소재에 의해 형성되어 있다. 주요 재료가 1 종류의 소재에 의해 형성되어 있다는 것은, 여과막 (4) 을 형성하는 소재 (예를 들어, 수지) 에 있어서, 1 종류의 수지가 50 질량％ 이상을 차지하고 있는 것을 의미한다. That is, the main material of the filtration film 4 is formed of one kind of material. The fact that the main material is formed of one kind of material means that one type of resin occupies 50% by mass or more in the material (for example, resin) forming the filtration film 4.

또, 주요 재료가 1 종류의 소재에 의해 형성되어 있다는 것은, 그 1 종류의 소재의 성질이 구성 소재의 성질을 지배하고 있는 것을 의미한다. 구체적으로는, 1 종류의 수지가 50 질량％-99 질량％ 를 갖는 소재를 의미한다. The fact that the main material is formed of one kind of material means that the properties of the one kind of material dominate the properties of the constituent material. Specifically, it means a material in which one type of resin has 50% by mass to 99% by mass.

여과막 (4) 을 구성하는 주요 재료로는, 염화비닐계 수지, 폴리술폰 (PS) 계, 폴리비닐리덴플루오라이드 (PVDF) 계, 폴리에틸렌 (PE) 등의 폴리올레핀계, 폴리아크릴로니트릴 (PAN) 계, 폴리에테르술폰계, 폴리비닐알코올 (PVA) 계, 폴리이미드 (PI) 계 등의 고분자 재료를 사용할 수 있다. Examples of the main material constituting the filtration film 4 include polyolefin-based, polyacrylonitrile (PAN), polyvinylidene fluoride (PAN), polyvinylidene fluoride (PVDF) Based polymer, a polyether sulfone-based polymer, a polyvinyl alcohol (PVA) -based polymer, and a polyimide (PI) -based polymer.

여과막 (4) 을 구성하는 주요 재료로는, 특히 염화비닐계 수지가 바람직하다. 염화비닐계 수지로는, 염화비닐 단독 중합체 (염화비닐 호모폴리머), 염화비닐 모노머와 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 모노머와 염화비닐 모노머의 공중합체, 중합체에 염화비닐 모노머를 그래프트 공중합한 그래프트 공중합체, 이들 염화비닐 모노머 단위가 염소화된 것으로 이루어지는 (공)중합체 등을 들 수 있다.As the main material constituting the filtration membrane 4, a vinyl chloride resin is particularly preferable. Examples of the vinyl chloride resin include a vinyl chloride homopolymer (a vinyl chloride homopolymer), a copolymer of a monomer having an unsaturated bond copolymerizable with a vinyl chloride monomer and a vinyl chloride monomer, a graft copolymer obtained by graft copolymerizing a vinyl chloride monomer with a polymer, And (co) polymers in which these vinyl chloride monomer units are chlorinated.

친수성 모노머로는, 예를 들어, As the hydrophilic monomer, for example,

(1) 아미노기, 암모늄기, 피리딜기, 이미노기, 베타인 구조 등의 카티온성기 함유 비닐 모노머 및/또는 그 염, (1) vinyl monomer containing a cationic group such as an amino group, an ammonium group, a pyridyl group, an imino group and a betaine structure and /

(2) 수산기, 아미드기, 에스테르 구조, 에테르 구조 등의 친수성의 비이온성기 함유 비닐 모노머, (2) hydrophilic nonionic group-containing vinyl monomers such as hydroxyl group, amide group, ester structure and ether structure,

(3) 카르복실기, 술폰산기, 인산기 등의 아니온성기 함유 비닐 모노머 및/또는 그 염, (3) vinyl monomer containing an anionic group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group and /

(4) 그 밖의 모노머 등을 들 수 있다. (4) other monomers.

여과막 (4) 의 관 직경은, 피처리수 (W2) 의 성상 등에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 피처리수 (W2) 에 대해 조 (粗) 섬유량 (α) 이 200 ㎎/리터 이하인 경우에는, 여과막 (4) 의 내경을 5 ㎜ 이하, 조섬유량 (α) 이 200 ㎎/리터보다 크고 500 ㎎/리터보다 작은 경우에는, 여과막 (4) 의 내경을 5 ㎜-10 ㎜, 조섬유량 (α) 이 500 ㎎/리터 이상인 경우에는, 여과막 (4) 의 내경을 10 ㎜ 이상으로 할 수 있다. The diameter of the filtration membrane 4 can be appropriately selected in accordance with the property of the water W2 to be treated. For example, when the amount of coarse fibers (?) Is not more than 200 mg / liter , When the inner diameter of the filtration film 4 is 5 mm or less and the amount of crude fiber (?) Is larger than 200 mg / liter and less than 500 mg / liter, the inner diameter of the filtration membrane 4 is 5 mm- (?) is 500 mg / liter or more, the inner diameter of the filtration membrane 4 can be made 10 mm or more.

관 직경을 선택함으로써, 조섬유분에 의한 여과막 (4) 의 폐색을 억제할 수 있다. By selecting the tube diameter, it is possible to suppress the clogging of the filtration film 4 by the crude fiber component.

다음으로, 본 실시형태의 수처리 시스템 (10) 의 작용에 대해 설명한다.Next, the operation of the water treatment system 10 of the present embodiment will be described.

먼저, 피처리수 (W1) 는 원수조 (15) 에 저류된다. 원수조 (15) 로부터 배출된 피처리수 (W) 는, 순환 펌프 (21) 를 통하여 막 분리 장치 (1) 에 공급되면, 막 모듈 (2) 의 여과막 (4) 내에 보내진다. 한편, 막 모듈 (2) 의 케이싱 (3) 내에 있어서의 투과측 공간 (P) 은 흡인 펌프 (22) 의 작동에 의해 부압이 된다. 흡인 펌프 (22) 는, 투과수 배출구 (39) 를 통과하여 여과막 (4) 을 흐르는 피처리수 (W) 의 흐름에 대해 대략 직교하는 방향으로 흡인한다. 여과막 (4) 으로부터 투과된 투과수 (PW) 는, 투과수 배출구 (39) 및 투과수 배관 (18) 을 통하여 저류조 (20) 에 저류된다. First, the for-treatment water W1 is stored in the raw water tank 15. The water W to be treated discharged from the raw water tank 15 is supplied to the membrane separation apparatus 1 through the circulation pump 21 and then sent into the filtration membrane 4 of the membrane module 2. On the other hand, the permeation-side space P in the casing 3 of the membrane module 2 becomes negative pressure by the operation of the suction pump 22. The suction pump 22 sucks in the direction substantially orthogonal to the flow of the untreated water W flowing through the filtration membrane 4 through the permeated water outlet 39. The permeated water PW permeated from the filtration membrane 4 is stored in the storage tank 20 through the permeated water outlet 39 and the permeated water pipe 18.

막 분리 장치 (1) 로부터 배출되는 농축수 (W3) 는, 잉여 오니를 제외하고 원수조 (15) 에 도입되어, 다시 처리가 실시된다.The concentrated water W3 discharged from the membrane separation apparatus 1 is introduced into the raw water tank 15 except the excess sludge, and the treatment is carried out again.

