KR20160100070A

KR20160100070A - Continuous furnace

Info

Publication number: KR20160100070A
Application number: KR1020150022575A
Authority: KR
Inventors: 허혁재
Original assignee: 허혁재
Priority date: 2015-02-13
Filing date: 2015-02-13
Publication date: 2016-08-23

Abstract

The present invention relates to a furnace used in a baking process of a multi-layered ceramic capacitor for example. More specifically, the present invention relates to the furnace comprising a new feeding device which uniformly sprays an ambient gas into the furnace. According to the present invention, the continuous type furnace comprises: a muffle through which a workpiece passes, a transfer part which transfers a number of heating elements heating the muffle and the workpiece from an entrance of the muffle to an exit direction thereof, and a furnace body supporting the muffle, the heating elements, and the transfer part; a lower feeding box installed in an inner bottom plane of the muffle, having a through-hole pattern formed towards an inner space of the muffle; and a feeding pipe supplying ambient gas to the lower feeding box. Here, the through-hole pattern has a type where a plurality of through-holes are arranged separately from each other on a fixated area of a plane towards an inner space of the muffle of the lower feeding box. Maximum width (Y) of each through-hole is 3-7% of a maximum length (X) thereof, and the maximum length (X) of the through-hole is desirably 2-10% of a width (Xb) of the upper feeding box. The furnace in accordance with the present invention has an advantage of being able to uniformly supply the gas to the workpiece using the new feeding device.

Description

연속식 열처리로{CONTINUOUS FURNACE}Continuous heat treatment {CONTINUOUS FURNACE}

본 발명은, 예컨대, 적층 세라믹 커패시터 등의 소성 공정에 이용되는 열처리로에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 분위기 가스를 열처리로 내부에 고르게 분사하는 새로운 급기 장치를 구비한 열처리로에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat treatment furnace used in a firing process, for example, a multilayer ceramic capacitor. More particularly, to a heat treatment furnace having a new air supply device for uniformly injecting an atmospheric gas into a heat treatment furnace.

열처리로는 비연속식 열처리로(Batch Type Furnace)와 연속식 열처리로(Continuous Type Furnace)로 나눌 수 있다. 비연속식 열처리로는 사이클 단위로 제품을 적재 가동하는 방식으로서 열처리가 완전히 끝날 때까지 제품이 로 내부에 머무르는 방식을 말한다.The heat treatment furnace can be divided into a non-continuous heat treatment furnace (Batch Type Furnace) and a continuous heat treatment furnace (Continuous Type Furnace). The non-continuous heat treatment furnace is a method in which the product is loaded on a cycle-by-cycle basis and refers to a method in which the product stays inside the furnace until the heat treatment is completely completed.

연속식 열처리로란 제품의 열처리조건, 즉 온도 프로파일, 산소 농도 등을 지정해놓고 제품이 직접 이동하며 정해진 조건에 따라 열처리 되는 방식으로 비연속식 열처리로에 비해 대량 생산에 적합하다는 장점이 있다.The continuous heat treatment furnace is advantageous in mass production compared to the non-continuous heat treatment furnace in that the product is directly heat treated according to the predetermined conditions by designating the heat treatment condition of the product, that is, the temperature profile and the oxygen concentration.

연속식 열처리로는 피소성물의 가열방식에 따라서 연소불꽃이 직접 닿는 직접가열식과 금속 재질의 터널인 머플을 사이에 두고 간접적으로 가열하는 머플식이 있다. 직접가열식은 열의 손실이 적다는 장점은 있으나, 피소성물을 일정하게 가열하지 못하고, 피소성물을 더럽히고 손상시킬 수 있으므로 적층 세라믹 커패시터, 칩인덕터 등과 같은 전자부품을 생산하는 공정에서는 머플식 열처리로를 사용한다.In the continuous heat treatment furnace, there is a direct heating type in which the combustion flame directly touches the object to be heated, and a muffle type in which the metal material is indirectly heated with the muffle interposed therebetween. Although the direct heating type has an advantage of low heat loss, it can not heat the object to be cleaned constantly and can contaminate and damage the object to be cleaned. Therefore, in a process of producing electronic parts such as a multilayer ceramic capacitor and a chip inductor, use.

도 1은 종래의 연속식 열처리로를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 1을 참조하면, 종래의 머플식 열처리로는 피소성물(W)이 이송되는 머플(1)과, 상기 머플(1)의 주위를 감싸서 가열하는 다수의 발열체(2)와, 상기 머플(1)에 분위기 가스를 공급하는 급기 장치(3)와, 상기 피소성물(W)로부터 발생하는 바인더 분해 가스를 배출하는 배기 장치(4)와 상기 피소성물(W)을 입구에서 출구방향으로 이송하는 이송부(5)와 상기 머플(1)과 발열체(2)를 고정하는 로체(6)를 갖추고 있다.1 is a schematic view of a conventional continuous heat treatment furnace. 1, a conventional muffle type heat treatment furnace includes a muffle 1 to which a waste W is transferred, a plurality of heating elements 2 that surround and surround the muffle 1 to heat the muffle 1, An exhaust unit 4 for exhausting the binder decomposition gas generated from the object W and a transfer unit 4 for transferring the object W from the inlet to the outlet, (5), and a furnace body (6) for fixing the muffle (1) and the heating element (2).

