KR20160056721A - 실라인 검사용 측정마크를 가진 액정표시소자와 실라인 검사장치 및 측정방법 - Google Patents

실라인 검사용 측정마크를 가진 액정표시소자와 실라인 검사장치 및 측정방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에서는 실라인이 형성되는 더미영역에 측정마크를 형성함으로써 더미영역의 위치 및 폭을 검출하므로, 공정중 실시간으로 실라인의 위치 및 폭을 검출할 수 있게 되므로, 공정중 실라인에 불량이 발생하는 경우, 이후 공정을 진행하지 않고 불량이 발생한 액정표시소자의 공정을 중지할 수 있게 되므로, 공정의 지연과 비용의 소모를 최소화할 수 있게 된다.

Description

실라인 검사용 측정마크를 가진 액정표시소자와 실라인 검사장치 및 측정방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING MEASURING MARK FOR MEASURING SEAL LINE, APPARATUS AND METHOD OF MEASURING SEAL LINE}
본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 특히 더미영역에 금속패턴을 형성하여 실라인을 육안으로 검출할 수 있는 액정표시소자와 실라인 검사장치 및 측정방법에 관한 것이다.
평판표시장치는 액정표시장치는 경량화, 저전력 소비화, 고화질 등의 장점을 갖고 있어 TV와 같은 대형 표시장치 뿐만 아니라 휴대용 전자기기 등의 소형 표시장치에도 적용되고 있다.
이러한 액정표시소자는 박막트랜지스터와 화소전극이 형성되어 있는 하부기판과, R(Red), G(Green), B(Blue)의 컬러필터층이 형성되어 있는 상부기판이 액정층을 사이에 두고 합착된 구조로 이루어진다. 상기와 같이 두 기판이 합착되어 액정패널이 제조되면, 상기 액정패널영역으로 구동신호(게이트신호)와 데이터신호를 인가하여 화소전극 상에 전계를 발생시키고, 발생된 전계에 의하여 액정분자를 배향시켜 백라이트로부터 진행하는 광의 투과율을 조절함으로써 화상을 구현한다.
도 1은 종래 액정표시소자의 구조를 간략하게 나타내는 평면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래 액정표시소자에서는 제1기판(10) 및 제2기판(40)과, 상기 제1기판(10)과 제2기판(40) 사이에 배치되는 액정층(도면표시하지 않음)으로 이루어진다.
제1기판(10)은 하부기판으로서, 상기 제1기판(10) 상에는 복수개의 게이트라인(24)과 데이터라인(25)이 수직으로 교차 배열되어 복수의 화소영역을 정의하고, 상기 화소영역 상에는 화소전극(23) 및 공통전극(도면표시하지 않음)이 배치되어 있다. 그리고, 상기 게이트라인(24)과 데이터라인(25)이 수직으로 교차되는 영역에는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 각각 배치되어 있다. 또한, 상기 게이트라인(24)과 데이터라인(25)의 일측 단부에는 각각 게이트 패드(24a)과 데이터패드(25a)가 전기적으로 연결되어 있어, 인쇄회로기판으로부터 발생하는 구동신호와 데이터신호가 인가된다.
제2기판(40)은 상부기판으로서, 도면에는 도시하지 않았지만 상기 제2기판(40) 상에는 컬러필터와 블랙매트릭스가 형성되어 컬러를 구현함과 동시에 화상비표시영역으로 광이 누설되어 화질이 저하되는 것을 방지한다. 이때, 상기 제2기판(40)은 제1기판(10) 보다 적은 면적으로 형성되어, 제1기판(10)의 더미영역이 제2기판(40)으로부터 연장되어 노출되며, 상기 노출된 더미영역에 게이트패드(24a), 데이터패드(25a), 상기 게이트패드(24a) 및 데이터패드(25a)를 각각 게이트라인(24)과 데이터라인(25)과 연결시키는 연결배선(도면표시하지 않음)이 형성된다.
상기 제1기판(10) 및 제2기판(40)은 실라인(50)에 의해 서로 합착된다. 이때, 상기 실라인(50)은 제1기판(10) 또는 제2기판(40)의 외곽 가장자리를 따라 실런트(sealant)를 도포함으로써 형성되며, 실라인(50)이 도포된 상태에서 제1기판(10) 및 제2기판(40)을 압착하고 실라인(50)을 경화함으로 제1기판(10) 및 제2기판(40)을 합착한다.
그러나, 상기와 같은 구조의 액정표시소자는 다음과 같은 문제가 있다.
통상적으로 실라인(50)은 스크린프린팅법, 슬릿코팅법, 실린지코팅법 등에 의해 실런트를 도포함으로써 형성된다. 이때, 실라인(50)은 액정표시소자의 더미영역에 형성되는데, 상기 실라인(50)이 더미영역에만 형성되지 않고 표시영역으로 확장되어 침투하는 경우, 표시영역에 형성되는 액정층이 상기 실라인(50)과 접촉하게 되며, 이러한 접촉은 액정분자의 오염을 야기하게 된다. 따라서, 액정표시소자의 구동시 오염된 액정분자에 의해 액정분자가 원하는 방향으로 배향되지 않게 되므로, 액정층을 투과하는 광의 투과도를 조절할 수 없게 되어 화상구현시 불량이 발생하게 된다.
그러므로, 실라인(50)은 설정된 폭으로 더미영역에만 형성되어야만 하며, 이와 같이 실라인(50)을 설정된 위치에 설정된 폭으로 형성하기 위해서는 도포된 실라인(50)의 정확한 측정이 전제되어야만 한다. 그런데, 종래 액정표시소자에서는 공정중 도포되는 실라인(50)의 폭을 측정할 수가 없고 단지 스크린프린터, 슬릿코터, 실린지 등에서 적하되는 실런트의 양에 의해 실라인(50)의 폭을 추정하고 액정표시소자의 제작후 작업자가 육안으로 형성된 실라인(50)의 폭을 관찰해야만 했다.