다음으로, 본 실시형태의 막 분리 장치 (1) 의 세정 공정에 대해 설명한다. 여기서는, 이물질 검출부 (41) 는, 상기 서술한 바와 같이, 이물질의 수 또는 농도를 검출하고, 단위 시간마다 연속적으로 당해 검출 결과를 제어 장치 (7) 에 전기 신호로서 송신하고, 이것을 수신한 제어 장치 (7) 가 상기 소정량의 이물질이 함유되지 않는 상태가 되었는지의 여부를 판정하고, 그 판정 결과에 기초하여 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 정지하는 구성의 경우를 예로서 설명한다. 사용자는, 막 모듈 (2) 의 기능이 저하된 경우나, 정기적인 검사시에 있어서, 상기 지시 장치 (62) 를 조작함으로써 세정 개시의 지시 신호를 세정 제어 장치 (6) 에 발신하고, 막 분리 장치 (1) (막 모듈 (2)) 를 세정할 수 있다. Next, the cleaning process of the membrane separation apparatus 1 of the present embodiment will be described. Here, the foreign substance detecting unit 41 detects the number or concentration of foreign substances as described above, and continuously transmits the detection result to the control device 7 as an electric signal every unit time, The first gas supply device 11 is stopped on the basis of the determination result of whether or not the predetermined amount of foreign matter is contained in the predetermined amount of foreign matter. When the function of the membrane module 2 is deteriorated or at the time of regular inspections, the user operates the instruction device 62 to send an instruction signal to start the cleaning operation to the cleaning control device 6, The device 1 (membrane module 2) can be cleaned.

세정 공정을 자동적으로 개시하기 위한 다른 예로서, 타이머에 의해 여과 운전 시간을 설정하고, 정기적으로 세정 공정을 개시하는 제어, 막 투과수량과 흡인 압력에 의해, 세정 공정을 개시하는 제어를 실시하는 것이 가능하다.As another example for automatically starting the cleaning process, it is preferable to perform control to start the cleaning process by setting the filtration operation time with the timer, periodically starting the cleaning process, and the membrane permeation rate and suction pressure It is possible.

도 3 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 막 분리 장치 (1) 의 세정 공정은, 원수의 순환을 정지시키는 원수 정지 공정 (P1) 과, 여과막 (4) 을 건조시켜 농축측 공간 (S) 을 비침지 상태로 하는 건조 공정 (P2) 과, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 작동시켜 비침지 상태의 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급하는 가스 공급 공정 (P3) 과, 배출되는 가스 (G) 에 이물질이 함유되어 있는지의 여부를 판정하는 이물질 판정 공정 (P4) 과, 가스 (G) 의 공급을 정지하는 가스 정지 공정 (P5) 을 갖고 있다. 3, the cleaning process of the membrane separation apparatus 1 according to the present embodiment includes a raw water stopping step P1 for stopping the circulation of the raw water and a raw water stopping step P1 for drying the filtration film 4, A gas supply step P3 for supplying the gas G to the concentrated side space S in the non-immersed state by operating the first gas supply device 11, A foreign matter judging step P4 for judging whether or not a foreign substance is contained in the gas G to be supplied from the gas supply section 5 and a gas stopping step P5 for stopping the supply of the gas G.

원수 정지 공정 (P1) 에서는, 사용자가 지시 장치 (62) 를 동작시킴으로써 발신한 세정 개시의 지시 신호를 수신한 세정 제어 장치 (6) 의 제어 장치 (7) 가, 순환 펌프 (21) 를 정지시킴과 함께, 원수 공급 밸브 (27) 를 폐쇄 상태로 함으로써, 막 분리 장치 (1) 에 피처리수 (W2) 가 공급되지 않도록 한다.In the raw water stopping process P1, the control device 7 of the washing control device 6, which has received the instruction signal for starting the washing operation by the user operating the indicating device 62, stops the circulating pump 21 And the raw water supply valve 27 is closed so that the untreated water W2 is not supplied to the membrane separation apparatus 1. [

건조 공정 (P2) 에서는, 예를 들어, 케이싱 (3) 의 하부에 형성되어 있는 드레인 밸브 (도시 생략) 를 제어 장치 (7) 가 개방함으로써, 막 모듈 (2) 내에 남겨진 피처리수 (W2) 를 추출한다. 즉, 여과막 내 공간 (S3) 에 피처리수 (W2) 가 존재하지 않는 비침지 상태로 한다.In the drying step P2, for example, the untreated water W2 left in the membrane module 2 is discharged by opening the drain valve (not shown) formed in the lower part of the casing 3 by the control device 7, . That is, the untreated state in which the for-treatment water W2 does not exist in the filtration membrane space S3.

이어서, 일정 시간 방치함으로써, 여과막 (4) 을 건조시킨다.Subsequently, the filtration membrane 4 is allowed to stand for a predetermined time to dry.

이 때, 제어 장치 (7) 는 당해 드레인 밸브를 닫는다. 여과막 (4) 이 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조를 가짐으로써, 여과막 (4) 은 친수성을 유지한다.At this time, the control device 7 closes the drain valve. Since the filtration membrane 4 has a single-layer structure in which a hydrophilic monomer is copolymerized, the filtration membrane 4 maintains hydrophilicity.

여과막 (4) 이 건조됨으로써, 오니 등의 분리 대상 물질이 여과막 (4) 의 내주면으로부터 박리되기 쉬워진다. As the filtration membrane 4 is dried, the separation target material such as sludge is easily peeled off from the inner circumferential surface of the filtration membrane 4.

가스 공급 공정 (P3) 에서는, 제어 장치 (7) 가 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 작동시켜, 막 모듈 (2) 의 제 1 헤더 공간 (S1), 즉, 비침지 상태의 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급한다. 이 때, 가스 공급 밸브 (24) 및 가스 배출 밸브 (25) 는, 제어 장치 (7) 가 개방 상태로 한다. 제 1 헤더 공간 (S1) 에 가스 (G) 가 공급됨으로써, 가스 (G) 는, 여과막 (4) 의 내부인 여과막 내 공간 (S3) 에 도입된다. 가스 (G) 가 여과막 내 공간 (S3) 에 도입됨으로써, 분리 대상 물질은 떨쳐내어진다. 떨쳐내어진 분리 대상 물질은, 제 2 헤더 공간 (S2) 에 도입된 후, 가스 배출 배관 (14A) 으로부터 배출된다. In the gas supply step P3, the control device 7 operates the first gas supply device 11 so that the first header space S1 of the membrane module 2, that is, the concentrated side space in the non- S). At this time, the gas supply valve 24 and the gas discharge valve 25 bring the control device 7 into the open state. The gas G is supplied to the first header space S1 so that the gas G is introduced into the filtration membrane space S3 inside the filtration membrane 4. [ The gas G is introduced into the space S3 in the filtration membrane, thereby separating the separation target material. The separated material to be separated is introduced into the second header space S2 and then discharged from the gas discharge pipe 14A.

이물질 판정 공정 (P4) 에서는, 세정 제어 장치 (6) 의 제어 장치 (7) 가, 이물질 검출부 (41) 로부터 검출 결과를 연속적으로 전기 신호로서 수신하고, 이것을 참조하여, 가스 배출 배관 (14A) 을 흐르는 가스 (G) 에 소정량의 이물질이 함유되어 있는지의 여부를 판정한다.In the foreign substance determining step P4, the control device 7 of the cleaning control device 6 continuously receives the detection result from the foreign substance detecting unit 41 as an electric signal, and refers to the gas discharge pipe 14A It is determined whether or not a predetermined amount of foreign matter is contained in the flowing gas (G).

가스 (G) 에 소정량 이상의 이물질이 함유되어 있는 경우에는, 가스 (G) 의 공급을 속행한다.When the gas (G) contains a foreign substance of a predetermined amount or more, the supply of the gas (G) is continued.

