KR20160053908A

KR20160053908A - 패턴 형성 방법 및 이 방법을 사용한 터치 패널의 제조 방법

Info

Publication number: KR20160053908A
Application number: KR1020167002005A
Authority: KR
Inventors: 미치노부 미즈무라
Original assignee: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
Priority date: 2013-09-09
Filing date: 2014-09-09
Publication date: 2016-05-13
Also published as: CN105531393A; WO2015034095A1; TW201519048A; JP2015052156A

Abstract

패턴 형성 방법은 대상물 면 위에 형성하는 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 복수회 스퍼터 성막하고 (S3, S5), 복수의 스퍼터용 마스크로 각각 성막한 패턴을 합성하여 단일의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다. 대상물 면 위에 패턴을 직접 스퍼터 성막함으로써, 노광 공정과 현상 공정이 불필요하게 된다. 또한, 대상물 면 위에 형성하는 패턴을 분할함으로써, 스퍼터용 마스크의 변형이나 어긋남 등이 발생하기 어렵다.

Description

패턴 형성 방법 및 이 방법을 사용한 터치 패널의 제조 방법 {PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR TOUCH PANEL USING SAID METHOD}

본 발명은 패턴 형성 방법 및 터치 패널의 제조 방법에 관한 것으로, 상세하게는 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 스퍼터 성막한 패턴을 합성하여 단일의 패턴을 형성함으로써, 노광 공정 및 현상 공정을 불필요하게 하여 제조를 간단하게 하는 동시에, 노광 장치 및 현상 장치를 불필요하게 하여 설비 비용을 삭감할 수 있는 패턴 형성 방법 및 터치 패널의 제조 방법에 관한 것이다.

종래의 정전용량형 터치 패널은 금속막, 절연막, 투명 전극막 등으로 구성되어 있고, 손가락끝의 정전용량을 검지하여, 패널 내의 어디를 터치하였는지를 X, Y 좌표로 검출한다. 상기 금속막, 절연막, 및 투명 전극막의 패터닝은 다음과 같이 실시한다. 각 막을 성막하고, 막 위에 포토레지스트를 도포한 후, 노광 및 현상을 실시하여 포토레지스트의 패턴을 형성한다. 이 패터닝한 포토레지스트를 마스크로 하여 각 막을 에칭한다 (예를 들면, 특허 문헌 1 참조).

특허 문헌 1: 일본 공개 특허 공보 2011-197754호

그러나, 상기 종래의 패턴 형성 방법은 패터닝의 대상이 되는 막에의 포토레지스트의 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정, 에칭 공정 및 포토레지스트의 박리 공정이 필요한 것이었다. 또한, 상기 종래의 패턴 형성 방법을 사용한 터치 패널의 제조 방법은 금속막, 절연막, 및 투명 전극막의 각각에 대하여, 전술한 바와 같은 번잡하고 공정 수가 많은 포토 공정를 반복할 필요가 있다. 또한, 노광 장치와 현상 장치를 사용하는 포토 라인 때문에, 설비 투자 및 러닝 코스트도 커진다는 문제가 있었다.

이에, 이와 같은 문제점에 대처하여, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 스퍼터 성막한 패턴을 합성하여 단일의 패턴을 형성함으로써, 노광 공정과 현상 공정을 불필요하게 하여 제조를 간단화하는 동시에, 노광 장치 및 현상 장치를 불필요하게 하여 설비 비용을 삭감하는 패턴 형성 방법 및 이 방법을 사용한 터치 패널의 제조 방법을 제공하는 데 있다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 의한 패턴 형성 방법은 대상물 면 위에 형성하는 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 복수회 스퍼터 성막하고, 상기 복수의 스퍼터용 마스크로 각각 성막한 패턴을 합성하여 단일의 패턴을 형성하는 것이다.

또한, 상기 개구 패턴은 패턴의 길이 방향으로 분할되어 있어도 좋다.

또한, 상기 단일의 패턴은 대상물 면 위에 형성하는 패턴의 적어도 일부이어도 좋다.

또한, 상기 복수의 스퍼터용 마스크는 각각, 상기 개구 패턴을 가진 마스크 시트와 상기 마스크 시트의 주위를 둘러싸며, 상기 마스크 시트가 장설되는 틀을 구비하여도 된다.

또한, 상기 마스크 시트는 수지 필름에 상기 개구 패턴이 형성된 수지 마스크 시트, 슬릿 형태의 복수의 관통공이 병렬 배치된 금속막과, 이 금속막의 한 면에 적층되고, 상기 관통공 내에 적어도 1개의 상기 개구 패턴이 형성된 수지 필름을 가진 복합형 마스크 시트, 및 금속막에 상기 개구 패턴이 형성된 메탈 마스크 시트 중 어느 하나를 포함하여도 좋다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법은 금속막, 절연막, 및 투명 전극막을 포함하는 터치 패널의 제조 방법으로서, 상기 금속막의 패턴 형성은 대상물 면 위에 형성하는 배선 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 제1 스퍼터용 마스크를 사용하여 복수회 스퍼터 성막하고, 상기 복수의 제1 스퍼터용 마스크로 각각 성막한 패턴을 합성하여 단일의 배선 패턴을 형성하고, 상기 절연막의 패턴 형성은 상기 절연막 위에, 인쇄용 마스크를 사용하여 포토레지스트의 패턴을 인쇄하고, 상기 포토레지스트의 패턴을 마스크에 상기 절연막의 웨트 에칭을 실시하여 패터닝하고, 상기 투명 전극막의 형성은 형성하여야 할 패턴에 대응하는 개구 패턴을 가진 제2 스퍼터용 마스크를 사용하여 패턴화된 투명 전극막을 스퍼터 성막하는 것이다.

또한, 상기 제1 스퍼터용 마스크의 개구 패턴은 배선의 길이 방향이 복수로 분할되어 있어도 좋다.

또한, 상기 제1 및 제2 스퍼터용 마스크, 및 인쇄용 마스크는 각각 상기 개구 패턴을 가진 마스크 시트와, 상기 마스크 시트의 주위를 둘러싸며, 상기 마스크 시트가 팽팽하게 설치되는 틀체를 구비하고 있어도 좋다.

또한, 상기 마스크 시트는 수지 필름에 상기 개구 패턴이 형성된 수지 마스크 시트, 슬릿 형태의 복수의 관통공이 병렬 배치된 금속막과, 이 금속막의 한 면에 적층되고, 상기 관통공 내에 적어도 1개의 상기 개구 패턴이 형성된 수지 필름을 가진 복합형 마스크 시트 및 금속막에 상기 개구 패턴이 형성된 메탈 마스크 시트 중 어느 하나를 포함하여도 좋다.

본 발명에 의한 패턴 형성 방법에 의하면, 대상물 면 위에 형성하는 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 복수회 스퍼터 성막하여 1개의 합성 패턴을 형성함으로써, 노광 공정과 현상 공정을 불필요하게 하여 제조를 간단화하는 동시에, 노광 장치 및 현상 장치를 불필요하게 하여 설비 비용을 삭감할 수 있다.

또한, 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 의하면, 금속막, 절연막, 및 투명 전극막을 각각, 포토 공정를 이용하지 않고 패턴 형성할 수 있다. 이에 의하여, 노광 공정과 현상 공정을 불필요하게 하여 제조를 간단화하는 동시에, 노광 장치 및 현상 장치를 불필요하게 하여 설비 비용을 삭감할 수 있다.

[도 1] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법의 실시 형태를 나타내는 공정도이다.
[도 2A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제1 공정을 나타내고 있고, 스퍼터용 제1 마스크의 평면도이다.
[도 2B] 도 2A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 3A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제2 공정을 나타내고 있고, 스퍼터용 제2 마스크의 평면도이다.
[도 3B] 도 3A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 4A] 제1 및 제2 공정에서 형성된 배선 패턴의 평면도이다.
[도 4B] 도 4A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 5A] 도 2A의 개구 패턴의 확대 평면도이다.
[도 5B] 도 3A의 개구 패턴의 확대 평면도이다.
[도 5C] 도 4A의 합성된 배선 패턴의 확대 평면도이다.
[도 6A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제3 공정을 나타내는 것으로, 배선 패턴 위에 절연막을 형성한 평면도이다.
[도 6B] 도 6A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 7A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제4의 공정을 나타내는 것으로, 포토레지스트의 도포 중의 인쇄용 마스크의 평면도이다.
[도 7B] 도 7A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 8A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제5의 공정을 나타내는 것으로, 레지스트 패턴의 평면도이다.
[도 8B] 도 8A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 9A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제6의 공정을 나타내는 것으로, 레지스트 패턴과 배선 패턴의 평면도이다.
[도 9B] 도 9A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 10A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제7의 공정을 나타내는 것으로, 배선 패턴과 절연막 패턴의 평면도이다.
[도 10B] 도 10A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 11A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제8의 공정을 나타내는 것으로, 스퍼터용 마스크의 평면도이다.
[도 11B] 도 11A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 12A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제9의 공정을 나타내는 것으로, Y-ITO막의 평면도이다.
[도 12B] 도 12A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 13A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제10의 공정을 나타내는 것으로, 스퍼터용 마스크의 평면도이다.
[도 13B] 도 13A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.
[도 14A] 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법에 있어서의 제11의 공정을 나타내는 것으로, X-ITO막의 평면도이다.
[도 14B] 도 14A의 X-X＇선에 따른 확대 단면도이다.

이하, 본 발명의 실시의 형태를 첨부 도면에 기초하여 설명한다.

도 1은 본 발명에 의한 터치 패널의 제조 방법의 실시 형태를 나타내는 공정도이다. 이 터치 패널의 제조 방법은 금속막 (메탈)의 패턴 형성 공정 (공정 S1 내지 S5), 절연막의 패턴 형성 공정 (공정 S6 내지 S11), ITO (Indium Tin Oxide：산화 인듐 주석) 막 (Y 방향)의 패턴 형성 공정 (공정 S12, S13), 및 ITO막 (X 방향)의 패턴 형성 공정 (공정 S14, S15)을 포함하고 있다.

금속막의 패턴 형성 공정은 대상물 면 위에 형성하는 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 복수회 스퍼터 성막하고, 성막한 패턴을 합성하여 단일의 패턴을 형성하는 것이다. 또한, 절연막의 패턴 형성 공정은 인쇄용 마스크를 사용하여 포토레지스트의 패턴을 인쇄로 형성하고, 이 포토레지스트의 패턴을 마스크로 하여 금속막 또는 절연막을 웨트 에칭하여 패턴을 형성하는 것이다. 또한, ITO막 (Y 방향)과 ITO막 (X 방향)의 패턴 형성 공정은 각각 형성하여야 할 패턴에 대응하는 개구 패턴을 가진 스퍼터용 마스크를 사용하여 스퍼터 성막을 실시함으로써, 패턴화된 ITO막을 성막하는 것이다.

다음으로, 전술한 각 제조공정에 대하여 상세하게 설명한다.

［금속막의 패턴 형성 공정］

먼저, 투명 기판, 예를 들면 유리 기판(10)의 표면을 세정하여 스퍼터 장치 내에 투입한다 (공정 S1). 이어서, 도 2A 및 도 2B에 도시하는 바와 같이, 유리 기판(10) 위에 형성하는 패턴을 분할한 개구 패턴(12a-1)을 가진 스퍼터용 제1 마스크(12-1)을 위치 맞춤하여 설치한다 (공정 S2). 개구 패턴(12a-1)은 주변의 프레임 영역에 있어서의, 인접하고 또한 직선상인 긴 배선 패턴의 개구 패턴을 길이 방향으로 분할한 것이다. 중앙부의 개구 패턴(12b-1)은 비교적 짧고 또한 서로 떨어져서 배치되어 있어 패턴의 변형이나 어긋남 등이 발생하기 어렵기 때문에, 분할하지 않고 1회에 성막한다. 이와 같이, 스퍼터용 제1 마스크(12-1)를 사용하여, 금속, 예를 들면 MAM (Mo/Al/Mo)의 스퍼터 성막을 실시하고, 유리 기판(10) 위에 배선 패턴의 일부(11)를 형성한다 (공정 S3).

이어서, 도 3A 및 도 3B에 도시하는 바와 같이, MAM막(11) 위에 스퍼터용 제2 마스크(12-2)를 위치 맞춤하여 설치한다 (공정 S4). 이 스퍼터용 제2 마스크(12-2)에는 유리 기판(10) 위에 형성하는 패턴을 분할한 별도의 개구 패턴(12a-2)이 형성되어 있다. 이 상태에서 스퍼터 성막을 실시하면, 도 4A 및 도 4B에 도시하는 바와 같이, 배선 패턴(11)의 주변의 프레임 영역의 배선 패턴이 보완되어 합성 패턴(11a, 11b)이 형성된다 (공정 S5).

그 후, 세정을 실시하고, 형성한 배선 패턴(11a, 11b)의 검사를 실시한다.

상기 스퍼터용 제1 마스크(12-1)는, 예를 들면 폴리이미드 등의 수지 필름에 개구 패턴(12a-1, 12b-1)을 형성한 수지 마스크 시트를 방형상의 메탈 프레임(12 c-1)의 내측에 팽팽하게 설치한 것이다. 또한, 상기 스퍼터용 제2 마스크(12-2)는 예를 들면 폴리이미드 등의 수지 필름에 개구 패턴(12a-2)을 형성한 수지 마스크 시트를, 방형상의 메탈 프레임(12c-2)의 내측에 팽팽하게 설치한 것이다. 수지 필름은 텐션을 가한 상태로 유지되고 있다. 각각의 개구 패턴(12a-1, 12a-2)는 전술한 바와 같이, 유리 기판(10) 위에 형성하는 패턴을 길이 방향으로 분할한 패턴이다.

또는, 슬릿 형태의 복수의 관통공이 병렬 배치된 금속막 (자성 금속 부재)의 한 면에, 수지 필름이 적층되고, 금속막의 관통공 내에 적어도 하나의 개구 패턴이 형성된 복합형 마스크 시트를, 방형상의 메탈 프레임의 내측에 팽팽하게 설치하여 사용할 수도 있다. 이 복합 마스크를 사용하면, 자성 금속 부재를 자력으로 흡착하여 고정할 수 있다.

또한, 금속막에 개구 패턴을 형성한 메탈 마스크 시트를, 방형상의 메탈 프레임의 내측에 팽팽하게 설치하여 사용할 수도 있다.

또한, 도 5A에 도 2A의 영역 100-1을 확대하여 도시하는 바와 같이, 스퍼터용 제1 마스크(12-1)의 개구 패턴(12a-1)은 형성하는 배선 패턴이 길이 방향으로 분할되고, 그 일부의 패턴에 대응하고 있다. 또한, 도 5B에 도 3A의 영역(100-2)를 확대하여 도시하는 바와 같이, 스퍼터용 제2 마스크(12-2)의 개구 패턴(12a-2)는 길이 방향으로 분할된 배선 패턴의 나머지의 부분에 대응하고 있다. 이 개구 패턴(12a-1, 12a-2)들을 합성함으로써, 도 5C에 도 4A의 영역(100-3)을 확대하여 나타내는 단일의 배선 패턴(11a)이 형성되도록 되어 있다.

［절연막의 패턴 형성 공정］

다음으로, 도 6A 및 도 6B에 도시하는 바와 같이, 전면에 절연막(15), 예를 들면 SOG (Spin on Glass) 등의 유기 절연막을 도포 형성한다 (공정 S6). 그 후, 도 7A 및 도 7B에 도시하는 바와 같이, 절연막(15) 위에 포토레지스트의 인쇄용 마스크(16)을 위치 맞춤하여 설치한다 (공정 S7). 이 인쇄용 마스크(16)에는 정방형의 개구 패턴(16a)이 매트릭스상으로 배치되어 있다. 인쇄용 마스크(16)는 스퍼터용 마스크와 동일한 구성의 마스크를 사용할 수 있다. 또한, 비교적 단순한 패턴 형상으로 이격하여 배치되어 있는 경우에는 일반적인 스크린 인쇄용의 마스크를 사용할 수도 있다. 그리고, 인쇄용 마스크(16) 위에 스퀴지(13)로 포토레지스트(17)를 도포하여 인쇄한다 (공정 S8). 인쇄용 마스크(16)을 제거하면, 도 8A 및 도 8B에 도시하는 바와 같이, 절연막(15) 위에 레지스트 패턴(17a)이 형성된다 (공정 S9).

이어서, 도 9A 및 도 9B에 도시하는 바와 같이, 레지스트 패턴(17a)을 마스크로 하여 절연막(15)의 웨트 에칭을 실시한다 (공정 S10). 또한, 레지스트 패턴(17a)을 박리하면 (공정 S11), 도 10A 및 도 10B에 도시하는 바와 같이, 배선 패턴(11B)의 일부를 덮듯이 절연막 패턴(15a)이 잔존한다.

그 후, 세정을 실시하고, 형성한 절연막 패턴(15a)의 검사를 실시한다.

［ITO막 (Y)의 패턴 형성 공정］

다음으로, 도 11A 및 도 11B에 도시하는 바와 같이, 전술한 바와 같이 하여, 배선 패턴(11a, 11b)과 이 배선 패턴(11b)의 일부를 덮는 절연막 패턴(15a)을 형성한 유리 기판(10) 위에, 개구 패턴(18a)을 형성한 스퍼터용 마스크(18)를 위치 맞춤하여 배치하고, 개구 패턴(18a) 내에 ITO막(19)을 스퍼터 성막한다 (공정 S12). ITO막(19)는 개구 패턴(18a) 내에 패턴화되어 형성되므로, 도 12A 및 도 12B에 도시하는 바와 같이, 배선 패턴(11b)에 의하여 전기적으로 연결되어 세로 방향으로 연속되고, Y 방향의 위치를 특정하는 Y-ITO막(19a)이 형성된다 (공정 S13).

그 후, 세정을 실시하고, 형성한 Y-ITO막(19a)의 검사를 실시한다.

［ITO막 (X)의 패턴 형성 공정］

다음으로, 도 13A 및 도 13B에 도시하는 바와 같이, 배선 패턴(11a), 절연막 패턴(15a) 및 Y-ITO막(19a)을 형성한 유리 기판(10) 위에, 개구 패턴(20a)을 형성한 스퍼터용 마스크(20)를 위치 맞춤하여 배치하고, 개구 패턴(20a) 내의 절연막 위에 ITO막(21)을 스퍼터 성막한다 (공정 S14). ITO막(21)은 개구 패턴(20a) 내에 패턴화되어 형성되므로, 도 14A 및 도 14B에 도시하는 바와 같이, 가로 방향으로 연속되고, X 방향의 위치를 특정하는 X-ITO막(21a)이 형성된다 (공정 S15). 이 패턴화된 X-ITO막(21a)과 Y-ITO막(19a)이 교차하는 부분에는 절연막 패턴(15a)이 개재되어, 양ITO막(21a, 19a)이 전기적으로 분리된다.

그 후, 세정을 실시하고, 형성한 X-ITO막(21a)의 검사를 실시한다.

또한, 유리 기판(10) 위의 전면에 절연막을 형성하고, 이 절연막 위에 커버 유리 등을 설치한다.

이 때, 스퍼터용 마스크(20)는 Y-ITO막(19a)을 스퍼터 성막하는 경우와 동일한 구성 (개구 패턴(20a)의 형상이 다르다)의 마스크를 사용할 수 있다.

상기와 같은 패턴 형성 방법에 의하면, 대상물 면 위에 형성하는 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 복수회 스퍼터 성막하고, 성막한 패턴을 합성하여 단일의 패턴을 형성한다. 이에 의하여, 노광 공정, 현상 공정 및 에칭 공정을 불필요하게 하여 제조를 간단화하는 동시에, 노광 장치 및 현상 장치를 불필요하게 하여 설비 비용과 런닝 코스트를 삭감할 수 있다.

또한, MAM막의 패턴 형성은 대상물 면 위에 형성하는 배선 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여, 복수회 스퍼터 성막하여 하나의 합성 패턴을 형성하므로, 스퍼터용 마스크의 패턴의 위치 어긋남이나 변형이 적고, 패턴 정밀도가 높은 성막을 실시할 수 있다.

또한, 이 패턴 형성 방법을 사용한 터치 패널의 제조 방법에 의하면, 금속막, 절연막, 투명 전극막의 각각을 패터닝할 때에, 인쇄용 마스크를 사용하여 포토레지스트의 패턴을 인쇄로 형성한다. 또는, 스퍼터용 마스크를 사용하여 패턴화된 금속층과 투명 전극막을 성막한다. 따라서, 포토 공정를 완전히 배제할 수 있으므로, 설비 비용과 런닝 코스트를 큰 폭으로 저감하는 것이 가능해진다.

또한 포토레지스트 패턴의 인쇄 형성에 의한 패터닝과, 패턴화된 막의 스퍼터 성막과의 다른 패턴 형성 방법을 조합함으로써, 금속막, 절연막 및 투명 전극 등을 각각의 재료나 패턴 형상에 적합한 방법, 또는 패턴 형성의 용이성에 따라 선택하여 패터닝할 수 있다. 또한, 스퍼터 성막은 에칭하지 않고 패턴을 형성할 수 있으므로, 두 가지의 패턴 형성 공정을 조합함으로써, 노광 공정과 현상 공정을 생략할 뿐만 아니라, 터치 패널을 형성할 때의 전체의 제조 공정 수를 삭감할 수 있다.

또한, 전술한 실시 형태에서는 정전용량형 터치 패널의 제조 방법을 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 정전용량형에 한정되는 것은 아니며, 다른 여러 가지 터치 패널의 제조 방법에 적용할 수 있다. 또한, 본 발명의 패턴 형성 방법이 적용되는 일례로서 터치 패널의 제조 방법에 대하여 설명하였지만, 웨트 에칭이나 스퍼터 성막을 실시하는 다른 여러 가지 패턴의 형성에 적용할 수 있는 것은 물론이다. 또한, 형성하는 패턴을 2 분할한 개구 패턴을 사용하여, 2회 스퍼터 성막하고 하나의 합성 패턴을 형성하는 예를 나타냈지만, 3 분할 이상하여 3회 이상 스퍼터 성막하여 하나의 합성 패턴을 형성하여도 좋다.

10 유리 기판 (투명 기판)
11 MAM막 (금속막)
12-1, 12-2 스퍼터용 마스크
16 인쇄용 마스크
17 포토레지스트
17a 레지스트 패턴
15 절연막
15a 절연막 패턴
18, 20 스퍼터용 마스크
19, 21 ITO막 (투명 전극막)

Claims

대상물 면 위에 형성하는 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 스퍼터용 마스크를 사용하여 복수회 스퍼터 성막하고, 상기 복수의 스퍼터용 마스크로 각각 성막한 패턴을 합성하여 단일의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
제1항에 있어서, 상기 개구 패턴은 패턴의 길이 방향으로 분할된 것인 패턴 형성 방법.
제1항에 있어서, 상기 단일의 패턴은 대상물 면 위에 형성하는 패턴의 적어도 일부인 것인 패턴 형성 방법.
제2항에 있어서, 상기 단일의 패턴은 대상물 면 위에 형성하는 패턴의 적어도 일부인 것인 패턴 형성 방법.
제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 복수의 스퍼터용 마스크는 각각 상기 개구 패턴을 가진 마스크 시트와, 상기 마스크 시트의 주위를 둘러싸며, 상기 마스크 시트가 팽팽하게 설치되는 틀체를 구비한 것인 패턴 형성 방법.
제5항에 있어서, 상기 마스크 시트는 수지 필름에 상기 개구 패턴이 형성된 수지 마스크 시트, 슬릿 형태의 복수의 관통공이 병렬 배치된 금속막과, 이 금속막의 한 면에 적층되어, 상기 관통공 내에 적어도 하나의 상기 개구 패턴이 형성된 수지 필름을 가진 복합형 마스크 시트, 및 금속막에 상기 개구 패턴이 형성된 메탈 마스크 시트 중 어느 하나를 포함하는 것인 패턴 형성 방법.
금속막, 절연막, 및 투명 전극막을 포함하는 터치 패널의 제조 방법으로서,
상기 금속막의 패턴 형성은 대상물 면 위에 형성하는 배선 패턴을 분할한 개구 패턴을 가진 복수의 제1 스퍼터용 마스크를 사용하고, 복수회 스퍼터 성막하고, 상기 복수의 제1 스퍼터용 마스크로 각각 성막한 패턴을 합성하여 단일의 배선 패턴을 형성하고,
상기 절연막의 패턴 형성은 상기 절연막 위에, 인쇄용 마스크를 사용하여 포토레지스트의 패턴을 인쇄하고, 상기 포토레지스트의 패턴을 마스크에 상기 절연막의 웨트 에칭을 실시하여 패터닝하고,
상기 투명 전극막의 형성은 형성하여야 할 패턴에 대응하는 개구 패턴을 가진 제2 스퍼터용 마스크를 사용하여 패턴화된 투명 전극막을 스퍼터 성막하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
제7항에 있어서, 상기 제1 스퍼터용 마스크의 개구 패턴은 배선의 길이 방향이 복수로 분할된 것인 터치 패널의 제조 방법.
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제1 및 제2 스퍼터용 마스크, 및 인쇄용 마스크는 각각 상기 개구 패턴을 가진 마스크 시트와, 상기 마스크 시트의 주위를 둘러싸며, 상기 마스크 시트가 팽팽하게 설치되는 틀체를 구비한 것인 터치 패널의 제조 방법.
제9항에 있어서, 상기 마스크 시트는 수지 필름에 상기 개구 패턴이 형성된 수지 마스크 시트, 슬릿 형태의 복수의 관통공이 병렬 배치된 금속막과, 이 금속막의 한 면에 적층되어 상기 관통공 내에 적어도 하나의 상기 개구 패턴이 형성된 수지 필름을 가진 복합형 마스크 시트 및 금속막에 상기 개구 패턴이 형성된 메탈 마스크 시트 중 어느 하나를 포함하는 것인 터치 패널의 제조 방법.