따라서, 공정중 실라인(50)의 폭을 실시간으로 측정할 수 없으므로, 실라인(50)이 설정된 폭으로 형성되지 않는 경우에도 공정을 중지하지 않고 이후의 공정을 계속 진행해야만 한다. 따라서, 불량이 발생한 기판에 대한 후속공정의 진행으로 인한 비용 및 시간의 소모가 많았다.
더욱이, 액정표시소자의 제작후 실라인(50) 검사시에도 작업자가 육안으로 관찰하는 경우 정확한 실라인(50)의 위치 및 폭을 측정할 수가 없었다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 작업자가 현미경을 이용하여 실라인(50)의 위치 및 폭을 측정하지만, 작업자가 일일이 제작된 액정표시소자를 현미경으로 검사해야만 하므로 공정이 지연되고 작업자의 시간소모가 많다는 문제도 있었다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 공정중에 손쉽게 실라인의 위치 및 폭을 검출할 수 있는 액정표시소자와 실라인 검사장치 및 측정방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 액정표시소자에서는 실라인이 형성되는 더미영역에 측정마크를 형성함으로써 더미영역의 위치 및 폭을 검출한다. 복수의 측정마크는 설정된 폭으로 설정된 간격을 두고 배치되므로, 실라인과 측정마크의 오버랩영역을 관찰함으로써 실라인의 위치 및 폭을 공정중 실시간으로 정확하게 측정할 수 있게 된다.
이때, 상기 측정마크는 3.0-4.0㎛, 바람직하게는 3.5㎛의 폭으로 형성되고 인접하는 측정마크 사이의 간격은 4.5-5.5㎛, 바람직하게는 5.0㎛로 형성될 수 있다. 또한, 측정마크에는 실라인의 형성영역에 대응하는 위치에 2개의 위치측정마크가 형성되어 실라인의 위치를 용이하게 검출하며, 위치측정마크로부터 벗어난 길이를 측정하여 실라인의 불량여부를 검출할 수 있게 된다.
또한, 본 발명의 실라인 검사장치는 실라인 및 측정마크를 촬영하는 카메라와 상기 카메라에 의해 촬영된 영상을 분석하여 실라인의 위치 및 폭을 검출하는 제어부로 구성된다. 상기 제어부에서는 카메라에 의해 실라인과 측정마크를 촬영하고 촬영된 영상을 분석하여 실라인과 측정마크를 비교함으로써 자동으로 실라인의 위치 및 폭을 검출할 수 있게 된다.
본 발명에서는 실라인이 형성되는 더미영역에 측정마크를 형성함으로써 더미영역의 위치 및 폭을 검출하므로, 공정중 실시간으로 실라인의 위치 및 폭을 검출할 수 있게 된다. 따라서, 공정중 실라인에 불량이 발생하는 경우, 이후 공정을 진행하지 않고 불량이 발생한 액정표시소자의 공정을 중지할 수 있게 되므로, 공정의 지연과 비용의 소모를 최소화할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에서는 카메라에 의해 실라인을 촬영하여 위치 및 폭을 검사함으로써 실라인의 불량여부를 신속하고 정확하게 자동으로 검사할 수 있게 되어, 공정의 신뢰도와 효율을 향상시킬 수 있게 된다.
도 1은 종래 액정표시소자의 구조를 대략적으로 나타내는 평면도.
도 2는 본 발명에 따른 액정표시소자의 구조를 대략적으로 나타내는 평면도.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자의 단면도.
도 4는 본 발명에 따른 액정표시소자의 더미영역의 측정마크와 실라인을 나타내는 도면.
도 5는 본 발명에 따른 액정표시소자의 더미영역의 측정마크의 다른 구조를 나타내는 도면.
도 6은 본 발명에 따른 실라인 검사장치의 구조를 나타내는 블럭도.
도 7은 본 발명에 따른 액정표시소자의 실라인 측정방법을 나타내는 플로우챠트.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.
구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.
시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 액정표시소자의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 액정표시소자에서는 제1기판(110) 및 제2기판(140)과, 상기 제1기판(110)과 제2기판(140) 사이에 배치되는 액정층(도면표시하지 않음)으로 이루어진다.
제1기판(110)에는 복수개의 게이트라인(124)과 데이터라인(125)이 수직으로 교차 배열되어 복수의 화소영역을 정의하고, 상기 화소영역 상에는 화소전극(123) 및 공통전극(도면표시하지 않음)이 배치되어 있다. 그리고, 상기 게이트라인(124)과 데이터라인(125)이 수직으로 교차되는 영역에는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 각각 배치되어 있다. 또한, 상기 게이트라인(24)과 데이터라인(125)의 일측 단부에는 각각 게이트 패드(124a)과 데이터패드(125a)가 전기적으로 연결되어 있어, 인쇄회로기판으로부터 발생하는 구동신호와 데이터신호가 인가된다.
도면에는 도시하지 않았지만 상기 제2기판(140) 상에는 컬러필터와 블랙매트릭스가 형성되어 컬러를 구현함과 동시에 화상비표시영역으로 광이 누설되어 화질이 저하되는 것을 방지한다.
상기 제1기판(110) 또는 제2기판(140)의 외곽영역에는 실라인(150)이 형성되어 제1기판(110) 또는 제2기판(140)이 실라인(150)에 의해 서로 합착되며, 제1기판(110)과 제2기판(140) 사이에 액정층이 배치된다.