가스 (G) 중의 이물질이 소정량보다 적어졌거나 또는 이물질이 함유되지 않은 것으로 판단된 경우에는, 가스 정지 공정 (P5) 에서, 제어 장치 (7) 는, 제 1 가스 공급 장치 (11) 의 가스 공급부 (12) 를 정지함과 함께, 가스 공급 밸브 (24) 와 가스 배출 밸브 (25) 를 닫아, 농축측 공간 (S) 으로의 가스 (G) 의 공급을 정지하고, 일련의 세정 공정을 종료한다.When it is determined that the foreign substance in the gas G is smaller than the predetermined amount or the foreign substance is not contained in the gas G in the gas stopping step P5, The gas supply valve 24 and the gas discharge valve 25 are closed and the supply of the gas G to the concentrated side space S is stopped to complete the series of cleaning steps .

상기 실시형태에 의하면, 여과막 (4) 의 표면에 부착되는 이물질을 제 1 가스 공급 장치 (11) 로부터 공급되는 가스 (G) 의 흐름에 의해 세정할 수 있다.According to the above embodiment, the foreign matter adhering to the surface of the filtration film 4 can be cleaned by the flow of the gas G supplied from the first gas supply device 11. [

또, 여과막 (4) 을 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조로 함으로써, 여과막 (4) 을 비침지 상태로 한 경우에 있어서도 여과막 (4) 이 열화되는 경우가 없다. 따라서, 여과막 (4) 을 건조시켜, 분리 대상 물질을 박리되기 쉽게 할 수 있다.Also, the filtration membrane 4 is not deteriorated even when the filtration membrane 4 is in the non-infiltrated state by making the filtration membrane 4 a single layer structure in which hydrophilic monomers are copolymerized. Therefore, the filtration film 4 can be dried to facilitate separation of the separation target material.

또한, 상기 실시형태에서는, 막 모듈 (2) 로서, 여과막 (4) 을 병렬로 배열한 막 모듈 (2) 을 채용했지만 이것에 한정되지 않는다.In the above embodiment, the membrane module 2 in which the filtration membranes 4 are arranged in parallel is used as the membrane module 2, but the present invention is not limited thereto.

또, 건조 공정 (P2) 과 가스 공급 공정 (P3) 은 동시에 실시해도 된다. 즉, 제어 장치 (7) 가 드레인 밸브를 열어 여과막 내 공간 (S3) 을 비침지 상태로 한 후, 제어 장치 (7) 가 드레인 밸브를 닫고, 그 후, 제어 장치 (7) 가 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 작동시켜 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급하면서, 여과막 (4) 을 건조시켜도 된다.The drying step (P2) and the gas supplying step (P3) may be performed simultaneously. That is, after the control device 7 opens the drain valve to bring the filtration membrane space S3 into the non-flooded state, the control device 7 closes the drain valve, The filtration membrane 4 may be dried while the apparatus 11 is operated to supply the gas G to the concentrated side space S. [

또, 가스 배출부 (14) 에 가스 (G) 를 흡인하는 가스 흡인 장치 (송풍기) 를 구비해도 된다. 이와 같은 구성에 의하면, 가스 흡인 장치를 사용하여 가스 배출부 (14) 로부터 가스 (G) 를 흡인하는 것에 의해, 공급되는 가스 (G) 의 유속을 높임으로써, 여과막 (4) 의 내주면으로부터 오니 등의 분리 대상 물질을 보다 단시간에 효과적으로 박리할 수 있어, 세정에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다.Further, the gas discharging portion 14 may be provided with a gas suction device (blower) for sucking the gas G. With such a configuration, the gas G is sucked from the gas discharging portion 14 by using the gas suction device to increase the flow rate of the supplied gas G, so that the sludge and the like from the inner peripheral surface of the filtration membrane 4 It is possible to effectively remove the separation target material in a short time and shorten the time required for cleaning.

또한 다음과 같은 변형예로 해도 된다.Alternatively, the following modification may be employed.

도 4 는, 본 발명의 제 1 실시형태의 변형예의 막 모듈 (2B) 의 개략 단면도이다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 복수의 여과막 (4) 을 직렬로 접속해도 된다. 즉, 복수의 여과막 (4) 의 제 1 단끼리, 및 여과막 (4) 의 제 2 단끼리, 를 복수의 여과막 (4) 이 직렬적으로 접속되도록 접속하는 복수의 U 자상의 관상의 제 1 접속 부재 (43) 를 갖는 구성으로 해도 된다. 4 is a schematic sectional view of a membrane module 2B according to a modified example of the first embodiment of the present invention. As shown in Fig. 4, a plurality of filtration films 4 may be connected in series. That is, a plurality of U-shaped tubular first connections (not shown) for connecting the plurality of filtration membranes 4 to one another are connected in series so that the first ends of the plurality of filtration membranes 4 and the second ends of the filtration membranes 4 are connected in series. And the member 43 may be provided.

이 때, 직렬로 접속된 복수의 여과막 (4) 과 피처리수 도입구 (37) 를 관상의 제 2 접속 부재 (44) 에 의해 직접적으로 접속함과 함께, 직렬로 접속된 복수의 여과막 (4) 과 농축수 배출구 (38) 를 관상의 제 3 접속 부재 (45) 에 의해 직접적으로 접속해도 된다. 이 경우, 도 2 에서 제 1 측벽 (35) 에 배치된 가스 공급 배관 (13) 은, 피처리수 도입구 (37) 또는 원수 공급 배관 (17) 에 접속한다. 또, 도 2 에서 제 2 측벽 (36) 에 배치된 가스 배출 배관 (14A) 은, 농축수 배출구 (38) 또는 순환 배관 (19) 에 접속한다.At this time, a plurality of filtration membranes 4 connected in series and the for-treatment water inlet 37 are directly connected by a tubular second connection member 44, and a plurality of filtration membranes 4 And the concentrated water outlet 38 may be directly connected by the tubular third connecting member 45. In this case, the gas supply pipe 13 disposed in the first sidewall 35 in FIG. 2 is connected to the untreated water inlet port 37 or the raw water supply pipe 17. 2, the gas discharge pipe 14A disposed in the second side wall 36 is connected to the concentrated water discharge port 38 or the circulation pipe 19. [

또, 제 1 측벽 (35) 과 제 2 측벽 (36) 을 없애거나 하여, 케이싱 (3) 의 구성을 변경해도 된다. In addition, the configuration of the casing 3 may be changed by eliminating the first side wall 35 and the second side wall 36.

막 모듈 (2) 의 여과막은 관상에 한정되지 않는다. 예를 들어, 평면상의 여과막을 사용하여, 케이싱 (3) 을 농축측 공간 (S) 과 투과측 공간 (P) 으로 구획하는 막 모듈 (2) 의 채용도 가능하다. The filtration film of the membrane module 2 is not limited to a tubular shape. For example, it is possible to employ a membrane module 2 that divides the casing 3 into a concentrated side space S and a permeated side space P by using a flat filtration membrane.

〔제 2 실시형태〕 [Second embodiment]

이하, 본 발명의 제 2 실시형태의 막 분리 장치 (1B) 를 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는, 상기 서술한 제 1 실시형태와의 차이점을 중심으로 서술하고, 동일한 부분에 대해서는 그 설명을 생략한다. Hereinafter, a membrane separation device 1B according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, description will be made mainly on the differences from the above-described first embodiment, and description of the same portions will be omitted.

도 5 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 막 분리 장치 (1B) 의 세정 장치 (5B) 는, 투과측 공간 (P) 으로부터 가스를 흡인하는 가스 흡인 장치 (46) 를 구비하고 있다. 5, the cleaning apparatus 5B of the membrane separation device 1B of the present embodiment is provided with a gas suction device 46 for sucking gas from the permeation-side space P. As shown in Fig.

가스 흡인 장치 (46) 는, 가스 흡인부 (47) (팬) 와, 가스 흡인부 (47) 에 의해 흡인된 가스를 케이싱 (3) 의 외부로 배출하는 가스 흡인 배관 (48) 과, 가스 흡인 배관 (48) 에 형성된 가스 흡인 밸브 (49) 를 갖고 있다. The gas suction device 46 includes a gas suction portion 47 (fan), a gas suction pipe 48 for discharging the gas sucked by the gas suction portion 47 to the outside of the casing 3, And a gas suction valve 49 formed in the pipe 48.

가스 흡인 배관 (48) 은, 투과수 배관 (18) 혹은 투과수 배출구 (39) 에 접속되어, 투과수 배출구로부터 가스를 배출해도 된다. The gas suction pipe 48 may be connected to the permeated water pipe 18 or the permeated water outlet 39 to discharge the gas from the permeated water outlet.

본 실시형태의 막 분리 장치 (1B) 의 세정 장치 (5B) 는, 가스 공급 공정 (P3) 에 있어서, 가스 흡인 장치 (46) 를 사용하여 투과측 공간 (P) 으로부터 여과막 내 공간 (S3) 의 가스를 흡인한다. 구체적으로는, 제어 장치 (7) 가, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 작동시켜, 비침지 상태의 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급할 때, 제어 장치 (7) 는 가스 흡인 밸브 (49) 를 개방함과 함께 가스 흡인부 (47) 를 동작시켜, 투과측 공간 (P) 으로부터 여과막 내 공간 (S3) 의 가스를 흡인한다.The cleaning device 5B of the membrane separation device 1B of the present embodiment is configured to remove the filtration space S3 from the permeation space P by using the gas suction device 46 in the gas supply step P3. Suck the gas. Specifically, when the control device 7 operates the first gas supply device 11 to supply the gas G to the concentrated side space S in the non-immersed state, the control device 7 controls the gas suction The valve 49 is opened and the gas sucking portion 47 is operated to suck the gas in the filtration membrane space S3 from the permeation side space P. [

이로써, 공급되는 가스 (G) 의 유속을 높이고, 또, 여과막 내 공간 (S3) 의 가스 (G) 의 흐름을 난류로 함으로써, 여과막 (4) 의 내주면으로부터 오니 등의 분리 대상 물질을 보다 단시간에 효과적으로 박리함과 함께, 여과막에 부착된 오니 등의 분리 대상 물질을 건조시켜, 계속되는 약품 세정등의 처리에 있어서의 워싱 효과를 높일 수 있다. This makes it possible to increase the flow rate of the supplied gas G and make the flow of the gas G in the filtration membrane space S3 into a turbulent flow so that the separation target material such as sludge can be discharged from the inner peripheral surface of the filtration membrane 4 in a shorter time The separation subject material such as the sludge attached to the filtration membrane can be dried to enhance the washing effect in subsequent treatment such as chemical cleaning.

또한, 가스 정지 공정 (P5) 에 있어서는, 제어 장치 (7) 는, 제 1 가스 공급 장치 (11) 의 가스 공급부 (12) 및 가스 흡인부 (47) 를 정지함과 함께, 가스 공급 밸브 (24) 와 가스 배출 밸브 (25) 와 가스 흡인 밸브 (49) 를 닫아, 농축측 공간 (S) 으로의 가스 (G) 의 공급을 정지함과 함께 여과막 내 공간 (S3) 의 가스의 흡인을 정지한다. The control device 7 stops the gas supply part 12 and the gas suction part 47 of the first gas supply device 11 as well as stops the gas supply valve 24 The gas discharge valve 25 and the gas suction valve 49 are closed to stop the supply of the gas G to the concentrated side space S and stop the suction of the gas in the filtration film space S3 .

상기 실시형태에 의하면, 가스 흡인 장치 (46) 를 사용하여 투과측 공간 (P) 으로부터 가스를 흡인함으로써, 세정에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다. According to the above embodiment, the time required for cleaning can be shortened by sucking gas from the permeation-side space P by using the gas suction device 46. [

〔제 3 실시형태〕 [Third embodiment]

이하, 본 발명의 제 3 실시형태의 막 분리 장치 (1C) 를 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는, 상기 서술한 제 1 실시형태와의 차이점을 중심으로 서술하고, 동일한 부분에 대해서는 그 설명을 생략한다. Hereinafter, a membrane separation device 1C according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, description will be made mainly on the differences from the above-described first embodiment, and description of the same portions will be omitted.

도 6 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 막 분리 장치 (1C) 의 세정 장치 (5C) 는, 투과측 공간 (P) 에 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 장치 (23) 를 추가로 구비하고 있다. 제 2 가스 공급 장치 (23) 는, 제 2 가스 공급부 (28) (팬, 송풍기) 와, 가스를 막 모듈 (2) 의 투과측 공간 (P) 에 공급하는 제 2 가스 공급 배관 (29) 과, 제 2 가스 공급 배관 (29) 에 형성된 제 2 가스 공급 밸브 (33) 를 갖고 있다. 6, the cleaning device 5C of the membrane separation device 1C of the present embodiment further includes a second gas supply device 23 for supplying gas to the permeation-side space P . The second gas supply unit 23 includes a second gas supply unit 28 (fan, blower), a second gas supply pipe 29 for supplying gas to the permeation side space P of the membrane module 2 , And a second gas supply valve (33) formed in the second gas supply pipe (29).

본 실시형태의 막 분리 장치 (1C) 의 세정 장치 (5C) 는, 가스 공급 공정 (P3) 에 있어서, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 사용하여 농축측 공간 (S) 에 가스를 공급함과 함께, 제 2 가스 공급 장치 (23) 를 사용하여 투과측 공간 (P) 에 가스를 공급한다. 구체적으로는, 제어 장치 (7) 가, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 작동시켜 비침지 상태의 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급할 때, 제어 장치 (7) 는 제 2 가스 공급 밸브 (33) 를 개방함과 함께 제 2 가스 공급부 (28) 를 동작시켜, 투과측 공간 (P) 으로부터 여과막 내 공간 (S3) 으로도 가스를 공급할 수 있다. 제 2 가스 공급부 (28) 에 의해 공급되는 가스는, 가스 공급부 (12) 에 의해 공급되는 가스와 동일하거나 또는 동일한 여과막 (4) 에 영향을 주지 않는 가스이다. The cleaning device 5C of the membrane separation device 1C of the present embodiment supplies the gas to the concentration side space S by using the first gas supply device 11 in the gas supply step P3 , And supplies the gas to the permeation-side space (P) using the second gas supply device (23). Specifically, when the control device 7 supplies the gas G to the concentrated side space S in the non-immersed state by operating the first gas supply device 11, the control device 7 controls the second gas The gas can be supplied from the permeable space P to the filtration membrane space S3 by operating the second gas supply unit 28 while opening the supply valve 33. [ The gas supplied by the second gas supply unit 28 is a gas that does not affect the filtration film 4 which is the same as or the same as the gas supplied by the gas supply unit 12.

