KR20140120810A - 터치 스크린 및 그 제조 방법 - Google Patents

터치 스크린 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20140120810A
KR20140120810A KR1020137025317A KR20137025317A KR20140120810A KR 20140120810 A KR20140120810 A KR 20140120810A KR 1020137025317 A KR1020137025317 A KR 1020137025317A KR 20137025317 A KR20137025317 A KR 20137025317A KR 20140120810 A KR20140120810 A KR 20140120810A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mesh
transparent
insulating substrate
transparent insulating
substrate
Prior art date
Application number
KR1020137025317A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101501940B1 (ko
Inventor
자오 허
Original Assignee
난창 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 난창 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드 filed Critical 난창 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20140120810A publication Critical patent/KR20140120810A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101501940B1 publication Critical patent/KR101501940B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

터치 스크린은 제1투명 절연 기판; 상기 제1투명 절연 기판에 직면하는 제1표면과 상기 제1표면에 대향한 제2표면을 포함하는 제2투명 절연 기판; 상기 제1투명 절연 기판과 상기 제2 투명 절연 기판의 사이에 배치되고, 독립적으로 배치된 복수의 감지 전극을 포함하며, 각 감지 전극은 메쉬형 전도성 배선을 포함하는 감지 전극층; 및 상기 제2투명 절연 기판의 제1표면 또는 제2표면 상에 배치되고, 독립적으로 배치된 복수의 구동 전극을 포함하는 구동 전극층을 포함한다. 터치 스크린은 낮은 가격과 높은 감도를 갖는다.

Description

터치 스크린 및 그 제조 방법{TOUCH SCREEN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 일반적으로 터치 기술 분야에 관한 것으로, 보다 상세하게는 터치 스크린 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
터치 스크린은 컴퓨터나 스마트 폰, TV, PDA, 태블릿 PCs, 노트북 컴퓨터, 산업용 터치 스크린을 가지는 공작 기계, 올-인-원 컴퓨터(all-in-one computers) 및 울트라 북(ultra books) 등의 전자 디바이스와 같이 화면을 가지는 전자 장치의 다양한 종류에 널리 사용된다. 터치 스크린은 그 작동 원리에 따라 정전 용량 터치 스크린(capacitive touch screen), 저항 터치 스크린(resistive touch screen) 및 표면 파장 터치 스크린(surface wave touch screen) 등으로 분류된다.
정전 용량 터치 스크린은 스크린이 터치되었을 때 인체에 의해 유도된 전류에 의존한다. 손가락이 터치 스크린을 터치할 때, 커플링 커패시터(coupling capacitor)가 손가락과 정전 용량 터치 스크린의 표면 사이에서 인체 전계(electric field)에 의해 생성된다. 고주파 전류에서, 커패시터는 도체이며, 이에 따라 손가락은 터치 스크린의 접점에서 작은 전류를 흡수한다. 전류는 정전 용량 터치 스크린의 네 모서리에 설치된 전극들로부터 밖으로 흐른다. 그리고 각 네 개의 전극을 통하여 흐르는 전류는 손가락과 네 모서리 사이의 거리와 비례한다. 네 개의 전류 비율은 접점의 위치를 이끌어내기 위해 컨트롤러(controller)에 의해 정확하게 계산된다.
현재 모든 터치 스크린은 구동 전극과 감지 전극의 패턴(pattern)을 형성하기 위해 ITO(인듐 주석 산화물) 유리나 ITO 필름(즉 ITO는 유리나 필름 상에 적층 형성)을 사용한다. 그러나 ITO 유리나 ITO 필름으로 형성된 구동 전극과 감지 전극의 패턴은 다음과 같은 문제점이 있다. 첫째, ITO 구동 전극 또는 감지 전극은 유리나 투명 필름의 표면 상에서 불룩해지며, 이에 따라 스크래치가 발생되거나 벗겨지는 경향이 있고, 이는 생산 수율의 감소를 초래한다. 둘째, ITO 유리나 ITO 필름의 중요한 재료는 금속 인듐이고, 이는 희소하고 비용이 비싸다. 더욱이, ITO로 제조된 대형 크기의 터치 스크린은 저항이나 표면 저항이 크다. 이는 신호 전달 속도에 영향을 미치며, 결과적으로는 터치 감도(touch sensitivity)를 저하시킨다. 낮은 터치 감도는 전자 제품에 영향을 미치며, 사용자에게 불쾌한 경험을 초래한다.
본 발명의 목적은 낮은 가격과 높은 감도를 가지는 터치 스크린을 제공함에 있다.
또한, 터치 스크린의 제조 방법을 제공하는 데에 다른 목적이 있다.
본 출원은 제1투명 절연 기판; 상기 제1투명 절연 기판에 마주하는 제1표면과 상기 제1표면에 대향한 제2표면을 포함하는 제2투명 절연 기판; 상기 제1투명 절연 기판과 상기 제2 투명 절연 기판의 사이에 배치되고, 독립적으로 배치된 복수의 감지 전극을 포함하며, 각 감지 전극은 메쉬형 전도성 배선을 포함하는 감지 전극층; 및 상기 제2투명 절연 기판의 제1표면 또는 제2표면 상에 배치되고, 독립적으로 배치된 복수의 구동 전극을 포함하는 구동 전극층을 포함하는 터치 스크린을 개시한다.
본 출원은 리지드 투명 절연 기판; 상기 리지드 투명 절연 기판의 표면 상에 형성되고, 독립적으로 배치된 복수의 감지 전극을 포함하며, 상기 각 감지 전극은 메쉬형 전도성 배선을 포함하는 감지 전극층; 제1표면과 상기 제1표면에 대향한 제2표면을 포함하는 플렉시블 투명 절연 기판, 및 상기 플렉시블 투명 절연 기판의 제1표면 또는 제2표면 상에 형성되고, 독립적으로 배치된 복수의 구동 전극을 포함하는 구동 전극층을 포함하고; 상기 플렉시블 투명 절연 기판의 제1표면 또는 제2표면은 상기 리지드 투명 절연 기판에 부착된 터치 스크린을 개시한다.
터치 스크린의 제조 방법은 투명 절연 기판을 제공하는 단계; 상기 제1투명 절연 기판의 표면 상에 감지 전극층을 형성하되, 상기 감지 전극층의 감지 전극이 복수의 메쉬 셀을 포함하는 메쉬형 전도성 배선이 되도록 하는 단계; 제2투명 절연 기판을 제공하는 단계; 상기 제2투명 절연 기판의 표면 상에 구동 전극층을 형성하는 단계; 및 상기 제1투명 절연 기판에 제2투명 절연 기판을 부착하는 단계를 포함한다.
터치 스크린의 제조 방법은 제1투명 절연 기판을 제공하는 단계; 제2투명 절연 기판을 제공하는 단계; 상기 제2투명 절연 기판의 일 표면 상에 구동 전극층을 형성하는 단계; 제2투명 절연 기판의 다른 표면 상에 감지 전극층을 형성하되, 상기 감지 전극층의 전극이 다수의 메쉬 셀을 포함하는 메쉬형 전도성 배선으로 되도록 형성하는 단계; 및 상기 제2투명 절연 기판에 제1투명 절연 기판을 부착하는 단계를 포함한다.
여기에 개시된 방법 및 장치에서 터치 스크린의 구동 전극은 메쉬형 전도성 배선에 의해 형성된 전도성 메쉬로 제조됨으로, 터치 스크린은 상기 설명된 문제점, 표면이 쉽게 긁히거나 벗겨지고, 가격이 높으며, ITO 필름의 사용 시 대형 크기 스크린에서 표면 저항이 높아지는 것과 같은 문제점을 갖지 않는다. 여기에 개시된 방법 및 장치의 이점은 터치 스크린의 낮은 제조 비용 및 높은 터치 감도를 포함한다.
도 1은 본 발명의 터치 스크린을 가지는 전자 장치의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 터치 스크린 중의 제1형태의 횡단면도이다.
도 3은 도 2의 실시예의 횡단면도이다.
도 4는 제2투명 절연 기판의 표면에 형성된 도 3의 구동 전극층의 개략적인 평면도이다.
도 5는 도 4에서 a-a' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 6은 도 4에서 b-b' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 7은 투명 절연 기판의 표면에 형성된 도 3의 구동 전극의 개략적인 평면도이다.
도 8은 도 7에서 A-A' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 9는 도 7에서 B-B' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 10은 본 발명의 터치 스크린의 제2형태의 횡단면도이다.
도 11은 도 10에 보인 구체적인 실시예의 횡단면도이다.
도 12는 본 발명의 터치 스크린의 제3형태의 횡단면도이다.
도 13은 도 12에 보인 구체적인 실시예의 횡단면도이다.
도 14는 본 발명의 터치 스크린의 제4형태의 구체적인 실시예의 횡단면도이다.
도 15a 및 도 15b는 감지 전극 및 구동 전극의 배열 및 형상의 개략도이다.
도 16a, 도 16b, 도 16c 및 도 16d는 각각 하나의 실시예에 따라서 도 15a의 A부분 또는 도 15b의 B부분에 해당하는 부분 확대도이다.
도 17은 하나의 실시예에 따른 터치 스크린의 제조 방법의 공정도이다.
도 18은 도 17에 보인 공정의 단계 102의 구체적인 공정도이다.
도 19는 도 17에 보인 공정의 단계 102에 따라 얻어진 구동 전극층의 적층 구조이다.
도 20은 다른 실시예에 따른 터치 스크린의 제조 방법의 공정도이다.
도 21은 도 20에 보인 공정의 단계 S204의 구체적인 공정도이다.
본 발명의 예시적인 실시예들이 이하에서 설명된다. 이하의 설명은 이들 실시예의 완전한 이해를 위한 그리고 이들 실시예를 위한 가능한 설명의 구체적인 세부 사항을 제공한다. 이러한 구체적인 세부 사항 없이 본 발명이 실현될 수 있다는 점을 본 기술 분야의 지식을 가진 자는 이해할 것이다. 다른 예에서, 실시예들의 설명을 불필요하게 모호하게 하는 것을 방지하기 위하여 공지된 구조 및 기능은 도시되지 않거나 상세히 설명되지 않는다.
문맥이 다른 사항을 명확하게 요구하지 않는 한, 상세한 설명 및 청구범위 전체에 걸쳐, 용어 "포함한", "포함하는" 등은 배타적인 또는 배타적인 의미와 반대되는 포괄적인 의미, 즉 "포함하지만, 제한되지 않는" 의미로 해석되어야 한다. 단수 또는 복수로 사용된 단어들 또한 각각 복수 또는 단수를 포함한다. 부가적으로, 단어 "여기서", "상기" 및 "하기" 그리고 유사한 의미의 단어는 본 출원에서 사용될 때, 본 출원에서 전체에 걸쳐 언급하는 것이며, 본 출원에서 특정한 부분을 언급하는 것은 아니다. 2개 이상의 항목의 목록과 관련하여 청구범위가 단어 "또는"을 사용할 때, 이 단어는 단어의 뒤이은 모든 해석; 목록 내의 어떠한 항목, 목록 내의 모든 항목 및 목록 내의 항목의 어떠한 조합을 포함한다.
본 발명의 투명 절연 기판에서 표현된 "투명(transparent)"은 "투명" 또는 "실질적으로 투명"으로 해석될 수 있으며; 투명 절연 기판에서 절연(insulating)은 "절연" 또는 "유전(dielectric)"으로 해석될 수 있다. 따라서 본 발명의 "투명 절연 기판"은 투명 절연 기판, 실질적인 투명 절연 기판, 투명 유전 기판 및 실질적인 유전 기판으로 해석될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 터치 스크린을 가지는 전자 장치(10)의 일실시예를 보여준다. 전자 장치(10)는 스마트 폰이나 태블릿 PC가 될 수 있다. 전자 장치(10)에서, 터치 스크린(100)은 인간과 컴퓨터의 상호 작용(human computer interaction) 전자 장치의 입/출력 디바이스(I/O device) 중의 하나로 사용되는 LCD(액정 디스플레이)의 상부 표면에 접합되어 있다. 본 발명의 터치 스크린(100)은 또한 휴대 전화, 이동 통신 전화, TV, 태블릿 PC, 노트북 컴퓨터, 터치 디스플레이 화면을 가지는 공작 기계(machine tool), GPS 장비, 통합 컴퓨터(integrated computer) 및 울트라 북(ultra book) 등과 같은 전자 장치에 적용할 수 있는 것으로 이해되어야 한다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 터치 스크린의 실시예들 중의 제1형태의 횡단면도이다. 터치 스크린(100)은 제1투명 절연 기판(110), 감지 전극층(120), 접착제층(130), 구동 전극층(140), 및 제2투명 절연 기판(150)을 포함한다. 상기 감지 전극층(120)은 제1투명 절연 기판(110)과 제2투명 절연 기판(150)의 사이에 위치된다. 상기 제2투명 절연 기판(150)은 제1투명 절연 기판(110)에 마주하여 직면하는 제1표면(152)과, 상기 제1표면(152)의 반대쪽에 위치하여 대향한 제2표면(154)을 포함한다. 상기 구동 전극층(150)은 제1표면(152) 상에 형성되어 있다. 선택적인 실시예에 따라서, 상기 구동 전극층(150)은 제2표면(154) 상에 배치될 수도 있다.
상기 접착제층은 제1투명 절연 기판(110)과 제2투명 절연 기판(150)을 상호 접합시키기 위해 사용된다. 상기 구동 전극층(150)이 제1표면(152) 상에 배치될 때, 상기 접착제층(130)은 구동 전극층(140)으로부터 감지 전극층(120)을 절연시키기 위해 사용된다. 상기 접착제층은 광학적으로 투명한 OCA(optical clear adhesive, 광학 투명 점착제) 또는 LOCA(liquid optical clear adhesive, 액체 광학 투명 점착제)의 층이 될 수 있다.
도 3은 구체적인 실시예에 따른 터치 스크린 중의 제1형태를 보인 횡단면도이다. 도 4는 상기 감지 전극층의 평면도이다. 상기 감지 전극층(120)은 독립적으로 배치된 복수의 감지 전극(120a)을 포함한다. 또한, 도 7을 참조하면, 상기 구동 전극층(140)은 독립적으로 배치된 복수의 구동 전극(140a)을 포함한다. 여기서, 표현된 "독립적으로 배치된"은 "독립적으로 배치된", "이격되게 배치된" 또는 "절연되게 배치된"의 다양한 설명으로 이해될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
정전 용량 터치 스크린에 있어서, 상기 감지 전극과 구동 전극은 모두 터치 감지 요소의 필수적인 부분이다. 상기 감지 전극은 보통 터치 스크린의 터치 표면에 근접해 있고, 상기 구동 전극은 터치 표면으로부터 떨어져 있다. 상기 구동 전극은 주사 신호(scanning signal) 발생 장치에 연결된다. 주사 신호 장치는 주사 신호를 제공하며, 상기 감지 전극은 충전 도체(charged conductor)에 의해 터치되었을 때 변경된 파라미터(parameters)를 생성하여 감지 영역의 터치 위치를 탐지한다.
상기 감지 전극층(120)의 각 감지 전극은 터치 스크린의 감지 탐지 처리 모듈(sensing detection processing module)의 주변에 전기적으로 연결되어 있고, 상기 구동 전극층(140)의 각 구동 전극은 터치 스크린의 여기 신호 모듈(excitation signal module)의 주변에 전기적으로 연결되어 있으며, 상기 감지 전극과 구동 전극은 이들 사이에 상호 커패시터를 형성한다. 터치 스크린의 표면 상에서 터치 조작이 일어나면, 터치 중심 영역의 상호 컨덕턴스(conductance)가 변화되고, 터치 조작은 전기적인 신호로 전환되며, 터치 중심 영역의 좌표 데이터(coordinate data)는 정전 용량 변화 영역의 데이터를 처리함으로써 얻어질 수 있으며, 관련 데이터를 처리할 수 있는 전자 장치는 터치 중심 영역의 좌표에 따라 터치 스크린에 부착된 화면 상의 터치 조작과 일치하는 정확한 위치를 얻어서, 관련된 기능 침 입력 조작(input operation)을 완료한다.
예시적인 실시예에서, 본 발명의 감지 전극층(120)과 구동 전극층(140)은 다른 방법, 다른 재료 및 다른 공정에 의해 제조된다.
구체적으로, 도 5 및 도 6은 각각 a―-a' 및 b―-b'의 선을 따라 취한 횡단면도이다. 상기 감지 전극층(120)은 독립적으로 배치된 복수의 메쉬형(mesh-like) 전도성 배선(120b)을 포함한다. 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)은 투명 절연층(160)에 탑재(embedded)되거나 매립(buried)되고, 상기 투명 절연층(160)은 점착제층(21)에 의해 제1투명 절연 기판(110)의 표면에 부착된다. 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)은 금(gold), 은(silver), 구리(copper), 알루미늄(aluminum), 아연(zinc), 금-도금 은(gold-plated silver) 및 상기 금속들의 적어도 2종의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다. 상기 재료들은 저-비용(low-cost)이고 구하기 쉽다. 또한, 전도성 은 페이스트(conductive silver paste)로 제조된 메쉬형 전도성 배선(120b)은 우수한 전도성과 낮은 비용을 갖는다.
상기 메쉬형 전도성 배선(120b)을 투명 절연층(160)에 탑재하거나 매립하는 다양한 방법이 있다는 것은 쉽게 이해될 수 있다. 하나의 예시적인 실시예에 따라서, 상기 투명 절연층(160)은 인터레이스(interlace)된 복수의 메쉬형 홈(mesh-like grooves)을 포함하고, 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)은 상기 홈에 수용되어, 메쉬형 전도성 배선(120b)은 투명 절연층(160)의 표면에 탑재되거나 매립된다. 상기 감지 전극(120a)은 제1투명 절연 기판(110)에 견고하게 부착되어 있기 때문에, 상기 감지 전극(120a)은 이송 처리하는 과정에서 쉽게 손상되거나 벗겨지지 않는다. 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)은 또한 제1투명 절연 기판(110)의 표면에 직접 탑재되거나 매립될 수 있다.
구체적인 예를 들어, 상기 메쉬형 도전성 배선(120b)의 그리드 간격(grid spacing)은 d1로 정의되고, 100㎛ ≤ d1 < 600㎛이며; 상기 메쉬형 도전성 배선(120b)의 표면 저항(surface resistance)은 R로 정의되고, 0.1Ω/sq ≤ R < 200Ω/sq이다.
상기 메쉬형 전도성 배선(120b)의 표면 저항(R)은 전류 신호의 전달 속도에 영향을 미치고, 이에 따라 터치 스크린의 응답성(responsiveness)에 영향을 미친다. 따라서, 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)의 표면 저항(R)은 1Ω/sq ≤ R ≤ 60Ω/sq인 것이 바람직하다. 이러한 범위에서 표면 저항(R)은 전도성 필름의 전도성을 크게 증가시키고 신호 전달 속도를 크게 개선시켜, 0.1Ω/sq ≤ R < 200Ω/sq의 표면 저항과 비교하여 요구되는 정확도가 더 낮아지고, 기술적인 요구 사항이 감소되어 전도성을 보장한다. 가격은 결과적으로 감소된다. 메쉬형 전도성 배선(120b)의 표면 저항(R)은 그 제조 과정에서 그리드 간격, 재료, 선 직경(선 폭)과 같은 몇 가지 인자에 의해 결정될 수 있다.
상기 메쉬형 전도성 배선(120b)의 메쉬 선 폭은 d2로 정의되고 1㎛ ≤ d2 ≤ 10㎛일 수 있다. 상기 메쉬의 선 폭은 전도성의 필름의 투과율에 영향을 미치며, 선 폭이 작을수록 투과율은 증가한다. 상기 메쉬형 전도성 배선의 그리드 간격(d1)이 100㎛ ≤ d1 < 600㎛이고, 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)의 표면 저항(R)이 0.1Ω/sq ≤ R < 200Ω/sq이며, 상기 메쉬 선 폭(d2)이 1㎛ ≤ d2 ≤ 10㎛인 경우, 요구 사항을 만족시킬 수 있으며, 동시에 터치 스크린의 투과율을 향상시킬 수 있다. 특히, 메쉬형 전도성 배선(120b)의 메쉬 선 폭(d2)이 2㎛ ≤ d2 < 5㎛일 때, 더 큰 투과 면적과, 더 우수한 투과율, 그리고 요구되는 정확도가 상대적으로 낮아진다.
예시적인 실시예에서, 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)은 은(silver)으로 제조되고, 규칙적인 패턴을 사용한다. 상기 그리드 간격은 200㎛ 내지 500㎛의 범위이고; 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)의 표면 저항은 4Ω/sq ≤ R < 50Ω/sq이며, 은(silver)의 코팅량은 0.7 g/m2 내지 1.1 g/m2의 범위이다.
제1실시예에서, d1 = 200㎛, R = 4 ~ 5Ω/sq, 은(silver) 코팅량은 1.1g/m2, 메쉬 선 폭(d2)은 500nm 내지 5㎛의 범위이다. 표면 저항(R)의 값과 은(silver)의 코팅량은 메쉬 선 폭(d2)과 충전 홈 깊이에 의해 영향을 받을 수 있다. 메쉬 선 폭(d2)이 클수록, 충전 홈 깊이가 클수록, 표면 저항이 증가할 수 있고, 은(silver)의 코팅량도 증가할 수 있다.
제2실시예에서, d1 = 300㎛, R = 10Ω/sq, 은(silver) 코팅량은 0.9 내지 1.1g/m2, 메쉬 선 폭(d2)은 500nm 내지 5㎛의 범위이다. 표면 저항(R)의 값과 은(silver)의 코팅량은 메쉬 선 폭(d2)과 충전 홈 깊이에 의해 영향을 받을 수 있으며, 메쉬 선 폭(d2)이 클수록, 충전 홈 깊이가 클수록, 표면 저항이 증가할 수 있고, 은(silver)의 코팅량도 증가할 수 있는 것은 이해될 수 있다.
제3실시예에서, d1 = 500㎛, R = 30 ~ 40Ω/sq, 은(silver) 코팅량은 0.7g/m2, 메쉬 선 폭(d2)은 500nm 내지 5㎛의 범위이다. 표면 저항(R)의 값과 은(silver)의 코팅량은 메쉬 선 폭(d2)과 충전 홈 깊이에 의해 영향을 받을 수 있으며, 메쉬 선 폭(d2)이 클수록, 충전 홈 깊이가 클수록, 표면 저항이 증가할 수 있고, 은(silver)의 코팅량도 증가할 수 있는 것은 이해될 수 있다.
게다가, 상기 메쉬형 전도성 배선(120b)은 금속 전도성 재료로 제조될 수 있음이 이해될 수 있고, 이는 또한 투명 전도성 폴리머, 카본 나노튜브(carbon nanotubes) 및 그래핀(graphene)으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조될 수 있다.
도 7, 도 8 및 도 9를 참조하면, 상기 구동 전극층(130)의 구동 전극은 ITO(인듐 주석 산화물), ATO(안티몬 도핑 주석 산화물), IZO(인듐 아연 산화물), AZO (알루미늄 아연 산화물), PEDOT(폴리에틸렌 디옥시티오펜), 투명 전도성 폴리머, 그래핀 및 카본 나노튜브로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조될 수 있다. 패턴화된 감지 전극, 즉 독립적으로 배치된 복수의 투명 감지 전극은 에칭(etching), 인쇄(printing), 코팅(coating), 리쏘그래피(lithography) 및 포토리쏘그래피(photolithography) 등의 엔지니어링 공정에 의해 형성된다.
예시적인 실시예에서, 상기 감지 전극층(130)은 리지드(rigid)한 투명 절연 기판(110)의 표면 상에 직접 형성되며, 상기 리지드(rigid)한 투명 절연 기판(110)은 경질 기판(rigid substrate)이다. 구체적인 예를 들어, 상기 경질 기판은 강화 유리 또는 경화 투명 플라스틱판을 사용하고, 상기 경질 기판은 약식으로 강화 유리 또는 보강 플라스틱판이다. 상기 강화 유리는 눈부심 방지, 강화(hardening), 반사 방지 또는 김서림 방지의 기능을 가지는 기능성 층을 포함한다. 눈부심 방지 또는 김서림 방지의 기능을 가지는 기능성 층은 눈부심 방지 또는 김서림 방지의 기능을 가지는 도료를 코팅함으로써 형성되고, 상기 도료는 금속 산화물 입자를 포함하며; 강화 기능을 가지는 기능성 층은 강화 기능을 가지는 폴리머 도료를 코팅하거나, 화학적 또는 물리적인 방법을 통해 직접 강화시킴으로 형성되며; 반사 방지 기능을 가지는 기능성 층은 티타니아 코팅, 마그네슘 플루오라이드(fluoride) 코팅 또는 칼슘 플루오라이드 코팅이 될 수 있다. 우수한 투과율을 가지는 플라스틱판은 상기 강화 유리의 처리 방법에 따라 리지드한 투명 기판으로 제조될 수 있다.
도 3을 참조하면, 상기 제1투명 절연 기판(110)은 플렉시블(flexible)한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PE), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 또는 폴리메틸메타크릴레이트 메틸에스테르(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 물질로 제조된 것과 같은 플렉시블(flexible)한 재료로 제조된다. 또한, 상기 제1투명 절연 기판(110)의 접착력을 증가시키기 위해, 제1투명 절연 기판(110)의 표면은 점착제층(141)이 제공되어 있으며, 점착제층(141)은 제1투명 절연 기판(110)에 투명 절연층의 견고한 부착을 촉진한다. 상기 제1투명 절연 기판(110)은 플렉시블한 재료로 제조되기 때문에, 이송 및 취급 과정에서 플렉시블한 재료가 변형되거나 구부러질 수 있다. 탑재 또는 매립된 구동 전극의 사용은 더욱 신뢰될 수 있다.
본 발명의 터치 스크린의 실시예 중의 제1형태의 하나의 실시예에서, 상기 제1투명 절연 기판(110)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 플라스틱으로 제조되고, 제2투명 절연 기판(150)은 강화 유리로 제조되며, ITO 구동 전극층은 상기 강화 유리 상에 형성되고, 메쉬형 전도성 배선을 포함하는 감지 전극층은 상기 PET 기판의 표면 상에 형성되며, 이때 PET 플렉시한 기판은 강화 유리로 제조된 제2투명 절연 기판(150)에 부착되고, 상기 플렉시한 기판은 본 발명의 터치 스크린의 제조를 위한 실시예에서 강화 유리에 간편한 방법으로 부착된다. 상기 제조 공정은 간단하고, 터치 스크린의 두께가 줄어든다.
도 10 및 도 11은 각각 터치 스크린 중의 제2형태의 횡단면도 및 구체적인 실시예의 횡단면도를 보여준다. 실시예들 중의 본 형태와 상기 제1형태의 차이는 다음과 같다. 구동 전극층(240)이 제2투명 절연 기판(250)의 제2표면 상에 배치된 것이다. 다시 말해, 터치 스크린 중의 제1형태와 비교하여, 구동 전극층(240)을 가지는 제2투명 절연 기판(250)의 배면이 제1투명 절연 기판(210)에 일체로 부착되어 있다. 감지 전극층(220)와 구동 전극층(240)의 형성 방법은 실시예들 중의 제1형태와 다르다.
도 12 및 도 13은 각각 본 발명의 터치 스크린의 실시예들 중의 제3형태의 횡단면도 및 구체적인 실시예의 횡단면도를 보여준다. 실시예들 중의 제1형태와 비교하여, 감지 전극층(320)은 제2투명 절연 기판(350)의 제1표면 상에 형성되고, 구동 전극층은 제2투명 절연 기판(350)의 제2표면 상에 형성된다. 즉 이중 ITO(DITO) 구조이다. 구동 전극층(340)은 메쉬형 전도성 배선(340b)을 포함한다. 상기 DITO 구조는 접착제층(330)에 의해 제1투명 절연 기판(310)에 부착된다. 실시예들 중의 본 형태에서, 상기 제1투명 절연 기판(310)은 강화 유리, 플렉시블한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 또는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다.