머플(1)은 피소성물(W)을 일정하게 가열하기 위한 수단이며, 소성 분위기를 유지하기 위한 수단이다. 머플(1)내의 압력이 대기압보다 크도록 급기량과 배기량을 조절하면 외부 공기의 유입을 방지하면서 원하는 소성 분위기를 얻을 수 있다.The muffle 1 is a means for constantly heating the object W and is a means for maintaining the firing atmosphere. If the supply amount and the discharge amount are adjusted so that the pressure in the muffle 1 is larger than the atmospheric pressure, a desired firing atmosphere can be obtained while preventing the inflow of outside air.

발열체(2)는 전후 방향(길이 방향)을 따라 온도를 개별적으로 설정할 수 있도록 복수 개가 마련되어 있다. 발열체(2)는 열처리로의 내부를 원하는 온도로 설정하기 위한 것으로서, 복수의 발열체(2)가 모여 각각 예비 소성(탈바인더)구간, 소성 구간 및 서냉 구간으로 구획되어 있다.A plurality of heat generating elements 2 are provided so as to individually set temperatures along the longitudinal direction. The heating element 2 is for setting the inside of the heat treatment furnace to a desired temperature. A plurality of heating elements 2 are gathered and divided into a prebaking (binder removal) section, a firing section and a slow cooling section.

급기 장치(3)는 머플(1)내부의 압력이 양압이 되도록 유지시켜주며, 원하는 소성 분위기를 만들어 주기 위해서 일정한 비율로 혼합된 가스를 공급해주는 역할을 한다. 급기 장치(3)는 머플(1)의 바닥면에 설치된다. 도시하지 않았으나, 머플(1)의 내부공간 상부에도 급기 장치가 설치될 수 있다.The air supply device 3 keeps the pressure inside the muffle 1 at a positive pressure and serves to supply a mixed gas at a predetermined ratio to produce a desired firing atmosphere. The air supply device (3) is installed on the bottom surface of the muffle (1). Although not shown, an air supply device may be installed in the upper part of the inner space of the muffle 1. [

배기 장치(4)는 피소성물(W)로부터 발생하는 가스를 흡입하는 가스 흡입 부재(7)와 가스 흡입 부재(7)와 연결된 배기관(8)과 흡입된 가스를 외부로 배출하는 배기구(9)를 포함한다. 급기 장치(3)에서 공급되는 가스량이 배기 장치(4)에서 배출되는 가스량에 비해 많아야 머플(1)내에 양압이 유지될 수 있다. 과량의 가스는 배기구(9)가 아니라 머플(1)의 입구와 출구로 배출된다.The exhaust device 4 includes a gas suction member 7 for sucking gas generated from the object W and an exhaust pipe 8 connected to the gas suction member 7 and an exhaust port 9 for exhausting the sucked gas to the outside, . The positive pressure in the muffle 1 can be maintained until the amount of gas supplied from the air supply device 3 is greater than the amount of gas discharged from the exhaust device 4. [ Excess gas is discharged to the inlet and outlet of the muffle (1), not to the exhaust port (9).

공개특허 10-2010-0028789&Lt; tb > 공개특허 10-2014-0005707Patent Document 10-2014-0005707 공개특허 10-2014-0121157Patent Document 1: JP-A-10-2014-0121157

급기 장치에서 공급된 가스는 가능하면 균일하게 피소성물에 공급되는 것이 바람직하다. 종래의 열처리로는 급기 장치로서 복수의 원형 관통구멍이 균일하게 형성되어 있는 급기 박스를 사용하였다. 그러나 이러한 종래의 급기 장치를 통해 균일한 분위기 가스의 공급하는 것은 한계가 있었기 때문에, 좀 더 균일한 소성분위기를 얻기 위해서는 새로운 급기 장치의 개발이 계속 요구되어 왔다. It is preferable that the gas supplied from the air supply device is supplied uniformly to the object to be treated as much as possible. In the conventional heat treatment furnace, an air supply box is used in which a plurality of circular through holes are formed uniformly as an air supply device. However, since the supply of uniform atmospheric gas through such a conventional air supply apparatus has been limited, development of a new air supply apparatus has been continuously required in order to obtain a more uniform firing atmosphere.