또한, 가스 정지 공정 (P5) 에 있어서는, 제어 장치 (7) 는, 가스 공급부 (12) 및 제 2 가스 공급부 (28) 를 정지함과 함께, 가스 공급 밸브 (24) 와 가스 배출 밸브 (25) 와 제 2 가스 공급 밸브 (33) 를 닫아, 가스 (G) 의 공급을 정지함과 함께 투과측 공간 (P) 으로의 가스의 공급을 정지한다. The controller 7 stops the gas supply unit 12 and the second gas supply unit 28 and turns off the gas supply valve 24 and the gas discharge valve 25 in the gas stopping step P5, And the second gas supply valve 33 are closed to stop the supply of the gas G and stop the supply of the gas to the permeation-side space P.

상기 실시형태에 의하면, 여과막 (4) 의 내주면에 퇴적된 이물질이 여과막 (4) 의 외주측으로부터 공급되는 가스에 의해서도 떨쳐내어진다. 이로써, 여과막 (4) 의 내주면으로부터 오니 등의 분리 대상 물질을 보다 단시간에 효과적으로 박리할 수 있고, 따라서, 세정에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다.According to the above embodiment, the foreign matter deposited on the inner circumferential surface of the filtration film 4 is also removed by the gas supplied from the outer circumferential side of the filtration film 4. As a result, the separation target material such as sludge can be effectively stripped from the inner circumferential surface of the filtration membrane 4 in a shorter time, thereby shortening the time required for cleaning.

여기서는 제어 장치 (7) 는, 제 1 가스 공급 장치 (11) 와 제 2 가스 공급 장치 (23) 를 동시에 작동시키고 있지만, 소정 시간마다 교대로 작동시켜도 된다.Although the control device 7 operates the first gas supply device 11 and the second gas supply device 23 at the same time, the control device 7 may be alternately operated every predetermined time.

또, 이물질의 퇴적 상황에 따라서는, 제 2 가스 공급 장치 (23) 로부터만 가스를 공급할 수도 있다.In addition, depending on the deposition state of the foreign matter, the gas may be supplied only from the second gas supply device 23.

또, 제어 장치 (7) 가 제 2 가스 공급 장치 (23) 만을 작동시켜, 제 1 실시형태의 막 분리 장치 (1) 의 역세정을 실시해도 된다. The control device 7 may also operate only the second gas supply device 23 to back-wash the membrane separation device 1 of the first embodiment.

〔제 4 실시형태〕 [Fourth Embodiment]

이하, 본 발명의 제 4 실시형태의 막 분리 장치 (1D) 를 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는, 상기 서술한 제 1 실시형태와의 차이점을 중심으로 서술하고, 동일한 부분에 대해서는 그 설명을 생략한다.Hereinafter, a membrane separation device 1D according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, description will be made mainly on the differences from the above-described first embodiment, and description of the same portions will be omitted.

도 7 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 막 분리 장치 (1D) 의 세정 장치 (5D) 는, 제 1 가스 공급 장치 (11) 로부터 공급되는 가스의 습도를 조정하기 위한 분무 장치 (51) 를 구비하고 있다.7, the cleaning device 5D of the membrane separation device 1D of the present embodiment is provided with a spray device 51 for adjusting the humidity of the gas supplied from the first gas supply device 11 .

분무 장치 (51) 는, 물 등의 액체가 저류되어 있는 수탱크 (52) 와, 수탱크 (52) 에 저류되어 있는 물을 가스 공급 배관 (13) 에 도입하는 수배관 (53) 과, 수탱크 (52) 에 저류된 물을 빨아 올리는 펌프인 수펌프 (54) 와, 수배관 (53) 의 출구 (가스 공급 배관 (13) 으로 개구하는 출구) 에 배치되고, 물을 미스트상으로 하여 분무하기 위한 스프레이 (63) 를 갖고 있다. The spraying apparatus 51 includes a water tank 52 in which liquid such as water is stored, a water pipe 53 for introducing the water stored in the water tank 52 into the gas supply pipe 13, A water pump 54 which is a pump for sucking the water stored in the tank 52 and a water pump 54 which is disposed at an outlet of the water pipe 53 (an outlet opening to the gas supply pipe 13) And a spray 63 for spraying.

또, 수탱크 (52) 에 저류되는 액체에는, 저류조 (20) 에 저류된 투과수의 일부를 사용해도 된다. A portion of the permeated water stored in the storage tank 20 may be used as the liquid stored in the water tank 52.

본 실시형태의 막 분리 장치 (1D) 의 세정 장치 (5D) 는, 가스 공급 공정 (P3) 에 있어서, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 사용하여 농축측 공간 (S) 에 가스를 공급함과 함께, 분무 장치 (51) 를 사용하여 가스에 미스트를 분무한다. 구체적으로는, 제어 장치 (7) 가, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 작동시켜 비침지 상태의 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급할 때, 제어 장치 (7) 는 분무 장치 (51) 의 스프레이 (63) 를 동작시켜 미스트상으로 물을 분출한다. 이로써, 가스의 습도가 상승한다. The cleaning device 5D of the membrane separation device 1D of the present embodiment supplies the gas to the concentration side space S by using the first gas supply device 11 in the gas supply step P3 , The atomizing device 51 is used to atomize the mist into the gas. Specifically, when the control device 7 supplies the gas G to the concentrated side space S in the non-immersed state by operating the first gas supply device 11, the control device 7 controls the spraying device 51 is operated to spray water onto the mist. As a result, the humidity of the gas rises.

분무하는 미스트의 양은, 사전에 실시하는 실험 등에 의해 결정할 수 있다. 예를 들어, 이물질의 박리 용이성과 가스의 습도의 관계를 이용하여, 미스트의 양을 결정해도 된다. 또, 여과막 (4) 의 과도한 건조를 방지하기 위해 미스트를 분무해도 된다.The amount of mist to be sprayed can be determined by an experiment or the like to be performed in advance. For example, the amount of the mist may be determined by using the relationship between the ease of peeling off the foreign matter and the humidity of the gas. In order to prevent excessive drying of the filtration membrane 4, mist may be sprayed.

또한, 가스 정지 공정 (P5) 에 있어서는, 제어 장치 (7) 는, 가스 공급부 (12) 를 정지 또한 상기 스프레이 (63) 에 의한 분무를 정지함과 함께, 가스 공급 밸브 (24) 와 가스 배출 밸브 (25) 를 닫아, 습도 조정된 가스 (G) 의 공급을 정지한다.The control device 7 stops the gas supply part 12 and stops spraying by the spray 63 and stops the gas supply valve 24 and the gas discharge valve 63. In the gas stop step P5, (25) is closed to stop the supply of the humidity-adjusted gas (G).

상기 실시형태에 의하면, 농축측 공간 (S) 에 공급되는 가스 (G) 의 습도를 조정할 수 있다. 이로써, 여과막 (4) 에 부착되는 이물질을 박리되기 쉽게 하거나 여과막 (4) 이 과도하게 건조되는 것을 방지할 수 있다. According to the above embodiment, the humidity of the gas G supplied to the concentration side space S can be adjusted. This makes it possible to easily remove the foreign matter adhered to the filtration membrane 4 or to prevent the filtration membrane 4 from being excessively dried.

〔제 5 실시형태〕 [Fifth Embodiment]

이하, 본 발명의 제 5 실시형태의 막 분리 장치 (1F) 를 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는, 상기 서술한 제 3 실시형태와의 차이점을 중심으로 서술하고, 동일한 부분에 대해서는 그 설명을 생략한다.Hereinafter, a membrane separation device 1F according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in the present embodiment, description will be made mainly on the differences from the above-described third embodiment, and description of the same portions will be omitted.

