KR20180059162A - Preparation method for light modulating device - Google Patents

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문인주
류재은
홍경기
서금석
주원철
유영오
이효진
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주식회사 엘지화학
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Abstract

The present invention relates to a light modulation device and a method for manufacturing the light modulation device. The light modulation device does not have a problem of sealant bursting or micro bubble occurring or the like in a durability condition while having excellent adhesion in a bonding state even in a structure to which a plastic substrate is applied. The method comprises the following steps: manufacturing a first patterned stack; manufacturing a second patterned stack; forming a sealant on a region from which a functional layer of the first patterned stack is removed; and bonding the first and second patterned stacks by the sealant.

Description

광변조 장치의 제조 방법{PREPARATION METHOD FOR LIGHT MODULATING DEVICE} TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method of manufacturing an optical modulator,

본 출원은 광변조 장치의 제조 방법 및 광변조 장치에 대한 것이다.The present application relates to a method of manufacturing an optical modulator and an optical modulator.

전통적인 광변조 장치, 예를 들면, LCD(Liquid Crystal Display)는, 예를 들면, 도 1에 나타난 것과 같이, 유리 재질인 기판(11, 31)의 표면에 도전성층(전극)과 배향막 등의 기능성층(12, 32)이 형성된 적층체(11+12, 31+32)의 사이에 액정층과 같은 광변조층(20)을 형성한 상태로 실런트(40)에 의해 합착되어 제조된다. 1, a conventional optical modulation device, for example, a liquid crystal display (LCD), has a structure in which functional layers such as a conductive layer (electrode) and an orientation film The optical modulator layer 20 such as a liquid crystal layer is formed between the stacked bodies 11 + 12 and 31 + 32 in which the layers 12 and 32 are formed.

상기와 같은 구조에서는 기판(11, 31)이 유리 재질로 되어 강성이 우수하고, 열팽창계수가 낮으며, 광변조 장치 자체가 평평하게 유지된 상태로 사용되는 경우가 대부분이어서 기판(11, 31) 자체의 컬(curl)이나 벤딩(bending)이 잘 일어나지 않고, 실런트(40)의 터짐이나 미세 버블의 발생 등의 문제가 일어나지 않는다. In the above structure, the substrates 11 and 31 are made of a glass material, so that the rigidity is excellent, the thermal expansion coefficient is low, and the optical modulator itself is used in a flat state. Curl or bending of the sealant 40 does not occur well and problems such as bursting of the sealant 40 and generation of fine bubbles do not occur.

스마트 윈도우(smart window)나 플렉서블 디스플레이 등과 같이 사용 상태에서 벤딩(bending), 폴딩(folding) 또는 만곡(curvature) 상태 등이 필요한 광변조 장치의 경우에 전술한 전통적인 구조에서 기판(11, 31)으로서 플라스틱 기판을 적용하고 있다. In the case of an optical modulator that requires bending, folding or curvature in a state of use such as a smart window or a flexible display, the substrate 11, 31 in the above-described conventional structure A plastic substrate is applied.

그런데, 상기 플라스틱 기판의 경우 전통적으로 적용되던 유리 기판에 비하여 열팽창 계수가 크기 때문에, 내구 조건에서 수축 내지 팽창 등이 발생하여 합착된 구조에서 접착력이 떨어지고, 실런트의 터짐이나 미세 버블의 발생 등이 문제가 된다. However, in the case of the above-mentioned plastic substrate, since the thermal expansion coefficient is larger than that conventionally applied to a glass substrate, there is a problem in that the adhesion is decreased in the structure in which the plastic substrate is shrunk or expanded under durability conditions and the sealant is broken or micro bubbles are generated .

본 출원은 광변조 장치의 제조 방법 및 광변조 장치에 대한 것이다. 본 출원에서는 플라스틱 기판이 적용된 구조에서도 합착된 상태에서 접착력이 우수하게 확보되어, 내구 조건에서 실런트의 터짐이나 미세 버블 발생 등의 문제가 없는 광변조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present application relates to a method of manufacturing an optical modulator and an optical modulator. The object of the present invention is to provide an optical modulator which is excellent in adhesive force even when a plastic substrate is used and is free from problems such as sealant burst and fine bubble generation under durability conditions.

본 출원인들은, 도 2에 나타난 구조와 같이, 도 1에 나타난 종래 구조 대신 실런트(40)에 의해 합착되는 플라스틱 기판(11, 31)상에 존재하는 기능성층(12, 32)을 제거하여 기판(11, 31)의 표면을 노출시키고, 그 노출된 표면에 실런트(40)를 형성하여 합착함으로써, 플라스틱 기판이 적용된 경우에도 우수한 접착성이 확보되고, 내구 조건 또는 벤딩, 폴딩 또는 만곡 구조 등의 구조로 유지한 상태에서도 실런트의 터짐이나 미세 버블의 발생 문제를 해결할 수 있다는 점을 확인하였다. Applicants have discovered that the functional layers 12 and 32 present on the plastic substrates 11 and 31 bonded together by the sealant 40 are removed in place of the conventional structure shown in Fig. 11, and 31 are exposed, and the sealant 40 is formed on the exposed surface of the sealant 40, so that excellent adhesion can be ensured even when a plastic substrate is used. As a result of the durability condition or the structure such as bending, folding, It is possible to solve the problem of occurrence of sealant burst and fine bubbles.

이에 따라 본 출원은 상기와 같은 광변조 장치의 구조 및 그러한 구조의 형성 방법에 대한 것이다. Accordingly, the present application is directed to a structure of such an optical modulator and a method of forming such a structure.

본 출원의 광변조 장치의 제조 방법은, 플라스틱 기판과 상기 기판의 전면에 형성되어 있는 기능성층을 포함하는 제 1 적층체에서 상기 플라스틱 기판 전면의 테두리의 기능성층을 제거함으로써 제 1 패턴화된 적층체를 제조하는 단계와 플라스틱 기판과 상기 기판의 전면에 형성되어 있는 기능성층을 포함하는 제 2 적층체에서 상기 플라스틱 기판 전면의 테두리의 기능성층을 제거함으로써 제 2 패턴화된 적층체를 제조하는 단계를 포함한다. The manufacturing method of the optical modulating device of the present application is characterized by removing the functional layer on the rim of the front surface of the plastic substrate in the first laminate including the plastic substrate and the functional layer formed on the front surface of the substrate, Preparing a second patterned laminate by removing the functional layer on the rim of the front surface of the plastic substrate in a second laminate including a plastic substrate and a functional layer formed on the front surface of the substrate .