본 발명은 상술한 요구에 대응하기 위한 것으로서, 피소성물에 가스를 균일하게 공급할 수 있는 새로운 급기 장치를 구비한 열처리로를 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a heat treatment furnace equipped with a new air supply device capable of uniformly supplying gas to an object to be treated.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 연속식 열처리로는 피소성물이 통과하는 머플과, 상기 머플을 가열하는 다수의 발열체와 상기 피소성물을 상기 머플의 입구에서 출구방향으로 이송하는 이송부와 상기 머플, 발열체 및 이송부를 지지하는 로체를 포함하는 연속식 열처리로로서, 상기 머플의 내부 바닥면 위에 설치되며, 머플의 내부공간을 향하는 면에 관통구멍 패턴이 형성되어 있는 하부 급기 박스와, 상기 하부 급기 박스에 분위기 가스를 공급하는 급기 파이프를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a continuous heat treatment furnace comprising: a muffle through which an object to be treated passes; a plurality of heat generating bodies for heating the muffle; a transferring unit for transferring the object to be treated from an inlet of the muffle to an outlet direction; A lower air supply box provided on an inner bottom surface of the muffle and having a through hole pattern formed on a surface facing the inner space of the muffle, And an air supply pipe for supplying the atmosphere gas to the air supply box.

여기서 상기 관통구멍 패턴은 복수의 관통구멍들이 상기 하부 급기 박스의 머플의 내부공간을 향하는 면의 일정한 영역에 서로 이격된 상태로 배치된 형태이다.Wherein the through-hole pattern is a shape in which a plurality of through-holes are disposed in a predetermined region of a surface of the muffle of the lower supply box facing away from the inner space.

그리고 각각의 관통구멍은 그 최대 폭(Y)이 그 최대 길이(X)의 3% 내지 7%이며, 상기 관통구멍의 최대 길이(X)는 상기 하부 급기 박스의 폭(Xb)의 2% 내지 10%인 것이 바람직하다.And each of the through holes has a maximum width Y of 3% to 7% of its maximum length X and a maximum length X of the through holes is 2% to 8% of a width Xb of the lower air supply box 10%.

상술한 연속식 열처리로에서 상기 관통구멍들은 그 길이방향이 상기 머플의 폭방향과 나란하게 배치될 수 있다. In the above-described continuous heat treatment furnace, the through holes may be arranged such that the longitudinal direction thereof is parallel to the width direction of the muffle.

그리고 상기 머플의 길이방향으로 서로 인접하는 관통구멍들은 서로 엇갈리도록 배치되는 것이 바람직하다.The through holes adjacent to each other in the longitudinal direction of the muffle are preferably arranged to be staggered from each other.

또한, 상기 머플의 내부공간은 복수의 열처리 구간으로 구획되며, 상기 관통구멍 패턴은 각각 열처리 구간의 양단에 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the inner space of the muffle is divided into a plurality of heat treatment sections, and the through hole patterns are preferably formed at both ends of the heat treatment section.

또한, 상기 머플의 바닥면에는 홈이 길게 형성되며, 상기 급기 파이프는 상기 홈에 설치되며, 상기 머플의 바닥면을 향하는 면에 관통구멍이 형성되며, 상기 하부 급기 박스는 상기 머플의 바닥면을 향하는 면의 적어도 일부가 개방되며, 상기 하부 급기 박스와 상기 급기 파이프는 상기 머플의 바닥면을 사이에 두고 위 아래로 배치되며, 상기 머플의 바닥면에 형성된 관통구멍을 통해서 연통되는 것이 바람직하다.The bottom of the muffle is formed with a long groove, the supply pipe is provided in the groove, a through hole is formed in a surface facing the bottom of the muffle, The lower supply box and the supply pipe are disposed above and below the bottom surface of the muffle and communicate with each other through a through hole formed in the bottom surface of the muffle.

또한, 상술한 연속식 열처리로는 상기 머플의 내부공간 상부에 설치되며, 머플의 바닥면을 향해서 30 내지 60°로 경사진 측면에 상부 관통구멍 패턴이 형성되어 있는 상부 급기 박스를 더 포함할 수 있다.The continuous heat treatment furnace may further include an upper air supply box provided at the upper part of the inner space of the muffle and having an upper through hole pattern formed at a side inclined at 30 to 60 degrees toward the bottom surface of the muffle have.

여기서 상기 상부 관통구멍 패턴은 복수의 상부 관통구멍들이 상기 상부 급기 박스의 측면의 일정한 영역에 서로 이격된 상태로 배치된 형태이며, 각각의 상부 관통구멍은 그 최대 폭(Y)이 그 최대 길이(X)의 3% 내지 7%이며, 상기 상부 관통구멍의 최대 길이(X)는 상기 상부 급기 박스의 폭(Xt)의 2% 내지 10%인 것이 바람직하다.The upper through-hole pattern has a shape in which a plurality of upper through-holes are spaced apart from each other in a predetermined area on a side surface of the upper air supply box, and each upper through- X, and the maximum length X of the upper through-hole is 2% to 10% of the width Xt of the upper air supply box.

또한, 상기 상부 관통구멍 패턴은 상부 급기 박스의 양쪽 측면에 각각 형성되는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the upper through-hole pattern is formed on both side surfaces of the upper air supply box.

또한, 상기 상부 급기 박스는 열처리 구간의 양단에 설치되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the upper air supply box is installed at both ends of the heat treatment section.

본 발명에 따른 열처리로는 새로운 급기 장치를 이용하여 피소성물에 가스를 균일하게 공급할 수 있다는 장점이 있다. The heat treatment furnace according to the present invention has an advantage that the gas can be uniformly supplied to the object to be treated by using a new air supply device.

도 1은 종래의 열처리로를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 열처리로의 일실시예를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 하부 급기 장치의 평면도이다.
도 4는 도 2에 도시된 하부 급기 장치의 단면도이다.
도 5는 관통구멍 패턴의 다양한 형태를 나타낸다.
도 6은 도 2에 도시된 상부 급기 장치의 배면도이다.
도 7은 도 2에 도시된 상부 급기 장치의 단면도이다.1 is a schematic view of a conventional heat treatment furnace.
2 is a view schematically showing an embodiment of a heat treatment furnace according to the present invention.
3 is a plan view of the lower supply unit shown in Fig.
4 is a cross-sectional view of the lower feeder shown in Fig.
5 shows various forms of the through-hole pattern.
6 is a rear view of the upper air supply device shown in Fig.
7 is a cross-sectional view of the upper air supply device shown in Fig.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 관한 바람직한 실시예를 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항에 의해서 정의될 뿐이다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will now be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention, and the invention is only defined by the claims.

도 2는 본 발명에 따른 연속식 열처리로의 일실시예를 개략적으로 나타낸 도면이다.2 is a schematic view showing an embodiment of a continuous heat treatment furnace according to the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 연속식 열처리로의 일실시예는 종래의 연속식 열처리로 마찬가지로 피소성물(W)이 이송되는 머플(10)과, 머플(10)을 가열하는 복수의 발열체(2)와, 머플(10) 내부에 분위기 가스를 공급하는 급기 장치와, 피소성물(W)로부터 발생하는 바인더 분해 가스를 흡입하는 배기 장치(4)와 피소성물(W)을 머플(10) 입구에서 머플(10) 출구방향으로 이송하는 이송수단(5)과 상기 머플(10)과 발열체(2)를 고정하는 로체(6)를 포함하는바, 종래의 연속식 열처리로와 구조와 기능이 동일한 구성요소에 대해서는 상세한 설명은 생략하고, 동일한 참조부호를 부여한다.2, a continuous heat treatment furnace according to an embodiment of the present invention includes a muffle 10 to which a subject W is fed as in the conventional continuous heat treatment, a plurality of heating elements 10 for heating the muffle 10, An exhaust device 4 for sucking a binder decomposition gas generated from the object W and an object W to be treated are placed in the muffle 10, A transfer means 5 for transferring the molten metal from the inlet to the outlet of the muffle 10 and a furnace 6 for fixing the muffle 10 and the heating element 2, The same components are denoted by the same reference numerals and will not be described in detail.

이하에서는 종래의 연속식 열처리로와 구성과 기능에 차이가 있는 급기 장치에 대해서 상세히 설명한다. 급기 장치는 머플의 상부에 배치되는 상부 급기 장치(200)와 머플의 바닥면에 배치되는 하부 급기 장치(100)를 포함한다. 먼저, 하부 급기 장치에 대해서 설명한다. Hereinafter, an air supply device which is different from the conventional continuous heat treatment furnace in structure and function will be described in detail. The air supply device includes an upper air supply device (200) disposed at an upper portion of the muffle and a lower air supply device (100) disposed at a bottom surface of the muffle. First, the lower supply unit will be described.

도 3은 도 2에 도시된 하부 급기 장치의 평면도이며, 도 4는 도 2에 도시된 하부 급기 장치의 단면도이다.Fig. 3 is a plan view of the lower supply unit shown in Fig. 2, and Fig. 4 is a sectional view of the lower supply unit shown in Fig.

도 4에 도시된 바와 같이, 하부 급기 장치(100)는 머플(10)의 내부에 배치되는 하부 급기 박스(110) 및 급기 파이프(130)를 포함한다. 4, the lower feeder 100 includes a lower feeder box 110 and an air supply pipe 130 disposed inside the muffle 10. The lower feeder box 110 and the air supply pipe 130 are connected to each other.

하부 급기 박스(110)는 머플(10)의 내부 바닥면(11) 위에 배치된다. 하부 급기 박스(110)의 머플(10)의 내부를 향하는 상면에는 복수의 관통구멍(112)으로 이루어진 관통구멍 패턴(120)이 형성되어 있다. 관통구멍 패턴(120)은 복수의 관통구멍(112)들이 일정한 영역에 서로 이격된 상태로 배치된 형태이다. 관통구멍 패턴(120)은 하부 급기 박스(110)에 전달된 가스를 머플(10)의 내부공간(17)에 고르게 분사하는 역할을 한다. The lower supply box 110 is disposed on the inner bottom surface 11 of the muffle 10. A through hole pattern 120 formed of a plurality of through holes 112 is formed on an upper surface of the lower supply box 110 facing the inside of the muffle 10. The through hole pattern 120 is formed in such a manner that a plurality of through holes 112 are spaced apart from each other in a predetermined area. The through hole pattern 120 serves to uniformly inject the gas delivered to the lower supply box 110 into the inner space 17 of the muffle 10.

