KR20170098153A - Functional optical film and transparent display apparatus comprising the same - Google Patents
Functional optical film and transparent display apparatus comprising the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170098153A KR20170098153A KR1020160162319A KR20160162319A KR20170098153A KR 20170098153 A KR20170098153 A KR 20170098153A KR 1020160162319 A KR1020160162319 A KR 1020160162319A KR 20160162319 A KR20160162319 A KR 20160162319A KR 20170098153 A KR20170098153 A KR 20170098153A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- optical film
- functional
- functional optical
- group
- layer
- Prior art date
Links
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 92
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 41
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 25
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 12
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 11
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 9
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 5
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 16
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 7
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 4
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 4
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 3
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- HITZGLBEZMKWBW-UHFFFAOYSA-N ac1n8rtr Chemical group C1CC2OC2CC1CC[Si](O1)(O2)O[Si](O3)(C4CCCC4)O[Si](O4)(C5CCCC5)O[Si]1(C1CCCC1)O[Si](O1)(C5CCCC5)O[Si]2(C2CCCC2)O[Si]3(C2CCCC2)O[Si]41C1CCCC1 HITZGLBEZMKWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000010421 pencil drawing Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBHRGAHUHVVXQI-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(N)CC JBHRGAHUHVVXQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNQPPXUXIFLIIY-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropylamino)propyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC UNQPPXUXIFLIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOIBDIRFNRHLLO-UHFFFAOYSA-N 3-[hexan-3-yloxy(dimethoxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound C(CC)C(O[Si](OC)(OC)CCCN)CC IOIBDIRFNRHLLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVEXGJYMHHTVKP-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.2.1]oct-3-en-7-one Chemical compound C1C2C(=O)OC1C=CC2 TVEXGJYMHHTVKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTKACMBVEOKTGC-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(3-trimethoxysilylpropylamino)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCC(O)COC(=O)C=C LTKACMBVEOKTGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFUJUQPEUUTEZ-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(3-tripropoxysilylpropylamino)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCNCC(O)COC(=O)C=C RNFUJUQPEUUTEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- HKWWDSQUZURFQR-UHFFFAOYSA-N bis(4-methylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 HKWWDSQUZURFQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical group C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-O diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SH+]C1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N ethenyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)C=C NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZVJXKUWNRVOUTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N glymidine Chemical compound N1=CC(OCCOC)=CN=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- BKXVGDZNDSIUAI-UHFFFAOYSA-N methoxy(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(OC)C1=CC=CC=C1 BKXVGDZNDSIUAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002683 reaction inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/01—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3472—Five-membered rings
- C08K5/3475—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
Abstract
Description
본 발명은 기능성 광학필름 및 이를 포함하는 투명 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a functional optical film and a transparent display device including the functional optical film.
투명 디스플레이는 디스플레이의 투과도가 높고 화면 뒷면도 보이는 디스플레이이다. 최근에는 평판 디스플레이뿐만 아니라 접고 펼 수 있는 플렉시블(flexible) 디스플레이에도 투명 디스플레이를 적용하고 있다. 투명 디스플레이는 OLED, LCD, TFEL(thin film electroluminescent) 등을 채용할 수 있다.Transparent display is a display with high transparency of the display and also showing the back of the screen. In recent years, transparent displays have been applied not only to flat panel displays, but also to flexible displays that can be folded and unfolded. OLED, LCD, TFEL (thin film electroluminescent), etc. can be adopted as the transparent display.
투명 디스플레이는 외부에 노출되는 광고 등의 분야에서 사용될 수 있다. 유기발광소자는 장기적인 UV 노출에 의해 유기 발광 물질 특히 청색 발광 물질이 손상되어 변색이 일어날 수 있고 수명이 짧아질 수 있다. 기존의 디스플레이에서는 편광판에 UV 흡수제를 포함시켜 UV 흡수 기능을 부여하였다. 그러나, 투명 디스플레이는 편광판을 사용할 수 없다. 따라서, 기존 편광판에서 흡수될 수 있었던 단파장의 자외선들이 유기발광소자에까지 그대로 도달할 수 있다. 또한, 투명 디스플레이는 외광에 대한 시야각 보상 효과를 갖지 못하게 된다.Transparent displays can be used in fields such as advertising that are exposed to the outside. Organic light emitting materials, particularly blue light emitting materials, may be damaged due to long-term UV exposure of organic light emitting devices, resulting in discoloration and shortened lifespan. In conventional displays, the UV absorber was incorporated into the polarizing plate to impart UV absorption. However, a transparent display can not use a polarizing plate. Therefore, ultraviolet rays of a short wavelength that can be absorbed by the existing polarizer can reach the organic light emitting element as they are. In addition, the transparent display does not have a viewing angle compensation effect on the external light.
본 발명의 배경기술은 일본공개특허 제2011-145593호에 개시되어 있다.The background art of the present invention is disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-145593.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 투명 디스플레이에 적용시 편광판 없이도 외광에 대한 시야각 보상 효과가 있는 기능성 광학필름을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a functional optical film having a viewing angle compensation effect against external light without a polarizer when applied to a transparent display.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 파장 400nm 이하의 광에 대한 투과율이 낮아서 유기발광소자의 손상, 변색 또는 수명 단축을 최소화할 수 있는 기능성 광학필름을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a functional optical film having a low transmittance to light having a wavelength of 400 nm or less, thereby minimizing damage, discoloration, or shortening of life of the organic light emitting device.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 파장 400nm 이하의 광을 차단할 수 있고 UV 흡수제의 석출이 없는 기능성 광학필름을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a functional optical film capable of blocking light having a wavelength of 400 nm or less and free from precipitation of a UV absorber.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 본 발명은 투명 디스플레이 장치 특히 투명 유기발광소자 디스플레이 장치에 적용할 수 있는 기능성 광학필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a functional optical film that can be applied to a transparent display device, particularly a transparent organic light emitting device display device.
본 발명의 기능성 광학필름은 기재층, 상기 기재층의 일면 상에 형성된 기능성 코팅층, 및 상기 기재층의 타면 상에 형성된 점착층을 포함하고, 상기 기재층, 상기 기능성 코팅층, 및 상기 점착층 중 적어도 하나 이상은 UV 흡수제를 포함하고, 상기 기재층은 위상차필름을 포함할 수 있다.The functional optical film of the present invention comprises a base layer, a functional coating layer formed on one surface of the base layer, and an adhesive layer formed on the other surface of the base layer, wherein at least one of the base layer, the functional coating layer, At least one of which comprises a UV absorber, and wherein the substrate layer may comprise a retardation film.
본 발명의 투명 디스플레이 장치는 본 발명의 기능성 광학필름을 포함할 수 있다.The transparent display device of the present invention may include the functional optical film of the present invention.
본 발명은 투명 디스플레이에 적용시 편광판 없이도 외광에 대한 시야각을 보상할 수 있는 기능성 광학필름을 제공하였다.The present invention provides a functional optical film that can compensate for a viewing angle with respect to external light without a polarizing plate when applied to a transparent display.
본 발명은 파장 400nm 이하의 광에 대한 투과율이 낮아서 유기발광소자의 손상, 변색 또는 수명 단축을 최소화할 수 있는 기능성 광학필름을 제공하였다.The present invention provides a functional optical film having a low transmittance to light having a wavelength of 400 nm or less, thereby minimizing damage, discoloration, or shortening of life of the organic light emitting device.
본 발명은 파장 400nm 이하의 광을 차단할 수 있고 UV 흡수제의 석출이 없는 기능성 광학필름을 제공하였다.The present invention provides a functional optical film capable of blocking light having a wavelength of 400 nm or less and free from precipitation of a UV absorber.
본 발명은 투명 디스플레이 장치 특히 투명 유기발광소자 디스플레이 장치에 적용할 수 있는 기능성 광학필름을 제공하였다.The present invention provides a functional optical film applicable to a transparent display device, particularly a transparent organic light emitting device display device.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기능성 광학필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기능성 광학필름의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 디스플레이 장치의 일부 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a functional optical film according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a functional optical film according to another embodiment of the present invention.
3 is a partial cross-sectional view of a transparent display device according to an embodiment of the present invention.
첨부한 도면을 참고하여 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.The present invention is not limited to the above embodiments and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the scope of the present invention. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.
본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위" 또는 "직접적으로 형성"으로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 의미한다.The terms "upper" and "lower" in this specification are defined with reference to the drawings, wherein "upper" may be changed to "lower", "lower" What is referred to as "on" may include not only superposition, but also intervening other structures in the middle. On the other hand, what is referred to as "directly on" or " directly above "or" directly formed "
본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.As used herein, "(meth) acrylic" means acrylic and / or methacrylic.
본 명세서에서 "면내 위상차(Re)"는 하기 식 A로 표시될 수 있고, "두께 방향 위상차(Rth)"는 하기 식 B로 표시될 수 있다:In the present specification, "in-plane retardation (Re)" can be expressed by the following formula A, and "thickness direction retardation (Rth)" can be represented by the following formula B:
<식 A><Formula A>
Re = (nx - ny) x dRe = (nx - ny) xd
<식 B><Formula B>
Rth = ((nx + ny)/2 - nz) x dRth = ((nx + ny) / 2 - nz) xd
(상기 식 A와 식 B에서, nx는 측정 파장에서 해당 광학 소자의 x축 방향의 굴절률, ny는 측정 파장에서 해당 광학소자의 y축 방향의 굴절률, nz는 측정 파장에서 해당 광학소자의 z축 방향의 굴절률, d는 해당 광학소자의 두께(단위:nm)) 상기 광학 소자가 기능성 광학필름인 경우, 기능성 광학필름의 x축, y축 및 z축의 방향은 각각 기능성 광학필름 중 기재층의 x축, y축 및 z축 방향과 동일 방향이다.(Where nx is the refractive index in the x-axis direction of the optical element at the measurement wavelength, ny is the refractive index in the y-axis direction of the optical element at the measurement wavelength, nz is the refractive index in the z- (Unit: nm)). When the optical element is a functional optical film, the directions of the x-axis, y-axis and z-axis of the functional optical film are x Axis, the y-axis, and the z-axis direction.
본 명세서에서 "위상차필름"은 파장 550nm에서 Re가 5nm 이상인 필름을 의미하고, "고형분 기준"에서 "고형분"은 조성물 중 용매를 제외한 나머지 전체를 의미한다.As used herein, the term "phase difference film" means a film having a Re of 5 nm or more at a wavelength of 550 nm, and the term "solid content"
이하, 도 1을 참고하여 본 발명의 일 실시예의 기능성 광학필름을 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예의 기능성 광학필름의 단면도이다.Hereinafter, the functional optical film of one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1 is a sectional view of a functional optical film of an embodiment of the present invention.
도 1을 참고하면, 본 실시예에 따른 기능성 광학필름(100)은 기능성 코팅층(120), 기재층(110), 점착층(130)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the functional
기재층(110)은 기능성 광학필름(100)을 지지할 수 있다. The
기재층(110)은 위상차필름을 포함할 수 있다. 따라서, 기능성 광학필름(100)은 소정의 위상차를 가질 수 있다. 또한, 기재층(110)은 기능성 코팅층(120) 또는 점착층(130)과 함께 작용함으로써 기능성 광학필름이 외광에 대한 반사방지 효과 및 시야각 보상 효과가 있을 수 있다. 구체적으로, 기능성 광학필름(100)은 하기 식 1의 면내 위상차의 비가 0.90 내지 1.20, 구체적으로 0.95 내지 1.10이 될 수 있다. 상기 범위에서, 기능성 광학필름은 편광판 없이도 외광에 대한 반사방지 효과와 시야각 보상 효과가 있을 수 있다:The
<식 1><Formula 1>
면내 위상차의 비 = Re(450nm) / Re(550nm)In-plane retardation ratio = Re (450 nm) / Re (550 nm)
(상기 식 1에서, Re(450nm)는 파장 450nm에서 기능성 광학필름의 면내 위상차(단위:nm)이고, Re(550nm)는 파장 550nm에서 기능성 광학필름의 면내 위상차(단위:nm)이다). 기능성 광학필름(100)은 Re(450nm) 및 Re(550nm)가 각각 125nm 내지 160nm, 구체적으로 130nm 내지 155nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 외광에 대한 시야각 보상 효과가 있을 수 있다. 또한, 기능성 광학필름(100)은 파장 450nm 및 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 Rth가 각각 50nm 내지 200nm일 수 있다. 상기 범위에서, 시야각 보상 효과가 있을 수 있다. 따라서, 기능성 광학필름은 시야각 보상용 필름으로 사용될 수 있다.In the above formula 1, Re (450 nm) is the in-plane retardation (unit: nm) of the functional optical film at a wavelength of 450 nm and Re (550 nm) is the in-plane retardation (unit: nm) of the functional optical film at a wavelength of 550 nm. The functional
일 구체예에서, 기재층(110)은 파장 550nm 입사광에 대해 면내 위상차가 240nm 내지 300nm, 구체적으로 250nm 내지 300nm, 더 구체적으로 260nm 내지 280nm인 위상차필름이 될 수 있다. 예를 들면 기재층은 λ/2 위상차필름이 될 수 있다. 다른 구체예에서, 기재층은 파장 550nm 입사광에 대해 면내 위상차가 110nm 내지 160nm, 구체적으로 130nm 내지 150nm인 위상차필름이 될 수 있다. 예를 들면 기재층은 λ/4 위상차필름이 될 수 있다. 바람직하게는 기재층은 λ/2 또는 λ/4 위상차필름이 될 수 있다.In one embodiment, the
기재층(110)은 광학적으로 투명한 소재로 형성될 수 있다. 구체적으로, 기재층은 광학적으로 투명한 기재층 형성용 수지로 형성될 수 있다. 더 구체적으로, 기재층 형성용 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트(PC) 수지, 폴리이미드(PI) 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리에테르술폰(PES) 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 등을 포함하는 폴리(메트)아크릴레이트 수지, 실리콘(silicone) 수지, 시클릭올레핀폴리머(COP) 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. The
기재층(110) 내에는 유리 섬유(glass fiber) 등의 보강재가 더 포함되어 기재층의 강도를 높일 수도 있다. A reinforcing material such as glass fiber may be further included in the
기재층(110)은 두께가 10㎛ 내지 200㎛, 구체적으로 30㎛ 내지 100㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 기능성 광학필름에 사용될 수 있다.The
기능성 코팅층(120)은 기재층(110)의 일면에 형성되어, 기능성 광학필름(100)에 추가적인 기능을 제공할 수 있다. 예를 들면, 기능성 코팅층은 하드코팅 기능을 제공하여 기능성 광학필름의 경도를 높일 수 있다. 기능성 코팅층(120)은 기재층(110)에 직접적으로 형성될 수 있다. 구체적으로, 기능성 코팅층(120)은 하드코팅 기능을 제공함으로써, 기능성 광학필름(100)은 디스플레이 장치의 최 외곽에 위치되는 광학필름 즉 윈도우 필름으로 사용될 수 있다. The
일 구체예에서, 기능성 코팅층(120)은 하나 이상의 가교성 작용기를 갖는 수지를 포함하는 기능성 코팅층용 조성물로 형성될 수 있다. 하나 이상의 가교성 작용기를 갖는 수지는 가교 구조를 이루어 기능성 코팅층의 매트릭스를 형성하고 기능성 광학필름의 연필경도를 높일 수 있다. 구체적으로 기능성 광학필름(100)은 연필경도가 4H 이상 구체적으로 4H 내지 10H가 될 수 있다. 상기 범위에서 투명 디스플레이 장치의 윈도우 필름으로 사용되어 유기발광소자를 외부로부터 보호할 수 있다. 상기 "가교성 작용기"는 열 또는 광 또는 열과 광의 조합에 의해 경화되는 것으로, (메트)아크릴레이트기, 지환식 에폭시기 또는 글리시딜기 등을 포함하는 에폭시기, 비닐기, (메트)아크릴아마이드기 또는 알릴기를 포함할 수 있다.In one embodiment, the
예를 들어, 상기 가교성 작용기를 갖는 수지는 가교성 작용기를 갖는 실록산 수지, 가교성 작용기를 갖는 (메트)아크릴계 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 포함될 수 있다. For example, the resin having a crosslinkable functional group may include at least one of a siloxane resin having a crosslinkable functional group and a (meth) acrylic resin having a crosslinkable functional group. These may be included singly or in combination of two or more.
일 구체예에서, 상기 가교성 작용기를 갖는 실록산 수지는 가교성 작용기를 갖는 알콕시 실란 단독, 또는 가교성 작용기를 갖는 알콕시 실란과 가교성 작용기를 갖지 않는 이종의 알콕시 실란의 혼합물의 가수분해 및 축합 반응을 통해 제조될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 가교성 작용기를 갖는 알콕시 실란은 하기 화학식 1, 상기 가교성 작용기를 갖지 않는 이종의 알콕시 실란은 하기 화학식 2로 표시될 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 포함될 수 있다:In one embodiment, the siloxane resin having a crosslinkable functional group is obtained by hydrolysis and condensation of a mixture of an alkoxysilane having a crosslinkable functional group alone or an alkoxysilane having a crosslinkable functional group and a different alkoxysilane having no crosslinkable functional group But is not limited thereto. The alkoxysilane having a crosslinkable functional group may be represented by the following formula (1), and the alkoxysilane having no crosslinkable functional group may be represented by the following formula (2). These may be included alone or in combination of two or more:
<화학식 1>≪ Formula 1 >
R1 nSi(OR2)4 -n R 1 n Si (OR 2 ) 4 -n
(상기 화학식 1에서, R1은 가교성 작용기를 포함하는 선형 또는 분지형의 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, 상기 가교성 작용기는 (메트)아크릴레이트기, 지환식 에폭시기, 글리시딜기, 비닐기, (메트)아크릴아마이드기 또는 알릴기를 포함하고, R2는 선형 또는 분지형의 탄소수 1 내지 7의 알킬기이고, n은 1 내지 3의 정수이다).(Wherein R 1 is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which includes a crosslinkable functional group and the crosslinkable functional group is a (meth) acrylate group, an alicyclic epoxy group, a glycidyl group, a vinyl group , A (meth) acrylamide group or an allyl group, R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 3).
<화학식 2>(2)
R3 mSi(OR4)4 -m R 3 m Si (OR 4 ) 4 - m
(상기 화학식 2에서, R3는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 사이클로알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 2 내지 20의 알키닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 할로겐, 아미노기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 나이트로기, 술폰기, 알키드기, 카르복시산기, 할로겐을 갖는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 또는 아미노기를 갖는 탄소수1 내지 20의 알킬기이고, R4는 탄소수 1 내지 7의 알킬기이고, m은 0 내지 3의 정수이다).(Wherein R 3 represents an unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen, an amino group, a mercapto group, an ether group, an ester group, a carbonyl group, a carboxyl group, a nitro group, a sulfone group, an alkyd group, R 4 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, and m is an integer of 0 to 3).
상기 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란의 예로는, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리프로폭시실란, 3-아크릴옥시프로필메틸비스(트리메톡시)실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프로폭시실란 등이 있으며 이에 제한되지 않는다.Examples of the alkoxysilane represented by the formula (1) include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxy Silane, vinyltriethoxysilane, vinyltripropoxysilane, N- (3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (3-acryloxy- Propyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- (3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltripropoxysilane, 3-acryloxypropylmethylbis (trimethoxy) (Meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- - (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriopropoxysilane, and the like. No.
상기 화학식 2로 표시되는 알콕시 실란의 예로는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 다이메틸다이메톡시실란, 다이메틸다이에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 다이페닐다이메톡시실란, 다이페닐다이에톡시실란, 트리페닐메톡시실란, 트리페닐에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필에틸트리메톡시실란, N-(아미노에틸-3-아미노프로필)트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸-3-아미노프로필)트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 클로로프로필트리에톡시실란, 헵타데카플루오르데실트리메톡시실란 등이 있으며 이에 제한되지 않는다.Examples of the alkoxysilane represented by the general formula (2) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, dimethyldimethoxysilane, But are not limited to, ethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, triphenylmethoxysilane, triphenylethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propylethyl Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- Aminopropyltriethoxysilane, chloropropyltrimethoxysilane, chloropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and the like, but are not limited thereto.
가수분해 및 축합 반응은 당업자에게 통상적으로 알려져 있다. 구체적으로, 가수분해 및 축합 반응은 가교성 작용기와 알콕시실란기를 갖는 오르가노실란과 소정의 용제를 혼합하여 수행될 수 있는데, 반응 속도를 조절하기 위해 촉매를 더 포함할 수도 있다. 촉매는 염산, 아세트산, 불화수소, 질산, 황산, 클로로술폰산, 요오드산 등의 산 촉매; 암모니아, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화바륨, 이미다졸 등의 염기 촉매; Amberite IRA-400, IRA-67등의 이온 교환 수지 등이 사용될 수 있다. 가수분해 및 축합 반응은 상온에서는 12시간 내지 7일 정도 수행될 수 있고, 반응을 촉진하기 위해서는 60℃ 내지 100℃에서 2시간 내지 72시간 정도 수행될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 가수분해 및 축합 반응시 용제는 특별히 제한되지 않는데, 예를 들면 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 터트-부탄올, 메톡시프로판올 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Hydrolysis and condensation reactions are commonly known to those skilled in the art. Specifically, the hydrolysis and condensation reaction may be carried out by mixing a predetermined solvent with an organosilane having a crosslinkable functional group and an alkoxysilane group, and may further comprise a catalyst for controlling the reaction rate. The catalyst may be an acid catalyst such as hydrochloric acid, acetic acid, hydrogen fluoride, nitric acid, sulfuric acid, chlorosulfonic acid, or iodic acid; Basic catalysts such as ammonia, potassium hydroxide, sodium hydroxide, barium hydroxide and imidazole; Amberite IRA-400, IRA-67, and the like can be used. The hydrolysis and condensation reaction may be carried out at room temperature for about 12 hours to 7 days, and may be carried out at 60 ° C to 100 ° C for about 2 hours to 72 hours to promote the reaction, but the present invention is not limited thereto. In the hydrolysis and condensation reaction, the solvent is not particularly limited. For example, water, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, tert-butanol and methoxypropanol may be used singly or in combination.
다른 구체예에서, 상기 가교성 작용기를 갖는 실록산 수지는 하기 화학식 3로 표시될 수 있다:In another embodiment, the siloxane resin having a crosslinkable functional group may be represented by the following formula (3): < EMI ID =
<화학식 3>(3)
(R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y(R4R5R6SiO1/2)z(SiO4/2)w (R 1 SiO 3/2 ) x (R 2 R 3 SiO 2/2 ) y (R 4 R 5 R 6 SiO 1/2 ) z (SiO 4/2 ) w
(상기 화학식 3에서, R1은 가교성 작용기 또는 가교성 작용기 함유 작용기; (Wherein R 1 is a crosslinkable functional group or a crosslinkable functional group-containing functional group;
R2 및 R3은 각각 독립적으로, 수소, 가교성 작용기, 가교성 작용기 함유 작용기, 비치환 또는 치환된 C1 내지 C20의 알킬기, 또는 비치환 또는 치환된 C5 내지 C20의 시클로알킬기; R4, R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소, 가교성 작용기, 가교성 작용기 함유 작용기, 비치환 또는 치환된 C1 내지 C20의 알킬기, 비치환 또는 치환된 C5 내지 C20의 시클로알킬기, 또는 비치환 또는 치환된 C6 내지 C30의 아릴기; 0<x≤1, 0≤y<1, 0≤z<1, 0≤w<1, x+y+z+w=1)일 수 있다.R 2 and R 3 are each independently hydrogen, a crosslinkable functional group, a crosslinkable functional group-containing functional group, an unsubstituted or substituted C 1 to C 20 alkyl group, or an unsubstituted or substituted C 5 to C 20 cycloalkyl group; R 4 , R 5 and R 6 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, a crosslinkable functional group, a crosslinkable functional group-containing functional group, an unsubstituted or substituted C 1 to C 20 alkyl group, an unsubstituted or substituted C 5 to C 20 cycloalkyl group, A ring or substituted C6 to C30 aryl group; 0 < y < 1, 0 < z <
구체적으로, R1은 에폭시기 또는 에폭시기 함유 작용기, 예를 들면 에폭시화된 C4 내지 C20의 시클로알킬기를 갖는 C1 내지 C20의 알킬기, 글리시독시기를 갖는 C1 내지 C20의 알킬기, 더 구체적으로 에폭시시클로헥실에틸기 또는 글리시독시프로필기일 수 있다. R2 및 R3은 각각 독립적으로 에폭시화된 C4 내지 C20의 시클로알킬기를 갖는 C1 내지 C20의 알킬기, 비치환된 C1 내지 C10의 알킬기, 더 구체적으로 에폭시시클로헥실에틸기 또는 메틸기가 될 수 있다. 이 경우, 기능성 코팅층은 경도가 우수할 뿐만 아니라 유연성이 우수하여 플렉서블 디스플레이 장치에 적용될 수 있다.Specifically, R 1 is an epoxy group or an epoxy group-containing functional group, for example, a C1 to C20 alkyl group having an epoxidized C4 to C20 cycloalkyl group, a C1 to C20 alkyl group having a glycidoxy group, more specifically an epoxycyclohexylethyl group Or a glycidoxypropyl group. R 2 and R 3 may be independently a C1 to C20 alkyl group having an epoxidized C4 to C20 cycloalkyl group or an unsubstituted C1 to C10 alkyl group, more specifically an epoxycyclohexylethyl group or a methyl group. In this case, the functional coating layer is not only excellent in hardness but also excellent in flexibility and can be applied to a flexible display device.
바람직하게는, 상기 가교성 작용기를 갖는 실록산 수지는 지환식 에폭시기를 갖는 실록산 수지일 수 있다.Preferably, the siloxane resin having a crosslinkable functional group may be a siloxane resin having an alicyclic epoxy group.
또 다른 구체예에서, 상기 가교성 작용기를 갖는 실록산 수지는 지환식 에폭시기(예: 에폭시화된 C4 내지 C20의 시클로알킬기를 갖는 C1 내지 C20의 알킬기 또는 글리시독시기를 갖는 C1 내지 C20의 알킬기)를 갖는 폴리실세스퀴옥산 수지, 또는 (메트)아크릴레이트기를 갖는 폴리실세스퀴옥산 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다.In another embodiment, the siloxane resin having a crosslinkable functional group is an alicyclic epoxy group (for example, a C1 to C20 alkyl group having an epoxidized C4 to C20 cycloalkyl group or a C1 to C20 alkyl group having a glycidoxy group) , Or a polysilsesquioxane resin having a (meth) acrylate group.
일 구체예에서, 가교성 작용기를 갖는 (메트)아크릴계 수지는 2관능 내지 10관능의 (메트)아크릴레이트계 수지를 포함할 수 있다. (메트)아크릴레이트계 수지는 당업자에게 알려진 통상의 (메트)아크릴계 단량체를 사용하여 합성하거나 상업적으로 판매되는 상품을 이용할 수 있다.In one embodiment, the (meth) acrylic resin having a crosslinkable functional group may include a bifunctional to a ten-functional (meth) acrylate-based resin. The (meth) acrylate resin may be synthesized using a conventional (meth) acrylic monomer known to those skilled in the art, or may be a commercially available product.
기능성 코팅층용 조성물은 개시제를 더 포함할 수 있다. 개시제는 가교성 작용기를 경화시키는 것으로, 광양이온 개시제, 광라디칼 개시제 중 하나 이상을 사용할 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다. 광양이온 개시제는 당업자에게 통상적으로 알려진 것을 사용할 수 있는데, 구체적으로 양이온과 음이온을 포함하는 오늄염을 사용할 수 있다. 양이온의 구체예로서는 디페닐요오드늄, 4-메톡시디페닐요오드늄, 비스(4-메틸페닐)요오드늄, 비스(4-터트-부틸페닐)요오드늄, 비스(도데실페닐)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 트리페닐술포늄, 디페닐-4-티오페녹시페닐술포늄, (4-터트부틸페닐)디페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄, 비스[4-(디페닐술포니오)페닐]술피드 등을 들 수 있다. 음이온의 구체예로서는 헥사플루오로포스페이트(PF6 -), 테트라플루오로보레이트(BF4 -), 헥사플루오로안티모네이트(SbF6 -), 헥사플루오로아르세네이트(AsF6 -), 헥사클로로안티모네이트(SbCl6 -) 등을 들 수 있다. 광라디칼 개시제는 당업자에게 통상적으로 알려진 것을 사용할 수 있는데, 예를 들면 티오크산톤계, 인계, 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 벤조인계, 옥심계 중 하나 이상을 사용할 수 있다. 개시제는 고형분 기준 가교성 작용기를 갖는 수지 100중량부에 대해 0.1중량부 내지 10중량부, 구체적으로 0.5중량부 내지 5중량부, 보다 구체적으로 1중량부 내지 3중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 적절한 개시 및 경화 속도, 경화율을 나타내어 고경도 효과가 있을 수 있다.The composition for the functional coating layer may further include an initiator. The initiator cures the crosslinkable functional group, and one or more of a photocationic initiator and a photoradical initiator may be used. These initiators may be used alone or in combination of two or more. As the Gwangyang ionic initiator, those known to those skilled in the art can be used. Specifically, an onium salt including a cation and an anion can be used. Specific examples of the cation include a diaryl such as diphenyl iodonium, 4-methoxydiphenyl iodonium, bis (4-methylphenyl) iodonium, bis (4-tert- butylphenyl) iodonium, bis (dodecylphenyl) (4-tert-butylphenyl) diphenylsulfonium, bis [4- (diphenylsulfonyl) diphenylsulfonium, Phenyl] sulfide, and the like. Hexafluoro Specific examples of the anionic phosphate (PF 6 -), tetrafluoroborate (BF 4 -), hexafluoroantimonate (SbF 6 -), hexafluoroantimonate are Senate (AsF 6 -), hexachloro And antimonate (SbCl 6 - ). As the photo radical initiator, those known to those skilled in the art can be used. For example, at least one of thioxanthone, phosphorus, triazine, acetophenone, benzophenone, benzoin and oxime can be used. The initiator may be included in an amount of 0.1 to 10 parts by weight, specifically 0.5 to 5 parts by weight, more specifically 1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin having a crosslinkable functional group based on the solid basis. Within this range, suitable initiation and curing speeds and curing rates may be exhibited, resulting in a high hardness effect.
기능성 코팅층용 조성물은 가교성 모노머를 더 포함할 수 있다.The composition for the functional coating layer may further comprise a crosslinkable monomer.
가교성 모노머는 가교성 작용기를 갖는 수지와 경화되어 기능성 광학필름의 연필경도를 더 높일 수 있다. 가교성 모노머는 (메트)아크릴레이트기, 지환식 에폭시기, 글리시딜기 등의 에폭시기, 옥세탄기 중 하나 이상을 갖는 모노머를 포함할 수 있다. 가교성 모노머는 고형분 기준 가교성 작용기를 갖는 수지 100중량부에 대해 0.1중량부 내지 40중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 기능성 코팅층의 고경도 발현 및 유연성 확보 효과가 있을 수 있다.The crosslinkable monomer may be cured with a resin having a crosslinkable functional group to further increase the pencil hardness of the functional optical film. The crosslinkable monomer may include a monomer having at least one of an epoxy group such as a (meth) acrylate group, an alicyclic epoxy group, and a glycidyl group, and an oxetane group. The crosslinkable monomer may be contained in an amount of 0.1 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin having a crosslinkable functional group based on the solid basis. Within the above range, the functional coating layer may exhibit high hardness and flexibility.
기능성 코팅층용 조성물은 코팅 용이성을 위해 메틸에틸케톤, 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 등의 용매를 더 포함할 수 있다.The composition for the functional coating layer may further include a solvent such as methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether or the like for ease of coating.
기능성 코팅층용 조성물은 당업자들에게 알려진 통상의 첨가제 예를 들면 산화 방지제, 반응 억제제, 접착성 향상제, 요번성 부여제, 도전성 부여제, 색소 조정제, 안정화제, 대전방지제 중 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 대전방지제는 기능성 필름의 표면 저항을 낮추는 것으로, 4급 암모늄 양이온과 음이온을 구비하는 재료를 포함할 수 있다. 음이온으로는 할로겐 이온, HSO4 -, SO4 2-, NO3 -, PO4 3- 등이 될 수 있다. 대전방지제는 4급 암모늄 양이온을 포함할 수도 있으나, 4급 암모늄 양이온을 관능기로서 분자 내에 포함하는 아크릴계 재료를 포함할 수 있다. 첨가제는 가교성 작용기를 갖는 수지 100중량부에 대해 0.01중량부 내지 10중량부로 포함될 수 있다. The composition for the functional coating layer may further include at least one of ordinary additives known to those skilled in the art such as an antioxidant, a reaction inhibitor, an adhesion improver, a co-imparting agent, a conductivity imparting agent, a colorant adjusting agent, a stabilizer, have. For example, the antistatic agent may include a material having a quaternary ammonium cation and an anion to lower the surface resistance of the functional film. The anion may be a halogen ion, HSO 4 - , SO 4 2- , NO 3 - , PO 4 3-, and the like. The antistatic agent may include a quaternary ammonium cation, but may include an acrylic material containing a quaternary ammonium cation as a functional group in the molecule. The additive may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin having a crosslinkable functional group.
기능성 코팅층(120)은 두께가 1㎛ 내지 100㎛, 구체적으로 30㎛ 내지 60㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 기능성 광학필름에 사용될 수 있다.The
점착층(130)은 기재층(110)의 타면에 형성되어, 기능성 광학필름(100)을 디스플레이 소자(도 1에서 도시되지 않음)에 점착시키는 것으로, UV 흡수제를 포함할 수 있다. UV 흡수제를 포함함으로써 파장 400nm 이하의 광을 흡수 및 차단함으로써 본 실시예의 기능성 광학필름이 적용되는 디스플레이 장치의 외광 안정성을 높일 수 있다.The
따라서, 기능성 광학필름(100)은 파장 400nm에서 투과율이 20% 이하, 구체적으로 0.1% 내지 20%가 될 수 있다. 또한, 기능성 광학필름(100)은 파장 390nm 이하, 구체적으로 파장 380nm 내지 390nm, 380nm 또는 390nm에서 투과율이 1% 이하, 구체적으로 0.001% 내지 1%가 될 수 있다. 상기 범위에서 기능성 광학필름의 하부에 형성되는 각종 디스플레이 소자 예를 들면 유기발광소자 등의 외광 안정성을 높일 수 있다. 특히, 기능성 광학필름이 투명 OLED 디스플레이에 사용되는 경우 외광에 의한 청색 발광물질의 손상을 충분히 막을 수 있다.Therefore, the transmittance of the functional
UV 흡수제는 점착층(130) 중 3중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있으며, 예를 들어, 4.0중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 실시예의 기능성 광학필름이 적용되는 디스플레이 장치의 외광 안정성을 높일 수 있고 UV 흡수제가 과량 포함되어 백색의 반점으로 석출되는 것을 막을 수 있다.The UV absorber may be included in the
점착층(130)은 UV 흡수제를 포함하는 감압 점착제(PSA, pressure sensitive adhesive), UV 흡수제를 포함하는 OCA(optical clear adhesive) 등의 점착층용 조성물로 형성될 수 있다. 구체적으로, 점착층(130)은 (메트)아크릴계 점착 수지, 경화제 및 UV 흡수제를 포함하는 점착층용 조성물로 형성될 수 있다.The
(메트)아크릴계 점착 수지는 알킬기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체, 수산기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체, 지환족기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체, 헤테로지환족기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체, 카르복시산기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체 중 하나 이상을 포함하는 단량체 혼합물로 형성될 수 있다.The (meth) acrylic adhesive resin may be a (meth) acrylic monomer having an alkyl group, a (meth) acrylic monomer having a hydroxyl group, a (meth) acrylic monomer having an alicyclic group, a (meth) acrylic monomer having a heterocyclic group, (Meth) acrylate monomer).
알킬기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르를 포함할 수 있다. 수산기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체는 1개 이상의 수산기를 갖는 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르를 포함할 수 있다. 지환족기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체는 탄소수 3 내지 10의 지환족기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르를 포함할 수 있다. 헤테로지환족기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체는 질소, 산소, 또는 황 중 하나 이상을 갖는 탄소수 3 내지 10의 헤테로지환족기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르를 포함할 수 있다. 카르복시산기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체는 (메트)아크릴산 등을 포함할 수 있다. (메트)아크릴계 점착 수지는 고형분 기준 점착층용 조성물 중 65중량% 내지 96중량%로 포함될 수 있고, 예를 들어 80중량% 내지 90중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 적절한 투과도 color 등의 광학특성과 적절한 점착력을 나타내는 효과가 있을 수 있다.The (meth) acrylic monomer having an alkyl group may include an unsubstituted (meth) acrylic acid ester having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. The (meth) acrylic monomer having a hydroxyl group may include a (meth) acrylic acid ester having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one hydroxyl group. The (meth) acrylic monomer having an alicyclic group may include a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic group having 3 to 10 carbon atoms. The (meth) acrylic monomer having a hetero-alicyclic group may include a (meth) acrylic acid ester having a heteroalicyclic group having 3 to 10 carbon atoms having at least one of nitrogen, oxygen, or sulfur. The (meth) acrylic monomer having a carboxylic acid group may include (meth) acrylic acid and the like. The (meth) acrylic adhesive resin may be contained in an amount of 65% by weight to 96% by weight, for example, 80% by weight to 90% by weight in the composition for a pressure-sensitive adhesive layer on a solid basis. It may have an effect of exhibiting optical properties such as transmittance color and appropriate adhesive strength in the above range.
경화제는 이소시아네이트계 경화제, 에폭시계 경화제, 이미드계 경화제, 금속 킬레이트 경화제 중 하나 이상을 포함할 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다. 경화제는 고형분 기준 점착층용 조성물 중 0.1중량% 내지 15중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 점착제의 점착력 및 적절한 모듈러스를 확보할 수 있다.The curing agent may include at least one of an isocyanate-based curing agent, an epoxy-based curing agent, an imide-based curing agent, and a metal chelate curing agent, and these may be used alone or in combination. The curing agent may be contained in an amount of 0.1 to 15% by weight in the composition for a pressure-sensitive adhesive layer on a solid basis. In this range, the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive and an appropriate modulus can be secured.
UV 흡수제는 톨루엔 중 20mg/L 농도에 대해(path 1cm) 파장 380nm의 광에 대한 흡광도가 0.20AU 이상 구체적으로 0.20AU 내지 1.0AU, 0.40AU 내지 1.0AU인 UV 흡수제를 사용할 수 있다. 상기 범위에서 외광 중 파장 380nm 내지 400nm에서의 빛을 충분히 흡수하여 투과율을 낮춤으로써 디스플레이 소자의 외광 안정성을 높일 수 있다. 구체적으로, UV 흡수제는 트리아진계, 트리아졸계, 벤조트리아졸계, 인돌계 등을 사용할 수 있고, 더 구체적으로 상품명 Tinuvin 477(트리아진계), Tinuvin 384(벤조트리아졸계), Tinuvin 326(벤조트리아졸계) 혹은 염료인 BONASORB UA-3912(인돌계) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. '흡광도'는 당업자에게 알려진 통상의 방법으로 측정될 수 있다. UV 흡수제는 단독 또는 2종 이상 혼합하여 포함될 수 있다. UV 흡수제는 점착층용 조성물의 고형분 중 3중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 파장 400nm에서 투과율 20% 이하, 파장 380nm 내지 390nm에서 투과율 1% 이하를 확보하여 외광 안정성을 높일 수 있고 UV 흡수제가 과량 포함되어 백색의 반점으로 석출되는 것을 막을 수 있다.The UV absorber may be a UV absorber having an absorbance of 0.20AU or more, specifically 0.20AU to 1.0AU, 0.40AU to 1.0AU, for light having a wavelength of 380nm for 20mg / L concentration in toluene (path 1cm). In the above-mentioned range, the external light stability of the display device can be enhanced by sufficiently absorbing light at a wavelength of 380 nm to 400 nm in the external light to lower the transmittance. Specific examples of the UV absorber include triazine, triazole, benzotriazole, indole, and the like. More specifically, the UV absorbers may be Tinuvin 477 (triazine), Tinuvin 384 (benzotriazole), Tinuvin 326 (benzotriazole) Or a dye BONASORB UA-3912 (indole system). The ' absorbance ' can be measured by conventional methods known to those skilled in the art. The UV absorbers may be included singly or in combination of two or more. The UV absorber may be contained in an amount of 3% by weight to 20% by weight of the solid content of the composition for a pressure-sensitive adhesive layer. In the above range, the transmittance is not more than 20% at a wavelength of 400 nm and the transmittance is 1% or less at a wavelength of 380 nm to 390 nm, thereby enhancing the stability of external light and preventing the precipitation of a white spot with an excessive amount of UV absorber.
점착층용 조성물은 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다. 실란 커플링제는 점착층의 가교도를 증가시켜 모듈러스 등 물성을 향상시킬 수 있다. 실란 커플링제는 통상의 알려진 실란 커플링제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 실란 커플링제는 3-글리시드옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시드옥시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물; 비닐 트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, (메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물; 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물; 및 3-클로로프로필 트리메톡시실란 중 하나 이상을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 실란 커플링제는 점착층용 조성물 중 고형분 기준 0.1중량% 내지 5중량%, 구체적으로 0.1중량% 내지 1중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 점착제의 적절한 모듈러스를 확보할 수 있다.The composition for a pressure-sensitive adhesive layer may further comprise a silane coupling agent. The silane coupling agent can increase the degree of crosslinking of the adhesive layer and improve physical properties such as modulus. As the silane coupling agent, a commonly known silane coupling agent may be used. For example, the silane coupling agent may have an epoxy structure such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. ; A polymerizable unsaturated group-containing silicon compound such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane; Aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) Amino group-containing silicon compounds such as dimethoxysilane; And 3-chloropropyltrimethoxysilane may be used, but not limited thereto. The silane coupling agent may be contained in the composition for a pressure-sensitive adhesive layer in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, specifically 0.1 wt% to 1 wt% based on the solid content. It is possible to secure an appropriate modulus of the pressure-sensitive adhesive within the above range.
점착층(130)은 두께가 1㎛ 내지 50㎛, 구체적으로 10㎛ 내지 30㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 디스플레이용 필름에 사용될 수 있다. The thickness of the
상술한 UV 흡수제는 점착층(130) 이외에, 기능성 코팅층(120) 또는 기재층(110)에 포함될 수도 있다. 즉, 점착층(130), 기재층(110), 및 기능성 코팅층(120) 중 적어도 어느 하나 이상의 층은 상술한 UV 흡수제를 포함할 수 있다. 이때, UV 흡수제는 기능성 코팅층(120) 중 0.1중량% 내지 5중량%, 예를 들어, 0.1중량% 내지 3중량%로 포함될 수 있다. 기재층(110)에 상기 UV 흡수제가 포함되는 경우 UV 흡수제는 기재층(110) 중 3중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있으며, 예를 들어, 3.0중량% 내지 15중량%, 4중량% 내지 15중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 실시예의 기능성 광학필름이 적용되는 디스플레이 장치의 외광 안정성을 높일 수 있다.Described UV absorber may be included in the
이하, 도 2를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 기능성 광학필름을 설명한다. 도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기능성 광학필름의 단면도이다.Hereinafter, a functional optical film according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2 is a cross-sectional view of a functional optical film according to another embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 기능성 광학필름(200)은 점착층(130)이 기재층(110)과 기능성 코팅층(120) 사이에 형성된 점을 제외하고는 본 발명의 일 실시예에 따른 기능성 광학필름(100)과 실질적으로 동일하다.2, the functional
본 발명의 실시예의 투명 디스플레이 장치는 본 발명의 실시예들의 디스플레이용 필름을 포함할 수 있다. 구체적으로, 투명 디스플레이 장치는 플렉시블 투명 유기발광소자 표시장치 등을 포함하는 투명 유기발광소자 표시장치를 들 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The transparent display device of the embodiment of the present invention may include a film for display of the embodiments of the present invention. Specifically, the transparent display device may be a transparent organic light emitting diode display device including a flexible transparent organic light emitting diode display device, but is not limited thereto.
이하, 도 3을 참고하여 본 발명의 일 실시예의 투명 디스플레이 장치에 대해 설명한다. 도 3은 본 발명의 일 실시예의 투명 디스플레이 장치의 단면도이다.Hereinafter, a transparent display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 3 is a cross-sectional view of a transparent display device according to an embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 투명 유기 발광 표시 장치(300)는 하부 기판(310), 버퍼층(331), 박막 트랜지스터(321,322), 게이트 절연층(332), 층간 절연층(333), 오버 코팅층(334), 반사층(345,346), 애노드(341,342), 뱅크층(335), 유기발광층(350), 캐소드(360), 봉지부(370), 상부 기판(380)을 포함하고, 상부 기판(380)은 본 발명의 실시예들의 기능성 광학필름을 포함할 수 있다. 따라서, 본 실시예의 투명 디스플레이 장치(300)는 편광판 없이도 외광에 대한 시야각을 보상할 수 있고, 유기발광소자의 손상, 변색 또는 수명 단축을 최소화할 수 있다.3, the transparent organic
하부 기판(310)은 투명 디스플레이 장치(300)을 지지하는 것으로 투명한 유리 또는 투명한 유연성을 갖는 재료 예를 들면 실리콘, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트 등으로 형성될 수 있다. 버퍼층(331)은 하부 기판(310) 상에 형성되어, 하부 기판(310)을 통한 외부의 수분 및/또는 불순물의 침투를 방지하며, 투명한 재료로 형성될 수 있고, 생략 가능하다. 박막 트랜지스터(321,322)는 유기 발광 소자를 구동하는 것으로, 각각 버퍼층(331) 상에 형성된 액티브층, 게이트 절연층(332) 상에 형성된 게이트 전극, 층간 절연층(333) 상에 형성된 소스 전극과 드레인 전극을 포함한다. 오버 코팅층(334)은 박막 트랜지스터(321,322) 상에 형성되어, 하부 기판(310)의 평탄화 기능을 수행한다. 반사층(345,346)은 오버 코팅층(334) 상에 형성되어 유기 발광층(350)에서 발광된 빛을 상부로 반사시킴으로써 빛의 효율을 높인다. 오버 코팅층(334) 상에는 애노드(341,342), 유기발광층(350), 캐소드(360)를 포함하는 유기 발광 소자가 형성되어 빛을 발광한다. 캐소드(360) 상에는 유기 발광 소자를 밀봉하는 봉지부(370)가 형성된다. 상부 기판(380)은 봉지부(370) 상에 형성되어 투명 디스플레이 장치(300)를 보호할 수 있다. 도 3에서 도시되지 않았지만, 상부 기판(380) 하부면에는 컬러 필터가 형성되어 각각 유기발광소자로부터 형성된 백색광을 적색, 녹색 또는 청색으로 변환시킬 수 있다. 뱅크층(335)은 발광 영역을 적색, 녹색 또는 청색 발광 영역으로 구획할 수 있다. The
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 하나, 이러한 실시예들은 단지 설명의 목적을 위한 것으로, 본 발명을 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but these examples are for illustrative purposes only and should not be construed as limiting the present invention.
실시예Example 1 One
(메트)아크릴레이트계 수지 CI207(Soken, 고형분 함량 30중량%) 80.2g, 이소시아네이트계 경화제인 TD75(Soken) 0.03g, 이소시아네이트계 경화제인 A50(Soken) 0.1g, 희석제인 메틸에틸케톤(대정화학) 16.0g, UV흡수제인 Tinuvin 477(BASF)(톨루엔 20mg/L 농도에 대해(path 1cm) 파장 380nm에서 흡광도가 0.4AU) 3.8g을 혼합하여 점착층용 조성물을 제조하였다. 제조한 점착층용 조성물을 이형 필름 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름(MRF38, Mitchibishi사)의 일면에 도포하고, 80℃에서 3분 동안 건조시켜 두께 25㎛의 점착층용 도막을 제조하였다.(Soken), which is an isocyanate-based curing agent, 0.1 g of a isocyanate-based curing agent, 0.1 g of methyl ethyl ketone as a diluent (available from Daikin Chemicals Co., Ltd.), 80 g of a (meth) acrylate resin CI207 (Soken, solid content 30% ) And 3.8 g of a UV absorber Tinuvin 477 (BASF) (absorbance at 0.4 AU at a wavelength of 380 nm for 20 mg / L of toluene (path 1 cm)) were mixed to prepare a composition for a pressure-sensitive adhesive layer. The composition for the adhesive layer thus prepared was applied to one side of a release film PET (polyethylene terephthalate) film (MRF38, manufactured by Mitchibishi) and dried at 80 DEG C for 3 minutes to prepare a coating film for a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 mu m.
지환족 에폭시 작용기를 갖는 실세스퀴옥산 수지 함유 용액(Solips사, Epoxy Hybrimer, 고형분 함량 90중량%) 80g, 희석제인 메틸에틸케톤 23g을 혼합하여 기능성 코팅층용 조성물을 제조하였다.80 g of a silsesquioxane resin-containing solution (Solips Co., Epoxy Hybrimer, solid content 90% by weight) having alicyclic epoxy functional groups and 23 g of methyl ethyl ketone as a diluent were mixed to prepare a composition for a functional coating layer.
기재층으로 폴리카보네이트(PC) 필름(RM, Teijin社, 파장 550nm에서 Re는 148nm, UV 흡수제는 포함하지 않음)을 사용하였다. A polycarbonate (PC) film (RM, Teijin Co., wavelength: 550 nm, Re: 148 nm, no UV absorber) was used as the substrate layer.
기재층의 일면에 상기 제조한 기능성 코팅층용 조성물을 도포하고, 100℃에서 30분 동안 건조시키고, 1000mJ/cm2의 자외선에 노광하여, 두께 50㎛의 코팅층을 형성하고, 80℃ 오븐에서 24시간 동안 유지하였다. 기재층의 다른 일면에 상기 제조한 점착층용 도막을 합지하고 이형 필름을 제거한 후 30℃ 및 75% 상대습도의 항온 항습에서 48시간 동안 방치하여 기능성 필름을 제조하였다.Coating the above-prepared composition for a functional coating layer on one surface of the substrate layer and dried at 100 ℃ for 30 minutes, and then exposed to UV light of 1000mJ / cm 2, 24 hours at 80 ℃ oven, to form a coating layer having a thickness of 50㎛ Respectively. The obtained coating film for a pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the other surface of the substrate layer, and the release film was removed. The film was then left standing for 48 hours at 30 ° C and 75% relative humidity and constant humidity to produce a functional film.
실시예Example 2 2
실시예 1에서, 기재층으로 COP(시클릭올레핀폴리머) 필름(ZM16-138, Zeon사, 파장 550nm에서 Re는 138nm, UV 흡수제는 포함하지 않음)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기능성 광학필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 1 except that a COP (cyclic olefin polymer) film (ZM16-138, Zeon Co., Ltd., having 138 nm of Re at 550 nm and no UV absorber) was used as the substrate layer, .
실시예Example 3 3
실시예 1에서, 기재층으로 PC필름(WRS-148, TEIJIN사, 파장 550nm에서 Re는 135nm, UV 흡수제는 포함하지 않음)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기능성 광학필름을 제조하였다.A functional optical film was prepared in the same manner as in Example 1, except that a PC film (WRS-148, manufactured by TEIJIN Co., Ltd., wavelength: 550 nm; Re: 135 nm;
실시예Example 4 4
(메트)아크릴레이트계 수지 CI207(Soken, 고형분 함량 30중량%) 100g, 이소시아네이트계 경화제인 TD75(Soken) 0.02g, 이소시아네이트계 경화제인 A50(Soken) 0.125g, 희석제인 메틸에틸케톤(대정화학) 20g, UV흡수제인 Tinuvin 384(Basf)(톨루엔 20mg/L 농도에 대해(path 1cm) 파장 380nm에서 흡광도가 0.2AU) 2.4g, UV영역을 흡수하는 인돌계 염료 BONASORB UA-3912(오리엔트 케미컬)(톨루엔 20mg/L 농도에 대해(path 1cm) 파장 380nm에서 흡광도가 0.4AU) 2.4g을 혼합하여 점착층용 조성물을 제조하였다. 제조한 점착층용 조성물을 이형 필름 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름(MRF38, Mitchibishi사)의 일면에 도포하고, 80℃에서 3분 동안 건조시켜 두께 25㎛의 점착층용 도막을 제조하였다.(Soken), which is an isocyanate-based curing agent, 0.125 g of an isocyanate-based curing agent, methyl ethyl ketone (DAE JEON CHEMICAL) as a diluent, 100 g of a (meth) acrylate resin CI207 (Soken, solid content 30% (UV absorbent, Tinuvin 384 (Basf) (absorbance 0.2 AU at a wavelength of 380 nm for 20 mg / L toluene concentration (path 1 cm)), And 2.4 g of an indole-based dye BONASORB UA-3912 (Orient Chemical) absorbing the UV region (absorption of 0.4 AU at a wavelength of 380 nm for 20 mg / L of toluene concentration (path 1 cm)) were mixed to prepare a composition for a pressure-sensitive adhesive layer. The composition for the adhesive layer thus prepared was applied to one side of a release film PET (polyethylene terephthalate) film (MRF38, manufactured by Mitchibishi) and dried at 80 DEG C for 3 minutes to prepare a coating film for a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 mu m.
지환족 에폭시 작용기를 갖는 실세스퀴옥산 수지(Solips사, Epoxy Hybrimer, 고형분 함량 90중량%) 80g, 희석제인 메틸에틸케톤 23g을 혼합하여 기능성 코팅층용 조성물을 제조하였다.80 g of a silsesquioxane resin having an alicyclic epoxy functional group (Solips, Epoxy Hybrimer, solid content 90% by weight) and 23 g of methyl ethyl ketone as a diluent were mixed to prepare a composition for a functional coating layer.
기재층으로 폴리카보네이트(PC) 필름(RM, Teijin社, 파장 550nm에서 Re는 148nm, UV 흡수제는 포함하지 않음)의 일면에 상기 제조한 기능성 코팅층용 조성물을 도포하고, 100℃에서 30분 동안 건조시키고, 1000mJ/cm2의 자외선에 노광하여, 두께 50㎛의 코팅층을 형성하고, 80℃ 오븐에서 24시간 동안 유지하였다. 기재층의 다른 일면에 상기 제조한 점착층용 도막을 합지하고 이형 필름을 제거한 후 30℃ 및 75% 상대습도의 항온 항습에서 48시간 동안 방치하여 기능성 필름을 제조하였다.The composition for the functional coating layer prepared above was coated on one side of a polycarbonate (PC) film (RM, Teijin Co., wavelength: 550 nm, Re: 148 nm at a wavelength of 550 nm and no UV absorber) as a substrate layer and dried at 100 ° C for 30 minutes And exposed to ultraviolet rays of 1000 mJ / cm 2 to form a coating layer having a thickness of 50 탆 and held in an oven at 80 캜 for 24 hours. The obtained coating film for a pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the other surface of the substrate layer, and the release film was removed. The film was then left standing for 48 hours at 30 ° C and 75% relative humidity and constant humidity to produce a functional film.
실시예Example 5 5
실시예 4에서, UV 흡수제 대신 UV영역을 흡수하는 인돌계 염료 BONASORB UA-3912 4.8g, Tinuvin 384 2.4g을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기능성 광학필름을 제조하였다.In Example 4, 4.8 g of the indole-based dye BONASORB UA-3912, which absorbs the UV region in place of the UV absorber, A functional optical film was prepared in the same manner except that 2.4 g of Tinuvin 384 was used.
실시예Example 6 6
(메트)아크릴계 수지 UP111(Entis) 31g, PGME(프로필렌글리콜 메틸 에테르, 삼전화학)36g, MEK(메틸에틸케톤, 삼전화학) 24g을 넣은 후 완전히 용해시킨다. Irgacure 184(BASF) 1.25g을 더 넣은 후 5분간 교반하였다. 대전방지제 TBAS-2(ARAKAWA) 9.4g을 더 넣은 후 20분간 교반하여 기능성 코팅층용 조성물을 제조하였다.31 g of a (meth) acrylic resin UP111 (Entis), 36 g of PGME (propylene glycol methyl ether, Samseong Chemical) and 24 g of MEK (methyl ethyl ketone, Samcheon Chemical Co., Ltd.). 1.25 g of Irgacure 184 (BASF) was further added thereto, followed by stirring for 5 minutes. 9.4 g of antistatic agent TBAS-2 (ARAKAWA) was further added thereto, followed by stirring for 20 minutes to prepare a composition for a functional coating layer.
실시예 4에서 기능성 코팅층용 조성물로 상기 제조한 기능성 코팅층용 조성물을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기능성 광학필름을 제조하였다.A functional optical film was prepared in the same manner as in Example 4, except that the composition for the functional coating layer was used as the composition for the functional coating layer.
실시예Example 7 7
(메트)아크릴계 수지 CN120C80(Sartomer) 31g, PGME(삼전화학)36g, MEK(삼전화학) 24g을 넣은 후 완전히 용해시켰다. Irgacure 184(BASF) 1.25g을 더 넣은 후 5분간 더 교반하였다. 대전방지제 TBAS-2(ARAKAWA) 9.4g을 더 넣은 후 20분간 교반하여 기능성 코팅층용 조성물을 제조하였다.31 g of a (meth) acryl-based resin CN120C80 (Sartomer), 36 g of PGME (Samseon Chemical) and 24 g of MEK (Samseon Chemical) were added and dissolved completely. 1.25 g of Irgacure 184 (BASF) was further added thereto, followed by further stirring for 5 minutes. 9.4 g of antistatic agent TBAS-2 (ARAKAWA) was further added thereto, followed by stirring for 20 minutes to prepare a composition for a functional coating layer.
실시예 5에서 기능성 코팅층용 조성물로 상기 제조한 기능성 코팅층용 조성물을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기능성 광학필름을 제조하였다.A functional optical film was prepared in the same manner as in Example 5 except that the composition for the functional coating layer was used as the composition for the functional coating layer.
비교예Comparative Example 1 One
(메트)아크릴레이트계 수지 CI207(Soken, 고형분 함량 30중량%) 80.2g, 이소시아네이트계 경화제인 TD75(Soken) 0.03g, 이소시아네이트계 경화제인 A50(Soken) 0.1g, 희석제인 메틸에틸케톤(대정화학) 16.0g을 혼합하여 점착층용 조성물을 제조하였다. 제조한 점착층용 조성물을 사용하고, 기재층으로 UV 흡수제 Tinuvin 384 8중량%를 포함하는 PET 필름을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기능성 광학필름을 제조하였다.(Soken), which is an isocyanate-based curing agent, 0.1 g of a isocyanate-based curing agent, 0.1 g of methyl ethyl ketone as a diluent (available from Daikin Chemicals Co., Ltd.), 80 g of a (meth) acrylate resin CI207 (Soken, solid content 30% ) Were mixed to prepare a composition for a pressure-sensitive adhesive layer. A functional optical film was prepared in the same manner except that the composition for a pressure-sensitive adhesive layer was used and a PET film containing 8 wt% of a UV absorber Tinuvin 384 was used as a substrate layer.
비교예Comparative Example 2 2
실시예 1에서, 기재층으로 PET필름(Teijin-Dupon사, KEL86W)을 사용하고, 점착층용 조성물 중 Tinuvin 477 대신 Tinuvin 326(BASF)(톨루엔 20mg/L 농도에 대해(path 1cm) 파장 380nm에서 흡광도가 0.35AU)을 하기 표 1의 함량으로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기능성 광학필름을 제조하였다.(Tinuvin 326 (BASF) (toluene 20 mg / L concentration (path 1 cm) in place of Tinuvin 477 in the composition for a pressure-sensitive adhesive layer) was used as the substrate layer in Example 1, Of 0.35 AU) was used in the contents in the following Table 1, a functional optical film was produced in the same manner.
실시예와 비교예의 기능성 광학필름의 구성을 하기 표 1에 나타내고, 하기 물성을 측정하고 하기 표 1에 나타내었다.The structures of the functional optical films of Examples and Comparative Examples are shown in Table 1 below, and the following physical properties were measured and shown in Table 1 below.
(1)파장 380nm, 390nm, 400nm에서 투과율: 기능성 광학필름에 대해 파장 300nm 내지 800nm 파장에서 파장별 투과율을 Lambda 1050 UV spectRemeter(Perkin Elmer사)를 사용하여 측정하였다.(1) Transmittance at wavelengths of 380 nm, 390 nm, and 400 nm: The transmittance of the functional optical film at wavelengths of 300 nm to 800 nm was measured using a Lambda 1050 UV spectrometer (Perkin Elmer).
(2)기능성 광학필름의 파장 550nm, 450nm에서의 위상차(Re): Axoscan(Axometric社)을 이용하여 파장 550nm, 450nm에서 각각 기능성 광학필름의 Re인 Re(550nm), Re(450nm)를 측정하였다.(2) Reversible Re (550 nm) and Re (450 nm) of functional optical films were measured at wavelengths of 550 nm and 450 nm using Axoscan (Axometric) at 550 nm and 450 nm, respectively, .
(3)기능성 광학필름의 면내 위상차의 비(Re(450nm)/Re(550nm)): (2)의 Re(450nm), Re(550nm)을 이용하여, 상기 식 1에 따라 계산하였다.(Re (450 nm) / Re (550 nm)) of Re (450 nm) and Re (550 nm) of (2) were calculated according to the above formula (1).
(4)연필경도: 기능성 광학필름에 대해 측정하였다. 기능성 광학필름 중 기능성 코팅층에 대하여, 연필 경도계(Heidon)를 사용하여 JIS K5400 방법에 의해 측정하였다. 연필은 Mitsubishi 사의 6B 내지 9H의 연필을 사용하였고, 코팅층에 대한 연필의 하중은 1kg, 연필을 긋는 각도 45°, 연필을 긋는 속도 60mm/min로 하였고, 5회 평가하여 1회 이상 스크래치가 발생하면 연필 경도 아래 단계의 연필을 이용하여 측정하였다. 5회 평가시 5회 모두 스크래치가 없으면 해당 경도를 연필경도로 결정하였다.(4) Pencil hardness: Measured with respect to the functional optical film. The functional coating layer in the functional optical film was measured by a JIS K5400 method using a pencil hardness meter (Heidon). The pencil was a pencil of 6B to 9H manufactured by Mitsubishi Co., and a pencil load of 1 kg, a pencil drawing angle of 45 °, and a pencil drawing speed of 60 mm / min were applied to the coating layer. Pencil Hardness The pencil hardness was measured using the pencil below. When scratches were not found in all five times in the evaluation of 5 times, the hardness was determined by pencil hardness.
(5)보관안정성: 기능성 광학필름을 25℃, 상대습도 50%RH 조건에서 1000시간 동안 보관하고, 점착층 또는 기재층에서 백색 반점으로 석출이 일어나는 경우 X, 석출이 일어나지 않는 경우 ○로 평가하였다. 석출은 UV 흡수제에 의해 일어난다.(5) Storage stability: When the functional optical film was kept at 25 DEG C and 50% RH for 1000 hours and precipitation was observed at the white spots in the adhesive layer or the base layer, X was evaluated as " . Precipitation is caused by UV absorbers.
포함층UV absorber
Inclusion floor
477Tinuvin
477
477Tinuvin
477
UA-3912BONASORB
UA-3912
UA-3912BONASORB
UA-3912
＠ 550nm(nm)(Re(550nm))Re of functional optical film
@ 550 nm (nm) (Re (550 nm))
＠ 450nm(nm) (Re(450nm))Re of functional optical film
@ 450 nm (nm) (Re (450 nm))
상기 표 1 에서 나타난 바와 같이, 본 발명의 기능성 광학필름은 파장 400nm, 390nm, 380nm의 광에 대한 투과율을 현저하게 낮추어 디스플레이 소자의 외광 안정성을 확보하게 할 수 있다. 또한, 본 발명의 기능성 광학필름은 면내 위상차의 비 0.90 내지 1.20을 확보함으로써, 편광판 없이도 외광에 대한 시야각 보상 효과를 구현할 수 있다.As shown in Table 1, the functional optical film of the present invention can significantly reduce the transmittance of light with wavelengths of 400 nm, 390 nm, and 380 nm, thereby securing external light stability of the display device. Further, by securing the in-plane retardation ratio of 0.90 to 1.20 in the functional optical film of the present invention, it is possible to realize the viewing angle compensation effect on the external light without the polarizer.
반면에, 기재층이 위상차필름이 아닌 비교예 1과 비교예 2는 면내 위상차의 비가 0.90 내지 1.20의 수준을 벗어나 디스플레이의 선명도가 떨어지는 문제점이 있었다.On the other hand, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 in which the base layer is not a retardation film have a problem that the in-plane retardation ratio is out of the range of 0.90 to 1.20 and the sharpness of the display is deteriorated.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
Claims (13)
상기 기재층, 상기 기능성 코팅층, 및 상기 점착층 중 적어도 하나 이상은 UV 흡수제를 포함하고,
상기 기재층은 위상차필름을 포함하는 것인, 기능성 광학필름.
A functional coating layer formed on one surface of the substrate layer; and an adhesive layer formed on the other surface of the substrate layer,
Wherein at least one of the substrate layer, the functional coating layer, and the adhesive layer comprises a UV absorber,
Wherein the base layer comprises a retardation film.
<식 1>
면내 위상차의 비 = Re(450nm) / Re(550nm)
(상기 식 1에서, Re(450nm)는 파장 450nm에서 기능성 광학필름의 면내 위상차(단위:nm)이고, Re(550nm)는 파장 550nm에서 기능성 광학필름의 면내 위상차(단위:nm)이다).
The functional optical film according to claim 1, wherein the functional optical film has a ratio of in-plane retardation of 0.90 to 1.20,
<Formula 1>
In-plane retardation ratio = Re (450 nm) / Re (550 nm)
In the above formula 1, Re (450 nm) is the in-plane retardation (unit: nm) of the functional optical film at a wavelength of 450 nm and Re (550 nm) is the in-plane retardation (unit: nm) of the functional optical film at a wavelength of 550 nm.
The functional optical film according to claim 1, wherein the functional optical film has an in-plane retardation Re of 125 nm to 160 nm at a wavelength of 550 nm.
The functional optical film according to claim 1, wherein the functional optical film has a transmittance of 1% or less at a wavelength of 390 nm or less.
The functional optical film according to claim 1, wherein at least one of the adhesive layer and the substrate layer contains the UV absorber in an amount of 3% by weight to 20% by weight based on each layer.
The functional optical film according to claim 1, wherein the UV absorber has an absorbance at a wavelength of 380 nm of 0.2 AU or more for a concentration of 20 mg / L in toluene.
The functional optical film according to claim 1, wherein the UV absorber comprises at least one of benzotriazole, triazine, and indole.
The functional optical film according to claim 1, wherein the functional coating layer is formed of a composition comprising at least one of a siloxane resin having a crosslinkable functional group and a (meth) acrylic resin having a crosslinkable functional group.
The functional optical film according to claim 8, wherein the siloxane resin having a crosslinkable functional group comprises a siloxane resin having an alicyclic epoxy group.
The functional optical film according to claim 1, wherein the base layer comprises a? / 2 phase difference film or a? / 4 phase difference film.
The functional optical film according to claim 1, wherein the functional optical film has a pencil hardness of 4H or more.
상기 기재층, 상기 점착층, 상기 기능성 코팅층 중 적어도 하나 이상은 UV 흡수제를 포함하고,
상기 기재층은 위상차필름을 포함하는 것인, 기능성 광학필름.
And a functional coating layer formed on the pressure-sensitive adhesive layer,
Wherein at least one of the substrate layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the functional coating layer comprises a UV absorber,
Wherein the base layer comprises a retardation film.
A transparent display device comprising the functional optical film according to any one of claims 1 to 12.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/KR2016/015183 WO2017142184A1 (en) | 2016-02-19 | 2016-12-23 | Functional optical film and transparent display device comprising same |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020160019938 | 2016-02-19 | ||
| KR20160019938 | 2016-02-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170098153A true KR20170098153A (en) | 2017-08-29 |
| KR102027567B1 KR102027567B1 (en) | 2019-10-01 |
Family
ID=59759965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020160162319A KR102027567B1 (en) | 2016-02-19 | 2016-11-30 | Functional optical film and transparent display apparatus comprising the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102027567B1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190048828A (en) * | 2017-10-31 | 2019-05-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic light emitting diodes display |
| KR20200006442A (en) * | 2018-07-10 | 2020-01-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | Protective film for optical display apparatus, optical member comprising the same and optical display apparatus comprising the same |
| WO2020197112A1 (en) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 주식회사 엘지화학 | Transparent light-emitting device display |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008083307A (en) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Konica Minolta Opto Inc | Polarizing plate, manufacturing method of polarizing plate, and liquid crystal display device |
| JP2009006513A (en) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Nof Corp | Hard coat film having ultraviolet absorptivity |
| JP2010065109A (en) * | 2008-09-10 | 2010-03-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | Thermoplastic resin composition and film using the same |
| JP2012108465A (en) * | 2010-05-28 | 2012-06-07 | Fujifilm Corp | Three-dimensional image printing photographic paper, three-dimensional image printing object, three-dimensional image printing object manufacturing method and three-dimensional image provision method |
| WO2014175136A1 (en) * | 2013-04-23 | 2014-10-30 | コニカミノルタ株式会社 | Optical film, circularly polarizing plate and organic electroluminescent display device |
-
2016
- 2016-11-30 KR KR1020160162319A patent/KR102027567B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008083307A (en) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Konica Minolta Opto Inc | Polarizing plate, manufacturing method of polarizing plate, and liquid crystal display device |
| JP2009006513A (en) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Nof Corp | Hard coat film having ultraviolet absorptivity |
| JP2010065109A (en) * | 2008-09-10 | 2010-03-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | Thermoplastic resin composition and film using the same |
| JP2012108465A (en) * | 2010-05-28 | 2012-06-07 | Fujifilm Corp | Three-dimensional image printing photographic paper, three-dimensional image printing object, three-dimensional image printing object manufacturing method and three-dimensional image provision method |
| WO2014175136A1 (en) * | 2013-04-23 | 2014-10-30 | コニカミノルタ株式会社 | Optical film, circularly polarizing plate and organic electroluminescent display device |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190048828A (en) * | 2017-10-31 | 2019-05-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic light emitting diodes display |
| KR20200006442A (en) * | 2018-07-10 | 2020-01-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | Protective film for optical display apparatus, optical member comprising the same and optical display apparatus comprising the same |
| WO2020197112A1 (en) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 주식회사 엘지화학 | Transparent light-emitting device display |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102027567B1 (en) | 2019-10-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10816710B2 (en) | Polarizing plate for light emitting display device and light emitting display device including same | |
| KR101942144B1 (en) | Window film for display and display apparatus comprising the same | |
| JP6908359B2 (en) | Window film and flexible display device including it | |
| KR101845081B1 (en) | Composition for window film, flexible window film prepared using the same and flexible display apparatus comprising the same | |
| US10508218B2 (en) | Window film and display including the same | |
| KR102008185B1 (en) | Polarizing plate for light emitting display apparatus and light emitting display apparatus comprising the same | |
| US11041057B2 (en) | Window film, manufacturing method thereof, and display device including same | |
| KR101780540B1 (en) | Polarizing plate and optical display apparatus comprising the same | |
| US20190023860A1 (en) | Composition for window film, flexible window film formed therefrom, and display device comprising same | |
| KR101802581B1 (en) | Composition for window film, flexible window film prepared using the same and flexible display apparatus comprising the same | |
| US10563092B2 (en) | Composition for window film, flexible window film formed therefrom, and flexible display device comprising same | |
| KR101905245B1 (en) | Window film and flexible display apparatus comprising the same | |
| JP2018500594A (en) | Composition for window film, flexible window film formed therefrom, and flexible display device including the same | |
| KR102027567B1 (en) | Functional optical film and transparent display apparatus comprising the same | |
| KR20160077563A (en) | Composition for window film, flexible window film prepared using the same and flexible display apparatus comprising the same | |
| KR101948965B1 (en) | Window film for display apparatus and flexible display apparatus comprising the same | |
| KR20170026076A (en) | Window film and display apparatus comprising the same | |
| US11726244B2 (en) | Polarizing plate for light emitting displays and light emitting display comprising the same | |
| US11174340B2 (en) | Window film composition, flexible window film formed therefrom and flexible display device containing same | |
| WO2017142184A1 (en) | Functional optical film and transparent display device comprising same | |
| KR102084120B1 (en) | Window film and display apparatus comprising the same | |
| KR101942152B1 (en) | Conductive window film and display apparatus comprising the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |