KR20140094061A - Continuous plating apparatus and continuous plating method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 연속 도금 장치 및 연속 도금 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고속 도금이 가능하고 효율을 극대화할 수 있는 연속 도금 장치 및 연속 도금 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a continuous plating apparatus and a continuous plating method, and more particularly, to a continuous plating apparatus and a continuous plating method capable of high-speed plating and maximizing efficiency.
일반적으로 PCB기판과 같은 박판형상의 제품을 도금하는 경우에는 특허문헌1에 개시된 바와 같이 피도금재를 연속적으로 도금시키는 수평식 도금방식을 사용하였다. 이러한 종래의 도금 방법은 도금액이 저장되며 피도금재가 투입, 배출되는 도금조와, 불용성 애노드와, 피도금재가 상기 도금조를 통과해 수평방향으로 이송되도록 하는 이송롤러와, 도금조의 전방으로 위치되어 피도금재를 음극 전기로 대전시키는 캐소드 롤러를 포함하는 도금장치에 의해 이루어지며, 상기 도금조의 투입구와 배출구에는 피도금체가 원활하게 이송되도록 가이드하는 가이드롤러가 구비된다. In general, when a thin plate-like product such as a PCB substrate is plated, a horizontal plating method for continuously plating a plated material is used as disclosed in
이러한 종래의 연속 도금 방법은 캐소드 롤러가 도금액에 의해 오염될 경우 피도금재의 표면에 스크래치 등의 흠을 일으켜 제품 불량의 원인을 제공할 수 있다. 또한 도금 시간이 오래 걸리기 때문에 도금 효율이 떨어지는 문제가 있었다.Such a conventional continuous plating method can cause scratches or the like on the surface of the plating material when the cathode roller is contaminated by the plating solution, thereby providing a cause of defective products. Further, since the plating time is long, there is a problem that the plating efficiency is lowered.
종래기술의 문제 및/또는 한계를 극복하기 위한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따른 목적은 피도금재에 가능한 넓은 면적으로 도금층을 일시에 형성하고, 보다 빠른 시간에 도금을 수행해 도금 효율을 극대화시킬 수 있는 연속 도금 장치 및 연속 도금 방법을 제공하기 위한 것이다.It is an object of the present invention to overcome the problems and / or limitations of the prior art, and it is an object of one aspect of the present invention to provide a plating method and a plating method for forming a plating layer at a time on a plated material as wide as possible, And to provide a continuous plating apparatus and a continuous plating method which can be used.
본 발명의 일 측면에 따르면, 적어도 외면이 전기 전도성을 갖고, 상기 외면이, 피도금재와 접하도록 구비된 캐소드 롤러와, 상기 캐소드 롤러의 상기 외면과 전기적으로 연결되어 상기 외면에 음극 전기를 인가하는 제1전원과, 상기 캐소드 롤러와 이격되게 위치하고 양극 이온을 포함하는 도금액을 상기 피도금재의 방향으로 분사하는 분사 유닛과, 상기 분사 유닛에 연결되고 상기 도금액을 상기 분사 유닛에 제공하는 제1저장조를 포함하는 연속 도금 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a cathode ray tube comprising: a cathode roller having at least an outer surface electrically conductive; an outer surface of the cathode roller being in contact with a material to be plated; a cathode roller electrically connected to the outer surface of the cathode roller, A first power source for supplying the plating liquid to the spraying unit, a spraying unit for spraying a plating liquid, which is located apart from the cathode roller, in the direction of the material to be plated, Is provided.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 분사 유닛은 적어도 상기 피도금재의 상기 캐소드 롤러와 접하는 면에 대향되게 위치할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the ejecting unit may be positioned at least opposite to a surface of the plated material in contact with the cathode roller.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 분사 유닛은 복수 개가 구비될 수 있다.According to another aspect of the present invention, a plurality of the injection units may be provided.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 캐소드 롤러 및 분사 유닛이 수용된 공정실을 더 포함하고, 상기 공정실에 상기 양극 이온을 포함하는 도금액이 충진되어 상기 피도금재가 상기 충진된 도금액에 침적될 수 있다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a plating apparatus including a processing chamber in which the cathode roller and the spray unit are accommodated, wherein the processing chamber is filled with a plating solution containing the anode ions, and the plating material is immersed in the filled plating solution have.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 공정실에 위치한 애노드 플레이트와, 상기 애노드 플레이트와 전기적으로 연결되어 상기 애노드 플레이트에 양극 전기를 인가하는 제2전원을 더 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the apparatus may further include an anode plate disposed in the process chamber, and a second power source electrically connected to the anode plate to apply anode electricity to the anode plate.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 캐소드 롤러는 지면에 수직한 방향으로 연장되도록 배치될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the cathode roller may be disposed to extend in a direction perpendicular to the paper surface.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 캐소드 롤러는 지면에 수평한 방향으로 연장되도록 배치될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the cathode roller may be disposed to extend in a horizontal direction on the paper surface.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 공정실은 제1게이트 및 제2게이트를 포함하고, 상기 피도금재는 상기 제1게이트 및 제2게이트를 관통하도록 배치되며, 상기 공정실 외측에 배수된 상기 도금액이 저장되는 제2저장조가 위치할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the process chamber includes a first gate and a second gate, the plating material is disposed to pass through the first gate and the second gate, and the plating liquid drained to the outside of the processing chamber The second reservoir can be located.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제1저장조에 구비된 양극 이온 생성부를 더 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the apparatus may further include a positive electrode ion generator provided in the first reservoir.