제 1 또는 제 2 패턴화 적층체의 제조 단계에서는 도 3에 나타난 것과 같이 플라스틱 기판(11)과 상기 기판의 전면에 형성되어 있는 기능성층(12)을 포함하는 적층체에서 가공(50)에 의해 테두리 부위의 기능성층(12)을 제거한다. In the step of manufacturing the first or second patterned layered body, as shown in Fig. 3, the laminated body including the plastic substrate 11 and the functional layer 12 formed on the entire surface of the substrate is processed (50) The functional layer 12 at the rim portion is removed.

이와 같은 과정에 의해서 도 4 또는 5에 나타난 바와 같이 기판(11)상에서 기능성층(12)의 일부가 제거된 형태의 패턴화 적층체가 형성될 수 있다. 도 4는 상기 제조된 패턴화 적층체를 측면에서 바라본 모식도이고, 도 5는 상기 적층체를 기능성층(12)면에서 바라본 모식도이다. By such a process, a patterned laminate in which a part of the functional layer 12 is removed on the substrate 11 as shown in Fig. 4 or 5 can be formed. FIG. 4 is a schematic view of the patterned laminate produced from the side, and FIG. 5 is a schematic view of the laminate viewed from the surface of the functional layer 12.

상기와 같은 과정에서 기능성층이 제거되는 테두리의 형태나 치수 등은 특별히 제한되지 않는다. 상기 형태나 치수는, 기판을 합착하여 도 2에 나타난 구조의 광변조 장치를 제조함에 있어서 일반적으로 실런트가 도포되는 부위에 해당하는 부위를 제거할 수 있다. 또한, 상기 일반적으로 실런트가 도포되는 부위에 해당하는 부위 모두에서 기능성층이 제거될 수도 있고, 접착력의 확보 등이 가능할 것으로 판단되는 한, 상기 부위의 일부에서 기능성층이 제거될 수 있다. 제거되는 테두리 부위의 치수도 특별히 제한되지 않고, 일반적인 실런트의 형성 부위를 고려하여 선택할 수 있으며, 예를 들면, 제거되는 테두리는 폭이 약 1 내지 200 mm의 범위 내에서 조절될 수 있다. The shape and dimensions of the rim from which the functional layer is removed in the above process are not particularly limited. The shape and size of the substrate can be removed by attaching the substrate to a portion corresponding to a region to which the sealant is to be applied in manufacturing the optical modulator having the structure shown in FIG. Also, as long as it is determined that the functional layer may be removed from all portions corresponding to the portion to which the sealant is applied, and the adhesion can be ensured, the functional layer may be removed from a portion of the portion. The size of the rim portion to be removed is not particularly limited, and can be selected in consideration of a general sealant formation site. For example, the removed rim can be adjusted within a range of about 1 to 200 mm in width.

또한, 도 4나 5에 나타난 바와 같이, 기능성층이 제거되는 부위에서 모든 기능성층이 제거되어 기판의 표면이 노출되도록 상기 공정이 수행될 수도 있고, 기능성층의 일부만이 제거되도록 상기 공정이 수행될 수 있다. 예를 들면, 기능성층이 한 층이 아니고, 도전성층(전극층)과 액정 배향막이 적층되어 있는 것과 같은 적층 구조인 경우, 상기 적층된 도전성층과 액정 배향막이 모두 제거될 수도 있고, 어느 한 층만이 제거될 수도 있으며, 어느 한 층의 일부가 제거될 수 있다. 예를 들어, 광변조 장치와 외부 전원의 연결을 위해 기능성층이 제거되는 테두리 부위의 적어도 일부의 영역에서는 전극의 역할을 하는 도전성층이 제거되지 않고, 잔존할 수 있다.Also, as shown in FIGS. 4 and 5, the above process may be performed so that all of the functional layers are removed from the region where the functional layer is removed, thereby exposing the surface of the substrate, and the process is performed so that only a part of the functional layer is removed . For example, when the functional layer is not a single layer but a stacked structure in which a conductive layer (electrode layer) and a liquid crystal alignment layer are laminated, both of the stacked conductive layer and the liquid crystal alignment layer may be removed, May be removed, and a portion of either layer may be removed. For example, the conductive layer serving as an electrode may remain in at least a part of the rim portion where the functional layer is removed for connection of the light modulating device and the external power source.

상기와 같은 적층 구조에서 플라스틱 기판의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 상기 기판으로는 광변조 장치의 형성을 위한 기판으로서 적용 가능한 것으로 공지되어 있는 플라스틱 기판이 모두 적용될 수 있다. 예를 들면, 상기 기판으로는, PC(polycarbonate) 필름, PEN(polyethylene naphthalate) 필름, PET(polyethyleneterephthalate) 필름 등의 폴리에스테르 필름, PMMA(poly(methyl methacrylate)) 필름 등의 아크릴 필름, TAC(triacetyl cellulose) 등의 셀룰로오스 고분자 필름, PE(polyethylene) 필름, PP(polypropylene) 필름, COP(cycloolefin polymer) 필름 등의 올레핀 필름, 폴리벤즈이미다졸 필름, 폴리벤즈옥사졸 필름, 폴리벤즈아졸 필름, 폴리벤즈티아졸 필름 또는 폴리이미드 필름 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 필름의 두께 등도 일반적인 광변조 장치로의 적용 재료의 수준을 고려하여 선택될 수 있다. The kind of the plastic substrate in the above laminated structure is not particularly limited. As the substrate, any plastic substrate known to be applicable as a substrate for forming an optical modulator can be applied. Examples of the substrate include an acrylic film such as a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, a polyethyleneterephthalate (PET) film and a poly (methyl methacrylate) cellulose, etc., olefin films such as PE (polyethylene) film, PP (polypropylene) film and COP (cycloolefin polymer) film, polybenzimidazole film, polybenzoxazole film, polybenzazole film, A thiazole film, a polyimide film, and the like can be exemplified, but the present invention is not limited thereto. The thickness of the film and the like can also be selected in consideration of the level of the material to be applied to a general optical modulator.