도 8 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 세정 장치 (5F) 는, 농축측 공간 (S) 과 투과측 공간 (P) 의 압력 차를 측정하는 차압 센서 (55) 를 갖고 있다. 본 실시형태의 제어 장치 (7) 는, 차압 센서 (55) 에 의해 측정된 농축측 공간 (S) 과 투과측 공간 (P) 의 압력 차에 기초하여 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 제어한다. As shown in Fig. 8, the cleaning device 5F of the present embodiment has a differential pressure sensor 55 for measuring a pressure difference between the concentration side space S and the permeation side space P. The control device 7 of the present embodiment controls the first gas supply device 11 based on the pressure difference between the concentrated side space S and the permeated side space P measured by the differential pressure sensor 55 .

본 실시형태의 차압 센서 (55) 는, 투과수 배관 (18) 내의 기압과 가스 공급 배관 (13) 내의 기압을 측정하여 농축측 공간 (S) 과 투과측 공간 (P) 의 기압 차를 산출한다. 차압 센서 (55) 에 의해 측정하는 장소는, 투과수 배관 (18) 내, 가스 공급 배관 (13) 내에 한정하지 않고, 케이싱 (3) (도 2 참조) 내부의 기압을 직접적으로 측정해도 된다. The differential pressure sensor 55 of the present embodiment measures the atmospheric pressure in the permeated water pipe 18 and the atmospheric pressure in the gas supply pipe 13 to calculate the atmospheric pressure difference between the concentrated side space S and the permeated side space P . The place measured by the pressure difference sensor 55 is not limited to the gas supply pipe 13 in the permeated water pipe 18 and the air pressure inside the casing 3 (see FIG. 2) may be directly measured.

본 실시형태의 제어 장치 (7) 는, 농축측 공간 (S) 의 기압이 투과측 공간 (P) 의 기압보다 낮은 경우에, 농축측 공간 (S) 에 가스를 공급하고, 투과측 공간 (P) 의 기압이 농축측 공간 (S) 의 기압보다 낮은 경우에, 투과측 공간 (P) 에 가스를 공급하도록, 제 1 가스 공급 장치 (11) 및 제 2 가스 공급 장치 (23) 를 제어한다. 이로써, 여과막 (4) 이 진동하거나 하여 여과막 (4) 에 부착되는 이물질이 박리되기 쉬워진다. The controller 7 of the present embodiment supplies the gas to the concentrated side space S and supplies the gas to the permeated side space P when the atmospheric pressure of the concentrated side space S is lower than the atmospheric pressure of the permeated side space P. [ The first gas supply device 11 and the second gas supply device 23 are controlled so as to supply the gas to the permeation side space P when the air pressure of the condensation side space S is lower than the air pressure of the concentrated side space S. As a result, the filtration membrane 4 is vibrated and the foreign matter attached to the filtration membrane 4 is likely to peel off.

상기 실시형태에 의하면, 농축측 공간 (S) 과 투과측 공간 (P) 의 기압 차에 기초하여 가스의 공급을 제어함으로써, 이물질의 박리성을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment, the release of the foreign matter can be improved by controlling the supply of the gas based on the difference in air pressure between the concentration side space S and the permeation side space P. [

〔제 6 실시형태〕 [Sixth Embodiment]

이하, 본 발명의 제 6 실시형태의 막 분리 장치 (1G) 를 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는, 상기 서술한 제 4 실시형태와의 차이점을 중심으로 서술하고, 동일한 부분에 대해서는 그 설명을 생략한다.Hereinafter, a membrane separation device 1G according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, description will be made mainly on the differences from the above-described fourth embodiment, and description of the same portions will be omitted.

도 9 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 막 분리 장치 (1G) 의 세정 장치 (5G) 는, 가스 배출 배관 (14A) 에 형성된 습도 센서 (56) 를 갖고 있다. 습도 센서 (56) 는 가스 배출 배관 (14A) 을 흐르는 가스 (G) 의 습도를 측정하는 기능을 갖고 있다. 가스 배출 배관 (14A) 의 습도는, 농축측 공간 (S) 의 습도와 대략 동등하기 때문에, 가스 배출 배관 (14A) 의 습도를 측정함으로써, 농축측 공간 (S) 의 습도를 파악할 수 있다. As shown in Fig. 9, the cleaning device 5G of the membrane separation device 1G of the present embodiment has a humidity sensor 56 formed in the gas discharge pipe 14A. The humidity sensor 56 has a function of measuring the humidity of the gas G flowing through the gas discharge pipe 14A. Since the humidity of the gas discharge pipe 14A is substantially equal to the humidity of the concentrated side space S, the humidity of the concentrated side space S can be grasped by measuring the humidity of the gas discharge pipe 14A.

본 실시형태의 제어 장치 (7) 는, 습도 센서 (56) 에 의해 측정된 가스 배출 배관 (14A) 을 흐르는 가스 (G) 의 습도에 기초하여 분무 장치 (51) 를 제어한다.The control device 7 of this embodiment controls the atomizing device 51 based on the humidity of the gas G flowing through the gas discharge pipe 14A measured by the humidity sensor 56. [

예를 들어, 제어 장치 (7) 는, 케이싱 (3) 으로부터 배출되는 가스의 습도가 제 1 임계값보다 낮아진 경우에, 분무 장치 (51) 의 스프레이 (63) 로부터 분무되는 미스트의 양을 증량하는 제어를 실시할 수 있다. 또, 제어 장치 (7) 는, 케이싱 (3) 으로부터 배출되는 가스의 습도가 제 2 임계값보다 높아진 경우에, 분무 장치 (51) 의 스프레이 (63) 로부터 분무되는 미스트의 양을 감량하는 제어를 실시할 수 있다. For example, the control device 7 may increase the amount of mist sprayed from the spray 63 of the spraying device 51 when the humidity of the gas discharged from the casing 3 becomes lower than the first threshold value Control can be performed. When the humidity of the gas discharged from the casing 3 becomes higher than the second threshold value, the controller 7 performs control for reducing the amount of mist sprayed from the spray 63 of the spraying apparatus 51 .

상기 실시형태에 의하면, 농축측 공간 (S) 의 습도에 기초하여, 분무 장치 (51) 로부터 분무되는 미스트의 양을 조정함으로써, 이물질의 박리성에 효과적인 습도나 여과막 (4) 의 건조 상태를 적절히 유지할 수 있다. According to the above embodiment, by adjusting the amount of mist sprayed from the spraying device 51 based on the humidity of the concentrated side space S, it is possible to appropriately maintain the humidity and the dry state of the filtration film 4 effective for peeling of the foreign matter .

또한, 상기 실시형태의 막 분리 장치 (1G) 는, 습도 센서 (56) 가 가스 배출 배관 (14A) 의 습도를 참조하는 구성으로 했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 케이싱 (3) 내에 습도 센서를 배치하여, 농축측 공간 (S) 의 습도를 직접적으로 측정하는 구성으로 해도 된다. In the membrane separation device 1G of the above embodiment, the humidity sensor 56 refers to the humidity of the gas discharge pipe 14A, but the present invention is not limited to this. For example, the humidity sensor may be disposed in the casing 3 to directly measure the humidity of the concentrated side space S.

〔제 7 실시형태〕 [Seventh Embodiment]

이하, 본 발명의 제 7 실시형태의 막 분리 장치 (1H) 를 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는, 상기 서술한 제 1 실시형태와의 차이점을 중심으로 서술하고, 동일한 부분에 대해서는 그 설명을 생략한다. Hereinafter, a membrane separation device 1H according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, description will be made mainly on the differences from the above-described first embodiment, and description of the same portions will be omitted.