본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 적어도 외면이 전기 전도성을 갖는 캐소드 롤러에 음극 전기를 인가하는 단계와, 피도금재를 상기 캐소드 롤러의 외면에 접하도록 연속적으로 상기 캐소드 롤러에 제공하는 단계와, 상기 캐소드 롤러와 이격되게 위치한 분사 유닛에 의해 양극 이온을 포함하는 도금액을 상기 피도금재의 방향으로 분사하는 단계를 포함하는 연속 도금 방법이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a cathode roller, comprising the steps of: applying a negative electrode electricity to at least a cathode roller having an outer surface electrically conductive; continuously supplying the material to be plated to the cathode roller so as to contact the outer surface of the cathode roller; And spraying a plating liquid containing an anode ion in the direction of the plating material by a jet unit positioned apart from the cathode roller.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 도금액은 적어도 상기 피도금재의 상기 캐소드 롤러와 접하는 면에 대하여 분사할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the plating liquid can be sprayed onto at least a surface of the plated material in contact with the cathode roller.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 분사 유닛은 복수 개가 구비되어 연속적으로 진행하는 피도금재의 표면에 동시에 도금액을 분사할 수 있다.According to still another aspect of the present invention, a plurality of the ejection units are provided, and the plating liquid can be ejected simultaneously onto the surface of the plated material continuously running.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 도금액을 분사하는 단계는, 상기 캐소드 롤러 및 분사 유닛은 상기 양극 이온을 포함하는 도금액이 침적된 상태에서 행해질 수 있다.According to another aspect of the present invention, in the step of spraying the plating liquid, the cathode roller and the spraying unit may be performed while the plating liquid containing the anode ions is deposited.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 캐소드 롤러 및 분사 유닛이 침적된 도금액에 양극 이온을 제공하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to still another aspect of the present invention, the cathode roller and the ejection unit may further include a step of providing a positive electrode ion to the deposited plating liquid.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 캐소드 롤러는 지면에 수직한 방향으로 연장되도록 배치될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the cathode roller may be disposed to extend in a direction perpendicular to the paper surface.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 캐소드 롤러는 지면에 수평한 방향으로 연장되도록 배치될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the cathode roller may be disposed to extend in a horizontal direction on the paper surface.
분사 유닛에 의해 피도금재의 상기 캐소드 롤러와 접하는 부분에 대해 넓은 면적으로 도금액을 분사함으로써 도금 면적을 넓힐 뿐 아니라 도금 시간을 줄여 효율을 극대화할 수 있다.It is possible to not only widen the plating area but also to shorten the plating time and maximize the efficiency by spraying the plating liquid over a large area with respect to the portion of the plating material in contact with the cathode roller by the ejection unit.
상기 분사 유닛에 의한 도금액의 분사는 도금액을 피도금재의 방향으로 순환시켜 피도금재의 상기 캐소드 롤러와 접하는 부분에서 양극 이온의 농도가 줄어드는 것을 방지해 균일한 도금층을 형성할 수 있다.The injection of the plating liquid by the ejection unit can circulate the plating liquid in the direction of the plated material to prevent the concentration of the anode ions from being reduced at the portion of the plated material in contact with the cathode roller to form a uniform plating layer.
고속 도금 시에도 공정실 내에 채워져 있는 도금액에 대하여 소모된 양극 이온을 보충해 줄 수 있다.Even when high-speed plating is performed, the consumed anode ions can be replenished with respect to the plating liquid filled in the process chamber.
공정실 내에 배치된 애노드 플레이트에 의해 도금액에 양극 이온을 보충해 줄 수 있다.The anodic ions can be replenished to the plating liquid by the anode plate disposed in the process chamber.
공정실 외측으로 유출된 도금액의 원활한 배수가 가능하며, 및/또는 배수된 도금액이 순환 구조가 가능하다.It is possible to smoothly discharge the plating liquid flowing out of the process chamber and / or to circulate the drained plating liquid.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.
도 2는 피도금재의 일 예를 도시한 단면도이다.
도 3a 및 도 3b는 비교예 및 실시예의 도금 영역을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 개략적으로 도시한 측면 구성도이다.1 is a plan view schematically showing a continuous plating apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing an example of a plated material.
FIGS. 3A and 3B are views showing plating regions of Comparative Examples and Examples. FIG.
4 is a plan view schematically showing a continuous plating apparatus according to another embodiment of the present invention.
5 is a plan view schematically showing a continuous plating apparatus according to another embodiment of the present invention.
6 is a plan view schematically showing a continuous plating apparatus according to another embodiment of the present invention.
7 is a side view schematically showing a continuous plating apparatus according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 실시예들에 대하여 보다 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.1 is a plan view schematically showing a continuous plating apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 상기 연속 도금 장치는 캐소드 롤러(1)와 분사 유닛(2)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the continuous plating apparatus includes a
도 1에서 볼 수 있듯이, 상기 캐소드 롤러(1)와 분사 유닛(2)은 복수 개 구비될 수 있는 데, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 적어도 하나 이상 구비될 수 있다.As shown in FIG. 1, a plurality of the
상기 복수의 캐소드 롤러(1)의 사이로 피도금 패턴을 포함하는 피도금재(3)가 지나가도록 배치된다.And a plating
상기 피도금재(3)는 도 2에서 볼 수 있듯이, 필름 형태의 베이스 부재(31)와, 그 표면에 형성된 복수의 패드(32)를 포함할 수 있다. 이 패드(32)와 상기 캐소드 롤러(1)와의 접점에 도금층이 형성될 수 있다. 따라서 상기 패드(32)의 패턴이 피도금 패턴이 된다. 상기 패드(32)들은 도 2에서 볼 수 있듯이 상기 베이스 부재(31)의 양면에 형성될 수 있는 데, 이는 캐소드 롤러(1)의 배치 상태에 따라 달라질 수 있다. 즉, 캐소드 롤러(1)와의 접점에서 도금이 이뤄지므로 캐소드 롤러(1)와 접하는 면에는 상기 패드(32)들이 형성되도록 함이 바람직하다. 상기 피도금재(3)는 롤??투??롤 방식으로 상기 캐소드 롤러(1)들을 통과하여 이송되도록 할 수 있다.2, the