이때, 상기 제1기판(110)의 면적은 제2기판(140)의 면적보다 크므로, 제1기판(110)과 제2기판(140)을 합착할 때, 제1기판(110)의 일부 영역이 제2기판(140)과 합착되지 않고 외부로 노출된다. 일반적으로 이러한 노출영역은 액정표시소자의 2변을 따라 형성되지만, 1변을 따라 형성될 수도 있다.
액정표시소자는 표시영역과 더미영역으로 이루어진다. 표시영역은 실라인(150)에 의해 밀봉된 액정층이 형성되어 실제 화상이 구현되는 영역으로, 게이트라인(24)과 데이터라인(125), 박막트랜지스터, 컬러필터층이 형성된다. 더미영역은 표시영역의 외곽에 배치되며, 제1기판(110)의 노출영역 및 실라인(150)이 형성되는 영역으로 화상이 구현되지 않는 영역이다.
더미영역에는 게이트패드(124a), 데이터패드(125a), 상기 게이트패드(124a) 및 데이터패드(125a)를 각각 게이트라인(124)과 데이터라인(125)과 연결시키는 연결배선(도면표시하지 않음)이 형성된다.
또한, 더미영역에는 복수의 실라인 선폭 측정용 측정마크(137)가 형성된다. 상기 측정마크(137)는 표시영역 외곽의 더미영역에 설정된 폭으로 실라인(150)의 폭방향을 따라 복수개 배치되며, 이때 상기 실라인(150)은 상기 측정마크(137)와 오버랩된다.
복수의 측정마크(137)는 더미영역의 폭방향으로 일정 폭을 가지고 더미영역의 길이방향으로 연장되는 띠형상으로 배치된다. 또한, 상기 측정마크(137)는 인접하는 측정마크(137)와는 동일 폭으로 동일한 간격을 두고 배치된다. 따라서, 인접한 측정마크(137) 사이의 간격은 항상 일정 거리를 유지할 수 있게 되며, 복수의 측정마크(137) 사이의 거리를 정확하게 측정할 수 있게 된다. 예를 들어, 상기 측정마크(137)가 3.5㎛의 폭으로 형성되고 측정마크(137) 사이의 간격이 5㎛인 경우, 연속되어 배열되는 3개의 측정마크(137) 사이의 간격은 13.5㎛가 되며, 연속되어 배열되는 4개의 측정마크(137) 사이의 간격은 22㎛가 된다.
상기 복수의 측정마크(137)는 상기 실라인(150)의 적어도 일부 영역과 중첩되도록 배치된다. 예를 들어, 상기 측정마크(137)는 더미영역 전체에 표시영역을 완전히 둘러싸는 띠형상으로 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 측정마크(137)는 상기 실라인(150)의 전체 영역과 중첩되도록 구성된다. 또는, 상기 측정마크(137)는 더미영역의 일부 영역에만 배치될 수도 있으며, 이 경우, 상기 측정마크(137)는 상기 실라인(150)의 일부 영역에만 중첩되도록 구성된다. 예를 들어, 상기 측정마크(137)는 작업자가 실라인(150)을 관찰하기 용이한 위치나 실라인(150) 검사장치에 구비되는 카메라에 의해 촬영이 용이한 위치에 배치될 수 있다. 이와 같이, 측정마크(137)가 특정 위치에만 배치되는 경우, 제작되는 액정표시소자의 설계나 크기, 모델 등에 따라 다양한 위치에 배치될 수 있다.
본 발명에서는 상기와 같은 측정마크(137)를 이용한 거리측정방법을 적용하여 실라인(150)의 폭을 측정한다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에서는 실라인(150)이 측정마크(137)와 오버랩되므로, 실라인(150)이 오버랩되는 측정마크(137)를 검출함으로써 실라인(150)의 위치 및 폭을 측정할 수 있게 된다.
도 3은 도 2에 도시된 액정표시소자의 단면도로서, 이를 참조하여 본 발명을 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다. 실질적으로 액정표시소자는 복수의 화소로 이루어져 화상을 구현하는 표시영역과 상기 표시영역의 외곽에 배치되어 표시영역에 신호를 인가하는 각종 신호패턴 및 실라인이 형성되는 더미영역으로 이루어지지만, 설명의 편의를 위해 도면에서는 표시영역의 한 화소와 더미영역만을 도시하였다.
도 3에 도시된 바와 같이, 표시영역의 제1기판(110) 위에는 박막트랜지스터(TFT)가 형성된다. 상기 박막트랜지스터(TFT)는 제1기판(110) 위에 배치되어 게이트라인(도면표시하지 않음)으로부터 주사신호가 인가되는 게이트전극(112)과, 게이트전극(112)이 배치된 제1기판(110) 전체에 걸쳐 적층된 게이트절연층(132)과, 상기 게이트절연층(132) 위에 배치된 반도체층(113)과, 상기 반도체층(113) 위에 배치된 소스전극(114) 및 드레인전극(115)으로 이루어진다.
상기 게이트전극(112)은 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금 등의 금속을 적층하고 식각하여 형성되며, 상기 게이트절연층(132)은 SiO2나 SiNx와 같은 무기절연물질로 이루어진 단일층 또는 SiO2 및 SiNx으로 이루어진 이중의 층을 적층함으로써 형성될 수 있다. 이때, 상기 게이트전극(112)은 게이트라인과 일체로 형성되어 게이트라인을 통해 게이트전극으로 주사신호가 인가된다.
반도체층(113)은 비정실실리콘과 같은 비정질물질이나 다결정 실리콘과 같은 결정질을 적층하고 식각하여 형성될 수 있다. 또한, 소스전극(114) 및 드레인전극(115)은 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금을 적층하고 식각하여 형성된다. 상기 소스전극(114)은 데이터라인과 일체로 형성되어 데이터라인을 통해 화상신호가 인가된다.
또한, 더미영역의 제1기판(110) 위에는 게이트링크라인(124) 및 게이트패드(도면표시하지 않음)가 형성된다. 상기 게이트링크라인(124)은 게이트패드와 게이트라인을 연결하여 신호를 외부로부터 게이트라인으로 인가한다. 이때, 상기 게이트링크라인(124) 및 게이트패드는 게이트전극(112)과 동일한 금속으로 동일한 공정에 의해 형성하는 것이 바람직하지만, 다른 금속으로 다른 공정에 의해 형성할 수도 있다.
도면에는 도시하지 않았지만, 제1기판(110)의 더미영역에는 데이터링크라인이 형성될 수도 있다. 이때, 상기 데이터링크라인은 제1기판(110) 위에 형성될 수도 있고 게이트절연층(132) 위에 형성될 수도 있다. 상기 데이터링크라인이 제1기판(110) 위에 형성되는 경우 상기 데이터링크라인은 게이트전극(112)과 동일한 금속으로 형성될 수 있고 상기 데이터링크라인이 게이트절연층(132) 위에 형성되는 경우 상기 데이터링크라인은 소스전극(114) 및 드레인전극(115)과 동일한 금속으로 형성될 수 있다.
상기 데이터링크라인은 데이터패드와 데이터라인을 전기적으로 연결하여 외부의 신호를 상기 데이터라인으로 인가한다.
박막트랜지스터(TFT)가 형성된 제1기판(110) 전체에 걸쳐 보호막(136)이 형성된다. 이때, 상기 보호층(136)은 포토아크릴과 같은 유기절연물질으로 이루어질 수 있다. 이와 같이, 보호막(136)을 유기물질로 형성함으로써 보호막(136)을 원하는 두께의 평탄화된 막을 형성할 수 있게 된다.
또한, 상기 보호막(136)은 유기물질 및 무기물질로 이루어진 이중의 층으로 형성할 수 있다. 이때, 유기보호막의 하부에 무기보호막이 형성되어 보호막(136)과 게이트절연층(132) 사이의 계면특성을 향상시킬 수 있게 된다.
표시영역의 보호막(136) 위에는 복수의 화소전극(117) 및 공통전극(118)이 교대로 형성된다. 상기 화소전극(117) 및 공통전극(118)은 설정된 폭의 띠형상으로 서로 평행하게 형성되어 화소전극(117)에 전계가 인가됨에 따라 화소전극(117) 및 공통전극(118) 사이에 기판(110,140)의 표면과 실질적으로 평행한 전계가 형성된다.
상기 화소전극(117) 및 공통전극(118)은 전도성이 좋은 금속으로 이루어질 수도 있지만, ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 금속산화물로 형성될 수도 있다. 이와 같이 상기 화소전극(117) 및 공통전극(118)이 투명한 금속산화물로 형성되는 경우, 불투명한 금속에 비해 액정표시소자의 휘도를 향상시킬 수 있게 된다.
더미영역의 보호막(136) 위에는 측정마크(137)가 형성된다. 상기 측정마크(137)는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 상기 측정마크(137)는 작업자의 육안 또는 카메라에 의해 촬영되어 관찰되는 것이므로, 육안이나 카메라에 의해 확인이 가능하다면 어떠한 물질로도 가능하다. 예를 들어, 상기 측정마크(137)로는 금속패턴, 유기막패턴, 반도체패턴 등의 다양한 패턴이 가능하다.
도면에 도시된 바와 같이, 상기 측정마크(137)는 설정된 폭(d)의 띠형상으로 복수개 형성되어 더미영역에 액정표시소자의 변의 연장방향을 따라 일정한 간격(l)을 두고 서로 이격되어 배치된다. 본 발명에서는 상기 측정마크(137)를 약 3.0-4.0㎛, 바람직하게는 3.5㎛의 폭(d)으로 형성하고, 측정마크(137) 사이의 간격(l)을 약 4.5-5.5㎛, 바람직하게는 5㎛로 설정할 수 있다.
물론, 상기 측정마크(137)의 폭(d)과 간격(l)은 다양한 수치로 설정할 수 있으며, 이 설정된 수치에 따라 더미영역에 형성되는 측정마크(137)의 갯수가 결정될 수 있다.
상기 제1기판(110)의 외곽영역을 따라 배치되는 더미영역의 보호막(136) 위에는 실라인(150)이 형성되어 제1기판(110)과 제2기판(140)을 합착하며, 제1기판(110)과 제2기판(140) 사이에 형성되는 액정층(152)을 밀봉한다. 상기 실라인(150)은 실런트를 도포하여 형성되는 것으로, 제1기판(110)에 도포된 후 제2기판(140)이 합착될 수도 있고 제2기판(140)에 도포된 후 제1기판(110)이 합착될 수 있다.
상기 실라인(150)은 복수개 배치된 측정마크(137)와 오버랩되도록 형성되며, 그 폭은 측정마크(137)의 전체 폭(즉, 측정마크가 배치된영역의 폭)보다 작다. 따라서, 실라인(150)은 측정마크의 배치영역 내부에 형성되어 실라인(150)의 전체 측정마크(137)의 일부와 오버랩된다.
제2기판(140)에는 블랙매트릭스(142)와 컬러필터층(144)이 형성된다. 상기 블랙매트릭스(142)는 표시영역내에서 화상이 표시되지 않는 영역으로 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 것으로 Cr이나 CrOx와 같은 금속과 블랙수지와 같은 불투명한 물질로 형성되며, 컬러필터층(144)은 R(Red), G(Green), B(Blue) 컬러필터로 이루어져 실제 화상을 구현한다.
상기와 같은 구조의 본 발명에서는 더미영역에 형성되는 실라인(150)과 복수개의 측정마크(137)와 오버랩되도록 배치된다. 일반적으로 실라인(150)의 형성시 실라인(150)이 설정된 폭(d)으로 형성되지 않는 경우 문제가 발생하게 된다. 예를 들어, 실라인(150)이 설정된 폭(d)보다 작은 경우, 실라인(150)의 합착력 및 밀봉력이 저하되어 합착된 제1기판(110) 및 제2기판(140)에 불량이 발생할 뿐만 아니라 실라인(150)에 의해 밀봉되는 액정층(152)이 외부로 새어나오는 문제도 있었다.
실라인(150)이 설정된 폭(d)보다 큰 경우, 실라인(150)이 표시영역으로 확장되어 표시영역의 액정층(152)과 접촉하게 되는데, 이러한 접촉은 액정분자의 오염을 야기하여, 신호에 의해 액정분자를 구동할 때 액정분자의 구동에 문제가 발생하게 된다.
그런데, 종래에는 공정중에 이러한 실라인(150)의 위치 및 폭을 측정할 방법이 없었으므로, 액정표시소자가 완성된 후에 현미경 등에 의해서만 실라인(150)의 불량여부의 확인이 가능하였다.
그러나, 본 발명에서는 측정마크(137)에 의해 실시간으로 실라인(150)의 위치 및 폭을 측정할 수 있게 되므로, 상기와 같은 불량을 방지할 수 있게 된다.
즉, 본 발명에서는 설정된 폭(d)과 간격(l)을 갖는 측정마크(137)가 더미영역에 배치되고 투명한 실런트를 도포하므로, 공정중에 도포된 실런트의 측정마크(137)가 상대적 위치를 관찰함으로써 실라인(150)의 폭과 간격을 검출할 수 있게 된다.
예를 들면, 실라인(150)의 폭(a)을 1mm로 형성하고 측정마크(137)의 폭(d)을 3.5㎛로 측정마크(137) 사이의 간격(l)을 5㎛로 하는 경우, 측정마크(137)의 피치(picth)는 8.5㎛이므로, 실라인(150)은 약 117개의 측정마크(137)와 오버랩되며, 작업자는 이 오버랩되는 측정마크(137)의 갯수를 검출함으로써 실라인(150)이 폭을 정확하게 검출할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에서는 실라인(150)의 형성위치를 정확하게 측정할 수도 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 복수의 측정마크(137)는 모두 동일한 형상으로 형성되는 것이 아니라 특정 측정마크(137)가 다른 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 도면에서는 다른 측정마크(137)는 띠형상으로 형성되는 반면에, 두개의 위치측정마크(137a)는 양측면으로 돌기가 형성된 띠형상으로 형성된다.
도 4를 참조하면, 상기 두개의 위치측정마크(137a) 사이의 거리(b)는 실라인(150)의 폭(a)과 실질적으로 동일하다. 즉, 상기 두개의 위치측정마크(137a) 사이의 영역은 실라인(150)이 형성되어야하는 영역이다. 따라서, 작업자 또는 검사자는 실라인(150)의 형성시 두개의 위치측정마크(137a)와 도포된 실라인(150)을 관찰하여 실라인(150)이 두개의 위치측정마크(137a) 사이의 영역에 배치되어 있는지를 판단함으로써 불량여부를 관찰할 수 있게 된다.
또한, 실라인(150)이 설정된 영역에 정확하게 형성되지 않는 경우, 실라인(150)의 양단면과 위치측정마크(137a) 사이에 몇 개의 측정마크(137)가 배치되는 지를 검사함으로써, 실라인(150)이 측정마크(137a)로부터 얼마나 이격되어 있는지(즉, 실라인(150)이 설정된 위치로부터 얼마나 이격되어 배치되는지)를 실시간으로 용이하게 검출할 수 있게 된다.
도 5는 본 발명에 따른 액정표시소자의 측정마크(137)의 다른 구조를 나타내는 도면이다. 이 구조에서는 측정마크(137)가 더미영역 전체에 걸쳐 형성되지 않고 실라인(150)의 양단면(실라인의 경계면)이 배치되는 근처에만 형성된다.
실라인(150)의 형성시 오차에 의해 실라인(150)이 설정된 위치에서 벗어나는 정도는 실라인(150)의 폭에 비해 상대적으로 작다. 다시 말해서, 실라인(150)의 오차발생시 실제 실라인(150)은 설정된 위치에서 작은 길이가 벗어난다.
따라서, 실라인(150)의 오차범위를 측정하는 것은 실라인(150)의 양단부 영역이므로, 더미영역 전체에 걸쳐서 측정마크(137)를 배치할 필요없이 실라인(150)의 양단부 근처 영역에만 측정마크(137)를 배치하여도 실라인(150)의 실제 위치 및 폭을 측정할 수 있을 것이다.
도 5에서는 실라인(150)의 양단 근처에 각각 2개의 측정마크(137)가 배치되지만, 3개 이상 배치될 수도 있다. 실라인(150)의 양단 근처에 형성되는 측정마크(137)의 개수는 실제 오차데이터 등에 의해 결정할 수 있을 것이다.
이와 같이, 실라인(150)의 양단 근처에만 측정마크(137)를 형성함으로써 실라인(150)의 중앙영역이 위치하는 더미영역의 중앙영역에는 측정마크(137)를 형성할 필요가 없게 된다. 앞서 언급한 바와 같이, 실라인(150)의 폭은 측정마크(137)의 피치에 비해 훨씬 크기 때문에 실라인(150)이 형성되는 영역 전체에 걸쳐 측정마크(137)를 형성하려면 더미영역에 대단히 많은 수의 측정마크(137)를 형성해야만 하다.
그러나, 이와 같이 많은 수의 측정마크(137)를 형성하는 경우, 예를 들어 측정마크용 금속패턴을 형성하기 위해서는 패턴이 복잡한 포토마스크를 사용해야만 하므로 제조비용이 증가할 뿐만 아니라 더미영역의 구조가 복잡해진다. 그러나, 이 구조와 같이 실라인(150)의 양단 근처에만 측정마크(137)를 형성함으로써 제조비용을 절감하고 더미영역의 구조가 상대적으로 단순화될 수 있다.
이와 같이, 본 발명에서는 액정표시소자의 더미영역에 복수의 측정마크(137)를 형성함으로써 실라인(150)의 위치 및 폭을 실시간으로 용이하게 검출할 수 있게 된다. 이러한 실라인(150)의 위치 및 폭의 검사는 작업자의 육안에 의해서도 가능하지만, 본 발명에서는 실라인 검사장치에 의해 상기 실라인(150)의 위치 및 폭의 검사가 실시간으로 자동으로 검사될 수도 있다.
이러한 실라인 검사장치에 의한 자동검사는 공정중인 실라인(150)을 카메라에 의해 촬영한 후, 제어부에서 촬영된 데이터에 기초하여 실라인(150)의 위치 및 폭을 검출함으로써 이루어지는데, 이를 좀더 자세히 설명하면 다음과 같다.
도 6은 본 발명에 따른 실라인 검사장치의 구조를 나타내는 블럭도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실라인 검사장치는 액정표시소자의 더미영역에 도포된 실라인(150) 및 측정마크(137)를 촬영하는 카메라(210)와 상기 카메라(210)에서 촬영된 영상을 분석하여 실라인(150) 및 측정마크(137)의 위치를 비교함으로써 실라인(150)의 위치 및 폭을 검출하는 제어부(220)로 구성된다.
상기 카메라(210)는 CCD카메라로서, 실라인(150) 및 측정마크(137)의 수직 상방에서 배치되어 상기 실라인(150) 및 측정마크(137)을 촬영할 수도 있고 실라인(150) 및 측정마크(137)로부터 일정 각도로 비스듬히 배치되어 실라인(150) 및 측정마크(137)를 촬영할 수도 있다.
제어부(220)는 입력부(221), 영상 분석부(22), 위치검출부(224), 폭측정부(225), 비교부(228), 판단부(229) 및 표시부(226)로 구성된다.
입력부(221)에는 카메라(210)에서 촬영된 영상이 입력된다.
영상분석부(220)에서는, 상기 입력부(221)를 통해 입력된 실라인(150) 및 측정마크(137)의 영상을 분석하여 실라인(150)의 위치정보 및 측정마크(137)의 위치정보를 생성한다.
위치검출부(224)에서는, 상기 영상분석부(222)에서 분석된 실라인(150)의 위치정보를 측정마크(137)의 위치정보와 비교하여 실라인(150)의 위치를 검출한다.
폭측정부(225)에서는, 상기 영상분석부(222)에서 분석된 실라인(150)의 위치정보를 측정마크(137)의 위치정보와 비교하여 실라인(150)의 폭을 측정한다.
비교부(228)에서는, 상기 위치검출부(224)에서 검출된 실라인(150)의 위치 및 폭측정부(225)에서 측정된 실라인(150)의 폭이 설정된 위치 및 폭과 일치하지 않는 경우, 측정된 실라인의 위치와 폭을 설정된 위치 및 폭과 비교한다.
판단부(229)에서는, 상기 비교부(228)에 비교된 값을 기초로, 실라인(150)의 양품과 불량을 판정한다. 보다 구체적으로, 오차가 발생한 실라인(150)의 위치 및 폭이 설정된 한계값 이내이면, 실라인(150)에 의해 액정층이 오염되거나 액정층의 밀봉이 불량이 발생하지 않으므로 실라인(150)을 양품으로 판정한다. 또는, 오차가 발생한 실라인(150)의 위치 및 폭이 설정된 한계값을 초과하면, 실라인(150)을 불량으로 판정한다.
표시부(226)에서는, 상기 측정된 실라인의 위치와 폭, 설정된 값과 측정된 실라인의 위치와 폭의 차이값, 양품 및 불량의 판정 여부를 표시한다.
실라인(150)은 투명한 실런트로 형성되고 측정마크(137)는 불투명한 금속 등으로 형성되므로, 상기 실라인(150)과 측정마크(137)를 카메라(210)에 의해 촬영하는 경우, 실라인(150)과 측정마크(137)의 촬영된 영상 사이에는 조도 등과 같은 데이터상의 차이가 발생하며, 영상분석부(222)에서는 이러한 차이값에 의해 실라인(150)과 측정마크(137)를 인식한다.
위치검출부(224)에서는 측정마크(137)중 설정된 위치를 나타내는 위치측정마크(137a)의 영상데이터와 실라인(150)의 영상데이터에 의해 실라인(150)의 위치를 검출한다. 폭측정부(225)에서는 실라인(150)과 오버랩되는 측정마크(137)의 숫자를 검출하여 실제 실라인(150)의 폭을 측정한다.
도 7은 본 발명에 따른 액정표시소자의 실라인(150) 검출방법을 나타내는 플로우챠트로서, 도 6에 도시된 실라인 검사장치의 구성과 도 7을 참조하여 실라인(150) 검출방법을 구체적으로 설명한다.
도 7에 도시된 바와 같이, 우선 제1기판(110) 또는 제2기판(140)의 외곽을 따라 형성된 더미영역에 실런트를 도포하여 실라인(150)을 형성한다(S101). 이때, 상기 더미영역에는 복수의 측정마크(137)가 배치된다. 실런트의 도포는 스크린프린팅법, 슬릿코팅법, 실린지코팅법과 같은 다양한 방법에 의해 이루어질 수 있다.
이어서, 더미영역의 실라인(150) 및 측정마크(137)를 카메라에 의해 촬영한 후(S102), 촬영된 영상을 제어부(220)의 영상분석부(222)에서 분석한다(S103). 영상분석부(222)에서는 영상을 분석하여 실라인(150) 및 측정마크(137)의 위치 및 형상을 인식한다. 이때, 실라인(150)과 측정마크(137)는 서로 다른 재질로 형성되므로, 이를 촬영한 영상데이터도 다른 값을 가지며, 이를 기초로 영상분석부(222)에서는 실라인(150)과 측정마크(137)의 각각의 위치를 인식한다.
그 후, 분석된 실라인(150)과 측정마크(137)의 영상에 의해 실라인(150)의 위치를 검출하여 실라인(150)이 설정된 위치에 형성되어 있는지를 판단한다(S104).
즉, 위치검출부(224)에서는 분석된 영상에 의해 실라인(150)의 경계면이 위치측정마크(137a)와 일치하면 실라인(150)이 설정된 위치에 형성되어 있음을 판단하여 이후의 공정, 예를 들면 액정층(152) 형성공정이나 제1기판(110) 및 제2기판(140) 합착공정 등을 진행한다(S105).
비교부(228)에서는 분석된 영상에 의해 실라인(150)의 경계면이 위치측정마크(137a)와 일치하지 않으면, 실라인(150)이 설정된 위치에 형성되어 있지 않음을 판단하고 검출된 실라인(150)의 위치와 설정된 실라인(150)의 위치를 비교하여 실라인(150)의 형성위치가 설정 위치로부터 얼마나 벗어나는 지를 검출한다(S106).
측정마크(137)는 설정된 폭(예를 들면, 3.5㎛)으로 설정된 간격(예를 들면, 5㎛)을 두고 배치되므로, 실라인(150)의 경계면에서 위치측정마크(137a) 사이에 배치되는 측정마크(137)의 개수를 측정함으로써 실라인(150)의 실제 형성위치와 설정된 형성위치 사이의 거리를 측정한다.
또한, 폭측정부(225)에서는 실라인(150)과 오버랩되는 측정마크(137)의 개수를 파악함으로써 실제 실라인(150)의 폭도 정확하게 검출할 수 있게 된다.
이어서, 비교부(228)에서 이루어진 비교에 의해 측정된 실라인(150)의 실제 형성위치와 설정된 형성위치 사이의 거리가 한계값 이내이면(S107), 판단부(229)에서는 비록 정확한 위치 및 폭으로 실라인(150)이 형성되지는 않았지만, 이 정도의 오차는 실라인(150)의 기능(기판의 합착 및 액정층의 밀봉)을 수행하는데 아무런 문제가 없는 허용오차임을 판정하여 이후의 공정을 진행한다(S108).
이때, 상기 한계값의 산출은 액정표시소자의 면적, 무게, 셀갭, 실라인의 재질, 더미영역의 면적 등과 같은 다양한 특성에 의해 산출된다.
측정된 실라인(150)의 실제 형성위치와 설정된 형성위치 사이의 거리가 한계값을 초과하면(S107), 판단부(229)에서 실라인(150)의 형성이 불량임을 판정하고 이후의 공정을 종료한다(S109).
상술한 바와 같이, 본 발명에서는 더미영역에 복수의 측정마크를 형성함으로써 공정중 실시간으로 실라인의 위치 및 폭을 검출하고 측정할 수 있게 된다. 따라서, 실라인에 불량이 발생하는 경우 이후의 공정을 진행하지 않게 되므로, 쓸데없는 비용과 노력을 제거할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에서는 카메라에 의해 실라인을 촬영하여 위치 및 폭을 검사함으로써 실라인의 불량여부를 신속하고 정확하게 자동으로 검사할 수 있게 되어, 공정의 신뢰도와 효율을 향상시킬 수 있게 된다.
한편, 상술한 상세한 설명에서는 특정 구조의 액정표시소자를 예시하여 설명하고 있지만, 본 발명이 이러한 특정 구조의 액정표시소자에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 특징은 실라인이 형성되는 더미영역에 측정마크를 형성하는 것으로, 이러한 더미영역에 실라인이 형성되는 모든 구조의 액정표시소자에 적용될 수 있을 것이다. 예를 들어, 상술한 상세한 설명에서는 IPS(In Plane Switching)모드 액정표시소자에 대해 설명하고 있지만, TN(Twisted Nematic)모드 액정표시소자, VA(Vertical Alignment)모드 액정표시소자 등의 다양한 모드의 액정표시소자에 적용될 수 있을 것이다.
다시 말해서, 본 발명은 본 발명의 기술적 사상을 기초로 도출할 수 있는 모든 구조의 액정표시소자에 적용될 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 권리의 범위는 상술한 상세한 설명에 의해 결정되는 것이 아니라 첨부한 특허청구범위에 의해 결정되어야만 한다.
110,140 : 기판 137 : 측정마크
150 : 실라인 210 : 카메라
220 : 제어부

Claims (15)

  1. 표시영역 및 상기 표시영역 외곽의 더미영역을 포함하는 액정패널;
    상기 액정패널의 더미영역에 도포된 실라인; 및
    상기 더미영역에 배치되어 실라인을 측정하는 복수의 측정마크를 포함하는 액정표시소자.