상기와 같은 기판의 표면에 형성되는 기능성층의 종류도 특별히 제한되지 않고, 일반적인 광변조 장치에서 상기 장치의 구동 등을 위해 적용되는 기능성층이 적용될 수 있으며, 이러한 기능성층은 단층 구조이거나 혹은 2층 이상의 단층 구조일 수 있다. 대표적인 기능성층으로는, ITO(Indium Tin Oxide) 등과 같이 전극의 역할을 하는 도전성층, 액정 배향막, 배리어층 또는 하드코팅층 등이 고려될 수 있다.The type of the functional layer formed on the surface of the substrate is not particularly limited and a functional layer applied for driving the device in a general optical modulator may be applied. Or more. As a typical functional layer, a conductive layer serving as an electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) or the like, a liquid crystal alignment film, a barrier layer or a hard coat layer can be considered.

패턴화 구조에 적용되는 상기 적층체는 필요한 경우에 추가적인 층을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 적층체는 상기 기판에서 기능성층이 형성되어 있는 면과는 반대면에 형성되어 있는 편광층을 추가로 포함할 수 있다. 편광층으로는 특별한 제한 없이 기존 LCD 등에서 사용되는 통상의 소재, 예를 들면, PVA(poly(vinyl alcohol)) 편광 필름 등이나, 유방성 액정(LLC: Lyotropic Liquid Cystal)이나, 반응성 액정(RM: Reactive Mesogen)과 이색성 색소(dichroic dye)를 포함하는 편광 코팅층과 같이 코팅 방식으로 구현한 편광층을 사용할 수 있다. 본 명세서에서 상기와 같이 코팅 방식으로 구현된 편광층은 편광 코팅층으로 호칭될 수 있다.The laminate applied to the patterned structure may include additional layers as needed. For example, the laminate may further include a polarizing layer formed on the surface of the substrate opposite to the surface on which the functional layer is formed. Examples of the polarizing layer include, but are not limited to, ordinary materials used in conventional LCDs, such as PVA (poly (vinyl alcohol)) polarizing film, and a liquid crystal material such as LLC (Lyotropic Liquid Cystal) Reactive Mesogen) and a polarizing coating layer including a dichroic dye can be used. In this specification, a polarizing layer implemented in a coating manner as described above may be referred to as a polarizing coating layer.

상기와 같은 구조의 적층체에서 기능성층을 제거하는 방식은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 기능성층은 레이저 가공에 의해 제거될 수 있다.The method of removing the functional layer from the laminate having the above-described structure is not particularly limited. For example, the functional layer can be removed by laser processing.

예를 들면, 기판상에 상기 기능성층에 대하여 기능성층을 제거하고자 하는 부위에 레이저를 조사함으로써 기능성층을 제거할 수 있다. 레이저는 예를 들면, 기능성층이 형성된 측에서 조사되거나, 기판이 투광성인 경우에는 기판측에서 조사될 수 있다. 레이저로는, 적절한 출력을 나타내어서 기능성층을 제거할 수 있는 것이라면 어떠한 종류도 사용될 수 있다. 레이저로는, 예를 들면, 파이버 다이오드 레이저(fiber diode laser), 루비(Cr3 +:Al2O3), YAG(Nd3 +:Y3Al5O12), 포스페이트 글래스(phosphate glass), 실리케이트 글래스(silicate glass) 또는 YLF(Nd3 +:LiYF4) 등이 사용될 수 있다. 이러한 레이저는, 예를 들면, 스팟 레이저(spot laser) 또는 라인 빔 레이저(line beam laser)의 형태로 조사될 수 있다. For example, the function layer can be removed by irradiating a laser beam onto a portion of the substrate where the functional layer is to be removed from the functional layer. The laser may be irradiated, for example, on the side where the functional layer is formed, or on the substrate side when the substrate is translucent. Any kind of laser can be used as long as it can display an appropriate output to remove the functional layer. Laser, for example, a fiber laser diode (fiber diode laser), ruby (Cr 3 +: Al 2 O 3), YAG (Nd 3 +: Y 3 Al 5 O 12), phosphate glass (phosphate glass), Silicate glass or YLF (Nd 3 + : LiYF 4 ) may be used. Such lasers can be irradiated, for example, in the form of spot lasers or line beam lasers.

일 예시에서 상기 기능성층의 제거는 IR 레이저 또는 UV 레이저에 의해 수행할 수 있다. 상기에서 IR 레이저로는, 파장이 약 900 내지 1100 nm의 범위 내인 레이저를 적용할 수 있다. IR 레이저의 적용 시에 구체적인 조건은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 10 내지 300 kHz의 주파수, 100 내지 5000 mms의 속도 및/또는 1 내지 9000 ㎛의 헤칭 갭(hatching gap)의 조건에서 IR 레이저를 조사하면서 기능성층을 제거할 수 있다. UV 레이저를 적용하는 경우, 파장이 약 250 내지 450 nm의 범위 내인 레이저를 적용할 수 있다. UV 레이저를 적용함에 있어서, 출력(power)은 10 내지 30W의 범위 내, 주파수는 10 내지 500 kHz의 범위 내, 선폭은 약 5 내지 50㎛의 범위 내에서 조절될 수 있다. 그렇지만, 상기 조건은 예시적인 것이며, 구체적인 레이저 가공 조건은 제거하고자 하는 기능성층의 종류 내지는 제거되는 테두리의 형태 내지 치수 등을 고려하여 적절하게 선택될 수 있다.In one example, removal of the functional layer may be performed by an IR laser or a UV laser. As the IR laser, a laser having a wavelength within a range of about 900 to 1100 nm can be applied. The specific conditions in the application of the IR laser are not particularly limited, and may be, for example, an IR laser at a frequency of 10 to 300 kHz, a velocity of 100 to 5000 mms and / or a hatching gap of 1 to 9000 [ The functional layer can be removed. When a UV laser is applied, a laser having a wavelength within a range of about 250 to 450 nm can be applied. In applying the UV laser, the power can be adjusted within the range of 10 to 30 W, the frequency within the range of 10 to 500 kHz, and the line width within the range of about 5 to 50 탆. However, the above conditions are exemplary and the specific laser processing conditions can be appropriately selected in consideration of the type of the functional layer to be removed, the shape and dimensions of the rim to be removed, and the like.

