KR20160063635A - Substrate stand apparatus - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a substrate supporting rack including: a substrate supporting part which supports a substrate by coming in contact with a bottom of the substrate, and is installed to be movable up and down depending on the supporting the substrate; a rotary member which has one end located at the lower side of the substrate supporting part, has the other end located in a separation area separated from an area where the substrate is supported, is installed to be rotatable around a hinge axis, and rotates around the hinge axis when the substrate is supported by the substrate supporting part and the substrate supporting part moves downwardly; and a detection sensor to detect the position of the rotary member. The substrate supporting rack can detect existence of the substrate accurately even though liquid like pure water is stained on a surface of the substrate on the substrate supporting part.

Description

기판 거치대 {SUBSTRATE STAND APPARATUS}SUBSTRATE STAND APPARATUS

본 발명은 기판 거치대에 관한 것으로, 상세하게는 기판 거치대에서 분사되고 있는 순수에 의해 잘못 감지하지 않고 기판의 유무를 정확하게 감지할 수 있는 기판 거치대에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate holder, and more particularly, to a substrate holder capable of accurately detecting the presence or absence of a substrate without erroneously sensing by pure water injected from the substrate holder.

일반적으로 디스플레이 장치에 사용되는 기판이나 반도체 소자의 제작에 사용되는 웨이퍼(이하, 이들을 '기판'이라고 통칭함)를 처리하는 공정 중에 기판을 젖은 상태로 거치시키는 공정이 종종 발생된다. In general, a process of immersing a substrate in a wet state during a process of processing a substrate used for a display device or a wafer used for manufacturing a semiconductor device (hereinafter, referred to as a "substrate") often occurs.

예를 들어, 웨이퍼의 화학 기계적 연마 공정을 행하기 이전에 연마 헤드에 웨이퍼를 장착하기 이전에도 웨이퍼를 로딩 유닛에 거치시키고, 웨이퍼의 화학 기계적 연마 공정이 완료된 상태에서도 연마 헤드로부터 웨이퍼를 언로딩하여 언로딩 유닛에 거치시키며, 화학 기계적 연마 공정이 종료된 상태에서 다단계의 세정 공정을 거치시킨다. For example, even before the wafer is mounted on the polishing head before the chemical mechanical polishing process of the wafer is performed, the wafer is loaded on the loading unit and the wafer is unloaded from the polishing head even when the chemical mechanical polishing process of the wafer is completed Unloading unit, and the multistage cleaning process is performed in a state where the chemical mechanical polishing process is completed.

그리고, 기판이 거치된 상태에서 기판이 거치된 상태인지 아니면 거치 대기 상태인지를 파악하여, 그 다음 공정을 행하므로 기판의 거치 상태를 확인하는 것은 중요하다. It is important to confirm whether the substrate is in a stationary state or in a stationary standby state in the state where the substrate is stationary, and then perform the next step.

이를 위하여, 도1 및 도2에 도시된 기판 거치대(1)는 기판을 로딩하거나 언로딩할 때에 거치시키는 거치대로서, 기판(W)을 거치시키는 지지대(10)와, 기판(W)의 표면에 순수(55)를 분사하는 순수 공급부(20)와, 기판 거치대(1)에 기판(W)이 위치하고 있는지를 감시하는 기판 감지 센서(30)와, 순수(55)가 주변으로 튀지 않도록 막는 커버(40)로 구성된다. The substrate holder 1 shown in FIG. 1 and FIG. 2 is a holder for holding the substrate W when loading or unloading the substrate. The substrate holder 10 includes a support table 10 for holding the substrate W, A pure water supply unit 20 for spraying pure water 55, a substrate detection sensor 30 for monitoring whether the substrate W is positioned on the substrate holder 1, a cover (not shown) 40).

기판 지지대(10)는 기판(W)의 저면이나 가장자리를 거치시키는 거치면(10s)이 형성되고, 낙하 방지대(15)의 주변에 배열된다. 이에 따라, 기판(W)을 기판 거치대(10)에 거치시키는 데 오류가 발생되더라도, 기판(W)이 추락하지 않는다.The substrate support 10 is provided with a mounting surface 10s for mounting the substrate W on the bottom or edge of the substrate W and is arranged around the fall preventing member 15. [ Thus, even if an error occurs in mounting the substrate W on the substrate holder 10, the substrate W does not fall down.

순수 공급부(20)는 기판 지지대(10)에 거치된 기판(W)에 순수(55)를 분사공(20a)을 통해 분사하여, 기판(W)의 상태에 따라 건조하여 손상되는 것을 방지한다. The pure water supply unit 20 injects the pure water 55 through the spray hole 20a to the substrate W placed on the substrate support 10 to prevent drying and damage according to the state of the substrate W. [

기판 감지 센서(30)는 기판 지지대(10)에 거치되는 위치에 광(30a)을 조사하여, 기판(W)에서의 반사광을 수광하여 기판(W)의 유무를 감지한다. The substrate detection sensor 30 irradiates light 30a at a position where the substrate support 10 is stationary and detects the presence or absence of the substrate W by receiving the reflected light from the substrate W. [

커버(40)는 순수 공급부(20)로부터 공급되는 순수가 바깥으로 튀는 것을 차단하는 역할을 한다. The cover 40 serves to prevent the pure water supplied from the pure water supply unit 20 from splashing outward.