  2. 제1항에 있어서, 상기 복수의 측정마크는 실라인의 폭방향을 따라 일정한 간격으로 배치되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  3. 제2항에 있어서, 상기 복수의 측정마크는 2개의 위치측정마크를 포함하고, 상기 2개의 위치측정마크 사이의 거리는 상기 실라인의 폭과 대응하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  4. 제2항에 있어서, 상기 측정마크의 폭은 3.0-4.0㎛인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  5. 제2항에 있어서, 서로 인접하는 측정마크 사이의 간격은 4.5-5.5㎛인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  6. 제2항에 있어서, 상기 복수의 측정마크는 상기 실라인의 적어도 일부 영역과 중첩되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  7. 제2항에 있어서, 상기 측정마크는 상기 실라인의 양단 근처 영역에 배치되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  8. 제1항에 있어서, 상기 측정마크는 금속패턴, 절연패턴 또는 반도체패턴인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  9. 액정패널의 더미영역에 배치된 측정마크와 실라인을 촬영하는 카메라; 및
    상기 카메라에 의해 촬영된 영상정보를 분석하여 실라인의 위치 및 폭을 검출하는 제어부를 포함하는 액정표시소자의 실라인 검사장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제어부는,
    카메라에서 촬영된 영상을 분석하여 실라인과 측정마크의 위치정보를 생성하는 영상분석부;
    상기 영상분석부에서 분석된 실라인의 위치정보에 기초하여 실라인의 위치를 검출하는 위치검출부; 및
    상기 영상분석부에서 분석된 실라인의 위치정보에 기초하여 실라인의 폭을 측정하는 폭측정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 실라인 검사장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제어부는
    측정된 실라인의 위치와 폭을 설정된 위치 및 폭과 비교하는 비교부; 및
    상기 비교부에 비교된 값을 기초로 실라인의 불량을 판정하는 판단부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 실라인 검사장치.
  12. 표시영역과 더미영역을 포함하며, 더미영역에 실라인과 측정마크가 형성된 액정표시소자를 제공하는 단계;
    카메라에 의해 실라인과 측정마크를 촬영하는 단계;
    촬영된 영상을 분석하여 실라인과 측정마크의 정보를 기초로 실라인의 위치를 검출하는 단계; 및
    실라인과 측정마크의 정보를 기초로 실라인의 폭을 검출하는 단계로 구성된 액정표시소자의 실라인 측정방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 실라인의 위치를 검출하는 단계는,
    촬영된 영상을 분석하여 위치측정마크와 실라인의 위치를 검출하는 단계; 및
    실라인의 위치와 위치측정마크 사이의 측정마크의 개수를 기초로 실라인의 위치를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 실라인 측정방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 실라인의 폭을 검출하는 단계는 실라인과 오버랩되는 측정마크의 개수를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 실라인 측정방법.
  15. 제12항에 있어서, 측정된 실라인의 위치와 폭을 설정된 위치 및 폭과 비교하는 비교하여 실라인의 불량을 판정하는 판단하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 실라인 측정방법.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102031102B1 (ko) 2019-05-28 2019-10-11 (주)케이테크놀로지 평판 디스플레이 셀 공정의 코너 실 라인 검사방법
KR102031103B1 (ko) 2019-05-28 2019-10-11 (주)케이테크놀로지 평판 디스플레이 셀 공정의 슬로프형 코너 실 라인 검사방법
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108919527A (zh) * 2018-07-02 2018-11-30 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种便捷式量测框胶宽度的基板及显示装置
CN109656035B (zh) * 2018-12-17 2021-10-08 惠科股份有限公司 一种显示面板封框胶的检测方法和显示面板、显示装置
JP7149209B2 (ja) * 2019-03-18 2022-10-06 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び検査方法
CN109903712A (zh) * 2019-04-30 2019-06-18 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板行驱动电路及显示面板
CN110276759B (zh) * 2019-06-28 2023-04-28 东北大学 一种基于机器视觉的手机屏坏线缺陷诊断方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000066221A (ja) 1998-08-20 2000-03-03 Hitachi Ltd 液晶表示装置
KR100724475B1 (ko) 2002-11-13 2007-06-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시패널의 실 디스펜서 및 이를 이용한 실 패턴의단선 검출방법
KR101025067B1 (ko) 2003-12-13 2011-03-25 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시패널의 제조장치
US7271094B2 (en) 2004-11-23 2007-09-18 Advantech Global, Ltd Multiple shadow mask structure for deposition shadow mask protection and method of making and using same
JP4736745B2 (ja) 2005-11-24 2011-07-27 ソニー株式会社 液晶表示装置の製造方法
TWI335458B (en) 2006-05-12 2011-01-01 Chimei Innolux Corp Liquid crystal panel module and method for manufacturing a liquid crystal display panel thereof
KR101451738B1 (ko) 2007-11-28 2014-10-16 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치의 구동 회로 및 방법
JP5394655B2 (ja) * 2008-04-28 2014-01-22 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
KR101025215B1 (ko) 2008-08-08 2011-03-31 주식회사 탑 엔지니어링 기판의 리페어구간 설정방법
KR101591476B1 (ko) * 2009-10-19 2016-02-19 삼성디스플레이 주식회사 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치
US9196205B2 (en) 2011-09-27 2015-11-24 Sharp Kabushiki Kaisha Scanning signal line drive circuit and display device equipped with same
KR102054233B1 (ko) * 2012-12-26 2019-12-10 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR102074422B1 (ko) * 2013-10-10 2020-02-07 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102045941B1 (ko) 2019-05-21 2019-11-18 (주)케이테크놀로지 평판 디스플레이 셀 공정의 실 라인 검사방법
KR102031102B1 (ko) 2019-05-28 2019-10-11 (주)케이테크놀로지 평판 디스플레이 셀 공정의 코너 실 라인 검사방법
KR102031103B1 (ko) 2019-05-28 2019-10-11 (주)케이테크놀로지 평판 디스플레이 셀 공정의 슬로프형 코너 실 라인 검사방법
KR102031101B1 (ko) 2019-06-11 2019-11-08 (주)케이테크놀로지 평판 디스플레이 셀 공정의 크로스형 실 라인 검사방법

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