일 예시에서 상기 기능성층 제거 공정에 적용되는 적층체는, 상기 기판과 그 기판의 전면에 형성되어 있는 기능성층과 그 기능성층의 표면에 부착되어 있는 보호 필름을 포함하는 구조일 수 있다. 생산 과정에서 플라스틱 기판상에 기능성층이 형성된 필름을 운송 또는 이송하여야 할 필요가 있고, 이러한 경우에 상기 기능성층의 손상을 방지하기 위해서 그 표면에 보호 필름이 부착될 수 있다. 이 경우 부착되는 보호 필름의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 다양한 기능성층의 보호를 위해 통상적으로 적용되는 보호 필름이 사용된다.In one example, the laminate to be applied to the functional layer removing step may include a substrate, a functional layer formed on the entire surface of the substrate, and a protective film attached to the surface of the functional layer. It is necessary to transport or transfer a film on which a functional layer is formed on a plastic substrate during production. In this case, a protective film may be attached to the surface of the functional layer to prevent damage to the functional layer. In this case, the kind of the protective film to be attached is not particularly limited, and a protective film which is conventionally applied for protecting various functional layers is used.

이러한 경우 상기 패턴화 적층체의 제조 공정은, (1) 보호 필름이 부착된 적층체, 즉 상기 플라스틱 기판, 상기 플라스틱 기판의 전면에 형성된 상기 기능성층 및 상기 기능성층상에 부착되어 있는 보호 필름을 포함하는 적층 구조에서 상기 기능성층이 제거될 부위에 대응되는 부위의 보호 필름만을 제거하는 단계; 및 (2) 상기 보호 필름이 제거되어 노출되는 기능성층을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.In this case, the manufacturing process of the patterned laminate includes (1) a laminate having a protective film attached thereto, that is, the plastic substrate, the functional layer formed on the entire surface of the plastic substrate, and the protective film attached on the functional layer Removing only the protective film corresponding to the portion where the functional layer is to be removed from the laminated structure; And (2) removing the exposed functional layer by removing the protective film.

상기와 같이 보호 필름이 존재하는 경우에 그 보호 필름을 먼저 패턴화하고자 하는 기능성층의 대응 부위를 고려하여 제거한 후에 다시 그 제거된 부위에 노출된 기능성층을 제거함으로써, 가공 시에 분진 등에 의한 가공 부위의 오염을 방지할 수 있다.When the protective film is present as described above, the protective film is first removed in consideration of the corresponding region of the functional layer to be patterned, and then the functional layer exposed to the removed region is removed, It is possible to prevent contamination of the site.

예를 들면, 도 6에 예시적으로 나타난 바와 같이, 상기 공정에서는 기능성층(12)상에 존재하는 보호 필름(60)에서 제거될 기능성층(12) 부위에 대응되는 부위의 보호 필름(60)만이 먼저 제거될 수 있다.6, the protective film 60 in the portion corresponding to the portion of the functional layer 12 to be removed from the protective film 60 existing on the functional layer 12 is formed, for example, Can be removed first.

상기에서 우선 제거되는 보호 필름의 부위는 제거될 기능성층에 대응되는 부위일 수 있다. 상기에서 보호 필름의 제거되는 부위가 제거될 기능성층의 부위에 대응된다는 것은, 기판을 상부에서 관찰하는 경우에 인지되는 면적을 기준으로 제거되는 보호 필름의 면적과 후속하여 제거될 기능성층의 면적이 실질적으로 동일한 경우를 의미한다. 상기에서 실질적으로 동일하다는 것은 예를 들면, 공정 오차 등으로 인하여 두 부위의 면적이 근소하게 차이가 나는 경우도 포함된다. 예를 들면, 제거될 기능성층의 면적을 A라고 하고, 제거되는 보호 필름의 면적을 B라고 하는 경우 상기 양 면적의 비율(B/A)이 약 0.5 내지 1.5, 0.7 내지 1.3, 0.85 내지 1.15 또는 실질적으로 1이 되도록 보호 필름이 제거될 수 있다.The portion of the protective film to be removed first may be a portion corresponding to the functional layer to be removed. The fact that the portion of the protective film to be removed corresponds to the portion of the functional layer to be removed means that the area of the protective film to be removed on the basis of an area recognized when the substrate is observed from above and the area of the functional layer to be subsequently removed Means substantially the same case. In the above description, for example, the case where the area of the two regions slightly differs due to a process error or the like is included. For example, when the area of the functional layer to be removed is A and the area of the protective film to be removed is B, the ratio (B / A) of the two areas is about 0.5 to 1.5, 0.7 to 1.3, 0.85 to 1.15, The protective film may be removed to be substantially 1.

이와 같은 보호 필름의 제거 역시 예를 들면, 레이저 가공에 의해 수행될 수 있다. 이러한 경우 선택되는 레이저의 종류는 특별히 제한되지 않고, 적절하게 선택될 수 있다. 일 예시에서 상기 보호 필름의 제거는 CO2 레이저를 사용하여 수행할 수 있다. 이러한 경우, CO2 레이저의 가공 조건은, 예를 들면, 약 20 내지 55W의 출력 범위, 약 10 내지 300 kHz의 주파수 범위 및/또는 약 5㎛ 내지 12㎛의 소스(source) 범위 내에서 선택될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Such removal of the protective film can also be performed by, for example, laser machining. In this case, the kind of the selected laser is not particularly limited and can be appropriately selected. In one example, removal of the protective film may be performed using a CO 2 laser. In this case, the processing conditions of the CO 2 laser can be selected, for example, within an output range of about 20 to 55 W, a frequency range of about 10 to 300 kHz and / or a source range of about 5 to 12 μm But is not limited thereto.

상기와 같은 방식으로 보호 필름만을 제거한 후에 후속하여 보호 필름이 제거된 영역에 노출된 기능성층이 제거될 수 있으며, 이 때 기능성층을 제거하는 구체적인 조건은 전술한 내용에서 채용할 수 있다.After the protective film is removed in the same manner as described above, the functional layer exposed to the area where the protective film is removed may be removed. Specific conditions for removing the functional layer may be adopted in the above description.

