KR20140084760A - 광학적층필름 및 이를 포함하는 편광판 - Google Patents

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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

본 발명은 광학적층필름 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기재필름 상에 표면처리층이 형성되고, 상기 표면처리층 상에 표면 보호필름이 적층된 광학적층필름으로, 상기 광학적층필름은 하기 수학식 1이 2.0×106mN/m초과 내지 5.0×106mN/m 미만의 범위를 만족함으로써 표면처리층과 표면 보호필름 사이의 점착특성이 우수하여 들뜨지 않는 동시에, 표면 보호필름을 쉽게 박리시킬 수 있다.
[수학식 1]
표면처리층의 표면에너지×(표면 보호필름의 점착에너지/표면 보호필름의 표면에너지)

Description

광학적층필름 및 이를 포함하는 편광판{OPTICAL MULTILAYER FILM AND POLARIZING PLATE USING THE SAME}
본 발명은 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 들뜸 및 미박리가 발생되지 않는 광학적층필름 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것이다.
액정표시장치(Liquid crystal display device, LCD)는 액정셀과 상기 액정셀의 양면에 적층된 편광판을 포함한다.
일반적으로 편광판은 요오드계 폴리비닐알콜(Polyvinyl alcohol, PVA) 편광자와 상기 편광자의 양면을 보호하기 위한 보호필름을 포함하여 구성된다. 구체적으로, 편광자의 일면에는 보호필름이 적층되고, 다른 일면에는 보호필름, 액정셀과의 접합을 위한 점착제층 및 이형필름이 순서대로 적층되는 다층 구조이다.
또한, 액정표시장치에는 편광판 외에, 표시품질을 향상시키기 위하여 다양한 표면처리필름, 예를 들면 방현필름, 저반사필름, 하드코팅필름 등이 더 구비된다.
이러한 표면처리필름은 편광판에 구비되기 이전에, 가공, 수송, 운반이나 제조, 검사와 같은 취급공정 중 표면처리필름 표면에 상처, 흠집과 같은 결함이 생기거나 오염되는 것을 방지하기 위하여 표면처리필름 상에 표면 보호필름이 부착될 수 있다.
상기 표면 보호필름이 부착된 표면처리필름은 통상 기재필름의 일면에 표면처리층과 표면 보호필름이 순서대로 적층된 구조이며, 이 때 표면처리층과 표면 보호필름 사이의 들뜸이 발생되지 않아야 하고, 동시에 표면처리층으로부터 표면 보호필름을 쉽게 박리시킬 수 있어야 한다.
이와 관련하여, 한국공개특허 제2011-0096503호에서는 지지체, 상기 지지체의 일면에 점착제층을 구비한 표면 보호필름의 압입 왜곡과 박리력을 특정화해서 표면 보호필름의 밀착성 및 박리성을 향상시킨 기술을 개시하고 있다. 그러나, 상기 기술은 표면 보호필름의 밀착성 및 박리성을 향상시키기 위해 아크릴계 중합체로 이루어진 점착제층을 사용해야 하므로, 다양한 점착제층에 적용하기에는 한계가 있다.
본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 표면처리층의 표면에너지와 표면 보호필름의 표면에너지 및 점착에너지의 상관관계를 도출하고, 그에 따른 범위를 한정함으로써, 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 들뜸 및 미박리가 발생되지 않는 광학적층필름을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 광학적층필름이 포함된 편광판을 제공하는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 기재필름 상에 표면처리층이 형성되고, 상기 표면처리층 상에 표면 보호필름이 적층된 광학적층필름으로, 상기 광학적층필름은 하기 수학식 1이 2.0×106mN/m초과 내지 5.0×106mN/m미만의 범위를 만족하는 광학적층필름을 제공한다.
Figure pat00001
(식 중, 표면처리층 및 표면 보호필름의 표면에너지는 각각 23℃, 60RH%의 항온/항습 조건하에서, 내수 접촉각 및 내유 접촉각을 측정한 후, OWRK(Owen, Wendt, Rabel and Kaelble) 방법으로 도출한 것이고; 표면 보호필름의 점착에너지는 강판에 표면 보호필름을 접합한 후, 표면 보호필름의 일부분을 180°의 각도에서 접어, 30m/min의 인장 속도로 당겨 벗길 때의 하중을 측정하여 도출한 것임).
또한, 바람직하기로 상기 수학식 1은 2.4×106mN/m 내지 4.0×106mN/m의 범위를 만족할 수 있다.
또한, 상기 표면처리층은 방현층, 저굴절층 및 하드코팅층로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.
또한, 상기 표면처리층은 기재필름 상에 표면처리층 형성용 조성물이 코팅된 코팅층일 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 광학적층필름이 포함된 편광판을 제공한다.
본 발명에 따른 광학적층필름은 표면처리층의 표면에너지와 표면 보호필름의 표면에너지 및 점착에너지의 상관관계를 도출하고, 그에 따른 범위를 한정함으로써 표면처리층과 표면 보호필름 사이의 점착특성이 우수하여 들뜨지 않는 동시에, 표면 보호필름을 쉽게 박리시킬 수 있다.
본 발명은 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 들뜸 및 미박리가 발생되지 않는 광학적층필름 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것이다.
이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명하나, 이는 본 발명의 설명을 위한 것이며, 본 발명의 범위를 제한하는 것이 아니다.
본 발명의 광학적층필름은 기재필름 상에 표면처리층이 형성되고, 상기 표면처리층 상에 표면 보호필름이 적층된 구조이며, 상기 광학적층필름은 하기 수학식 1이 2.0×106mN/m초과 내지 5.0×106mN/m미만의 범위를 만족한다.
[수학식 1]
표면처리층의 표면에너지×(표면 보호필름의 점착에너지/표면 보호필름의 표면에너지)
(식 중, 표면처리층 및 표면 보호필름의 표면에너지는 각각 23℃, 60RH%의 항온/항습 조건하에서, 내수 접촉각 및 내유 접촉각을 측정한 후, OWRK(Owen, Wendt, Rabel and Kaelble) 방법으로 도출한 것이고; 표면 보호필름의 점착에너지는 강판에 표면 보호필름을 접합한 후, 표면 보호필름의 일부분을 180°의 각도에서 접어, 30m/min의 인장 속도로 당겨 벗길 때의 하중을 측정하여 도출한 것임).
본 발명은 상기 표면처리층과 상기 표면 보호필름 사이에 들뜸 및 미박리가 발생되지 않도록 하기 위해서, 상기 표면처리층의 표면에너지와 상기 표면 보호필름의 표면에너지 및 점착에너지의 상관관계를 상기 수학식 1로 도출하고, 상기 수학식 1의 범위를 한정한 것이다.
상기 수학식 1 과 그 범위를 도출하기 위해, 표면에너지 및 점착에너지는 하기의 방법으로 측정하여 도출할 수 있다.
우선, 상기 표면처리층 및 표면 보호필름의 표면에너지는 접촉각 측정기를 사용하여 측정한다.
구체적으로, KSV사의 접촉각 측정기를 사용하여 표면처리층 및 표면 보호필름의 내수 접촉각 및 내유 접촉각을 측정한다.
상기 내수 접촉각 및 내유 접촉각은 23℃, 60RH%의 항온/항습 조건하에서 측정하는 것이 바람직하다.
상기 항온/항습 조건하에서 측정한 내수 접촉각 및 내유 접촉각을 이용하여 표면처리층 및 표면 보호필름의 표면에너지를 도출할 수 있다.
이 때, 상기 접촉각에서 표면에너지를 도출하는 방법은 OWRK(Owen, Wendt, Rabel and Kaelble) 방법을 이용할 수 있으며, OWRK의 식은 하기와 같다.
Figure pat00002
또한, 상기 표면 보호필름의 점착에너지는 인장 강도기를 사용하여 측정한다.
구체적으로, 스테인레스 강판에 너비 25mm, 길이 250mm의 표면 보호필름을 붙인 다음, 압착 롤러를 이용하여 압착시킨다. 그리고 나서, 표면 보호필름을 180°각도에서 접어, 소정의 길이만큼 벗긴 다음, 표면 보호필름을 세진시험기술사의 인장강도기의 클립에 고정시키고 당겨 벗길 때의 하중을 측정함으로써 점착에너지를 도출할 수 있다.
상기 표면 보호필름을 당겨 벗길 때의 인장 속도는 30m/min인 것이 바람직하다.
상기의 방법으로 표면처리층의 표면에너지와 표면 보호필름의 표면 에너지 및 점착에너지를 도출함으로써, 상기 광학적층필름은 상기 수학식 1이 2.0×106mN/m초과 내지 5.0×106mN/m미만의 범위를 만족하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 2.4×106mN/m내지 4.0×106mN/m의 범위인 것이 좋다.
상기 수학식 1의 수치가 2.0×106mN/m이하이면 상기 표면 보호필름이 상기 표면처리층으로부터 부상하게 되어, 상기 표면처리층이 외력이나 온도 변화를 받을 경우, 상기 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 존재하는 기포에 의해 상기 광학적층필름의 외관이 변하게 된다. 따라서, 상기 외력 등을 받은 부분과 받지 않은 부분 사이에 외관상의 차이가 발생하게 되고, 이로 인해 외관 검사의 정밀도가 저하될 뿐만 아니라 제조된 광학적층필름의 수율이 감소되는 문제점이 있다.
또한, 상기 수학식 1의 수치가 5.0×106mN/m 이상이면 표면 보호필름 박리 시 표면 처리층에 점착제가 존재하거나, 표면 보호필름이 쉽게 박리되지 않을 수 있다.
이하, 본 발명의 광학적층필름을 구성하는 기재필름, 표면처리층 및 표면 보호필름 각각에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다.
상기 기재필름은 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등에서 우수한 필름이 사용될 수 있다. 구체적인 예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지; 염화비닐계 수지; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 수지; 이미드계 수지; 술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리에테르에테르케톤계 수지; 황화 폴리페닐렌계 수지; 비닐알콜계 수지; 염화비닐리덴계 수지; 비닐부티랄계 수지; 알릴레이트계 수지; 폴리옥시메틸렌계 수지; 에폭시계 수지 등과 같은 열가소성 수지로 구성된 필름을 들 수 있으며, 상기 열가소성 수지의 블렌드물로 구성된 필름도 사용할 수 있다. 또한, (메타)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지로 된 필름을 이용할 수도 있다.
상기 표면처리층은 기재필름 상에 표면처리층 형성용 조성물이 코팅된 코팅층일 수 있다. 이러한 표면처리층은 대전방지성, 방현성 등의 기능을 부여하는 역할을 한다.
상기 표면처리층은 방현층, 저굴절층 및 하드코팅층으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.
또한, 상기 표면처리층은 기재필름 상에 표면처리층 형성용 조성물이 코팅된 코팅층일 수 있다.
본 발명을 상기 방현층을 일례로 하여 표면처리층을 설명하나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 방현층은 기재필름에 방현성을 부여하기 위한 것으로서, 투광성 수지, 투광성 입자, 광개시제 및 용매를 포함하여 이루어진 방현층 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다.
상기 투광성 수지는 광경화형 수지이며, 상기 광경화형 수지는 광경화형 (메타)아크릴레이트 올리고머 및/또는 광경화형 모노머를 포함할 수 있다.
상기 광경화형 (메타)아크릴레이트 올리고머는 예를 들어 에폭시 (메타)아크릴레이트, 우레탄 (메타)아크릴레이트 등을 사용할 수 있으며, 우레탄 (메타)아크릴레이트가 보다 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 우레탄 (메타)아크릴레이트는 분자 내에 히드록시기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트와 이소시아네이트기를 갖는 화합물을 촉매 존재 하에서 제조할 수 있다.
상기 분자 내에 히드록시기를 갖는 (메타)아크릴레이트의 구체적인 예로는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시이소프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 개환 히드록시아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리/테트라(메타)아크릴레이트 혼합물 및 디펜타에리스리톨펜타/헥사(메타)아크릴레이트 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.
또한, 상기 이소시아네이트기를 갖는 화합물의 구체적인 예로는 1,4-디이소시아나토부탄, 1,6-디이소시아나토헥산, 1,8-디이소시아나토옥탄, 1,12-디이소시아나토도데칸, 1,5-디이소시아나토-2-메틸펜탄, 트리메틸-1,6-디이소시아나토헥산, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 트랜스-1,4-시클로헥센디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), 이소포론디이소시아네이트, 톨루엔-2,4-디이소시아네이트, 톨루엔-2,6-디이소시아네이트, 자일렌-1,4-디이소시아네이트, 테트라메틸자일렌-1,3-디이소시아네이트, 1-클로로메틸-2,4-디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(2,6-디메틸페닐이소시아네이트), 4,4'-옥시비스(페닐이소시아네이트), 헥사메틸렌디이소시아네이트로부터 유도되는 3관능 이소시아네이트, 및 트리메탄프로판올어덕트톨루엔디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.
상기 광경화형 모노머는 구체적으로 분자 내에 광경화형 관능기로서 (메타)아크릴로일기, 비닐기, 스티릴기, 알릴기 등의 불포화 기를 갖는 것으로, 그 중에서도 (메타)아크릴로일기가 보다 바람직하다.
상기 (메타)아크릴로일기를 갖는 모노머는 구체적인 예로 네오펜틸글리콜아크릴레이트, 1,6-헥산디올(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 1,2,4-시클로헥산테트라(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨헥사트리(메타)아크릴레이트, 비스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트, 하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소-덱실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼푸릴(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 및 이소보네올(메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.
상기에서 예시한 광경화형 (메타)아크릴레이트 올리고머 및/또는 광경화형 모노머는 각각 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 투광성 수지의 함량은 특별히 한정하지 않으나, 상기 방현층 형성용 조성물 전체 100중량부에 대하여 1 내지 80중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 투광성 수지의 함량이 1중량부 미만이면 충분한 경도 향상을 도모하기 어려울 수 있고, 80중량부를 초과인 경우 컬링이 심해지는 문제가 있다.
상기 투광성 입자는 일반적으로 방현성을 부여할 수 있는 입자이면 특별히 한정하지는 않는다.
상기 투광성 입자로는 예를 들어 실리카 입자, 실리콘 수지 입자, 멜라민계 수지입자, 아크릴계 수지입자, 스티렌계 수지입자, 아크릴-스티렌계 수지입자, 폴리카보네이트계 수지입자, 폴리에틸렌계 수지입자, 염화비닐계 수지입자 등을 사용 할 수 있다. 상기에서 예시한 투광성 입자들은 각각 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 투광성 입자의 평균 입경은 1 내지 10㎛인 것이 바람직하다. 상기 투광성 입자의 평균 입경이 1㎛ 미만인 경우에는 방현층 표면에 요철을 형성하기가 어려워 방현성이 낮아질 수 있으며 10㎛ 초과인 경우에는 방현층의 표면이 거칠어져 시인성이 떨어질 수 있다.
이러한 투광성 입자는 방현층 형성용 조성물 100중량부에 대하여 0.5 내지 20중량부 포함되는 것이 바람직하다. 상기 투광성 입자의 함량이 0.5중량부 미만인 경우 방현성이 저하될 수 있으며, 20중량부를 초과하는 경우에는 방현층의 백화가 심해질 수 있다.
상기 광개시제는 방현층을 경화시키기 위한 성분으로서, 그 종류는 특별히 한정하지는 않는다. 예컨대, 아세토페논계, 벤조인계, 벤조페논계, 타옥산톤계, 트리아진계 화합물, 벤질케탈계, 포스핀옥사이드계, 알킬페닐케톤계 화합물 등을 들 수 있다. 구체적으로, 디에톡시아세토페논, 디메톡시아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[2-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온 및 이의 올리고머, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 디메톡시-2-페닐아세토페논, 3-메틸아세토페논; 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르; 벤조페논, 메틸 o-벤조일벤조에이트, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4,4-디아미노벤조페논; 티옥산톤계 화합물로는 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤; 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진; 디페닐케톤벤질디메틸케탈; 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,9-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드; 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 4-히드록시시클로페닐케톤 등을 들 수 있다. 또한, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
이러한 광개시제는 방현층 형성용 조성물 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부 사용할 수 있다. 상기 광개시제의 함량이 0.1중량부 미만이면 경화 속도가 늦을 수 있고, 10중량부를 초과하는 경우에는 과경화로 인하여 방현층에 크랙이 발생할 수 있다.
상기 용매는 본 기술분야의 방현층 형성용 조성물의 용매로 알려진 것이라면 제한하지 않고 사용할 수 있다.
상기 용매로는 알코올계(메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브 등), 케톤계(메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등), 헥산계(헥산, 헵탄, 옥탄 등), 벤젠계(벤젠, 톨루엔, 자일렌 등) 등이 사용될 수 있다. 상기 예시된 용매들은 각각 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 용매는 방현층 형성용 조성물 100중량부에 대하여 10 내지 95중량부로 포함될 수 있다. 상기 용매의 함량이 10중량부 미만이면 점도가 높아 작업성이 떨어지고, 95중량부를 초과할 경우에는 경화 과정에서 시간이 많이 소요되고 경제성이 떨어질 수 있다.
본 발명에 따른 방현층 형성용 조성물은 상기한 성분들 이외에도 본 발명의 효과를 저하시키지 않는 범위 내에서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 첨가제를 사용할 수 있다.
상기 첨가제는 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 레벨링제, 계면활성제, 방오제, 비이온계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 더 포함할 수 있다.
이중 그리핀법(Griffin method)에 의한 HLB값이 소정 범위인 화합물(비이온계 화합물)을 배합하는 것이 바람직하다. 상기 그리핀법에 의한 HLB값이 예를 들면 2 이상, 바람직하게는 5이상, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들면 18 이하, 바람직하게는 15 이하의 비이온계 화합물 등을 들 수 있다. HLB값이 적절하게 조정된 비이온계 화합물을 배합함으로써, 하드코트막의 물에 대한 접촉각, 디아이오도메탄에 대한 접촉각 및 표면에너지를 전술한 소정 범위로 조정하기 쉬워진다. 비이온계 화합물은 물에 녹아서 이온성을 나타내지 않는 화합물을 총칭하나, 소수기(친유기)와 친수기의 조합결합으로 구성된다.
이와 같은 화합물로서는, 친수기(예를 들면 폴리알킬렌옥사이드, 히드록실기, 카르복실기, 설포닐기, 인산염, 아미노기, 이소시아네이트기, 글리시딜기, 알콕시실릴기, 암모늄염, 각종 금속염 등)를 적어도 1종 이상 갖는 화합물로서, 예를 들면, 에톡시화 글리세린트리아크릴레이트, 에톡시화 비스페놀 A 디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에테르 변성 아크릴레이트 및 폴리히드록시 변성 아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 용매로의 용해성이나 취급성의 관점에서, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 비이온계 화합물로서는 지방산 에스테르나 폴리에테르 등도 사용할 수 있다.
지방산 에스테르로서는, 1가 알코올 또는 2가 이상의 다가 알코올과 지방산의 축합에 의한 지방산 에스테르를 들 수 있고, 예를 들면, 프로필렌글리콜모노스테아르산에스테르, 프로필렌글리콜모노라우르산에스테르, 디에틸렌글리콜모노스테아르산에스테르, 디에틸렌글리콜모노라우르산에스테르, 글리세롤모노스테아르산에스테르, 소르비탄세스퀴올레산에스테르, 소르비탄모노올레산에스테르, 소르비탄모노스테아르산에스테르, 소르비탄모노팔미트산에스테르, 소르비탄모노라우르산에스테르 등이다. 또한, 지방산 에스테르로서는, 폴리옥시알킬렌 부가 지방산 에스테르도 들 수 있다. 또한, 지방산 에스테르에 산화알킬렌을 부가 중합시킨 비이온계의 화합물을 배합해도 된다. 부가 중합시키는 산화알킬렌으로서는, 산화에틸렌 또는 산화프로필렌이 적합하다. 산화에틸렌 또는 산화프로필렌은 각각 단독으로부가 중합시켜도 되고, 공중합 부가시킨 것이어도 된다. 폴리옥시알킬렌 부가 지방산 에스테르로서는, 예를 들면, 폴리옥시에틸렌 경화 피마자유, 모노스테아르산 폴리옥시에틸렌글리세린, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄모노스테아르산에스테르, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄모노스테아르산에스테르, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄트리스테아르산에스테르, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄모노올레산에스테르, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄모노올레산에스테르, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄트리올레산에스테르, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄모노라우르산에스테르, 폴리옥시에틸렌글리콜 400 모노올레산에스테르, 폴리옥시에틸렌글리콜 400 모노모노스테아르산에스테르, 폴리에틸렌글리콜 400 모노라우르산에스테르, 폴리옥시에틸렌, 소르비탄모노라우르산에스테르 등이다.
또한, 본 예에서는, 지방산 에스테르나 폴리에테르 이외의 화합물로서, 폴리옥시에틸렌콜레스테릴에테르나 폴리옥시에틸렌데실테트라데실에테르 등을 사용해도 된다. 그리핀법에 의한 HLB값이 소정 범위인 화합물은 방현층 형성용 조성물 100중량부에 대하여 0.05 내지 60중량부, 바람직하게는 0.1 내지 15중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 10중량부인 것이 좋다.
상기 방현층 형성용 조성물은 기재필름의 적어도 일면에 코팅되어 방현층이 형성된 방현필름을 제공한다. 코팅 방법은 제한이 없으며, 예를 들어 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드. 캐스팅, 그라비아 및 스핀코팅 등에서 선택되는 적당한 방식으로 실시할 수 있다.
방현층의 두께는 보통 약 0.1㎛ 내지 200㎛이며, 바람직하게는 약 1㎛ 내지 50㎛ 이고, 가장 바람직하게는 3㎛ 내지 30㎛ 이다.
상기 방현층 형성용 조성물을 도포한 후, 30 내지 150℃의 온도에서 10초 내지 1시간, 바람직하게는 30초 내지 10분 동안 휘발물의 증발에 의해서 건조시킨다. 건조가 완료되면 방현층 형성용 조성물을 경화시킨다. 광경화의 경우, 질소 또는 공기 분위기 하에서 UV광을 조사하여 방현층 형성용 조성물을 경화시켜 방현층을 형성한다. 상기 UV광의 조사량은 약 0.01 내지 10J/cm2이고, 바람직하게는 0.1 내지 2J/cm2이다.
또한, 상기 방현필름은 후술할 표면 보호필름과의 접합을 용이하게 하기 위하여 검화액에 의한 검화 공정을 실시할 수 있다.
상기 검화액은 알칼리제를 포함하는 용액으로서, 구체적으로 알칼리제로는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리제; 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 트리이소프로필아민, n-부틸아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 모노이소프로판올아민, 디이소프로판올아민 등의 유기 알칼리제; 또는 이들의 할로겐화 염을 사용할 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 수산화나트륨, 수산화칼륨이 함량 조절에 따라 폭넓은 영역에 걸쳐 pH의 조정이 가능하다는 면에서 바람직하다. 알칼리제의 농도는 1.0 내지 5.0N인 것이 바람직하다. 알칼리제의 농도가 1.0N 미만이거나 5.0N을 초과하는 경우에는 검화 속도가 저하되고 검화도의 불균일성을 초래할 수 있다.
상기 검화액의 온도(T)는 30 내지 70℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 내지 60℃인 것이 좋다.
또한, 검화 공정은 침지 또는 도포방법 등을 이용하여 수행할 수 있으며, 검화 활성화를 위해, 검화액을 도포한 다음, 약 40 내지 50초간 방지하는 것이 보다 바람직하다.
상기 표면 보호필름은 상술한 기재필름과 동일하다.
상기 표면 보호필름의 일면에 점착제층을 부착하고, 이를 상기 방현필름에 접합시켜 광학적층필름을 제조한다.
이 때, 상기 표면 보호필름의 점착면은 25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 방현필름 상에 압착함으로써 광학적층필름을 제조할 수 있다.
본 발명은 상술한 본 발명에 따른 광학적층필름이 포함된 편광판을 제공한다.
즉, 본 발명의 편광판은 통상의 편광자의 일면 또는 양면에 상술한 본 발명에 따른 광학적층필름을 접합하여 형성된 것일 수 있다. 상기 편광자는 적어도 일면에 보호필름이 포함된 것일 수도 있다.
이하, 본 발명을 하기의 실시예 및 비교예에 의하여 보다 구체적으로 설명될 것이며, 하기의 실시예는 본 발명의 구체적인 일부 예시에 불과하고, 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것은 아니다.
제조예 1: 방현층 형성용 조성물
제조예 1-1
우레탄아크릴레이트(SC2153, 미원상사) 20중량부, ?타에리스리톨트리아크릴레이트(M340, 미원상사) 20중량부, 투광성 입자(유기 실리콘 화합물 코팅 무정형 입자, 표면적 500m2/g, 평균입경 2.7um(후지실리시아케미칼사) 2중량부, 메틸에틸케톤(대정화금) 20중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(대정화금) 35중량부, 광개시제(I-184, 시바사) 2.5중량부 및 레벨링제(BYK3530, BYK 케미사) 0.5중량부를 교반기를 이용하여 배합하고, PP재질의 필터를 이용하여 여과하여 방현층 형성용 조성물을 제조하였다.
제조예 1-2
우레탄아크릴레이트(SC2153, 미원상사) 20중량부, ?타에리스리톨트리아크릴레이트(M340, 미원상사) 20중량부, 투광성 입자(유기 실리콘 화합물 코팅 무정형 입자, 표면적 500m2/g, 평균입경 2.7um(후지실리시아케미칼사) 2중량부, 메틸에틸케톤(대정화금) 20중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(대정화금) 35중량부, 광개시제(시바사, I-184) 3중량부를 교반기를 이용하여 배합하고, PP재질의 필터를 이용하여 여과하여 방현층 형성용 조성물을 제조하였다.
실시예 : 광학적층필름
실시예 1
제조예 1-1의 방현층 형성용 조성물을 1시간 동안 교반하고, 이를 투명기재필름(후지사, 두께 60um, TAC, 표면에너지 51.1mN/m) 일면에 두께가 5um가 되도록 마이어바로 도포한 다음, 80℃에서 2분 동안 건조하였다. 그 다음, 720mJ/cm2의 조사량으로 질소 분위기에서 경화시켜서 표면처리층의 표면에너지가 34.2mN/m인 방현필름을 제조하였다. 그 다음, 상기 제조된 방현필름을 농도가 3N인 알칼리제(KOH)를 포함하는 50℃의 검화액에 40초 동안 침지하여 검화하였다. 상기 검화한 방현필름 상에, 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 2
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF (표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 3
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 4
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 질소 분위기 대신에, 공기 분위기에서 경화시켜서 표면처리층의 표면에너지가 53.94mN/m의 방현필름을 제조하였다. 그 다음, 상기 제조된 방현필름을 농도가 3N인 알칼리제(KOH)를 포함하는 50℃의 검화액에 40초 동안 침지하여 검화하였다. 상기 검화한 방현필름 상에, 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 5
상기 실시예 4과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF (표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 6
상기 실시예 4과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 7
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 질소 분위기 대신에, 공기 분위기에서 경화시켜서 표면처리층의 표면에너지가 44.19mN/m의 방현필름을 제조하였다. 상기 방현필름의 검화 공정을 생략하고, 상기 방현필름 상에 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 8
상기 실시예 7과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF (표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 9
상기 실시예 7과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 10
제조예 1-2의 방현층 형성용 조성물을 1시간 동안 교반하고, 이를 투명기재필름(후지사, 두께 60um, TAC, 표면에너지 51.1mN/m) 일면에 두께가 5um가 되도록 마이어바로 도포한 다음, 80℃에서 2분 동안 건조하였다. 그 다음, 720mJ/cm2의 조사량으로 질소 분위기에서 경화시켜서 표면처리층의 표면에너지가 47.77mN/m의 방현 필름을 제조하였다. 상기 방현필름의 검화 공정을 생략하고, 상기 방현필름 상에, 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 11
상기 실시예 10과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF (표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 12
상기 실시예 10과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 13
제조예 1-2의 방현층 형성용 조성물을 1시간 동안 교반하고, 이를 투명기재필름(후지사, 두께 60um, TAC, 표면에너지 51.1mN/m) 일면에 두께가 5um가 되도록 마이어바로 도포한 다음, 80℃에서 2분 동안 건조하였다. 그 다음, 720mJ/cm2의 조사량으로 공기 분위기에서 경화시켜서 표면처리층의 표면에너지가 48.39mN/m의 방현 필름을 제조하였다. 상기 방현필름의 검화 공정을 생략하고, 상기 방현필름 상에 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 14
상기 실시예 13과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF (표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
실시예 15
상기 실시예 10과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 1
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 표면처리층의 표면에너지가 27.3mN/m의 방현필름을 제조하였다. 상기 방현필름의 검화 공정을 생략하고, 상기 방현필름 상에 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 2
상기 비교예 1과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF(표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 3
상기 비교예 1과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 4
제조예 1-2의 방현층 형성용 조성물을 1시간 동안 교반하고, 이를 투명기재필름(후지사, 두께 60um, TAC, 표면에너지 51.1mN/m) 일면에 두께가 5um가 되도록 마이어바로 도포한 다음, 80℃에서 2분 동안 건조하였다. 그 다음, 720mJ/cm2의 조사량으로 질소 분위기에서 경화시켜서 표면처리층의 표면에너지가 71.26mN/m의 방현 필름을 제조하였다. 상기 방현필름의 검화 공정을 생략하고, 상기 방현필름 상에 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 5
상기 비교예 4과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF(표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 6
상기 비교예 4과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 7
제조예 1-2의 방현층 형성용 조성물을 1시간 동안 교반하고, 이를 투명기재필름(후지사, 두께 60um, TAC, 표면에너지 51.1mN/m) 일면에 두께가 5um가 되도록 마이어바로 도포한 다음, 80℃에서 2분 동안 건조하였다. 그 다음, 720mJ/cm2의 조사량으로 공기 분위기에서 경화시켜서 표면처리층의 표면에너지가 76.09mN/m의 방현 필름을 제조하였다. 그 다음, 상기 제조된 방현필름을 농도가 3N인 알칼리제(KOH)를 포함하는 50℃의 검화액에 40초 동안 침지하여 검화하였다. 상기 검화한 방현필름 상에, 점착제층을 구비한 표면 보호필름(후지모리사, FT-PF, 표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m)의 점착면을 0.25MPa의 압력, 0.3m/분의 속도로 압착하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 8
상기 비교예 7과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 엘지화학의 GT-PF (표면에너지 23mN/m, 점착에너지 1.9X106 mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
비교예 9
상기 비교예 7과 동일하게 실시하되, 표면 보호필름으로 후지모리사의 FT-PF(표면에너지 31.1mN/m, 점착에너지 2.4X106mN/m) 대신에 니토덴토사의 NT-PF(표면에너지 18mN/m, 점착에너지 1.3X106mN/m)을 사용하여 광학적층필름을 제조하였다.
<측정방법>
상기 실시예 및 비교예의 표면처리층 및 표면 보호필름의 표면에너지와 표면 보호필름의 점착에너지를 하기와 같은 방법으로 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
1) 표면에너지
1. 내수 접촉각
상온(25℃)에서 방현필름 표면에 물방울을 적하한 후, 1분 후에 접촉각 측정기(KSV사, CAM100)를 사용하여 물방울에 대한 접촉각을 측정하였다. 접촉각은 물방울의 좌우 접촉각을 같은 시료로 3번을 측정하여 그 평균치를 사용하였다.
2. 내유 접촉각
상온(25℃)에서 방현필름 표면에 디아이오도메탄방울을 적하한 후, 1분 후에 접촉각 측정기(KSV사, CAM100)를 사용하여 디아이오도메탄방울에 대한 접촉각을 측정하였다. 접촉각은 디아이오도메탄방울의 좌우 접촉각을 같은 시료로 3번을 측정하여 그 평균치를 사용하였다.
상기와 같이 측정된 내수 접촉각 값과 내유 접촉각 값을 하기의 OWRK(Owen, Wendt, Rabel and Kaelble) 식을 이용하여 표면에너지를 도출하였다.
Figure pat00003
2) 점착에너지
점착력 측정은 SUS #304 스테인레스 강판에 너비 25mm, 길이 250mm의 표면 보호필름(후지모리사 FT-PF, 엘지화학 GT-PF, 니토덴토사 NT-PF)을 붙인 후, 2kg 하중의 압착 롤러를 이용하여 300mm/min의 속도로 1회 왕복시켜 압착하였다. 24시간 경과 후 표면 보호필름을 180°의 각도에서 접어, 약 25mm를 벗긴 후, 강판을 아래쪽에, 표면 보호필름을 인장강도기(세진시험기술사, SJTA-034HSD)의 위쪽 클립에 고정시키고, 30m/min의 인장속도로 당겨 벗길 때의 하중을 측정하였다.
구분 표면처리층
표면에너지
(mN/m)		 표면 보호필름 표면에너지(mN/m) 표면 보호필름 점착에너지
(mN/m)		 수학식 1
표면처리층의 표면에너지×
(표면 보호필름의 점착에너지/
표면 보호필름의 표면에너지
(mN/m)
실시예1 34.2 31.1 2.4×106 2.6×106
실시예2 34.2 23 1.9×106 2.8×106
실시예3 34.2 18 1.3×106 2.4×106
실시예4 53.94 31.1 2.4×106 4.2×106
실시예5 53.94 23 1.9×106 4.4×106
실시예6 53.94 18 1.3×106 3.8×106
실시예7 44.19 31.1 2.4×106 3.4×106
실시예8 44.19 23 1.9×106 3.6×106
실시예9 44.19 18 1.3×106 3.1×106
실시예10 47.77 31.1 2.4×106 3.7×106
실시예11 47.77 23 1.9×106 3.9×106
실시예12 47.77 18 1.3×106 3.4×106
실시예13 48.39 31.1 2.4×106 3.7×106
실시예14 48.39 23 1.9×106 4.0×106
실시예15 48.39 18 1.3×106 3.4×106
비교예1 25.3 31.1 2.3×106 1.8×106
비교예2 23.3 23 1.9×106 1.9×106
비교예3 27.3 18 1.3×106 1.9×106
비교예4 71.26 31.1 2.4×106 5.5×106
비교예5 71.26 23 1.9×106 5.8×106
비교예6 71.26 18 1.3×106 5.1×106
비교예7 76.09 31.1 2.4×106 5.9×106
비교예8 76.09 23 1.9×106 6.2×106
비교예9 76.09 18 1.3×106 5.4×106
시험예
상기 실시예 및 비교예의 광학적층필름의 물성을 하기와 같은 방법으로 측정하고 그 결과를 표 2에 나타내었다.
1)들뜸 평가
광학적층필름을 25℃, 50RH의 환경하에 24시간 방치하여, 방현필름의 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 들뜸이 발생했는지의 여부를 육안으로 관찰을 실시한 후 하기와 같은 기준에 따라서 평가하였다.
<평가기준>
○: 들뜸
×: 들뜨지 않음
2)박리 평가
광학적층필름을 25℃, 50RH%의 환경하에 24시간 방치한 다음, 같은 환경하에서 니치방 테이프(CT-24)를 이용하여 표면 보호필름의 점착테이프를 0.3m/분의 박리속도, 180°의 박리각도로 박리하였다. 방현필름의 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 박리여부는 하기와 같은 기준에 따라서 평가하였다.
<평가기준>
○: 박리됨
×: 박리되지 않음
구분 수학식 1
표면처리층의 표면에너지×
(표면 보호필름의 점착에너지/
표면 보호필름의 표면에너지
(mN/m)		 내수
접촉각
(°)		 내유
접촉각
(°)		 들뜸 박리
실시예1 2.6×106 80.36 61 × ○
실시예2 2.8×106 80.36 61 × ○
실시예3 2.4×106 80.36 61 × ○
실시예4 4.2×106 58.76 36.17 × ○
실시예5 4.4×106 58.76 36.17 × ○
실시예6 3.8×106 58.76 36.17 × ○
실시예7 3.4×106 86.05 33.25 × ○
실시예8 3.6×106 86.05 33.25 × ○
실시예9 3.1×106 86.05 33.25 × ○
실시예10 3.7×106 70.59 37.22 × ○
실시예11 3.9×106 70.59 37.22 × ○
실시예12 3.4×106 70.59 37.22 × ○
실시예13 3.7×106 69.08 37.35 × ○
실시예14 4.0×106 69.08 37.35 × ○
실시예15 3.4×106 69.08 37.35 × ○
비교예1 1.8×106 97.96 64.11 ○ ○
비교예2 1.9×106 97.96 64.11 ○ ○
비교예3 1.9×106 97.96 64.11 ○ ○
비교예4 5.5×106 23.87 40.92 × ×
비교예5 5.8×106 23.87 40.92 × ×
비교예6 5.1×106 23.87 40.92 × ×
비교예7 5.9×106 6.36 40.52 × ×
비교예8 6.2×106 6.36 40.52 × ×
비교예9 5.4×106 6.36 40.52 × ×
상기 표 2에서 나타낸 바와 같이, 수학식 1의 범위를 만족하는 실시예 1 내지 15의 광학적층필름은 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 들뜸 및 미박리가 발생되지 않는다는 것을 확인할 수 있었다.
반면에 비교예 1 내지 3의 광학적층필름은 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 박리는 가능하나, 들뜸이 발생되며, 비교예 4 내지 9의 광학적층필름은 표면처리층과 표면 보호필름 사이에 들뜸은 발생되지 않으나, 미박리가 발생된다는 것을 확인할 수 있었다.

Claims (5)

  1. 기재필름 상에 표면처리층이 형성되고, 상기 표면처리층 상에 표면 보호필름이 적층된 광학적층필름으로,
    상기 광학적층필름은 하기 수학식 1이 2.0×106mN/m초과 내지 5.0×106mN/m 미만의 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는 광학적층필름:
    [수학식 1]
    표면처리층의 표면에너지×(표면 보호필름의 점착에너지/표면 보호필름의 표면에너지)
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 수학식 1은 2.4×106mN/m 내지 4.0×106mN/m의 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는 광학적층필름.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 표면처리층은 방현층, 저굴절층 및 하드코팅층로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 광학적층필름.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 표면처리층은 기재필름 상에 표면처리층 형성용 조성물이 코팅된 코팅층인 것을 특징으로 하는 광학적층필름.
  5. 청구항 1 내지 4중 어느 한 항의 광학적층필름이 포함된 것을 특징으로 하는 편광판.

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