상기와 같이 구성된 기판 거치대(1)는 기판 지지대(10)에 기판(W)이 거치된 상태에서는 기판 감지 센서(30)로부터 조사되는 광(30a)의 반사광(난반사광을 포함)을 수광하여 기판(W)의 유무를 감지한다. The substrate holder 1 configured as described above receives reflected light (including non-reflected light) of the light 30a emitted from the substrate sensor 30 in a state where the substrate W is mounted on the substrate support 10, (W).

그러나, 도1 및 도2에 도시된 종래의 기판 거치대(1)는 순수(55)가 기판의 표면에 공급됨에 따라, 기판 감지 센서(30)로부터 조사된 광(30a)이 기판(W)의 표면에 잔류하는 순수(55)에 의하여 산란되어, 기판(W)의 유무를 정확하게 파악할 수 없는 문제가 있었다.
However, since the conventional substrate holder 1 shown in Figs. 1 and 2 supplies the pure water 55 to the surface of the substrate, the light 30a irradiated from the substrate detection sensor 30 is reflected on the surface of the substrate W There is a problem that the presence or absence of the substrate W can not be accurately grasped due to scattering by the pure water 55 remaining on the surface.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판 거치대에 거치된 기판에 순수를 분사하더라도 기판의 유무를 정확하게 감지할 수 있는 기판 거치대를 제공하는 것을 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a substrate holder capable of precisely detecting the presence or absence of a substrate even when pure water is sprayed onto the substrate placed on the substrate holder.

상술한 바와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은, 기판을 거치시키는 기판 거치대로서, 기판의 저면과 접촉하여 상기 기판을 거치하되, 상기 기판의 거치에 따라 상하로 이동 가능하게 설치된 기판 지지대와; 일단이 상기 기판 지지대의 하측에 위치하고 타단이 상기 기판이 거치되는 영역과 격리된 격리 영역 내에 위치하고 힌지축을 중심으로 회동 가능하게 설치되어, 상기 기판이 상기 기판 지지대에 거치되어 상기 기판 지지대가 하방으로 이동하면, 상기 힌지축을 중심으로 회전하는 회동 부재와; 상기 회동 부재의 위치를 감지하는 감지 센서를; 포함하여 구성되어, 상기 감지 센서에 의해 감지되는 상기 회동 부재의 타단의 이동에 의하여 상기 기판의 거치 여부를 감지하는 기판 거치대를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate mounting table for mounting a substrate thereon, the substrate mounting table comprising: a substrate support table installed to be movable up and down according to the mounting of the substrate in contact with the bottom surface of the substrate; ; And the other end is located in an isolated region isolated from an area where the substrate is mounted and is pivotable about a hinge axis so that the substrate is placed on the substrate support and the substrate support is moved downward A pivoting member that rotates about the hinge axis; A sensing sensor for sensing a position of the tiltable member; And detecting whether or not the substrate is held by the movement of the other end of the tiltable member detected by the detection sensor.

여기서, 상기 감지 센서는 상기 회동 부재의 타단의 위치를 감지하는 변위 센서로 형성될 수 있다. Here, the detection sensor may be a displacement sensor for detecting the position of the other end of the tiltable member.

또한, 본 발명은, 기판을 거치시키는 기판 거치대로서, 기판의 저면과 접촉하여 상기 기판을 거치하되, 상기 기판의 거치에 따라 상하로 이동 가능하게 설치된 기판 지지대와; 일단이 상기 기판 지지대와 연동되어 상하 이동하고, 상기 기판이 거치되는 영역과 격리된 격리 영역 내에 타단이 위치하여, 상기 기판이 상기 기판 지지대에 거치되어 상기 기판 지지대가 하방으로 이동하는 이동 부재와; 상기 이동 부재의 위치를 감지하는 감지 센서를; 포함하여 구성되어, 상기 감지 센서에 의해 감지되는 상기 이동 부재의 타단의 이동에 의하여 상기 기판의 거치 여부를 감지하는 기판 거치대를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate holder for mounting a substrate thereon, the substrate holder including: a substrate supporter mounted on the substrate in contact with a bottom surface of the substrate to be movable up and down according to the substrate; A movable member whose one end is moved up and down in association with the substrate support and the other end is located in an isolated region isolated from an area where the substrate is mounted and the substrate is placed on the substrate support and the substrate support is moved downward; A sensing sensor for sensing a position of the moving member; And a substrate holder for detecting whether or not the substrate is held by the movement of the other end of the moving member detected by the detection sensor.

여기서, 상기 감지 센서는 상기 이동 부재의 타단의 위치를 감지하는 변위 센서로 형성될 수 있다. Here, the detection sensor may be formed as a displacement sensor that senses the position of the other end of the moving member.

그리고, 본 발명은, 상기 기판이 거치되는 영역을 감싸는 커버를; 더 포함하여 구성되고, 상기 격리 영역은 상기 커버의 바깥쪽에 배치되어, 기판의 표면에 도포하는 순수에 의하여 튀는 물방울로부터 격리된 영역에서 기판의 거치 여부를 감지하여, 기판이 거치되었는지 여부를 정확하게 감지할 수 있다.Further, the present invention is characterized by comprising: a cover surrounding an area where the substrate is mounted; Wherein the isolation region is disposed outside the cover to detect whether the substrate is stuck in an area isolated from water droplets splashed by the pure water applied to the surface of the substrate to accurately detect whether the substrate is stuck or not can do.

한편, 상기 기판 지지대는 화학 기계적 연마 공정에 기판을 공급하는 로딩 유닛과, 화학 기계적 연마 공정이 종료된 기판을 받아두는 언로딩 유닛과, 기판을 거치한 상태로 회전하면서 헹구거나 세정하는 장치 중 어느 하나일 수 있다.
The substrate support may include a loading unit for supplying a substrate to the chemical mechanical polishing process, an unloading unit for receiving the substrate after the chemical mechanical polishing process is completed, and a device for cleaning or rinsing while rotating the substrate It can be one.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 기판의 거치에 따라 기판의 자중에 해당하는 만큼 상하 이동되는 기판 거치대에 연동하여 회전하거나 이동하는 부재의 타단을 기판이 거치되는 영역과 격리된 격리 영역에 위치시키고, 기판이 상기 기판 지지대에 거치되어 상기 기판 지지대가 하방으로 이동함에 따라 부재의 타단의 이동을 감지 센서로 감지하여 기판의 거치 여부를 확인함에 따라, 기판 지지대 상의 기판의 표면에 순수 등의 액체가 묻어 있더라도 정확하게 기판의 유무를 감지할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
As described above, according to the present invention, the other end of a member rotating or moving in association with a substrate holder, which is moved up and down by the amount corresponding to the self weight of the substrate, is positioned in an isolated region isolated from a region where the substrate is mounted The substrate is supported by the substrate support and the substrate support is moved downward, the movement of the other end of the member is sensed by the detection sensor to confirm whether the substrate is stationary or not, It is possible to obtain an advantageous effect of accurately detecting the presence or absence of the substrate.

도1은 종래의 기판 거치대의 구성을 도시한 사시도,
도2는 도1의 기판 거치대에 기판이 거치되고 기판 감지 센서에 의하여 기판의 유무를 감지하는 구성을 도시한 개략도,
도3은 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 거치대의 구성을 도시한 사시도,
도4a는 도3의 'A'부분의 기판 거치대의 구성을 도시한 종단면도,
도4b는 도4a의 기판 거치대의 기판의 유무를 감지하는 원리를 설명하기 위한 종단면도,
도5a는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 거치대로서 도3의 'A'부분에 대응하는 부분의 기판 거치대의 구성을 도시한 종단면도,
도5b는 도5a의 기판 거치대의 기판의 유무를 감지하는 원리를 설명하기 위한 종단면도이다.
1 is a perspective view showing a configuration of a conventional substrate holder,
FIG. 2 is a schematic view showing a configuration in which a substrate is mounted on the substrate holder of FIG. 1 and the presence or absence of a substrate is detected by a substrate detection sensor;
3 is a perspective view showing a configuration of a substrate holder according to a first embodiment of the present invention,
FIG. 4A is a longitudinal sectional view showing the configuration of the substrate holder of the portion 'A' in FIG. 3,
FIG. 4B is a longitudinal sectional view for explaining the principle of detecting the presence or absence of the substrate of the substrate holder of FIG. 4A,
FIG. 5A is a longitudinal sectional view showing a configuration of a substrate holder of a portion corresponding to the portion 'A' of FIG. 3 as a substrate holder according to a second embodiment of the present invention;
5B is a vertical sectional view for explaining the principle of detecting the presence or absence of the substrate of the substrate holder of FIG. 5A.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 거치대(100)에 대하여 구체적으로 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하며, 동일하거나 유사한 기능 혹은 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하기로 한다.Hereinafter, a substrate holder 100 according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the present invention, well-known functions or constructions will be omitted for the sake of clarity of the present invention, and the same or similar function or configuration will be given the same or similar reference numerals.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 거치대(100)는, 기판의 저면을 지지하고 탄성 지지되어 상하 이동 가능하게 설치된 기판 지지대(110)와, 기판(W)의 표면에 순수(55)를 분사하는 순수 공급부(120)와, 기판 지지대(110)에 기판(W)이 거치하고 있는지를 감지하는 감지 센서(130)와, 기판 지지대(110)의 둘레를 감싸서 순수 공급부(120)로부터 기판(W)의 표면에 공급하는 순수가 외부로 튀지 않게 막는 커버(140)와, 기판 지지대(110)의 상하 이동에 연동하여 회전 가능하게 설치된 회동 부재(150)를 포함하여 구성된다.
As shown in the drawing, the substrate holder 100 according to the first embodiment of the present invention includes a substrate support 110 which supports the bottom surface of the substrate and is elastically supported and movable up and down, A sensor 130 for detecting whether the substrate W is mounted on the substrate supporter 110 and a sensor 130 for sensing whether the substrate W is mounted on the substrate supporter 110. The pure supporter 120 surrounds the substrate supporter 110, A cover 140 for preventing pure water supplied to the surface of the substrate W from the substrate support 120 from bouncing to the outside and a tilting member 150 rotatably provided in association with the vertical movement of the substrate support table 110 do.

상기 기판 지지대(110)는 기판(W)이 거치되면 기판(W)의 저면과 맞닿는 거치면(110s)이 형성되고, 스프링(112)에 의하여 탄성 지지된다. 이에 따라, 기판(W)이 거치면(110s)에 거치되면 탄성 지지된 상태로 기판(W)의 자중에 의하여 하방으로 이동(110d)하게 된다. When the substrate W is mounted on the substrate support table 110, a stationary surface 110s which abuts the bottom surface of the substrate W is formed and is elastically supported by the spring 112. Accordingly, when the substrate W is placed on the stationary surface 110s, the substrate W is moved downward (110d) by the self weight of the substrate W in a state of being elastically supported.