도 14를 참조하면, 본 발명의 실시예들 중의 제4형태의 횡단면도이다. 터치 스크린은 제2투명 절연 기판(450), 구동 전극층(440), 접착제층(430), 감지 전극층(420), 제1투명 절연 기판(430) 및 제3투명 절연 기판(470)을 포함하고, 이들은 순차적으로 적층되어 있다. 상기 감지 전극층(420)은 점착제층(21)에 의해 제1투명 절연 기판(410)에 접합되고; 상기 구동 전극층(440)은 점착제층(21)에 의해 제2투명 절연 기판(450)에 접합된다. 상기 감지 전극층(420)은 메쉬형 전도성 배선(420b)을 포함한다. 실시예들 중의 제3형태와 비교하여, 실시예들 중의 본 형태는 제3투명 절연 기판(470)이 더 포함되어 있고, 상기 제3투명 절연 기판(470)은 강화 유리판 또는 플레시블한 투명판이다. 상기 플렉시블한 투명판은 플레시블한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 또는 폴리메틸메타크릴레이트 메틸에스테르(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다.
실시예들 중의 본 형태와 상기 3가지 형태의 차이는 다음과 같다. 제1투명 절연 기판(410)과 제2투명 절연 기판(450)은 강화 유리, 플렉시블한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 또는 폴리메틸메타크릴레이트 메틸에스테르(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다. 바람직한 실시예에서, 제1투명 절연 기판(410)과 제2투명 절연 기판은 예를 들어 PET로 제조된 플렉시블한 기판이다.
도 15a 및 도 15b를 참조하면, 본 발명의 실시예들 중의 다양한 형태에 따른 감지 전극과 구동 전극의 배열 및 형상의 개략적인 평면도이다. 독립적으로 배치된 감지 전극은 제1축(X 축)에 평행하고 동일 간격으로 배치되며; 독립적으로 배치된 구동 전극은 제2축(Y 축)에 평행하고 동일 간격으로 배치된다. 도 15a의 감지 전극과 구동 전극은 바(bar)와 같은 형상이고 서로 얽히게 서로 직각으로 배열되어 있으며; 도 15b의 감지 전극과 구동 전극은 다이아몬드와 같은 형상이고 서로 얽히게 직각으로 배열되어 있다.
도 16a, 도 16b, 도 16c 및 도 16d는 각각 하나의 실시예에 따라 도 15a의 A 부분 또는 도 15b의 B 부분에 해당하는 부분 확대도이다.
도 16a 및 도 16b에서 상기 메쉬형 전도성 배선은 불규칙적인 메쉬이고; 상기 불규칙적인 메쉬형 전도성 배선의 제조는 단순하고, 관련 공정은 절감된다.
도 16c 및 도 16d의 메쉬형 전도성 배선(120b)은 규칙적인 패턴에서 균일하게 배열되어 있다. 상기 전도성 메쉬(11)는 균일하게 규칙적으로 배열되어 있고, 그리드 간격(d1)은 동일하다. 한편으로, 이는 터치 스크린의 투과율을 균일하게 하고, 다른 한편으로 메쉬형 전도성 배선의 표면 저항을 균일하게 분포시킨다. 저항 편차가 작기 때문에, 저항 바이어스(bias)를 교정하기 위한 작업이 필요하지 않아서 상(image)을 균일하게 만든다. 상기 전도성 메쉬는 실질적으로 직교하는 직선 격자 패턴이 될 수 있고, 구부러진 곡선 격자 패턴이 될 수 있다. 메쉬형 전도성 배선의 메쉬 셀은 삼각형, 다이아몬드 또는 규칙적인 다각형 등과 같은 규칙적인 그래프(graph)가 될 수 있고, 또한 불규칙적인 그래프가 될 수 있다.
도 17을 참조하면, 하나의 실시예에 따른 터치 스크린의 제조 방법의 공정도이다. 또한, 도 3을 참조하면, 상기 방법은 하기의 단계를 포함한다.
단계 S101: 제1투명 절연 기판이 제공된다. 상기 제1투명 절연 기판(110)은 리지드한 투명 절연 기판 또는 플렉시블한 투명 절연 기판이고, 상기 리지드한 투명 절연 기판은 강화 유리 또는 플렉시블한 투명 커버 렌즈(lens)가 될 수 있다. 상기 플렉시블한 투명 커버 렌즈는 플렉시블한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 및 폴리메틸메타아크릴레이트 아크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다.
단계 S102: 감지 전극층이 상기 리지드한 투명 기판의 표면 상에 형성된다.
단계 S103: 제2투명 절연 기판이 제공된다. 상기 제2투명 절연 기판(150)은 플렉시블한 투명 절연 기판이고, 이는 플렉시블한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 및 폴리메틸메타아크릴레이트 메틸에스테르(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다. 상기 제2투명 절연 기판(150)은 플렉시블한 박막이고, 이는 리지드한 제1투명 절연 기판(110)에 용이하게 부착될 수 있다.
단계 S104: 구동 전극층이 상기 제2투명 절연 기판의 표면 상에 형성된다.
S101에서 S102의 단계와 S103에서 S104의 단계 간에는 순서가 없다. 제1투명 절연층(140) 상에 감지 전극층(120)을 형성하는 것이 첫 번째가 되고, 또한 제2투명 전극 기판(150) 상에 구동 전극층(140)을 형성하는 것이 첫 번째가 될 수 있다. 선택적으로는, 이들을 동시에 수행할 수 있다.
단계 S105: 상기 제2투명 절연 기판이 제1투명 절연 기판에 부착된다.
부착 방법이 도 3에 나타나 있다. 제2투명 절연 기판(150)의 구동 전극층(140)이 제공된 표면이 제1투명 절연 기판(110)의 감지 전극층(120)이 제공된 표면에 부착된다. 선택적으로, 도 11에 보인 바와 같이, 제2투명 절연 기판(250)의 구동 전극층(240)이 제공되지 않는 표면이 제1투명 절연 기판(210)의 감지 전극층(220)이 제공된 표면에 부착된다.
도 18 및 도 19를 참조하면, 단계 S102는 다음을 포함한다.
단계 S121: 투명 절연층이 제1투명 절연 기판 상에 코팅된다. 상기 투명 절연층은 바람직하게는 UV(자외선) 접착제이다. 상기 UV 접착제와 제1투명 절연 기판의 접착력을 증가시키기 위해, 제1투명 절연 기판(110)과 투명 절연층(160)의 사이에는 점착제층(141)이 배치될 수 있다.
단계 S122: 메쉬형 홈이 각인(stamping)을 통해 상기 투명 절연층에 형성된다. 도 19를 참조하면, 상기 투명 절연층(160)은 다양한 메쉬형 홈(170)을 가질 수 있고, 상기 메쉬형 홈(170)은 몰드 프레싱(mold pressing) 후에 감지 전극과 동일한 형상을 가지며, 상기 감지 전극층(120)은 메쉬형 홈(170)에 형성된다.
단계 S123: 금속 페이스트가 상기 메쉬형 홈에 충전, 스크레이프(scrape) 코팅 및 소결되어 경화되어, 메쉬형 전도성 배선을 형성한다. 상기 금속 페이스트는 상기 메쉬형 홈(170)에 충전되고, 스크레이프 코팅되어 금속 페이스트를 메쉬형 홈에 채우고, 이후 전도성 메쉬의 형성을 위해 소결, 경화된다. 금속 페이스트는 바람직하게는 나노 은 페이스트(nano silver paste)이다. 예시적인 실시예에서, 상기 메쉬형 전도성 배선을 형성하는 금속은 금(gold), 은(silver), 구리(copper), 알루미늄(aluminum), 아연(zinc), 금-도금 은(gold-plated silver) 및 상기 금속들의 적어도 2종의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나가 될 수 있다.
다른 실시예에서, 상기 메쉬형 전도성 배선은 다른 공정에 의해 제조될 수 있으며, 예를 들어 본 발명의 상기 메쉬형 전도성 배선은 포토리쏘그래피에 의해 제조될 수 있다.
또한, 도 14를 참조하면, 투명 커버 렌즈(470)가 제1투명 절연 기판(410) 상에 형성될 수 있다. 상기 투명 스크린(470)은 강화 유리 또는 플렉시블한 투명판이 될 수 있다.
도 20을 참조하면, 다른 실시예에 따른 터치 스크린의 제조 방법의 공정도이다. 또한, 도 13을 참조하면, 상기 방법은 하기의 단계를 포함한다.
단계 S201: 제1투명 절연 기판이 제공된다. 상기 제1투명 절연 기판(310)은 리지드한 투명 절연 기판 또는 플렉시블한 투명 절연 기판이고; 상기 리지드한 투명 절연 기판은 강화 유리 또는 플렉시블한 투명 커버 렌즈가 될 수 있다. 상기 플렉시블한 투명 커버 렌즈는 플렉시블한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 및 폴리메틸메타아크릴레이트 아크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다.
단계 S202: 제2투명 절연 기판이 제공된다. 상기 제2투명 절연 기판(350)은 플렉시블한 투명 절연 기판이고, 이는 플렉시블한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS) 및 폴리메틸메타아크릴레이트 메틸에스테르(PMMA)로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된다. 상기 제2투명 절연 기판(350)은 플렉시블한 박막이고, 이는 제1투명 절연 기판(310)에 용이하게 부착될 수 있다.
단계 S203: 구동 전극층이 제2투명 절연 기판의 표면 상에 형성된다.
단계 S204: 감지 전극층이 제2투명 절연 기판의 다른 표면 상에 형성된다.
상기 단계 S203 및 단계 S204의 순서는 임의적이다. 제1투명 절연 기판(140) 상에 감지 전극층(320)을 형성하는 것이 첫 번째가 될 수 있고, 제2투명 절연 기판(350) 상에 구동 전극층(340)을 형성하는 것이 첫 번째가 될 수 있다.
단계 S205: 제1투명 절연 기판이 제2투명 절연 기판에 부착된다.
부착 방법은 제1투명 절연 기판(310)이 제2투명 절연 기판(350)의 감지 전극층(320)이 제공되지 않은 면에 부착되는 방법이 될 수 있다.
도 19 내지 도 21을 참조하면, 상기 단계 S204는 구체적으로 다음을 포함한다.
단계 S241: 투명 절연층이 제2투명 절연 기판 상에 코팅된다. 상기 투명 절연층(160)은 바람직하게는 UV(자외선) 접착제이다. UV 접착제와 플렉시블한 절연 기판의 접착력을 증가시키기 위해, 제2투명 절연 기판(150)과 투명 절연층(160)의 사이에 점착제층이 배치될 수 있다.
단계 S242: 메쉬형 홈이 각인(stamping)을 통해 상기 투명 절연층에 형성된다. 도 19를 참조하면, 상기 투명 절연층(160)은 몇 가지 메쉬형 홈(170)을 가질 수 있고, 상기 메쉬형 홈(170)은 몰드 프레싱(mold pressing) 후에 감지 전극과 동일한 형상을 가지며, 상기 감지 전극층(120)은 메쉬형 홈(170)에 형성된다.
단계 S243: 금속 페이스트가 상기 메쉬형 홈에 충전, 스크레이프(scrape) 코팅 및 소결되어 경화되어, 메쉬형 전도성 배선을 형성한다. 상기 금속 페이스트는 상기 메쉬형 홈(170)에 충전되고, 스크레이프 코팅되어 금속 페이스트를 메쉬형 홈에 채우고, 이후 전도성 메쉬의 형성을 위해 소결, 경화된다. 금속 페이스트는 바람직하게는 나노 은 페이스트(nano silver paste)이다. 예시적인 실시예에서, 상기 메쉬형 전도성 배선을 형성하는 금속은 금(gold), 은(silver), 구리(copper), 알루미늄(aluminum), 아연(zinc), 금-도금 은(gold-plated silver) 및 상기 금속들의 적어도 2종의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나가 될 수 있다.
다른 실시예에서, 상기 메쉬형 전도성 배선은 다른 공정에 의해 제조될 수 있으며, 예를 들어 본 발명의 상기 메쉬형 전도성 배선은 포토리쏘그래피에 의해 제조될 수 있다.
또한, 상기 투명 커버 렌즈가 제1투명 절연 기판 상에 더 형성될 수 있다. 상기 투명 커버 렌즈는 강화 유리판 또는 플렉시블한 투명 커버 렌즈가 될 수 있다.
터치 스크린의 구동 전극은 상기 방법으로 메쉬형 전도성 배선에 의해 형성된 전도성 메쉬로 제조되어, 터치 스크린은 표면이 긁히거나 벗겨지고, 비용이 높으며, ITO 필름의 사용 시 대형 크기 스크린에서 표면 저항이 높아지는 것과 같은 문제점을 갖지 않는다. 이에 따라, 터치 스크린의 가격은 낮고 감도는 높다.
비록 본 발명이 실시예들 및 본 발명을 실현하기 위한 최적의 형태를 참고하여 설명되었지만, 첨부된 청구범위에 의하여 정의되도록 의도된 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 다양한 변형 및 변경이 이루어질 수 있다는 것은 본 기술 분야의 지식을 가진 자에게는 명백하다.

Claims (38)

  1. 제1투명 절연 기판;
    상기 제1투명 절연 기판에 직면하는 제1표면과 상기 제1표면에 대향한 제2표면을 포함하는 제2투명 절연 기판;
    상기 제1투명 절연 기판과 상기 제2 투명 절연 기판의 사이에 배치되고, 이격된 복수의 감지 전극을 포함하며, 각 감지 전극은 메쉬형 전도성 배선을 포함하는 감지 전극층; 및
    상기 제2투명 절연 기판의 제1표면 또는 제2표면 상에 배치되고, 이격된 복수의 구동 전극을 포함하는 구동 전극층을 포함하는 터치 스크린.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 메쉬형 도전성 배선의 그리드 간격은 d1로 정의되고, 100㎛ ≤ d1 < 600㎛이며; 상기 메쉬형 도전성 배선의 표면 저항은 R로 정의되고, 0.1Ω/sq ≤ R < 200Ω/sq인 터치 스크린.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판의 표면 상에 형성된 제3투명 절연층을 더 포함하고, 상기 메쉬형 전도성 배선은 투명 절연층에 탑재 또는 매립된 터치 스크린.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제3투명 절연층은 인터레이스(interlace)된 복수의 메쉬형 홈을 포함하고, 상기 메쉬형 전도성 배선은 메쉬형 홈에 수용된 터치 스크린.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판은 리지드 기판이고, 상기 제2투명 절연 기판은 플렉시블 기판인 터치 스크린.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1투명 리지드 절연 기판은 강화 유리이고, 상기 제2투명 플렉시블 절연 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리비닐클로라이드, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 및 폴리메틸메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된 터치 스크린.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판은 플렉시블 기판이고, 상기 제2투명 절연 기판은 리지드 기판 또는 플렉시블 기판인 터치 스크린.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판의 표면에 부착된 투명 커버 렌즈를 더 포함하는 터치 스크린.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 투명 커버 렌즈는 강화 유리 패널 또는 플렉시블 투명 패널인 터치 스크린.
  10. 제1항에 있어서,
    접착제층을 더 포함하고, 상기 접착제층은 제1투명 절연 기판과 제2투명 절연 기판의 사이에 배열된 터치 스크린.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 접착제층은 광학적으로 투명한 광학 투명 접착제(OCA) 또는 액체 광학 투명 접착제(LOCA)의 층인 터치 스크린.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 감지 전극층은 인듐 주석 산화물, 안티몬 주석 산화물, 인듐 아연 산화물, 아연 알루미늄 및 폴리에틸렌 디옥시티오펜으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된 터치 스크린.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 메쉬형 전도성 배선의 그리드는 규칙적인 형상인 터치 스크린.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 메쉬형 전도성 배선의 그리드는 불규칙적인 형상인 터치 스크린.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 메쉬형 전도성 배선의 은(silver)으로 제조되고, 상기 메쉬형 전도성 배선의 그리드 간격은 200㎛ 내지 500㎛이며; 상기 메쉬형 전도성 배선의 표면 저항은 R로 정의되고, 4Ω/sq ≤ R < 50Ω/sq이며, 은(silver)의 코팅량은 0.7g/m2 내지 1.1g/m2인 터치 스크린.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 메쉬형 전도성 배선은 금(gold), 은(silver), 구리(copper), 알루미늄(aluminum), 아연(zinc), 금-도금 은(gold-plated silver) 및 상기 금속들의 적어도 2종의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된 터치 스크린.
  17. 제3항에 있어서,
    상기 투명 절연층은 광경화 접착제, 열경화 접착제 또는 자연 건조 접착제(air-drying adhesive)의 경화에 의해 형성된 터치 스크린.
  18. 리지드 투명 절연 기판;
    상기 리지드 투명 절연 기판의 표면 상에 형성되고, 독립적으로 배치된 복수의 감지 전극을 포함하며, 각 감지 전극은 메쉬형 전도성 배선을 포함하는 감지 전극층;
    제1표면과 상기 제1표면에 대향한 제2표면을 포함하는 플렉시블 투명 절연 기판, 및
    상기 플렉시블 투명 절연 기판의 제1표면 또는 제2표면 상에 형성되고, 독립적으로 배치된 복수의 구동 전극을 포함하는 구동 전극층을 포함하고;
    상기 플렉시블 투명 절연 기판의 제1표면 또는 제2표면은 상기 리지드 투명 절연 기판에 부착된 터치 스크린.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 메쉬형 도전성 배선의 그리드 간격은 d1로 정의되고, 100㎛ ≤ d1 < 600㎛이며, 상기 메쉬형 도전성 배선의 표면 저항은 R로 정의되고, 0.1Ω/sq ≤ R < 200Ω/sq인 터치 스크린.
  20. 제18항에 있어서,
    상기 플렉시블 투명 절연 기판의 표면 상에 형성된 투명 절연층을 더 포함하고, 상기 메쉬형 전도성 배선은 투명 절연층에 탑재 또는 매립된 터치 스크린.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 투명 절연층은 인터레이스(interlace)된 복수의 메쉬형 홈을 포함하며, 상기 메쉬형 전도성 배선은 메쉬형 홈에 수용된 터치 스크린.
  22. 제18항에 있어서,
    상기 리지드 투명 절연 기판은 강화 유리이고, 상기 플렉시블 투명 절연 기판은 플렉시블 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리비닐클로라이드, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 및 폴리메틸메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 재료로 제조된 터치 스크린.
  23. 제18항에 있어서,
    상기 감지 전극은 투명 인듐 주석 산화물로 제조된 터치 스크린.
  24. 제18항에 있어서,
    상기 메쉬형 전도성 배선의 그리드는 규칙적인 형상인 터치 스크린.
  25. 제18항에 있어서,
    상기 메쉬형 전도성 배선의 그리드는 불규칙적인 형상인 터치 스크린.
  26. 제24항에 있어서,
    상기 메쉬의 셀은 단일의 삼각형, 다이아몬드 또는 규칙적인 다각형인 터치 스크린.
  27. 제1투명 절연 기판을 제공하는 단계;
    상기 제1투명 절연 기판의 표면 상에 감지 전극층을 형성하되, 상기 감지 전극층의 감지 전극이 복수의 메쉬 셀을 포함하는 메쉬형 전도성 배선이 되도록 형성하는 단계;
    제2투명 절연 기판을 제공하는 단계;
    상기 제2투명 절연 기판의 표면 상에 구동 전극층을 형성하는 단계; 및
    상기 제1투명 절연 기판에 제2투명 절연 기판을 부착하는 단계를 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  28. 제27항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판의 표면 상에 감지 전극층의 형성은,
    제1투명 절연 기판 상에 투명 절연층을 코팅하고;
    상기 투명 절연층 상에 각인을 통해 메쉬형 홈을 형성하며;
    상기 메쉬형 홈에 메쉬형 전도성 배선을 형성하는 것을 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  29. 제28항에 있어서,
    상기 메쉬형 홈에 메쉬형 전도성 배선의 형성은,
    상기 메쉬형 홈에 금속 페이스트를 충전하고;
    상기 금속 페이스트를 스크레이프 코팅, 소결 및 경화시키는 것을 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  30. 제27항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판에 제2투명 절연 기판을 부착하는 단계는,
    상기 제1투명 절연 기판의 감지 전극층을 형성한 표면에 제2투명 절연 기판의 구동 전극층을 형성한 표면을 부착하거나;
    상기 제1투명 절연 기판의 감지 전극층을 형성한 표면에 제2투명 절연 기판의 구동 전극층을 형성하지 않은 표면을 부착하는 것을 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  31. 제27항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판의 표면 상에 투명 커버 렌즈를 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  32. 제31항에 있어서,
    상기 투명 커버 렌즈는 강화 유리 스크린 또는 플렉시블 투명 커버 렌즈인 터치 스크린의 제조 방법.
  33. 제1투명 절연 기판을 제공하는 단계;
    제2투명 절연 기판을 제공하는 단계;
    상기 제2투명 절연 기판의 일 표면 상에 구동 전극층을 형성하는 단계;
    제2투명 절연 기판의 다른 표면 상에 감지 전극층을 형성하되, 상기 감지 전극층의 전극이 다수의 메쉬 셀을 포함하는 메쉬형 전도성 배선으로 되도록 형성하는 단계; 및
    상기 제2투명 절연 기판에 제1투명 절연 기판을 부착하는 단계를 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  34. 제33항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판의 다른 표면 상에 감지 전극층의 형성은,
    제2투명 절연 기판 상에 투명 절연층을 코팅하고;
    상기 투명 절연층 상에 각인을 통해 메쉬형 홈을 형성하며;
    상기 메쉬형 홈에 메쉬형 전도성 배선을 형성하는 것을 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  35. 제34항에 있어서,
    상기 메쉬형 홈에 메쉬형 전도성 배선의 형성은,
    상기 메쉬형 홈에 금속 페이스트를 충전하고;
    상기 금속 페이스트를 스크레이프 코팅, 소결 및 경화시키는 것을 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  36. 제33항에 있어서,
    상기 제2투명 절연 기판에 제1투명 절연 기판을 부착하는 단계는 상기 제1투명 절연 기판의 감지 전극층을 형성한 표면에 제1투명 절연 기판을 부착하는 것을 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  37. 제33항에 있어서,
    상기 제1투명 절연 기판의 표면 상에 투명 커버 렌즈를 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 스크린의 제조 방법.
  38. 제37항에 있어서,
    상기 투명 커버 렌즈는 강화 유리 스크린 또는 플렉시블 투명 커버 렌즈인 터치 스크린의 제조 방법.
KR1020137025317A 2013-03-08 2013-07-08 터치 스크린 및 그 제조 방법 KR101501940B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310074633.2 2013-03-08
CN2013100746332A CN103176679A (zh) 2013-03-08 2013-03-08 触摸屏及其制造方法
PCT/CN2013/078974 WO2014134895A1 (zh) 2013-03-08 2013-07-08 触摸屏及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140120810A true KR20140120810A (ko) 2014-10-14
KR101501940B1 KR101501940B1 (ko) 2015-03-12

Family

ID=48636605

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020137025317A KR101501940B1 (ko) 2013-03-08 2013-07-08 터치 스크린 및 그 제조 방법

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP2015512114A (ko)
KR (1) KR101501940B1 (ko)
CN (1) CN103176679A (ko)
TW (1) TWI536233B (ko)
WO (1) WO2014134895A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101513673B1 (ko) * 2015-02-03 2015-04-21 에스맥 (주) 터치 스크린 패널 제작 방법
KR101535981B1 (ko) * 2015-02-03 2015-07-14 에스맥 (주) 터치 스크린 패널 제작 방법

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104281307B (zh) * 2013-07-10 2019-05-03 宏达国际电子股份有限公司 触控面板
CN104346005A (zh) * 2013-07-31 2015-02-11 南昌欧菲光科技有限公司 透明导电膜和电容式触摸屏
CN104345936A (zh) * 2013-07-31 2015-02-11 南昌欧菲光科技有限公司 触控装置
CN103984457A (zh) * 2014-05-06 2014-08-13 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 一种双层电容式触摸屏及其制备方法
CN104252269A (zh) * 2014-09-18 2014-12-31 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏、其制作方法及显示装置
PT3313948T (pt) * 2015-06-25 2021-11-24 Univ Do Minho Método para ligar duas camadas com adesivo líquido e o seu conjunto ligado
WO2018003399A1 (ja) * 2016-06-30 2018-01-04 株式会社コイネックス 銅配線およびその製造方法およびそれを用いた電子機器、タッチパッド、タッチパネル
CN109062450B (zh) * 2018-09-30 2024-06-28 上海开亿信息科技有限公司 触控面板,智能教学黑板及一种制作智能教学黑板的方法
CN111352516B (zh) * 2018-12-24 2022-08-19 江西卓讯微电子有限公司 触摸屏及电子设备
CN110764657A (zh) * 2019-12-25 2020-02-07 南昌欧菲光科技有限公司 触控层、触控模组和电子设备
CN111651099A (zh) 2020-04-28 2020-09-11 北京载诚科技有限公司 一种触控装置
CN111596791A (zh) 2020-04-28 2020-08-28 北京载诚科技有限公司 一种触控面板

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102063232A (zh) * 2009-11-16 2011-05-18 祥闳科技股份有限公司 电容式多点触控面板的结构及其制作方法
KR101093651B1 (ko) * 2010-05-25 2011-12-15 전자부품연구원 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법
TWI567912B (zh) * 2011-02-18 2017-01-21 富士軟片股份有限公司 導電片以及觸控面板
CN102222538B (zh) * 2011-03-11 2012-12-05 苏州纳格光电科技有限公司 图形化的柔性透明导电薄膜及其制法
CN202041943U (zh) * 2011-03-22 2011-11-16 深圳欧菲光科技股份有限公司 高抗干扰性的电容式触摸屏
JP5638027B2 (ja) * 2011-05-17 2014-12-10 富士フイルム株式会社 導電シート及び静電容量方式タッチパネル
KR101978666B1 (ko) * 2011-06-10 2019-05-15 미래나노텍(주) 터치 스크린 센서 기판, 터치 스크린 센서 및 이를 포함하는 패널
KR101305697B1 (ko) * 2011-06-23 2013-09-09 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
JP5681674B2 (ja) * 2011-07-11 2015-03-11 富士フイルム株式会社 導電シート、タッチパネル及び表示装置
JP2013025373A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Alps Electric Co Ltd 静電センサの製造方法及び保護フィルム付静電センサ
CN102930922B (zh) * 2012-10-25 2015-07-08 南昌欧菲光科技有限公司 一种具有各向异性导电的透明导电膜
CN102903423B (zh) * 2012-10-25 2015-05-13 南昌欧菲光科技有限公司 透明导电膜中的导电结构、透明导电膜及制作方法
CN203149544U (zh) * 2013-03-08 2013-08-21 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏
CN103176652B (zh) * 2013-03-08 2015-05-13 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏及其制造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101513673B1 (ko) * 2015-02-03 2015-04-21 에스맥 (주) 터치 스크린 패널 제작 방법
KR101535981B1 (ko) * 2015-02-03 2015-07-14 에스맥 (주) 터치 스크린 패널 제작 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015512114A (ja) 2015-04-23
TWI536233B (zh) 2016-06-01
WO2014134895A1 (zh) 2014-09-12
KR101501940B1 (ko) 2015-03-12
TW201435695A (zh) 2014-09-16
CN103176679A (zh) 2013-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101501940B1 (ko) 터치 스크린 및 그 제조 방법
KR101626807B1 (ko) 터치 패널 및 그 제조 방법
KR101571617B1 (ko) 터치 패널 및 그의 제조 방법
KR101556313B1 (ko) 터치 패널 및 그것의 제조 방법
US20140253826A1 (en) Touch screen and manufacturing method thereof
EP2273356B1 (en) Multi-touch detecting method for detecting locations of touched points on a touch panel
US9081455B2 (en) Touch panel and manufacturing method thereof
US20140253825A1 (en) Touch panel and manufacturing method thereof
CN203149522U (zh) 触控面板
TWI486859B (zh) 電容式觸控面板結構
CN103870076A (zh) 触控面板及其制造方法
KR102100954B1 (ko) 저항차 보상 장치 및 이를 구비하는 터치 패널과 그 제조 방법
US8987625B2 (en) Capacitive touch panel structure
US20150103261A1 (en) Touch panel and manufacturing method thereof
CN203149544U (zh) 触摸屏
CN203149543U (zh) 触摸屏
US20150136450A1 (en) Touch panel and method of manufacturing the same
KR102008736B1 (ko) 터치 패널 및 이의 구동방법
CN203149523U (zh) 触控面板
KR20150017473A (ko) 터치 스크린 패널 및 이의 제조방법
TWM437496U (en) Capacitive touch panel unit
TWM437497U (en) Capacitive touch panel structure

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee