KR20150037539A - 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 필름 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따른 중합성 액정 화합물은 분자 내에 분자간 상호작용을 가능케 하는 적어도 둘의 작용기를 가지며, 이를 포함하는 조성물의 코팅시 높은 배향 안정성을 갖는 액정층의 형성이 가능하다. 그에 따라, 상기 조성물을 사용하여 형성된 광학 필름은 액정 디스플레이 또는 OLED 방식의 디스플레이에 대한 반사 방지 필름 등에 적합하게 사용될 수 있다.

Description

중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 필름{POLYMERIZABLE LIQUID CRYSTAL COMPOUNDS, LIQUID CRYSTAL COMPOSITION COMPRISING THE COMPOUNDS, AND OPTICAL FILM COMPRISING THE COMPOSITION}
본 발명은 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 필름에 관한 것이다.
디스플레이 분야에서 LCD (Liquid crystal display)의 점유율이 상승하면서, 차세대 디스플레이로 거론되고 있는 OLED (Organic light emitting diodes)에 대한 관심이 점차 높아지고 있다.
OLED 방식의 디스플레이는 두께, 소비 전력, 응답 속도, 시야각 등 여러 부문에서 LCD 보다 탁월하고, 투명 제품과 플렉시블 제품 등 다양한 응용이 가능해 미래의 디스플레이로 각광을 받고 있다.
다만, OLED는 수명이 비교적 짧고 발광 효율이 낮아 대형화에 아직 한계가 있으며, 특히 외부광의 간섭으로 인해 완벽한 검정색을 구현하기 어려운 단점이 있다.
보다 완벽한 검정색의 구현을 위하여, OLED 방식의 디스플레이에 두 장의 편광 필름을 사용하여 외부광에 의한 간섭을 최소화하는 방법이 제안되었다. 두 장의 편광 필름을 사용하는 방법은 비교적 간단하지만, 디스플레이의 선명도에 영향을 미칠 수 있고, 제조 비용이 상승하게 되는 문제점이 있다.
그에 따라, 상기 편광 필름 대신 역 파장 분산성 액정 필름을 사용하는 방법 등 외부광에 의한 간섭을 최소화하는 다양한 방법들이 제안되고 있으나, 아직 그 효과는 미흡한 실정이다.
본 발명은 높은 배향 안정성을 갖는 액정층의 형성을 가능케 함으로써 방사 방지 필름 등에 보다 적합하게 사용될 수 있는 중합성 액정 화합물을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물 및 광학 필름을 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따르면, 하기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물이 제공된다:
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에서,
A, G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 비방향족인 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹, 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 또는 헤테로 방향족 그룹이고;
E1, E2, D1, 및 D2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 2가의 연결기이고;
L1 및 L2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -O-C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 치환 또는 비치환된 실릴, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 40의 카빌 또는 하이드로카빌, 또는 -Sp-P로서, 상기 L1 및 L2 중 적어도 하나는 -Sp-P이고, 상기 P는 중합성 그룹이고, 상기 Sp는 스페이서 그룹 또는 단일 결합이며, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이고;
m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수로서; 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(D1-G1)- 또는 -(G2-D2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있으며;
상기 A, E1, E2, D1, D2, G1, G2, L1, 및 L2 에 포함된 sp2-혼성화 탄소 및 sp3-혼성화 탄소에 결합되어 있는 수소 중 둘 이상은 -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 탄소수 2 내지 6의 알케닐기, 탄소수 2 내지 6의 알키닐기, 탄소수 2 내지 4의 아실기, 말단에 탄소수 2 내지 4의 아실기가 결합된 탄소수 2 내지 6의 알키닐렌기, 탄소수 1 내지 5의 알코올기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알콕시기로 치환되어 있고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물이 제공된다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 중합성 액정 조성물을 사용하여 형성된 광학 필름이 제공된다.
이하, 발명의 구현 예들에 따른 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 조성물 및 광학 필름에 대하여 설명하기로 한다.
그에 앞서, 본 명세서 전체에서 명시적인 언급이 없는 한, 전문용어는 단지 특정 구현예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 그리고, 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다.
또한, 명세서에서 사용되는 "포함"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 또는 성분의 부가를 제외시키는 것은 아니다.
그리고, "중합성 액정 화합물"은 적어도 하나의 중합성 관능기를 가지는 액정 화합물을 의미한다. 상기 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물을 액정 상태로 배향시킨 후, 그 상태에서 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하면, 액정 분자의 배향 구조를 고정화한 중합물을 얻을 수 있다. 이렇게 얻어진 중합물은 굴절율, 유전율, 자화율, 탄성율, 열팽창율 등의 물리적 성질의 이방성을 가지고 있으므로, 예를 들어 위상차판, 편광판, 편광 프리즘, 휘도 향상 필름, 광 섬유의 피복재 등의 광학 이방체로서 응용 가능하다.
또한, "메소제닉 그룹"은 액정상 거동을 유도할 수 있는 능력을 갖는 그룹을 의미한다.
그리고, "스페이서 그룹"은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공지되어 있고, 예를 들어 문헌 [C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368]에 기술되어 있다. 상기 스페이서 그룹은 메소제닉 그룹과 중합성 그룹을 연결하는 가요성 유기 그룹(flexibe organic group)을 지칭한다.
그리고, "카빌 그룹"은 임의의 비-탄소 원자가 없는 하나 이상의 탄소 원자 (예컨데, -C≡C-)를 포함하거나, 또는 선택적으로 하나 이상의 비-탄소 원자 (예컨데, N, O, S, P, Si)와 조합된 하나 이상의 탄소 원자 (예컨데, 카보닐)를 포함하는 임의의 1가 또는 다가 유기 라디칼 잔기를 의미한다. "하이드로카빌 그룹"은 추가적으로 하나 이상의 H 원자를 함유하고, 선택적으로 하나 이상의 헤테로원자 (예컨데, N, O, S, P, Si)를 함유하는 카빌 그룹을 의미한다.
I. 중합성 액정 화합물
발명의 일 구현 예에 따르면, 하기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물이 제공된다:
[화학식 1]
Figure pat00002
상기 화학식 1에서,
A, G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 비방향족인 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹, 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 또는 헤테로 방향족 그룹이고;
E1, E2, D1, 및 D2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 2가의 연결기이고;
L1 및 L2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -O-C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 치환 또는 비치환된 실릴, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 40의 카빌 또는 하이드로카빌, 또는 -Sp-P로서, 상기 L1 및 L2 중 적어도 하나는 -Sp-P이고, 상기 P는 중합성 그룹이고, 상기 Sp는 스페이서 그룹 또는 단일 결합이며, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이고;
m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수로서; 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(D1-G1)- 또는 -(G2-D2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있으며;
상기 A, E1, E2, D1, D2, G1, G2, L1, 및 L2 에 포함된 sp2-혼성화 탄소 및 sp3-혼성화 탄소에 결합되어 있는 수소 중 둘 이상은 -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 탄소수 2 내지 6의 알케닐기, 탄소수 2 내지 6의 알키닐기, 탄소수 2 내지 4의 아실기, 말단에 탄소수 2 내지 4의 아실기가 결합된 탄소수 2 내지 6의 알키닐렌기, 탄소수 1 내지 5의 알코올기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알콕시기로 치환되어 있고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
본 발명자들의 계속적인 실험 결과, 놀랍게도 상기 화학식 1과 같은 구조를 갖는 중합성 액정 화합물은 보다 높은 배향 안정성을 갖는 액정층의 형성을 가능케 함을 확인하였다.
이와 관련하여, 기존의 액정 화합물은 분자간의 상호작용이 약하기 때문에 배향시 높게 쌓으면 배향이 무너지는 한계가 있었다. 그런데, 상기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물은 분자 내에 분자간 상호작용을 가능케 하는 적어도 둘의 작용기가 도입된 구조를 갖는다. 그에 따라, 상기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물은 분자간의 상호작용이 상대적으로 강해져 높은 배향 안정성을 갖는 액정층의 형성을 가능케 한다. 발명의 구현 예에 따르면, 상기 분자간 상호작용을 가능케 하는 작용기는 상기 화학식 1에서 A, E1, E2, D1, D2, G1, G2, L1, 및 L2 에 포함된 sp2-혼성화 탄소 및 sp3-혼성화 탄소에 둘 이상 도입될 수 있다.
상기 화학식 1에서 A, G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 비방향족인 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹, 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 또는 헤테로 방향족 그룹이다.
상기 A, G1 및 G2에서 상기 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹은 5원 고리 (예컨대, 사이클로펜탄, 테트라하이드로퓨란, 테트라하이드로티오퓨란, 피롤리딘; 6원 고리 (예컨대, 사이클로헥산, 실리난, 사이클로헥센, 테트라하이드로피란, 테트라하이드로티오피란, 1,3-다이옥산, 1,3-다이티안, 피페리딘); 7원 고리 (예컨대, 사이클로헵탄); 또는 융합된 그룹 (예컨대, 테트라하이드로나프탈렌, 데카하이드로나프탈렌, 인단, 바이사이클로[1.1.1]펜탄-1,3-다이일, 바이사이클로[2.2.2]옥탄-1,4-다이일, 스파이로[3.3]헵탄-2,6-다이일, 옥타하이드로-4,7-메타노-인단-2,5-다이일) 등일 수 있다.
상기 A, G1 및 G2에서 방향족 그룹은 벤젠, 바이페닐렌, 트라이페닐렌, 나프탈렌, 안트라센, 바이나프틸렌, 페난트렌, 파이렌, 다이하이드로파이렌, 크리센, 페릴렌, 테트라센, 펜타센, 벤즈파이렌, 플루오렌, 인덴, 인데노플루오렌, 스파이로바이플루오렌 등일 수 있다. 그리고, 상기 A, G1 및 G2에서 헤테로방향족 그룹은 5원 고리 (예컨대, 피롤, 피라졸, 이미다졸, 1,2,3-트라이아졸, 1,2,4-트라이아졸, 테트라졸, 퓨란, 티오펜, 셀레노펜, 옥사졸, 아이속사졸, 1,2-티아졸, 1,3-티아졸, 1,2,3-옥사다이아졸, 1,2,4-옥사다이아졸, 1,2,5-옥사다이아졸, 1,3,4-옥사다이아졸, 1,2,3-티아다이아졸, 1,2,4-티아다이아졸, 1,2,5-티아다이아졸, 1,3,4-티아다이아졸); 6원 고리 (예컨대, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 1,3,5-트라이아진, 1,2,4-트라이아진, 1,2,3-트라이아진, 1,2,4,5-테트라진, 1,2,3,4-테트라진, 1,2,3,5-테트라진); 또는 융합된 그룹 (예컨대, 카바졸, 인돌, 아이소인돌, 인돌리진, 인다졸, 벤즈이미다졸, 벤조트라이아졸, 푸린, 나프트이미다졸, 페난트르이미다졸, 피리드이미다졸, 피라진이미다졸, 퀴녹살린이미다졸, 벤즈옥사졸, 나프트옥사졸, 안트르옥사졸, 페난트르옥사졸, 아이속사졸, 벤조티아졸, 벤조퓨란, 아이소벤조퓨란, 다이벤조퓨란, 퀴놀린, 아이소퀴놀린, 프테리딘, 벤조-5,6-퀴놀린, 벤조-6,7-퀴놀린, 벤조-7,8-퀴놀린, 벤조아이소퀴놀린, 아크리딘, 페노티아진, 펜옥사진, 벤조피리다진, 벤조피리미딘, 퀴녹살린, 펜아진, 나프티리딘, 아자카바졸, 벤조카볼린, 페난트리딘, 페난트롤린, 티에노[2,3-b]티오펜, 티에노[3,2-b]티오펜, 다이티에노티오펜, 다이티에노피리딘, 아이소벤조티오펜, 다이벤조티오펜, 벤조티아다이아조티오펜) 등일 수 있다.
바람직하게는, 상기 A, G1 및 G2는 각각 독립적으로 사이클로헥산 고리, 사이클로헥센 고리, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 또는 페난트렌 고리일 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 A, G1 및 G2는 각각 독립적으로 트랜스-1,4-사이클로헥실렌, 1,4-페닐렌, 1,5-나프틸렌, 및 2,6-나프틸렌으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
한편, 상기 화학식 1에서 E1, E2, D1, 및 D2는 각각 독립적으로 단일 결합이거나 또는 2가의 연결기이다.
구체적으로, 상기 E1, E2, D1, 및 D2는 각각 독립적으로 단일 결합, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-COO-, -CO-NR1-, -NR1-CO-, -NR1-CO-NR1-, -OCH2-, -CH2O-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH2CH2-, -(CH2)3-, -(CH2)4-, -CF2CH2-, -CF2CH2-, -CH=CH-, -CY1=CY2-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR1-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, 또는 -CR1R2- 일 수 있다. 여기서, 상기 Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -CN, 또는 -R1이고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
그리고, 상기 화학식 1에서 L1 및 L2는 메소제닉 그룹의 말단으로서, 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -O-C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 치환 또는 비치환된 실릴, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 40의 카빌 또는 하이드로카빌, 또는 -Sp-P 이고, 상기 L1 및 L2 중 적어도 하나는 -Sp-P 이다. 여기서, 상기 P는 중합성 그룹이고, 상기 Sp는 스페이서 그룹 또는 단일 결합이며, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
비제한적인 예로, 상기 L1 및 L2는 F, Cl, Br, I, 또는 CN으로 일치환 또는 다치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 25의 직쇄, 분지쇄 또는 환형 알킬기로부터 선택될 수 있고; 이때 하나 이상의 인접하지 않은 CH2 그룹은 각각 독립적으로 -O-, -S-, -NH-, -NR1-, SiR1R2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -SO2-, -CO-NR1-, -NR1-CO-, -NR1-CO-NR1-, -CY1=CY2-, 또는 -C≡C-로 대체될 수 있다. 여기서, 상기 Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -CN, 또는 -R1이고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
또한, 상기 L1 및 L2는 탄소수 1 내지 20의 알킬, 탄소수 1 내지 20의 옥사알킬, 탄소수 1 내지 20의 알콕시, 탄소수 2 내지 20의 알켄일, 탄소수 2 내지 20의 알킨일, 탄소수 1 내지 20의 실릴, 탄소수 1 내지 20의 에스터, 탄소수 1 내지 20의 아미노, 및 탄소수 1 내지 20의 플루오로알킬로부터 선택될 수 있다.
또한, 상기 L1 및 L2의 일 예인 -Sp-P에서, 상기 P는 중합성기로서, 바람직하게는, CH2=CZ1-COO-, CH2=CZ1-CO-, CH2=CZ2-(O)a-, CH3-CH=CH-O-, (CH2=CH)2CH-OCO-, (CH2=CH-CH2)2CH-OCO-, (CH2=CH)2CH-O-, (CH2=CH-CH2)2N-, (CH2=CH-CH2)2N-CO-, HO-CZ1Z2-, HS-CZ1Z2-, HZ1N-, HO-CZ1Z2-NH-, CH2=CZ1-CO-NH-, CH2=CH-(COO)a-Phe-(O)b-, CH2=CH-(CO)a-Phe-(O)b-, Phe-CH=CH-, HOOC-, OCN-, Z1Z2Z3Si-,
Figure pat00003
,
Figure pat00004
, 또는
Figure pat00005
일 수 있다. 여기서, 상기 Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -CN, -CF3, 페닐, 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬이고, 상기 Phe는 -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, 또는 -SF3에 의해 치환 또는 비치환된 1,4-페닐렌이고, 상기 a 및 b는 각각 독립적으로 0 또는 1이다.
그리고, 상기 L1 및 L2의 일 예인 -Sp-P에서, 상기 Sp는 -Sp-P가 -X'-Sp'-P가 되도록 하는 화학식 -X'-Sp'로부터 선택된다. 상기 Sp'는 -F, -Cl, -Br, -I, 또는 -CN으로 일치환 또는 다중치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬렌이고, 상기 알킬렌에서 하나 이상의 -CH2- 그룹은 -O-, -S-, -NH-, -NR1-, SiR1R2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -NR1-CO-O-, -O-CO-NR1-, -NR1-CO-NR1-, -CH=CH-, 또는 -C=C-로 대체될 수 있다. 그리고, 상기 X'는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-COO-, -CO-NR1-, -NR1-CO-, -NR1-CO-NR1-, -OCH2-, -CH2O-, -SCH2-, -CH2S-, -OCF2-, -CF2O-, -SCF2-, -SF2O-, -CF2CH2-, -CF2CF2-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR1-, -CY1=CY2-, -C=C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, 또는 단일 결합이다. 여기서, 상기 Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -CN, 또는 -R1이고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
그리고, 상기 화학식 1에서 m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수일 수 있다. 여기서, 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(D1-G1)- 또는 -(G2-D2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있다. 예를 들어, 상기 m이 2인 경우, -(D1-G1)-(D1-G1)- 의 각 반복 단위에 포함되는 D1 또는 G1은 각각 전술한 범위에서 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있다.
한편, 발명의 구현 예에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물은 분자 내에 분자간 상호작용을 가능케 하는 적어도 둘의 작용기를 갖는다. 상기 중합성 액정 화합물은 분자간 상호작용을 가능케 하는 작용기를 포함함에 따라 다른 분자들과의 상호작용을 통해 보다 향상된 배향 안정성을 나타낼 수 있다.
이러한 효과가 발현될 수 있도록 하기 위하여, 상기 중합성 액정 화합물에는 상기 분자간 상호작용을 가능케 하는 작용기가 둘 이상 도입되는 것이 바람직하다. 이처럼 분자간 상호작용을 가능케 하는 작용기의 종류는 특별히 제한되지 않으나, 바람직하게는 -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 탄소수 2 내지 6의 알케닐기, 탄소수 2 내지 6의 알키닐기, 탄소수 2 내지 4의 아실기, 말단에 탄소수 2 내지 4의 아실기가 결합된 탄소수 2 내지 6의 알키닐렌기, 탄소수 1 내지 5의 알코올기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알콕시기일 수 있다. 여기서, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
다만, 상기 분자간 상호작용을 가능케 하는 작용기가 도입되는 위치는 특별히 제한되지 않으며, 중합성 액정 화합물의 길이, 중합성 액정 화합물을 구성하는 작용기들의 종류 등 그 디자인에 따라 달라질 수 있다. 바람직하게는, 상기 화학식 1에서 A, E1, E2, D1, D2, G1, G2, L1, 및 L2 에 포함된 sp2-혼성화 탄소 및 sp3-혼성화 탄소에 결합되어 있는 수소 중 둘 이상은 상기 분자간 상호작용을 가능케 하는 작용기로 치환될 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 분자간 상호작용을 가능케 하는 작용기는 화학식 1에서 A 및 G1, 또는 A 및 G2, 또는 A, G1 및 G2에 도입될 수 있다.
비제한적인 예로, 상기 화학식 1의 중합성 액정 화합물로는 후술할 실시예들에 따른 RD-01 내지 RD-30으로 표시되는 화합물들을 예로 들 수 있다. 다만, 상기 중합성 액정 화합물이 RD-1 내지 RD-30의 화합물만으로 한정되는 것은 아니며, 전술한 범위에서 다양한 조합으로 구현될 수 있다.
그리고, 상기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물은 공지의 반응들을 응용하여 합성될 수 있으며, 보다 자세한 합성 방법은 실시예를 통해 서술한다.
II . 중합성 액정 조성물
한편, 발명의 다른 구현 예에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물이 제공된다.
상기 중합성 액정 조성물은 전술한 화학식 1로 표시되는 화합물을 중합 개시제와 함께 용제에 용해시킨 조성물일 수 있다. 그리고, 상기 조성물에는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 단독 또는 2종 이상의 조합으로 포함될 수 있다.
여기서, 상기 중합 개시제로는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 라디칼 중합 개시제가 사용될 수 있다. 상기 중합 개시제의 함량은 상기 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 효율적으로 이끌어낼 수 있는 통상적인 범위에서 결정될 수 있다. 발명의 구현 예에 따르면, 상기 중합 개시제는 조성물 전체 중량을 기준으로 10 중량% 이하, 바람직하게는 0.5 내지 8 중량%로 포함될 수 있다.
그리고, 상기 용제는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌(mesitylene), n-부틸벤젠, 디에틸벤젠, 테트랄린(tetralin), 메톡시벤젠, 1,2-디메톡시벤젠, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 아세트산에틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸포름아미드, 클로로포름, 디클로로메탄, 사염화탄소, 디클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, t-부틸알코올, 디아세톤알코올, 글리세린, 모노아세틴, 에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 이들 용제 중에서도 비점이 60 내지 250 ℃인 것이 조성물의 도포시 균일한 막 두께를 형성하는데 유리하고, 용매의 잔류나 배향성의 저하를 최소화하는데 유리하다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물에는, 필요에 따라 선택적으로, 크산톤(Xanthone), 티오크산톤, 클로로티오크산톤, 페노티아진, 안트라센, 디페닐안트라센 등의 증감제가 더욱 포함될 수 있다.
또한, 상기 중합성 액정 조성물에는, 필요에 따라 선택적으로, 4급 암모늄염, 알킬아민옥사이드, 폴리아민 유도체, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌 축합물, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 알킬치환 방향족 술폰산염, 알킬인산염, 퍼플루오로알킬술폰산염 등의 계면활성제; 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노알킬에테르류, 피로갈롤류, 티오페놀류, 2-나프틸아민류, 2-하이드록시나프탈렌류 등의 보존 안정제; 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 트리페닐포스파이트 등의 산화 방지제; 살리실산 에스테르계 화합물, 벤조페놀계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈착염계 화합물 등의 자외선 흡수제가 더욱 포함될 수 있다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물에는, 필요에 따라 선택적으로, 광학 이방성을 조절하거나 중합막의 강도를 향상시키기 위한 미립자화물이 더욱 포함될 수 있다. 상기 미립자화물은 헥토라이트, 몬모릴로나이트, 카올리나이트, ZnO, TiO2, CeO2, Al2O3, Fe2O3, ZrO2, MgF2, SiO2, SrCO3, Ba(OH)2, Ca(OH)2, Ga(OH)3, Al(OH)3, Mg(OH)2, Zr(OH)4 등의 무기 미립자화물; 카본 나노튜브, 풀러린, 덴드리머, 폴리비닐알코올, 폴리메타크릴레이트, 폴리이미드 등의 유기 미립자화물일 수 있다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물에는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 이외에, 임의의 액정 화합물이 더욱 포함될 수 있다. 상기 임의의 액정 화합물은 중합성을 갖거나 갖지 않는 것일 수 있다. 여기서, 상기 임의의 액정 화합물로는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 액정 화합물, 광학 활성기를 가지는 화합물, 봉상 액정 화합물 등을 예로 들 수 있다. 그리고, 상기 임의의 액정 화합물은 그들의 구조에 따라 적절한 양으로 혼합될 수 있는데, 바람직하게는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 전체 액정 화합물 중량의 20 중량% 이상, 또는 50 중량% 이상으로 포함되도록 하는 것이, 전술한 목적의 달성 측면에서 유리할 수 있다.
III . 광학 필름
한편, 발명의 또 다른 구현 예에 따르면, 상기 중합성 액정 조성물을 사용하여 형성된 광학 필름이 제공된다.
특히, 상기 광학 필름은 전술한 중합성 액정 화합물을 사용하여 형성됨에 따라, 높은 배향 안정성을 갖는 액정층을 포함할 수 있다.
상기 광학 필름은 전술한 중합성 액정 조성물을 지지 기판에 도포하고, 상기 중합성 액정 조성물 중의 액정 화합물을 배향시킨 상태로 탈용매하고, 이어서 에너지선을 조사하여 중합함으로써 얻을 수 있다.
여기서, 상기 지지 기판은 특별히 한정되지 않으나, 바람직한 예로는 유리판, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름, 폴리메타크릴산메틸 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 셀룰로오스계 필름, 실리콘 필름 등이 이용될 수 있다. 그리고, 상기 지지 기판상에 폴리이미드 배향막 또는 폴리비닐알코올 배향막을 시행한 것이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 지지 기판에 조성물을 도포하는 방법으로는 공지의 방법이 이용될 수 있으며, 예를 들면 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 바 코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법 등이 적용될 수 있다. 그리고, 상기 조성물에 의해 형성되는 막의 두께는 용도에 따라 달라질 수 있는데, 바람직하게는 0.01 내지 100 ㎛의 범위에서 선택될 수 있다.
한편, 상기 액정 화합물을 배향시키는 방법으로는, 비제한적인 예로, 지지 기판상에 사전 배향 처리를 실시하는 방법을 들 수 있다. 배향 처리를 실시하는 방법으로는, 각종 폴리이미드계 배향막 또는 폴리비닐알코올계 배향막을 포함하는 액정 배향측을 지지 기판상에 형성하고, 러빙 등의 처리를 행하는 방법을 들 수 있다. 또한, 지지 기판상의 조성물에 자장 또는 전장 등을 인가하는 방법 등도 들 수 있다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물을 중합시키는 방법은, 광, 열 또는 전자파를 이용하는 공지의 방법일 수 있다.
그리고, 상기 광학 필름은 액정 디스플레이 또는 OLED 방식의 디스플레이의 위상차 필름, 편광 소자, 반사 방지 필름, 선택 방사막, 시야각 보상막 등에 사용될 수 있다. 특히, 상기 조성물을 사용하여 형성된 광학 필름을 OLED 방식의 디스플레이에 적용할 경우, 외부광에 의한 간섭이 최소화될 수 있어 보다 완벽한 검정색의 구현이 가능하다.
본 발명에 따른 중합성 액정 화합물은 분자 내에 분자간 상호작용을 가능케 하는 적어도 둘의 작용기를 가져, 이를 포함하는 조성물의 코팅시 높은 배향 안정성을 갖는 액정층의 형성이 가능하다. 특히, 상기 조성물을 사용하여 형성된 광학 필름을 OLED 방식의 디스플레이에 적용할 경우, 외부광에 의한 간섭이 최소화될 수 있어 보다 완벽한 검정색의 구현이 가능하다.
도 1a 및 도 8b는 각각 본 발명의 일 구현 예에 따른 중합성 액정 화합물의 합성에 관한 scheme을 나타낸 것이다.
이하, 구체적인 실시예들을 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상세히 서술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예들은 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다.
실시예 1: 화합물 RD -01의 합성
Figure pat00006
도 1a 및 도 1b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-01을 합성하였다.
(화합물 2의 합성)
약 100g 의 화합물 1((1's,4'r)-4'-pentyl-[1,1'-bi(cyclohexan)]-4-one)과 약 60g의 테트라메틸렌디아민(tetramethylenediamine)을 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)에 녹인 후, 약 -78℃ 하에서 약 300ml의 n-부틸리튬(n-butyl lithium)을 천천히 적가하였다. 이를 약 2 시간 동안 교반한 후, 여기에 에티닐트리메틸실란(ethynyltrimethylsilane)을 넣고 약 1 시간 동안 추가로 교반하였다. 그리고, 상기 반응물을 디클로로메탄(dichloromethane)과 물로 추출한 후 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 120g의 화합물 2를 얻었다.
(화합물 4의 합성)
약 100g의 화합물 3 (4-hydroxy-3-iodobenzoic acid)과 약 400g의 N,N-디아이소프로필에틸아민(N,N-diisopropylethylamine)을 디클로로메탄에 녹인 후, 약 0℃ 하에서 약 200g의 메틸클로로메틸에테르(methyl chloromethyl ether)를 천천히 적가하였다. 이를 약 24 시간 동안 교반한 후, 약 500ml의 암모늄클로라이드(ammonium chloride)로 세척하였고, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 그리고, 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 용매를 제거하였다. 이를 통해 얻은 물질과 포타슘하이드록사이드(potassium hydroxide) 수용액을 메탄올에 넣고 약 3 시간 동안 환류 교반하였다. 여기에 6N의 염산(hydrochloric acid)을 넣어 석출시킨 뒤 필터링하여 용매를 제거하였다. 그리고, 헥산을 사용하여 여분의 이물질을 제거한 후, 약 48시간 동안 건조하여 약 110g의 화합물 4를 얻었다.
(화합물 5의 합성)
약 100g의 상기 화합물 4, 약 100g의 상기 화합물 2, 그리고 약 70g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine))을 디클로로메탄에 녹인 후 약 30분간 교반하였다. 여기에 약 80g의 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide)를 첨가하여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 150g의 화합물 5를 얻었다.
(화합물 6의 합성)
약 100g의 상기 화합물 5와 약 300ml의 6N 염산을 테트라하이드로퓨란에 녹인 후, 약 40℃ 하에서 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 80g의 화합물 6을 얻었다.
(화합물 8-1의 합성)
약 80g의 상기 화합물 6, 약 50g의 화합물 7-1 [(1r,4r)-4-((4-(acryloyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid], 약 5g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine)), 및 약 50g의 N,N-디아이소프로필에틸아민(N,N-diisopropylethylamine)을 디클로로메탄에 녹인 후 약 30 분 동안 교반하였다. 여기에 약 80g의 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide) 및 약 50g의 에티닐트리메틸실란(ethynyltrimethylsilane)를 첨가하여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 100g의 화합물 8-1을 얻었다.
(화합물 9-1의 합성)
약 80g의 상기 화합물 8-1, 약 20g의 에티닐트리메틸실란(ethynyltrimethylsilane), 약 3g의 Pd(PPh3)2Cl2 (Bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride), 및 약 5g의 CuI (copper iodide)를 테트라하이드로퓨란에 녹인 후 약 24 시간 동안 환류 교반하였다. 생성된 염을 필터링하여 제거하였고, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 70g의 화합물 9-1을 얻었다.
(화합물 RD-01의 합성)
약 70g의 상기 화합물 9-1과 약 6g의 AgNO3(silver nitrate)를 혼합 용매(물: 디클로로메탄: 에탄올 = 1: 6: 3)에 녹여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 50g의 화합물 RD-01을 얻었다.
수득된 화합물 RD-01에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(48H, m)
그리고, 화합물 RD-01의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-01은 약 25 내지 88℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 2: 화합물 RD -02의 합성
Figure pat00007
도 1a 및 도 1b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-02를 합성하였다.
(화합물 8-2의 합성)
상기 화합물 7-1 대신 약 55g의 화합물 7-2 [(1r,4r)-4-(((6-(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로 약 100g의 화합물 8-2를 얻었다.
(화합물 9-2의 합성)
상기 화합물 8-1 대신 상기 화합물 8-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로 약 70g의 화합물 9-2를 얻었다.
(화합물 RD-2의 합성)
상기 화합물 9-1 대신 상기 화합물 9-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-1의 합성과 동일한 방법으로 약 50g의 화합물 RD-02를 얻었다.
수득된 화합물 RD-02에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(52H, m)
그리고, 화합물 RD-02의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-02는 약 25 내지 85℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 3: 화합물 RD -03의 합성
Figure pat00008
도 1a 및 도 1b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-03을 합성하였다.
(화합물 8-3의 합성)
상기 화합물 7-1 대신 약 60g의 화합물 7-3 [(1r,4r)-4-(((8-(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로 약 100g의 화합물 8-3을 얻었다.
(화합물 9-3의 합성)
상기 화합물 8-1 대신 상기 화합물 8-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로 약 70g의 화합물 9-3을 얻었다.
(화합물 RD-03의 합성)
상기 화합물 9-1 대신 상기 화합물 9-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-1의 합성과 동일한 방법으로 약 50g의 화합물 RD-03을 얻었다.
수득된 화합물 RD-03에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(56H, m)
그리고, 화합물 RD-03의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-03은 약 25 내지 80℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 4: 화합물 RD -04의 합성
Figure pat00009
도 2에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-04를 합성하였다.
(화합물 11의 합성)
약 100g의 화합물 10 (4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexanone)과 약 120g의 N,N-디아이소프로필에틸아민(N,N-diisopropylethylamine)을 디클로로메탄에 녹인 후, 상온 하에서 약 50g의 메틸클로로메틸에테르(methyl chloromethyl ether)를 천천히 적가하였다. 이를 약 2 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 그리고, 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 용매를 제거하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 120g의 화합물 11을 얻었다.
(화합물 12의 합성)
약 120g의 화합물 11과 약 100g의 N,N,N',N'-테트라메틸에틸렌디아민(N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine)을 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran)에 녹인 후, 약 -78℃ 하에서 20 분 동안 교반하였다. 여기에, 약 500ml의 n-butyl lithium in 2.5M hexane을 2 시간에 걸쳐 천천히 적가하였다. 이를 약 4 시간 동안 교반한 후, 여기에 에티닐트리메틸실란(ethynyltrimethylsilane)을 넣고 약 24 시간 동안 추가로 교반하였다. 그리고, 상기 반응물을 에틸아세테이트와 물로 추출한 후, 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 100g의 화합물 12를 얻었다.
(화합물 13의 합성)
약 100g의 화합물 12와 약 10g의 테트라부틸암모늄 플로라이드 하이드레이트(tetrabutylammonium fluoride hydrate)를 테트라하이드로퓨란에 녹인 후 약 2 시간 동안 교반하였다. 그리고, 상기 반응물을 에틸아세테이트와 물로 추출한 후, 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 80g의 화합물 13을 얻었다.
(화합물 15의 합성)
약 80g의 화합물 13, 약 30g의 화합물 14(terephthalic acid), 그리고 약 50g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine))을 디클로로메탄에 녹인 후 약 30분간 교반하였다. 여기에 약 80g의 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide)를 첨가하여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 80g의 화합물 15를 얻었다.
(화합물 16의 합성)
약 100g의 화합물 15와 약 300ml의 6N 염산을 테트라하이드로퓨란에 녹인 후, 약 40℃ 하에서 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 60g의 화합물 16을 얻었다.
(화합물 RD-04의 합성)
약 80g의 화합물 16, 약 80g의 화합물 7-1 ((1r,4r)-4-((4-(acryloyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid), 약 5g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine)), 및 약 50g의 N,N-디아이소프로필에틸아민(N,N-diisopropylethylamine)을 디클로로메탄에 녹인 후 약 30 분 동안 교반하였다. 여기에 약 80g의 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide) 및 약 50g의 에티닐트리메틸실란(ethynyltrimethylsilane)를 첨가하여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 100g의 화합물 RD-04를 얻었다.
수득된 화합물 RD-04에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.85(4H, s), 7.47(4H, d), 7.21(4H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(2H, dd), 5.59(2H, dd), 4.13(4H, t), 3.97(4H, t), 3.52(2H, s), 2.50(2H, t), 1.60-1.12(44H, m)
그리고, 화합물 RD-04의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-04는 약 89 내지 102℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 5: 화합물 RD -05의 합성
Figure pat00010
도 2에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-05를 합성하였다.
즉, 상기 화합물 7-1 대신 화합물 7-2 ((1r,4r)-4-(((6-(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)를 사용한 것을 제외하고, 실시예 4의 화합물 RD-04의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 RD-05를 얻었다.
수득된 화합물 RD-05에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.85(4H, s), 7.47(4H, d), 7.21(4H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(2H, dd), 5.59(2H, dd), 4.13(4H, t), 3.97(4H, t), 3.52(2H, s), 2.50(2H, t), 1.60-1.12(52H, m)
그리고, 화합물 RD-05의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-05는 약 81 내지 95℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 6: 화합물 RD -06의 합성
Figure pat00011
도 2에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-06을 합성하였다.
즉, 상기 화합물 7-1 대신 화합물 7-3 ((1r,4r)-4-(((8-(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)를 사용한 것을 제외하고, 실시예 4의 화합물 RD-04의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 RD-06을 얻었다.
수득된 화합물 RD-06에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.85(4H, s), 7.47(4H, d), 7.21(4H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(2H, dd), 5.59(2H, dd), 4.13(4H, t), 3.97(4H, t), 3.52(2H, s), 2.50(2H, t), 1.60-1.12(60H, m)
그리고, 화합물 RD-06의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-06은 약 78 내지 90℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 7: 화합물 RD -07의 합성
Figure pat00012
도 3에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-07을 합성하였다.
(화합물 18의 합성)
약 60g의 화합물 17(propiolic acid), 약 100g의 N,N'-디사이클로헥실카보디이미드(N,N'-dicyclohexylcarbodiimide), 약 10g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine)), 및 약 20g의 tert-부탄올(tert-butanol)을 테트라하이드로퓨란에 녹인 후 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 80g의 화합물 18을 얻었다.
(화합물 19-1의 합성)
실시예 1에 따른 약 80g의 화합물 8-1, 약 40g의 화합물 18, 약 3g의 Pd(PPh3)2Cl2 (Bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride), 및 약 5g의 CuI (copper iodide)를 테트라하이드로퓨란에 녹인 후 약 24 시간 동안 환류 교반하였다. 생성된 염을 필터링하여 제거하였고, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 70g의 화합물 19-1을 얻었다.
(화합물 20-1의 합성)
약 70g의 화합물 19-1과 약 6g의 AgNO3(silver nitrate)를 혼합 용매(물: 디클로로메탄: 에탄올 = 1: 6: 3)에 녹여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 50g의 화합물 20-1을 얻었다.
(화합물 RD-07의 합성)
약 50g의 화합물 20-1과 약 50g의 테트라플루오로아세틱 에시드(tetrafluoroacetic acid)를 디클로로메탄에 녹인 후 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 40g의 화합물 RD-07을 얻었다.
수득된 화합물 RD-07에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 11.0(1H, s), 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(48H, m)
그리고, 화합물 RD-07의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-07은 약 70 내지 81℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 8: 화합물 RD -08의 합성
Figure pat00013
도 3에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-08을 합성하였다.
(화합물 19-2의 합성)
화합물 8-1 대신 실시예 2에 따른 화합물 8-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 7의 화합물 19-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 19-2를 얻었다.
(화합물 20-2의 합성)
화합물 19-1 대신 상기 화합물 19-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 7의 화합물 20-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 20-2를 얻었다.
(화합물 RD-08의 합성)
화합물 20-1 대신 상기 화합물 20-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 7의 화합물 RD-07의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-08을 얻었다.
수득된 화합물 RD-08에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 11.0(1H, s), 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(52H, m)
그리고, 화합물 RD-08의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-08은 약 68 내지 78℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 9: 화합물 RD -09의 합성
Figure pat00014
도 3에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-09를 합성하였다.
(화합물 19-3의 합성)
화합물 8-1 대신 실시예 3에 따른 화합물 8-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 7의 화합물 19-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 19-3을 얻었다.
(화합물 20-3의 합성)
화합물 19-1 대신 상기 화합물 19-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 7의 화합물 20-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 20-3을 얻었다.
(화합물 RD-09의 합성)
화합물 20-1 대신 상기 화합물 20-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 7의 화합물 RD-07의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-09를 얻었다.
수득된 화합물 RD-09에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 11.0(1H, s), 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(56H, m)
그리고, 화합물 RD-09의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-09는 약 65 내지 77℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 10: 화합물 RD -10의 합성
Figure pat00015
도 4에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-10을 합성하였다.
(화합물 22의 합성)
실시예 4에 따른 약 70g의 화합물 12, 약 90g의 화합물 21[3-iodo-4-(methoxymethoxy)benzoic acid], 그리고 약 50g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine))을 디클로로메탄에 녹인 후 약 30분간 교반하였다. 여기에 약 80g의 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide)를 첨가하여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 90g의 화합물 22를 얻었다.
(화합물 23의 합성)
약 80g의 화합물 22와 약 300ml의 6N 염산을 테트라하이드로퓨란에 녹인 후, 약 40℃ 하에서 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 60g의 화합물 23을 얻었다.
(화합물 24-1의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 23을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 24-1을 얻었다.
(화합물 25-1의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 24-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 25-1을 얻었다.
(화합물 RD-10의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 25-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 30g의 화합물 RD-10을 얻었다.
수득된 화합물 RD-10에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(2H, dd), 5.59(2H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(4H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-1.12(23H, m)
그리고, 화합물 RD-10의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-10은 약 88 내지 100℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 11: 화합물 RD -11의 합성
Figure pat00016
도 4에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-11을 합성하였다.
(화합물 24-2의 합성)
화합물 6 대신 화합물 23을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 24-2를 얻었다.
(화합물 25-2의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 24-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 25-2를 얻었다.
(화합물 RD-11의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 25-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-11을 얻었다.
수득된 화합물 RD-11에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(2H, dd), 5.59(2H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(4H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-1.12(31H, m)
그리고, 화합물 RD-11의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-11은 약 85 내지 98℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 12: 화합물 RD -12의 합성
Figure pat00017
도 4에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-12를 합성하였다.
(화합물 24-3의 합성)
화합물 6 대신 화합물 23을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 24-3을 얻었다.
(화합물 25-3의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 24-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 25-3를 얻었다.
(화합물 RD-12의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 25-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-12를 얻었다.
수득된 화합물 RD-12에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(2H, dd), 5.59(2H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(4H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-1.12(39H, m)
그리고, 화합물 RD-12의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-12는 약 78 내지 95℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 13: 화합물 RD -13의 합성
Figure pat00018
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-13을 합성하였다.
(화합물 26의 합성)
약 100g의 화합물 3(4-hydroxy-3-iodobenzoic acid)과 약 100g의 N,N'-디사이클로헥실카보디이미드(N,N'-dicyclohexylcarbodiimide), 약 10g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine)), 및 약 20g의 tert-부탄올(tert-butanol)을 테트라하이드로퓨란에 녹인 후 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 80g의 화합물 26을 얻었다.
(화합물 28-1의 합성)
약 60g의 화합물 26, 약 50g의 화합물 27-1 [(1r,4r)-4-(butoxycarbonyl)cyclohexanecarboxylic acid], 약 5g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine)), 및 약 50g의 N,N-디아이소프로필에틸아민(N,N-diisopropylethylamine)을 디클로로메탄에 녹인 후 약 30분간 교반하였다. 여기에 약 80g의 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide) 및 약 50g의 에티닐트리메틸실란(ethynyltrimethylsilane)를 첨가하여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 80g의 화합물 28-1을 얻었다.
(화합물 29-1의 합성)
약 80g의 화합물 28-1과 약 50g의 테트라플루오로아세틱 에시드(tetrafluoroacetic acid)를 디클로로메탄에 녹인 후 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 60g의 화합물 29-1을 얻었다.
(화합물 30-1의 합성)
약 60g의 화합물 29-1, 약 50g의 화합물 12, 그리고 약 50g의 4-(디메틸아미노)피리딘(4-(dimethylamino)pyridine))을 디클로로메탄에 녹인 후 약 30분간 교반하였다. 여기에 약 80g의 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide)를 첨가하여 약 24 시간 동안 교반한 후, 디클로로메탄과 물로 추출하였다. 추출된 유기층을 화학적으로 건조한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 80g의 화합물 30-1을 얻었다.
(화합물 31-1의 합성)
약 80g의 화합물 30-1과 약 300ml의 6N 염산을 테트라하이드로퓨란에 녹인 후, 약 40℃ 하에서 약 24 시간 동안 교반하였다. 그리고, 디클로로메탄과 물로 추출한 후, 추출된 유기층을 화학적으로 건조하였고, 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 약 60g의 화합물 31-1(m=3)을 얻었다.
(화합물 32-1의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-1(m=3)을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-1을 얻었다.
(화합물 33-1의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 33-1을 얻었다.
(화합물 RD-13의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 30g의 화합물 RD-13을 얻었다.
수득된 화합물 RD-13에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(25H, m)
그리고, 화합물 RD-13의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-13은 약 78 내지 90℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 14: 화합물 RD -14의 합성
Figure pat00019
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-14를 합성하였다.
(화합물 28-2의 합성)
화합물 27-1 대신 화합물 27-2 [(1r,4r)-4-((hexyloxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 28-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 28-2를 얻었다.
(화합물 29-2의 합성)
화합물 28-1 대신 상기 화합물 28-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 29-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 29-2를 얻었다.
(화합물 30-2의 합성)
화합물 29-1 대신 상기 화합물 29-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 30-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 90g의 화합물 30-2를 얻었다.
(화합물 31-2의 합성)
화합물 30-1 대신 상기 화합물 30-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 31-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 31-2(m=5)를 얻었다.
(화합물 32-2의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-2(m=5)를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-2를 얻었다.
(화합물 33-2의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-2를 얻었다.
(화합물 RD-14의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-14를 얻었다.
수득된 화합물 RD-14에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(29H, m)
그리고, 화합물 RD-14의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-14는 약 77 내지 88℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 15: 화합물 RD -15의 합성
Figure pat00020
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-15를 합성하였다.
(화합물 28-3의 합성)
화합물 27-1 대신 화합물 27-3 [(1r,4r)-4-((octyloxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 28-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 28-3을 얻었다.
(화합물 29-3의 합성)
화합물 28-1 대신 상기 화합물 28-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 29-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 29-3을 얻었다.
(화합물 30-3의 합성)
화합물 29-1 대신 상기 화합물 29-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 30-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 90g의 화합물 30-3을 얻었다.
(화합물 31-3의 합성)
화합물 30-1 대신 상기 화합물 30-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 13의 화합물 31-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 31-3(m=7)을 얻었다.
(화합물 32-3의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-3(m=7)을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-3을 얻었다.
(화합물 33-3의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-3을 얻었다.
(화합물 RD-15의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-15를 얻었다.
수득된 화합물 RD-15에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(2H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(33H, m)
그리고, 화합물 RD-15의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-15는 약 75 내지 87℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 16: 화합물 RD -16의 합성
Figure pat00021
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-16을 합성하였다.
(화합물 32-4의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-1(m=3)을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-2(n=6) [(1r,4r)-4-(((6-(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-4를 얻었다.
(화합물 33-4의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-4를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-4를 얻었다.
(화합물 RD-16의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-4를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-16을 얻었다.
수득된 화합물 RD-16에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(1H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(29H, m)
그리고, 화합물 RD-16의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-16은 약 75 내지 88℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 17: 화합물 RD -17의 합성
Figure pat00022
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-17을 합성하였다.
(화합물 32-5의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-2(m=5)을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-2(n=6) [(1r,4r)-4-(((6-(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-5를 얻었다.
(화합물 33-5의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-5를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-5를 얻었다.
(화합물 RD-17의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-5를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-17을 얻었다.
수득된 화합물 RD-17에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(1H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(33H, m)
그리고, 화합물 RD-17의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-17은 약 73 내지 87℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 18: 화합물 RD -18의 합성
Figure pat00023
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-18을 합성하였다.
(화합물 32-6의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-3(m=7)을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-2(n=6) [(1r,4r)-4-(((6-(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-6을 얻었다.
(화합물 33-6의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-6을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-6을 얻었다.
(화합물 RD-18의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-6을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-18을 얻었다.
수득된 화합물 RD-18에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(1H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(37H, m)
그리고, 화합물 RD-18의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-18은 약 70 내지 85℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 19: 화합물 RD -19의 합성
Figure pat00024
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-19를 합성하였다.
(화합물 32-7의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-1(m=3)을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-3(n=8) [(1r,4r)-4-(((8-(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-7을 얻었다.
(화합물 33-7의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-7을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-7을 얻었다.
(화합물 RD-19의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-7을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-19를 얻었다.
수득된 화합물 RD-19에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(1H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(33H, m)
그리고, 화합물 RD-19의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-19는 약 74 내지 86℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 20: 화합물 RD -20의 합성
Figure pat00025
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-20을 합성하였다.
(화합물 32-8의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-2(m=5)를 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-3(n=8) [(1r,4r)-4-(((8-(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-8을 얻었다.
(화합물 33-8의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-8을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-8을 얻었다.
(화합물 RD-20의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-8을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-20을 얻었다.
수득된 화합물 RD-20에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(1H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(37H, m)
그리고, 화합물 RD-20의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-20은 약 72 내지 84℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 21: 화합물 RD -21의 합성
Figure pat00026
도 5a 및 도 5b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-21을 합성하였다.
(화합물 32-9의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 31-3(m=7)을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-3(n=8) [(1r,4r)-4-(((8-(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 32-9를 얻었다.
(화합물 33-9의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 32-9를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 60g의 화합물 33-9를 얻었다.
(화합물 RD-21의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 33-9를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-21을 얻었다.
수득된 화합물 RD-21에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.04(1H, s), 8.02(1H, d), 7.47(2H, d), 7.37(1H, d), 7.21(2H, d), 6.27(1H, dd), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, dd), 4.13(4H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.50(1H, t), 1.60-0.90(41H, m)
그리고, 화합물 RD-21의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-21은 약 70 내지 82℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 22: 화합물 RD -22의 합성
Figure pat00027
도 6에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-22를 합성하였다.
(화합물 35-1의 합성)
화합물 7-1 대신 화합물 34-1 [(1r,4r)-4-((4-(methacryloyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 35-1을 얻었다.
(화합물 36-1의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 35-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 36-1을 얻었다.
(화합물 RD-22의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 36-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-22를 얻었다.
수득된 화합물 RD-22에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.48(1H, d), 6.40(1H, dd), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.01(3H, s), 1.60-1.12(48H, m)
그리고, 화합물 RD-22의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-22는 약 25 내지 85℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 23: 화합물 RD -23의 합성
Figure pat00028
도 6에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-23을 합성하였다.
(화합물 35-2의 합성)
화합물 7-1 대신 화합물 34-2 [(1r,4r)-4-(((6-(methacryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 35-2를 얻었다.
(화합물 36-2의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 35-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 36-2를 얻었다.
(화합물 RD-23의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 36-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-23을 얻었다.
수득된 화합물 RD-23에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.48(1H, d), 6.40(1H, dd), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.01(3H, s), 1.60-1.12(52H, m)
그리고, 화합물 RD-23의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-23은 약 25 내지 84℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 24: 화합물 RD -24의 합성
Figure pat00029
도 6에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-24를 합성하였다.
(화합물 35-3의 합성)
화합물 7-1 대신 화합물 34-3 [(1r,4r)-4-(((8-(methacryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 35-3을 얻었다.
(화합물 36-3의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 35-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 36-3을 얻었다.
(화합물 RD-24의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 36-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-24를 얻었다.
수득된 화합물 RD-24에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.37(1H, d), 6.48(1H, d), 6.40(1H, dd), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 2.01(3H, s), 1.60-1.12(56H, m)
그리고, 화합물 RD-24의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-24는 약 25 내지 82℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 25: 화합물 RD -25의 합성
Figure pat00030
도 7에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-25를 합성하였다.
(화합물 38-1의 합성)
화합물 7-1 대신 화합물 37-1 [(1r,4r)-4-((4-(cinnamoyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 38-1을 얻었다.
(화합물 39-1의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 38-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 39-1을 얻었다.
(화합물 RD-25의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 39-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-25를 얻었다.
수득된 화합물 RD-25에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.60(2H, d), 7.48(1H, d), 7.40(2H, d), 7.37(1H, d), 7.33(1H, t), 6.31(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(48H, m)
그리고, 화합물 RD-25의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-25는 약 43 내지 88℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 26: 화합물 RD -26의 합성
Figure pat00031
도 7에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-26을 합성하였다.
(화합물 38-2의 합성)
화합물 7-1 대신 화합물 37-2 [(1r,4r)-4-(((6-(cinnamoyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 38-2를 얻었다.
(화합물 39-2의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 38-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 39-2를 얻었다.
(화합물 RD-26의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 39-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-26을 얻었다.
수득된 화합물 RD-26에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.60(2H, d), 7.48(1H, d), 7.40(2H, d), 7.37(1H, d), 7.33(1H, t), 6.31(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(52H, m)
그리고, 화합물 RD-26의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-26은 약 41 내지 84℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 27: 화합물 RD -27의 합성
Figure pat00032
도 7에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-27을 합성하였다.
(화합물 38-3의 합성)
화합물 7-1 대신 화합물 37-3 [(1r,4r)-4-(((8-(cinnamoyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 38-3을 얻었다.
(화합물 39-3의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 38-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 39-3을 얻었다.
(화합물 RD-27의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 39-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-27을 얻었다.
수득된 화합물 RD-27에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.40(1H, s), 8.02(1H, dd), 7.60(2H, d), 7.48(1H, d), 7.40(2H, d), 7.37(1H, d), 7.33(1H, t), 6.31(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(56H, m)
그리고, 화합물 RD-27의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-27은 약 38 내지 78℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 28: 화합물 RD -28의 합성
Figure pat00033
도 8a 및 도 8b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-28을 합성하였다.
(화합물 41의 합성)
화합물 3 대신 화합물 40 (6-hydroxy-4-iodo-2-naphthoic acid)을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 4의 합성과 동일한 방법으로, 약 110g의 화합물 41을 얻었다.
(화합물 42의 합성)
화합물 4 대신 상기 화합물 41을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 5의 합성과 동일한 방법으로, 약 150g의 화합물 42를 얻었다.
(화합물 43의 합성)
화합물 5 대신 상기 화합물 42를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 6의 합성과 동일한 방법으로, 약 80g의 화합물 43을 얻었다.
(화합물 44-1의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 43을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 44-1을 얻었다.
(화합물 45-1의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 44-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 45-1을 얻었다.
(화합물 RD-28의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 45-1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-28을 얻었다.
수득된 화합물 RD-28에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.51(1H, s), 8.25(1H, s), 8.06(1H, d), 7.79(1H, s), 7.30(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(48H, m)
그리고, 화합물 RD-28의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-28은 약 62 내지 92℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 29: 화합물 RD -29의 합성
Figure pat00034
도 8a 및 도 8b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-29를 합성하였다.
(화합물 44-2의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 43을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 44-2를 얻었다.
(화합물 45-2의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 44-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 45-2를 얻었다.
(화합물 RD-29의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 45-2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-29를 얻었다.
수득된 화합물 RD-29에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.51(1H, s), 8.25(1H, s), 8.06(1H, d), 7.79(1H, s), 7.30(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(52H, m)
그리고, 화합물 RD-29의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-29는 약 59 내지 87℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예 30: 화합물 RD -30의 합성
Figure pat00035
도 8a 및 도 8b에 나타낸 Scheme에 따라 상기 화합물 RD-30을 합성하였다.
(화합물 44-3의 합성)
화합물 6 대신 상기 화합물 43을 사용하고, 화합물 7-1 대신 화합물 7-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 8-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 100g의 화합물 44-3을 얻었다.
(화합물 45-3의 합성)
화합물 8-1 대신 상기 화합물 44-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 9-1의 합성과 동일한 방법으로, 약 70g의 화합물 45-3을 얻었다.
(화합물 RD-30의 합성)
화합물 9-1 대신 상기 화합물 45-3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 화합물 RD-01의 합성과 동일한 방법으로, 약 50g의 화합물 RD-30을 얻었다.
수득된 화합물 RD-30에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.51(1H, s), 8.25(1H, s), 8.06(1H, d), 7.79(1H, s), 7.30(1H, d), 6.27(1H, d), 6.05(1H, dd), 5.59(1H, d), 4.13(2H, t), 4.05(1H, s), 3.97(2H, t), 3.52(1H, s), 1.60-1.12(56H, m)
그리고, 화합물 RD-30의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RD-30은 약 56 내지 82℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
제조예 1
(광학 소자용 조성물의 제조)
실시예 1에 따른 RD-1 화합물 약 90 중량%, 하기 화학식 a로 표시되는 메소제닉 화합물 약 5 중량%, 하기 화학식 b로 표시되는 메소제닉 화합물 약 2 중량%, 개시제(Irgacure 907, Ciba-Geigy사) 약 1 중량%, 산화 방지제(Irganox 1076, Ciba-Geigy사) 약 1 중량%, 및 불소계 계면활성제(FC-171, 3M사) 약 1 중량%를 혼합하여 광학 소자용 조성물을 준비하였다.
[화학식 a]
Figure pat00036
[화학식 b]
Figure pat00037
(위상차 필름의 제조)
상기 조성물을, 롤 코팅 방법에 의해, 신나메이트계 광배향물질이 코팅된 TAC 필름 위에 코팅한 후, 약 50 ℃ 하에서 2 분 동안 건조하여 액정 분자가 배향되도록 하였다. 그 후, 상기 필름에 200 mW/㎠의 고압 수은등을 광원으로 하는 비편광 UV를 조사하여 액정의 배향 상태를 고정화 시켜는 방법으로 위상차 필름을 제조하였다.
제조된 위상차 필름의 정량적인 위상차 값은 Axoscan(Axomatrix사 제조)을 이용하여 측정하였으며, 이때 독립적으로 두께를 측정하고, 수득된 값으로부터 위상차 값(△n·d)을 구하였다. 그 결과, △n·d(550nm) 값은 약 212, △n(450nm)/△n(550nm) 값은 약 1.00으로 확인되었다.
제조예 2
액정 화합물로 상기 RD-1 화합물 약 80 중량%, 상기 화학식 a의 화합물 약 12 중량% 및 상기 화학식 b의 화합물 약 5 중량%를 사용한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 위상차 필름을 제조하였다.
제조된 위상차 필름의 정량적인 위상차 값은 Axoscan(Axomatrix사 제조)을 이용하여 측정하였으며, 이때 독립적으로 두께를 측정하고, 수득된 값으로부터 위상차 값(△n·d)을 구하였다. 그 결과, △n·d(550nm) 값은 약 250, △n(450nm)/△n(550nm) 값은 약 1.02로 확인되었다.
비교 제조예 1
액정 화합물로 상기 RD-1 화합물을 사용하지 않고, 상기 화학식 a의 화합물 약 92 중량% 및 하기 화학식 b의 화합물 약 5 중량%로 사용한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 위상차 필름을 제조하였다.
제조된 위상차 필름의 정량적인 위상차 값은 Axoscan(Axomatrix사 제조)을 이용하여 측정하였으며, 이때 독립적으로 두께를 측정하고, 수득된 값으로부터 위상차 값(△n·d)을 구하였다. 그 결과, △n·d(550nm) 값은 약 210, △n(450nm)/△n(550nm) 값은 약 1.09로 확인되었다.

Claims (7)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물:
    [화학식 1]
    Figure pat00038

    상기 화학식 1에서,
    A, G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 비방향족인 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹, 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 또는 헤테로 방향족 그룹이고;
    E1, E2, D1, 및 D2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 2가의 연결기이고;
    L1 및 L2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -O-C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 치환 또는 비치환된 실릴, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 40의 카빌 또는 하이드로카빌, 또는 -Sp-P로서, 상기 L1 및 L2 중 적어도 하나는 -Sp-P이고, 상기 P는 중합성 그룹이고, 상기 Sp는 스페이서 그룹 또는 단일 결합이며, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이고;
    m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수로서; 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(D1-G1)- 또는 -(G2-D2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있으며;
    상기 A, E1, E2, D1, D2, G1, G2, L1, 및 L2 에 포함된 sp2-혼성화 탄소 및 sp3-혼성화 탄소에 결합되어 있는 수소 중 둘 이상은 -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, -SF3, 탄소수 2 내지 6의 알케닐기, 탄소수 2 내지 6의 알키닐기, 탄소수 2 내지 4의 아실기, 말단에 탄소수 2 내지 4의 아실기가 결합된 탄소수 2 내지 6의 알키닐렌기, 탄소수 1 내지 5의 알코올기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알콕시기로 치환되어 있고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 1의 A, G1 및 G2는 각각 독립적으로 사이클로헥산 고리, 사이클로헥센 고리, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 또는 페난트렌 고리인, 중합성 액정 화합물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 1의 E1, E2, D1, 및 D2는 각각 독립적으로 단일 결합, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-COO-, -CO-NR1-, -NR1-CO-, -NR1-CO-NR1-, -OCH2-, -CH2O-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH2CH2-, -(CH2)3-, -(CH2)4-, -CF2CH2-, -CF2CH2-, -CH=CH-, -CY1=CY2-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR1-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, 또는 -CR1R2- 으로서, 상기 Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -CN, 또는 -R1이고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬인, 중합성 액정 화합물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 1의 P는 CH2=CZ1-COO-, CH2=CZ1-CO-, CH2=CZ2-(O)a-, CH3-CH=CH-O-, (CH2=CH)2CH-OCO-, (CH2=CH-CH2)2CH-OCO-, (CH2=CH)2CH-O-, (CH2=CH-CH2)2N-, (CH2=CH-CH2)2N-CO-, HO-CZ1Z2-, HS-CZ1Z2-, HZ1N-, HO-CZ1Z2-NH-, CH2=CZ1-CO-NH-, CH2=CH-(COO)a-Phe-(O)b-, CH2=CH-(CO)a-Phe-(O)b-, Phe-CH=CH-, HOOC-, OCN-, Z1Z2Z3Si-,
    Figure pat00039
    ,
    Figure pat00040
    , 또는
    Figure pat00041
    이고,
    상기 Z1 내지 Z3는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -CN, -CF3, 페닐, 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬이고,
    상기 Phe는 -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NC, -NCO, -OCN, -SCN, -C(=O)NR1R2, -C(=O)R1, -NH2, -SH, -SR1, -SO3H, -SO2R1, -OH, -NO2, -CF3, 또는 -SF3에 의해 치환 또는 비치환된 1,4-페닐렌이고,
    상기 a 및 b는 각각 독립적으로 0 또는 1인, 중합성 액정 화합물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 1의 Sp는 -Sp-P가 -X'-Sp'-P가 되도록 하는 화학식 -X'-Sp'로부터 선택되고,
    상기 Sp'는 -F, -Cl, -Br, -I, 또는 -CN으로 일치환 또는 다중치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬렌이고, 상기 알킬렌에서 하나 이상의 -CH2- 그룹은 -O-, -S-, -NH-, -NR1-, SiR1R2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -NR1-CO-O-, -O-CO-NR1-, -NR1-CO-NR1-, -CH=CH-, 또는 -C≡C-로 대체될 수 있고,
    상기 X'는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-COO-, -CO-NR1-, -NR1-CO-, -NR1-CO-NR1-, -OCH2-, -CH2O-, -SCH2-, -CH2S-, -OCF2-, -CF2O-, -SCF2-, -SF2O-, -CF2CH2-, -CF2CF2-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR1-, -CY1=CY2-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, 또는 단일 결합이고,
    상기 Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 -H, -F, -Cl, -CN, 또는 -R1이고,
    상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -H 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬인, 중합성 액정 화합물.
  6. 제 1 항에 따른 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물.
  7. 제 6 항에 따른 중합성 액정 조성물을 사용하여 형성된 광학 필름.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018225975A1 (ko) * 2017-06-07 2018-12-13 에스케이케미칼 주식회사 액정고분자 합성용 조성물, 이를 이용한 전기전자제품용 액정고분자, 고분자 수지 조성물 및 성형품

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101623929B1 (ko) * 2013-09-30 2016-05-24 주식회사 엘지화학 역 파장 분산성 화합물, 이를 포함하는 역 파장 분산성 조성물 및 광학 이방체
CN109796479B (zh) * 2019-01-11 2020-07-14 大连理工大学 含有8-（双苯乙炔基）-酯基柔性多元环的氟硼吡咯类液晶化合物，其制备方法及其应用
WO2023195546A1 (ja) * 2022-04-08 2023-10-12 三菱瓦斯化学株式会社 ヨウ素原子を有する環状化合物

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4229560A (en) * 1978-05-30 1980-10-21 Chernikhov Alexei Y Thermostable nitrogen containing heterocyclic polymers and process for producing
JPH04214727A (ja) * 1990-12-14 1992-08-05 Asahi Chem Ind Co Ltd ジアセチレン系ポリアミド酸誘導体及びポリイミド
WO1996019990A1 (en) * 1994-12-23 1996-07-04 Smithkline Beecham Corporation 4,4-(disubstituted)cyclohexan-1-carboxylate monomers and related compounds
AR004471A1 (es) * 1995-05-31 1998-12-16 Smithkline Beecham Corp Compuestos de ciclohexan-1-ol-4,4-disustituidos, utiles en el tratamiento de enfermedades alergicas e inflamatorias y composiciones farmaceuticas que lascontienen
JP3105169B2 (ja) * 1996-07-19 2000-10-30 三菱電機株式会社 有機非線形光学材料、有機導電性材料およびその製造方法
DE19855757A1 (de) 1998-12-03 2000-06-21 Merck Patent Gmbh Querverbrückte Cyclohexan-Derivate und flüssigkristallines Medium
US6514578B1 (en) * 1999-06-30 2003-02-04 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Polymerizable mesogenic tolanes
JP4655314B2 (ja) 1999-06-30 2011-03-23 Ｄｉｃ株式会社 液晶媒体及び該液晶媒体を含有する液晶表示素子
JP4662090B2 (ja) 1999-06-30 2011-03-30 Ｄｉｃ株式会社 液晶媒体及び該液晶媒体を含有する液晶表示素子
KR100694936B1 (ko) 2000-07-20 2007-03-14 메르크 파텐트 게엠베하 중합성 메소제닉 톨란
JP3504247B2 (ja) * 2000-12-15 2004-03-08 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
JP4251024B2 (ja) * 2003-06-30 2009-04-08 住友ベークライト株式会社 芳香族カルボン酸とその酸塩化物、および合成法
WO2005019305A1 (ja) * 2003-08-20 2005-03-03 Sumitomo Bakelite Company Limited ベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、樹脂膜および半導体装置
DE602004025254D1 (de) 2003-08-25 2010-03-11 Merck Patent Gmbh Verbindungen zum einsatz in flüssigkristallinen medien
JP4788123B2 (ja) * 2003-09-19 2011-10-05 Ｊｎｃ株式会社 光重合性液晶組成物、その重合体または重合体組成物及び光学異方性膜
JP4878524B2 (ja) * 2005-08-29 2012-02-15 富士フイルム株式会社 転写材料及びパターン状の光学異方性層と感光性樹脂層とを有する積層構造体の製造方法並びに液晶表示装置
JP4899386B2 (ja) 2005-09-07 2012-03-21 Ｊｎｃ株式会社 液晶性モノマーおよびその重合体
WO2007046294A1 (ja) 2005-10-17 2007-04-26 Asahi Glass Company, Limited 重合性液晶化合物、液晶組成物、光学異方性材料、および光学素子
JP5209223B2 (ja) * 2006-03-29 2013-06-12 住友化学株式会社 フィルムおよびフィルムの製造方法、並びにその利用
JP5140991B2 (ja) 2006-10-31 2013-02-13 Ｄｉｃ株式会社 重合性液晶化合物
JP2009019193A (ja) * 2007-06-14 2009-01-29 Daicel Chem Ind Ltd 絶縁膜形成材料、絶縁膜及びその製造方法
WO2009030352A1 (en) * 2007-09-03 2009-03-12 Merck Patent Gmbh Fluorene derivatives
WO2009039937A1 (en) * 2007-09-25 2009-04-02 Merck Patent Gmbh Mesogenic dimers
JP4932663B2 (ja) * 2007-10-12 2012-05-16 独立行政法人科学技術振興機構 二重らせん分子からなる人工二重らせん高分子の製造方法
JP2010024179A (ja) * 2008-07-18 2010-02-04 Fujifilm Corp テトラフェニルメタン骨格を複数有する化合物
KR101602518B1 (ko) * 2008-08-18 2016-03-10 메르크 파텐트 게엠베하 디스코틱 및 칼라미틱 기를 포함하는 메소젠 화합물
TWI659091B (zh) * 2009-02-20 2019-05-11 迪愛生股份有限公司 聚合性液晶組成物
JP5526793B2 (ja) 2009-03-18 2014-06-18 Ｊｎｃ株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物およびその重合体
EP2494004B1 (en) 2009-10-30 2013-09-25 Merck Patent GmbH Polymerisable lc material and polymer film with negative optical dispersion
JP2011148762A (ja) * 2009-12-22 2011-08-04 Jnc Corp 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物および異方性ポリマー
KR101097618B1 (ko) * 2010-04-15 2011-12-22 한남대학교 산학협력단 신규한 페닐아잔디일기를 포함하는 인데노-융합된 나프토피란계 광변색 화합물 및 이의 제조방법
JP2013209300A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料およびその用途
CN102899053B (zh) * 2012-10-13 2014-11-05 江苏和成显示科技股份有限公司 聚合性液晶组合物及其应用
KR101623929B1 (ko) * 2013-09-30 2016-05-24 주식회사 엘지화학 역 파장 분산성 화합물, 이를 포함하는 역 파장 분산성 조성물 및 광학 이방체

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018225975A1 (ko) * 2017-06-07 2018-12-13 에스케이케미칼 주식회사 액정고분자 합성용 조성물, 이를 이용한 전기전자제품용 액정고분자, 고분자 수지 조성물 및 성형품
US11939424B2 (en) 2017-06-07 2024-03-26 Sk Chemicals Co., Ltd. Composition for liquid crystal polymer synthesis, liquid crystal polymer for electrical/electronic products, polymer resin composition, and molded product using the same

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