KR20170069196A

KR20170069196A - 편광판 및 그 제조 방법, 매체

Info

Publication number: KR20170069196A
Application number: KR1020177006113A
Authority: KR
Inventors: 야스오 스토
Original assignee: 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
Priority date: 2014-10-15
Filing date: 2015-10-14
Publication date: 2017-06-20
Also published as: TW201621362A; EP3208641A1; EP3208641A4; JPWO2016060170A1; CN106796320A; WO2016060170A1; US20170315281A1

Abstract

편광판의 면내에 설치된 영역마다 다른 편광성분을 투과시킬 수 있는 편광판을 제공한다.
본 발명에 의하면, 투명기재와, 그 위에 형성되는 동시에 요철 패턴을 가지는 투명수지층과, 상기 투명수지층 상에 형성된 편광층을 구비하고, 상기 투명수지층은 상기 요철 패턴이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 요철영역을 가지는 편광판이 제공된다.

Description

편광판 및 그 제조 방법, 매체{Polarizing plate, method for manufacturing same, and medium}

본 발명은 편광판 및 그 제조 방법 및 편광판을 이용한 홀로그램 기능을 가지는 매체에 관한　것이다.

특허문헌 1에는, 수지기재 상의 수지피막에 주기가 아주 짧은 요철 패턴을 형성하고 그 위에 금속막을 증착함으로써 와이어 그리드 편광판을 제조하는 기술이 공개되어 있다.

일본등록특허 제4824068호 공보

특허문헌 1에서는 요철 패턴이 동일면 내에서 일정한 방향으로 연장되도록 형성되어 있기 때문에, 특허문헌 1의 편광판을 투과하는 편광성분은 편광판의 전면에서 같게 된다. 그러나, 편광판의 면내에 설치된 영역마다 다른 편광성분을 투과시킬 수 있으면, 편광판이 종래보다도 폭넓은 용도로 이용 가능해진다.

본 발명은 이러한 사정에 비추어 진행된 것이며, 편광판의 면내에 설치된 영역마다 다른 편광성분을 투과시킬 수 있는 편광판을 제공하는 것이다.

본 발명에 의하면, 투명기재와, 그 위에 형성되는 동시에 요철 패턴을 가지는 투명수지층과, 상기 투명수지층 상에 형성된 편광층을 구비하고, 상기 투명수지층은, 상기 요철 패턴이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 요철영역을 가지는, 편광판이 제공된다.

본 발명의 편광판은 요철 패턴이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 요철영역을 가지기 때문에 편광판의 면내에 설치된 영역마다 다른 편광성분을 투과시킬 수 있다.

이하, 본 발명의 여러가지 실시 형태를 예시한다. 이하에 나타내는 실시 형태는 서로 조합　가능하다.

바람직하게는, 상기　복수의 요철영역은 서로 다른 높이 위치에 설치된다.

바람직하게는, 상기　요철 패턴은 라인 앤드 스페이스(Line and space)형상이다.

바람직하게는, 상기 편광층은 도전성의 금속 또는 금속산화물로 이루어진다.

바람직하게는, 상기 투명수지층은 광경화성 수지조성물을 경화시켜 형성된다.

본 발명의 다른 관점에 의하면, 상기 기재의 편광판을 이용한 홀로그램 기능을 가지는 매체가 제공된다.

본 발명의 또　다른 관점에 의하면, 투명기재 상에 광경화성 수지조성물을 도포하여 피전사 수지층을 형성하고, 상기 피전사 수지층에 대하여, 상기 피전사 수지층에 전사하는 요철 패턴의 반전 패턴을 가지는 몰드를 가압한 상태에서 상기 피전사 수지층에 활성 에너지 선을 조사하여 상기 피전사 수지층을 경화시켜 투명수지층을 형성하고, 상기 투명수지층 상에 도전성의 금속 또는 금속산화물로 이루어지는 편광층을 형성하는 공정을 구비하고, 상기 몰드는 상기 반전 패턴이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 반전 패턴 영역을 가지는, 편광판의 제조 방법이 제공된다.

바람직하게는, 상기 복수의 반전 패턴 영역은 서로 다른 높이 위치에 설치된다.

바람직하게는, 상기 몰드는 수지제 몰드다.

도1은 본 발명의 일 실시 형태의 편광판(1)의 사시도다.
도2의 (a)~(c)는, 도1 중의 I－I 단면에 대응하는 도면이며, 투명수지층(7) 상에 편광층(9)이 형성되어 있는 상태를 나타낸다.
도3의 (a)~(c)는 편광판(1)의 제조 공정을 나타내는 도1 중의 II-II 단면에 대응하는 단면도다. 다만, 도시의 편의상, 요철 패턴(5) 및 반전 패턴(15)의 형상은 모식적으로 표시하고 있다. 도4~도7에서도 동일하다.
도4는 도3으로부터 계속되는 편광판(1)의 제조 공정을 나타내는 단면도다.
도5는 편광판(1)의 제조에 사용하는 몰드(13)의 제조 공정을 나타내는 단면도다.
도6은 도5로부터 계속되는 편광판(1)의 제조에 사용하는 몰드(13)의 제조 공정을 나타내는 단면도다.
도7은 도6으로부터 계속되는 편광판(1)의 제조에 사용하는 몰드(13)의 제조 공정을 나타내는 단면도다.
도8은 실시예에서 제작한 전사체의 SEM상이며, (a)는 단면도, (b)는 평면도다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시형태에 대하여 구체적으로 설명한다.

1. 편광판

본 발명의 일실시 형태의 편광판(1)은 투명기재(3)와, 그 위에 형성되는 동시에 요철 패턴(5)을 가지는 투명수지층(7)과, 투명수지층(7)에 형성된 편광층(9)을 구비하고, 투명수지층(7)은 요철 패턴(5)이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 요철영역(11a), (11b), (11c)을 가진다.

<투명기재>

투명기재(3)는 수지기재, 석영기재　등의 투명재료로 형성되고 그 재질은 특히 한정되지 않지만, 수지기재인 것이 바람직하다. 수지기재를 구성하는 수지로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네트, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 폴리이미드, 폴리 설폰, 폴리에테르 설폰, 환상 폴리올레핀 및 폴리에틸렌 나프탈레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종으로부터 되는 것이다. 또한, 투명기재(3)는 가요성을 가지는 필름 형상인 것이 바람직하고, 그 두께는 25~500㎛의 범위인 것이 바람직하다.

<투명수지층, 요철 패턴, 요철영역>

도1에 도시된 바와　같이, 투명수지층(7)에는 요철 패턴(5)이 형성되어 있다. 요철 패턴(5)은 가늘고 긴 형상의 요철 패턴이며, 제1~제3요철영역(11a) ~(11c)에서는 요철 패턴(5)이 연장되는 방향이 서로 다르다. 구체적으로는, 제1요철영역(11a)에서는 요철 패턴(5)은 화살표 A 방향으로 연장되어　있고, 제2요철영역(11b)에서는 요철 패턴(5)은 화살표 B 방향으로 연장되어　있고, 제3요철영역(11c)에서는 요철 패턴(5)은 화살표 C 방향으로 연장되어 있다. 화살표 B 방향은 화살표 A 방향에 직교하는 방향이며, 화살표 C 방향은 화살표 A 방향에 대하여 45도 어긋난 방향이다. 제1~제3요철영역(11a)~(11c)에서의 요철 패턴(5)의 형상이나 피치는 동일하여도 되고 부동해도 된다.

요철 패턴(5)의 주기는, 예를 들면 10nm~1㎛이며, 30~500nm이 바람직하고, 50~200nm이 더욱 바람직하다. 요철 패턴(5)은 바람직하게는 라인　앤드　스페이스 형상이다. (스페이스의 폭)/ (라인의 폭)의 값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 0.2~5이며, 0.5~4이 바람직하고, 1~3이 더욱 바람직하다. 지나치게 작으면 라인 폭이 넓고, 지나치게 크면 스페이스 폭이 넓어지기 때문에, 라인　앤드　스페이스가 연장되는 방향에 수직, 평행한 편광성분 모두가 그 전장(電場)이 금속내 자유전자와 상호작용함으로써, 반사하여 편광층으로서 기능하지 않게 된다.

제1~제3요철영역(11a)~(11c)은 높이 위치가 같게　되도록 형성해도 되지만, 도1에 도시한　바와　같이, 높이 위치가 서로 다르게 형성하는 것이 바람직하다. 이 경우, 인접하는 요철영역의 경계가 명료해지는 이점을 얻을 수 있다.

투명수지층(7)은 광경화성 수지조성물을 경화시켜 형성할 수 있다. 그 공정의 상세한 것은 후술한다.

<편광층>

편광층(9)은 도2에 도시한　바와　같이, 투명수지층(7) 상에 형성된다. 편광층(9)은 입사광을 편광시키는 기능을 가지도록 형성하면 되고, 그 재료, 두께, 형상 등은 한정되지 않는다. 편광층(9)은 예를 들면, 도전성의 금속(Ni, Al등) 또는 금속산화물(ITO 등)로 형성할 수 있다. 편광층(9)은 도2 (a)에 도시한 바와 같이, 요철 패턴(5)의 형상에 따르도록 형성해도 되고, 도2(b)에 도시한 바와 같이, 요철 패턴(5)의 철부(7a)의 상부에만 형성해도 되고, 도2(c)에 도시한 바와 같이，요철 패턴(5)의 철부(7a)의 측면에만 형성해도 된다. 즉, 편광층(9)은 도2 (a)에 도시한 바와 같이, 막상(膜狀)으로 형성해도 되고, 도2(b) ~ (c)에 나타낸 바와 같이 세선상(細線狀)으로 형성해도 된다.

<본 실시 형태의 편광판의 작용·용도>

편광판(1)은 와이어 그리드 편광판이며, 요철 패턴(5)이 연장되는 방향에 수직한 진동면 (진동하는 전장에 의해 형성되는 면)을 가지는 편광성분을 투과하는 성질을 가진다. 따라서, 편광판(1)에 대하여, 무편광의 입사광(L)이 입사되면, 제1요철영역(11a)에서는 화살표 A에 수직한 진동면을 가지는 편광성분이 투과되고, 제2요철영역(11b)에서는 화살표 B에 수직한 진동면을 가지는 편광성분이 투과되고, 제3요철영역(11c)에서는 화살표 C에 수직한 진동면을 가지는 편광성분이 투과된다.

때문에, 무편광의 입사광(L)을 편광판(1)에 입사시키면 한번에 복수종류(본 실시 형태에서는 3종류)의 편광성분을 취출하는 것이 가능해진다.

또한, 화살표 A에 수직한 진동면을 가지는 편광(P)을 편광판(1)에 입사시키면, 편광(P)은 제1요철영역(11a)에서는 거의 전부가 투과되고 제3요철영역(11c)에서는 일부(화살표 C에 수직한 진동면을 가지는 편광성분)만이 투과되고, 제2요철영역(11b)에서는 거의 전부가 차단된다. 편광(P)의 진동면의 방향을 바꾸지 않고 편광판(1)을 45도 회전시키면, 편광(P)은 제3요철영역(11c)에서는 거의 모두가 투과되고, 제1및 제2요철영역(11a), (11b)에서는 일부만이 투과되도록 된다. 편광(P)의 진동면의 방향을 바꾸지 않고 편광판(1)을 45도 더 회전시키면, 편광(P)은 제2요철영역(11b)에서는 거의 모두가 투과되고, 제3요철영역(11c)에서는 일부만이 투과되고, 제1요철영역(11a)에서는 거의 모두가 차단되도록 된다. 이와 같이, 본 실시 형태에 의하면, 편광판(1)을 회전시키는 것만으로, 매 영역의 편광(P)의 투과 상태를 변화시킬 수 있다.

본 실시 형태의 편광판(1)은 후술하는 바와 같이 나노 임프린트법에 의해, 효율적으로 제조할 수 있고, 편광기능을 갖게 하기 위한 요철 패턴을 형성할 시에, 편광기능 이외의 기능(구조색에 의한 가식성(加飾性)등)을 갖게 하기 위한 요철 패턴을 동시에 형성하는 것이 가능하다. 또한, 본 실시 형태의 편광판(1)에 홀로그램 기능을 부여하기 위한 요철 패턴을 형성함으로써, 홀로그램 기능을 가지는 매체를 형성하는 것도 가능하다.

2. 편광판의 제조 방법

다음, 편광판(1)의 제조 방법에 대하여 설명한다.

본 실시 형태의 편광판(1)의 제조 방법은 피전사 수지층 형성 공정, 전사 및 경화 공정 및 편광층 형성 공정을 갖춘다.

이하, 도3~도4를 이용하여 각 공정에 대하여 상세하게 설명한다.

(1)피전사 수지층 형성 공정

먼저, 도3 (a)에 도시한 바와 같이, 투명기재(3) 상에 광경화성 수지조성물을 도포하여 피전사 수지층(19)을 형성한다.

피전사 수지층(19)을 구성하는 광경화성 수지조성물은 모노머와, 광개시제를 함유하고, 활성 에너지 선의 조사에 의해 경화하는 성질을 가진다. 「활성 에너지 선」은, UV광, 가시광, 전자선　등의, 광경화성 수지조성물을 경화가능한 에너지 선의 총칭이다.

모노머로서는, (메타)아크릴수지, 스티렌수지, 올레핀 수지, 폴리카보네트 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지 등을 형성하기 위한 광중합성의 모노머를 들 수 있고, 광중합성의 (메타)아크릴계 모노머가 바람직하다. 한편, 본 명세서에서, (메타)아크릴이란, 메타크릴 및/또는 아크릴을 의미하고, (메타)아크릴레이트는 메타크릴레이트 및/ 또는 아크릴레이트를 의미한다.

광개시제는, 모노머의 중합을 촉진하기 위하여 첨가되는 성분이며, 상기 모노머 100질량부에 대하여 0.1질량부　이상 함유되는 것이 바람직하다. 광개시제의 함유량의 상한은 특히 규정되지 않지만, 예를 들면 상기 모노머 100질량부에 대하여 20질량부다.

광경화성 수지조성물은 용제, 중합 금지제, 연쇄이동제, 산화 방지제, 광 증감제, 충전제, 레벨링제 등의 성분을 광경화성 수지조성물의 성질에 영향을 주지 않는 범위에서 포함하고 있어도 된다.

광경화성 수지조성물은 상기 성분을 공지의 방법으로 혼합함으로써 제조할 수 있다. 광경화성 수지조성물은 스핀 코트, 스프레이 코트, 바 코트, 딥 코트, 다이 코트 및 슬릿(slit) 코트 등의 방법으로 투명기재(3) 상에 도포하여 피전사 수지층(19)을 형성하는 것이 가능하다.

(2)전사 및 경화 공정

다음, 도3(a)~(b)에 도시한　바와　같이, 피전사 수지층(19)에 대하여, 피전사 수지층(19)에 전사하는 요철 패턴(5)의 반전 패턴(15)을 가지는 몰드(13)를 가압한 상태에서 피전사 수지층(19)에 활성 에너지 선(21)을 조사하여 피전사 수지층(19)을 경화시켜 투명수지층을 형성한다.

몰드(13)는 투명기재(23) 상의 수지층(31)에 반전 패턴(15)을 가진다. 투명기재(23)는 수지기재, 석영기재, 실리콘 기재 등으로 이루어지고, 수지기재가 바람직하다. 몰드(13)는 수지제 몰드인 것이 바람직하다. 몰드(13)의 제조 방법은 상세하게 후술한다.

반전 패턴(15)은 도1에 나타내는 요철 패턴(5)이 반전한 형상을 가지고 있기 때문에, 제1~제3요철영역(11a)~(11c)에 대응하도록, 반전 패턴(15)이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 반전 패턴 영역(제1~제3반전 패턴 영역)(17a)~(17c)을 가진다. 제1~제3반전 패턴 영역(17a)~(17c)은 제1~제3요철영역(11a)~(11c)와 마찬가지로, 서로 다른 높이 위치에 설치된다. 몰드(13)를 피전사 수지층(19)에 가압하는 압력은 반전 패턴(15)의 형상을 피전사 수지층(19)에 전사가능한 압력이면 된다.

피전사 수지층(19)에 조사하는 활성 에너지 선(21)은 피전사 수지층(19)이 충분히 경화하는 정도의 적산 광량으로 조사하면 되고, 적산 광량은 예를 들면 100~10000mJ/cm²이다. 활성 에너지 선(21)의 조사에 의해, 피전사 수지층(19)이 경화된다. 본 실시 형태에서는, 몰드(13)의 투명기재(23)에 차광 패턴(25)이 형성되고 있기 때문에, 투명기재(3) 측으로부터 활성 에너지 선(21)의 조사를 실시하고 있지만, 요철 패턴(5)을 형성하는 영역에 차광 패턴을 가지지 않는 몰드를 이용할 경우에는, 몰드 측으로부터 활성 에너지 선(21)의 조사를 실시해도 된다.

다음, 몰드(13)를 떼내고 미경화의 광경화성 수지조성물을 용제로 씻음으로써, 도3(c)에 도시한 바와 같이, 투명기재(3) 상에 요철 패턴(5)을 가지는 투명수지층(7)이 형성된 구조를 얻을 수 있다.

다음, 도4에 도시한 바와 같이, 투명수지층(7) 상에 편광층(9)을 형성하여 편광판(1)의 제조가 완료된다. 편광층(9)은 예를 들면, 재료로 되는 도전성의 금속 또는 금속산화물을 스퍼터링에 의해 투명수지층(7) 상에 부착시킴으로써 형성할 수 있다.

3. 몰드의 제조 방법

본 실시 형태의 편광판(1)의 제조에 호적하게 사용할 수 있는 몰드(13)의 제조 방법에 대하여 설명한다. 몰드(13)는 피전사 수지층의 형성과 패턴의 전사 및 경화 공정을 여러번 되풀이함으로써 형성할 수 있다. 피전사 수지층의 형성과 패턴의 전사 및 경화 공정의 설명은 「편광판의 제조 방법」에 관하여 상술한 것과 같아 설명은 적당히 생략한다.

<1번째 층>

먼저, 도5 (a)에 도시한 바와 같이, 차광 패턴(25)이 형성된 투명기재(23) 상에 광경화성 수지조성물을 도포하여 피전사 수지층(27)을 형성한다.

다음, 도5(a)~(b)에 도시한 바와 같이, 요철 패턴(5c)을 가지는 몰드(29)를 피전사 수지층(27)에 가압한 상태에서 피전사 수지층(27)에 활성 에너지 선(21)을 조사하여 피전사 수지층(27)을 경화시켜, 도5(c)에 도시한 바와 같이, 반전 패턴(15c)을 가지는 투명수지층(31a)을 형성한다. 활성 에너지 선(21)은 몰드(29) 측으로부터 조사하여 피전사 수지층(27)의 전면을 경화시킨다.

요철 패턴(5c)은 제3요철영역(11c)에 형성되어 있는 요철 패턴(5)과 같은 형상을 가지고, 반전 패턴(15c)은 제3반전 패턴 영역(17c)에 형성되어 있는 반전 패턴(15)과 같은 형상을 가진다.

<2번째 층>

다음, 도6 (a)에 도시한 바와 같이, 투명수지층(31a) 상에 광경화성 수지조성물을 도포하여 피전사 수지층(33)을 형성한다.

다음, 도6(a)~(b)에 도시한 바와 같이, 요철 패턴(5b)을 가지는 몰드(35)를 피전사 수지층(33)에 가압한 상태에서 피전사 수지층(33)에 활성 에너지 선(21)을 조사하여 피전사 수지층(33)을 경화시키고, 도6(c)에 도시한 바와 같이, 반전 패턴(15b), (15c)을 가지는 투명수지층(3lb)을 형성한다.

요철 패턴(5b)은, 제2요철영역(11b)에 형성되어 있는 요철 패턴(5)과 같은 형상을 가지고, 반전 패턴(15b)은 제2반전 패턴 영역(17b)에 형성되어 있는 반전 패턴(15)과 같은 형상을 가진다.

활성 에너지 선(21)은 투명기재(23) 측으로부터 차광 패턴(25)을 통하여 피전사 수지층(33)에 조사되기 때문에 피전사 수지층(33) 중, 차광 패턴(25)으로 씌워지지 않은 영역만이 경화된다. 차광 패턴(25)은 제3반전 패턴 영역 (17c)과 같은 형상을 가지고 있기　때문에, 도6(c)에 도시한　바와　같이, 제3반전 패턴 영역 (17c)에서는 반전 패턴(15c)이 그대로 남고, 기타의 영역에서는 제3반전 패턴 영역(17c)보다도 높은 위치에 반전 패턴(15b)이 형성된 투명수지층(3lb)이 형성된다.

한편, 차광 패턴(25)을 가지는 투명기재(23)를 사용하는 대신에, 차광 패턴(25)을 가지는 다른 투명기재를, 투명기재(23)에 겹친 상태에서 차광 패턴(25)을 통하여 활성 에너지 선(21)의 조사를 실시해도 된다. 이 경우, 차광 패턴(25)을 가지지 않는 몰드(13)를 형성할 수 있다.

<3번째 층>

다음, 도7 (a)에 도시한 바와 같이, 투명수지층(3lb) 상에 광경화성 수지조성물을 도포하여 피전사 수지층(37)을 형성한다.

다음, 도7(a)~(b)에 도시한 바와 같이, 요철 패턴(5a)을 가지는 몰드(39)를 피전사 수지층(37)에 가압한 상태에서 피전사 수지층(37)에 활성 에너지 선(21)을 조사하여 피전사 수지층(37)을 경화시키고 도7(c)에 도시한　바와　같이, 반전 패턴(15a), (15b), (15c)을 가지는 투명수지층(31)을 형성한다.

요철 패턴(5a)은 제1요철영역(11a)에 형성되어 있는 요철 패턴(5)과 같은 형상을 가지고, 반전 패턴(15a)은 제1반전 패턴 영역(17a)에 형성되어 있는 반전 패턴(15)과 같은 형상을 가진다.

활성 에너지 선(21)은 차광 패턴(43)을 가지는 다른 투명기재(41)를, 투명기재(23)에 겹친 상태에서 투명기재(41) 측으로부터 차광 패턴(43), (25)을 통하여 피전사 수지층(33)에 조사되기　때문에, 피전사 수지층(33) 중, 차광 패턴(43), (25)으로 씌워지지 않은 영역만이 경화된다. 차광 패턴(43)은 제2반전 패턴 영역(17b)과　같은 형상을 가지고 있기　때문에, 도7(c)에 도시한　바와　같이, 제2 및 제3반전 패턴 영역(17b), (17c)에서는 반전 패턴(15b), (15c)이 그대로 남고, 기타의 영역에서는 제2반전 패턴 영역(17b)보다도 높은 위치에 반전 패턴(15a)이 형성된 투명수지층(31)이 형성된다. 반전 패턴(15a)이　형성된 영역이 제1반전 패턴 영역 (17a)으로 된다.

이상의 공정에 의해, 몰드(13)의 제조가 완료된다. 한편, 반전 패턴(15a)~(15c)의 요철형상은 동일해도　되고　부동해도　된다. 반전 패턴(15a)~(15c)의 요철형상이 동일한 경우에는, 1개의 몰드를 회전시킴으로써, 몰드(29), (35), (39)로서 이용할 수 있다.

상기 실시 형태에서는, 삼단구성의 반전 패턴(15)을 가지는 몰드(13)의 제조 방법에 대하여 설명을 했지만, 반전 패턴(15)의 단수를 더 늘리고 싶을 경우에는, 상기의 ３번째　층과 마찬가지로, 피전사 수지층을 형성하고, 원하는 반전 패턴을 전사하여 원하는 영역만을 경화시키는 공정을 되풀이하면 된다.

1. 편광판의 제조

「3.　몰드의 제조 방법」에서 설명한 방법으로 몰드(13)를 제작했다. 제1~ 제3반전 패턴 영역 (17a)~(17c)에는, 동일한　라인　앤드　스페이스　형상으로 이루어지는 반전 패턴(15)을 서로 45도씩 어긋나게 하여 형성했다.

제작한 몰드(13)를 이용하여 「2. 편광판의 제조 방법」에서 설명한 방법으로, UV나노 임프린트에 의해 전사품을 제작했다. 얻어진 전사품의 SEM상을 도8(a)~(b)에 나타낸다. 도8(a)~(b)에 도시한　바와　같이, 라인 앤드 스페이스 형상이 적절한 전사가 확인되었다. 도8 (a)의 단면도에서, 라인 앤드 스페이스 형상의 주기, 라인 폭 및 형상높이를 측정한 바, 각각 117.0nm, 33.5nm, 142.9nm이었다.

다음, 수득한 전사품 패턴 표면에 스퍼터링 장치를 이용하여 니켈의 박막(20nm)을 제막했다.

2. 편광판의 기능의 관찰

직선편광된 편광을 발하는 편광광원으로서, 액정 모니터를 준비했다. 편광광원이 없을 경우와 있을 경우의 면내에서 회전했을 때의 외관상을 관찰했다. 한편, 편광을 편광판(1)의 이면(요철 패턴(5)이 없는 면)으로부터 조사했다. 편광판(1)을 면내에서 회전시키면, 제1~제3요철영역(11a)~(11c)의 외관의 변화가 관찰되었다. 이것은, 편광판(1)의 회전에 의해 각　요철영역에서의 와이어　그리드　패턴의 방향의 변화에 따라, 각　요철영역에서의 편광의 투과성이 바뀌었기 때문이라고 생각된다. 이 결과에 의해, 동일면 내의　임의의 위치와 방향에서 편광자를 배치한 나노 임프린트용 몰드와 그 전사품으로 제작한 편광판의 개발에 성공했다고 생각한다.

1:편광판, 3, 23, 41:투명기재, 5:요철 패턴, 7:투명수지층, 9:편광층, 11a~11c: 제1~ 제3요철영역, 13, 29, 35, 39:몰드, 15:반전 패턴, 17a~17c: 제1~제3반전 패턴 영역, 19, 27, 33, 37:피전사 수지층, 21:활성 에너지 선, 25, 43:차광 패턴, 31:투명수지층

Claims

투명기재와, 그 위에 형성되는 동시에 요철 패턴을 가지는 투명수지층과, 상기　투명수지층 상에 형성된 편광층을 구비하고,
상기　투명수지층은 상기　요철 패턴이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 요철영역을 가지는　편광판.
제１항에 있어서，
상기 복수의 요철영역은 서로 다른 높이 위치에 설치되는 편광판.
제１항 또는 제２항에 있어서，
상기 요철 패턴은 라인 앤드 스페이스 형상인 편광판.
제１항 내지 제３항의 어느 한 항에 있어서，
상기 편광층은 도전성의 금속 또는 금속산화물로 이루어지는 편광판.
제１항 내지 제４항의 어느 한 항에 있어서，
상기 투명수지층은 광경화성 수지조성물을 경화시켜 형성되는 편광판.
제１항 내지 제５항의 어느 한 항에 기재된 편광판을 사용한 홀로그램 기능을 가지는 매체.
투명기재 상에 광경화성 수지조성물을 도포하여 피전사 수지층을 형성하고,
상기 피전사 수지층에 대하여, 상기　피전사 수지층에 전사하는 요철 패턴의 반전 패턴을 가지는 몰드를 가압한 상태에서 상기 피전사 수지층에 활성 에너지 선을 조사하여 상기　피전사 수지층을 경화시켜 투명수지층을 형성하고,
상기 투명수지층 상에 도전성의 금속 또는 금속산화물로 이루어지는 편광층을 형성하는 공정을 구비하고,
상기 몰드는 상기 반전 패턴이 연장되는 방향이 서로 다른 복수의 반전 패턴 영역을 가지는 편광판의 제조 방법.
제７항에 있어서，
상기 복수의 반전 패턴 영역은 서로 다른 높이 위치에 설치되는 편광판의 제조 방법.
제７항 또는 제８항에 있어서，
상기 몰드는 수지제 몰드인 편광판의 제조 방법.