도 10 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 막 분리 장치 (1H) 의 세정 장치 (5H) 는, 농축측 공간 (S) 에 공급되는 가스에 안개상의 약품 (약제) 인 약품 미스트를 혼합하는 약품 분무 장치 (57) 를 구비하고 있다. 10, the cleaning device 5H of the membrane separation device 1H of the present embodiment is provided with a chemical spraying device for mixing a chemical mist which is a misty chemical (medicine) with a gas supplied to the concentration side space S Device 57 as shown in Fig.

약품 분무 장치 (57) 는, 액상의 약품을 저류하는 약품 탱크 (58) 와, 약품 탱크 (58) 내의 약품을 가스 공급 배관 (13) 에 공급하는 약품 공급 배관 (59) 과, 가스와 함께 약품을 회수하는 약품 회수 배관 (61) 과, 약품 공급 배관 (59) 의 출구에 배치되고, 약품을 미스트상으로 하여 분무하기 위한 스프레이 (64) 를 갖고 있다. 또, 약품 공급 배관 (59) 에는, 약품 탱크 (58) 에 저류된 약품을 빨아 올리는 펌프인 약품 펌프 (60) 가 형성되어 있다. The chemical spraying device 57 includes a chemical tank 58 for storing liquid chemicals, a chemical supply line 59 for supplying the chemical in the chemical tank 58 to the gas supply line 13, And a spray 64 disposed at the outlet of the chemical supply pipe 59 for spraying the chemical in mist form. A medicine pump 60, which is a pump for sucking the medicine stored in the medicine tank 58, is formed in the medicine supply pipe 59.

또는, 약품을 미스트상으로 분무하는 것이 가능한 장치로서, 스프레이 (64) 대신에, 이젝터 등, 압력 차에 의해 약품을 분무하는 장치를 형성할 수도 있고, 이 경우 약품 펌프 (60) 대신에, 배관 (59) 에 유량계와 유량 조절 밸브를 형성하여 약품의 분무량을 조절한다. Alternatively, instead of the spray 64, an apparatus for spraying a medicine by a pressure difference, such as an ejector, may be formed as an apparatus capable of spraying the medicine in mist form. In this case, instead of the medicine pump 60, A flow meter and a flow rate control valve are provided in the flow control valve 59 to adjust the spray amount of the medicine.

그리고, 가스 공급 공정 (P3) 에 있어서, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 사용하여 농축측 공간 (S) 에 가스를 공급함과 함께, 약품 분무 장치 (57) 를 사용하여 가스에 약품을 분무한다. 구체적으로는, 제어 장치 (7) 가, 제 1 가스 공급 장치 (11) 를 작동시켜 비침지 상태의 농축측 공간 (S) 에 가스 (G) 를 공급할 때, 제어 장치 (7) 는 약품 분무 장치 (57) 의 스프레이 (64) 를 동작시켜 미스트상으로 약품을 분출한다. In the gas supply step P3, the gas is supplied to the concentrated side space S by using the first gas supply device 11, and the chemical is sprayed to the gas by using the chemical spraying device 57 . Specifically, when the control device 7 supplies the gas G to the concentrated side space S in the non-immersed state by operating the first gas supply device 11, the control device 7 controls the chemical spraying device The spray 64 of the sprayer 57 is actuated to spray the drug onto the mist.

또한, 가스 정지 공정 (P5) 에 있어서는, 제어 장치 (7) 는, 가스 공급부 (12) 를 정지하고 또한 상기 스프레이 (64) 에 의한 분무를 정지함과 함께, 가스 공급 밸브 (24) 와 가스 배출 밸브 (25) 를 닫아, 약품을 함유하는 가스 (G) 의 공급을 정지한다. In the gas stopping step P5, the control device 7 stops the gas supply part 12 and stops the spraying by the spray 64, and stops the gas supply valve 24 and the gas discharge The valve 25 is closed, and the supply of the gas G containing the chemicals is stopped.

약품은, 염산, 황산, 시트르산, 옥살산 등의 산, 가성 소다 등의 알칼리, 차아염소산 소다 등의 산화제, 플로리실이나, 계면 활성제 등의 효소 세제나 중성 세제를 채용할 수 있다. The drug may be an enzyme such as an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, citric acid, oxalic acid, an alkali such as caustic soda, an oxidizing agent such as sodium hypochlorite, an enzyme detergent such as Florisil or a surfactant, or a neutral detergent.

상기 실시형태에 의하면, 약품을 사용함으로써, 세정 효과를 보다 향상시킬 수 있다. 또, 약품을 미스트상으로 하여 공급함으로써, 약품의 사용량을 저감시킬 수 있다. According to the above embodiment, by using a chemical, the cleaning effect can be further improved. In addition, by supplying the medicine in the form of a mist, the amount of medicine to be used can be reduced.

이상, 본 발명의 실시형태에 대해 도면을 참조하여 상세히 서술했지만, 각 실시형태에 있어서의 각 구성 및 그것들의 조합 등은 일례이고, 본 발명의 취지로부터 일탈하지 않는 범위 내에서, 구성의 부가, 생략, 치환, 및 그 밖의 변경이 가능하다. While the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to the details of the embodiments and combinations thereof, Omission, substitution, and other modifications are possible.

예를 들어, 여과막 (4) 의 개수에 관해서, 도 2 등에는 5 개의 여과막 (4) 을 나타냈지만, 여과막 (4) 의 개수는 이것에 한정되지 않는다.For example, regarding the number of filtration membranes 4, five filtration membranes 4 are shown in Fig. 2 and the like, but the number of filtration membranes 4 is not limited to this.

전기적 제어를 실시하기 위해, 제 1 내지 제 6 실시형태에서 나타내는 밸브는, 전기 신호를 받아 개폐 동작을 하는 전자 밸브인 것이 바람직하다.In order to perform electrical control, it is preferable that the valves shown in the first to sixth embodiments are electromagnetic valves that receive electric signals and perform opening and closing operations.

또, 가스 공급 공정 (P3) 에 있어서, 제어 장치 (7) 는, 제 1 가스 공급 장치 (11) 로부터 공급되는 가스의 유량이 주기적으로 변화되도록, 제 1 가스 공급 장치 (11) 나 제 2 가스 공급 장치 (23), 또는 가스 흡인 장치 (46) 의 송풍기를 간헐적으로, 또는, 주기적으로 강약을 부여하여 작동시켜도 된다. 또는, 제 1 가스 공급 장치 (11), 제 2 가스 공급 장치 (23), 또는 가스 흡인 장치 등의 송풍기 중, 적어도 1 개의 송풍기를 간헐적으로, 또는, 주기적으로 강약을 부여하여 작동시켜도 된다. 이로써, 농축측 공간 (S) 의 압력이 변동한다. 농축측 공간 (S) 의 압력이 변동함으로써 여과막 (4) 이 진동하여, 여과막 (4) 에 부착되는 이물질의 박리가 더욱 촉진된다.In the gas supply step P3, the control device 7 controls the first gas supply device 11 and the second gas supply device 11 such that the flow rate of the gas supplied from the first gas supply device 11 is periodically changed. The supply device 23 or the blower of the gas suction device 46 may be operated intermittently or periodically with a stronger force. Alternatively, at least one of the blowers, such as the first gas supply device 11, the second gas supply device 23, or the gas suction device, may be operated intermittently or periodically with a stronger force. As a result, the pressure in the concentration side space S fluctuates. The filtration membrane 4 is vibrated by the fluctuation of the pressure in the concentration side space S, so that the separation of the foreign matter adhering to the filtration membrane 4 is further promoted.

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명에 의하면, 여과막의 표면에 부착되는 이물질을 가스의 흐름에 의해 세정할 수 있다. 또, 여과막을 친수성 모노머가 공중합된 단층 구조로 함으로써, 여과막을 비침지 상태로 한 경우에 있어서도 여과막이 열화되는 경우가 없다. 따라서, 여과막을 건조시켜, 분리 대상 물질을 박리되기 쉽게 할 수 있다. According to the present invention, the foreign matter adhering to the surface of the filtration membrane can be cleaned by the flow of gas. Further, the filtration membrane is not deteriorated even when the filtration membrane is in the non-infiltrated state by making the filtration membrane a single layer structure in which the hydrophilic monomer is copolymerized. Therefore, the filtration film can be dried to facilitate separation of the separation target material.

1, 1B, 1C, 1D, 1F, 1G : 막 분리 장치
2 : 막 모듈
3 : 케이싱
4 : 여과막
5, 5B, 5C, 5D, 5F, 5G : 세정 장치
6 : 세정 제어 장치
7 : 제어 장치
10 : 수처리 시스템
11 : 제 1 가스 공급 장치
12 : 가스 공급부
13 : 가스 공급 배관
14 : 가스 배출부
14A : 가스 배출 배관
15 : 원수조
17 : 원수 공급 배관
18 : 투과수 배관
19 : 순환 배관
20 : 저류조
21 : 순환 펌프
22 : 흡인 펌프
23 : 제 2 가스 공급 장치
24 : 가스 공급 밸브
25 : 가스 배출 밸브
27 : 원수 공급 밸브
28 : 제 2 가스 공급부
29 : 제 2 가스 공급 배관
30 : 제 1 격벽
31 : 제 2 격벽
33 : 제 2 가스 공급 밸브
35 : 제 1 측벽
36 : 제 2 측벽
37 : 피처리수 도입구
38 : 농축수 배출구
39 : 투과수 배출구
41 : 이물질 검출부
43 : 제 1 접속 부재
44 : 제 2 접속 부재
45 : 제 3 접속 부재
46 : 가스 흡인 장치
47 : 가스 흡인부
48 : 가스 흡인 배관
49 : 가스 흡인 밸브
51 : 분무 장치
52 : 수탱크
53 : 수배관
54 : 수펌프
55 : 차압 센서
56 : 습도 센서
57 : 약품 분무 장치
58 : 약품 탱크
59 : 약품 공급 배관
60 : 약품 펌프
61 : 약품 회수 배관
62 : 지시 장치 (스위치)
63 : 스프레이
64 : 스프레이
P : 투과측 공간
PW : 투과수
S1 : 제 1 헤더 공간
S2 : 제 2 헤더 공간
S3 : 여과막 내 공간
S : 농축측 공간
W1, W2 : 피처리수
W3 : 농축수1, 1B, 1C, 1D, 1F, 1G: membrane separation device
2: membrane module
3: Casing
4: Filtration membrane
5, 5B, 5C, 5D, 5F, 5G: Cleaning device
6: Cleaning control device
7: Control device
10: Water treatment system
11: first gas supply device
12: gas supply part
13: Gas supply pipe
14:
14A: gas discharge pipe
15: Circulating water tank
17: raw water supply piping
18: Permeated water piping
19: Circulating piping
20: Storage tank
21: circulation pump
22: suction pump
23: second gas supply device
24: Gas supply valve
25: gas discharge valve
27: raw water supply valve
28: second gas supply part
29: second gas supply pipe
30: first partition
31: second partition
33: second gas supply valve
35: first side wall
36: second side wall
37: treated water inlet
38: Concentrated water outlet
39: Permeated water outlet
41:
43: first connecting member
44: second connecting member
45: third connecting member
46: Gas suction device
47: gas suction part
48: Gas suction pipe
49: Gas suction valve
51: Spray device
52: water tank
53: Water piping
54: water pump
55: Differential pressure sensor
56: Humidity sensor
57: Chemical Spray Unit
58: Chemical tank
59: chemical supply piping
60: Drug pump
61: Chemical recovery piping
62: indicating device (switch)
63: Spray
64: Spray
P: Permeation side space
PW: permeable water
S1: first header space
S2: second header space
S3: space in the filtration membrane
S: Enriched space
W1, W2: Water to be treated
W3: Concentrated water

Claims (9)

케이싱과,
친수성 모노머가 공중합된 단층 구조를 갖고, 상기 케이싱을 피처리수가 공급되는 농축측 공간과 상기 피처리수로부터 분리되는 투과수가 수용되는 투과측 공간으로 구획하는 여과막과,
비침지 상태의 상기 농축측 공간에 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치와,
상기 농축측 공간으로부터 상기 가스를 배출하는 가스 배출부를 구비하는 막 분리 장치. A casing,
A filtration membrane for partitioning the casing into a concentrated side space to which the for-treatment water is supplied and a permeated side space for receiving permeated water separated from the for-treatment water;
A first gas supply device for supplying gas to the concentrated side space in the non-immersed state,
And a gas discharge portion for discharging the gas from the concentrated side space. 제 1 항에 있어서,
상기 투과측 공간으로부터 상기 가스를 흡인하는 가스 흡인 장치를 구비하는 막 분리 장치. The method according to claim 1,
And a gas suction device for sucking the gas from the permeable space. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 가스 공급 장치를 제어하여 상기 농축측 공간의 압력을 변동시키는 제어 장치를 구비하는 막 분리 장치. 3. The method according to claim 1 or 2,
And a control device controlling the first gas supply device to change the pressure of the concentrated side space. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 투과측 공간에 상기 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 장치를 구비하는 막 분리 장치. 3. The method according to claim 1 or 2,
And a second gas supply device for supplying the gas to the permeable space. 제 4 항에 있어서,
상기 제 1 가스 공급 장치와 상기 제 2 가스 공급 장치의 적어도 일방을 제어하여 상기 농축측 공간과 상기 투과측 공간의 적어도 일방의 압력을 변동시키는 제어 장치를 구비하는 막 분리 장치. 5. The method of claim 4,
And a control device controlling at least one of the first gas supply device and the second gas supply device to vary the pressure of at least one of the concentrated side space and the permeable side space. 제 5 항에 있어서,
상기 제어 장치는, 상기 농축측 공간과 상기 투과측 공간의 압력 차에 기초하여 상기 제 1 가스 공급 장치와 상기 제 2 가스 공급 장치의 적어도 일방을 제어하는 막 분리 장치. 6. The method of claim 5,
Wherein the control device controls at least one of the first gas supply device and the second gas supply device based on a pressure difference between the concentration side space and the permeation side space. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 가스 공급 장치로부터 공급되는 상기 가스의 습도를 조정하는 분무 장치를 구비하는 막 분리 장치. 7. The method according to any one of claims 1 to 6,
And a spray device for adjusting the humidity of the gas supplied from the first gas supply device. 제 7 항에 있어서,
상기 농축측 공간의 습도에 기초하여 상기 분무 장치를 제어하는 제어 장치를 구비하는 막 분리 장치. 8. The method of claim 7,
And a control device for controlling the atomizing device based on the humidity of the concentrated side space. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 가스 공급 장치로부터 공급되는 상기 가스에 약품을 분무하는 약품 분무 장치를 구비하는 막 분리 장치.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
And a chemical spraying device for spraying the chemical into the gas supplied from the first gas supply device.

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