여기서, 기판 지지대(110)에 거치되는 기판(W)의 무게에 따라 기판 지지대(110)의 상하 이동 변위가 1mm 내지 30mm 범위가 되도록 스프링(112)의 강성이 정해진다. 따라서, 기판(W)이 충분히 무거운 경우에는 스프링 강성(112)은 커지고, 직경이 300mm인 웨이퍼와 같이 기판(W)이 가벼운 경우에는 스프링 강성(112)은 작아진다. The rigidity of the spring 112 is determined so that the vertical displacement of the substrate support 110 is in the range of 1 mm to 30 mm in accordance with the weight of the substrate W mounted on the substrate support 110. Accordingly, when the substrate W is sufficiently heavy, the spring stiffness 112 becomes large, and when the substrate W is light, such as a wafer with a diameter of 300 mm, the spring stiffness 112 becomes small.

기판 지지대(110)의 상하 이동과 회동 부재(150)의 회전 운동을 연동시키기 위하여, 회동 부재(1150)의 일단(150R)이 위치한 기판 지지대(110)의 저면에는 접촉 부재(110a)가 곡면 형상을 갖게 구비될 수도 있다. 이를 통해, 회동 부재(150)가 힌지축(150H)을 중심으로 회전하더라도, 기판 지지대(110)의 하방 이동에 따라 회동 부재(150)의 일단(150R)이 지속적으로 접촉한 상태를 유지하면서 기판 지지대(110)에 의해 하방으로 밀리게 되므로, 기판 지지대(110)의 하방 이동에 따른 회동 부재(150)의 회전 운동을 원활하게 할 수 있다. The contact member 110a is formed on the bottom surface of the substrate support 110 on which the one end 150R of the tiltable member 1150 is disposed so as to be interlocked with the vertical movement of the substrate support 110 and the rotation movement of the tiltable member 150, As shown in FIG. Even though the pivoting member 150 rotates about the hinge axis 150H, the one end 150R of the pivoting member 150 is kept in contact with the substrate support 110 in a downward direction, The pivot member 150 can be smoothly rotated in accordance with the downward movement of the substrate support table 110 because the pivot member 150 is pushed downward by the support table 110. [

도면에는 기판 지지대(110)가 다수로 이루어져 기판(W)의 가장자리 저면을 지지하는 형태의 구성을 예시하였지만, 도면에 도시되지 않은 다른 실시 형태에 따르면, 기판 지지대(110)가 기판(W)의 중앙부 저면을 지지하는 형태로 형성될 수도 있다.Although the figure shows a configuration in which a plurality of substrate supports 110 are provided to support the bottom edge of the substrate W, according to another embodiment not shown in the drawing, And may be formed in a shape to support the bottom of the center portion.

상기 순수 공급부(120)는 기판 지지대(110)에 기판(W)이 거치되면, 기판(W)의 표면에 순수(55)를 공급한다. 순수 공급부(120)는 필요에 따라 구비되지 않을 수도 있지만, 화학 기계적 연마 공정과 연관된 기판은 건조에 의하여 기판이 손상되므로 순수를 공급하는 것이 필요하다.The pure water supply unit 120 supplies pure water 55 to the surface of the substrate W when the substrate W is mounted on the substrate support 110. Although the pure water supply unit 120 may not be provided as needed, the substrate associated with the chemical mechanical polishing process is required to supply pure water because the substrate is damaged by drying.

상기 커버(140)는 기판 지지대(110)의 둘레를 감싸면서 충분히 높게 연장되어, 기판이 기판 지지대(110)에 거치된 상태에서 도포되는 순수나 처리 공정에 사용되는 액체가 주변으로 튀는 것을 방지한다. The cover 140 extends around the periphery of the substrate support 110 so as to be sufficiently high to prevent pure water applied in a state where the substrate is mounted on the substrate support 110 and liquid used in the treatment process to bounce around .

기판 지지대(110)가 위치한 커버(140)의 바깥에는, 커버(140)로 둘러싸인 기판 영역(X1)과 격벽(99)에 의해 격리되는 격리 공간(X2)을 형성하는 하우징(160)이 형성된다.
Outside the cover 140 on which the substrate support 110 is disposed is formed a housing 160 forming a substrate region X1 surrounded by the cover 140 and an isolation space X2 isolated by the partition wall 99 .

상기 회동 부재(150)는 커버(140)에 의해 둘러싸인 기판 거치 영역(X1)과 격리 영역(X2)에 각각 일단(150R)과 타단(150L)이 위치하고, 그 중앙부의 힌지축(150H)을 중심으로 회전 가능하게 설치된다. 그리고 회동 부재(150)의 일단(150R)은 기판 지지대(110)의 저면에 위치한 접촉 부재(110a)와 접촉하고 있는 상태가 유지된다. One end 150R and the other end 150L of the tiltable member 150 are located in the substrate mounting area X1 and the isolation area X2 surrounded by the cover 140 and the hinge axis 150H As shown in Fig. One end 150R of the tiltable member 150 is kept in contact with the contact member 110a located on the bottom surface of the substrate support 110. [

그리고, 회동 부재(150)에는 기판 지지대(110)에 설치된 스프링(112)에 비하여 1/5 내지 1/100의 낮은 강성을 갖는 스프링(152)이 설치되어, 기판 지지대(110)가 상방으로 이동하면 회동 부재(150)를 제위치로 회전시키는 힘을 발휘한다. 그리고, 스프링(152)에 의하여 회동 부재(150)가 도4a에 도시된 원래의 제위치로 회전하여 복귀할 때에, 회동 부재(150)의 제위치에서 더이상 회전하는 것을 간섭에 의해 억제하는 벽면(77)이 형성되어, 회동 부재(150)가 더이상 회전하는 것을 제한하는 스토퍼 역할을 한다.
A spring 152 having a low rigidity of 1/5 to 1/100 as compared with the spring 112 provided on the substrate support table 110 is installed in the tiltable member 150 so that the substrate support table 110 is moved upward Thereby exerting a force for rotating the pivoting member 150 to the home position. 4 (a). When the pivoting member 150 is rotated and returned to the original position shown in Fig. 4 (a) by the spring 152, the wall surface 77 are formed to serve as a stopper for restricting rotation of the tiltable member 150.

상기 감지 센서(130)는 기판(W)과 격리되어 순수(55)가 튀지 않는 격리 영역(X2)에 설치되어, 회동 부재(150)의 타단(150L)의 감지면(150s)까지의 거리(L1)를 측정한다. The detection sensor 130 is installed in the isolation region X2 isolated from the substrate W and does not spatter the pure water 55 and detects the distance to the sensing surface 150s of the other end 150L of the tiltable member 150 L1) is measured.

기판 지지대(110)에 기판(W)이 거치되지 않은 상태에서는, 도4a에 도시된 바와 같이 회동 부재(150)가 힌지축(150H)을 중심으로 회전하지 않는 상태이므로, 감지 센서(130)로부터 회동 부재(150)의 타단(150L)에 위치한 감지면(150s)까지의 거리(L1)가 충분히 길게 측정된다. 그러나, 기판 지지대(110)에 기판(W)이 거치되면, 도4b에 도시된 바와 기판 지지대(110)가 기판(W)의 무게에 의하여 하방(110d)으로 이동하면서, 같이 회동 부재(150)가 힌지축(150H)을 중심으로 회전(150d)하고, 이에 따라 감지 센서(130)로부터 타단(150L)에 위치한 감지면(150S)까지의 거리(L2)가 줄어들게 된다. 4A, when the substrate W is not mounted on the substrate support 110, the rotation member 150 does not rotate about the hinge shaft 150H, The distance L1 to the sensing surface 150s located at the other end 150L of the tiltable member 150 is measured to be sufficiently long. However, when the substrate W is mounted on the substrate support 110, the substrate support 110 is moved downward by the weight of the substrate W as shown in FIG. 4B, And the distance L2 from the sensing sensor 130 to the sensing surface 150S located at the other end 150L is reduced by the rotation 150d about the hinge axis 150H.

따라서, 감지 센서(130)는 회동 부재(150)의 타단(150L)까지의 거리를 측정하는 것에 의하여 기판 지지대(110)에 기판(W)이 거치된 상태인지 여부를 감지할 수 있다. 특히, 감지 센서(130)는 기판(W)이 위치하는 영역(X1)과 격벽(99)에 의하여 격리되어 있으므로, 기판(W)에 순수나 세정액을 분사하는 것 등에 의하여 전혀 영향을 받지 않게 된다. 이를 통해, 본 발명은 기판 설치 영역(X1)에 도포되는 순수 등의 액체에 영향을 받지 않고, 격리 영역(X2)에 위치한 감지 센서(130)에서 회동 부재(150)의 타단까지의 거리 변화량으로부터 기판(W)이 기판 지지대(110)에 거치되었는지를 정확히 감지할 수 있다. Therefore, the detection sensor 130 can detect whether or not the substrate W is mounted on the substrate support 110 by measuring the distance to the other end 150L of the tiltable member 150. Particularly, since the detection sensor 130 is isolated by the region X1 where the substrate W is located and the partition wall 99, the detection sensor 130 is not affected at all by spraying pure water or a cleaning liquid on the substrate W . The present invention is not affected by the liquid such as pure water applied to the substrate mounting region X1 and the amount of change in the distance from the sensing sensor 130 located in the isolation region X2 to the other end of the tiltable member 150 It is possible to accurately detect whether the substrate W is mounted on the substrate support 110 or not.

즉, 상기와 같이 구성된 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 거치대(100)는, 기판지지대(110)에 기판(W)이 거치됨에 따라 기판(W)의 자중에 해당하는 만큼의 힘이 기판 지지대(110)에 작용하여, 상하 이동되는 기판 거치대(110)에 연동하여 회전하는 회동 부재(150)의 타단(150L)을 격리 영역(X2)에서 감지 센서(130)에 의해 위치를 감지하여 기판(W)의 거치 여부를 확인함에 따라, 커버(140)로 둘러싸인 영역(X1)에서 순수 등이 도포되고 있더라도 기판이 기판 지지대(110)에 거치되었는지 여부를 정확하게 감지할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
That is, the substrate holder 100 according to the first embodiment of the present invention is configured such that a force corresponding to the self weight of the substrate W as the substrate W is mounted on the substrate holder 110, The other end 150L of the pivoting member 150 that rotates in conjunction with the vertically moving substrate holder 110 by acting on the support table 110 is detected by the detection sensor 130 in the isolated region X2, It is possible to obtain an advantageous effect of accurately detecting whether or not the substrate is mounted on the substrate support 110 even if pure water or the like is coated in the region X1 surrounded by the cover 140 have.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 거치대(200)에 대하여 구체적으로 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 전술한 제1실시예의 기능 혹은 구성에 대해서는 본 실시예의 요지를 명료하게 하기 위하여 동일하거나 유사한 기능 혹은 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하고 이에 대한 설명을 생략하기로 한다.Hereinafter, a substrate holder 200 according to a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, the same or similar reference numerals are used to designate the same or similar functions or configurations of the first embodiment. .

본 발명의 제2실시예에 따른 기판 거치대(200)는, 기판의 저면을 지지하고 탄성 지지되어 상하 이동 가능하게 설치된 기판 지지대(210)와, 기판(W)의 표면에 순수(55)를 분사하는 순수 공급부(120)와, 기판 지지대(110)에 기판(W)이 거치하고 있는지를 감지하는 감지 센서(230)와, 기판 지지대(210)의 둘레를 감싸서 순수 공급부(120)로부터 기판(W)의 표면에 공급하는 순수가 외부로 튀지 않게 막는 커버(140)와, 기판 지지대(110)의 상하 이동에 연동하여 상하 이동 가능하게 설치된 이동 부재(250)를 포함하여 구성된다. 즉, 본 발명의 제2실시예는 기판 거치대(210)의 상하 이동에 의하여 이동 부재(250)가 함께 상하 이동한다는 점에서 제1실시예의 구성과 차이가 있다.
The substrate holder 200 according to the second embodiment of the present invention includes a substrate support 210 that supports the bottom surface of the substrate and is elastically supported to be movable up and down and pure water 55 is sprayed onto the surface of the substrate W A sensing sensor 230 for detecting whether the substrate W is mounted on the substrate support 110 and a sensor for sensing the substrate W from the pure water supply unit 120 by surrounding the substrate support 210. [ A cover 140 for preventing pure water supplied to the surface of the substrate support 110 from bouncing to the outside and a movable member 250 provided so as to be movable up and down in conjunction with the vertical movement of the substrate support 110. That is, the second embodiment of the present invention is different from the first embodiment in that the movable member 250 moves up and down together with the vertical movement of the substrate holder 210.

상기 기판 지지대(210)는 기판(W)이 거치되면 기판(W)의 저면과 맞닿는 거치면(210s)이 형성되고, 스프링(112)에 의하여 탄성 지지된다. 이에 따라, 기판(W)이 거치면(210s)에 거치되면 기판(W)의 자중에 의하여 기판 지지대(210)는 하방으로 이동(110d)하게 된다. When the substrate W is mounted on the substrate support 210, the mounting surface 210s contacting the bottom surface of the substrate W is formed and is elastically supported by the spring 112. Accordingly, when the substrate W is held on the stationary surface 210s, the substrate support 210 moves downward (110d) due to its own weight.

마찬가지로, 기판 지지대(210)에 거치되는 기판(W)의 무게에 따라 기판 지지대(210)의 상하 이동 변위가 1mm 내지 30mm 범위가 되도록 스프링(212)의 강성이 정해진다. 따라서, 기판(W)이 충분히 무거운 경우에는 스프링(212)의 강성은 커지고, 직경이 300mm인 웨이퍼와 같이 기판(W)이 가벼운 경우에는 스프링(212)의 강성은 작아진다. The rigidity of the spring 212 is determined so that the vertical displacement of the substrate support 210 is in the range of 1 mm to 30 mm in accordance with the weight of the substrate W mounted on the substrate support 210. Therefore, when the substrate W is sufficiently heavy, the rigidity of the spring 212 becomes large, and when the substrate W is light, such as a wafer with a diameter of 300 mm, the rigidity of the spring 212 becomes small.

이동 부재(150)는 기판 지지대(210)에 일단이 결합된 상태일 수도 있고, 비결합 상태이더라도 기판 지지대(210)가 하방으로 이동하면 기판 지지대(210)에 의하여 밀려 하방 이동하게 구성된다. The movable member 150 may be coupled to the substrate support 210 at one end or may be moved downward by the substrate support 210 when the substrate support 210 moves downward,

도면에는 기판 지지대(210)가 다수로 이루어져 기판(W)의 가장자리 저면을 지지하는 형태의 구성을 예시하였지만, 도면에 도시되지 않은 다른 실시 형태에 따르면, 기판 지지대(210)가 기판(W)의 중앙부 저면을 지지하는 형태로 형성될 수도 있다.
Although the figure shows a configuration in which a plurality of substrate supports 210 are provided to support the bottom edge of the substrate W, according to another embodiment not shown in the drawings, the substrate support 210 may be mounted on the substrate W And may be formed in a shape to support the bottom of the center portion.

상기 이동 부재(250)의 타단(250L)은 커버(140)에 의해 둘러싸인 기판 거치 영역(X1)과 격벽(99)에 의해 격리된 격리 영역(X2)에 위치하여, 기판 지지대(210)가 상하 방향으로 이동할 때에 연동하여 함께 상하 방향으로 이동한다. 이동 부재(250)는 가이드 벽면(88)에 의해 안내되며, 낮은 강성의 스프링(252)에 의하여 탄성 지지되게 설치된다. The other end 250L of the movable member 250 is located in the substrate mounting area X1 surrounded by the cover 140 and the isolation area X2 isolated by the partition wall 99, And moves in the vertical direction together. The moving member 250 is guided by the guiding wall surface 88 and is installed to be resiliently supported by a spring 252 of low rigidity.

여기서, 이동 부재(250)를 탄성 지지하는 스프링(252)은 기판 지지대(110)에 설치된 스프링(112)에 비하여 1/5 내지 1/100의 낮은 강성을 갖게 형성되어, 기판(W)의 중량에 의하여 기판 지지대(210)의 하방 이동이 방해받는 것을 최소화한다.
The spring 252 for elastically supporting the movable member 250 is formed to have a low rigidity of 1/5 to 1/100 as compared with the spring 112 provided on the substrate support 110 so that the weight of the substrate W The downward movement of the substrate support 210 is minimized.

상기 감지 센서(230)는 기판(W)과 격리되어 순수(55)가 튀지 않는 격리 영역(X2)에 설치되어, 이동 부재(250)의 타단(150L)까지의 거리를 측정한다. The sensing sensor 230 is installed in the isolation region X2 isolated from the substrate W and does not spatter the pure water 55 and measures the distance to the other end 150L of the moving member 250. [

기판 지지대(210)에 기판(W)이 거치되지 않은 상태에서는, 도5a에 도시된 바와 같이 이동 부재(250)가 하방 이동하지 않는 상태이므로, 감지 센서(230)로부터 이동 부재(250)의 타단(250L)까지의 거리(L1)가 작게 측정된다. 그러나, 기판 지지대(210)에 기판(W)이 거치되면, 도5b에 도시된 바와 기판 지지대(210)가 기판(W)의 무게에 의하여 하방(210d)으로 이동하면서, 이와 함께 이동 부재(250)도 하방(250d)으로 이동하므로, 감지 센서(230)로부터 타단(250L)까지의 측정된 거리(L2)는 보다 커지게 된다.5A, when the substrate W is not mounted on the substrate support 210, the movable member 250 is not moved downward, And the distance L1 to the center line 250L is measured to be small. However, when the substrate W is mounted on the substrate support 210, the substrate support 210 is moved downward by the weight of the substrate W as shown in FIG. 5B, Moves to the lower side 250d, so that the measured distance L2 from the sensing sensor 230 to the other end 250L becomes larger.

따라서, 감지 센서(230)는 이동 부재(250)의 타단(250L)까지의 거리 측정값을 통하여, 기판 지지대(210)에 기판(W)이 거치된 상태인지 여부를 감지할 수 있다. 특히, 감지 센서(230)는 기판(W)이 위치하는 영역(X1)과 격벽(99)에 의하여 격리되어 있으므로, 기판(W)에 순수나 세정액을 분사하는 것 등에 의하여 전혀 영향을 받지 않게 된다. Therefore, the detection sensor 230 can detect whether or not the substrate W is mounted on the substrate support 210 through the distance measurement value to the other end 250L of the movable member 250. Particularly, since the detection sensor 230 is isolated from the area X1 where the substrate W is located and the partition wall 99, the detection sensor 230 is not affected at all by spraying pure water or a cleaning liquid on the substrate W .

이를 통해, 본 발명은 기판 설치 영역(X1)에 도포되는 순수 등의 액체에 영향을 받지 않고, 격리 영역(X2)에 위치한 감지 센서(230)에서 이동 부재(250)의 타단(250L)까지의 거리 변화량으로부터 기판(W)이 기판 지지대(210)에 거치되었는지를 정확히 감지할 수 있다. The present invention is not limited by the liquid such as pure water that is applied to the substrate mounting area X1 and is not affected by the liquid from the sensing sensor 230 located in the isolation region X2 to the other end 250L of the moving member 250 It is possible to accurately detect whether the substrate W is mounted on the substrate support 210 from the distance variation.

상기와 같이 구성된 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 거치대(200)는, 기판지지대(210)에 기판(W)이 거치됨에 따라 기판(W)의 자중에 해당하는 만큼의 힘이 기판 지지대(210)에 작용하여, 상하 이동되는 기판 거치대(210)에 연동하여 회전하는 이동 부재(250)의 타단(250L)을 격리 영역(X2)에서 감지 센서(230)에 의해 위치를 감지하여 기판(W)의 거치 여부를 확인함에 따라, 커버(140)로 둘러싸인 영역(X1)에서 순수 등이 도포되고 있더라도, 격리 영역(X2)에서 기판이 기판 지지대(210)에 거치되었는지 여부를 정확하게 감지할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
The substrate holder 200 according to the second embodiment of the present invention is configured such that a force corresponding to the weight of the substrate W is applied to the substrate support table 210 as the substrate W is mounted on the substrate support table 210 The other end 250L of the moving member 250 which rotates in conjunction with the vertically moving substrate holder 210 is detected by the detection sensor 230 in the isolated region X2 and the substrate W It is possible to accurately detect whether or not the substrate is mounted on the substrate support 210 in the isolation region X2 even if pure water or the like is coated in the region X1 surrounded by the cover 140 An advantageous effect can be obtained.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 상기와 같은 특정 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 본 발명의 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, And can be appropriately changed within the scope of the claims.

또한, 전술한 실시예에서는 단순히 기판(W)을 거치하는 기판 거치대(100, 200, 300)의 구성을 예시하여 설명하였지만, 이와 같이 기판(W)을 거치하는 기판 거치대(100, 200, 300)는 화학 기계적 연마 공정에 기판을 공급하는 로딩 유닛과, 화학 기계적 연마 공정이 종료된 기판을 받아두는 언로딩 유닛과, 기판을 거치한 상태로 회전하면서 헹구거나 세정하는 세정 장치 등의 일부로 포함되어 구성된다는 것은 본 발명이 속하는 당업자에게 너무도 자명하다.
In the above-described embodiment, the substrate holding tables 100, 200, and 300 for holding the substrate W are merely exemplified. However, the substrate holding tables 100, 200, and 300, A loading unit for supplying the substrate to the chemical mechanical polishing process, an unloading unit for receiving the substrate on which the chemical mechanical polishing process has been completed, and a cleaning device for rinsing or cleaning the substrate while rotating the substrate, To the person skilled in the art to which the present invention belongs.

100, 200: 기판 거치대 110, 210: 기판 지지대
120: 순수 공급부 130, 230: 감지 센서
140: 커버 150: 회동 부재
250: 이동 부재 W: 기판100, 200: substrate holder 110, 210: substrate holder
120: pure water supply unit 130, 230: detection sensor
140: cover 150: pivot member
250: moving member W: substrate

Claims (9)

기판을 거치시키는 기판 거치대로서,
기판의 저면과 접촉하여 상기 기판을 거치하되, 상기 기판의 거치에 따라 상하로 이동 가능하게 설치된 기판 지지대와;
일단이 상기 기판 지지대의 하측에 위치하고 타단이 상기 기판이 거치되는 영역과 격리된 격리 영역 내에 위치하고 힌지축을 중심으로 회동 가능하게 설치되어, 상기 기판이 상기 기판 지지대에 거치되어 상기 기판 지지대가 하방으로 이동하면, 상기 힌지축을 중심으로 회전하는 회동 부재와;
상기 회동 부재의 위치를 감지하는 감지 센서를;
포함하여 구성되어, 상기 감지 센서에 의해 감지되는 상기 회동 부재의 타단의 이동에 의하여 상기 기판의 거치 여부를 감지하는 기판 거치대.
As a substrate holder for mounting a substrate,
A substrate support placed in contact with a bottom surface of the substrate to support the substrate, the substrate support being vertically movable according to the mounting of the substrate;
And the other end is located in an isolated region isolated from an area where the substrate is mounted and is pivotable about a hinge axis so that the substrate is placed on the substrate support and the substrate support is moved downward A pivoting member that rotates about the hinge axis;
A sensing sensor for sensing a position of the tiltable member;
And detecting whether the substrate is stationary by moving the other end of the tiltable member detected by the detection sensor.
제 1항에 있어서,
상기 감지 센서는 상기 회동 부재의 타단의 위치를 감지하는 변위 센서인 것을 특징으로 하는 기판 거치대.
The method according to claim 1,
Wherein the detection sensor is a displacement sensor for detecting a position of the other end of the tiltable member.
제 1항에 있어서,
기판 지지대의 저면에는 곡면인 접촉 부재가 형성되어, 상기 회동 부재의 일단과 곡면으로 접촉하는 것을 특징으로 하는 기판 거치대.
The method according to claim 1,
Wherein a curved contact member is formed on a bottom surface of the substrate support and is in contact with one end of the tiltable member in a curved surface.
기판을 거치시키는 기판 거치대로서,
기판의 저면과 접촉하여 상기 기판을 거치하되, 상기 기판의 거치에 따라 상하로 이동 가능하게 설치된 기판 지지대와;
일단이 상기 기판 지지대와 연동되어 상하 이동하고, 상기 기판이 거치되는 영역과 격리된 격리 영역 내에 타단이 위치하여, 상기 기판이 상기 기판 지지대에 거치되어 상기 기판 지지대가 하방으로 이동하는 이동 부재와;
상기 이동 부재의 위치를 감지하는 감지 센서를;
포함하여 구성되어, 상기 감지 센서에 의해 감지되는 상기 이동 부재의 타단의 이동에 의하여 상기 기판의 거치 여부를 감지하는 기판 거치대.
As a substrate holder for mounting a substrate,
A substrate support placed in contact with a bottom surface of the substrate to support the substrate, the substrate support being vertically movable according to the mounting of the substrate;
A movable member whose one end is moved up and down in association with the substrate support and the other end is located in an isolated region isolated from an area where the substrate is mounted and the substrate is placed on the substrate support and the substrate support is moved downward;
A sensing sensor for sensing a position of the moving member;
And detecting whether or not the substrate is stuck by movement of the other end of the moving member detected by the detection sensor.
제 4항에 있어서,
상기 감지 센서는 상기 이동 부재의 타단의 위치를 감지하는 변위 센서인 것을 특징으로 하는 기판 거치대.
5. The method of claim 4,
Wherein the detection sensor is a displacement sensor for detecting a position of the other end of the moving member.
제 4항에 있어서,
기판 지지대의 저면에는 곡면인 접촉 부재가 형성되어, 상기 이동 부재의 일단과 곡면으로 접촉하는 것을 특징으로 하는 기판 거치대.
5. The method of claim 4,
Wherein a curved contact member is formed on the bottom surface of the substrate support and is in curved contact with one end of the moving member.
제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판 지지대는 탄성 지지되는 것을 특징으로 하는 기판 거치대.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the substrate support is resiliently supported.
제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판이 거치되는 영역을 감싸는 커버를;
더 포함하여 구성되고, 상기 격리 영역은 상기 커버의 바깥쪽에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 거치대.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
A cover for covering an area where the substrate is mounted;
And wherein the isolation region is disposed outside the cover.
제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판 지지대는 화학 기계적 연마 공정에 기판을 공급하는 로딩 유닛과, 화학 기계적 연마 공정이 종료된 기판을 받아두는 언로딩 유닛과, 기판을 거치한 상태로 회전하면서 헹구거나 세정하는 장치 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판 지지대.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The substrate support includes a loading unit for supplying a substrate to the chemical mechanical polishing process, an unloading unit for receiving the substrate on which the chemical mechanical polishing process has been completed, and a device for rinsing and cleaning the substrate while rotating the substrate ≪ / RTI >
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