KR20130109288A - Touch panel and method of the same - Google Patents

Touch panel and method of the same Download PDF

Info

Publication number
KR20130109288A
KR20130109288A KR1020120030875A KR20120030875A KR20130109288A KR 20130109288 A KR20130109288 A KR 20130109288A KR 1020120030875 A KR1020120030875 A KR 1020120030875A KR 20120030875 A KR20120030875 A KR 20120030875A KR 20130109288 A KR20130109288 A KR 20130109288A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
electric force
force applying
electrode
insulating layer
Prior art date
Application number
KR1020120030875A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
윤지선
이상영
이용진
채경훈
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020120030875A priority Critical patent/KR20130109288A/en
Publication of KR20130109288A publication Critical patent/KR20130109288A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0414—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using force sensing means to determine a position
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Abstract

PURPOSE: Touch panel and manufacturing method thereof are provided to implement stereoscopic touch by making a short distance or a remote distance touch according to a size of pressure and a finger distance. CONSTITUTION: A location detection electrode (130) is located in a lower part of a substrate and detects a location. A tactile perception providing layer (120) is located on the top of the location detection electrode and includes an insulation layer (121) and an electric force application electrode (122). The electrical force application electrode generates electrical vibration. The tactile perception providing layer is located between the substrate and the location detection electrode. An optically clear adhesive (OCA) (160) is located between the electrical force application electrode and the location detection electrode.

Description

터치 패널 및 이의 제조 방법{TOUCH PANEL AND METHOD OF THE SAME}TOUCH PANEL AND METHOD OF THE SAME}

실시예는 터치 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.Embodiments relate to a touch panel and a method of manufacturing the same.

종래 기술에 의한 저항막 방식 및 정전용량 방식의 터치 패널에 있어서는, 모두 화면 입력이 이루어질 때 터치의 강도 또는 힘을 인식하지 못하고 단순한 위치 정보만을 인식할 수밖에 없다는 한계를 가지고 있다. 또한 디스플레이 층 상단에 터치 패널층이 위치하고 있는 구조를 가지기 때문에 구조가 복잡해지고 디스플레이의 가시성을 저해할 수 있으므로, 기존 방식 외에 압전체를 이용한 터치패널에 대한 연구가 진행되어 왔다.In the touch panel of the resistive film type and the capacitive type according to the related art, when the screen input is performed, only the position information is recognized without recognizing the strength or the force of the touch. In addition, since the structure of the touch panel layer is positioned on the top of the display layer, the structure is complicated and the visibility of the display may be impaired. Therefore, research on a touch panel using a piezoelectric body in addition to the conventional method has been conducted.

압전체의 경우, 압력과 같은 기계적 신호를 전압과 같은 전기 신호로 바꾸어 줄 수 있는 특성을 가지고 있기 때문에 압력 센서나 초음파 센서 등과 같은 센서에 많이 사용되고 있다. Piezoelectric materials are widely used in sensors such as pressure sensors and ultrasonic sensors because they have the property of converting mechanical signals such as pressure into electrical signals such as voltage.

그러나 최근 전자기기의 사용수요가 크게 증가하면서 보다 다양한 기능을 갖춘 전자기기에 대한 사용자의 요구도 증가하고 있다. 이에 따라, 터치 패널에 터치 시, 다양한 촉감 피드백을 얻거나 근거리 또는 원거리 터치가 가능한 입체적인 터치 등 다양한 피드백에 대한 요구로 사용자의 경험을 극대화시키고자 한다. However, with the recent increase in the demand for use of electronic devices, the demand of users for electronic devices with more various functions is increasing. Accordingly, when the touch panel is touched, the user's experience is maximized by obtaining various tactile feedback or requesting various feedback such as three-dimensional touch capable of short or long distance touch.

실시예는 전기적인 촉감을 제시하는 터치 패널 및 이의 제조 방법을 제공하고자 한다. The embodiment is to provide a touch panel and a method of manufacturing the same to present an electrical touch.

실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판의 하부에 위치하고, 위치를 감지하는 위치 검출 전극; 및 상기 위치 검출 전극의 상부에 위치하는 촉각 제시층을 포함하고, 상기 촉각 제시층은 절연층 및 전기력 인가 전극을 포함한다. A touch panel according to an embodiment includes a substrate; A position detection electrode positioned below the substrate and sensing a position; And a tactile presentation layer positioned above the position detection electrode, wherein the tactile presentation layer includes an insulating layer and an electric force applying electrode.

실시예예 따른 터치 패널의 제조 방법은, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판에 촉각 제시층을 형성하는 단계; 및 상기 기판에 위치 검출 전극을 형성하는 단계를 포함한다. Embodiments provide a method of manufacturing a touch panel, comprising: preparing a substrate; Forming a tactile presentation layer on the substrate; And forming a position detection electrode on the substrate.

실시예에 따른 터치 패널은 촉각 제시층을 포함한다. 상기 촉각 제시층을 통해 전기적인 촉감을 제시할 수 있다. 구체적으로, 정전기적 인력을 조절하여 다양한 형태의 촉감 질감 및 형상 제시가 가능하다. 즉, 정전기적 인력으로 그래픽 물체의 움직임을 질감으로 제시할 수 있다. The touch panel according to the embodiment includes a tactile presentation layer. The tactile presentation layer may present an electrical touch. Specifically, it is possible to present various types of tactile textures and shapes by controlling electrostatic attraction. That is, the movement of the graphic object can be presented as a texture by electrostatic attraction.

또한, 압력의 크기와 손가락 거리에 따른 근거리 또는 원거리의 터치가 가능하여 입체적인 터치 구현이 가능하다. 따라서, 사용자 경험을 극대화할 수 있다. In addition, it is possible to realize a three-dimensional touch by allowing a near or remote touch according to the magnitude of the pressure and the finger distance. Thus, the user experience can be maximized.

또한, 터치 패널에 가해진 미세한 터치에 의한 압력의 변화도 인식할 수 있다. In addition, it is also possible to recognize a change in pressure caused by a minute touch applied to the touch panel.

또한, 기판에 절연층을 접합함으로써, 비산 방지 필름의 역할을 대체할 수 있어, 추가적인 기능을 위한 별도의 기구적 두께 증가를 최소화할 수 있다.In addition, by bonding the insulating layer to the substrate, it is possible to replace the role of the anti-scattering film, it is possible to minimize the additional mechanical thickness increase for additional functions.

실시예예 따른 터치 패널의 제조 방법은 상술한 효과를 가지는 터치 패널을 제공할 수 있다. A method of manufacturing a touch panel according to an embodiment may provide a touch panel having the above-described effect.

도 1은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 2 및 도 3은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 구동 원리를 설명하기 위한 단면도들이다.
도 4는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a touch panel according to a first embodiment.
2 and 3 are cross-sectional views illustrating a driving principle of the touch panel according to the first embodiment.
4 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. The criteria for top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 제1 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다.First, the touch panel according to the first embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3.

도 1은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다. 도 2 및 도 3은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 구동 원리를 설명하기 위한 단면도들이다.1 is a cross-sectional view of a touch panel according to a first embodiment. 2 and 3 are cross-sectional views illustrating a driving principle of the touch panel according to the first embodiment.

도 1을 참조하면, 제1 실시예에 따른 터치 패널(10)은, 기판(100), 촉각 제시층(120), 위치 검출 전극(130), 배선(140) 및 보호층(150)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the touch panel 10 according to the first embodiment includes a substrate 100, a tactile presentation layer 120, a position detection electrode 130, a wiring 140, and a protective layer 150. do.

상기 기판(100)은 상기 터치 패널(10)의 가장 상부에 위치할 수 있다. The substrate 100 may be located at the top of the touch panel 10.

상기 기판(100)은 투명할 수 있다. 상기 기판(100)은 소다 글래스, 붕소 규소산 글래스 등의 알칼리 글래스, 무알칼리 글래스, 또는 화학 강화 등의 글래스 기판(100)일 수 있다. 또한, 투명성을 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 내열성과 투명성이 높은 폴리이미드 필름, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트 등 투명성을 갖는 복합 폴리머 계열의 기판(100)일 수 있다. The substrate 100 may be transparent. The substrate 100 may be a glass substrate 100 made of alkali glass such as soda glass, borosilicate glass or the like, alkali-free glass, or chemical strengthening. In addition, the substrate 100 may be a polyester film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate having transparency, a polyimide film having high heat resistance and transparency, or a composite polymer having transparency such as polymethyl methacrylate or polycarbonate .

상기 기판(100)의 표면에는 보호 필름이나 안티플레어(anti-flare) 코팅층이 더 위치할 수 있다.A protective film or an anti-flare coating layer may be further disposed on the surface of the substrate 100.

상기 기판(100)의 두께는 소재에 따라 100 ㎛ 내지 700 ㎛ 일 수 있다. The thickness of the substrate 100 may be 100 μm to 700 μm depending on the material.

상기 기판(100)의 표면에 펜이나 손가락 등의 입력 장치가 터치될 수 있다.An input device such as a pen or a finger may be touched on the surface of the substrate 100.

상기 촉각 제시층(120)은 상기 위치 검출 전극(130)의 상부에 위치할 수 있다. 또한, 상기 촉각 제시층(120)은 상기 기판(100)의 하부에 위치할 수 있다. The tactile presentation layer 120 may be positioned above the position detection electrode 130. In addition, the tactile presentation layer 120 may be located under the substrate 100.

상기 촉각 제시층(120)은 절연층(121) 및 전기력 인가 전극(122)을 포함한다.The tactile presentation layer 120 includes an insulating layer 121 and an electric force applying electrode 122.

상기 절연층(121)은 상기 전기력 인가 전극(122)의 상부에 위치한다.The insulating layer 121 is positioned above the electric force applying electrode 122.

상기 절연층(121)은 압전 고분자 재료를 포함한다. 일례로, 상기 절연층(121)은 폴리비닐리덴 플루오로라이드(PVDF)를 포함할 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 폴리테트라 플루오로에틸렌(PTFE) 등의 다양한 고분자 재료를 포함할 수 있다. The insulating layer 121 includes a piezoelectric polymer material. For example, the insulating layer 121 may include polyvinylidene fluoride (PVDF). However, the embodiment is not limited thereto and may include various polymer materials such as polytetrafluoroethylene (PTFE).

상기 절연층(121)은 터치 패널에 터치되는 입력 도구와 상기 전기력 인가 전극(122)을 절연할 수 있다. 즉, 터치 패널에 터치되는 입력 도구와 상기 전기력 인가 전극(122)간의 전기적 단락을 방지할 수 있다. The insulating layer 121 may insulate the input tool touching the touch panel from the electric force applying electrode 122. That is, an electrical short circuit between the input tool touching the touch panel and the electric force applying electrode 122 may be prevented.

또한, 상기 절연층(121)은 압력 인식을 통해 터치 압력 세기에 따른 다양한 촉감을 제시할 수 있다. 즉, 상기 절연층(121)은 압전효과를 발생시킬 수 있다. 압전효과란, 어떠한 물질에 압력을 가하면 전압이 발생하는 현상이며 반대로 전압을 걸어주면 물질이 팽창하거나 수축하게 되는 현상이다. In addition, the insulating layer 121 may present various sensations according to the touch pressure strength through pressure recognition. That is, the insulating layer 121 may generate a piezoelectric effect. The piezoelectric effect is a phenomenon in which a voltage is generated when pressure is applied to a substance, and on the contrary, when a voltage is applied, the substance is expanded or contracted.

상기 절연층(121)의 두께는 소재에 따라 50 ㎛내지 100 ㎛일 수 있다.The thickness of the insulating layer 121 may be 50 μm to 100 μm depending on the material.

상기 전기력 인가 전극(122)은 상기 절연층(121)의 하부에 위치한다. The electric force applying electrode 122 is located under the insulating layer 121.

상기 전기력 인가 전극(122)은 전기적 진동을 발생시킬 수 있다. 즉, 상기 전기력 인가 전극(122)에 전압이 인가되고, 터치 패널 상에 입력 도구가 터치 되었을 때, 입력 도구와 전기력 인가 전극(122) 사이에 정전 용량이 형성될 수 있다. 따라서, 상기 전기력 인가 전극(122)을 통해 전기적인 촉감을 제시할 수 있다. The electric force applying electrode 122 may generate electrical vibration. That is, when a voltage is applied to the electric force applying electrode 122 and the input tool is touched on the touch panel, a capacitance may be formed between the input tool and the electric force applying electrode 122. Therefore, the electric force may be presented through the electric force applying electrode 122.

상기 전기력 인가 전극(122)은 투명 전도체를 포함할 수 있다. 상기 전기력 인가 전극(122)은 전도도가 높고, 가시광 영역에서 광 투과율이 80 % 이상인 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 전기력 인가 전극(122)은 인듐 산화 주석막이나, 인듐 산화 아연막, 산화 아연 등의 산화물을 포함할 수 있다. 또한, 상기 전기력 인가 전극(122)은 탄소나노튜브, 은 나노 와이어, 그래핀 또는 나노 메쉬를 포함할 수 있다.The electric force applying electrode 122 may include a transparent conductor. The electric force applying electrode 122 may include a material having high conductivity and a light transmittance of 80% or more in the visible light region. For example, the electric force applying electrode 122 may include an oxide such as an indium tin oxide film, an indium zinc oxide film, or zinc oxide. In addition, the electric force applying electrode 122 may include carbon nanotubes, silver nanowires, graphene or nanomesh.

상기 전기력 인가 전극(122)의 두께는 소재에 따라 10 nm 내지 50 nm 일 수 있다.The thickness of the electric force applying electrode 122 may be 10 nm to 50 nm depending on the material.

이하, 도 2 및 도 3을 참조하여, 제1 실시예에 따른 터치 패널의 구동 원리를 설명한다.Hereinafter, the driving principle of the touch panel according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

도 2를 참조하면, 상기 전기력 인가 전극(122)에 전압(V1, V2)이 인가되어, 상기 전기력 인가 전극(122)에 양극(+)이 인가될 수 있다. 상기 기판(100)의 상면에 손가락(f)이 터치되면 손가락(f)에 음극(-)이 대전될 수 있다. 상기 손가락(f)과 기판(100)이 접촉하는 유효 표면적(S1)에 따라 다른 크기의 정전 용량이 발생할 수 있다. 또한, 손가락(f)의 압력 크기에 따라 기판(100) 및 절연층(121)의 두께(T1)도 달라질 수 있고, 이에 따라서도 정전 용량이 변화할 수 있다. 축전지 원리에 의해 손가락(f)과 상기 전기력 인가 전극(122) 사이에 정전 용량이 형성되고, 주파수가 변화하여 전기적 인력이 변화한다. 이러한 전기적 인력의 변화에 따라 다양한 촉감을 제시할 수 있다.Referring to FIG. 2, voltages V 1 and V 2 may be applied to the electric force applying electrode 122, and a positive electrode (+) may be applied to the electric force applying electrode 122. When the finger f is touched on the upper surface of the substrate 100, the cathode (−) may be charged to the finger f. According to the effective surface area S1 between the finger f and the substrate 100, different sizes of capacitance may occur. In addition, the thickness T1 of the substrate 100 and the insulating layer 121 may also vary according to the pressure magnitude of the finger f, and accordingly, the capacitance may change. By the storage battery principle, a capacitance is formed between the finger f and the electric force applying electrode 122, and the frequency is changed to change the electrical attraction. Various touches can be presented according to the change of the electrical attraction.

도 3을 참조하면, 손가락(f)으로 터치하는 압력이 더 커질 경우, 손가락(f)과 기판(100)이 접촉하는 유효 표면적(S2)이 넓어지게 되고, 기판(100) 및 절연층(121)의 두께(T2)는 얇아지게 되어 다음 식에 따라 정전 용량(C)의 변화가 더 커지게 된다. 따라서, 촉감을 제시하는 감도가 증가할 수 있다. Referring to FIG. 3, when the pressure to be touched by the finger f becomes greater, the effective surface area S2 between the finger f and the substrate 100 is widened, and the substrate 100 and the insulating layer 121 are widened. ), The thickness T2 becomes thinner, and the change in capacitance C becomes larger according to the following equation. Thus, the sensitivity to present the tactile feeling can be increased.

식expression

C= εS/TC = εS / T

여기서, C는 정전용량, ε는 유전율, T는 기판(100) 및 절연층(121)의 두께 및 S는 유효 표면적이다.Where C is the capacitance, ε is the dielectric constant, T is the thickness of the substrate 100 and the insulating layer 121, and S is the effective surface area.

따라서, 상기 촉각 제시층(120)을 통해 정전기적 인력을 조절하여 다양한 형태의 촉감 질감 및 형상 제시가 가능하다. 즉, 정전기적 인력으로 그래픽 물체의 움직임을 질감으로 제시할 수 있다. Thus, various types of tactile textures and shapes can be presented by controlling electrostatic attraction through the tactile presentation layer 120. That is, the movement of the graphic object can be presented as a texture by electrostatic attraction.

또한, 압력의 크기와 손가락 거리에 따른 근거리 또는 원거리의 터치가 가능하여 입체적인 터치 구현이 가능하다. 따라서, 사용자 경험을 극대화할 수 있다. In addition, it is possible to realize a three-dimensional touch by allowing a near or remote touch according to the magnitude of the pressure and the finger distance. Thus, the user experience can be maximized.

또한, 터치 패널에 가해진 미세한 터치에 의한 압력의 변화도 인식할 수 있다. In addition, it is also possible to recognize a change in pressure caused by a minute touch applied to the touch panel.

또한, 상기 기판(100)에 절연층(121)을 접합함으로써, 비산 방지 필름의 역할을 대체할 수 있어, 추가적인 기능을 위한 별도의 기구적 두께 증가를 최소화할 수 있다. In addition, by bonding the insulating layer 121 to the substrate 100, it can replace the role of the anti-scattering film, it is possible to minimize the additional mechanical thickness increase for additional functions.

이어서, 다시 도 1을 참조하면, 상기 기판(100)의 하부에 위치 검출 전극(130)이 위치한다. 구체적으로, 상기 위치 검출 전극(130)은 상기 촉각 제시층(120)의 하부에 위치할 수 있다. 이때, 상기 전기력 인가 전극(122) 및 상기 위치 검출 전극(130) 사이의 전기적 단락을 방지하기 위해, 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)(160)가 위치할 수 있다.Subsequently, referring again to FIG. 1, the position detection electrode 130 is positioned below the substrate 100. In detail, the position detection electrode 130 may be located under the tactile presentation layer 120. In this case, in order to prevent an electrical short between the electric force applying electrode 122 and the position detection electrode 130, an optically clear adhesive (OCA) 160 may be located.

상기 위치 검출 전극(130)은 투명 전도체를 포함할 수 있다. 상기 위치 검출 전극(130)은 전도도가 높고, 가시광 영역에서 광 투과율이 80 % 이상인 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 위치 검출 전극(130)은 인듐 산화 주석막이나, 인듐 산화 아연막, 산화 아연 등의 산화물을 포함할 수 있다. 또한, 상기 위치 검출 전극(130)은 탄소나노튜브, 은 나노 와이어, 그래핀 또는 나노 메쉬를 포함할 수 있다.The position detection electrode 130 may include a transparent conductor. The position detection electrode 130 may include a material having high conductivity and having a light transmittance of 80% or more in the visible light region. For example, the position detection electrode 130 may include an oxide such as an indium tin oxide film, an indium zinc oxide film, or zinc oxide. In addition, the position detection electrode 130 may include carbon nanotubes, silver nanowires, graphene or nanomesh.

상기 위치 검출 전극(130)의 두께는 소재에 따라 10 nm 내지 50 nm 일 수 있다.The thickness of the position detection electrode 130 may be 10 nm to 50 nm depending on the material.

상기 위치 검출 전극(130)의 측면에는 상기 위치 검출 전극(130)을 전기적으로 연결하는 배선(140)이 위치할 수 있다. 상기 배선(140)은 전기 전도성이 우수한 금속으로 이루어질 수 있다. 상기 배선(140)은 면저항 0.4 Ω/sq 이하인 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 배선(140)은 백금, 금, 은, 알루미늄 또는 구리를 포함할 수 있다. 상기 배선(140)은 상기 기판(100)과의 밀착력을 향상하기 위해 크롬, 몰리브덴 또는 니켈을 더 포함할 수 있다. 즉, 상기 배선(140)은 적어도 하나 이상의 층으로 이루어질 수 있다. 상기 배선(140)의 두께는 100 nm 내지 2000 nm 일 수 있다.A wiring 140 may be positioned on the side of the position detection electrode 130 to electrically connect the position detection electrode 130. The wire 140 may be made of a metal having excellent electrical conductivity. The wiring 140 may include a material having a sheet resistance of 0.4 mA / sq or less. For example, the wiring 140 may include platinum, gold, silver, aluminum, or copper. The wiring 140 may further include chromium, molybdenum, or nickel to improve adhesion to the substrate 100. That is, the wiring 140 may be formed of at least one layer. The thickness of the wiring 140 may be 100 nm to 2000 nm.

도면에 도시하지 않았으나, 상기 배선(140)에 연결되는 인쇄 회로 기판(도시하지 않음, 이하 동일)이 더 위치할 수 있다. 인쇄 회로 기판으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다.Although not shown in the drawings, a printed circuit board (not shown, hereinafter same) connected to the wiring 140 may be further located. As the printed circuit board, various types of printed circuit boards can be applied. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) or the like can be applied.

상기 위치 검출 전극(130) 및 상기 배선(140)을 보호하기 위해 보호층(150)이 더 위치할 수 있다. A protective layer 150 may be further positioned to protect the position detection electrode 130 and the wiring 140.

이하, 제1 실시예예 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment will be described.

제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 기판(100)을 준비하는 단계, 촉각 제시층(120)을 형성하는 단계 및 위치 검출 전극(130)을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a touch panel according to a first embodiment includes preparing a substrate 100, forming a tactile presentation layer 120, and forming a position detection electrode 130.

상기 기판(100)을 준비하는 단계에서는 기판(100)을 준비할 수 있다. In the preparing of the substrate 100, the substrate 100 may be prepared.

이후, 상기 촉각 제시층(120)을 형성하는 단계에서는 절연층(121)을 형성하는 단계 및 전기력 인가 전극(122)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Subsequently, the forming of the tactile presentation layer 120 may include forming an insulating layer 121 and forming an electric force applying electrode 122.

상기 절연층(121)을 형성하는 단계에서는 상기 기판(100)에 절연층(121)을 형성할 수 있다. 일례로, 상기 기판(100) 상에 PVDF분말을 용융 압출한 후, 연신 및 분극 처리하여 접합할 수 있다. In the forming of the insulating layer 121, an insulating layer 121 may be formed on the substrate 100. For example, the PVDF powder may be melt-extruded onto the substrate 100, and then stretched and polarized to be bonded.

이후, 상기 전기력 인가 전극(122)을 형성하는 단계에서는 전기력 인가 전극(122)을 상기 절연층(121)의 하부에 형성할 수 있다.Subsequently, in the forming of the electric force applying electrode 122, the electric force applying electrode 122 may be formed under the insulating layer 121.

상기 전기력 인가 전극(122)은 상기 절연층(121)에 투명 전극 물질을 증착함으로써 형성될 수 있다. 일례로, 인듐 산화 주성막을 스퍼터링법을 이용해 상기 절연층(121)의 하면에 전체적으로 성막할 수 있다. 주지의 포토리소그래피 기술을 이용하여, 포토레지스트를 도포하고, 노광, 현상에 의해, 하층의 인듐 산화 주석이 노출된 원하는 패턴을 형성한다. 다음으로, 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여, 노출된 인듐 산화 주석을 에칭 용액으로 에칭한다. 이때, 상기 에칭 용액은 카복실산계, 염화제2철계, 취화수소산계, 요오드화수소산계 또는 왕수계 용액일 수 있다. 다음으로 포토레지스트를 제거하여, 패턴이 형성된 전기력 인가 전극(122)이 형성될 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 상기 전기력 인가 전극(122)은 인쇄 공정, 라미네이팅 등 다양한 공정을 통해 형성될 수 있다.The electric force applying electrode 122 may be formed by depositing a transparent electrode material on the insulating layer 121. For example, an indium oxide main film can be formed entirely on the lower surface of the insulating layer 121 by sputtering. A known photolithography technique is used to apply a photoresist and form a desired pattern in which the lower layer of indium tin oxide is exposed by exposure and development. Next, using the photoresist pattern as a mask, the exposed indium tin oxide is etched with an etching solution. At this time, the etching solution may be a carboxylic acid-based, ferric chloride-based, hydrogenated-acid-based, hydroiodic acid-based or royal water-based solution. Next, the photoresist may be removed to form the patterned electric force applying electrode 122. However, the embodiment is not limited thereto, and the electric force applying electrode 122 may be formed through various processes such as a printing process and laminating.

이후, 상기 위치 검출 전극(130)을 형성하는 단계에서는 상기 전기력 인가 전극(122)과 동일 또는 유사한 방법으로 형성할 수 있다. 이때, 전기력 인가 전극(122)과 위치 검출 전극(130) 사이에 이들의 절연을 위해 광학용 투명 접착제 등 다양한 절연물질을 형성할 수 있다. Thereafter, in the forming of the position detection electrode 130, the position detection electrode 130 may be formed in the same or similar manner as the electric force applying electrode 122. In this case, various insulating materials such as an optically transparent adhesive may be formed between the electric force applying electrode 122 and the position detecting electrode 130 for their insulation.

이어서, 상기 위치 검출 전극(130)을 전기적으로 연결하는 배선(140)을 형성할 수 있다. 상기 배선(140)은 상기 절연층(121)에 금속 물질을 형성하고 에칭 용액으로 에칭하여 패턴을 형성할 수 있다. 이때, 상기 에칭 용액은 인산, 질산 또는 초산 혼합액일 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 상기 배선(140)은 인쇄 공정, 라미네이팅 등 다양한 공정을 통해 형성될 수 있다.Subsequently, a wire 140 may be formed to electrically connect the position detection electrode 130. The wiring 140 may form a pattern by forming a metal material on the insulating layer 121 and etching with an etching solution. At this time, the etching solution may be a phosphoric acid, nitric acid or acetic acid mixed solution. However, the embodiment is not limited thereto, and the wiring 140 may be formed through various processes such as a printing process and laminating.

이후, 상기 위치 검출 전극(130)을 보호하기 위한 보호층(150)을 더 형성할 수 있다.Thereafter, a protective layer 150 may be further formed to protect the position detection electrode 130.

이하, 도 4를 참조하여, 제2 실시예에 따른 터치 패널을 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 앞서 설명한 부분과 동일 또는 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, a touch panel according to a second embodiment will be described with reference to FIG. 4. For the sake of clarity and simplicity, detailed description of parts identical or similar to those described above will be omitted.

도 4는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.

도 4를 참조하면, 제2 실시예예 따른 터치 패널(20)은, 촉각 제시층(120)이 상기 기판(100) 상에 위치한다. Referring to FIG. 4, in the touch panel 20 according to the second embodiment, the tactile presentation layer 120 is positioned on the substrate 100.

즉, 상기 기판(100)의 하부에 위치 검출 전극(130) 및 배선(140)이 형성되고, 상기 기판(100)의 상부에 절연층(121) 및 전기력 인가 전극(122)을 포함하는 촉각 제시층(120)이 위치할 수 있다. 여기서, 상기 절연층(121)은 상기 전기력 인가 전극(122)의 상부에 위치한다.That is, the position detection electrode 130 and the wiring 140 are formed under the substrate 100, and the tactile presentation including an insulating layer 121 and an electric force applying electrode 122 is formed on the substrate 100. Layer 120 may be located. Here, the insulating layer 121 is located above the electric force applying electrode 122.

상기 촉각 제시층(120)에 직접 입력 도구 등이 터치 될 수 있고, 이에 따라 압력 인식 및 촉각 제시 감도가 증대될 수 있다. A direct input tool or the like may be touched on the tactile presentation layer 120, and thus pressure recognition and tactile presentation sensitivity may be increased.

한편, 제2 실시예에 따른 터치 패널(20)에서 절연층(121)의 두께는 제1 실시예에 따른 터치 패널(10)에서 절연층(121)의 두께에 비해 더 두꺼울 수 있다. 제1 실시예에 따른 터치 패널(10)에서는 촉각 제시층(120) 상에 기판(100)이 위치하여 기판(100)이 절연 역할을 수행할 수 있어, 촉각 제시층(120)의 절연층(121)의 두께를 감소시킬 수 있다. Meanwhile, the thickness of the insulating layer 121 in the touch panel 20 according to the second embodiment may be thicker than the thickness of the insulating layer 121 in the touch panel 10 according to the first embodiment. In the touch panel 10 according to the first exemplary embodiment, the substrate 100 may be positioned on the tactile presentation layer 120 so that the substrate 100 may perform an insulating role, thereby providing an insulating layer of the tactile presentation layer 120. 121) can be reduced.

제2 실시예에 따른 터치 패널(20)을 통해서 터치 패널의 구조적 다양성을 확보할 수 있다.Through the touch panel 20 according to the second embodiment, structural diversity of the touch panel may be secured.

이하, 제2 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the touch panel according to the second embodiment will be described.

제2 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법에서는, 기판(100)을 준비하는 단계, 위치 검출 전극(130)을 형성하는 단계 및 촉각 제시층(120)을 형성하는 단계를 포함한다.In the method of manufacturing the touch panel according to the second embodiment, the method includes preparing the substrate 100, forming the position detection electrode 130, and forming the tactile presentation layer 120.

상기 기판(100)을 준비하는 단계에서는 기판(100)을 준비할 수 있다. In the preparing of the substrate 100, the substrate 100 may be prepared.

이어서, 상기 위치 검출 전극(130)을 형성하는 단계에서는 상기 기판(100) 하부에 위치 검출 전극(130) 및 이를 전기적으로 연결하는 배선(140)을 형성할 수 있다. Subsequently, in the forming of the position detection electrode 130, the position detection electrode 130 and a wire 140 electrically connecting the position detection electrode 130 may be formed under the substrate 100.

이후, 상기 촉각 제시층(120)을 형성하는 단계에서는 전기력 인가 전극(122)을 형성하는 단계 및 절연층(121)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Subsequently, the forming of the tactile presentation layer 120 may include forming an electric force applying electrode 122 and forming an insulating layer 121.

상기 전기력 인가 전극(122)을 형성하는 단계에서는 상기 기판(100) 상부에 투명 전극 물질을 증착함으로써 형성될 수 있다.In the forming of the electric force applying electrode 122, it may be formed by depositing a transparent electrode material on the substrate 100.

상기 절연층(121)을 형성하는 단계에서는 상기 전기력 인가 전극(122) 상에 압전 고분자 재료를 형성할 수 있다.In the forming of the insulating layer 121, a piezoelectric polymer material may be formed on the electric force applying electrode 122.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified in other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

Claims (15)

기판;
상기 기판의 하부에 위치하고, 위치를 감지하는 위치 검출 전극; 및
상기 위치 검출 전극의 상부에 위치하는 촉각 제시층을 포함하고,
상기 촉각 제시층은 절연층 및 전기력 인가 전극을 포함하는 터치 패널.Board;
A position detection electrode positioned below the substrate and sensing a position; And
A tactile presentation layer positioned on the position detection electrode;
The tactile presentation layer includes an insulating layer and an electric force applying electrode. 제1항에 있어서,
상기 전기력 인가 전극은 전기적 진동을 발생시키는 터치 패널.The method of claim 1,
The electric force applying electrode generates an electrical vibration. 제1항에 있어서,
상기 전기력 인가 전극에 전압이 인가되는 터치 패널.The method of claim 1,
And a voltage applied to the electric force applying electrode. 제1항에 있어서,
상기 촉각 제시층은 상기 기판 및 상기 위치 검출 전극 사이에 위치하는 터치 패널.The method of claim 1,
And the tactile presentation layer is positioned between the substrate and the position detection electrode. 제4항에 있어서,
상기 전기력 인가 전극 및 상기 위치 검출 전극 사이에 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)가 더 위치하는 터치 패널.5. The method of claim 4,
And an optically clear adhesive (OCA) further disposed between the electric force applying electrode and the position detection electrode. 제1항에 있어서,
상기 촉각 제시층은 상기 기판 상에 위치하는 터치 패널.The method of claim 1,
And the tactile presentation layer is located on the substrate. 제1항에 있어서,
상기 절연층은 상기 전기력 인가 전극의 상부에 위치하는 터치 패널.The method of claim 1,
The insulating layer is positioned on top of the electric force applying electrode. 제1항에 있어서,
상기 절연층은 압전 고분자 재료를 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The insulating layer includes a piezoelectric polymer material. 제1항에 있어서,
상기 절연층은 폴리비닐리덴 플루오로라이드(PVDF)를 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The insulating layer includes polyvinylidene fluoride (PVDF). 제1항에 있어서,
상기 위치 검출 전극 또는 상기 전기력 인가 전극은 탄소나노튜브, 은 나노 와이어, 그래핀 및 나노 메쉬로 이루어진 군에서 선택된 물질을 어느 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The position detecting electrode or the electric force applying electrode includes any one material selected from the group consisting of carbon nanotubes, silver nanowires, graphene, and nanomeshes. 제1항에 있어서,
상기 위치 검출 전극 또는 상기 전기력 인가 전극의 두께는 10 nm 내지 50 nm 인 터치 패널.The method of claim 1,
The thickness of the position detection electrode or the electric force applying electrode is 10 nm to 50 nm. 제1항에 있어서,
상기 절연층의 두께는 50 ㎛내지 100 ㎛ 인 터치 패널.The method of claim 1,
The insulation layer has a thickness of 50 μm to 100 μm. 기판을 준비하는 단계;
상기 기판에 촉각 제시층을 형성하는 단계; 및
상기 기판에 위치 검출 전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.Preparing a substrate;
Forming a tactile presentation layer on the substrate; And
Forming a position detection electrode on the substrate. 제13항에 있어서,
상기 촉각 제시층을 형성하는 단계는
상기 기판 상에 절연층을 형성하는 단계; 및
상기 절연층 상에 전기력 인가 전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 13,
Forming the tactile presentation layer
Forming an insulating layer on the substrate; And
Forming an electric force applying electrode on the insulating layer. 제13항에 있어서,
상기 촉각 제시층을 형성하는 단계는
상기 기판 상에 전기력 인가 전극을 형성하는 단계; 및
상기 전기력 인가 전극 상에 절연층을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 13,
Forming the tactile presentation layer
Forming an electric force applying electrode on the substrate; And
Forming an insulating layer on the electric force applying electrode.
KR1020120030875A 2012-03-27 2012-03-27 Touch panel and method of the same KR20130109288A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120030875A KR20130109288A (en) 2012-03-27 2012-03-27 Touch panel and method of the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120030875A KR20130109288A (en) 2012-03-27 2012-03-27 Touch panel and method of the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20130109288A true KR20130109288A (en) 2013-10-08

Family

ID=49631531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120030875A KR20130109288A (en) 2012-03-27 2012-03-27 Touch panel and method of the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20130109288A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9436031B2 (en) 2014-07-07 2016-09-06 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof
US9772688B2 (en) 2014-09-30 2017-09-26 Apple Inc. Haptic feedback assembly
US9798409B1 (en) 2015-03-04 2017-10-24 Apple Inc. Multi-force input device
CN107562277A (en) * 2017-09-08 2018-01-09 信利光电股份有限公司 A kind of touch-screen and electronic equipment with pressure detecting function
US9886116B2 (en) 2012-07-26 2018-02-06 Apple Inc. Gesture and touch input detection through force sensing
US9910494B2 (en) 2012-05-09 2018-03-06 Apple Inc. Thresholds for determining feedback in computing devices
US10108265B2 (en) 2012-05-09 2018-10-23 Apple Inc. Calibration of haptic feedback systems for input devices
CN109283725A (en) * 2018-10-31 2019-01-29 安徽奕辉电子科技有限公司 A kind of liquid crystal display with automatic temperature control system
US10297119B1 (en) 2014-09-02 2019-05-21 Apple Inc. Feedback device in an electronic device
JP2019095985A (en) * 2017-11-21 2019-06-20 積水ポリマテック株式会社 Capacitive sensor, capacitive sensor device, and capacitive sensor control method
US10591368B2 (en) 2014-01-13 2020-03-17 Apple Inc. Force sensor with strain relief
US10642361B2 (en) 2012-06-12 2020-05-05 Apple Inc. Haptic electromagnetic actuator
KR20200105244A (en) * 2019-02-28 2020-09-07 한국전자기술연구원 Touch sensor device including pressure sensor and manufacturing method thereof

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9910494B2 (en) 2012-05-09 2018-03-06 Apple Inc. Thresholds for determining feedback in computing devices
US10108265B2 (en) 2012-05-09 2018-10-23 Apple Inc. Calibration of haptic feedback systems for input devices
US9977499B2 (en) 2012-05-09 2018-05-22 Apple Inc. Thresholds for determining feedback in computing devices
US9977500B2 (en) 2012-05-09 2018-05-22 Apple Inc. Thresholds for determining feedback in computing devices
US10642361B2 (en) 2012-06-12 2020-05-05 Apple Inc. Haptic electromagnetic actuator
US9886116B2 (en) 2012-07-26 2018-02-06 Apple Inc. Gesture and touch input detection through force sensing
US10591368B2 (en) 2014-01-13 2020-03-17 Apple Inc. Force sensor with strain relief
US9436031B2 (en) 2014-07-07 2016-09-06 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof
US10297119B1 (en) 2014-09-02 2019-05-21 Apple Inc. Feedback device in an electronic device
US9939901B2 (en) 2014-09-30 2018-04-10 Apple Inc. Haptic feedback assembly
US9772688B2 (en) 2014-09-30 2017-09-26 Apple Inc. Haptic feedback assembly
US9798409B1 (en) 2015-03-04 2017-10-24 Apple Inc. Multi-force input device
US10162447B2 (en) 2015-03-04 2018-12-25 Apple Inc. Detecting multiple simultaneous force inputs to an input device
CN107562277A (en) * 2017-09-08 2018-01-09 信利光电股份有限公司 A kind of touch-screen and electronic equipment with pressure detecting function
CN107562277B (en) * 2017-09-08 2020-08-14 信利光电股份有限公司 Touch screen with pressure detection function and electronic equipment
JP2019095985A (en) * 2017-11-21 2019-06-20 積水ポリマテック株式会社 Capacitive sensor, capacitive sensor device, and capacitive sensor control method
CN109283725A (en) * 2018-10-31 2019-01-29 安徽奕辉电子科技有限公司 A kind of liquid crystal display with automatic temperature control system
KR20200105244A (en) * 2019-02-28 2020-09-07 한국전자기술연구원 Touch sensor device including pressure sensor and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101886287B1 (en) Touch panel
KR20130109288A (en) Touch panel and method of the same
TWI526885B (en) Touch panel and electronic machine with push detection function
US9857923B2 (en) Touch panel including an elastic intermediate layer
JP4874145B2 (en) Transparent sheet and transparent touch switch
US20140333848A1 (en) Touch electrode device
JP2012178149A (en) Capacitive sensor sheet and method for manufacturing the same
KR101966227B1 (en) Touch panel and method of the same
TWI703475B (en) Touch sensor
KR101956086B1 (en) Touch panel, display and method of the same
JP2012141690A (en) Input device
KR20130046022A (en) Touch panel
TW201229850A (en) Touch-sensitive coordinate input apparatus, touch panel and electronic devices having the same
KR101103536B1 (en) Electrostatic capacitance type touch panel with two layer transparent conductive film on one side of tempered glass and manufacturing the same
KR20130107682A (en) Touch panel
TWI486859B (en) Capacitive touch panel structure
TWI442296B (en) Electrical device
KR20140128613A (en) Touch Panel and Method for Making the Same
TW201349425A (en) Touch panel
KR101428009B1 (en) Touch Panel and Method for Making the Same
TWI607359B (en) Three-dimensional touch screen assembly
JP2014146138A (en) Touch panel
KR102008736B1 (en) Touch panel and method for driving the same
JP3175653U (en) Touch control device
KR20130061000A (en) Touch panel

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid