KR102669070B1 - 신규한 에피설파이드 화합물, 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 86
- -1 episulfide compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 76
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 22
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 17
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 6
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 6
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000003003 phosphines Chemical group 0.000 claims description 3
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- YFRLQYJXUZRYDN-UHFFFAOYSA-K trichloro(methyl)stannane Chemical compound C[Sn](Cl)(Cl)Cl YFRLQYJXUZRYDN-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L dichloro(dimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(Cl)Cl PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical group I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 abstract description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 3
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 abstract description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 13
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 10
- RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 5-nonyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-ol Chemical compound C(CCCCCCCC)C1=C2C(=C(C=C1)O)O2 RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 9
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 9
- MQXDLVJMEUXJEU-UHFFFAOYSA-N 2-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)oxirane Chemical compound C1OC1CSCC1CS1 MQXDLVJMEUXJEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 8
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 241001550224 Apha Species 0.000 description 7
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 7
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-sulfanylethylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCSCC(CS)SCCS CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- SVEHZCKYZJXGCW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-(3-chloro-2-hydroxypropyl)sulfanylpropan-2-ol Chemical compound ClCC(O)CSCC(O)CCl SVEHZCKYZJXGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 5
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JMWGZSWSTCGVLX-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CCC(CO)(CO)CO JMWGZSWSTCGVLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- ABCGFHPGHXSVKI-UHFFFAOYSA-O meso-tetrakis(n-methyl-4-pyridyl)porphine(4+) Chemical compound C1=C[N+](C)=CC=C1C(C1=CC=C(N1)C(C=1C=C[N+](C)=CC=1)=C1C=CC(=N1)C(C=1C=C[N+](C)=CC=1)=C1C=CC(N1)=C1C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C2N=C1C=C2 ABCGFHPGHXSVKI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- PMRYVIKBURPHAH-UHFFFAOYSA-N methimazole Chemical compound CN1C=CNC1=S PMRYVIKBURPHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 4
- KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCCS KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 2-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)thiirane Chemical compound C1SC1CSCC1CS1 MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRKRMWWBDZSDMT-UHFFFAOYSA-N 2-[(thiiran-2-ylmethyldisulfanyl)methyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSSCC1CS1 JRKRMWWBDZSDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 3
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 3
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical group CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N propyl mercaptan Natural products CCCS SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- WTSBJMAOQNCZBF-UHFFFAOYSA-N sulfanylmethylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSCS WTSBJMAOQNCZBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SEOSQBZZSQXYDO-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)ON1C(C)(C)CCCC1(C)C SEOSQBZZSQXYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZVWTOVHGKLOX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(sulfanylmethyl)propane-1,3-dithiol Chemical compound SCC(CS)(CS)CS MTZVWTOVHGKLOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSSFYDMUTATOHG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)-3-[3-sulfanyl-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propyl]sulfanylpropane-1-thiol Chemical compound SCCSC(CS)CSCC(CS)SCCS VSSFYDMUTATOHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WISUILQECWFZCN-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)oxirane Chemical compound C1OC1CSCC1CO1 WISUILQECWFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 206010058314 Dysplasia Diseases 0.000 description 2
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002451 electron ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N isothiocyanate group Chemical group [N-]=C=S ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035800 maturation Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVGLIRDNPMKGBG-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-phenoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=1OC1=CC=CC=C1 XVGLIRDNPMKGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPLNSCKRXRCEIQ-TXEJJXNPSA-N (2r)-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)-3-[2-[(2s)-3-sulfanyl-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propyl]sulfanylethylsulfanyl]propane-1-thiol Chemical compound SCCS[C@@H](CS)CSCCSC[C@@H](CS)SCCS KPLNSCKRXRCEIQ-TXEJJXNPSA-N 0.000 description 1
- SQTMWMRJFVGAOW-OLQVQODUSA-N (2s)-3-[(2r)-2,3-bis(sulfanyl)propyl]sulfanylpropane-1,2-dithiol Chemical compound SC[C@H](S)CSC[C@H](S)CS SQTMWMRJFVGAOW-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- MKLWPNHZCPMADB-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-isocyanatoethylsulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCCSC(C)SCCN=C=O MKLWPNHZCPMADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVNGTGZGWDPIRR-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-tris(sulfanylmethylsulfanyl)ethylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)C(SCS)SCS XVNGTGZGWDPIRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAZUWMOGQKEUHE-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-isocyanatoethyl)benzene Chemical compound O=C=NCCC1=CC=CC=C1CCN=C=O FAZUWMOGQKEUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VODRFGZSOKHZDQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(3-isocyanatopropyl)benzene Chemical compound O=C=NCCCC1=CC=CC=C1CCCN=C=O VODRFGZSOKHZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCFNKSOIDNKUIO-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-isocyanatobutyl)benzene Chemical compound O=C=NCCCCC1=CC=CC=C1CCCCN=C=O YCFNKSOIDNKUIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHXPTDPKJYFMOE-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCCCC1CN=C=O GHXPTDPKJYFMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZROIUBWZBSCSE-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(CN=C=O)C(CN=C=O)=CC=C21 WZROIUBWZBSCSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIDUEESSWOVGNT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethyl-3,4-diisocyanatobenzene Chemical compound CCC1=CC=C(N=C=O)C(N=C=O)=C1CC PIDUEESSWOVGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMJDYWRDMVPQPF-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanato-3,4-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(N=C=O)C(N=C=O)=C1C(C)C MMJDYWRDMVPQPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOKSGFNBBSSNAL-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanato-3,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C(N=C=O)=C1C QOKSGFNBBSSNAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDXXHVBUMKDQL-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanato-3-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(N=C=O)=C1N=C=O HMDXXHVBUMKDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXWGKAYMVASWDQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dithiane Chemical group C1CCSSC1 CXWGKAYMVASWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-tris(sulfanylmethylsulfanyl)propylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)CC(SCS)SCS FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCCC(CN=C=O)C1 XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFTVILNYPYJIGL-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanato-2-(2-isocyanatoethylsulfanyl)propane Chemical compound O=C=NCCSC(CN=C=O)CN=C=O VFTVILNYPYJIGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCC(CN=C=O)CC1 ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,4,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)CC(C)(C)CCN=C=O QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHPMKWNWJJDEEC-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-sulfanylpropan-2-ol Chemical compound SCC(O)CCl VHPMKWNWJJDEEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 1-dodecylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AXIWPQKLPMINAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2,3-diisocyanatobenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(N=C=O)=C1N=C=O AXIWPQKLPMINAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLOQTKGUQKAAAB-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-(2-isocyanatoethoxy)ethane Chemical compound O=C=NCCOCCN=C=O QLOQTKGUQKAAAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUVLJNYSCQAYLV-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-(2-isocyanatoethylsulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCCSCCN=C=O QUVLJNYSCQAYLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSKIHBCMFWMQEA-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-(2-isocyanatoethylsulfanylmethylsulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCCSCSCCN=C=O OSKIHBCMFWMQEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDELCQKJXHQDEX-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-3-(3-isocyanatopropyldisulfanyl)propane Chemical compound O=C=NCCCSSCCCN=C=O KDELCQKJXHQDEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPWFHLLBKVXEBO-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-3-(3-isocyanatopropylsulfanyl)propane Chemical compound O=C=NCCCSCCCN=C=O CPWFHLLBKVXEBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTZHXCBUWSTOPO-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-[(4-isocyanato-3-methylphenyl)methyl]-2-methylbenzene Chemical compound C1=C(N=C=O)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N=C=O)=CC=2)=C1 DTZHXCBUWSTOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQWACSEFXBOCJ-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-6-(6-isocyanatohexylsulfanyl)hexane Chemical compound O=C=NCCCCCCSCCCCCCN=C=O DCQWACSEFXBOCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUXHRJWEQZJXDH-UHFFFAOYSA-N 1-nonoxynonane;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.CCCCCCCCCOCCCCCCCCC CUXHRJWEQZJXDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQKTVPLJMZNDPJ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(2-propylsulfanylthiiran-2-yl)-1,4-dithiane Chemical compound C(CC)SC1(CS1)C1(SCCSC1)C1(CS1)SCCC XQKTVPLJMZNDPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLFBCCJUPHGNM-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-tris(2-propylsulfanylthiiran-2-yl)-1,4-dithiane Chemical compound C1SC(C2(SC2)SCCC)C(C2(SC2)SCCC)SC1C1(SCCC)CS1 IBLFBCCJUPHGNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRHYSCLREHLE-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)-1,4-dithiane Chemical compound O=C=NCC1CSC(CN=C=O)CS1 YRHRHYSCLREHLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEAAXJONQWQISB-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)bicyclo[2.2.1]heptane Chemical compound C1C2C(CN=C=O)CC1C(CN=C=O)C2 LEAAXJONQWQISB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVLMYSAVQJGHAN-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)thiolane Chemical compound O=C=NCC1CCC(CN=C=O)S1 BVLMYSAVQJGHAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDLJDZLEOKUVHM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)thiophene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)S1 BDLJDZLEOKUVHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNVYHRRERQYAEF-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisocyanato-1,4-dithiane Chemical compound O=C=NC1CSC(N=C=O)CS1 JNVYHRRERQYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWROYNZKLNPZHR-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisocyanatothiolane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)S1 YWROYNZKLNPZHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNKIKONDIUVILW-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisocyanatothiophene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)S1 QNKIKONDIUVILW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKJDFSNCHROEEB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)-3-[2-[2-[3-sulfanyl-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propyl]sulfanylethylsulfanyl]ethylsulfanyl]propane-1-thiol Chemical compound SCCSC(CS)CSCCSCCSCC(CS)SCCS HKJDFSNCHROEEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPLNSCKRXRCEIQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)-3-[2-[3-sulfanyl-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propyl]sulfanylethylsulfanyl]propane-1-thiol Chemical compound SCCSC(CS)CSCCSCC(CS)SCCS KPLNSCKRXRCEIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMQLVDGUUMEKMO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)-3-[[3-sulfanyl-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propyl]disulfanyl]propane-1-thiol Chemical compound SCCSC(CS)CSSCC(CS)SCCS SMQLVDGUUMEKMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQLQMVQEQFIDQB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCSC(CS)CS NQLQMVQEQFIDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOAWSOHAFHJTPI-UHFFFAOYSA-N 2-[(thiiran-2-ylmethyldisulfanyl)methyl]oxirane Chemical compound C1OC1CSSCC1CS1 XOAWSOHAFHJTPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTEWPHJCEXIMRJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2,3-bis(2-sulfanylethylsulfanyl)propylsulfanyl]ethanethiol Chemical compound SCCSCC(SCCS)CSCCS QTEWPHJCEXIMRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWCAKHYIRNXABL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propylsulfanyl]ethanethiol Chemical compound SCCSC(C)CSCCS OWCAKHYIRNXABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQKFQBSUWRZIAR-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)cyclohexyl]methylsulfanylmethyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSCC(CC1)CCC1CSCC1CS1 WQKFQBSUWRZIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C=C PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095095 2-hydroxyethyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETNVDBWXCXKAF-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.SCCSCCS KETNVDBWXCXKAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1=C(N=C=O)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N=C=O)=CC=2)=C1 QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVLKIWFNAPTXLZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(isocyanatomethyl)thiolane Chemical compound O=C=NCC1CSCC1CN=C=O TVLKIWFNAPTXLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIHIYRYYEMJNPB-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydrodithiine Chemical compound C1SSCC=C1 OIHIYRYYEMJNPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJOSZJBREQTVHQ-UHFFFAOYSA-N 3,8-bis(isocyanatomethyl)tricyclo[5.2.1.02,6]decane Chemical compound C1C2C3C(CN=C=O)CCC3C1C(CN=C=O)C2 AJOSZJBREQTVHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOXMQACSWCZQLX-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(ethenyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OC(C=C)OCC21COC(C=C)OC2 OOXMQACSWCZQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MREPGCSXKOVOII-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(isocyanatomethyl)tricyclo[5.2.1.02,6]decane Chemical compound C1C(CN=C=O)C2C3C(CN=C=O)CCC3C1C2 MREPGCSXKOVOII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCGYTRZLSMAPQC-UHFFFAOYSA-N 3-(2-sulfanylethylsulfanyl)-2-[1-sulfanyl-3-(2-sulfanylethylsulfanyl)propan-2-yl]sulfanylpropane-1-thiol Chemical compound SCCSCC(CS)SC(CS)CSCCS OCGYTRZLSMAPQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTRMNYKTDJIULH-UHFFFAOYSA-N 3-[2,3-bis(sulfanyl)propyldisulfanyl]propane-1,2-dithiol Chemical compound SCC(S)CSSCC(S)CS NTRMNYKTDJIULH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZPQYIBJZXONAE-UHFFFAOYSA-N 4,5-bis(isocyanatomethyl)-1,3-dithiolane Chemical compound O=C=NCC1SCSC1CN=C=O KZPQYIBJZXONAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Natural products C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHGUZUVUYGQBMX-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.[SiH2]=S1SCC=C1 Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.[SiH2]=S1SCC=C1 IHGUZUVUYGQBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBGSUANKNSADFQ-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)OC(C=C)=S Chemical compound C1(=CC=CC=C1)OC(C=C)=S CBGSUANKNSADFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRANNTKZJNTXAU-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C)C(C)=CC=C1.N=C=O.N=C=O.N=C=O Chemical compound CC1=C(C)C(C)=CC=C1.N=C=O.N=C=O.N=C=O JRANNTKZJNTXAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- NPBTYNRGLVLCSG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.C1CCCCC1C(C)(C)C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.C1CCCCC1C(C)(C)C1CCCCC1 NPBTYNRGLVLCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQSSNGKVNWXYOE-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCC(C)CC(C)(C)C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCC(C)CC(C)(C)C OQSSNGKVNWXYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFWSSBVVMCUQFC-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCC(C)(C)C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCC(C)(C)C MFWSSBVVMCUQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQBULADVXFFSCF-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.SCCSCCS Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.SCCSCCS MQBULADVXFFSCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDBFCTUZUDONRH-UHFFFAOYSA-N OC(CN1C(CC(CC1(C)C)C=C(C(=O)O)C)(C)C)CSCC1SC1.C(C(=C)C)(=O)O Chemical compound OC(CN1C(CC(CC1(C)C)C=C(C(=O)O)C)(C)C)CSCC1SC1.C(C(=C)C)(=O)O GDBFCTUZUDONRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQFDQKHIHPQLBK-UHFFFAOYSA-N S-[2,3-bis(sulfanyl)propanoyl] 2,3-bis(sulfanyl)propanethioate Chemical compound SC(C(=O)SC(C(CS)S)=O)CS AQFDQKHIHPQLBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHXCBYAWHFDMGZ-UHFFFAOYSA-N S-[2,3-bis(sulfanyl)propanoylsulfanyl] 2,3-bis(sulfanyl)propanethioate Chemical compound SC(C(=O)SSC(C(CS)S)=O)CS JHXCBYAWHFDMGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)OC(=O)C(C)=C UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXBGTBZBEQFNLE-UHFFFAOYSA-N [4-[[2,3-diethoxy-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]methyl]-2,3-diethoxyphenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(C)=C)=C(OCC)C(OCC)=C1CC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C(OCC)=C1OCC BXBGTBZBEQFNLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N [4-[[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]methyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1CC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNSUVMHSJGIMDL-UHFFFAOYSA-N [6-(sulfanylmethylsulfanyl)-1,3-dithian-4-yl]sulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC1CC(SCS)SCS1 QNSUVMHSJGIMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C=C1 ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCELSSNUBBRCHW-UHFFFAOYSA-N butoxymethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCOCOC(=O)C(C)=C PCELSSNUBBRCHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M cetalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000228 cetalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- JBRVDBBLWMNHDA-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.OCCO JBRVDBBLWMNHDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC)C1=CC=CC=C1 IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- BGXUHYCDVKDVAI-UHFFFAOYSA-N isocyanato(isocyanatomethylsulfanyl)methane Chemical compound O=C=NCSCN=C=O BGXUHYCDVKDVAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHWJTCDUSSCFOZ-UHFFFAOYSA-N isocyanato(isocyanatomethylsulfanylmethylsulfanyl)methane Chemical compound O=C=NCSCSCN=C=O ZHWJTCDUSSCFOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNIQRWPMYHDBNS-UHFFFAOYSA-N isocyanato(isocyanatomethylsulfonyl)methane Chemical compound O=C=NCS(=O)(=O)CN=C=O CNIQRWPMYHDBNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFUBORBAMWUXTI-UHFFFAOYSA-N isocyanato-(isocyanatomethyldisulfanyl)methane Chemical compound O=C=NCSSCN=C=O OFUBORBAMWUXTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- IXBUFAUQDFHNGI-UHFFFAOYSA-N methylsulfanylmethanethiol Chemical group CSCS IXBUFAUQDFHNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- AYUGZEPJBRZOHA-UHFFFAOYSA-N o-benzyl 2-methylprop-2-enethioate Chemical compound CC(=C)C(=S)OCC1=CC=CC=C1 AYUGZEPJBRZOHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHALHNJABQFTEG-UHFFFAOYSA-N o-methyl 2-methylprop-2-enethioate Chemical compound COC(=S)C(C)=C VHALHNJABQFTEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQVGTULYLYOGPL-UHFFFAOYSA-N o-methyl prop-2-enethioate Chemical compound COC(=S)C=C SQVGTULYLYOGPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLTZIQGUEWGCCS-UHFFFAOYSA-N octahydro-2,5-bis(isocyanatomethyl)-4,7-methano-1h-indene Chemical compound C1C2CC(CN=C=O)C1C1C2CC(CN=C=O)C1 DLTZIQGUEWGCCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- IWOKCMBOJXYDEE-UHFFFAOYSA-N sulfinylmethane Chemical compound C=S=O IWOKCMBOJXYDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229940052367 sulfur,colloidal Drugs 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VJFXTJZJJIZRKP-UHFFFAOYSA-M tetraphenylazanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[N+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VJFXTJZJJIZRKP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D409/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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Abstract
본 발명은 에피설파이드계 광학재료용 조성물 중에 소량 포함시킴으로써 광학재료의 내광성, 내열성 및 투명성을 개선할 수 있는 신규한 에피설파이드 화합물과 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물, 광학재료의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에서는, 아래 화학식 2로 표시되는 에피설파이드 화합물, 아래 화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물, 폴리티올 화합물 및 중합촉매를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
(X, Y는 수소, 하이드록실기, 알킬기, 아릴기, 지환족기, 아미노기, 옥심 또는 에스테르기이며, X, Y는 서로 동일하거나 또는 다르다.)
[화학식 1]
(X, Y는 수소, 하이드록실기, 알킬기, 아릴기, 지환족기, 아미노기, 옥심 또는 에스테르기이며, X, Y는 서로 동일하거나 또는 다르다.)
Description
본 발명은 신규한 에피설파이드 화합물과 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료에 관한 것으로, 특히 에피설파이드계 광학재료용 조성물 중에 소량 포함시킴으로써 광학재료의 내광성, 내열성 및 투명성을 개선할 수 있는 신규한 에피설파이드 화합물과 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물, 광학재료의 제조방법에 관한 것이다.
플라스틱 렌즈는 가볍고 내충격성이 좋고 착색이 용이하여, 근래 대부분의 안경렌즈에 플라스틱 렌즈가 사용되고 있다. 플라스틱 안경렌즈는 경량성, 투명성, 낮은 황색도, 내열성, 내광성, 강도를 개선하는 방향으로 발전되어 왔다.
한국등록특허 10-0681218호에서는 에피설파이드계 플라스틱 렌즈를 개시하고 있다. 에피설파이드계 렌즈는 고굴절률이면서도 고아베수를 갖는 우수한 성질이 있으나, 인장강도, 압축강도, 착색성, 하드 접착력, 생산성 등의 면에서 문제가 많다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 두 종류의 서로 다른 성질의 수지를 공중합하는 방법, 즉 에피설파이드 화합물과 폴리티올 화합물 또는 여기에 폴리이소시아네이트 화합물을 함께 공중합하는 방법이 한국등록특허 10-0417985호, 일본공개특허 평11-352302호 등에서 제안되었다.
최근에는 에피설파이드 화합물을 포함하는 에피설파이드계 렌즈에서 굴절율을 더욱 높여 1.71 이상의 초고굴절률과 고아베수를 달성하기 위해, 에피설파이드 화합물에 황 원자나 셀레늄 원자 등의 무기 화합물을 배합하는 광학재료용 조성물이 제안되었다(일본 공개특허 2001-2783).
그러나 에피설파이드계 렌즈에서는 내광성 및 내열성이 떨어지고 종종 투명성이 저하되는 문제가 있다.
에피설파이드계 고굴절 광학렌즈에서는 내광성, 내열성이 떨어지고 종종 투명성이 저하되는 문제가 있다. 이러한 문제는 사용자가 장시간 야외활동이나 사우나 같은 고온 환경에 노출될 때 렌즈의 변형을 초래할 수 있으며, 렌즈의 품질을 떨어뜨리게 된다. 또, 투명성 저하의 경우 이로 인한 불량으로 생산성을 저하시키게 되고, 상품화에 지장을 초래할 수 있다.
본 발명에서는 에피설파이드계 광학재료용 조성물에 새로운 에피설파이드 화합물을 포함시킴으로써 이러한 문제를 해결하고자 한다. 본 발명의 목적은 에피설파이드계 고굴절 광학렌즈에서 나타나는 낮은 내광성 및 내열성과 투명성 저하의 문제를 해결할 수 있는 새로운 에피설파이드 화합물을 제공하는 것이다. 또한, 이 화합물을 이용하여 내광성, 내열성 및 투명성이 우수한 에피설파이드계 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는,
아래 화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물을 제공한다.
또한, 본 발명에서는,
아래 화학식 2로 표시되는 에피설파이드 화합물,
아래 화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물,
폴리티올 화합물 및
중합촉매를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
(X, Y는 수소, 하이드록실기, 알킬기, 아릴기, 지환족기, 아미노기, 옥심 또는 에스테르기이며, X, Y는 서로 동일하거나 또는 다르다.)
[화학식 2]
(식 중에서 X, Y는 O 또는 S이며, m은 0~4의 정수이며, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)
상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물은 황을 더 포함할 수 있다.
상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물은 폴리이소시아네이트 화합물을 더 포함할 수 있다.
상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물은, 주석할로겐 화합물을 중합조절제로 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물을 중합시키는 것을 포함하는, 에피설파이드계 고굴절 광학재료의 제조방법을 제공한다.
본 발명에서 제공하는 화학식 1의 에피설파이드 화합물은 신규한 화합물로, 에피설파이드계 광학재료에서 나타나는 낮은 내광성 및 내열성과 투명성 저하의 문제를 해결할 수 있다. 본 발명에서는 이 화합물을 에피설파이드계 광학재료용 조성물에 10중량% 이하로 소량 포함시켜 중합하는 비교적 간단한 방법으로 내광성, 내열성 및 투명성이 우수한 에피설파이드계 광학재료를 얻을 수 있다.
본 발명에서 '고굴절'은 특별히 한정하지 않으면 1.67 이상부터 통상 초고굴절로 지칭되는 1.71 이상까지 모두 포함하는 의미이다. 한정되는 것은 아니나 보통 굴절률 1.67에서 1.77 범위가 여기에 해당된다.
본 발명에서는 아래 화학식 1로 표시되는 신규한 에피설파이드 화합물을 제공한다.
(X, Y는 수소, 하이드록실기, 알킬기, 아릴기, 지환족기, 아미노기, 옥심 또는 에스테르기이며, X, Y는 서로 동일하거나 또는 다르다.)
화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물을 에피설파이드계 광학재료용 조성물에 소량 포함시켜 중합하면 내광성, 내열성 및 투명성 면에서 훨씬 좋은 광학재료를 얻을 수 있다. 화학식 1로 표시되는 화합물은 에피설파이드계 광학재료용 조성물 전체 중량 중에 0.01~10중량%로 포함시키는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.01~7중량%, 더욱 바람직하게는 0.05~5중량%로 포함시켜 사용할 수 있다.
화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물은, 예를 들어, 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드와 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘을 반응시키는 방법으로, 또는 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드와 2,2,6,6-테트라메틸피페리딜 메타아크릴레이트를 반응시키는 등의 방법으로 얻을 수 있다. 피클로로히드린을 출발물질로 하여 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)설파이드를 얻은 후, 가성소다 용액으로 처리하여 비스(2,3-에폭시프로필)설파이드를 얻을 수 있다. 비스(2,3-에폭시프로필)설파이드는 티오우레아를 선택적으로 반응시켜 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드를 얻을 수 있다. 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드와 힌더드 아민을 유기용매에 녹인 후, 30~35℃에서 반응시켜 본 발명의 신규 에피설파이드 화합물(화학식 1)을 얻을 수 있다. 경우에 따라서는 유기용매를 사용하지 않고 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드와 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드의 혼합물에 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드과 힌더드 아민의 1:1 반응으로 신규 에피설파이드 화합물(화학식 1)을 얻을 수 있다.
본 발명의 에피설파이드계 광학재료용 조성물은, 아래 화학식 2로 표시되는 에피설파이드 화합물, 상기 화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물, 폴리티올 화합물 및 중합촉매를 포함한다.
(식 중에서 X, Y는 O 또는 S이며, m은 0~4의 정수이며, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)
상기 화학식 2로 표시되는 에피설파이드 화합물은, 에피설파이드계 광학재료용 조성물의 주성분이다. 상기 화학식 2 에피설파이드 화합물은, 예를 들어, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드, 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)디설파이드, 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]메탄, 2,2-비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]프로판, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)시클로헥실]설파이드 등의 지환족골격을 갖는 에피설파이드화합물; 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]설파이드, 비스[4-(β-에피티오프로필티오)페닐]설핀, 4,4-비스(β-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족골격을 갖는 에피설파이드화합물; 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸)-1,4-디티안, 2,3,5-트리(β-에피티오프로필티오에틸)-1,4-디티안 등의 디티안사슬 골격을 갖는 에피설파이드화합물; 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판, 1,2-비스[(2-β-에피티오프로필티오에틸)티오]-3-(β-에피티오프로필티오)프로판, 테트라키스(β-에피티오프로필티오메틸)메탄, 1,1,1-트리스(β-에피티오프로필티오메틸)프로판, 비스-(β-에피티오프로필)설파이드 등의 지방족 골격을 갖는 에피설파이드화합물 등이 될 수 있다. 이외에도 에피설파이드화합물로 에피설파이드기를 가진 화합물의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 폴리티올과의 프리폴리머형 변성체 등도 사용될 수 있다.
상기 에피설파이드 화합물로, 바람직하게는, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드, 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드, 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)디설파이드, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3 및 1,4-비스(β-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에피티오프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2-(2-β-에피티오프로필티오에틸티오)-1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판 중 1종 이상을 사용할 수 있다.
상기 폴리티올화합물은, 특별히 한정되지 않고 최소한 1개 이상의 티올기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄; 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)설파이드, 비스(2,3-디메르캅토프로판닐)디설파이드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)설파이드, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)디설파이드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2 -비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올, (S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 이외에도 1개 이상의 티올기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한 폴리티올화합물에 이소시아네이트나 에피설파이드 화합물, 티에탄 화합물 또는 수지개질제로 불포화 결합을 가진 화합물과의 예비중합에서 얻어진 중합 변성체도 사용이 가능하다.
폴리티올화합물로, 특히 바람직하게는, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드 또는 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 또는 여기에 다른 폴리티올화합물을 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
폴리티올은 바람직하게는 상기 광학재료용 조성물 중에 1~15중량% 포함될 수 있으며, 보다 바람직하게는 4~13중량%, 더욱 바람직하게는 5~11중량% 포함될 수 있다.
상기 중합촉매는, 바람직하게는 아민, 제4급 암모늄염, 제4급 포스포늄염, 제3급 술포늄염, 제2급 요오드늄염, 포스핀 화합물 중에서 선택된 1종 이상을 사용한다. 보다 바람직하게는 제4급 암모늄염, 제4급 포스포늄염, 포스핀 화합물 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 제4급 암모늄염으로는, 예를 들어, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 테트라페닐암모늄브로마이드, 트리에틸벤질암모늄클로라이드, 세틸디메틸벤질암모늄클로라이드, 1-n-도데실피리디늄클로라이드 등을 사용할 수 있다. 제4급 포스포늄염으로는, 예를 들어, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드 등을 사용할 수 있다. 포스핀 화합물로는 트리페닐포스핀 등을 사용할 수 있다. 특히 바람직하게는 상기 중합촉매는 제4급 포스포늄염이며, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드 중 어느 하나를 포함한다. 이들 중합 촉매는 단독으로 사용하거나 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물은 황을 더 포함할 수 있다. 황을 더 포함할 경우 굴절률을 1.71 이상의 초고굴절로 높일 수 있다. 조성물에 포함되는 황은 바람직하게는 순도 98% 이상이다. 98% 미만의 경우, 불순물의 영향으로 광학재료의 투명도가 떨어질 수 있다. 황의 순도는 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 특히 바람직하게는 99.5% 이상이다. 통상 상업적으로 입수 가능한 황은 형상이나 정제법의 차이에 의해 구분되는데, 미분황, 콜로이드황, 침강황, 결정황, 승화황 등이 있다. 본 발명에서는, 순도 98% 이상이면 어떤 황이나 사용 가능하다. 바람직하게는, 광학재료용 조성물 제조시 용해가 용이한 미세입자의 미분황을 사용할 수 있다. 조성물 중 황의 함유량은, 바람직하게는 상기 광학재료용 조성물 전체 중량 중 1~40중량%이며, 보다 바람직하게는 2~30중량%, 가장 바람직하게는 3~22중량%이다.
상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물은 폴리이소시아네이트 화합물을 더 포함할 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물은, 특별히 한정되지 않고 최소한 1개 이상의 이소시아네이트 기 및/또는 이소티오시아네이트 기를 가진 화합물이 사용될 수 있다. 예를 들어, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르 등의 지방족 이소시아네이트 화합물; 이소포론디이소시아네이트, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트 화합물; 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 디페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 비벤질-4,4'-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3'-디메톡시비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트 화합물; 비스(이소시아네이토에틸)설파이드, 비스(이소시아네이토프로필)설파이드, 비스(이소시아네이토헥실)설파이드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설파이드, 비스(이소시아네이토프로필)디설파이드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄 등의 함황 지방족 이소시아네이트 화합물; 디페닐설파이드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설파이드-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시-4,4'-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설파이드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디설파이드-4,4'-디이소시아네이트, 2,2'-디메틸디페닐디설파이드-5,5'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐디설파이드-5,5'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐디설파이드-6,6'-디이소시아네이트, 4,4'-디메틸디페닐디설파이드-5,5'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시디페닐디설파이드-4,4'-디이소시아네이트, 4,4'-디메톡시디페닐디설파이드-3,3'-디이소시아네이트 등의 함황 방향족 이소시아네이트 화합물; 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등의 함황 복소환 이소시아네이트 화합물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물이 사용될 수 있다. 이외에도 최소한 1개 이상의 이소시아네이트 기 및/또는 이소티오시아네이트 기를 가진 화합물이면 1종 또는 2종 이상을 혼합 사용할 수 있다. 또한, 이들 이소시아네이트 화합물의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나, 다가 알코올 혹은 티올과의 프리폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체 혹은 다이머화, 트라이머화 반응 생성물 등도 사용 가능하다. 폴리이소시아네이트 화합물로, 바람직하게는, 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 디사이클로헥실메탄디이소시아네이트(H12MDI), 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.
상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물은 중합조절제로 주석할로겐 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 주석할로겐 화합물은 바람직하게는 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드 중 어느 하나 또는 여기에 모노메틸주석트리클로라이드가 소량 포함된 것을 사용할 수 있다. 더욱 바람직하게는 모노메틸주석트리클로라이드는 0.1~3.5중량%로 포함될 수 있다. 에피설파이드계 광학재료용 조성물은 중합 경화시킬 때 반응이 빠르게 진행되어 조성물의 점도가 급격하게 상승될 수 있다. 상기 중합 조절제는 반응속도를 조절함으로써 점도의 급격한 상승을 억제할 수 있으므로, 상기 중합 조절제의 사용으로 이러한 문제를 해결할 수 있다. 상기 중합 조절제는 광학재료용 조성물 전체 중량 중 0.01~5 중량%로 사용하는 것이 바람직하다. 이 중합 조절제의 사용으로 중합 속도를 조절하여 점도의 급격한 상승을 억제할 수 있을 뿐만 아니라 그 결과 중합 수율이 높아지고, 기포의 발생 또한 없어진다.
상기 에피설파이드계 광학재료용 조성물 중에 황을 포함할 경우, 프리폴리머를 형성한 후 중합하는 것이 바람직한데, 이때 프리폴리머의 형성을 원활하게 하기 위해 바람직하게는 중합조절제로 알킬이미다졸을 더 포함할 수 있다. 상기 알킬이미다졸은 특히 바람직하게는 2-메르캅토-1-메틸이미다졸을 포함한다. 2-메르캅토-1-메틸이미다졸은 바람직하게는 순도 98% 이상의 것을 사용한다. 광학재료용 조성물 중에 바람직하게는 0.01~5중량% 포함될 수 있으며, 보다 바람직하게는 0.1~3중량%, 더욱 바람직하게는 0.15~1중량%가 포함될 수 있다.
본 발명의 광학재료용 조성물은 내부이형제를 더 포함할 수 있다. 바람직하게는 내부이형제로 인산에스테르 화합물을 포함할 수 있다. 인산에스테르 화합물은 포스포러스펜톡사이드(P2O5)에 2~3몰의 알코올 화합물을 부가하여 제조하는데 이때 사용하는 알코올 종류에 따라 여러 가지 형태의 인산에스테르 화합물을 얻을 수 있다. 대표적인 것으로는 지방족 알코올에 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가되거나 노닐페놀기 등에 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 종류들이다. 본 발명의 중합성 조성물에, 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 인산에스테르화합물이 내부이형제로 포함될 경우, 이형성이 좋고 품질이 우수한 광학재료를 얻을 수 있어 바람직하다. 본 발명의 조성물은, 내부이형제로, 바람직하게는, 4-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PENPP[폴리옥시에틸렌 노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PENPP[폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르 포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 6중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 5중량%)], 4-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%)], 8-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가 된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%)], 12-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%)], 16-PPNPP[폴리옥시프로필렌 노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%)], 20-PPNPP[폴리옥시프로필렌노닐페놀에테르포스페이트(프로필렌옥사이드가 21몰 부가된 것 6중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 5중량%)] 및 Zelec UNTM 중에서 선택된 1종 이상을 사용한다. 이러한 인산에스테르화합물의 할로겐화합물 치환체를 비롯한 각종 치환체들도 같은 목적으로 사용이 가능하다.
본 발명의 광학재료용 조성물은, 광학재료의 광학적인 물성을 향상시키기 위해, 내충격성, 비중 및 모노머 점도 등을 조절하는 목적으로 올레핀 화합물을 반응성 수지개질제로 더 포함할 수 있다. 수지개질제로서 첨가할 수 있는 올레핀 화합물로는, 예를 들어, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 부톡시메틸메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시메틸메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 페녹시 에틸아크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜아크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 2,2-비스(4-아크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-아크록시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)프로판, 비스페놀 F 디아크릴레이트, 비스페놀 F 디메타크릴레이트, 1,1-비스(4-아크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-아크록시디에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)메탄, 디메티롤트리시클로데칸디아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리메타크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 글리세롤디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 메틸티오아크릴레이트, 메틸티오메타크릴레이트, 페닐티오아크릴레이트, 벤질티오메타크릴레이트, 크실리렌디티올디아크릴레이트, 크실리렌디티올디메타크릴레이트, 메르캅토에틸설파이드디아크릴레이트, 메르캅토에틸설파이드디메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트 화합물 및, 알릴글리시딜에테르, 디알릴프탈레이트, 디알릴테레프탈레이트, 디알릴이소프탈레이트, 디알릴카보네이트, 디에틸렌글리콜비스알릴카보네이트 등의 알릴 화합물 및 스티렌, 클로로스티렌, 메틸스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 디비닐벤젠, 3,9-디비닐스피로비(m-디옥산) 등의 비닐 화합물 등이 있으며, 사용 가능한 화합물이 이들 예시 화합물로 제한되는 것은 아니다. 이들 올레핀 화합물은 단독, 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
본 발명의 광학재료용 조성물은 필요에 따라 자외선 흡수제를 더 포함할 수 있다. 자외선 흡수제는 광학재료의 내광성 향상 및 자외선 차단을 위하여 사용되는데, 광학재료에 사용되는 공지의 자외선 흡수제가 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 2-(2'-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2,4-디히드록시벤조페논; 2-히드록시-4-메톡시벤조페논; 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논; 4-도데실옥시-2-히드록시벤조페논; 4-벤조록시-2-히드록시벤조페논; 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논; 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 등이 단독으로 또는 2종 이상 혼합 사용될 수 있다.
바람직하게는, 400㎚ 이하의 파장역에서 양호한 자외선 흡수능을 가지고, 본 발명의 조성물에 양호한 용해성을 갖는, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸과 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 등을 사용할 수 있다. 이와 같은 자외선 흡수제는 광학재료용 조성물 100g에 대해 0.6g 이상으로 사용될 때 400nm 이상의 차단이 가능하다.
본 발명의 광학재료용 조성물은 이밖에도 필요에 따라 쇄연장제, 가교제, 광안정제, 산화방지제, 착색 방지제, 유기염료, 충전제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
위와 같이 조성된 본 발명의 광학재료용 조성물은, 바람직하게는 액상 점도가 500cps(20℃) 이하이며, 중합 후 고상굴절율(Ne)이 황을 포함하지 않을 경우 1.67~1.70, 황을 포함할 경우 1.71~1.77 이다.
위와 같이 조성된 조성물을 주형 중합시키면 에피설파이드계 광학재료를 얻을 수 있다. 좀 더 자세히 설명하면 다음과 같다. 먼저, 개스켓 또는 테이프 등으로 유지된 성형 몰드 사이에, 본 발명의 중합성 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 광학재료에 요구되는 물성에 따라, 또 필요에 따라, 감압 하에서의 탈포처리나 가압, 감압 등의 여과처리 등을 실시하는 것이 바람직한 경우가 많다. 중합조건은, 중합성 조성물, 촉매의 종류와 사용량, 몰드의 형상 등에 의해서 크게 조건이 달라지기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 약 -50~130℃의 온도에서 1~50시간에 걸쳐 실시된다. 경우에 따라서는, 10~130℃의 온도범위에서 유지 또는 서서히 승온하여, 1~48 시간에서 경화시키는 것이 바람직하다.
경화로 얻어진 에피설파이드화합물계 광학재료는, 필요에 따라, 어닐링 등의 처리를 실시해도 좋다. 처리 온도는 통상 50~130℃의 사이에서 행해지며, 90~120℃에서 실시하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광학재료는, 주형 중합 시의 몰드를 바꾸는 것으로 여러 가지의 형상의 성형체로 얻을 수 있으므로, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드(LED) 등의 각종 광학재료로 사용하는 것이 가능하다. 특히, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드 등의 광학재료, 광학소자로서 적합하다.
본 발명에 따라 얻어진 에피설파이드계 광학재료는 하드 접착성이 뛰어나 프라이머 없이도 하드 코팅이 가능하고, 코팅이 매우 용이하며, 코팅의 안정성 또한 매우 우수하다. 본 발명에 따라 얻어진 플라스틱 광학렌즈는 이밖에도 필요에 따라, 단면 또는 양면에 다양한 코팅층을 형성하여 사용할 수 있다. 코팅층으로서는, 프라이머층, 하드코팅층, 반사방지막층, 방담코트막층, 방오염층, 발수층 등이 모두 가능하며, 이들 코팅층은 각각 단독으로 사용하는 것도 복수의 코팅층을 다층화하여 사용해도 좋다. 또한, 양면에 코팅층을 형성하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 형성하는 것이나, 상이한 코팅층을 형성하는 것 모두 가능하다.
이하 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[
합성예
1]
비스(3-클로로-2-히드록시프로필)설파이드의 합성
10리터의 반응기에 에피클로로히드린 (5563g, 60.12 mol) 및 메탄올 (3500g)을 첨가하고 반응온도를 6℃에 맞추고 반응온도가 6℃에 도달했을 때 가성소다 (50% (aq), 5g)를 첨가하였다. 또 다른 10리터의 반응기에 NaSH.xH2O (70% NaSH, 3660g, 45.75mol), 메탄올(1000g) 및 물(500g)을 첨가하고 교반하여 완전히 녹이고, 35.5% 진한염산을 천천히 적가하여 발생한 황화수소 가스를 에피클로로히드린 용액에 첨가하여 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)설파이드 및 3-클로로-2-히드록시-프로판-1-티올을 얻었고, 이 반응용액에 에피클로로히드린을 첨가하여 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)설파이드를 얻었다. 반응의 종결은 최종생성물을 GC로 확인하여 에피클로로히드린과 3-클로로-2-히드록시프로판-1-티올화합물이 완전히 없어지는 시점으로 하였다.
[
합성예
2]
2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드의 합성
10리터의 반응용기에 비스(3-클로로-2-히드록시프로필)설파이드 1071.15g (4.89mol), 톨루엔 1300g 및 메탄올 800g을 넣고, 교반하면서 반응내부온도를 30℃에 맞춘다. 반응 내부온도가 25℃ 부근에 도달했을 때 50% NaOH(aq) 783.08g (9.78mol)을 적가하고, 적가 시 반응온도는 35~37℃에서 행하고, 이 온도를 유지하면서 반응시켰다. 적가는 1시간 이내로 하며 숙성은 37℃에서 약 30분 동안 행하고 숙성이 끝나면 톨루엔 2000g를 첨가하여 약 10분 동안 교반하고 층분리하여 상층액인 유기층을 물로 3회 세척하고 물을 최대한 제거하고 유기층 용액에 메탄올 400g를 더 첨가하여 교반하고 반응온도를 8℃에서 티오우레아 372.23g(4.89mol) 및 무수초산(35g)을 첨가하고 반응온도를 18℃에서 24시간 반응시켰다. 반응 종료 후 교반을 중지하고 층분리시켜 아래층은 제거하고 유기층은 물로 세 번 세척하고, 톨루엔층을 제거하고 디클로로메탄과 시클로헥산 용매로 전개하여 실리카겔 칼럼으로 정제하였다. 정제하여 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드 화합물 277.87g (1.71mol)을 얻었다.
[
합성예
3]
1-(2,2,6,6-
테트라메틸피페리딘
-1-릴)-3-((티란-2-
릴메틸티오
)프로판-2-올(
TMPP
)의 합성
1리터의 반응용기에 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드 화합물(100.00g, 0.61mol), 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘(87.05g, 0.61mol) 및 디클로로메탄 (500g)을 첨가하고 35℃에서 3시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 후 용매를 제거하고 1-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-릴)-3-((티란-2-릴메틸티오)프로판-2-올(187g)을 얻었다.
13C NMR(CDCl3): 17ppm(5C), 26ppm(1C), 28ppm(2C), 32ppm(1C), 42ppm(1C), 44ppm(1C), 51ppm(1C), 52ppm(2C), 75ppm(1C).
MS(EI-MS method): 303.17(m/z).
[
합성예
4]
1-(2-히드록시-3-((
디이란
-2-
릴메틸
)
티오
)프로필)-2,2,6,6-
데트라메틸피페리딘
-4-릴
메타아크릴레
이트(TMPMA)의 합성
1L의 반응용기에 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드 화합물(100.00g, 0.61mol), 2,2,6,6-테트라메틸피페리딜 메타아크릴레이트(138.87g, 0.61mol) 및 디클로로메탄 (500g)을 첨가하고 35℃에서 3시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응 후 용매를 제거하고 1-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-릴)-3-((티란-2-릴메틸티오)프로판-2-올(238g)을 얻었다.
13C NMR(CDCl3): 18ppm(1C), 26ppm(5C), 33ppm(1C), 43ppm(1C), 44ppm(1C), 46ppm(2C), 51ppm(1C), 56ppm(2C), 63ppm(1C), 75ppm(1C), 125ppm(1C), 136ppm(1C), 167ppm(1C).
MS(EI-MS method): 387.19(m/z).
[
실시예
1]
반응기를 1.0 torr 이하로 감압하고, 외부온도를 54℃로 조절하였다. 이 반응기를 교반하면서 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드 화합물 77.5g 및 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필) 1.5g, 1-(2-히드록시-3-((디이란-2-릴메틸)티오)프로필)-2,2,6,6-데트라메틸피페리딘-4-릴 메타아크릴레이트 0.15g을 넣고, 황 16g, 자외선 차단제 UV 31 0.8g, 유기염료 HTAQ(88ppm) 및 PRD(30ppm)을 첨가하고, 30분 동안 감압하여 탈포한 후에 2-메르캅토-1-메틸이미다졸 0.75g을 첨가하고 1시간 동안 교반하였다. 이후 30℃로 냉각하고 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올 4g, 비스(메르캅토메틸)설파이드 1g, 디부틸틴디클로라이드 0.5g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.3g 및 내부이형제로 인산에스테르계인 8-PENPP[폴리옥시에티렌노닐페놀에스테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%) 0.08g의 혼합용액을 반응기에 넣고, 광학렌즈용 수지 조성물을 만든 후 아래와 같은 방법으로 광학 렌즈를 제조하고 광학렌즈의 물성을 측정하였다.
(1) 위와 같이 제조된 광학렌즈용 수지 조성물을 43℃에서 감압 하에 1시간 동안 교반하며 탈포하고, 30℃로 냉각하고 여과한 다음, 감압탈포를 5분 동안 더 행하고, 폴리에스테르 점착테이프로 조립된 유리몰드에 주입하였다.
(2) 안경 렌즈용 수지조성물이 주입된 유리 몰드를 강제 순환식 오븐에서 30℃에서 110℃까지 20시간에 걸쳐서 가열 경화시킨 후, 70℃로 냉각하여 유리몰드를 탈착하여 렌즈를 얻었다. 얻어진 렌즈는 지름 72mm로 가공한 후 알카리 수성 세척액에 초음파 세척한 다음, 100℃에서 2시간 어닐링 처리하였다. 아래와 같은 방법으로 물성을 측정하여 그 결과를 표 1에 나타내었다.
물성 실험방법
실시예에서 제조된 광학렌즈의 물성을 아래의 실험방법으로 측정하여 그 결과를 표 1에 기재하였다.
1) 굴절률 및 아베수: Atago 사의 DR-M4 모델인 아베 굴절계를 사용하여 측정하였다.
2) 투명성: 100매의 렌즈를 USHIO USH-10D인 수은 아크램프(Mercury Arc Lamp) 아래 육안으로 관찰하여, 렌즈의 탁함이 1개 이하가 발견되면 "◎"로 표시하고, 2~3개가 발견되면 "○"로 표시하고, 4개 이상이면 발견되면 "×"로 표시하였다.
3) 맥리(중합불균형): 렌즈의 직경이 80mm, 돗수가 +11 D인 렌즈를 100장를 제조하고, USHIO USH-10D인 수은 아크램프(Mercury Arc Lamp) 아래 슐리렌법(Schlieren method)에 의해 관찰하였다. 100개 렌즈 중 맥리가 전혀 관찰되지 않은 것은 "◎"로 표시하고, 100개 렌즈 중 1~5개 렌즈에서 맥리가 관찰되는 것은 "○"로 표시하고, 100개 렌즈 중 6~9개의 렌즈에서 맥리가 관찰되는 것은 "Δ"로 표시하고, 100개 렌즈 중 10개 이상 렌즈에서 맥리가 관찰되는 것은 "×"로 표시하였다.
4) 내광성: Q-Lab.사의 QUV/SE 모델 Accelerated Weathering Tester를 사용하였다. QUV 시험은 두께가 1.2mm인 평판렌즈를 UVA-340 (340nm), 광량 0.76W/m2, 4시간 BPT(Black Panel Temperature)(60℃), 4시간 condensation (50℃) 조건하에서 24시간 동안 조사한 후, 색상변화의 측정에서 APHA 값이 0 에서 2 미만으로 변하면 "◎"로 표시하고, APHA 값이 2 에서 5 미만으로 변하면 "○"로 표시하고, APHA 값이 5 이상으로 변하면 "×"로 표시하였다.
5) 열안정성: 경화된 광학렌즈를 100℃에서 3시간 동안 유지하고, 색상변화의 측정에서 APHA 값이 2 미만으로 변하면 "◎"로 표시하고, APHA 값이 2 이상에서 5 미만으로 변하면 "○"로 표시하고, APHA 값이 5 이상에서 9 미만으로 변하면 "Δ"으로 표시하고, APHA 값이 9 이상으로 변하면 "×"로 표시하였다.
6) 이형성: 에폭시 아크릴계 수지 조성물을 열경화시키고 70℃에서 탈형시 플라스틱렌즈와 몰드사이의 분리할 때 분리시 쉽게 분리되어 깨지는 것이 하나도 없으면 "○", 쉽게 분리되지 않아 100의 유리몰드 중 1 이상 깨지면 "X" 로 표기하였다(균일한 평가를 위하여 -0.00 디옵타의 몰드를 이용하였다.).
[
실시예
2~9]
아래의 표 1에 기재된 조성에 따른 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 각각의 조성물 및 광학렌즈를 제조하고, 그 물성을 실험하였다. 그 결과는 아래 표 1 및 2와 같다.
[
실시예
10]
반응기에 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드 화합물 90g, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올 10g, 1-(2-히드록시-3-((디이란-2-릴메틸)티오)프로필)-2,2,6,6-데트라메틸피페리딘-4-릴 메타아크릴레이트 0.2g 및 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENNP[폴리옥시에티렌노닐에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%) 0.2 중량부, N,N-디메틸사이클로헥실아민 0.1중량부, HTAQ(88ppm) 및 PRD(30ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 0.6g을 20℃에서 혼합용해하여 균일용액의 수지 조성물을 제조하고, 실 시예 1과 동일한 방법으로 광학렌즈를 제조하고 그 물성을 평가하였다. 그 결과는 아래 표 2와 같다.
[
비교예
1]
1-(2-히드록시-3-((디이란-2-릴메틸)티오)프로필)-2,2,6,6-데트라메틸피페리딘-4-릴 메타아크릴레이트의 힌더드 아민을 첨가하지 않는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
반응기를 1.0 torr 이하로 감압하고, 외부온도를 54℃로 조절하였다. 이 반응기를 교반하면서 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드 화합물 77.5g 및 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필) 1.5g, 황 16g, 자외선 차단제 UV 31 0.8g, 유기염료 HTAQ(88ppm) 및 PRD(30ppm)을 첨가하고, 30분 동안 감압하여 탈포한 후에 2-메르캅토-1-메틸이미다졸 0.75g을 첨가하고 1시간 동안 교반하였다. 이후 30℃로 냉각하고 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올 4g, 비스(메르캅토메틸)설파이드 1g, 디부틸틴디클로라이드 0.5g, 테트라부틸포스포늄브로마이드 0.3g 및 내부이형제로 인산에스테르계인 8-PENPP[폴리옥시에티렌노닐페놀에스테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%) 0.08g의 혼합용액을 반응기에 넣고, 광학렌즈용 수지 조성물을 만든 후 광학렌즈를 제조하고 평가하였다. 그 결과는 아래 표 2와 같다.
[
비교예
2~3]
표 2에 기재된 조성에 따르는 것을 제외하고는 비교예 1과 같은 방법으로 광학렌즈를 제조하고, 그 물성을 실험하였다. 그 결과는 표 2에 기재하였다.
[
비교예
4]
1-(2-히드록시-3-((디이란-2-릴메틸)티오)프로필)-2,2,6,6-데트라메틸피페리딘-4-릴 메타아크릴레이트의 힌더드 아민 첨가하지 않는 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 실시하였다.
반응기에 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드 화합물 90g, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올 10g 및 내부이형제로 인산에스테르인 8-PENNP[폴리옥시에티렌노닐에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%) 0.2g, N,N-디메틸사이클로헥실아민 0.1중량부, HTAQ(88ppm) 및 PRD(30ppm), 자외선 흡수제 HOPBT 0.6g을 20℃에서 혼합용해하여 균일용액의 수지조성물을 제조하고, 광학렌즈를 제조한 후 물성을 실험하였다. 그 결과는 아래 표 2과 같다.
구 분 | 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | 실시예 6 | 실시예 7 |
EPS(g) | 77.5 | 77.5 | 77.5 | 77.5 | |||
EEPS(g) | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.4 | 1.6 | 1.5 |
EPDS(g) | 80 | 76.4 | 72.5 | ||||
황(g) | 16 | 16 | 16 | 16 | 9.4 | 7 | 16 |
BMMS(g) | 1 | 1 | 7 | 14 | 9 | ||
BMS(g) | 1 | 1 | |||||
GST(g) | 4 | 4 | 4 | 4 | 2 | 1 | 1 |
TMPP | 0.2 | 0.05 | 0.15 | 0.15 | |||
TMPMA | 0.15 | 0.1 | 0.2 | 0.2 | |||
굴절률(Ne, 20℃) | 1.7376 | 1.7176 | 1.7373 | 1.7373 | 1.7570 | 1.7570 | 1.7750 |
아베수 | 32 | 34 | 32 | 32 | 30 | 30 | 28 |
투명성 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ○ |
중합불균형 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ○ | ○ | ○ |
내광성 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | Δ | Δ | Δ |
열안정성 | ◎ | ◎ | ○ | ○ | Δ | Δ | Δ |
이형성 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
구 분 | 실시예 8 | 실시예 9 | 실시예 10 | 비교예 1 | 비교예 2 | 비교예 3 | 비교예 4 |
EPS(g) | 68.1 | 76.5 | 77.5 | 68.1 | |||
EEPS(g) | 1.9 | 1.5 | 1.5 | 1.4 | 1.9 | ||
EPDS(g) | 10 | 5 | 90 | 80 | 10 | 90 | |
황(g) | 14 | 10 | 16 | 20 | 14 | ||
BMMS(g) | 4 | 5 | 1 | 7 | 4 | ||
BMS(g) | 1 | 1 | 1 | ||||
GST(g) | 1 | 1 | 10 | 4 | 2 | 1 | 10 |
TMPP | 0.1 | ||||||
TMPMA | 0.15 | 0.1 | 0.2 | ||||
굴절률(Ne, 20℃) | 1.7183 | 1.7165 | 1.7375 | 1.7376 | 1.7570 | 1.7183 | 1.7375 |
아베수 | 34 | 34 | 32 | 32 | 30 | 34 | 32 |
투명성 | ◎ | ◎ | ◎ | ○ | × | ○ | ○ |
중합불균형 | ◎ | ◎ | Δ | ○ | ○ | ○ | × |
내광성 | ◎ | ◎ | ○ | × | × | × | × |
열안정성 | ◎ | ◎ | ○ | × | × | × | × |
이형성 | ○ | ○ | ○ | ○ | × | ○ | ○ |
[약어]
EPS: 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드(Bis(2,3-epithiopropyl)sulfide)
EEPS: 2,3-에폭시프로필(2,3-에피티오프로필)설파이드(2,3-Epoxypropyl)(2,3-epithiopropyl)sulfide)
EPDS: 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드(Bis(2,3-epithiopropyl)disulfide)
BMMS: 비스(메르캅토메틸)설파이드(Bis(mercaptomethyl)sulfide)
BMS: 비스(2-메르캅토에틸)설파이드(Bis(2-mercaptoethyl)sulfie)
GST: 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올(2,3-Bis(2-mecaptoethylthio)propane-1-thiol)
TMPP: 1-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-릴)-3-((티란-2-릴메틸티오)프로판-2-올 (1-(1-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)-3-((thiiran-2-ylmethylthio)propan-2-ol)
TMPMA: 1-(2-히드록시-3-(디이란-2-릴메틸티오)프로필)-2,2,6,6-데트라메틸피페리딘-4-릴 메타아크릴레이트 (1-(2-hydroxy-3-(thiiran-2-ylmethylthio)propyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl methacrylate)
본 발명의 신규한 에피설파이드 화합물은 에피설파이드계 광학재료에 첨가되어 내광성, 내열성, 투명성을 높이는 용도로 이용될 수 있다.
본 발명에 따라 얻어진 에피설파이드계 광학재료는 내광성, 내열성 및 투명성이 우수한 고품질 렌즈로서, 교정용 선글라스용 렌즈, 패션렌즈, 변색렌즈, 카메라렌즈, 광학 장치용 렌즈 등에 유용하게 이용될 수 있다.
Claims (10)
- 아래 화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물.
[화학식 1]
(X, Y는 각각 독립적으로 수소 또는 에스테르기이다.) - 아래 화학식 2로 표시되는 에피설파이드 화합물,
아래 화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물,
폴리티올 화합물 및
중합촉매를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물.
[화학식 1]
(X, Y는 각각 독립적으로 수소 또는 에스테르기이다.)
[화학식 2]
(식 중에서 X, Y는 O 또는 S이며, m은 0~4의 정수이며, n은 0~2의 정수를 나타낸다.) - 제2항에 있어서,
황을 더 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물. - 제2항에 있어서,
폴리이소시아네이트 화합물을 더 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물. - 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
주석할로겐 화합물을 중합조절제로 더 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물. - 제5항에 있어서,
상기 주석할로겐 화합물은 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드 중 어느 하나 또는 여기에 모노메틸주석트리클로라이드가 0.1~3.5중량%로 소량 포함된 것을 특징으로 하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물. - 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 에피설파이드 화합물을 0.01~10중량%로 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물. - 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합 촉매는, 아민, 제4급 암모늄염, 제4급 포스포늄염, 제3급 술포늄염, 제2급 요오드늄염, 포스핀 화합물 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물. - 제5항에 있어서,
상기 중합 촉매는, 제4급 포스포늄염이며, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물. - 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항의 조성물을 중합시키는 것을 포함하는, 에피설파이드계 고굴절 광학재료의 제조방법.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180156348A KR102669070B1 (ko) | 2018-12-06 | 2018-12-06 | 신규한 에피설파이드 화합물, 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법 |
PCT/KR2019/015800 WO2020116821A1 (ko) | 2018-12-06 | 2019-11-19 | 신규한 에피설파이드 화합물, 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180156348A KR102669070B1 (ko) | 2018-12-06 | 2018-12-06 | 신규한 에피설파이드 화합물, 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200069146A KR20200069146A (ko) | 2020-06-16 |
KR102669070B1 true KR102669070B1 (ko) | 2024-05-23 |
Family
ID=70973954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180156348A KR102669070B1 (ko) | 2018-12-06 | 2018-12-06 | 신규한 에피설파이드 화합물, 이를 포함하는 에피설파이드계 광학재료용 조성물과 광학재료의 제조방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102669070B1 (ko) |
WO (1) | WO2020116821A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116535596B (zh) * | 2023-05-29 | 2023-12-05 | 益丰新材料股份有限公司 | 一种耐清洗的光学材料组合物、光学树脂材料和光学透镜 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4161411B2 (ja) | 1998-06-10 | 2008-10-08 | セイコーエプソン株式会社 | プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ |
JP3738817B2 (ja) | 1999-04-23 | 2006-01-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
CA2337955C (en) | 2000-03-15 | 2006-07-25 | Hoya Corporation | Plastic lenses for spectacles |
JP5817850B2 (ja) * | 2012-02-02 | 2015-11-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物の製造方法 |
TWI568775B (zh) | 2012-02-14 | 2017-02-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | A polymerizable composition for optical materials, a method for producing the same, and a method for producing an optical material |
TWI601720B (zh) * | 2013-03-14 | 2017-10-11 | 三菱瓦斯化學股份有限公司 | Novel episulfide and optical material compositions |
TWI633140B (zh) * | 2013-12-26 | 2018-08-21 | 三菱瓦斯化學股份有限公司 | Composition for optical material and method of producing the same |
TWI644906B (zh) * | 2015-03-27 | 2018-12-21 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | Novel cyclic compound and composition for optical material containing the same |
KR101827334B1 (ko) * | 2015-03-31 | 2018-02-08 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 신규 에피설파이드 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료 조성물 |
-
2018
- 2018-12-06 KR KR1020180156348A patent/KR102669070B1/ko active IP Right Grant
-
2019
- 2019-11-19 WO PCT/KR2019/015800 patent/WO2020116821A1/ko active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200069146A (ko) | 2020-06-16 |
WO2020116821A1 (ko) | 2020-06-11 |
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