각각의 관통구멍(112)은 그 최대 폭이(Y)가 그 최대 길이(X)의 3% 내지 7%인, 긴 형태이다. 관통구멍(112)은 예를 들어, 대체로 직사각형 형태 또는 타원형일 수 있다. 또한, 관통구멍(112)의 최대 길이(X)는 하부 급기 박스(110)의 폭(Xb)의 2% 내지 10%인 것이 바람직하다. 직사각형인 경우에는 장변의 길이가 최대 길이(X)가 되며, 타원형인 경우에는 장축의 길이가 최대 길이(X)가 된다.Each of the through holes 112 is of a long shape whose maximum width Y is 3% to 7% of the maximum length X thereof. The through holes 112 may be, for example, generally rectangular or oval. It is preferable that the maximum length X of the through hole 112 is 2% to 10% of the width Xb of the lower air supply box 110. In the case of a rectangle, the length of the longest side becomes the maximum length (X), and in the case of the ellipse, the length of the longest side becomes the maximum length (X).

각각의 관통구멍(112)은 도 3에 도시된 바와 같이, 그 길이방향이 머플(10)의 폭방향과 나란하게 배치될 수 있다. 이 경우 관통구멍 패턴(120)은 머플(10)의 폭 방향으로 길게 형성된 복수의 관통구멍 라인(121)을 포함한다. 이 경우 하나의 관통구멍 라인(121)에 대략 10 ~ 50개 정도의 관통구멍(112)이 포함된다. 이때 서로 인접하는 관통구멍 라인(121)들의 관통구멍(112)들은 서로 엇갈리도록 배치되는 것이 바람직하다. Each of the through holes 112 may be arranged such that the longitudinal direction thereof is parallel to the width direction of the muffle 10, as shown in Fig. In this case, the through-hole pattern 120 includes a plurality of through-hole lines 121 formed long in the width direction of the muffle 10. In this case, one through hole line 121 includes approximately 10 to 50 through holes 112. At this time, it is preferable that the through holes 112 of the adjacent through hole lines 121 are arranged to be offset from each other.

관통구멍(112)은 그 길이방향과 머플(10)의 폭방향과 일정한 각도를 이루면서 배치될 수도 있다. 또한, 각각의 관통구멍(112)이 서로 머플(10)의 폭방향과 서로 다른 각도를 이루면서 배치될 수도 있다. 도 5에는 관통구멍 패턴(120)의 다양한 형태가 예시되어 있다.The through holes 112 may be disposed at a predetermined angle with the longitudinal direction and the width direction of the muffle 10. Each of the through holes 112 may be disposed at an angle different from the width direction of the muffle 10. 5 illustrates various forms of the through-hole pattern 120. FIG.

관통구멍 패턴(120)은 머플(10)의 전체에 걸쳐서 형성될 수도 있으나, 열처리 구간의 양단에만 형성될 수도 있다. 별도의 물리적인 분리 구조는 없지만, 머플(10)의 내부공간(17)은 복수의 열처리 구간으로 구획되며, 각각의 열처리 구간은 급기장치 및 배기장치에 의해서 고유한 분위기를 유지한다. 예를 들어, 탈바인더 구간의 경우에는 산소나 수증기를 많이 포함된 분위기 가스가 투입되며, 소성 구간이나 냉각 구간의 경우에는 산소가 거의 포함되지 않은 분위기 가스가 투입된다. 각 구간의 분위기는 구간별 급기 가스의 종류에 의해 조절되며, 배기 장치는 각 구간의 분위기 가스가 다른 구간으로 유입되는 것을 방지함으로써 열처리 구간을 구획한다.The through hole pattern 120 may be formed over the entire muffle 10, but may be formed only at both ends of the heat treatment section. The internal space 17 of the muffle 10 is divided into a plurality of heat treatment sections, and each heat treatment section maintains a unique atmosphere by the air supply device and the exhaust device. For example, in the case of a binder removal section, an atmospheric gas containing a large amount of oxygen or water vapor is introduced, and in the case of a firing section or a cooling section, an atmosphere gas containing substantially no oxygen is introduced. The atmosphere of each zone is controlled by the type of supply gas per zone, and the exhaust system prevents the atmosphere gas of each zone from flowing into another zone, thereby dividing the heat treatment zone.

그리고 하부 급기 박스(110)의 머플(10)의 바닥면(11)을 향하는 면에는 복수의 하부 관통구멍(114)이 형성되어 있다.A plurality of lower through holes 114 are formed in a surface of the lower supply box 110 facing the bottom surface 11 of the muffle 10.

급기 파이프(130)는 가스 봄베 등 열처리로 외부의 가스 저장 장치와 연결되어 있다. 급기 파이프(130)는 가스 저장 장치에 저장된 가스 또는 가스 혼합 장치를 통해서 혼합된 분위기 가스를 머플(10) 내에 공급한다. 급기 파이프(130)는 머플(10)의 바닥면(11)에 길게 형성된 홈(13)에 설치된다. 머플(10)의 바닥면(11) 아래에는 발열체(2)가 설치되므로 분위기 가스는 발열체(2)에 의해서 가열된 상태로 머플(10)의 내부로 공급된다. 급기 파이프(130)의 머플(10)의 바닥면(11)을 향하는 면에는 복수의 급기 파이프 관통구멍(132)이 형성되어 있다.The supply pipe 130 is connected to a gas storage device outside the heat treatment furnace such as a gas cylinder. The supply pipe 130 supplies the mixed atmosphere gas into the muffle 10 through the gas or gas mixing device stored in the gas storage device. The supply pipe 130 is installed in a groove 13 formed on the bottom surface 11 of the muffle 10. A heating element 2 is provided under the bottom surface 11 of the muffle 10 so that the atmospheric gas is supplied to the inside of the muffle 10 while being heated by the heating element 2. A plurality of air supply pipe through holes 132 are formed in a surface of the air supply pipe 130 facing the bottom surface 11 of the muffle 10.

급기 파이프(130)를 통해서 공급된 분위기 가스는 머플(10)의 바닥면(11)에 형성된 바닥면 관통구멍(15)과 하부 급기 박스(110)의 바닥면에 형성된 하부 관통구멍(114)을 통해서 하부 급기 박스(110)의 내부에 전달된다. 머플(10)의 바닥면(11)에 형성된 바닥면 관통구멍(15)은 급기 파이프 관통구멍(132)에 대응하는 위치에 형성되며, 하부 급기 박스(110)의 바닥면에 형성된 하부 관통구멍(114)은 머플(10)의 바닥면(11)에 형성된 바닥면 관통구멍(15)에 대응하는 위치에 형성된다.The atmospheric gas supplied through the supply pipe 130 flows through the bottom surface through hole 15 formed in the bottom surface 11 of the muffle 10 and the bottom through hole 114 formed in the bottom surface of the bottom supply box 110 And is delivered to the inside of the lower supply box 110. The bottom surface through hole 15 formed in the bottom surface 11 of the muffle 10 is formed at a position corresponding to the air supply pipe through hole 132 and is formed in a lower through hole 114 are formed at positions corresponding to the bottom surface through holes 15 formed in the bottom surface 11 of the muffle 10.

급기 파이프(130)를 통해서 공급된 분위기 가스는 급기 파이프 관통구멍(132), 머플(10)의 바닥면(11)에 형성된 바닥면 관통구멍(15), 하부 급기 박스(110)의 바닥면에 형성된 하부 관통구멍(114)을 통과하여, 하부 급기 박스(110)의 내부로 공급된 후 관통구멍 패턴(120)을 통해서 머플(10)의 내부공간(17)으로 균일하게 공급된다.The atmospheric gas supplied through the air supply pipe 130 flows through the air supply pipe through hole 132, the bottom surface through hole 15 formed in the bottom surface 11 of the muffle 10, the bottom surface of the bottom air supply box 110 And is uniformly supplied to the inner space 17 of the muffle 10 through the through hole pattern 120 after being supplied into the lower air supply box 110 through the lower through hole 114 formed therein.

다음, 상부 급기 장치(200)에 대해서 설명한다.Next, the upper air supply device 200 will be described.

상부 급기 박스(210)는 머플(10)의 상부에 설치된 브라킷(미도시) 위에 배치된다. 상부 급기 박스(210)는 머플(10)의 길이, 머플(10)의 열처리 구간의 수 등에 따라서 그 개수가 변경될 수 있다. 머플(10)의 길이가 길고, 분위기가 다른 열처리 구간의 수가 많을 경우에는 상부 급기 박스(210)의 수가 증가한다. 외부전극 소성을 예를 들어, 머플(10)의 상류 측 탈바인더 구간에서는 외부전극 페이스트의 내부에 포함되어 있는 바인더를 제거하기 위해서 산소농도가 높은 가스가 공급되어야 하며, 소성 구간에서는 외부전극의 산화를 방지하기 위해서 산소농도가 낮은 가스가 공급되어야 한다.The upper air supply box 210 is disposed on a bracket (not shown) provided on the upper portion of the muffle 10. The number of the upper supply box 210 can be changed according to the length of the muffle 10, the number of heat treatment sections of the muffle 10, and the like. When the length of the muffle 10 is long and the number of heat treatment zones having different atmospheres is large, the number of the upper air supply boxes 210 increases. For example, in the binder removal zone on the upstream side of the muffle 10, a gas having a high oxygen concentration must be supplied to remove the binder contained in the outer electrode paste. In the firing period, A gas having a low oxygen concentration should be supplied.

도 6은 도 2에 도시된 상부 급기 장치의 배면도이며, 도 7은 도 2에 도시된 상부 급기 장치의 단면도이다.Fig. 6 is a rear view of the upper air supply device shown in Fig. 2, and Fig. 7 is a sectional view of the upper air supply device shown in Fig.

도 7에 도시된 바와 같이, 상부 급기 박스(210)는 머플의 바닥면을 향해서 30 내지 60°로 경사진 양 측면을 구비한다. 즉, 상부 급기 박스(210)의 단면은 윗변의 길이가 밑변의 길이에 비해서 긴 사다리꼴이 된다.As shown in Fig. 7, the upper supply box 210 has both sides inclined at 30 to 60 degrees toward the bottom surface of the muffle. That is, the upper surface of the upper air supply box 210 has a longer trapezoid than the lower side.

도 6에 도시된 바와 같이, 상부 급기 박스(210)의 경사진 양쪽 측면에는 상부 관통구멍 패턴(220)이 형성된다. 상부 관통구멍 패턴(220)은 상술한 하부 급기 박스(110)의 관통구멍 패턴(120)과 마찬가지로 복수의 관통구멍 라인(221)들이 서로 나란하게 배치된 형태이다. 6, an upper through-hole pattern 220 is formed on both inclined side surfaces of the upper air supply box 210. As shown in FIG. The upper through hole pattern 220 has a plurality of through hole lines 221 arranged in parallel to each other like the through hole pattern 120 of the lower supply box 110 described above.

그리고 상부 관통구멍 패턴의 각각의 관통구멍(212)은 하부 급기 박스(110)의 관통구멍(112)과 마찬가지로, 그 최대 폭(Y)이 그 최대 길이(X)의 3% 내지 7%이며, 관통구멍(212)의 최대 길이(X)는 상부 급기 박스(210)의 폭(Xt)의 2% 내지 10%이다. Each through hole 212 of the upper through hole pattern has a maximum width Y of 3% to 7% of its maximum length X, like the through hole 112 of the lower air supply box 110, The maximum length X of the through hole 212 is 2% to 10% of the width Xt of the upper air supply box 210.

이러한 상부 급기 박스(210)는 하부 급기 박스(110)의 관통구멍 패턴(120)과 마찬가지로 각각의 열처리 구간의 양단에 설치되는 것이 바람직하다.It is preferable that the upper supply box 210 is installed at both ends of each heat treatment section, like the through hole pattern 120 of the lower supply box 110.

각각의 상부 급기 박스(210)에는 가스를 공급하기 위한 급기관(230)이 연결된다. 급기관(230)은 상부 급기 박스(210)의 상면과 연통될 수 있다. 급기관(230)을 통해서 공급된 가스는 상부 급기 박스(210)의 내부공간을 채우게 된다. 내부공간을 채운 가스는 상부 급기 박스(210)의 관통구멍 패턴(220)을 통해서 균일하게 머플(10) 내부로 공급된다.Each of the upper air supply boxes 210 is connected to an air supply pipe 230 for supplying gas. The air supply tube 230 may communicate with the upper surface of the upper air supply box 210. The gas supplied through the air supply tube 230 fills the inner space of the upper air supply box 210. The gas filled in the inner space is uniformly supplied into the muffle 10 through the through hole pattern 220 of the upper air supply box 210.

이상, 바람직한 실시예를 들어 본 발명을 설명하였으나, 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the scope of the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. It is possible to make an improved modification. Accordingly, such improvements and modifications will fall within the scope of the present invention as long as they are obvious to those skilled in the art.

2 : 발열체 4: 배기장치
6: 로체 10: 머플
11: 바닥면 13: 홈
15: 바닥면 관통구멍 17: 내부공간
100: 하부 급기 장치 110: 하부 급기 박스
112: 관통구멍 114: 하부 관통구멍
120: 관통구멍 패턴 130: 급기 파이프
132: 급기 파이프 관통구멍 200: 상부 급기 장치
210: 상부 급기 박스2: Heating element 4: Exhaust device
6: Roche 10: Muffle
11: bottom surface 13: groove
15: bottom surface through hole 17: inner space
100: lower supply device 110: lower supply box
112: through hole 114: lower through hole
120: Through hole pattern 130: Supply pipe
132: Supply pipe through-hole 200: Upper supply unit
210: upper supply box

Claims

피소성물이 통과하는 머플과, 상기 머플을 가열하는 다수의 발열체와 상기 피소성물을 상기 머플의 입구에서 출구방향으로 이송하는 이송부와 상기 머플, 발열체 및 이송부를 지지하는 로체를 포함하는 연속식 열처리로에 있어서,
상기 머플의 내부 바닥면 위에 설치되며, 머플의 내부공간을 향하는 면에 관통구멍 패턴이 형성되어 있는 하부 급기 박스와,
상기 하부 급기 박스에 분위기 가스를 공급하는 급기 파이프를 포함하며,
상기 관통구멍 패턴은 복수의 관통구멍들이 상기 하부 급기 박스의 머플의 내부공간을 향하는 면의 일정한 영역에 서로 이격된 상태로 배치된 형태이며,
각각의 관통구멍은 그 최대 폭(Y)이 그 최대 길이(X)의 3% 내지 7%이며, 상기 관통구멍의 최대 길이(X)는 상기 하부 급기 박스의 폭(Xb)의 2% 내지 10%인 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.A continuous heat treatment furnace including a muffle through which the object to be treated passes, a plurality of heat generating bodies for heating the muffle, a transfer section for transferring the object to be treated from an inlet of the muffle to an outlet direction, and a furnace for supporting the muffle, In this case,
A lower air supply box provided on an inner bottom surface of the muffle and having a through hole pattern formed on a surface facing the inner space of the muffle,
And an air supply pipe for supplying the atmospheric gas to the lower air supply box,
Wherein the through-hole pattern is formed in a state that a plurality of through-holes are spaced apart from each other in a predetermined area of a surface of the muffle of the lower supply box facing the inner space,
Each of the through holes has a maximum width Y of 3% to 7% of the maximum length X and a maximum length X of the through holes is 2% to 10% of a width Xb of the lower supply box %. &Lt; / RTI >

제1항에 있어서,
상기 관통구멍들은 그 길이방향이 상기 머플의 폭방향과 나란하게 배치되는 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.The method according to claim 1,
Wherein the through holes are arranged so that the longitudinal direction thereof is parallel to the width direction of the muffle.

제2항에 있어서,
상기 머플의 길이방향으로 서로 인접하는 관통구멍들은 서로 엇갈리도록 배치되는 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.3. The method of claim 2,
Wherein the through holes adjacent to each other in the longitudinal direction of the muffle are arranged to be staggered from each other.

제1항에 있어서,
상기 머플의 내부공간은 복수의 열처리 구간으로 구획되며, 상기 관통구멍 패턴은 각각 열처리 구간의 양단에 형성되는 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.The method according to claim 1,
Wherein the inner space of the muffle is divided into a plurality of heat treatment sections, and each of the through hole patterns is formed at both ends of the heat treatment section.

제1항에 있어서,
상기 관통구멍은 직사각형 형태인 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.The method according to claim 1,
Wherein the through hole is in the form of a rectangle.

제1항에 있어서,
상기 머플의 바닥면에는 홈이 길게 형성되며,
상기 급기 파이프는 상기 홈에 설치되며, 상기 머플의 바닥면을 향하는 면에 관통구멍이 형성되며,
상기 하부 급기 박스는 상기 머플의 바닥면을 향하는 면의 적어도 일부가 개방되며,
상기 하부 급기 박스와 상기 급기 파이프는 상기 머플의 바닥면을 사이에 두고 위 아래로 배치되며, 상기 머플의 바닥면에 형성된 관통구멍을 통해서 연통되는 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.The method according to claim 1,
A groove is formed on the bottom surface of the muffle,
Wherein the air supply pipe is provided in the groove, a through hole is formed in a surface facing the bottom surface of the muffle,
Wherein the lower supply box is opened at least a part of the surface facing the bottom surface of the muffle,
Wherein the lower supply box and the supply pipe are disposed up and down with a bottom surface of the muffle interposed therebetween and communicate with each other through a through hole formed in the bottom surface of the muffle.

제1항에 있어서,
상기 머플의 내부공간 상부에 설치되며, 머플의 바닥면을 향해서 30 내지 60°로 경사진 측면에 상부 관통구멍 패턴이 형성되어 있는 상부 급기 박스를 더 포함하며,
상기 상부 관통구멍 패턴은 복수의 상부 관통구멍들이 상기 상부 급기 박스의 측면의 일정한 영역에 서로 이격된 상태로 배치된 형태이며,
각각의 상부 관통구멍은 그 최대 폭(Y)이 그 최대 길이(X)의 3% 내지 7%이며, 상기 상부 관통구멍의 최대 길이(X)는 상기 상부 급기 박스의 폭(Xt)의 2% 내지 10%인 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.The method according to claim 1,
Further comprising an upper air supply box provided at an upper portion of the inner space of the muffle and having an upper through hole pattern formed at a side inclined at 30 to 60 degrees toward a bottom surface of the muffle,
The upper through-hole pattern is a shape in which a plurality of upper through-holes are disposed in a predetermined area on a side of the upper air supply box so as to be spaced apart from each other,
Each of the upper through holes has a maximum width Y of 3% to 7% of the maximum length X and a maximum length X of the upper through hole is 2% of a width Xt of the upper air supply box. To 10%. &Lt; / RTI >

제7항에 있어서,
상기 상부 관통구멍 패턴은 상부 급기 박스의 양쪽 측면에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.8. The method of claim 7,
And the upper through-hole pattern is formed on both side surfaces of the upper air supply box.

제7항에 있어서,
상기 상부 급기 박스는 열처리 구간의 양단에 설치되는 것을 특징으로 하는 연속식 열처리로.8. The method of claim 7,
Wherein the upper air supply box is installed at both ends of the heat treatment section.