KR20140048110A - 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 ｏｌｅｄ에 의한 고상 조명 창을 위한 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 실시형태는 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 제공하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED는 투명 애노드 및 투명 캐소드를 갖는 기판인, 미러 기판 등의 미러를 포함할 수 있다. 미러에 의해, 광의 가시 스펙트럼의 적어도 일부를 통과시키면서 또한 광의 가시 스펙트럼의 적어도 다른 일부를 반사시키는 것이 가능할 수 있다. 미러는, 미러의 제1 면상에 입사한, OLED의 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 일부를 반사할 수 있는 한편, 미러의 제2 면상에 입사한 가시광의 다른 일부가 미러를 통과하게 할 수 있다.
Description
[관련 출원에 대한 교차 참조]
본 출원은 임의의 수치, 표 또는 도면을 포함하여 개시 내용 전체가 본 명세서에 참조로 포함된, 2011년 4월 5일에 출원된 미국 가출원 제61/472,088호의 우선권을 주장한다.
유기 발광 디바이스(OLED)는 유기 재료를 포함하며 광을 방출한다. 투명 OLED는 상부 전극 및 하부 전극을 포함하며, 둘 다 투명 전극이다. 종래의 배면 발광(bottom-emitting) 또는 전면 발광(top-emitting) 중 하나일 수 있는 일면(one-sided) OLED는 일반적으로 반사 전극 및 투명 전극을 포함한다. 두 경우 모두, 유기 발광 층이 전극들 사이에 포함된다.
본 발명의 실시형태는 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 제공하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 적어도 부분적으로 투명하다는 것은, OLED에 의해 가시 스펙트럼의 적어도 일부가 통과하는 것이 가능함을 의미한다. 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED는 투명 애노드 및 투명 캐소드를 갖는 기판인, 미러 기판(mirror substrate) 등의 미러를 포함할 수 있다. 미러에 의해, 광의 가시 스펙트럼의 적어도 일부는 통과시키면서 또한 광의 가시 스펙트럼의 적어도 다른 일부는 반사시키는 것이 가능하다. 예를 들어, 미러는, 미러의 제1면 상에 입사한, OLED의 발광 층(예를 들어, 유기 발광 층)에 의해 방출된 가시광의 적어도 일부를 반사하면서, 미러의 제2면 상에 입사한 가시광의 다른 일부가 미러를 통과하게 할 수 있다. 실시형태에서, OLED는 유전체 스택 미러, 산화 인듐 주석(ITO:indium tin oxide), 하부 애노드 전극 및 Mg:Ag 상부 캐소드 전극을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시형태는 또한 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 포함하는 조명 창(lighting window)을 제공하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 이용하여 창을 제조할 경우, OLED 광은 주로 한 방향으로만 방출되므로, 예를 들어 주간에는 외부를 보는 것이 가능하며 예를 들어 야간에는 일면 발광 OLED가 광원으로서 작용하게 하는 것이 가능하다. 이는 OLED의 유기 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 일부를 반사하는 미러를 포함함으로써 실현될 수 있다. 창은 OLED가 발광하는 한 방향이 건물 또는 다른 구조물의 내부를 향하고 주변으로 나가지 않도록 배열될 수 있다.
본 발명의 실시형태에서, 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED는 유전체 스택 미러 기판을 포함할 수 있다. OLED는 투명 애노드 전극, 유기 발광 층 및 투명 캐소드 전극을 추가로 포함할 수 있다. 구체적인 실시형태에서, 유전체 스택 미러 기판은 Ta2O5 및 SiO2의 교호층(alternating layer)을 포함할 수 있다. 특정 실시형태에서, OLED는: 유리 기판; Ta2O5 및 SiO2의 교호층을 포함하는, 유리 기판상의 유전체 스택 미러; ITO를 포함하는, 유전체 스택 미러 상의 투명 애노드 전극; 투명 애노드 전극 상의 정공 수송 층; 정공 수송 층 상의 유기 발광 층; 및 유기 발광 층 상의 투명 캐소드 전극으로서, 상기 투명 캐소드 전극은 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함하고, Mg:Ag 층은 두께가 30 nm 미만이고, Mg 및 Ag는 10:1(Mg:Ag)의 비로 존재하고, Alq3 층은 두께가 0 nm 내지 200 nm인 투명 캐소드 전극을 포함할 수 있다.
본 발명의 추가 실시형태에서, 조명 창은 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 추가 실시형태에서, 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 제조하는 방법은: 미러를 형성하는 단계; 미러 상에 투명 애노드 전극을 형성하는 단계; 투명 애노드 전극 상에 유기 발광 층을 형성하는 단계; 및 유기 발광 층 상에 투명 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 미러는, 예를 들어 굴절율이 상이한 2개의 유전체 재료의 교호층을 포함하는 유전체 스택 미러일 수 있다.
도 1a 및 1b는 본 발명의 실시형태에 따른 조명 창의 주간(도 1a) 및 야간(도 1b)의 작동 원리를 도시한다.
도 2a는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED에 포함될 수 있는 유전체 스택 미러의 단면도를 도시한다.
도 2b는 도 2a의 유전체 스택 미러의 투과율 스펙트럼을 도시한다.
도 3a는 본 발명의 실시형태에 따른 투명 일면 발광 OLED를 통해 본 투명 이미지를 도시한다.
도 3b는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED의 단면도를 도시한다.
도 3c는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED의 전류 밀도 및 루미네선스(luminescence) 대 전압을 도시한다.
도 3d는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED의 전류 효율 대 전류 밀도를 도시한다.
도 2a는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED에 포함될 수 있는 유전체 스택 미러의 단면도를 도시한다.
도 2b는 도 2a의 유전체 스택 미러의 투과율 스펙트럼을 도시한다.
도 3a는 본 발명의 실시형태에 따른 투명 일면 발광 OLED를 통해 본 투명 이미지를 도시한다.
도 3b는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED의 단면도를 도시한다.
도 3c는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED의 전류 밀도 및 루미네선스(luminescence) 대 전압을 도시한다.
도 3d는 본 발명의 실시형태에 따른 OLED의 전류 효율 대 전류 밀도를 도시한다.
본 명세서에서 용어 "상 또는 위(on 또는 over)"가 사용될 때, 층들, 영역들, 패턴들 또는 구조물들을 지칭할 경우, 층, 영역, 패턴 또는 구조물이 다른 층 또는 구조물 바로 위에 존재할 수 있거나, 개재된 층들, 영역들, 패턴들 또는 구조물들이 또한 존재할 수 있는 것으로 이해된다. 본 명세서에서 용어 "하 또는 아래(under 또는 below)"가 사용될 때, 층들, 영역들, 패턴들 또는 구조물들을 지칭할 경우, 층, 영역, 패턴 또는 구조물이 다른 층 또는 구조물 바로 아래에 존재할 수 있거나, 개재된 층들, 영역들, 패턴들 또는 구조물들이 또한 존재할 수 있는 것으로 이해된다. 본 명세서에서 용어 "바로 위(directly on)"가 사용될 때, 층들, 영역들, 패턴들 또는 구조물들을 지칭할 경우 개재된 층들, 영역들, 패턴들 또는 구조물들이 존재하지 않도록 층, 영역, 패턴 또는 구조물이 다른 층 또는 구조물 바로 위에 존재하는 것으로 이해된다.
본 명세서에서 수치와 함께 용어 "약(about)"이 사용된 경우, 수치는 수치의 95% 내지 수치의 105%의 범위일 수 있으며, 즉 수치는 언급된 수치의 +/- 5% 일수 있는 것으로 이해된다. 예를 들어, "약 1 kg"은 0.95 kg 내지 1.05 kg을 의미한다.
본 명세서에서 용어 "OLED"와 함께 용어 "적어도 부분적으로 투명한"이 사용된 경우(예를 들어, "적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED", "적어도 부분적으로 투명한 OLED"), 미러 및/또는 미러 기판을 포함할 수 있는 OLED에 의해 광의 가시 스펙트럼의 적어도 일부가 OLED를 통과하는 것이 가능한 것으로 이해된다. 본 명세서에서 용어 "애노드", "캐소드" 또는 "전극"과 함께 용어 "투명한"이 사용된 경우, 애노드, 캐소드 또는 전극에 의해, 발광층에 의해 생성된 광이 상당한 반사 없이 애노드, 캐소드 또는 전극을 통과하는 것이 가능한 것으로 이해된다.
본 발명의 실시형태는 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 제공하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED는 투명 애노드 전극 및 투명 캐소드 전극을 갖는 미러 기판을 포함할 수 있다. 미러에 의해 광의 가시 스펙트럼의 적어도 일부를 통과시키면서 또한, 광의 가시 스펙트럼의 적어도 다른 일부를 반사시키는 것이 가능할 수 있다. 예를 들어, 미러는 OLED의 발광층(예를 들어, 유기 발광 층)에 의해 방출된 가시광의 적어도 일부를 반사할 수 있다. 실시형태에서, OLED는 유전체 스택 미러, 산화 인듐 주석(ITO) 하부 애노드 전극 및 Mg:Ag 상부 캐소드 전극을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시형태는 또한 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 포함하는 조명 창을 제공하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 이용하여 창을 제조할 경우, OLED 광은 주로 한 방향으로만 방출되므로, 유리하게는, 예를 들어 주간에는 외부를 보고, 예를 들어 야간에는 일면 발광 OLED가 광원으로서 작용하도록 하는 것이 가능하다. 창은 OLED가 발광하는 한 방향이 건물 또는 다른 구조물을 향하도록 하고 주변으로 나가지 않도록 배열될 수 있다.
본 발명의 실시형태에서, 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED는 유전체 미러 기판 등의 미러 기판을 포함할 수 있다. OLED는 투명 애노드 전극, 유기 발광 층 및 투명 캐소드 전극을 추가로 포함할 수 있다. 구체적인 실시형태에서, 미러는 유전체 스택 미러일 수 있으며 Ta2O5 및 SiO2의 교호층을 포함할 수 있다. 특정 실시형태에서, OLED는: 유리 기판; Ta2O5 및 SiO2의 교호층을 포함하는, 유리 기판상의 유전체 스택 미러; ITO를 포함하는, 유전체 스택 미러 상의 투명 애노드 전극; 투명 애노드 전극 상의 정공 수송 층; 정공 수송 층 상의 유기 발광 층; 및 유기 발광 층 상의 투명 캐소드 전극으로서, 상기 투명 캐소드 전극은 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함하고, Mg:Ag 층은 두께가 30 nm 미만이고, Mg 및 Ag는 10:1(Mg:Ag)의 비로 존재하고, Alq3 층은 두께가 0 nm 내지 200 nm인 투명 캐소드 전극을 포함할 수 있다.
본 발명의 추가 실시형태에서, 조명 창은 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 추가 실시형태에서, 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 제조하는 방법은: 미러를 형성하는 단계; 미러 상에 투명 애노드를 형성하는 단계; 투명 애노드 상에 유기 발광 층을 형성하는 단계; 및 유기 발광 층 상에 투명 캐소드를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 미러는, 예를 들어 굴절율이 상이한 2개의 유전체 재료의 교호층을 포함하는 유전체 스택 미러일 수 있다.
본 명세서에 설명된 바와 같은 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED를 포함하는 조명 창은, 주간에는 외부를 보는 것이 가능하면서 외부가 어두울 때는 조명원이 되는 것이 가능하도록, 특정 파장 또는 파장들을 갖는 광에 대해 투명할 수 있다. OLED 광은 한 방향으로 방출되며 조명 창은 광이 건물 또는 다른 구조물로 방출되고 주변으로는 방출되지 않도록 배열될 수 있다. 실시형태에서, 적어도 부분적으로 투명한 OLED는 광의 가시 스펙트럼 일부에 대해 투명한 한편, 광의 가시 스펙트럼의 다른 일부를 반사할 수 있다. 조명 창의 OLED는: 가시 스펙트럼의 소정 범위의 파장을 갖는 광을 방출하는 발광 층(예를 들어, 유기 발광 층); 및 OLED의 발광 층에 의해 방출되는 광의 적어도 일부를 반사하는 미러를 포함할 수 있다. 미러는 또한 OLED에 의해 방출되지 않는 광의 가시 스펙트럼의 적어도 일부에 대해 투명할 수 있다.
도 1a에 있어서, 예를 들어 외부 주변으로부터의 입사광(20)이 유리 기판상에 입사할 수 있으며, 장치가 가시광(20)에 대해 적어도 부분적으로 투명하고 예를 들어 주간에 내부에서 외부 주변을 보기 위해 장치가 사용될 수 있도록, 입사광의 일부가 장치를 통해 이동할 수 있다. 도 1b에 있어서, 장치는 예를 들어 외부가 어두운 야간에 광(25,27)을 발생시키기 위해 사용될 수 있으며, 그의 많은 비율(약 90% 또는 >90%)이 한 방향(25)으로 투과되는 반면, 적은 분획(약 10% 또는 <10%) 만이 반대 방향(27)으로 소실된다. 이 방식에서, 광의 많은 부분이 한 방향으로 투과되므로 이 OLED를 일면 OLED로 지칭한다. 생성된 대다수의 광(25)이 목적하는 위치(예를 들어, 건물 또는 구조물 내부에 또는 외부에서 광을 필요로 하는 영역을 향해)에 제공되는 한편, 적은 부분만이 반대 방향(27)으로 소실되도록 장치가 배치될 수 있다. 장치는 선택적으로 유리 기판(60) 및/또는 하나 이상의 투명 전극 층(30)을 포함할 수 있다. 장치는 또한 가시성 미러(80) 및 유기 발광 층(90)을 포함할 수 있다. 구체적인 실시형태에서, 가시성 미러에 의해 적외선(IR) 조사가 미러를 통과하는 것이 가능할 수 있다.
도 2a에 있어서, 본 발명의 실시형태에 따른 장치에 포함될 수 있는 유전체 스택 미러(100)는 굴절율(n)이 상이한 유전체 재료(37,39)의 교호층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 비록 실시형태가 이에 제한되지는 않지만, n이 더 높은 재료(37)는 Ta2O5일 수 있고, n이 더 낮은 재료(39)는 SiO2일 수 있다. 각 층(37,39)의 두께는 약 10 nm 내지 약 100 nm일 수 있고, 각 종류의 층이 1 내지 40개(수량) 존재할 수 있다.
유전체 스택 미러(100)는 선택적으로 유리 기판(60)에 인접하여 배치되고/배치되거나 ITO 층(35) 등의 OLED 전극에 인접하여 배치될 수 있다. 실시형태에서, 유전체 스택 미러(100)는 적외선(IR) 및/또는 가시광 스펙트럼의 일부와 같은 특정 파장 범위(또는 범위들)의 광(21)에 대해 투명할 수 있는 한편, 가시광 스펙트럼의 다른 일부와 같은 특정 파장 범위(또는 범위들)의 광(22)을 반사할 수 있다. 즉, 유전체 스택 미러(100)는 특정 파장 범위(또는 범위들)의 광(21)에 대해 약 10% 또는 <10%의 반사율을 가질 수 있는 한편, 특정 파장 범위(또는 범위들)의 광(22)에 대해 약 90% 또는 >90%의 반사율을 가질 수 있다. 예를 들어, 유전체 스택 미러(100)는 (적어도) 적외선(IR) 및/또는 적색 광에 대해 투명할 수 있는 반면, (적어도) 녹색 광은 반사할 수 있다. 구체적인 실시형태에서, 유전체 스택 미러는 발광 층에 의해 생성된 광을 반사한다.
특정 실시형태에서, 유전체 스택 미러는 Ta2O5 및 SiO2의 교호층을 포함할 수 있다. 각 Ta2O5 층의 두께는, 예를 들어 약 10 nm 내지 약 100 nm일 수 있으며, 각 SiO2 층의 두께는, 예를 들어 약 10 nm 내지 약 100 nm일 수 있다. 유전체 스택 미러는, 예를 들어, N개의 Ta2O5 층을 포함할 수 있으며, SiO2 층의 수는 N-1 내지 N+1의 범위이고, N은 1 내지 40의 범위이다.
도 2b에 있어서, 실시형태에서, 유전체 스택 미러(100)는 475 nm 내지 550 nm 범위의 파장을 갖는 광에 대해 98% 초과의 반사율을 가질 수 있고, 440 nm 또는 600 nm의 파장을 갖는 광에 대해 적어도 80%의 투과율(즉, 20% 이하의 반사율)을 가질 수 있다. 유전체 스택 미러는 적색 광에 투명하므로 유전체 스택 미러를 통과하는 광은 밝은 적색계열 외양을 가질 수 있어서, 유전체 스택 미러(100)를 통해 보면 도 3a의 이미지와 같이 나타날 수 있다.
도 3b에 있어서, 실시형태에서, 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED(200)는 미러(100)(예를 들어, 유전체 스택 미러), 미러(100) 상의 투명 애노드 전극(37), 투명 애노드 전극(37) 상의 유기 발광 층(220), 및 유기 발광 층(220) 상의 투명 캐소드 전극(230)을 포함할 수 있다. OLED(200)는 선택적으로 미러(100) 아래에 유리 기판(60)을 포함할 수 있다. OLED(200)는 또한 선택적으로 투명 애노드 전극(37) 위 및 유기 발광 층(220) 아래에 정공 수송 층(210)을 포함할 수 있다. OLED(200)는 또한 선택적으로 전자 수송 층(미도시)을 포함할 수 있다.
실시형태에서, 유전체 스택 미러(100)는 Ta2O5 및 SiO2의 교호층을 포함할 수 있다. 각 Ta2O5 층은 두께가 약 10 nm 내지 약 100 nm일 수 있고 각 SiO2 층은 두께가 약 10 nm 내지 약 100 nm일 수 있다. 유전체 스택 미러(100)는 N개의 Ta2O5 층을 포함할 수 있으며, SiO2 층의 수는 N-1 내지 N+1의 범위이고, N은 1 내지 40의 범위이다.
유기 발광 층(220)은, 비록 실시형태가 이에 제한되지는 않지만, 예를 들어 이리듐 트리스(2-페닐피리딘)(Iridium tris(2-phenylpyidine))(Ir(ppy)3), [2-메톡시-5-(2-에틸헥실옥시)-p-페닐렌비닐렌]([2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-p-phenylenevinylene])(MEH-PPV), 트리스-(8-퀴놀리놀레이토)알루미늄(Tris-(8-quinolinolato) aluminum))(Alq3), 및/또는 비스[(4,6-디-플루오로페닐)-피리디네이트]피콜리네이트(bis[(4,6-di-fluorophenyl)-pyridinate-]picolinate)(Flrpic)를 포함할 수 있다. 정공 수송 층(210)은, 비록 실시형태가 이에 제한되지는 않지만, (N,N'-디-[(1-나프탈레닐)-N, N'-디페닐]-(1,1'-비페닐)-4,4'-디아민)((N,N'-di-[(1-naphthalenyl)-N, N'-diphenyl]-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine))(NPB), 1,1-비스((디-4-톨릴아미노)페닐)시클로헥산(1,1-bis((di-4-tolylamino)phenyl) cyclohexane)(TAPC), (폴리(9,9-디옥틸플루오렌-co-N-(4-부틸페닐)디페닐아민))((poly(9,9-dioctylfluorene-co-N-(4-butylphenyl)diphenylamine)))(TFB), 및/또는 디아민 유도체(diamine derivative)(TPD)를 포함할 수 있다. 전자 수송 층(미도시)은 비록 실시형태가 이에 제한되지는 않지만, BCP, Bphen, 3TPYMB, 및/또는 Alq3를 포함할 수 있다. 투명 애노드 전극(37)은, 비록 실시형태가 이에 제한되지는 않지만, 산화 인듐 주석(ITO:indium tin oxide), 탄소 나노튜브(CNTs:carbon nanotubes), 산화 인듐 아연(IZO:indium zinc oxide), 은 나노와이어, 또는 마그네슘:은/Alq3(Mg:Ag/Alq3) 스택 층을 포함할 수 있다. 투명 캐소드 전극(230)은, 비록 실시형태가 이에 제한되지는 않지만, ITO, CNTs, IZO, 은 나노와이어, 또는 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함할 수 있다.
실시형태에서, 투명 캐소드 전극(230)은 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함할 수 있다. Mg:Ag 층(231)의 두께는 30 nm 미만일 수 있다. 특정 실시예에서, Mg:Ag 층(231)의 두께는 약 10 nm일 수 있다. 추가 실시형태에서, Mg:Ag 층(231)의 두께는 11 nm일 수 있다. Mg 및 Ag는 10:1(Mg:Ag) 또는 약 10:1(Mg:Ag)의 비로 존재할 수 있다. Alq3 층(232)의 두께는 0 nm 내지 200 nm일 수 있다. 특정 실시형태에서, Alq3 층(232)의 두께는 약 50 nm일 수 있다. 추가 실시형태에서, Alq3 층(232)의 두께는 50 nm일 수 있다.
투명 애노드 전극(37), 유기 발광 층(220), 정공 수송 층(210)(존재할 경우) 및 전자 수송 층(존재할 경우)은 각각 두께가 약 10 nm 내지 약 500 nm일 수 있다. 더 구체적으로, 이들 층 각각은 두께가 약 40 nm 내지 약 200 nm일 수 있다. 특정 실시형태에서, 투명 애노드 전극(37)은 두께가 약 110 nm일 수 있고, 유기 발광 층(220)은 두께가 약 70 nm일 수 있으며, 정공 수송 층(210)은 두께가 약 70 nm일 수 있다.
본 발명의 실시형태에서, 투명한 일면 발광 OLED를 제조하는 방법은: 미러를 형성하는 단계; 미러 상에 투명 애노드 전극을 형성하는 단계; 투명 애노드 전극 상에 유기 발광 층을 형성하는 단계; 및 유기 발광 층 상에 투명 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 미러는, 예를 들어 유전체 스택 미러일 수 있으며, 상기에서 유전체 스택 미러는 굴절율이 상이한 2개의 유전체 재료의 교호층을 포함한다.
특정 실시형태에서, 유전체 스택 미러는 Ta2O5 및 SiO2의 교호층을 포함할 수 있고, 상기에서 각 Ta2O5 층은 두께가 약 10 nm 내지 약 100 nm이고, 각 SiO2 층은 두께가 약 10 nm 내지 약 100 nm이며, 유전체 스택 미러는 N개의 Ta2O5 층을 포함하고, SiO2 층의 수는 N-1 내지 N+1의 범위이고, N은 1 내지 40의 범위이다. 유전체 스택 미러는 475 nm 내지 550 nm 범위의 파장을 갖는 광에 대해 98% 초과의 반사율을 가질 수 있고, 440 nm의 파장을 갖는 광에 대해 20% 미만의 반사율을 갖고, 600 nm의 파장을 갖는 광에 대해 20% 미만의 반사율을 갖는다.
다수의 실시형태에서, 투명 캐소드 전극은 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함하며, 투명 캐소드 전극을 형성하는 단계는: Mg:Ag 층을 30 nm 미만의 두께로 형성하는 단계로서, 상기에서 Mg 및 Ag는 10:1(Mg:Ag)의 비로 존재하는 단계; 및 Mg:Ag 층 상에 Alq3 층을 0 nm 내지 200 nm의 두께로 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 실시형태에 따라, 유리한 투명 일면 발광 OLED는 투명 애노드 전극(예를 들어, ITO 하부 애노드 전극) 및 투명 캐소드 전극(예를 들어, 얇은 Mg:Ag/Alq3 상부 캐소드 전극)을 갖는 미러를 사용한다. 미러는 특정 범위(또는 범위들)의 파장을 갖는 광에 대해 매우 높은(약 90% 또는 >90%) 반사율을 가질 수 있는 한편, 다른 범위 또는 범위들의 파장을 갖는 광에 대해 낮은(20% 이하) 반사율을 가질 수 있다. 예를 들어, 미러는, 도 2a에 도시된 바와 같이, 약 475 nm 내지 약 550 nm 범위의 파장을 갖는 광에 대해 98% 초과의 반사율을 가질 수 있고, 약 440 nm 또는 약 600 nm 의 파장을 갖는 광에 대해 >80%의 투과율(20% 이하의 반사율)을 가질 수 있다. 미러는 광의 가시 스펙트럼의 적어도 일부에 대해 투명할 수 있으며, 이를 통과하는 광은, 예를 들어 도 3a에서 알 수 있는 바와 같이 밝은 적색계열 외양을 가질 수 있다. 다수의 실시형태에서, OLED로부터 방출된, 90% 초과의 광은 투명 애노드 전극을 통해 투과될 것이며, 특정 파장 범위의 광의 매우 적은 분획(<10%) 만이 미러를 통해 투과될 수 있다.
본 발명의 다수의 실시형태에서, OLED는 미러를 포함할 수 있다. OLED는 가시 스펙트럼의 소정 파장을 갖는 광 또는 적어도 일부의 범위가 가시 스펙트럼 이내인 파장을 갖는 광을 방출하는 발광 층(예를 들어, 유기 발광 층)을 포함할 수 있다. 미러는 OLED의 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 일부를 반사할 수 있다. 예를 들어, 미러는 OLED의 발광 층에 의해 방출된, 90% 초과의 또는 적어도 90%의 가시광을 반사할 수 있다. 각종 실시형태에서, 미러는 OLED의 발광 층에 의해 방출된 가시광의 하기 퍼센트 또는 범위 중 임의의 하나를 반사할 수 있다: 90%, 약 90%, >91%, 91%, 약 91%, >92%, 92%, 약 92%, >93%, 93%, 약 93%, >94%, 94%, 약 94%, >95%, 95%, 약 95%, >96%, 96%, 약 96%, >97%, 97%, 약 97%, >98%, 98%, 약 98%, >99%, 99%, 약 99%, 약 100%, 100%, >89%, 89%, 약 89%, >88%, 88%, 약 88%, >87%, 87%, 약 87%, >86%, 86%, 약 86%, >85%, 85%, 약 85%, >84%, 84%, 약 84%, >83%, 83%, 약 83%, >82%, 82%, 약 82%, >81%, 81%, 약 81%, >80%, 80%, 약 80%, >79%, 79%, 약 79%, >78%, 78%, 약 78%, >77%, 77%, 약 77%, >76%, 76%, 약 76%, >75%, 75%, 약 75%, >74%, 74%, 약 74%, >73%, 73%, 약 73%, >72%, 72%, 약 72%, >71%, 71%, 약 71%, >70%, 70%, 약 70%, 적어도 90%, 적어도 91%, 적어도 92%, 적어도 93%, 적어도 94%, 적어도 95%, 적어도 96%, 적어도 97%, 적어도 98%, 적어도 99%, 적어도 89%, 적어도 88%, 적어도 87%, 적어도 86%, 적어도 85%, 적어도 84%, 적어도 83%, 적어도 82%, 적어도 81%, 적어도 80%, 적어도 79%, 적어도 78%, 적어도 77%, 적어도 76%, 적어도 75%, 적어도 74%, 적어도 73%, 적어도 72%, 적어도 71% 또는 적어도 70%.
미러는 또한 가시 스펙트럼의 광의 적어도 일부에 대해 투명 또는 투과성일 수 있다. 예를 들어, 미러는 OLED의 발광 층에 의해 방출된 가시 스펙트럼의 일부를 포함하지 않는 가시광 일부의 <20%(즉, OLED의 발광 층에 의해 방출된 광의 파장 또는 파장 범위와 중첩되지 않는 범위의 파장을 갖는 가시광의 <20%)를 반사할 수 있다(즉, >80%를 투과할 수 있다). 각종 실시형태에서, 미러는 OLED의 발광 층에 의해 방출된 광과 중첩되지 않는 파장 또는 파장 범위를 갖는 가시광의 하기 퍼센트 또는 범위 중 임의의 하나를 반사할 수 있다: 20%, 약 20%, <21%, 21%, 약 21%, <22%, 22%, 약 22%, <23%, 23%, 약 23%, <24%, 24%, 약 24%, <25%, 25%, 약 25%, <26%, 26%, 약 26%, <27%, 27%, 약 27%, <28%, 28%, 약 28%, <29%, 29%, 약 29%, 약 0%, 0%, <19%, 19%, 약 19%, <18%, 18%, 약 18%, <17%, 17%, 약 17%, <16%, 16%, 약 16%, <15%, 15%, 약 15%, <14%, 14%, 약 14%, <13%, 13%, 약 13%, <12%, 12%, 약 12%, <11%, 11%, 약 11%, <10%, 10%, 약 10%, <9%, 9%, 약 9%, <8%, 8%, 약 8%, <7%, 7%, 약 7%, <6%, 6%, 약 6%, <5%, 5%, 약 5%, <4%, 4%, 약 4%, <3%, 3%, 약 3%, <2%, 2%, 약 2%, <1%, 1%, 약 1%, <30%, 30%, 약 30%, 20% 이하, 21% 이하, 22% 이하, 23% 이하, 24% 이하, 25% 이하, 26% 이하, 27% 이하, 28% 이하, 29% 이하, 19% 이하, 18% 이하, 17% 이하, 16% 이하, 15% 이하, 14% 이하, 13% 이하, 12% 이하, 11% 이하, 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 7% 이하, 6% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 또는 30% 이하.
미러는 가시 스펙트럼의 광의 적어도 일부에 대해 투명하거나 투과성일 수 있다. 예를 들어, 미러는 가시광의 전체 스펙트럼의 >80%을 반사할 수 있다. 각종 실시형태에서, 미러는 가시광의 전체 스펙트럼의 하기 퍼센트 또는 범위 중 임의의 하나를 반사할 수 있다: 20%, 약 20%, <21%, 21%, 약 21%, <22%, 22%, 약 22%, <23%, 23%, 약 23%, <24%, 24%, 약 24%, <25%, 25%, 약 25%, <26%, 26%, 약 26%, <27%, 27%, 약 27%, <28%, 28%, 약 28%, <29%, 29%, 약 29%, <30%, 30%, 또는 약 30%, <31%, 31%, 약 31%, <32%, 32%, 약 32%, <33%, 33%, 약 33%, <34%, 34%, 약 34%, <35%, 35%, 약 35%, <36%, 36%, 약 36%, <37%, 37%, 약 37%, <38%, 38%, 약 38%, <39%, 39%, 약 39%, <40%, 40%, 또는 약 40%, <41%, 41%, 약 41%, <42%, 42%, 약 42%, <43%, 43%, 약 43%, <44%, 44%, 약 44%, <45%, 45%, 약 45%, <46%, 46%, 약 46%, <47%, 47%, 약 47%, <48%, 48%, 약 48%, <49%, 49%, 약 49%, <50%, 50%, 또는 약 50%, <51%, 51%, 약 51%, <52%, 52%, 약 52%, <53%, 53%, 약 53%, <54%, 54%, 약 54%, <55%, 55%, 약 55%, <56%, 56%, 약 56%, <57%, 57%, 약 57%, <58%, 58%, 약 58%, <59%, 59%, 약 59%, <60%, 60%, 또는 약 60%, <61%, 61%, 약 61%, <62%, 62%, 약 62%, <63%, 63%, 약 63%, <64%, 64%, 약 64%, <65%, 65%, 약 65%, <66%, 66%, 약 66%, <67%, 67%, 약 67%, <68%, 68%, 약 68%, <69%, 69%, 약 69%, <70%, 70%, 또는 약 70%, <71%, 71%, 약 71%, <72%, 72%, 약 72%, <73%, 73%, 약 73%, <74%, 74%, 약 74%, <75%, 75%, 약 75%, <76%, 76%, 약 76%, <77%, 77%, 약 77%, <78%, 78%, 약 78%, <79%, 79%, 약 79%, <80%, 80%, 또는 약 80%, <81%, 81%, 약 81%, <82%, 82%, 약 82%, <83%, 83%, 약 83%, <84%, 84%, 약 84%, <85%, 85%, 약 85%, <86%, 86%, 약 86%, <87%, 87%, 약 87%, <88%, 88%, 약 88%, <89%, 89%, 약 89%, 90%, 약 90%, >90%, >89%, >88%, >87%, >86%, >85%, >84%, >83%, >82%, >81%, >80%, >79%, >78%, >77%, >76%, >75%, >74%, >73%, >72%, >71%, >70%, >20%, >21%, >22%, >23%, >24%, >25%, >26%, >27%, >28%, >29%, >30%, >31%, >32%, >33%, >34%, >35%, >36%, >37%, >38%, >39%, >40%, >41%, >42%, >43%, >44%, >45%, >46%, >47%, >48%, >49%, >50%, >51%, >52%, >53%, >54%, >55%, >56%, >57%, >58%, >59%, >60%, >61%, >62%, >63%, >64%, >65%, >66%, >67%, >68%, >69%, 적어도 90%, 적어도 89%, 적어도 88%, 적어도 87%, 적어도 86%, 적어도 85%, 적어도 84%, 적어도 83%, 적어도 82%, 적어도 81%, 적어도 80%, 적어도 79%, 적어도 78%, 적어도 77%, 적어도 76%, 적어도 75%, 적어도 74%, 적어도 73%, 적어도 72%, 적어도 71%, 적어도 70%, 적어도 20%, 적어도 21%, 적어도 22%, 적어도 23%, 적어도 24%, 적어도 25%, 적어도 26%, 적어도 27%, 적어도 28%, 적어도 29%, 적어도 19%, 적어도 18%, 적어도 17%, 적어도 16%, 적어도 15%, 적어도 14%, 적어도 13%, 적어도 12%, 적어도 11%, 적어도 10%, 적어도 9%, 적어도 8%, 적어도 7%, 적어도 6%, 적어도 5%, 적어도 4%, 적어도 3%, 적어도 2%, 적어도 1%, 적어도 30%, 적어도 31%, 적어도 32%, 적어도 33%, 적어도 34%, 적어도 35%, 적어도 36%, 적어도 37%, 적어도 38%, 적어도 39%, 적어도 40%, 적어도 41%, 적어도 42%, 적어도 43%, 적어도 44%, 적어도 45%, 적어도 46%, 적어도 47%, 적어도 48%, 적어도 49%, 적어도 50%, 적어도 51%, 적어도 52%, 적어도 53%, 적어도 54%, 적어도 55%, 적어도 56%, 적어도 57%, 적어도 58%, 적어도 59%, 적어도 60%, 적어도 61%, 적어도 62%, 적어도 63%, 적어도 64%, 적어도 65%, 적어도 66%, 적어도 67%, 적어도 68%, 적어도 69%, 90% 이하, 89% 이하, 88% 이하, 87% 이하, 86% 이하, 85% 이하, 84% 이하, 83% 이하, 82% 이하, 81% 이하, 80% 이하, 79% 이하, 78% 이하, 77% 이하, 76% 이하, 75% 이하, 74% 이하, 73% 이하, 72% 이하, 71% 이하, 70% 이하, 20% 이하, 21% 이하, 22% 이하, 23% 이하, 24% 이하, 25% 이하, 26% 이하, 27% 이하, 28% 이하, 29% 이하, 30% 이하, 31% 이하, 32% 이하, 33% 이하, 34% 이하, 35% 이하, 36% 이하, 37% 이하, 38% 이하, 39% 이하, 40% 이하, 41% 이하, 42% 이하, 43% 이하, 44% 이하, 45% 이하, 46% 이하, 47% 이하, 48% 이하, 49% 이하, 50% 이하, 51% 이하, 52% 이하, 53% 이하, 54% 이하, 55% 이하, 56% 이하, 57% 이하, 58% 이하, 59% 이하, 60% 이하, 61% 이하, 62% 이하, 63% 이하, 64% 이하, 65% 이하, 66% 이하, 67% 이하, 68% 이하, 또는 69% 이하.
실시형태에서, OLED는 미러를 포함할 수 있으며, 광의 적어도 일부가 가시 스펙트럼인 광을 방출하는 발광 층(예를 들어, 유기 발광 층)을 포함할 수 있다. 각종 실시형태에서, 미러는 OLED의 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 80%, 또는 적어도 90%를 반사할 수 있으며 OLED의 발광 층에 의해 방출된 광 이외의 가시광의 20% 이하를 또한 반사할 수 있다. 각종 실시형태에서, 미러는 OLED의 발광 층에 의해 방출된 가시광의 상기 제시된 범위의 수치 중 임의의 것을 반사할 수 있으며, OLED의 발광 층에 의해 방출된 광을 포함하는 파장 범위와 중첩되지 않는 가시광의 파장 범위에 대해 상기 제시된 범위의 수치 중 임의의 것을 또한 반사할 수 있다.
본 발명의 실시형태에 따라, 유리한 적어도 부분적으로 투명한 일면 발광 OLED는 미러, 투명 애노드 전극(예를 들어, ITO 하부 애노드 전극), 투명 캐소드 전극(예를 들어, 얇은 Mg:Ag/Alq3 상부 캐소드 전극), 및 유기 발광 층을 포함할 수 있다. 각종 실시형태에서, 미러는 유기 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 80%, 또는 적어도 90%를 반사할 수 있으며 OLED의 유기 발광 층에 의해 방출된 광 이외의 가시광의 30% 이하를 반사할 수 있다. 미러는 유전체 스택 미러일 수 있으며 굴절율이 상이한 2개의 유전체 재료의 교호층을 포함할 수 있다. 유전체 재료는, 예를 들어 Ta2O5 및 SiO2일 수 있다.
추가 실시형태에서, 미러는 유기 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 80%를 반사할 수 있으며 OLED의 유기 발광 층에 의해 방출된 광 이외의 가시광의 30% 이하를 반사할 수 있다.
또 다른 추가 실시형태에서, 미러는 유기 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 80%를 반사할 수 있으며 OLED의 유기 발광 층에 의해 방출된 광 이외의 가시광의 20% 이하를 반사할 수 있다.
또 다른 추가 실시형태에서, 미러는 유기 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 80%를 반사할 수 있으며 OLED의 유기 발광 층에 의해 방출된 광 이외의 가시광의 10% 이하를 반사할 수 있다.
또 다른 추가 실시형태에서, 미러는 유기 발광 층에 의해 방출된 가시광의 적어도 90%를 반사할 수 있으며 OLED의 유기 발광 층에 의해 방출된 광 이외의 가시광의 10% 이하를 반사할 수 있다.
두께가 약 1 mm인 유리 기판; 유리 기판 바로 위의 유전체 스택 미러; ITO를 포함하며 두께가 약 110 nm인, 유전체 스택 미러 바로 위의 투명 애노드 전극; NPB를 포함하며 두께가 약 70 nm인, 투명 애노드 전극 바로 위의 정공 수송 층; Alq3를 포함하며 두께가 약 70 nm인, 정공 수송 층 바로 위의 유기 발광 층; 및 두께가 약 50 nm인 Alq3 층 및 두께가 약 11 nm인 Mg:Ag 층을 포함하는, 유기 발광 층 바로 위의 투명 캐소드 전극을 포함하는 OLED를 제조하였다.
도 3c에 있어서, 전류 밀도(mA/cm2) 및 루미네선스(Cd/m2)가 상기 일면 투명 OLED의 전면 및 배면 발광 모두에 대해 전압의 함수로서 도시된다. 상기 OLED에 있어서 전면 발광 대 배면 발광 비율은 약 9:1이다. 전류 밀도-배면 발광 및 전류 밀도-전면 발광의 선은 거의 동일하여 거의 중첩된다. 도 3d에 있어서, 전류 효율(cd/A)은 상기 일면 투명 OLED의 전면 및 배면 발광 모두에 대해 전류 밀도(mA/cm2)의 함수로서 도시된다.
본 명세서에 지칭되거나 인용된 모든 특허, 특허 출원, 가출원 및 공개 문헌은 본 명세서의 명백한 교시와 상반되지 않는 범위 내에서, 모든 수치 및 표를 포함하여, 그의 전체가 참조로 포함된다.
본 명세서에 설명된 실시예 및 실시형태는 오직 예시적인 목적이며, 그 맥락에서 다양한 변형 또는 변경이 당업자에게 시사될 것이며 이는 본 출원의 사상 및 이해 범위 내에 포함됨이 이해되어야 한다.
Claims (33)
- 유기 발광 디바이스(OLED)로서,
유기 발광 층;
미러;
가시광에 대해 투명한 애노드 전극; 및
가시광에 대해 투명한 캐소드 전극
을 포함하고,
상기 유기 발광 층은 상기 애노드 전극과 상기 캐소드 전극 사이에 배치되고, 상기 미러는, 상기 애노드 전극 및 상기 캐소드 전극 중 하나가 상기 미러와 상기 유기 발광 층 사이에 존재하도록 배치되고,
상기 미러는 제1 가시광 파장 범위를 반사하고, 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광의 적어도 제1 부분은 상기 제1 가시광 파장 범위 내의 파장을 갖고, 상기 미러는 제2 가시광 파장 범위에 대해 투과성이며, 상기 유기 발광 층은 상기 제2 가시광 파장 범위의 적어도 일부에서의 파장을 갖는 광을 방출하지 않는 OLED. - 제1항에 있어서, 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광은 상기 제1 가시광 파장 범위 내의 파장을 갖고, 상기 유기 발광 층은 상기 제2 가시광 파장 범위의 파장을 갖는 광을 방출하지 않는 OLED.
- 제1항에 있어서, 상기 미러는 유전체 스택 미러를 포함하는 OLED.
- 제3항에 있어서, 상기 유전체 스택 미러는 475 nm 내지 550 nm의 범위의 파장을 갖는 광에 대해 98% 초과의 반사율을 갖고, 상기 유전체 스택 미러는 440 nm의 파장을 갖는 광에 대해 20% 이하의 반사율을 갖고, 상기 유전체 스택 미러는 600 nm의 파장을 갖는 광에 대해 20% 이하의 반사율을 갖는 OLED.
- 제3항에 있어서, 상기 OLED는 기판을 더 포함하며, 상기 기판은 상기 미러에 인접한 OLED.
- 제3항에 있어서, 상기 유전체 스택 미러는 Ta2O5 층 및 SiO2 층을 포함하는 OLED.
- 제6항에 있어서, 상기 유전체 스택 미러는 Ta2O5 및 SiO2의 교호층들(alternating layers)을 포함하며, 각 Ta2O5 층은 약 10 nm 내지 약 100 nm의 두께를 갖고, 각 SiO2 층은 약 10 nm 내지 약 100 nm의 두께를 갖는 OLED.
- 제7항에 있어서, 상기 유전체 스택 미러는 N개의 Ta2O5 층을 포함하고, SiO2 층의 개수는 N-1 내지 N+1의 범위이며, N은 1 내지 40의 범위에 있는 OLED.
- 제1항에 있어서, 정공 수송 층 및 전자 수송 층을 더 포함하는 OLED.
- 제1항에 있어서, 상기 유기 발광 층은 Ir(ppy)3, MEH-PPV, Alq3 또는 Flrpic를 포함하는 OLED.
- 제9항에 있어서, 상기 정공 수송 층은 NPB, TAPC, TFB 또는 TPD를 포함하는 OLED.
- 제9항에 있어서, 상기 전자 수송 층은 BCP, Bphen, 3TPYMB 또는 Alq3을 포함하는 OLED.
- 제1항에 있어서, 상기 투명 애노드는, 산화 인듐 주석(ITO: indium tin oxide), 탄소 나노튜브(CNTs: carbon nanotubes), 산화 인듐 아연(IZO: indium zinc oxide), 은 나노와이어 및 마그네슘:은/Alq3(Mg:Ag/Alq3) 스택 층으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 재료를 포함하며, 상기 투명 캐소드는, ITO, CNTs, IZO, 은 나노와이어 및 Mg:Ag/Alq3 스택 층으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 재료를 포함하는 OLED.
- 제13항에 있어서, 상기 투명 캐소드는 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함하고, 상기 Mg:Ag 층은 30 nm 미만의 두께를 갖고, Mg 및 Ag는 10:1(Mg:Ag)의 비율로 존재하며, 상기 Alq3 층은 0 nm 내지 200 nm의 두께를 갖는 OLED.
- 제1항에 있어서, 상기 투명 애노드 전극은 상기 미러와 상기 유기 발광 층 사이에 배치되는 OLED.
- 제1항에 있어서, 상기 투명 캐소드 전극은 상기 미러와 상기 유기 발광 층 사이에 배치되는 OLED.
- 제1항에 있어서,
유리 기판; 및
상기 투명 애노드 전극 상의 정공 수송 층
을 더 포함하고,
상기 미러는 유전체 스택 미러를 포함하고, 상기 유전체 스택 미러는 상기 유리 기판 상에 배치되고, 상기 유전체 스택 미러는 Ta2O5 및 SiO2의 교호층들을 포함하고,
상기 투명 애노드 전극은 상기 유전체 스택 미러 상에 배치되고, 상기 투명 애노드 전극은 ITO를 포함하고,
상기 유기 발광 층은 상기 정공 수송 층 상에 배치되고,
상기 투명 캐소드 전극은 상기 유기 발광 층 상에 배치되고, 상기 투명 캐소드 전극은 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함하고, 상기 Mg:Ag 층은 30 nm 미만의 두께를 갖고, Mg 및 Ag는 10:1(Mg:Ag)의 비율로 존재하며, 상기 Alq3 층은 0 nm 내지 200 nm의 두께를 갖는 OLED. - 제17항에 따른 OLED를 포함하는 조명 창(lighting window).
- 유리 기판; 및
제1항에 따른 OLED
를 포함하는 조명 창. - 제1항에 있어서, 상기 미러는 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광의 적어도 90%를 반사하는 OLED.
- 제2항에 있어서, 상기 미러는 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광의 적어도 90%를 반사하는 OLED.
- 제2항에 있어서, 상기 미러는 상기 제2 가시광 파장 범위의 가시광의 적어도 80%에 대해 투과성인 OLED.
- 제2항에 있어서, 상기 미러는 상기 제2 가시광 파장 범위의 가시광의 적어도 90%에 대해 투과성인 OLED.
- OLED를 제조하는 방법으로서,
미러를 형성하는 단계;
상기 미러 상에 투명 애노드 전극을 형성하는 단계;
상기 투명 애노드 전극 상에 유기 발광 층을 형성하는 단계; 및
상기 유기 발광 층 상에 투명 캐소드 전극을 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 미러는 제1 가시광 파장 범위를 반사하고, 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광의 적어도 제1 부분은 상기 제1 가시광 파장 범위 내의 파장을 갖고, 상기 미러는 제2 가시광 파장 범위에 대해 투과성이고, 상기 유기 발광 층은 상기 제2 가시광 파장 범위의 적어도 일부에서의 파장을 갖는 광을 방출하지 않는 방법. - 제24항에 있어서, 상기 미러는 유전체 스택 미러를 포함하며, 상기 유전체 스택 미러는 상이한 굴절율을 갖는 2개의 유전체 재료의 교호층들을 포함하는 방법.
- 제25항에 있어서, 상기 유전체 스택 미러는 Ta2O5 및 SiO2의 교호층들을 포함하고, 각 Ta2O5 층은 약 10 nm 내지 약 100 nm의 두께를 갖고, 각 SiO2 층은 약 10 nm 내지 약 100 nm의 두께를 갖고, 상기 유전체 스택 미러는 N개의 Ta2O5 층을 포함하고, SiO2 층의 개수는 N-1 내지 N+1의 범위이며, N은 1 내지 40의 범위에 있는 방법.
- 제24항에 있어서, 상기 투명 캐소드는 Mg:Ag/Alq3 스택 층을 포함하며, 상기 투명 캐소드를 형성하는 단계는,
Mg:Ag 층을 30 nm 미만의 두께로 형성하는 단계 - Mg 및 Ag는 10:1(Mg:Ag)의 비율로 존재함 -; 및
상기 Mg:Ag 층 상에 Alq3 층을 0 nm 내지 200 nm의 두께로 형성하는 단계
를 포함하는 방법. - 제26항에 있어서, 상기 유전체 스택 미러는 475 nm 내지 550 nm의 범위의 파장을 갖는 광에 대해 98% 초과의 반사율을 갖고, 상기 유전체 스택 미러는 440 nm의 파장을 갖는 광에 대해 20% 이하의 반사율을 갖고, 상기 유전체 스택 미러는 600 nm의 파장을 갖는 광에 대해 20% 이하의 반사율을 갖는 방법.
- 제24항에 있어서, 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광은 상기 제1 가시광 파장 범위 내의 파장을 갖고, 상기 유기 발광 층은 상기 제2 가시광 파장 범위의 파장을 갖는 광을 방출하지 않는 방법.
- 제24항에 있어서, 상기 미러는 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광의 적어도 90%를 반사하는 방법.
- 제29항에 있어서, 상기 미러는 상기 유기 발광 층에 의해 방출되는 가시광의 적어도 90%를 반사하는 방법.
- 제29항에 있어서, 상기 미러는 상기 제2 가시광 파장 범위의 가시광의 적어도 80%에 대해 투과성인 방법.
- 제29항에 있어서, 상기 미러는 상기 제2 가시광 파장 범위의 가시광의 적어도 90%에 대해 투과성인 방법.
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