상기 캐소드 롤러(1)는 적어도 외면이 전기 전도성을 갖도록 형성된 것으로, 전기 전도성을 갖는 상기 외면이 상기 피도금재(3)의 패드(32)들과 접함으로써 피도금재(3)의 패드(32) 상에 도금층을 형성할 수 있다.The
상기 캐소드 롤러(1)들은 그 회전축이 지면에 수직한 방향이 되도록 배치될 수 있는 데, 이에 따라 캐소드 롤러(1)들의 사이를 통과하는 피도금재(3)도 도금되는 면이 지면에 수직이 되도록 하여 이송될 수 있다. 이 때 상기 캐소드 롤러(1)들은 피도금재(3)의 도금되는 면이 지면에 수직이 되도록 한 상태에서 지면에 경사지도록 배치될 수 있다. 그러나 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 상기 캐소드 롤러(1)들은 지면에 수평인 방향으로 배치되어 피도금재(3)가 도금되는 면이 지면에 수평이 되도록 하여 이송될 수 있다.The
한편, 제1전원(11)이 상기 캐소드 롤러(1)의 적어도 외면과 전기적으로 연결되어 있다. 상기 제1전원(11)은 상기 캐소드 롤러(1)의 적어도 외면에 음극 전기를 인가한다. 상기 제1전원(11)은 상기 연속 도금 장치의 외측에 위치하는 것이 바람직하다. On the other hand, the
상기 분사 유닛(2)은 상기 캐소드 롤러(1)와 이격되게 위치하고, 양극 이온을 포함하는 도금액을 상기 피도금재(3)의 방향으로 분사한다.The
상기 분사 유닛(2)은 적어도 상기 피도금재(3)의 상기 캐소드 롤러와 접하는 면에 대향되게 위치할 수 있는 데, 이에 따라 도 1에서 볼 수 있듯이, 캐소드 롤러(1)가 피도금재(3)의 양면에 접하는 구조일 경우에는 상기 분사 유닛(2)들도 상기 피도금재(3)의 도금되는 양면에 대향되도록 위치할 수 있다.As shown in FIG. 1, when the
상기 분사 유닛(2)은 상기 도금액을 상기 피도금재의 방향으로 분사하도록 형성된 것으로, 각 분사 유닛(2)들은 도금액이 분무되도록 구비된 노즐을 구비한다.The spray unit (2) is formed to spray the plating liquid in the direction of the plated material. Each of the spray units (2) has a nozzle to spray the plating liquid.
상기 분사 유닛(2)들은 제1저장조(21)에 연결되고 제1저장조(21)와 분사 유닛(2)들의 사이에는 가압 펌프(22)가 개재될 수 있다. 도 1에는 하나의 제1저장조(21)와 하나의 가압 펌프(22)에 모든 분사 유닛(2)들이 연결된 것을 나타내었으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 분사 유닛(2)들을 구획별로 그룹을 지어 별도의 펌프 및/또는 저장조에 연결되도록 할 수 있다. The
상기 제1저장조(21)는 상기 양극 이온을 포함하는 도금액이 저장되며, 이 도금액이 가압 펌프(22)를 통해 가압되어 분사 유닛(2)들로 제공된다. 상기 제1저장조(21)에는 양극 이온을 생성하여 도금액 내에 양극 이온이 충분하게 구비될 수 있도록 양극 이온 생성부(23)가 더 포함될 수 있다. 상기 양극 이온 생성부(23)는 소모된 양극 이온 생성용 메탈을 보충하기 위한 메탈이 될 수 있는 데, 이에 따라 상기 제1저장조(21) 내의 양극 이온의 농도가 균일하게 유지되도록 할 수 있다.The
상기와 같은 본 발명의 일 실시예에 따르면, 분사 유닛(2)에 의해 피도금재(3)의 상기 캐소드 롤러(1)와 접하는 부분에 대해 넓은 면적으로 도금액을 분사함으로써 도금 면적을 넓힐 뿐 아니라 도금 시간을 줄여 효율을 극대화할 수 있다.According to an embodiment of the present invention as described above, not only the plating area is widened by spraying the plating liquid over a large area with respect to the portion of the
도 3a는 본 출원인에 의해 출원된 또 다른 연속 도금 장치인 10??2012??0049803호에 따른 도금 면적(33a)을 나타낸 것이고 도 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 면적(33b)을 나타낸 것이다.FIG. 3A shows a
도 3a에 도시된 바와 같이 본 출원인에 의해 출원된 또 다른 연속 도금 장치인 10??2012??0049803호에 따른 도금 방법은, 양극 이온을 포함하는 도금액을 워터 나이프(Water knife) 방식으로 캐소드 롤러(1)와 피도금재(3)가 접하는 부위에만 분사함으로써 피도금재(3)의 일부 영역에만 국부적으로 도금이 이뤄지도록 한 것이다. 따라서 그 도금 면적(33a)이 매우 작게 형성된다.As shown in FIG. 3A, another plating apparatus according to the present invention, which is another continuous plating apparatus, is a plating apparatus in which a plating solution containing a cathode ion is sprayed by a water knife method to a cathode roller Plating is performed only on a part of the plated
반면 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 장치에 의한 도금 방법에 따르면, 분사 유닛(2)들이 피도금재(3)의 매우 넓은 표면에 걸쳐 도금액을 분사하기 때문에 복수의 캐소드 롤러(1)들이 피도금재(3)와 접점을 이뤄 매우 넓은 면적에 걸쳐 도금 면적(33b)이 형성될 수 있다. 이에 따라 도금 효율도 높일 수 있게 된다.However, according to the plating method using the plating apparatus according to the embodiment of the present invention, since the
도 4는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 도시한 평단면도이다.4 is a plan sectional view showing a continuous plating apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 4에 따른 연속 도금 장치의 일 실시예는, 공정실(51)을 더 포함한다. 상기 공정실(51)에는 양극 이온을 포함하는 상기 도금액(24)이 채워져 있고, 상기 피도금재(3)가 상기 도금액(24)에 침적된 상태이다. 그리고, 상기 캐소드 롤러(1)들 및 상기 분사 유닛(2)들도 상기 공정실(51)에 위치하며, 상기 도금액(24)에 침적되어 있다. 상기 공정실(51)에는 양단에 제1게이트(51a) 및 제2게이트(51b)가 구비되며, 상기 피도금재(3)는 상기 제1게이트(51a) 및 제2게이트(51b)를 관통하도록 상기 공정실(51) 내에 배치된다.One embodiment of the continuous plating apparatus according to Fig. 4 further includes a
도 1과 동일한 도면 부호는 동일한 부재를 나타낸 것으로, 반복되는 설명은 생략한다.The same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same members, and a repeated description thereof will be omitted.
이 상태에서 도금이 수행될 경우, 상기 공정실(51) 내에 충진된 도금액(24)에 의해 피도금재(3)와 캐소드 롤러(1)의 접점에서 도금이 이뤄지는 데, 이 때, 분사 유닛(2)들에 의해 양극 이온을 포함하는 도금액이 상기 피도금재(3)의 방향으로 분사됨으로써 도금 효율을 더욱 증대시킬 수 있는 것이다.When the plating is performed in this state, plating is performed at the contact point of the
상기 분사 유닛(2)들에 의한 도금액의 분사는 도금액을 피도금재(3)의 방향으로 순환시키는 기능을 할 뿐 아니라, 공정실(51) 내에 채워져 있는 도금액(24)에 대하여 양극 이온을 보충해 주는 기능을 할 수 있다. 상기 연속 도금 공정은 매우 고속으로 이뤄질 수 있기 때문에, 공정실(51)에 충진된 도금액(24)의 양극 이온은 매우 빠르게 소모될 수 있다. 따라서 분사 유닛(2)들에 의한 도금액의 분사에 의해 도금액(24) 내에서 소모된 양극 이온은 보충해 줌으로써 도금 효율이 원활하게 유지될 수 있도록 할 수 있다.The injection of the plating liquid by the
한편, 상기 공정실(51) 내에는 애노드 플레이트(4)들이 배치될 수 있고, 상기 애노드 플레이트(4)들은 공정실(51) 밖에 위치한 제2전원(41)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2전원(41)은 상기 애노드 플레이트(4)들에 양극 전기를 인가하며, 이에 따라 상기 도금액(24) 내에서 소모되는 양극 이온을 보충해줄 수 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 연속 도금 장치를 도시한 평단면도이다.5 is a plan sectional view showing a continuous plating apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 5에 따른 연속 도금 장치의 일 실시예는, 장치 전체의 외곽 몸체를 구성하는 프레임(50)을 포함할 수 있다. 상기 프레임(50)은 대략 직사각형 단면을 갖는 케이싱의 형태를 갖는 데, 내부에는 도 5에서 봤을 때 수직한 방향으로 제1격벽(61) 및 제2격벽(62)이 서로 대향되게 설치되고, 상기 제1격벽(61)과 제2격벽(62)의 사이에는 도 5에서 봤을 때 수평한 방향으로 제3격벽(63)이 설치된다. 이러한 제1격벽(61), 제2격벽(62) 및 제3격벽(63)에 의해 상기 프레임(50)의 내부는 복수의 격실들로 구획될 수 있다. 즉, 제1격벽(61)과 제2격벽(62)의 사이에서 도 5에서 봤을 때 수평 방향으로 가로 놓인 제3격벽(63)에 의해 공정실(51)과 이동실(52)이 구획되고, 제1격벽(61) 오른쪽에는 제1보관실(53), 제2격벽(62) 왼쪽에는 제2보관실(54)이 구획된다.One embodiment of the continuous plating apparatus according to Fig. 5 may include a
상기 제1보관실(53)에는 구동 롤러(71)가 위치하고, 상기 제2보관실(54)에는 종동 롤러(72)가 위치한다. 상기 프레임(50)의 내부에는 상기 구동 롤러(71)에 회전력을 제공하기 위한 회전수단(미도시) 및 상기 회전수단에 의한 회전력을 상기 구동롤러(71)에 전달하는 동력전달수단(미도시)이 포함된다.A
상기 구동 롤러(71)는, 일정한 폭을 가지면서 일방향으로 연장되는 피도금재(3)를 감아 걸고 있으며 회전수단에 의하여 동력을 전달받아 회전하는 롤러이다. 이러한 구동 롤러(71)는 피도금재(3)에 연속적으로 도금층이 형성될 수 있도록 피도금재(3)를 이송시키는 기능을 수행한다. 상기 구동 롤러(71)는 지면에 대하여 수직으로 세워져 배치될 수 있다.The driving
상기 종동 롤러(72)는, 지면에 수직으로 세워져 배치되며 상기 구동 롤러(71)와 일정간격 이격되어 배치되는 것이다. 상기 종동 롤러(72)의 외주면에는 피도금재(3)가 감아 걸리며 상기 구동 롤러(71)가 회전함에 따라서 상기 종동 롤러(72)가 함께 회전하여 피도금재(3)가 일정한 경로를 가지면서 이동할 수 있도록 한다.The driven
상기 이동실(52)에는 장력 부여 롤러(73)들이 복수 개 구비되어 이송되는 피도금재(3)에 일정 정도의 텐션이 가해지도록 할 수 있다.A plurality of
공정실(51)은 도 4에 도시된 실시예의 구조와 동일하므로 상세한 설명은 생략한다. 전술한 제1저장조(21) 및 가압 펌프(22)는 프레임(50)의 외측에 위치할 수 있다. 도 5에는 캐소드 롤러들(1)에 전기적으로 연결된 제1전원 및 애노드 플레이트(4)들에 전기적으로 연결된 제2전원은 생략했으며, 이는 도 4에 따른 실시예와 동일하게 적용 가능할 것이다.The
한편, 상기 제1보관실(53)에는 제1배수관(25a)이 연결되고, 상기 제2보관실(54)에는 제2배수관(25b)이 연결될 수 있다. 그리고 상기 제1배수관(25a) 및 제2배수관(25b)은 프레임(50) 외측에 구비된 제2저장조(25)에 연결된다. A
상기 공정실(51) 내에 수용된 도금액(24)은 도금 공정이 진행되는 동안 상기 제1게이트(51a) 및 제2게이트(51b)를 통해 일부 유출될 수 있다. 이렇게 공정실(51) 외측으로 유출된 도금액(24)은 제1배수관(25a) 및 제2배수관(25b)을 통해 배수되어 제2저장조(25)에 저장될 수 있다. 제2저장조(25)에 저장된 도금액은 양극 이온의 농도를 맞춘 후 도금 공정에 다시 사용 가능하다.The plating
그러나 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 상기 제2저장조(25)를 사용하지 않고 도 6에서 볼 수 있듯이 상기 제1배수관(25a) 및 제2배수관(25b)이 제1저장조(21)에 직접 연결될 수 있다. 이 경우 배수된 도금액이 양극 이온 생성부(23)를 통해 양극 이온을 보충받을 수 있으며, 이 후 도금액은 다시 공정실(51)로 투입되는 순환 구조가 가능해진다.6, the
다음으로 본 발명의 실시예에 따른 연속 도금 방법을 설명한다. 본 발명의 실시예에 따른 연속 도금 방법은 편의상 도 5에 따른 실시예를 중심으로 설명토록 한다.Next, a continuous plating method according to an embodiment of the present invention will be described. The continuous plating method according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the embodiment according to FIG. 5 for convenience.
먼저 도 2에 도시된 바와 같은 예의 피도금재(3)로 구성된 롤을 준비한다. 그리고 이 피도금재(3)의 롤이 구동 롤러(71), 장력 부여 롤들(73), 종동 롤러(72) 및 복수의 캐소드 롤러들(1)을 거치도록 도 5와 같이 배치한다. First, a roll composed of the plated
이 후 공정실(51)에 양극 이온이 포함된 도금액(24)을 채운 다음, 구동 롤러(71)를 돌려 도금 공정을 수행한다.Thereafter, a
이 때, 캐소드 롤러들(1)에 음극 전기를 인가시키고 애노드 플레이트들(4)에는 양극 전기를 인가시킨다. 또 가압 펌프(22)를 작동시켜 분사 유닛들(2)을 통해 양극 이온을 포함하는 도금액을 피도금재(3)에 분사시킨다.At this time, negative electricity is applied to the
제1게이트(51a) 및 제2게이트(51b)를 통해 공정실(51) 외측으로 흘러 나온 도금액은 제1배수관(25a) 및 제2배수관(25b)을 통해 제2저장조(25)로 배수 및 저장된다.The plating liquid flowing out of the
이상 설명한 실시예들은 캐소드 롤러들(1)을 포함한 각 롤러들이 지면에 수직한 방향으로 세워져 배치되고, 피도금재(3)가 지면에 수직한 방향으로 세워진 상태에서 수평하게 이송되며 도금이 행해지는 것을 나타내었는 데, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 도 7에서 볼 수 있듯이, 캐소드 롤러들(1)을 포함한 롤러들이 지면에 수평한 방향으로 배치되고, 피도금재(3)가 지면에 수평항 방향으로 놓인 상태에서 수평하게 이송되며 도금이 행해지도록 할 수도 있다.In the above-described embodiments, the
도 7에 도시된 실시예에서 도금조(55) 내로 피도금재(3)가 투입되었다가 인출되는 데, 도금조(55)의 입구 및 출구 측에는 장력 부여 및 방향 전환용 롤러들(74)이 설치될 수 있다. 그리고 도금조(55) 내에는 도금액(24)이 채워져 있는 데, 도금액(24) 내에는 복수의 캐소드 롤러들(1)이 배치되어 있고, 캐소드 롤러들(1)의 상부 및/또는 하부에 복수의 분사 유닛들(2)이 배치되어 있다. 그리고 도금조(55) 내에는 애노드 플레이트들(4)도 더 배치될 수 있다. In the embodiment shown in FIG. 7, the
도 7에는 피도금재(3)가 롤러들(74)에 의해 방향이 전환되어 도금조(55)의 상부로부터 도금조(55)에 투입된 후 다시 도금조(55)의 상부를 통해 인출되는 것을 나타내었으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 상기 도금조(55)의 상기 캐소드 롤러(1)와 인접한 위치의 양단에 게이트들이 형성되어 피도금재(3)가 대략 직선 형태로 도금조(55)를 관통하도록 할 수 있다.7 shows that the
이러한 수평식 연속 도금 장치도 전술한 본 발명의 모든 작용 효과를 그대로 나타낼 수 있다.Such a horizontal continuous plating apparatus can exhibit all the effects and effects of the present invention as described above.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation and that those skilled in the art will recognize that various modifications and equivalent arrangements may be made therein. It will be possible. Accordingly, the true scope of protection of the present invention should be determined only by the appended claims.
Claims (16)
상기 캐소드 롤러의 상기 외면과 전기적으로 연결되어 상기 외면에 음극 전기를 인가하는 제1전원;
상기 캐소드 롤러와 이격되게 위치하고 양극 이온을 포함하는 도금액을 상기 피도금재의 방향으로 분사하는 분사 유닛; 및
상기 분사 유닛에 연결되고 상기 도금액을 상기 분사 유닛에 제공하는 제1저장조;를 포함하는 연속 도금 장치.A cathode roller at least having an outer surface electrically conductive and the outer surface contacting the material to be plated;
A first power source electrically connected to the outer surface of the cathode roller to apply negative electricity to the outer surface of the cathode roller;
A spraying unit positioned to be spaced apart from the cathode roller and spraying a plating solution containing positive ions in the direction of the plating material; And
And a first reservoir connected to the ejection unit and providing the plating liquid to the ejection unit.
상기 분사 유닛은 적어도 상기 피도금재의 상기 캐소드 롤러와 접하는 면에 대향되게 위치하는 연속 도금 장치.The method according to claim 1,
Wherein the spray unit is positioned at least opposite to a surface of the plated material in contact with the cathode roller.
상기 분사 유닛은 복수 개가 구비된 연속 도금 장치.The method according to claim 1,
And a plurality of said injection units are provided.
상기 캐소드 롤러 및 분사 유닛이 수용된 공정실을 더 포함하고, 상기 공정실에 상기 양극 이온을 포함하는 도금액이 충진되어 상기 피도금재가 상기 충진된 도금액에 침적된 연속 도금 장치.The method according to claim 1,
Further comprising a process chamber in which the cathode roller and the spray unit are accommodated, wherein the plating chamber is filled with the plating solution containing the anode ions, and the plating material is immersed in the filled plating solution.
상기 공정실에 위치한 애노드 플레이트; 및
상기 애노드 플레이트와 전기적으로 연결되어 상기 애노드 플레이트에 양극 전기를 인가하는 제2전원;을 더 포함하는 연속 도금 장치.5. The method of claim 4,
An anode plate disposed in the process chamber; And
And a second power source electrically connected to the anode plate to apply anode electricity to the anode plate.
상기 캐소드 롤러는 지면에 수직한 방향으로 연장되도록 배치된 연속 도금 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And the cathode roller is arranged to extend in a direction perpendicular to the paper surface.
상기 캐소드 롤러는 지면에 수평한 방향으로 연장되도록 배치된 연속 도금 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And the cathode roller is disposed so as to extend in a horizontal direction on the ground.
상기 공정실은 제1게이트 및 제2게이트를 포함하고,
상기 피도금재는 상기 제1게이트 및 제2게이트를 관통하도록 배치되며,
상기 공정실 외측에 배수된 상기 도금액이 저장되는 제2저장조가 위치한 연속 도금 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the process chamber includes a first gate and a second gate,
Wherein the plating material is arranged to pass through the first gate and the second gate,
And a second reservoir for storing the plating liquid drained outside the process chamber.
상기 제1저장조에 구비된 양극 이온 생성부를 더 포함하는 연속 도금 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Further comprising a positive electrode ion generator provided in the first reservoir.
피도금재를 상기 캐소드 롤러의 외면에 접하도록 연속적으로 상기 캐소드 롤러에 제공하는 단계; 및
상기 캐소드 롤러와 이격되게 위치한 분사 유닛에 의해 양극 이온을 포함하는 도금액을 상기 피도금재의 방향으로 분사하는 단계;를 포함하는 연속 도금 방법.Applying negative electricity to at least a cathode roller whose outer surface has electrical conductivity;
Continuously supplying a plating material to the cathode roller so as to contact the outer surface of the cathode roller; And
And spraying a plating liquid containing anode ions in the direction of the plating material by a jet unit positioned apart from the cathode roller.
상기 도금액은 적어도 상기 피도금재의 상기 캐소드 롤러와 접하는 면에 대하여 분사하는 연속 도금 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the plating liquid is sprayed onto at least a surface of the plating material in contact with the cathode roller.
상기 분사 유닛은 복수 개가 구비되어 연속적으로 진행하는 피도금재의 표면에 동시에 도금액을 분사하는 연속 도금 방법.11. The method of claim 10,
Wherein a plurality of the ejection units are provided to simultaneously spray the plating liquid on the surface of the plated material continuously running.
상기 도금액을 분사하는 단계는, 상기 캐소드 롤러 및 분사 유닛은 상기 양극 이온을 포함하는 도금액이 침적된 상태에서 행해지는 연속 도금 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the step of spraying the plating liquid is performed in a state in which the cathode roller and the spray unit are immersed in a plating solution containing the anode ions.
상기 캐소드 롤러 및 분사 유닛이 침적된 도금액에 양극 이온을 제공하는 단계를 더 포함하는 연속 도금 방법.14. The method of claim 13,
Wherein the cathode roller and the ejection unit provide positive ions to the deposited plating liquid.
상기 캐소드 롤러는 지면에 수직한 방향으로 연장되도록 배치된 연속 도금 방법.15. The method according to any one of claims 10 to 14,
Wherein the cathode roller is arranged to extend in a direction perpendicular to the paper surface.
상기 캐소드 롤러는 지면에 수평한 방향으로 연장되도록 배치된 연속 도금 방법.15. The method according to any one of claims 10 to 14,
Wherein the cathode roller is arranged to extend in a horizontal direction on the ground.
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