상기와 같은 과정을 거친 후에 보호 필름은, 예를 들면, 후술하는 합착 공정 전에 적절한 시기에 제거될 수 있다.After the above-described process, the protective film can be removed at an appropriate time before, for example, a laminating process described later.

본 출원의 광변조 장치의 제조 방법은, 상기와 같은 방식으로 제 1 및 제 2 패턴화 적층체를 제조한 후에 광변조 장치를 형성하는 합착 공정을 진행한다.The manufacturing method of the optical modulation device of the present application proceeds with the laminating process of forming the optical modulation device after the first and second patterned laminates are manufactured in the same manner as described above.

이러한 공정은, 예를 들면, 상기 제 1 및 제 2 패턴화된 적층체 중 적어도 어느 하나, 예를 들면, 제 1 패턴화 적층체에서 기능성층이 제거된 부위에 실런트를 형성하는 단계; 및 상기 실런트가 형성된 제 1 패턴화 적층체와 제 2 패턴화 적층체를 상기 실런트에 의해 합착하되, 상기 실런트가 제 1 및 제 2 패턴화 적층체의 기능성층이 제거된 부위끼리를 접착하도록 합착하는 단계를 포함할 수 있다.Such a process may include, for example, forming a sealant on at least one of the first and second patterned laminates, for example, a portion of the first patterned laminate where the functional layer has been removed; And a second patterned layered body on which the sealant is formed and a second patterned layered body are adhered together by the sealant so that the sealant adheres to the portions of the first and second patterned layers where the functional layer is removed, .

이와 같은 과정은, 실런트의 형성 부위 등이 기능성층이 제거된 부위인 점을 제외하면, 공지의 방식으로 진행될 수 있다. 예를 들면, 상기 실런트로는, 공지의 자외선 또는 열경화형 실런트로서, 에폭시계 실런트, 우레탄계 실런트 또는 페놀계 실런트 등이 적용될 수 있다.Such a process may be carried out in a known manner, except that the formation site of the sealant or the like is a site where the functional layer is removed. For example, as the sealant, an epoxy sealant, a urethane sealant or a phenol sealant can be applied as a known ultraviolet ray or thermosetting sealant.

이러한 실런트를 형성하는 방식은 특별히 제한되지 않으며, 역시 공지의 방식에 따라 수행할 수 있고, 예를 들면, 디스펜싱(dispensing) 또는 스트린 인쇄 등의 방식으로 실런트를 형성할 수 있다. 또한, 실런트는, 상기 제 1 및 제 2 패턴화 적층체 중 어느 하나의 적층체의 기능성층의 제거 부위에 형성될 수도 있고, 양자 모두의 기능성층 제거 부위에 형성될 수 있다.The method of forming such a sealant is not particularly limited and may be performed according to a known method. For example, a sealant may be formed by a method such as dispensing or string printing. Further, the sealant may be formed at the removed portion of the functional layer of any one of the first and second patterned layers, or may be formed at both of the functional layer removed portions.

이와 같은 방식으로 제 1 및 제 2 적층체를 합착한 후에 공지의 실런트 경화 방식, 예를 들면, 열의 인가 및/또는 자외선의 조사 등의 방식으로 실런트를 경화시켜서 광변조 장치를 제조할 수 있다.After the first and second laminated bodies are bonded together in this manner, the optical modulator can be manufactured by curing the sealant by a known sealant curing system, for example, heat application and / or ultraviolet irradiation.

상기 제조 방식에서는 상기 제 1 및 제 2 적층체를 합착하기 전에 광변조층을 형성하는 단계를 수행할 수 있다. 이러한 단계는 예를 들면 상기 합착 전 또는 후에 수행될 수 있다.In the above manufacturing method, a step of forming a light modulating layer may be performed before the first and second laminated bodies are bonded together. This step may be performed, for example, before or after the cementation.

예를 들면, 실런트 형성 전후에 제 1 및/또는 제 2 적층체의 기능성층의 표면에 광변조층을 형성한 후에 합착 공정을 수행하거나, 혹은 합착 공정 후에 실런트의 일부 영역으로부터 광변조층의 재료를 주입하는 공정을 통해 상기 광변조층을 형성할 수 있다.For example, after the optical modulating layer is formed on the surface of the functional layer of the first and / or second laminate before and after the formation of the sealant, the laminating process is performed, or after the laminating process, The light modulating layer can be formed through a process of injecting the light modulating layer.

따라서, 상기 방식은, 제 1 및 제 2 패턴화 적층체를 합착하기 전에 상기 제 1 또는 제 2 패턴화 적층체의 기능성층상에 광변조층을 형성하는 단계를 추가로 포함하거나, 혹은 제 1 및 제 2 패턴화 적층체를 합착한 후에 대향하는 제 1 및 제 2 패턴화 적층체의 기능성층의 사이에 광변조층을 형성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.Thus, the method may further comprise forming a light modulating layer on the functional layer of the first or second patterned laminate prior to bonding the first and second patterned laminates, And forming a light modulation layer between the functional layers of the opposed first and second patterned laminates after the second patterned laminates are bonded together.

상기에서 광변조층으로는 광의 변조, 예를 들면, 광의 투과 또는 차단이나 색의 변환이 가능한 것으로 알려진 공지의 층을 적용할 수 있다. 예를 들면, 상기 광변조층은, 전압, 예를 들면 수직 전계나 수평 전계의 온오프(on-off)에 의하여 확산 모드와 투과 모드 사이에서 스위칭되는 액정층이거나, 투과 모드와 차단 모드 사이에서 스위칭되는 액정층이거나, 투과 모드와 칼라 모드에서 스위칭되는 액정층 또는 서로 다른 색의 칼라 모드 사이를 스위칭하는 액정층일 수 있다.As the optical modulation layer, a known layer known to be capable of modulating light, for example, transmitting or blocking light, or converting color, can be applied. For example, the optical modulation layer may be a liquid crystal layer switched between a diffusion mode and a transmission mode by voltage, for example, on-off of a vertical electric field or a horizontal electric field, or between a transmission mode and a blocking mode A switching liquid crystal layer, a liquid crystal layer switched between a transmissive mode and a color mode, or a liquid crystal layer switching between color modes of different colors.

상기와 같은 작용을 수행할 수 있는 광변조층, 예를 들면, 액정층은 다양하게 공지되어 있다. 하나의 예시적인 광변조층으로는 통상적인 액정 디스플레이에 사용되는 액정층의 사용이 가능하다. 다른 예시에서, 광변조층은 다양한 형태의 고분자 분산형 액정층(Polymer Dispersed Liquid Crystal), 화소 고립형 액정층(Pixcel-isolated Liquid Crystal), 부유 입자 디바이스(Suspended Particle Deivice) 또는 전기변색 디스플레이(Electrochromic device)일 수도 있다. A light modulating layer, for example, a liquid crystal layer, capable of performing the above-described actions is variously known. As one exemplary optical modulation layer, it is possible to use a liquid crystal layer used in a typical liquid crystal display. In another example, the light modulating layer may be formed of various types of Polymer Dispersed Liquid Crystal, a Pixcel-isolated Liquid Crystal, a Suspended Particle Deivice or an Electrochromic Display device.

본 출원에서 고분자 분산형 액정층(PDLC)은 소위 PILC(pixel isolated liquid crystal), PDLC(polymer dispersed liquid crystal), PNLC(Polymer Network Liquid Crystal) 또는 PSLC(Polymer Stablized Liquid Crystal) 등을 포함하는 상위 개념이다.In the present application, the polymer dispersed liquid crystal layer (PDLC) is an upper concept including a pixel isolated liquid crystal (PILC), a polymer dispersed liquid crystal (PDLC), a polymer network liquid crystal (PNLC), or a polymer stabilized liquid crystal to be.

본 출원은 또한 상기와 같은 방식으로 제조된 광변조 장치에 대한 것이다. 상기 광변조 장치는, 예를 들면, 일면에 기능성층이 형성되어 있는 제 1 플라스틱 기판; 일면에 기능성층이 형성되어 있는 제 2 플라스틱 기판; 및 광변조층을 포함할 수 있다.The present application is also directed to an optical modulator made in such a manner. The optical modulator includes, for example, a first plastic substrate having a functional layer formed on one surface thereof; A second plastic substrate having a functional layer formed on one surface thereof; And a light modulating layer.

상기 광변조 자아치에서 상기 제 1 및 제 2 플라스틱 기판은 각각의 기능성층이 서로 마주보도록 대향 배치되어 있을 수 있으며, 이러한 경우에 광변조층은, 상기 제 1 및 제 2 플라스틱 기판의 대향하는 기능성층의 사이에 존재할 수 있다.The first and second plastic substrates in the optical modulator arch may be disposed opposite each other with the functional layers facing each other. In this case, the optical modulator layer may be formed of a material having opposed functionalities of the first and second plastic substrates Lt; / RTI > layer.

상기 제 1 및 제 2 플라스틱 기판은 실런트에 의해 합착되어 있을 수 있는데, 이러한 경우에 실런트가 부착되는 플라스틱 기판의 부위에는 기능성층이 존재하지 않을 수 있다.The first and second plastic substrates may be bonded together by a sealant. In this case, a functional layer may not be present in a portion of the plastic substrate to which the sealant is attached.

상기 광변조 장치에서 플라스틱 기판, 기능성층, 실런트 등의 구체적인 종류는 전술한 바와 같고, 이러한 장치를 형성하는 방식 역시 전술한 바와 같다.The specific types of the plastic substrate, the functional layer, the sealant, and the like in the optical modulator are as described above, and the method of forming such a device is also as described above.

이러한 광변조 장치는, 예를 들면, 스마트 윈도우, 윈도우 보호막, 플렉서블 디스플레 소자, 3D 영상 표시용 액티브 리타더(active retarder) 또는 시야각 조절 필름 등의 다양한 용도에 사용될 수 있다.Such optical modulation devices can be used for various applications such as, for example, a smart window, a window protective film, a flexible display device, an active retarder for 3D image display, or a viewing angle adjusting film.

본 출원에서는 플라스틱 기판이 적용된 구조에서도 합착된 상태에서 접착력이 우수하게 확보되어, 내구 조건에서 실런트의 터짐이나 미세 버블 발생 등의 문제가 없는 광변조 장치를 제공할 수 있다.The present application can provide an optical modulator in which adhesion is ensured in a state in which a plastic substrate is applied even when a plastic substrate is applied and there is no problem such as blowing of sealant and generation of fine bubbles under durability conditions.

도 1은 종래의 광변조 장치의 구조를 모식적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 본 출원의 일 태양에 따른 광변조 장치의 구조를 모식적으로 보여주는 도면이다.
도 3은, 기능성층이 제거되기 전의 적층체의 구조를 모식적으로 보여주는 도면이다.
도 4 및 5는 기능성층이 제거된 적층체의 구조를 모식적으로 보여주는 도면이다.
도 6은 보호 필름을 포함하는 적층체에서 기능성층을 제거하는 과정을 모식적으로 보여주는 도면이다.1 is a diagram schematically showing a structure of a conventional optical modulator.
2 is a diagram schematically showing a structure of an optical modulation apparatus according to an aspect of the present application.
Fig. 3 is a diagram schematically showing the structure of the laminate before the functional layer is removed. Fig.
Figs. 4 and 5 are diagrams schematically showing a structure of a laminated body from which a functional layer has been removed.
6 is a diagram schematically showing a process of removing a functional layer in a laminate including a protective film.

이하 실시예 및 비교예를 통하여 본 출원의 중합성 조성물 등을 구체적으로 설명하지만, 상기 중합성 조성물 등의 범위가 하기 실시예에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the polymerizable composition or the like of the present application will be specifically described by way of examples and comparative examples, but the scope of the polymerizable composition and the like is not limited to the following examples.

실시예Example 1. One.

일면에 ITO(Indium Tin Oxide)층과 액정 배향막이 순차 형성되어 있고, 상기 액정 배향막상에 보호 필름이 부착되어 있으며, 다른 면에는 편광층이 부착되어 있는 PET 필름을 2개 준비하였다. 상기 PET 필름의 보호 필름을 우선 CO2 레이저로 가공하여 도 6에 나타난 바와 같이 기능성층(ITO층 및 액정 배향막)이 제거될 부위에 대응되는 부위만을 선택적으로 제거하였다. CO2 레이저로 가공 시에 출력은 약 30W, 주파수는 약 25kHz, 소스는 약 6㎛로 제어하였다. 이 때 제거되는 보호 필름의 폭은 실런트의 도포 면적을 고려하여 약 100 mm 내지 200 mm 정도로 제어하였다. 상기 공정 후에 IR 레이저 가공을 통해 배선으로 적용될 ITO층의 일부를 제외하고는, ITO층과 액정 배향막을 모두 제거하여 도 5에 나타난 것과 같은 구조로 PET 필름의 표면을 노출시켰다. 상기에서 IR 레이저의 가공 조건은, 파장이 약 1064 nm인 레이저를 적용하여 주파수 약 20 내지 40 kHz, 속도 약 2000 mms 및 헤칭 갭 약 5000 ㎛의 조건으로 하였다. 두 개의 PET 필름의 기능성층을 각각 상기와 같은 방식으로 제거한 후에 기능성층이 제거되어 PET 필름의 표면이 노출된 면에 공지의 에폭시계 실런트를 디스펜싱하여 도포하고, 이어서 PET 필름상에 광변조층을 형성한 액정과 이방성 염료의 혼합물을 도포하였다. 그 후 다른 PET 필름을 상기 실런트가 도포된 PET 필름상에 기능성층이 제거된 부위가 일치하도록 합착한 후에 상기 실런트를 경화시켜서 도 2에 나타난 구조의 광변조 장치를 제조하였다.Two PET films each having an ITO (Indium Tin Oxide) layer and a liquid crystal alignment film sequentially formed on one surface thereof, a protective film adhered on the liquid crystal alignment film and a polarizing layer adhered on the other surface were prepared. The protective film of the PET film was first processed with a CO 2 laser to selectively remove only the portion corresponding to the region where the functional layer (ITO layer and liquid crystal alignment layer) was to be removed as shown in FIG. A CO 2 laser output at the time of processing is approximately 30W, the frequency is about 25kHz, the source was controlled to be about 6㎛. The width of the protective film to be removed at this time was controlled to be about 100 mm to 200 mm in consideration of the application area of the sealant. After the above process, the ITO layer and the liquid crystal alignment film were all removed except for a part of the ITO layer to be applied as wiring through IR laser processing, thereby exposing the surface of the PET film to the structure shown in Fig. The processing conditions of the IR laser were set to a frequency of about 20 to 40 kHz, a velocity of about 2000 mms, and a washer gap of about 5000 mu m by applying a laser having a wavelength of about 1064 nm. After removing the functional layers of the two PET films in the same manner as above, the functional layer was removed, and a known epoxy sealant was applied on the exposed surface of the PET film by dispensing, and then the optically modulated layer And a mixture of anisotropic dyes. Thereafter, another PET film was adhered to the PET film coated with the sealant so that the portions where the functional layer was removed were matched, and then the sealant was cured to manufacture an optical modulator having the structure shown in Fig.

실시예Example 2. 2.

기능성층의 제거 시에 UV 레이저를 적용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 광변조 장치를 제조하였다. 이 경우 UV 레이저의 조사 조건은 파장이 약 355 nm인 레이저를 사용하고, 출력은 약 20 W, 주파수는 약 300 kHz, 선폭은 약 30㎛ 정도로 조절하였다. A light modulating device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a UV laser was applied upon removal of the functional layer. In this case, the irradiation condition of the UV laser was adjusted to a wavelength of about 355 nm, an output of about 20 W, a frequency of about 300 kHz, and a line width of about 30 μm.

비교예Comparative Example 1. One.

기능성층의 제거 공정을 수행하지 않은 것을 제외하면, 실시예 1과 같은 방식으로 도 1과 같은 구조의 광변조 장치를 제조하였다. An optical modulator having the structure as shown in Fig. 1 was fabricated in the same manner as in Example 1, except that the removal process of the functional layer was not performed.

상기 제조된 실시예 1 및 2의 광변조 장치와 비교예 1의 광변조 장치에 대하여 접착력을 평가하였다. The optical modulator of Examples 1 and 2 and the optical modulator of Comparative Example 1 were evaluated for adhesion.

구체적으로는 도 1 또는 2에 나타난 구조에서 두 개의 기판(11, 31) 중에서 어느 하나의 기판(11)을 90도의 박리 각도 및 300mm/min 의 박리 속도로 박리하면서, 박리력을 평가하였다. Specifically, in the structure shown in FIG. 1 or 2, any of the two substrates 11 and 31 was peeled off at a peel angle of 90 degrees and a peel rate of 300 mm / min to evaluate the peel force.

평가 결과 비교예 1의 광변조 장치의 경우, 박리력이 약 100 gf/3mm 이하인 시점에서 ITO층과 액정 배향막의 사이에서 박리가 일어나거나, PET 필름과 ITO층의 박리가 일어났으나, 실시예 1 및 2의 경우, 박리력이 최대 1500 gf/3mm 정도가 되는 시점까지도 박리가 발생하지 않았다. As a result of the evaluation, in the case of the optical modulator of Comparative Example 1, peeling occurred between the ITO layer and the liquid crystal alignment film at the time when the peeling force was about 100 gf / 3 mm or less, or the peeling of the PET film and the ITO layer occurred, 1 and 2, peeling did not occur even when the peeling force reached about 1500 gf / 3 mm at the maximum.

11, 31: 플라스틱 기판
12, 32: 기능성층
20: 광변조층
40: 실런트
50: 가공
60: 보호 필름11, 31: plastic substrate
12, 32: Functional layer
20: light modulating layer
40: Sealant
50: Machining
60: Protective film

Claims (12)

플라스틱 기판과 상기 기판의 전면에 형성되어 있는 기능성층을 포함하는 제 1 적층체에서 상기 플라스틱 기판 전면의 테두리의 기능성층을 제거하여 제 1 패턴화된 적층체를 제조하는 단계;
플라스틱 기판과 상기 기판의 전면에 형성되어 있는 기능성층을 포함하는 제 2 적층체에서 상기 플라스틱 기판 전면의 테두리의 기능성층을 제거하여 제 2 패턴화된 적층체를 제조하는 단계;
상기 제 1 패턴화된 적층체의 기능성층이 제거된 부위에 실런트를 형성하는 단계; 및
상기 실런트가 형성된 제 1 패턴화 적층체와 제 2 패턴화 적층체를 상기 실런트에 의해 합착하되, 상기 실런트가 제 1 및 제 2 패턴화 적층체의 기능성층의 제거 부위끼리를 접착하도록 합착하는 단계를 포함하는 광변조 장치의 제조 방법.Removing a functional layer on a rim of the front surface of the plastic substrate in a first laminate including a plastic substrate and a functional layer formed on a front surface of the substrate to produce a first patterned laminate;
Removing a functional layer on a rim of the front surface of the plastic substrate in a second laminate including a plastic substrate and a functional layer formed on a front surface of the substrate to produce a second patterned laminate;
Forming a sealant on a portion of the first patterned laminate where the functional layer is removed; And
Attaching the first patterned laminate and the second patterned laminate on which the sealant is formed by using the sealant so that the sealant adheres to the removed portions of the functional layers of the first and second patterned layers, Wherein the light modulating device comprises: 제 1 항에 있어서, 기능성층의 제거는 플라스틱 기판의 표면에 노출되도록 수행하는 광변조 장치의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the removal of the functional layer is performed to expose the surface of the plastic substrate. 제 1 항에 있어서, 플라스틱 기판은, 폴리카보네이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 아크릴 필름, 셀룰로오스 고분자 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 고리형 올레핀 고분자(COP) 필름, 폴리벤즈이미다졸 필름, 폴리벤즈옥사졸 필름, 폴리벤즈아졸 필름, 폴리벤즈티아졸 필름 또는 폴리이미드 필름인 광변조 장치의 제조 방법.The plastic substrate according to claim 1, wherein the plastic substrate is selected from the group consisting of a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, a polyethylene terephthalate film, an acrylic film, a cellulose polymer film, a polyethylene film, a polypropylene film, a cyclic olefin polymer (COP) A polybenzoxazole film, a polybenzothiazole film, a polybenzothiazole film, or a polyimide film. 제 1 항에 있어서, 기능성층은, 도전성층, 액정 배향층, 배리어층 또는 하드코팅층인 광변조 장치의 제조 방법.The method of manufacturing a light modulation device according to claim 1, wherein the functional layer is a conductive layer, a liquid crystal alignment layer, a barrier layer, or a hard coating layer. 제 1 항에 있어서, 기능성층의 가공은 레이저 가공 방식으로 수행하는 광변조 장치의 제조 방법.The method of manufacturing a light modulating device according to claim 1, wherein the functional layer is processed by a laser processing method. 제 1 항에 있어서, 제 1 또는 제 2 패턴화된 적층체는, (1) 상기 플라스틱 기판, 상기 플라스틱 기판의 전면에 형성된 상기 기능성층 및 상기 기능성층상에 부착되어 있는 보호 필름을 포함하는 적층 구조에서 상기 기능성층이 제거될 부위에 대응되는 부위의 보호 필름만을 제거하는 단계; 및 (2) 상기 보호 필름이 제거되어 노출되는 기능성층을 제거하는 단계를 포함하는 광변조층의 제조 방법.The multilayer structure according to claim 1, wherein the first or second patterned laminate comprises: (1) a laminated structure including the plastic substrate, the functional layer formed on the front surface of the plastic substrate, and the protective film attached on the functional layer Removing only the protective film corresponding to the site from which the functional layer is to be removed; And (2) removing the functional layer from which the protective film is removed to expose the light-modulating layer. 제 6 항에 있어서, (1) 보호 필름의 제거는 CO2 레이저를 사용하여 수행하는 광변조층의 제조 방법.The method according to claim 6, wherein (1) the removal of the protective film is carried out using a CO 2 laser. 제 6 항에 있어서, (2) 기능성층의 제거는 IR 레이저 또는 UV 레이저를 사용하여 수행하는 광변조층의 제조 방법.The method according to claim 6, wherein (2) the removal of the functional layer is performed using an IR laser or a UV laser. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 패턴화 적층체를 합착하기 전에 상기 제 1 또는 제 2 패턴화 적층체의 기능성층상에 광변조층을 형성하는 단계를 추가로 수행하는 광변조 장치의 제조 방법.The manufacturing method of a light modulation device according to claim 1, further comprising the step of forming a light modulation layer on the functional layer of the first or second patterned laminate before the first and second patterned laminates are bonded together Way. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 패턴화 적층체를 합착한 후에 대향하는 제 1 및 제 2 패턴화 적층체의 기능성층의 사이에 광변조층을 형성하는 단계를 추가로 수행하는 광변조 장치의 제조 방법.The method according to claim 1, further comprising the step of forming a light modulating layer between the functional layers of the first and second patterned layers opposed to each other after the first and second patterned layers are laminated, ≪ / RTI > 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 광변조층은, 액정층, 고분자분산형 액정층, 화소 고립형 액정층, 부유 입자 디바이스 또는 전기변색 디스플레이층인 광변조 장치의 제조 방법.11. The method according to claim 9 or 10, wherein the light modulating layer is a liquid crystal layer, a polymer dispersed liquid crystal layer, a pixel isolated liquid crystal layer, a suspended particle device or an electrochromic display layer. 일면에 기능성층이 형성되어 있는 제 1 플라스틱 기판; 일면에 기능성층이 형성되어 있는 제 2 플라스틱 기판; 광변조층; 및 실런트를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 플라스틱 기판은 각각의 기능성층이 서로 마주보도록 대향 배치되어 있으며, 상기 광변조층은 상기 제 1 및 제 2 플라스틱 기판의 대향하는 기능성층의 사이에 존재하는 광변조 장치로서,
상기 제 1 및 제 2 플라스틱 기판은 상기 실런트에 의해 합착되어 있으며, 상기 실런트가 부착된 플라스틱 기판 부위에는 상기 기능성층이 존재하지 않는 광변조 장치. A first plastic substrate having a functional layer formed on one surface thereof; A second plastic substrate having a functional layer formed on one surface thereof; A light modulating layer; And a sealant, wherein the first and second plastic substrates are opposed to each other with the functional layers facing each other, the optical modulating layer being present between the opposing functional layers of the first and second plastic substrates The optical modulator comprising:
Wherein the first and second plastic substrates are bonded together by the sealant, and the functional layer is not present in the plastic substrate to which the sealant is attached.
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