KR20140029298A - 티오우레탄계 광학재료의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 티오우레탄계 광학재료의 제조방법에 관한 것으로, 특히 맥리, 백화 및 미세기포의 발생 없이 높은 수율로 무색 투명하고 변형이 없는 고품질의 광학재료를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는, 폴리티올화합물과 폴리이소시아네이트화합물을 포함하는 중합성 조성물을 주형중합하는 광학재료의 제조방법에 있어서, 주형중합에 앞서 상기 중합성 조성물을 특정 진공조건으로 처리한 후 몰드에 주입하여 주형중합하는 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따라 제조된 티오우레탄계 광학재료는 기존 광학재료를 대체하여 다양한 분야에서 널리 이용될 수 있다.

Description

티오우레탄계 광학재료의 제조방법 {A method of preparing thiourethane based optical material}
본 발명은 티오우레탄계 광학재료의 제조방법에 관한 것으로, 특히 맥리, 백화 및 미세기포의 발생 없이 높은 수율로 무색 투명하고 변형이 없는 고품질의 광학재료를 제조하는 방법에 관한 것이다.
플라스틱 광학렌즈는 유리렌즈의 문제점인 높은 비중과 낮은 충격성을 보완한 대체품으로 소개되었다. 그 대표적인 것으로 폴리에틸렌글리콜 비스알릴카르보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 디알릴프탈레이트 등이 있다. 하지만, 이들 중합체로 제조된 광학렌즈는 주형성, 염색성, 하드코트피막 밀착성, 내충격성 등의 물성 면에서는 우수하나, 굴절률이 1.50(nD)과 1.55(nD) 정도로 낮아서 렌즈가 두꺼워지는 문제점이 있었다. 이에 렌즈의 두께를 줄이기 위해 굴절률이 높은 광학재료의 개발이 여러 가지로 시도되었다.
대한민국 등록특허 10-0136698, 10-0051275, 10-0051939, 10-0056025, 10-0040546, 10-0113627 등에서는, 폴리이소시아네이트 화합물와 폴리티올 화합물을 열 경화하여 티오우레탄계 광학렌즈를 얻고 있다. 티오우레탄계 광학재료는 투명성, 아베수, 투과율, 인강강도 등의 광학특성이 우수하여 광학렌즈 소재로 널리 이용되고 있다. 그러나, 폴리티올화합물과 범용의 이소시아네이트화합물을 포함하는 중합성 조성물을 경화하여 광학재료를 제조할 때에, 맥리, 백화, 미세기포 등이 발생하여 렌즈의 품질을 저하시키는 경우가 있다. 이소시아네이트화합물로 폴리티올화합물과의 혼합성이 뛰어난 특성을 갖는 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄 등을 사용할 경우에는 이러한 현상이 덜하나 고가의 이소시아네이트화합물의 사용으로 생산비가 높아지는 문제가 있다. 반면 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI), 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트 등은 가격이 저렴한 범용의 이소시아네이트화합물로서 티오우레탄계 광학재료의 생산비를 낮출 수 있으나, 폴리티올화합물과의 혼합 조성물을 중합시켜 렌즈를 제조할 때에 맥리, 백화, 미세기포 등이 발생하는 현상이 두드러진다. 이러한 맥리나 백화, 미세기포의 발생은 렌즈의 품질을 저하시키므로 그동안 개선이 요구되어 왔다. 또한 생산비 절감은 최근 렌즈분야의 주요 관심이 되고 있는데, 맥리, 백화, 미세기포의 발생은 렌즈 수율을 낮춰 생산비를 상승시키는 요인이 되므로, 생산비 절감 측면에서도 그 개선이 절실히 요구되고 있었다.
대한민국 등록특허공보 10-0136698 대한민국 등록특허공보 10-0051275 대한민국 등록특허공보 10-0051939 대한민국 등록특허공보 10-0056025 대한민국 등록특허공보 10-0040546
폴리티올화합물과 이소시아네이트화합물을 중합 반응시켜 티오우레탄계 광학재료를 제조할 때에 맥리, 백화, 미세기포가 발생되는 경우가 있으며, 이러한 현상은 이소시아네이트로 가격이 저렴한 범용의 이소시아네이트를 사용할 경우에 더욱 두드러진다. "맥리"란 광학렌즈 수지조성물로 가열경화하여 광학렌즈 제조시 조성의 차이 등으로 인해 주위의 정상 굴절율과 국소적으로 다르게 되는 현상을 말한다. "백화"와 "백탁"은 렌즈가 뿌옇게 되는 현상을 말하는데, 주로 "백화"는 국소적인 현상을 "백탁"은 전체적으로 탁해지는 현상을 말하나, 본 발명에서 "백화"는 백탁을 포함하는 의미이다. 맥리, 백화, 미세기포는 광학재료의 품질과 성능에 나쁜 영향을 준다.
본 발명자들은, 폴리티올화합물과 이소시아네이트화합물을 포함하는 중합성 조성물을 몰드에 주입하기 전에 탈포하는 과정에서의 진공도가 최종적으로 얻어지는 렌즈의 맥리, 백화, 미세기포 발생에 중요한 상관관계를 가지며, 조성물을 특정조건으로 진공처리하는 것을 통해 범용의 이소시아네이트화합물을 사용하더라도 맥리, 백화 및 미세기포의 발생을 현저히 억제할 수 있음을 예기치 않게 알게 되었다. 즉, 폴리티올화합물과 이소시아네이트화합물(특히 범용의 이소시아네이트화합물)을 포함하는 중합성 조성물을 적절한 진공도로 처리한 후 주형중합을 할 경우 최종적으로 수득되는 렌즈에서 맥리, 백화, 미세기포가 거의 발생하지 않았다.
본 발명은 이를 확인하고 완성한 것으로서, 본 발명은 맥리나 백화, 미세기포의 발생 없이 높은 수율로 고품질의 티오우레탄계 광학재료를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 특히, 본 발명은 폴리티올화합물과 범용의 이소시아네이트화합물을 포함하는 중합성 조성물을 이용하여 맥리나 백화, 미세기포의 발생 없이 높은 수율로 고품질의 티오우레탄계 광학재료를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에서는,
폴리티올화합물과 폴리이소시아네이트화합물을 포함하는 중합성 조성물을 주형중합하는 광학재료의 제조방법에 있어서, 상기 주형중합에 앞서 상기 중합성 조성물을 아래 식 1에서 X값이 0.01~2 가 되는 조건으로 진공 처리한 후 몰드에 주입하여 주형중합하는 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법이 제공된다.
[식 1]
X = T × 1/t
(T는 torr로 표시되는 진공도이며, t는 진공처리하는 시간(분, min)이고, T는 0.01~20 범위이다.)
또한, 본 발명에서는, 상기 제조방법으로 얻은 광학재료와 이 광학재료로 이루어진 광학렌즈가 제공된다. 상기 광학렌즈는 특히 안경렌즈 또는 편광렌즈를 포함한다.
본 발명에서는, 조성물을 주형중합 하기 전에 적절한 진공 조건으로 처리함으로써 맥리나 백화, 미세기포가 없는 무색투명하고 변형이 없는 고품질의 렌즈를 제조할 수 있으며, 수율 향상으로 생산비 또한 낮출 수 있다. 특히 본 발명에서는 범용의 폴리이소시아네이트화합물을 사용하면서도 맥리나 백화, 미세기포가 없는 고품질의 렌즈를 고수율로 제조할 수 있으므로, 종래 고가로 생산되던 티오우레탄계 렌즈의 생산비를 크게 낮출 수 있다.
본 발명의 티오우레탄계 광학재료의 제조방법은, 폴리티올화합물과 폴리이소시아네이트화합물을 포함하는 중합성 조성물을 아래 식 1에서 X값이 0.01~2 가 되는 조건으로 진공 처리한 후 몰드에 주입하여 주형중합한다.
[식 1]
X = T × 1/t
(T는 torr로 표시되는 진공도이며, t는 진공처리하는 시간(분, min)이고, T는 0.01~20 범위이다.)
티오우레탄계 광학재료의 제조는, 통상 폴리티올화합물과 폴리이소시아네이트화합물에 성분과 내부이형제 등의 첨가제를 혼합하여 중합성 조성물을 얻은 후, 몰드에 주입하여 주형중합하는데, 종전에도 통상 중합 전에 탈포하는 과정을 거쳐 조성물을 몰드에 주입하였다. 그러나 종전의 탈포과정은 중합시의 기포발생을 최대한 억제하기 위한 것으로만 인식되었으며, 이러한 탈포과정을 거쳐도 미세기포가 발생되는 경우가 있었다. 본 발명은 탈포과정에서의 진공도가 렌즈의 맥리, 백화, 미세기포 발생에 중요한 상관관계를 갖고 있음을 처음으로 발견하고 확인한 것으로, 본 발명에서는 중합성 조성물을 특정 진공조건, 즉 상기 식 1에서 X값이 0.01~2 가 되는 조건으로 진공 처리함으로써 최종적으로 얻어지는 렌즈의 맥리, 백화, 미세기포 발생을 억제하여 맥리, 백화, 미세기포가 없는 티오우레탄계 광학재료를 제조한다. 특히 본 발명에서는 이소시아네이트로 가격이 저렴한 범용의 이소시아네이트를 사용하면서도 중합성 조성물을 상기 식 1에서 X값이 0.01~2 가 되는 조건으로 진공 처리함으로써 맥리, 백화, 미세기포가 없는 티오우레탄계 광학재료를 제조한다. 상기 식 1에서 T는 처음 진공조건을 만들어 줄 때의 초기 압력(torr)으로 정의된다.
상기 진공 처리는 특정 온도조건에서 수행될 때 더 좋은 효과를 얻을 수 있다. 바람직하게는 상기 진공 처리는 21~40℃의 온도 범위에서 이루어지며, 더욱 바람직하게는 28~36℃의 온도 범위에서 이루어진다. 상기 온도범위 내에서 진공 처리가 이루어질 때, 맥리, 백화 및 미세기포가 없는 더욱 고품질의 렌즈를 얻을 수 있었다. 본 발명은 진공처리 시의 온도 조건이 최종 수득되는 렌즈의 품질에 중요한 상관관계가 있음을 처음으로 발견한 것이다. 이러한 상관관계를 인지하지 못한 기존의 제조방법에서는 진공 탈포 과정에서의 온도는 제어하지 않았으며, 중합과정에서의 온도도 이보다 낮은 수준으로 제어했다. 본 발명에서는 티오우레탄계 중합성 조성물을 진공으로 처리하는 과정에서의 온도를 적절한 범위로 제어함으로써 투명하고 변형이 없는 더욱 고품질의 티오우레탄계 광학재료를 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명에서 상기 폴리이소시아네이트화합물은, 특별히 한정되지 않고 최소한 1개 이상의 이시아소네이트 및/또는 이소티오시아네이트 기를 가진 화합물이면 모두 사용될 수 있다. 그러나 생산비를 고려할 때 바람직하게는 저렴한 범용의 폴리이소시아네이트화합물을 사용할 수 있다. 범용의 폴리이소시아네이트화합물로는, 특히 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트 중 어느 하나를 단독으로 또는 이들을 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 범용의 폴리이소시아네이트화합물에 다른 이소(티오)시아네이트화합물을 혼합하여 사용하는 것도 가능하다. 다른 이소(티오)시아네이트화합물로는, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르 등의 지방족 이소시아네이트 화합물 및, 이소포론디이소시아네이트, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트 화합물 및, 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트 화합물 및, 비스(이소시아네이토에틸)설피드, 비스(이소시아네이토프로필)설피드, 비스(이소시아네이토헥실)설피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설피드, 비스(이소시아네이토프로필)디설피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸- 3-티아펜탄 등의 함황 지방족 이소시아네이트 화합물 및 디페닐설피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설피드-3,3-디이소시아네이트 등의 함황 방향족 이소시아네이트 화합물 및, 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등의 함황 복소환 이소시아네이트 화합물 등이 각각 단독으로 또는 2종 이상 같이 사용될 수 있다.
상기 폴리티올화합물은, 특별히 한정되지 않고 최소한 1개 이상의 티올기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)설파이드, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디설파이드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)설파이드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올,(S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안 등을 사용할 수 있다. 이외에도 1개 이상의 티올기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. 또한 폴리티올화합물에 이소시아네이트나 티오에폭시 화합물, 티에탄 화합물 또는 수지개질제로 불포화 결합을 가진 화합물과의 예비중합에서 얻어진 중합 변성체도 사용이 가능하다.
상기 중합성 조성물은 공중합체 광학수지(광학재료)의 광학적인 물성을 향상시키기 위해, 내충격성, 비중 및 모노머 점도 등을 조절하는 목적으로 올레핀 화합물을 반응성 수지개질제로 더 포함할 수 있다. 반응성 수지개질제로서 첨가할 수 있는 올레핀 화합물로는, 예를 들어, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 부톡시메틸메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시메틸메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 페녹시 에틸아크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트,트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 비스글리시딜아크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 2,2-비스(4-아크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-아크록시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)프로판, 비스페놀 F 디아크릴레이트, 비스페놀 F 디메타크릴레이트, 1,1-비스(4-아크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-아크록시디에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)메탄, 디메티롤트리시클로데칸디아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리메타크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 글리세롤디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 메틸티오아크릴레이트, 메틸티오메타크릴레이트,페닐티오아크릴레이트, 벤질티오메타크릴레이트, 크실리렌디티올디아크릴레이트, 크실리렌디티올디메타크릴레이트, 메르캅토에틸설피드디아크릴레이트, 메르캅토에틸설피드디메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트 화합물 및, 알릴글리시딜에테르, 디알릴프탈레이트, 디알릴테레프탈레이트, 디알릴이소프탈레이트, 디알릴카보네이트, 디에틸렌글리콜비스알릴카보네이트 등의 알릴 화합물 및, 스티렌, 클로로스티렌, 메틸스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 디비닐벤젠, 3,9-디비닐스피로비(메타-디옥산) 등의 비닐 화합물 등이 있으나, 사용 가능한 화합물이 이들 예시 화합물로 제한되는 것은 아니다. 이들 올레핀 화합물은 단독, 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
본 발명에 있어서, 원료로서 사용되는 이소시아네이트화합물와 폴리티올화합물, 또한 수지개질제 화합물까지 포함한 원료의 사용 비율은, (NCO+NCS)/(SH+OH)의 관능기 몰비가, 통상, 0.5~3.0의 범위 내, 바람직하게는 0.6~2.0, 더욱 바람직하게는 0.8~1.5의 범위 내이다.
상기 중합성 조성물은, 이밖에도 필요에 따라, 내부 이형제, 자외선 흡수제, 염료, 안정제, 블루잉제 등의 임의 성분을 더 포함하고 있어도 좋다. 또한, 여기에, 우레탄수지 조성물과 공중합이 가능한, 에폭시화합물, 티오에폭시화합물, 비닐기 혹은 불포화기를 갖는 화합물 및 금속화합물 등을 더 포함시키는 것도 가능하다.
내부 이형제로는 인산에스테르 화합물, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다. 내부이형제는, 바람직하게는 중합성 조성물 중에 0.001~10 중량%로 포함된다. 바람직하게는 내부이형제로 인산에스테르화합물을 사용한다. 인산에스테르화합물은 포스포러스펜톡사이드(P2O5)에 2~3몰의 알코올 화합물을 부가하여 제조하는데, 이때 사용하는 알코올의 종류에 따라 여러 가지 형태의 인산에스테르화합물을 얻을 수 있다. 대표적인 것으로는 지방족 알콜에 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가되거나 노닐페놀기 등에 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 종류들이 있다. 본 발명의 중합성 조성물에, 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 인산에스테르화합물이 내부이형제로 포함될 경우, 이형성이 좋고 품질이 우수한 광학재료를 얻을 수 있어 바람직하였다. 내부이형제로 사용되는 인산에스테르 화합물은, 바람직하게는, 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페닐포스페이트(에틸렌옥사이드가 9몰 부가된 것 5 중량%, 에틸렌옥사이드가 8몰 부가된 것 80 중량%, 에틸렌옥사이드가 7몰 부가된 것 10 중량%, 에틸렌옥사이드가 6몰 이하 부가된 것 5 중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 11몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%), 폴리옥시에틸렌 노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것이 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르 포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 78중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%) 및 젤렉유엔™(Zelec UN™)으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 혹은 2종 이상의 화합물이다.
본 발명에서는 상기 중합성 조성물을 특정 조건으로 진공 처리한 후 주형 중합을 통해 광학재료를 얻는다. 먼저 진공 처리된 중합성 조성물을 개스켓 또는 테이프 등으로 유지된 성형 몰드 사이에 주입하여 중합한다. 중합조건은, 중합성 조성물, 촉매의 종류와 사용량, 몰드의 형상 등에 의해서 크게 조건이 다르기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 약 -50~150℃의 온도에서 1~50시간에 걸쳐 실시된다. 경우에 따라서는, 10~150℃의 온도범위에서 유지 또는 서서히 승온하여, 1~48시간에서 경화시키는 것이 바람직하다.
얻어진 폴리티오우레탄 수지에 대해서는, 필요에 따라, 어닐링 등의 처리를 실시해도 좋다. 처리 온도는 통상 50~150℃의 사이에 행해지지만, 90~140℃에서 실시하는 것이 바람직하고, 100~130℃에서 실시하는 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 폴리티오우레탄 수지는, 주형 중합 시의 몰드를 바꾸는 것으로 여러 가지의 형상의 성형체로서 얻을 수 있어, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드(LED) 등의 광학용 수지로서의 각종 용도에 사용하는 것이 가능하다. 특히, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드 등의 광학재료, 광학소자로서 적합하다.
본 발명의 티오우레탄계 광학재료로 이루어진 렌즈는, 필요에 따라 단면 또는 양면에 코팅층을 실시하여 사용해도 좋다. 코팅층으로서는, 프라이머층, 하드코트층, 반사방지막층, 방담코트막층, 방오염층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 실시될 수도 있으며, 복수의 코팅층으로 다층화하여 실시될 수도 있다. 양면에 코팅층을 실시하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 실시해도, 상이한 코팅층을 실시해도 좋다.
[ 실시예 ]
이하 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다. 그러나 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
시험 및 평가방법
이하의 물성 실험방법으로 제조된 광학렌즈의 물성을 측정하여 그 결과를 아래 표 1에 기재하였다.
1) 굴절률 및 아베수: Atago 사의 DR-M4 모델인 아베 굴절계를 사용하여 측정하였다.
2) 맥리: 100매의 렌즈를 USHIO USH-10D인 수은 아크램프(Mercury Arc Lamp) 아래 육안으로 관찰하고, 호상이 확인된 렌즈는 맥리가 있는 것으로 판정하여, 맥리 발생율을 산출하였다.
3) 백화: 100매의 렌즈를 중합 후 탈형한 다음 면가공하지 않은 상태로 조도 1800LUX 이상으로 조사하여 국소적으로 뿌연 현상이 육안관찰되는 수량을 백분율로 산출하였다.
4) 미세기포: 100매의 렌즈를 USHIO USH-10D인 수은 아크램프(Mercury Arc Lamp) 아래 육안으로 관찰하고, 미세기포 현상이 관찰되는 수량을 백분율로 산출하였다.
[ 실시예 1]
GMT(2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올) 25.09g, PETMP 19.66g, HDI 13.53g, IPDI 41.72g, 중합개시제 BTC 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g, 내부이형제(STEPAN사, 상품명 Zelec UN) 0.1g을 23℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 했다. 그 후, 온도를 23℃로 유지하면서, 2 torr에서 5분 동안 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 23℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 130℃에서 4시간 더 어닐링처리를 실시하였다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.578, 아베수 42, 내열성(Tg) 116℃ 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형후 이물질 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 백화는 보이지 않았으며, 안정한 품질의 수지가 얻어지는 것을 확인했다. 위의 평가방법으로 평가한 결과를 아래 표 1에 나타내었다.
[ 실시예 2~7]
실시예 1과 같은 방법으로 표 1에 기재된 조성에 따라 각각 조성물 및 렌즈를 제조하고 물성을 평가하여, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
[ 비교예 1]
GST(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올) 43.87g, IPDI 56.13g, 중합개시제 BTC 0.1g, 유기염료 HTAQ(20ppm) 및 PRD(10ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 1.5g, 내부이형제(STEPAN사, 상품명 Zelec UN) 0.1g을 28℃에서 혼합 용해하여, 균일 용액으로 했다. 그 후, 온도를 28℃로 유지하면서, 0.01 torr에서 0.5분 동안 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 실시하고, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 28℃~130℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼냈다. 몰드형으로부터의 이형성은 양호했다. 얻어진 수지를 더 130℃에서 4시간 어닐링처리를 실시했다. 얻어진 수지의 물성은, 굴절율(nE) 1.598, 아베수 41, 내열성(Tg) 132℃ 이었다. 몰드형에 주입전 용해된 상태를 육안으로 관찰하였고, 탈형 후 이물질 여부를 확인한 결과 이상이 없었고, 맥리 및 백화가 심하였다. 실시예 1과 같은 방법으로 맥리현상, 백화현상, 미세기포 등을 평가하여, 결과를 아래 표 1에 나타내었다.
[ 비교예 2~3]
비교예 1과 같은 방법으로, 표 1에 기재된 조성에 따라 조성물 및 렌즈를 제조하고 물성을 평가하여, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
구분
 실시예 비교예
1 2 3 4 5 6 7 1 2 3
진공도(torr),
시간(분, min.)		 2torr, 5min. 0.1 torr, 1.5min. 0.5
torr, 4min.		 4 torr, 80min. 6 torr, 100min. 10 torr, 120min. 15 torr,
120min		 0.01 torr, 0.5min. 22 torr, 125min. 0.5 torr, 4min.
진공처리 시 온도
(℃)		 23 28 28 31 35 38 25 28 28 13
모노머조성물
(g)
 GMT 25.09
GST 43.87 42.60 30.33 43.87 43.87 30.35 43.87
ETS-4 28.28
BDMS 4.45
BMMS 31.49
PETMP 19.66 17.65 17.98 18.28 18.25
HDI 13.53 12.15 12.37 12.38 12.59 12.59
IPDI 41.72 56.13 37.47 38.15 38.80 56.13 56.13 38.81 56.13
H12MDI 45.03
내부이형제
(g)		 Zelec UN 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
자외선흡수제
(g)		 HOPBT 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5
중합개시제(g) BTC 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
유기염료(ppm) HTAQ 20 20 20 20 20 20 20 20 20 20
PRD 10 10 10 10 10 10 10 10 10 10
렌즈
물성		 굴절율(nE, 20℃) 1.580 1.598 1.591 1.593 1.590 1.585 1.598 1.598 1.585 1.598
아베수 42 41 42 42 43 43 41 41 42 41
유리전이온도(Tg, ℃) 116 132 117 116 117 116 132 132 116 132
맥리 3 4 3 3 5 2 3 36 38 15
백화 6 9 5 6 8 10 12 25 36 21
미세기포 2 2 2 1 1 1 2 5 16 10
[약어]
모노머
GMT: 2-(2-메르캅토에틸티오)-프로판-1,3-디티올 (2-(2-mercaptoethylthio)-propane-1,3-dithiol)
GST: 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올
(2,3-bis(2-mercaptoethylthio)propane-1-thiol)
ETS-4 : 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄 (1,2-bis(2-(2-mercaptoethylthio)-3-mercaptopropylthio)ethane)
BDMS: 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)설파이드 (bis(2,3-dimercaptopropanyl)sulfide)
BMMS: 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)설파이드 (bis(2-(2-mercaptoethylthio)-3-mercaptopropyl)sulfide)
PETMP: 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) (pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate))
HDI: 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트 (hexamethylene-1,6-diisocyanate)
IPDI : 이소포론디이소시아네이트 (isophorone diisocyanate)
H12MDI:디시클로헥실메탄-4,4‘-디이소시아네이트 (dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate)
이형제
ZELEC UN: Stepan 사에서 제조하는 산성 인산에스테르화합물로 상품명 ZELEC UNTM
자외선 흡수제
HOPBT: 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸
(2-(2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl)benzotriazole)
유기염료
HTAQ:1-히드록시-4-(p-톨루딘)엔트로퀴논
[1-hydroxy-4-(p-toluidin)anthraquinone]
PRD: 퍼리논 염료(perinone dye)
중합개시제
BTC: 디부틸틴디클로라이드
본 발명에 따르면 맥리나 백화, 미세기포가 없는 품질이 우수한 티오우레탄계 광학재료를 용이하게 제조할 수 있으며, 본 발명에 따라 제조된 티오우레탄계 광학재료는 기존 광학재료를 대체하여 다양한 분야에서 널리 이용될 수 있다. 구체적으로 플라스틱 안경렌즈, 안경렌즈에 편광필름을 장착한 3D 편광렌즈, 카메라 렌즈 등으로 이용될 수 있으며, 이외에도 프리즘, 광섬유, 광디스크 등에 사용되는 기록 매체기판이나 착색필터와 자외선 흡수 필터 등의 다양한 광학제품에 이용될 수 있다.

Claims (10)

  1. 폴리티올화합물과 폴리이소시아네이트화합물을 포함하는 중합성 조성물을 주형중합하는 광학재료의 제조방법에 있어서, 상기 주형중합에 앞서 상기 중합성 조성물을 아래 식 1에서 X값이 0.01~2 가 되는 조건으로 진공 처리한 후 몰드에 주입하여 주형중합하는 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법.
    [식 1]
    X = T × 1/t
    (T는 torr로 표시되는 진공도이며, t는 진공처리하는 시간(분, min)이고, T는 0.01~20 범위이다.)
  2. 제1항에 있어서, 상기 폴리이소시아네이트화합물은, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI) 및 헥사메틸렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 및 톨릴렌디이소시아네이트로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 폴리티올화합물은, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)설파이드, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디설파이드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)설파이드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2 -비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올,(S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 진공 처리가 21~40℃의 온도범위에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법.
  5. 제2항에 있어서, 상기 중합성 조성물은, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토에틸)설피드, 비스(이소시아네이토프로필)설피드, 비스(이소시아네이토헥실)설피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설피드, 비스(이소시아네이토프로필)디설피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄,디페닐설피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설피드-3,3-디이소시아네이트, 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란 및 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 이소(티오)시아네이트화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합성 조성물은 내부이형제로 인산에스테르 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 인산에스테르 화합물은, 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페닐포스페이트(에틸렌옥사이드가 9몰 부가된 것 5 중량%, 에틸렌옥사이드가 8몰 부가된 것 80 중량%, 에틸렌옥사이드가 7몰 부가된 것 10 중량%, 에틸렌옥사이드가 6몰 이하 부가된 것 5 중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 11몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것이 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 78중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%) 및 젤렉유엔™(Zelec UN™)으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 혹은 2종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 티오우레탄계 광학재료의 제조방법.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조된 광학재료.
  9. 제8항의 광학재료로 이루어진 광학렌즈.
  10. 제9항에 있어서, 상기 광학렌즈는 안경렌즈 또는 편광렌즈인 광학렌즈.
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