KR20130067357A - A black photosensitive resin composition for touch panel and touch panel containing thereof - Google Patents

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배진영
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A black photosensitive resin composition for a touch panel is provided to reduce the rate of change in resistance according to the change of temperatures by including graphite oxide and carbon black as a coloring agent. CONSTITUTION: A black photosensitive resin composition for a touch panel includes a coloring agent, an alkali soluble resin, a photo-polymerization compound, a photo-polymerization initiator, and a solvent. The coloring agent includes graphite oxide and carbon black. Rate of change in the sheet resistance of the composition from before to after thermal treatment at 300°C or more is 10Ω/cm^2 or less. 10-80 parts by weight of the graphite oxide is included based on 100 parts by weight of the composition(content of solid parts). 6-76 parts by weight of the carbon black is included based on 100 parts by weight of the composition(content of solid parts). The weight ratio of the graphite oxide and the carbon black is 1:3-3:1. Light shielding rate of the composition is 4.0 or more.

Description

터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물 및 이를 함유하는 터치패널 {A BLACK PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR TOUCH PANEL AND TOUCH PANEL CONTAINING THEREOF}Black photosensitive resin composition for touch panel and touch panel containing same {A BLACK PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR TOUCH PANEL AND TOUCH PANEL CONTAINING THEREOF}

본 발명은 광차폐율이 높고 온도변화에 따른 저항의 변화율이 적은 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물 및 이를 함유하는 터치패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a black photosensitive resin composition for a touch panel having a high light shielding rate and a small change rate of resistance due to temperature change, and a touch panel containing the same.

터치패널은 디스플레이의 표시부에 접촉하는 것만으로 쉽게 사용할 수 있기 때문에 맨머신·인터페이스로서 우수하다. 이중 수요가 확대되고 있는 퍼스널 휴대폰 정보기기에는 저항막 방식의 터치패널이 채용되고 있다.The touch panel is excellent as a man machine interface because it can be easily used simply by touching the display portion of the display. Among them, a resistive touch panel is used for personal mobile phone information equipment, which is expanding in demand.

통상 터치패널은 작동기능을 하는 아이콘에 빛샘 방지용 양면테이프를 부착한다. 그러나, 이는 빛이 새고 두께가 두꺼우며 터치스크린 패널의 전극과 투명층이 노출되므로 화면의 크기가 작게 보이는 등의 문제가 있다. 또한, 터치스크린패널과 아이콘을 부착하는 경우 상기 터치스크린패널의 부착 공차와 아이콘 공차가 발생하여 두께가 두꺼워지는 문제점이 있다.In general, a touch panel attaches a double-sided tape for preventing light leakage to an icon that functions. However, there is a problem that the size of the screen looks small because light leaks, the thickness is thick, and the electrode and the transparent layer of the touch screen panel are exposed. In addition, when the touch screen panel and the icon are attached, there is a problem in that the thickness and the thickness of the attachment tolerance and the icon tolerance of the touch screen panel occurs.

이에, 한국특허공개 제2008-34547호에는 유리기판 상에 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트)필름과 상기 필름 상에 잉크층이 코팅된 구조의 베젤을 포함하는 터치패널이 제시되었다. 그러나 상기 터치패널은 베젤 이외에 부분에 PET필름이 포함되므로 터치패널의 투과율이 저하되고 PET필름을 부착하는 별도의 공정이 요구되는 단점이 있다.
Thus, Korean Patent Publication No. 2008-34547 discloses a touch panel including a PET (polyethylene terephthalate) film on a glass substrate and a bezel having an ink layer coated on the film. However, since the touch panel includes a PET film in a portion other than the bezel, the transmittance of the touch panel is lowered and a separate process of attaching the PET film is required.

본 발명은 터치패널의 투과율에 관여하지 않으면서, 광차폐율이 높고 고온에서 열처리한 후에도 저항의 변화율이 적어 베젤에 적용이 유용한 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물에 제공하고자 한다.
The present invention is to provide a black photosensitive resin composition for a touch panel which is useful for bezel application because the light shielding rate is high and the change rate of resistance is small even after heat treatment at high temperature without being involved in the transmittance of the touch panel.

상기한 목적으로 달성하기 위하여 본 발명은 그라파이트 옥사이드(a1) 및 카본블랙(a2)을 포함하는 착색제(A), 알칼리 가용성 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)를 함유하고, 300℃이상에서 열처리한 전/후의 면저항 변화율이 10Ω/㎠이하인 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D) and a solvent containing graphite oxide (a1) and carbon black (a2). The black photosensitive resin composition for touch panels containing (E) and whose sheet resistance change rate before and after heat processing at 300 degreeC or more is 10 Pa / cm <2> or less is provided.

상기 그라파이트 옥사이드(a1)는 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 10 내지 80중량부 함유할 수 있다. The graphite oxide (a1) may contain 10 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content).

상기 카본블랙(a2)은 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 6 내지 76중량부 함유할 수 있다. The carbon black (a2) may contain 6 to 76 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content).

상기 그라파이트 옥사이드(a1) 및 카본블랙(a2)는 1:3 내지 3:1 중량비로 함유할 수 있다. The graphite oxide (a1) and carbon black (a2) may be contained in a weight ratio of 1: 3 to 3: 1.

상기 흑색 감광성 수지 조성물은 광차폐율이 4.0이상일 수 있다. The black photosensitive resin composition may have a light shielding rate of 4.0 or more.

또한, 본 발명은 유리기판의 일면 또는 양면에, 상기 흑색 감광성 수지 조성물이 코팅된 블랙매트릭스를 포함하는 터치패널을 제공한다. In addition, the present invention provides a touch panel including a black matrix coated with the black photosensitive resin composition on one or both surfaces of a glass substrate.

상기 블랙매트릭스는 흑색 감광성 수지 조성물을 코팅하는 단계, 소정의 패턴으로 노광하는 단계, 및 현상하는 단계를 포함하여 형성될 수 있다.
The black matrix may be formed by coating a black photosensitive resin composition, exposing the pattern in a predetermined pattern, and developing the black matrix.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 광차폐율이 높아 빛샘이 방지될 수 있고, 고온에서 열처리한 후에도 저항의 변화율이 적어 터치패널의 베젤에 적용 시 유용하게 사용될 수 있다.The black photosensitive resin composition of the present invention has a high light shielding rate to prevent light leakage, and a low change rate of resistance even after heat treatment at a high temperature, and thus may be usefully applied to the bezel of the touch panel.

또한, 본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 종래 필름을 부착하는 공정에 비해 용이한 코팅 공정을 수행함으로 공정이 단축되고, 비용이 절감되는 이점이 있다.
In addition, the black photosensitive resin composition of the present invention has an advantage of shortening the process by reducing the cost by performing an easy coating process compared to the process of attaching a conventional film.

본 발명은 광차폐율이 높고 온도변화에 따른 저항의 변화율이 적은 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물 및 이를 함유하는 터치패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a black photosensitive resin composition for a touch panel having a high light shielding rate and a small change rate of resistance due to temperature change, and a touch panel containing the same.

이하 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물은 그라파이트 옥사이드(a1) 및 카본블랙(a2)을 포함하는 착색제(A), 알칼리 가용성 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)를 함유하고, 300℃이상에서 열처리한 전/후의 면저항 변화율이 10Ω/㎠이하이다.
The black photosensitive resin composition for a touch panel of the present invention includes a colorant (A), an alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D) and a graphite oxide (a1) and carbon black (a2) and The sheet resistance change rate before and after containing the solvent (E) and heat-processing at 300 degreeC or more is 10 GPa / cm <2> or less.

착색제(A)는 그라파이트 옥사이드(a1) 및 카본블랙(a2)을 포함한다.Colorant (A) comprises graphite oxide (a1) and carbon black (a2).

상기 그라파이트 옥사이드(a1)는 스퍼터링 등의 고온의 열처리 공정에서 저항을 유지시키는 역할을 한다. The graphite oxide (a1) serves to maintain resistance in a high temperature heat treatment process such as sputtering.

그라파이트 옥사이드(a1)는 일반적으로 그라파이트를 강산 처리하여 산화시키면 용이하게 얻을 수 있다. 구체적으로 그라파이트의 탄소와 강산이 반응하여 탄소에 히드록시기, 카르복실기 등이 함유된 그라파이트 옥사이드를 생성한다. 이러한 그라파이트 옥사이드는 시판되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. Graphite oxide (a1) can generally be easily obtained by oxidizing graphite by strong acid treatment. Specifically, the carbon of the graphite and the strong acid react to produce a graphite oxide containing a hydroxy group, a carboxyl group, and the like in the carbon. Such graphite oxide can be used commercially available without limitation.

또한, 입자형 그라파이트 옥사이드(a1)를 사용하는 경우, 그 모양은 특별히 제한되지 않는다. 바람직하기로는 전자 현미경에 의해 관찰될 수 있는 크기, 구체적으로 평균입경이 1㎛ 이하인 것이 좋다. In addition, when the particulate graphite oxide (a1) is used, the shape thereof is not particularly limited. Preferably, the size that can be observed by an electron microscope, specifically, the average particle diameter is preferably 1 μm or less.

또한, 필요에 따라 상기 그라파이트 옥사이드는 입자의 표면에 절연성이 우수한 소수성 분산제(또는 바인더) 등으로 처리한 것이 사용될 수 있다. 이때, 상기 절연성 분산제는 그라파이트 옥사이드 입자를 둘러싸는 보호층(Passivation Layer)을 형성하여, 입자 간의 접촉에 의해 발생할 수 있는 퍼콜레이션을 방지함으로써 저유전율을 확보하거나 통제하는 작용을 한다. In addition, if necessary, the graphite oxide may be one that is treated with a hydrophobic dispersant (or binder) having excellent insulation on the surface of the particles. In this case, the insulating dispersant forms a passivation layer surrounding the graphite oxide particles, thereby preventing or preventing percolation caused by contact between the particles, thereby securing or controlling a low dielectric constant.

절연성 분산제 등으로 표면 처리된 그라파이트 옥사이드는 우수한 절연성 흑색 입자로서 사용 가능하고, 상기 절연성 분산제는 바인더 수지와의 상용성 및 접착 특성을 개선시킬 수 있다. 이는 도막내의 가교(cross-linking)를 더욱 견고하게 하여 도막의 안정성을 확보할 수 있다.Graphite oxide surface-treated with an insulating dispersant may be used as an excellent insulating black particle, and the insulating dispersant may improve compatibility with the binder resin and adhesive properties. This makes the cross-linking in the coating film more firm, thereby ensuring the stability of the coating film.

상기 절연성 분산제는 우레탄계 분산제, 아크릴계 분산제 또는 에폭시계 분산제일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이중 절연성 우레탄계 분산제는 구체적으로 disperbyk 164(BYK chemie사제), disperbyk 163(BYK chemie사제) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 들 수 있다.The insulating dispersant may be a urethane-based dispersant, an acrylic dispersant, or an epoxy dispersant, but is not limited thereto. The double insulating urethane-based dispersant may be specifically selected from the group consisting of disperbyk 164 (manufactured by BYK chemie), disperbyk 163 (manufactured by BYK chemie) and combinations thereof.

이러한 그라파이트 옥사이드(a1)는 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 10 내지 80중량부, 바람직하기로는 20 내지 66중량부 함유할 수 있다. 상기 함유량이 10중량부 미만이면 고온에서 수행되는 ITO공정 후 저항특성(면저항 변화율)이 저하될 수 있고 80중량부를 초과하는 경우에는 광차폐율(OD)이 떨어져 터치패널의 전극과 투명층이 노출될 수 있다. Such graphite oxide (a1) may contain 10 to 80 parts by weight, preferably 20 to 66 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content). When the content is less than 10 parts by weight, the resistance characteristics (surface resistance change rate) may be lowered after the ITO process performed at a high temperature. When the content is more than 80 parts by weight, the light shielding rate (OD) may be lowered to expose the electrodes and the transparent layer of the touch panel. Can be.

즉, 상기 범위를 유지하는 경우 도막 형성 시 고온에서의 저항특성 유지가 가능하고, 현상 공정 시 화소부의 잔사 발생을 감소시킬 수 있다.
That is, when the above range is maintained, resistance characteristics at high temperature may be maintained when the coating film is formed, and residues of the pixel portion may be reduced during the development process.

상기 카본블랙(a2)은 차광성을 부여하는 역할을 한다.The carbon black (a2) serves to impart light blocking properties.

카본블랙(a2)은 상기 차광성 발형이 가능하다면 그 종류는 특별히 제한하지 않는다. 구체적으로 채널 블랙(channel black), 퍼니스 블랙(furnace black), 서멀 블랙(thermal black) 및 램프 블랙(lamp black)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.Carbon black (a2) is not particularly limited as long as the light-shielding shape can be. Specifically, at least one selected from the group consisting of channel black, furnace black, thermal black, and lamp black may be used.

카본블랙(a2)은 그 표면이 수지로 피복될 수 있다. 수지가 피복된 카본블랙은 피복되어 있지 않은 카본블랙에 비해 도전성이 낮아 블랙매트릭스 형성 시 전기 절연성 부여 효과를 향상시킬 수 있는 이점이 있다.Carbon black (a2) may be coated on the surface of the resin. Resin-coated carbon black has a lower conductivity than carbon black which is not coated, thereby improving the electrical insulation imparting effect when forming the black matrix.

이러한 카본블랙(a2)은 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 6 내지 76중량부, 바람직하기로는 20 내지 66중량부 함유할 수 있다. 상기 함유량이 6중량부 미만이면 광차폐율(OD)이 떨어져 터치스크린 패널의 전극과 투명층이 노출될 수 있고 76중량부를 초과하는 경우에는 고온에서 수행되는 ITO공정 후 저항특성(면저항 변화율)이 저하될 수 있다.The carbon black (a2) may contain 6 to 76 parts by weight, preferably 20 to 66 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content). When the content is less than 6 parts by weight, the light shielding rate (OD) may be lowered to expose the electrodes and the transparent layer of the touch screen panel. When the content is more than 76 parts by weight, the resistance characteristics (surface resistance change rate) decrease after the ITO process performed at a high temperature. Can be.

즉, 상기 범위를 유지하는 경우 도막 형성 시 충분한 광학밀도 발휘가 가능하고, 현상 공정 시 화소부의 잔사 발생을 감소시킬 수 있다. That is, when the above range is maintained, sufficient optical density can be exhibited when forming the coating film, and residues of the pixel portion can be reduced during the development process.

상기 착색제는 그라파이트 옥사이드(a1) 및 카본블랙(a2)는 1:3 내지 3:1중량비로 함유하는 바람직하다. 상기 함량비를 유지하는 경우 고온에서의 저항특성 유지가 가능하고, 높은 광차폐율을 나타내게 된다.
The colorant preferably contains graphite oxide (a1) and carbon black (a2) in a weight ratio of 1: 3 to 3: 1. When maintaining the content ratio it is possible to maintain the resistance characteristics at high temperatures, it will exhibit a high light shielding rate.

상기 알칼리 가용성 수지(B)는 본 발명의 용제에 용해될 수 있고, 광이나 열의 작용에 의한 반응성을 가지며, 상기 착색제에 대한 결착 수지의 기능을 하고 알칼리성 현상액에 용해 가능한 수지라면 특별히 제한 없이 사용될 수 있다. The alkali-soluble resin (B) can be used without particular limitation as long as it can be dissolved in the solvent of the present invention, has reactivity by the action of light or heat, functions as a binder resin for the colorant, and can be dissolved in an alkaline developer. have.

바람직하게 상기 알칼리 가용성 수지(B)는 아크릴계 공중합체를 포함할 수 있다. Preferably the alkali-soluble resin (B) may comprise an acrylic copolymer.

상기 아크릴계 공중합체는 (메타)아크릴산 또는 히드록시기 함유 (메타)아크릴레이트 단량체와, 상기 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체일 수 있다. The acrylic copolymer may be a copolymer of a (meth) acrylic acid or a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer with another monomer copolymerizable with the monomer.

상기 히드록시기 함유 (메타)아크릴레이트로는 예를 들면, 히드록시(메타)아크릴레이트, 이것의 카프로락톤 부가물 또는 산화 알킬렌 부가물, 글리세린 등의 다가의 알코올과 (메타)아크릴산과의 에스테르 화합물, 및 글리시딜(메타)아릴레이트아크릴산 부가물을 들 수 있다. 상기 히드록시(메타)아크릴레이트는 예를 들면, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 이들의 카프로락톤 부가물로서는, 예를 들면, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트ㆍ카프로락톤 부가물, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트ㆍ카프로락톤 부가물, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트ㆍ카프로락톤 부가물을 들 수 있다. 또한, 산화알킬렌 부가물로서는, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트ㆍ산화알킬렌 부가물, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트ㆍ산화프로필렌 부가물, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트ㆍ산화부틸렌 부가물을 들 수 있다. 상기 글리세린 등의 다가의 알코올과 (메타)아크릴산과의 에스테르 화합물로는, 예를 들면, 글리세린모노(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 메티롤프로판모노(메타)아크릴레이트, 디트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판의 산화에틸렌 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판의 산화프로필렌 부가물의 디(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 상기에서 예시한 히드록시기 함유 (메타)아크릴레이트는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.Examples of the hydroxy group-containing (meth) acrylates include ester compounds of polyhydric alcohols such as hydroxy (meth) acrylates, caprolactone adducts or alkylene oxide adducts thereof, and glycerin and (meth) acrylic acid. And glycidyl (meth) arylate acrylic acid adducts. As said hydroxy (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate is mentioned, for example. As these caprolactone addition products, hydroxyethyl (meth) acrylate caprolactone addition product, hydroxypropyl (meth) acrylate caprolactone addition product, hydroxybutyl (meth) acrylate capro, for example Lactone adducts. As the alkylene oxide adduct, hydroxyethyl (meth) acrylate, alkylene oxide adduct, hydroxypropyl (meth) acrylate, propylene oxide adduct, hydroxyethyl (meth) acrylate and butylene oxide And adducts. As ester compound of polyhydric alcohols, such as said glycerin, and (meth) acrylic acid, For example, glycerin mono (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipenta Di (meth) acrylate of ethylene oxide adduct of erythritol tri (meth) acrylate, a metharol propane mono (meth) acrylate, a ditrimethol propane tri (meth) acrylate, and a trimethol propane, a trimethol propane The di (meth) acrylate of the propylene oxide addition product of this is mentioned. The hydroxy group-containing (meth) acrylates exemplified above may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 히드록시기 함유 (메타)아크릴레이트와 공중합 가능한 다른 단량체로는 구체적으로 (메타)아크릴산 등의 불포화 카르복실산; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르 화합물; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 올리고에틸렌글리콜 모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노포화 카르복실산 에스테르 화합물, 벤질(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드 화합물을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. As another monomer copolymerizable with the said hydroxy group containing (meth) acrylate, Specifically, Unsaturated carboxylic acid, such as (meth) acrylic acid; Unsubstituted or substituted alkyl ester compounds of unsaturated carboxylic acids such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate and aminoethyl (meth) acrylate; Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclophene Tenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylic Unsaturated carboxylic ester compounds including alicyclic substituents such as late, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, and pineneyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid containing the substituent which has aromatic rings, such as monosaturated carboxylic acid ester compound of glycols, such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and phenyl (meth) acrylate Ester compounds; Aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and vinyltoluene; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile and α-chloroacrylonitrile; Maleimide compounds, such as N-cyclohexyl maleimide and N-phenyl maleimide, are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more kinds.

바람직하게 상기 아크릴계 공중합체는 (메타)아크릴산, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 및 히드록시부틸(메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 단량체와; 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트 및 스티렌으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 단량체가 공중합될 수 있다.Preferably the acrylic copolymer is at least one monomer selected from the group consisting of (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate and hydroxybutyl (meth) acrylate; One or more monomers selected from the group consisting of phenyl (meth) acrylate, benzyl acrylate and styrene can be copolymerized.

상기 알칼리 가용성 수지(B)는 겔투과 크로마토그래피(GPC; 테트라히드로퓨란을 용출용매로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 3,000 내지 200,000이고, 바람직하게는 5,000 내지 100,000이다. 중량평균분자량이 상기 범위를 유지하는 경우에는 도막의 경도가 향상될 수 있고, 패턴형성 시 현상액에 대한 미노광부의 용해성이 양호하기 때문에 바람직하다. The alkali-soluble resin (B) has a polystyrene reduced weight average molecular weight of 3,000 to 200,000 measured by gel permeation chromatography (GPC; using tetrahydrofuran as an eluting solvent), preferably 5,000 to 100,000. When the weight average molecular weight is maintained in the above range, the hardness of the coating film may be improved, and the solubility of the unexposed portion in the developing solution during pattern formation is preferable.

상기 알칼리 가용성 수지(B)의 수산기가는 20 내지 200(KOH㎎/g)인 것이 바람직하다. 수산기가가 상기 범위를 유지하는 경우에는 패턴형성 시 현상액에 대한 미노광부의 용해성이 향상되고, 고감도화되어 잔막률이 향상되기 때문에 바람직하다. 이때, 수산기가는 아크릴계 중합체 1g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다. It is preferable that the hydroxyl value of the said alkali-soluble resin (B) is 20-200 (KOHmg / g). When the hydroxyl value is maintained in the above range, it is preferable because the solubility of the unexposed portion in the developing solution during the pattern formation is improved, the sensitivity is increased, and the residual film ratio is improved. In this case, the hydroxyl value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and can be determined by titration using an aqueous potassium hydroxide solution.

이러한 알칼리 가용성 수지(B)는 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 10 내지 50중량부, 바람직하기로는 10 내지 45중량부 함유될 수 있다. 함유량이 상기 범위를 유지하는 경우 패턴 형성 및 현상성이 양호해질 수 있다.
Such alkali-soluble resin (B) may be contained 10 to 50 parts by weight, preferably 10 to 45 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content). When content maintains the said range, pattern formation and developability may become favorable.

상기 광중합성 화합물(C)은 광 및 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The said photopolymerizable compound (C) is a compound which can superpose | polymerize by the action of a light and a photoinitiator, A monofunctional monomer, a bifunctional monomer, another polyfunctional monomer, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more, respectively.

상기 단관능 단량체는 구체적으로 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일 옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 밖의 다관능 단량체의 구체적인 예로는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. Specifically, the monofunctional monomer is nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinylpyrrolidone Etc. can be mentioned. Specific examples of the bifunctional monomers include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Bis (acryloyl oxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, etc. are mentioned. Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaeryte Lithol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned. Of these, multifunctional monomers having two or more functional groups are preferably used.

이러한 광중합성 화합물(C)는 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 3 내지 40중량부, 바람직하기로는 5 내지 30중량부 함유될 수 있다. 상기 범위를 유지하는 경우에는 패턴 시 노광부의 강도나 평활성이 양호해질 수 있다.
Such a photopolymerizable compound (C) may contain 3 to 40 parts by weight, preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content). When maintaining the above range, the strength or smoothness of the exposed portion at the time of patterning may be improved.

광중합 개시제(D)는 제한되지 않으나 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. Although the photoinitiator (D) is not restrict | limited, It is preferable to use at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a triazine type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, and an oxime compound.

상기 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. 상기 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 디에톡시아세토페논, 2- 히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. 또한 상기 아세토페논계 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물일 수 있다. Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) -Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- Azine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- Methyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine. As said acetophenone type compound, diethoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2- Hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one , 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane- 1-one oligomer etc. are mentioned. In addition, the acetophenone-based compound may be a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 벤질기 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 나프틸기를 나타낸다. Wherein R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with an alkyl group having a carbon number of 1 to 12 Or a naphthyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 구체적인 예로는 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4- 모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by Formula 1 include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethane-1 -One, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-butyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl-2 -Amino (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholino Phenyl) propane-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one , 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, etc. may be mentioned. .

상기 비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용될 수 있다. Examples of the imidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'- Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, the phenyl group at the 4,4', 5,5 ' An imidazole compound substituted by an alkoxy group, and the like. Among them, 2,2'bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole can be preferably used.

상기의 옥심 화합물로서는, 예를 들면 하기의 화학식 2 내지 4로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. As said oxime compound, the compound etc. which are represented by following General formula (2)-4 are mentioned, for example.

[화학식 2] [Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[화학식 3] (3)

Figure pat00003
Figure pat00003

[화학식 4] [Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

또한, 상술한 광중합 개시제 이외에 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되고 있는 그 밖의 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수도 있다. 그 밖의 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물, 다관능티올계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Moreover, in addition to the photoinitiator mentioned above, the other photoinitiator etc. which are normally used in this field can also be used together if it is a grade which does not impair the effect of this invention. As another photoinitiator, a benzoin compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, an anthracene type compound, a polyfunctional thiol type compound, etc. are mentioned, for example. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. 상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether. Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. 상기 안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4- . Examples of the anthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, .

상기 다관능티올계 화합물로서는, 예를 들면, 트리스-(3-머캅토프로피온일옥시)-에틸-이소시아눌레이트, 트리메틸올프로판트리스-3-머캅토프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트, 디펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 등을 들 수 있다. As said polyfunctional thiol type compound, For example, tris- (3-mercapto propionyloxy) -ethyl- isocyanurate, trimethylol propane tris-3- mercapto propionate, pentaerythritol tetrakis- 3-mercaptopropionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, etc. are mentioned.

그 밖에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 그 밖의 광중합 개시제로서 들 수 있다. Other examples include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylclyoxylic acid Methyl, titanocene compounds and the like can be mentioned as other photopolymerization initiators.

본 발명에 따르면 상기 광중합 개시제(D)에 광중합 개시 보조제(D-1)을 조합하여 사용할 수 있다. 광중합 개시제에 광중합 개시 보조제를 병용하면, 이들을 함유하는 흑색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 이를 사용하여 블랙 매트릭스를 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다. According to this invention, a photoinitiator (D-1) can be used in combination with the said photoinitiator (D). When a photoinitiator adjuvant is used together with a photoinitiator, since the black photosensitive resin composition containing these is more sensitive and the productivity at the time of forming a black matrix using this improves, it is preferable.

상기 광중합 개시 보조제는 아민 화합물 및 카르복실산 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 사용될 수 있다. The photopolymerization initiation adjuvant may be used one or more compounds selected from the group consisting of amine compounds and carboxylic acid compounds.

상기 아민 화합물은 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물; 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 이중 방향족 아민 화합물이 바람직하다.Specific examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine; 4-dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4, Aromatic amine compounds, such as 4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone) and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, are mentioned. Preferred are biaromatic amine compounds.

상기 카르복실산 화합물은 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다. Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichloro And aromatic heteroacetic acids such as phenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

이러한 광중합 개시제(D)는 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 0.1 내지 20중량부, 바람직하게는 0.5 내지 10중량부 함유될 수 있다. 상기 범위를 유지하는 경우에는 흑색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 미세성를 유지할 수 있다. Such a photopolymerization initiator (D) may be contained in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content). In the case of maintaining the above range, since the black photosensitive resin composition is highly sensitive to shorten the exposure time, productivity is improved and high fineness can be maintained.

또한, 광중합 개시 보조제(D-1)는 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 0.01 내지 10중량부, 바람직하게는 0.01 내지 5중량부 함유될 수 있다. 상기 범위를 유지하는 경우에는 흑색 감광성 수지 조성물이 감도를 보다 향상시킬 수 있으며, 블랙매트릭스의 형성을 향상시킬 수 있다.
In addition, the photopolymerization initiation assistant (D-1) may be contained in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content). When maintaining the said range, a black photosensitive resin composition can improve a sensitivity more and can form formation of a black matrix.

상기 용제(E)는 특별히 제한되지 않으며 당해 분야에서 통상적으로 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. The solvent (E) is not particularly limited and various organic solvents conventionally used in the art can be used.

용제는 구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알콕시알킬아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; 및 γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. Specific examples of the solvent include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monopropyl ether acetate; Alkoxyalkyl acetates such as methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; And cyclic esters such as γ-butyrolactone.

이중 도포성 및 건조성면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산에틸이나 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 들 수 있다. 이러한 용제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. It is preferable to use the organic solvent whose boiling point is 100 degreeC-200 degreeC from a double coatability and drying property. More preferably, alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones, esters, such as 3-ethoxy propionate ethyl and 3-methoxy propionate methyl, More preferably, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, Cyclohexanone, ethyl 3-ethoxy propionate, methyl 3-methoxy propionate, etc. are mentioned. These solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기 용제(E)의 함량은 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 40 내지 95중량부, 바람직하게는 50 내지 92 중량부 함유될 수 있다. 상기 범위를 유지하는 경우에는 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해질 수 있다.
The content of the solvent (E) may be contained 40 to 95 parts by weight, preferably 50 to 92 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content). In the case of maintaining the above range, applicability may be improved when applied with a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes referred to as die coater), inkjet, or the like.

또한, 본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물에는 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제, 분산제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제(F)를 추가로 함유할 수 있다. Moreover, the black photosensitive resin composition of this invention can further contain additives (F), such as a filler, another high molecular compound, a hardening | curing agent, a dispersing agent, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor, as needed.

상기 충진제는 구체적으로 유리, 실리카 및 알루미나 등이 사용될 수 있다. Specifically, the filler may be glass, silica, alumina, or the like.

상기 다른 고분자 화합물은 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지 및 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지가 사용될 수 있다. Specifically, the other polymer compound may be a curable resin such as an epoxy resin or a maleimide resin, and a thermoplastic resin such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, polyurethane, or the like. have.

상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위한 역할을 하며, 구체적으로 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등이 사용될 수 있다. The hardener serves to increase the core hardening and mechanical strength, and specifically, an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, an oxetane compound, or the like may be used.

에폭시 화합물은 예를 들면 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한　에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레이트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다. The epoxy compound is, for example, a bisphenol A epoxy resin, a hydrogenated bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, a hydrogenated bisphenol F epoxy resin, a noblock type epoxy resin, other aromatic epoxy resins, an alicyclic epoxy resin, or glycy Aliphatic, cycloaliphatic or aromatic epoxy compounds, butadiene (co) polymers epoxides, isoprene (co) polymers, such as diester ester resins, glycidylamine resins, or brominated derivatives of these epoxy resins, epoxy resins and brominated derivatives thereof Epoxide, glycidyl (meth) acrylate (co) polymer, triglycidyl isocyanurate, etc. are mentioned.

옥세탄 화합물은 예를 들면 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산 디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다. Examples of the oxetane compound include carbonate bis oxetane, xylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane, and cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane.

또한, 상기 경화제는 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 추가로 함유할 수 있다. 경화 보조 화합물은 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다. In addition, the said hardening | curing agent can further contain the hardening auxiliary compound which can make ring-opening-polymerize the epoxy group of an epoxy compound, and the oxetane skeleton of an oxetane compound. As a hardening auxiliary compound, polyhydric carboxylic acid, polyhydric carboxylic anhydride, an acid generator, etc. are mentioned, for example.

카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있으며, 예를 들면 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. Carboxylic anhydrides can use what is marketed as an epoxy resin hardening | curing agent, For example, a brand name (Adekahadona EH-700) (made by Adeka Industry Co., Ltd.), a brand name (Rikaditdo HH) (made by Nippon Ewha Co., Ltd.) ), A brand name (MH-700) (made by Nippon Ewha Co., Ltd.), etc. are mentioned.

상기에서 예시한 경화제 및 경화 보조 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다. The curing agent and the curing auxiliary compound exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

분산제는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있으며, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성계 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. A dispersing agent can use commercially available surfactant, For example, silicone type, fluorine type, ester type, cationic type, anionic type, nonionic type, amphoteric type surfactant etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

계면 활성제는 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급아민변성폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며, 이외에 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(Lubrisol사 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조), Disperbyk-series(BYK-chemi사 제조) 등을 들 수 있다.Surfactants are, for example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid modified polyesters, tertiary amine modified polyurethanes, and polyethyleneimines. In addition, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by Tochem Products, Inc.), and Mega Pack (MEGAFAC) (Manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.), Florard (manufactured by Sumitomo 3M Inc.), Asahi guard, Suflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Solsper ) (Manufactured by Lubrisol), EFKA (manufactured by EFKA Chemicals), PB 821 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.), Disperbyk-series (manufactured by BYK-chemi), and the like.

밀착 촉진제의 구체적으로 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐 트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3- 글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토 프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- ( 2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercapto propyltrimethoxy Silane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like. The adhesion promoters may be used alone or in combination of two or more thereof.

산화 방지제는 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등 힌더드페놀계를 들 수 있다. Antioxidants include hindered phenol-based compounds such as 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol.

상기 자외선 흡수제는 구체적으로 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole, alkoxybenzophenone and the like.

상기 응집 방지제는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.
Specific examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate.

한편, 본 발명의 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물은 당 분야에서 사용되는 일반적인 방법으로 제조될 수 있으며, 일례로 하기와 같은 방법을 사용할 수 있다.On the other hand, the black photosensitive resin composition for a touch panel of the present invention can be prepared by a general method used in the art, it can be used as an example as follows.

착색제(A)를 미리 용제(E)와 혼합한 후, 비드 밀 등을 이용하여 착색제의 평균 입경이 1㎛ 이하 정도가 될 때까지 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 분산제, 알칼리 가용성 수지(B)의 일부 또는 전부가 혼합될 수 있다.The coloring agent (A) is previously mixed with the solvent (E), and then dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the coloring agent is about 1 µm or less. At this time, a part or all of a dispersing agent and alkali-soluble resin (B) can be mixed as needed.

본 발명은 착색제(A)로 그라파이트 옥사이드(a1)와 카본블랙(a2)이 사용되므로, 이들을 혼합한 후 분산액을 제조하거나 이들 각각의 분산액을 제조한 후 혼합하여 사용할 수 있다. 또한 그라파이트 옥사이드(a1)는 분산제로 절연성 분산제를 사용할 수 있다. 이후에, 제조된 분산액에 알칼리 가용성수지(B)의 나머지, 광중합성 화합물(C) 및 광중합 개시제(D)와, 필요에 따라 추가의 첨가제(F)를 첨가한 후, 필요에 따라 추가의 용제를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.In the present invention, since the graphite oxide (a1) and the carbon black (a2) are used as the colorant (A), they may be mixed and then used to prepare a dispersion or after the preparation of each of these dispersions. In addition, the graphite oxide (a1) may use an insulating dispersant as a dispersant. Thereafter, the remaining dispersion of the alkali-soluble resin (B), the photopolymerizable compound (C) and the photopolymerization initiator (D) and, if necessary, additional additives (F) were added to the prepared dispersion, and then additional solvents were necessary. Was further added to a predetermined concentration to prepare a desired black photosensitive resin composition.

다음으로, 기판 상부에 본 발명에 따른 흑색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여 얻어지는 블랙매트릭스를 형성한다. 이때 블랙매트릭스는 터치패널의 베젤부에 형성한다. Next, the black matrix obtained by apply | coating the black photosensitive resin composition which concerns on this invention on the board | substrate, and exposing and developing in a predetermined pattern is formed. In this case, the black matrix is formed in the bezel portion of the touch panel.

상기 기판은 높은 표면강도를 가지는 재료로, 유리 재질 또는 유리 재질과 같이 빛이 투과하고 표면강도가 뛰어난 플라스틱 재질을 사용할 수 있다. 바람직하기로는 비산방지용 필름이 증착된 강화유리를 사용하는 것이 좋으며, 보다 바람직하기로는 기판의 두께가 0.35 내지 1.0㎜인 것이 좋다. 이때, 기판의 두께가 상기 범위를 벗어나는 경우에는 최근 추세인 슬림화를 달성하기 못하며, 투과율이 감소할 수 있다.The substrate may be a material having a high surface strength, such as a glass material or a glass material, and may be made of a plastic material that transmits light and has excellent surface strength. Preferably, it is preferable to use tempered glass on which the scattering prevention film is deposited, and more preferably, the thickness of the substrate is 0.35 to 1.0 mm. In this case, when the thickness of the substrate is out of the above range, the recent trend of slimming may not be achieved, and transmittance may decrease.

구체적으로 본 발명에 따른 흑색 감광성 수지 조성물을 이용하여 블랙매트릭스를 형성하는 방법은 하기 단계를 포함한다.Specifically, the method of forming the black matrix using the black photosensitive resin composition according to the present invention includes the following steps.

상기 블랙매트릭스는 통상 터치패널의 상부와 하부 기판의 가장자리 부분에 형성되며, 투명전극 및 도전성 연결 패턴인 금속전극 등이 보이지 않게 하기 위하여 베젤 부분에 블랙칼라로 형성된다. 즉, 액자 프레임 형상으로 형성되는 것이 일반적이다.The black matrix is usually formed at the edges of the upper and lower substrates of the touch panel, and the black matrix is formed in the bezel part so that the transparent electrode and the metal electrode, which is a conductive connection pattern, are not visible. That is, it is generally formed in the shape of a picture frame.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물을 기판상에 도포하는 단계, 상기 흑색 감광성 수지 조성물의 일부 영역을 선택적으로 노광하는 단계 및 상기 흑색 감광성 수지 조성물의 노광 영역 또는 비노광 영역을 제거하는 현상 단계를 포함하여 이루어진다.Applying the black photosensitive resin composition of the present invention on a substrate, selectively exposing a portion of the black photosensitive resin composition, and developing a step of removing the exposed or non-exposed areas of the black photosensitive resin composition; Is done.

상기 도포단계는 본 발명의 흑색 감광성 조성물을 기판 위에 도포하여 예비 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는 것이다. 이 때의 도막의 두께는 대개 0.5 내지 5㎛ 정도이다. In the coating step, the black photosensitive composition of the present invention is applied onto a substrate and preliminarily dried to remove volatile components such as a solvent to obtain a smooth coating film. The thickness of the coating film at this time is usually about 0.5 to 5 mu m.

상기 노광단계는 상기에서 얻어진 도막에 목적하는 패턴을 얻기 위해 마스크를 통해 특정 영역에 자외선을 조사하는 것이다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 마스크와 기판이 정확히 위치가 맞도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. The exposing step is to irradiate ultraviolet rays to a specific region through a mask to obtain a desired pattern on the coating film obtained above. At this time, it is preferable to use apparatuses, such as a mask aligner and a stepper, so that a parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure part, and a mask and a board | substrate will be correctly aligned.

상기 현상단계는 상기에서 경화가 종료된 도막을 현상액인 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광 영역을 용해시키고 현상함으로써 목적하는 패턴을 제조하는 것이다. 현상 후, 필요에 따라 150 내지 230℃에서 10 내지 60분 정도의 후 건조를 실시할 수 있다. The developing step is to prepare a desired pattern by contacting the coating film after the curing is completed with an aqueous alkali solution which is a developing solution to dissolve and develop the non-exposed areas. After image development, it can carry out after about 10 to 60 minutes of drying at 150-230 degreeC as needed.

현상단계에서 사용하는 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면활성제를 포함하는 수용액이다. The developing solution used in the developing step is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant.

상기 알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중 어느 것이어도 좋다. 무기 알칼리성 화합물은 구체적으로 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물은 구체적으로 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The alkaline compound may be either an inorganic or organic alkaline compound. Inorganic alkaline compounds specifically include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, Potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia, etc. are mentioned. In addition, the organic alkaline compound is specifically tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoiso Propylamine, diisopropylamine, ethanolamine and the like. These inorganic and organic alkaline compounds may be used alone or in combination of two or more.

상기 현상액 중의 알칼리성 화합물의 바람직한 농도는 0.01 내지 10질량%의 범위이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5질량%이다. The concentration of the alkaline compound in the developer is in the range of 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.03 to 5% by mass.

상기 계면활성제는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 또는 양이온계 계면활성제 중 모두 사용할 수 있다. 비이온계 계면활성제는 구체적으로 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. 음이온계 계면활성제는 구체적으로 라우릴알코올황산에스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급알코올황산에스테르염류; 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류; 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다. 양이온계 계면활성제는 구체적으로 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 상기 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The surfactant may be used both of nonionic surfactants, anionic surfactants or cationic surfactants. Specific examples of the nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, and polyoxy. Ethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, etc. are mentioned. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate; Alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate; Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl benzene sulfonate and sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts and quaternary ammonium salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

상기 현상액 중의 계면 활성제의 함량은, 통상 알칼리 현상액 100질량부 중 0.01 내지 10질량부, 바람직하게는 0.05 내지 8질량부, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5질량부이다. The content of the surfactant in the developer is usually 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.05 to 8 parts by mass, and more preferably 0.1 to 5 parts by mass in 100 parts by mass of the alkaline developer.

상기한 바와 같은 방법으로 제조되는 본 발명에 따른 터치패널용 블랙 매트릭스는 300℃이상에서 열처리한 전/후의 면저항 변화율이 10Ω/㎠ 이하로 저항특성이 우수하고 광차폐율이 4.0이상으로 높다. The black matrix for a touch panel according to the present invention manufactured by the method as described above has excellent resistance characteristics with a sheet resistance change rate of 10 Ω / cm 2 or less before and after heat treatment at 300 ° C. or higher and a high light shielding rate of 4.0 or more.

터치패널 및 이를 포함하는 터치스크린은 터치된 지점에서의 전기적인 변화를 감지하여 정보를 획득하는 방법의 기기이다. 이들은 전기적인 영향을 주는 인자인 저항에 변화가 있을 경우, 상판기판 및 하판기판에 증착된 투명전극간 혹은 금속전극과의 통전에 의해 정상적인 회로 구동에 영향을 미친다. 따라서, 블랙매트릭스 공정이 끝난 후와 고온의 열처리 공정(고온의 ITO 공정)후의 저항변화에 차이가 적을수록 우수하다.The touch panel and the touch screen including the same are devices of a method of obtaining information by sensing an electrical change at a touched point. When there is a change in resistance, which is an electrical affecting factor, they affect the normal circuit driving by energizing between transparent electrodes or metal electrodes deposited on the upper and lower substrates. Therefore, the smaller the difference in resistance change after the completion of the black matrix process and the high temperature heat treatment process (high temperature ITO process), the better.

또한, 광차폐율은 높으면 좋으나 백라이트에 대한 차광성을 유지하기 위해서는 4.0이상, 보다 바람직하기로는 4.5이상이 좋다.
In addition, the light shielding rate may be high, but in order to maintain light blocking property against the backlight, 4.0 or more, more preferably 4.5 or more.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention. Such variations and modifications are intended to be within the scope of the appended claims.

제조예 1 : 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) Preparation Example 1 Graphite Oxide Dispersion (M1)

그라파이트 옥사이드 5중량부를 용기에 투입 후 균질기(homogenizer)를 이용하여 3분 동안 교반하였다. 이때, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 95중량부를 사용하였으며, 교반이 완료된 액은 초음파처리를 30분 동안 처리하여 그라파이트 옥사이드 분산액 (M1)을 제조하였다.
5 parts by weight of graphite oxide was added to the container, followed by stirring for 3 minutes using a homogenizer. In this case, 95 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate was used as a solvent, and the stirred solution was treated with ultrasonication for 30 minutes to prepare a graphite oxide dispersion (M1).

제조예 2 : 카본블랙 분산액(M2) Preparation Example 2 Carbon Black Dispersion (M2)

카본블랙 8.7중량부, 분산제로서 아지스파 PB821(아지노모또 파인테크노 가부시끼가이샤 제조)를 4.3중량부, 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 87중량부를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합·분산하여 분산액(M2)을 제조하였다.
8.7 parts by weight of carbon black, 4.3 parts by weight of azipa PB821 (manufactured by Ajino Moto Fine Techno Co., Ltd.) as a dispersant, and 87 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed and dispersed with a bead mill for 12 hours. (M2) was prepared.

흑색 감광성 수지 조성물의 제조Preparation of Black Photosensitive Resin Composition

실시예 1Example 1

상기 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 20중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 66중량부를 균질기(homogenizer)를 이용하여 3분 동안 교반을 하고, 초음파처리를 5분 동안 진행하였다. 여기에 알칼리 가용성 수지(메타아크릴산과 벤질메타아크릴레이트와의 공중합체: 메타아크리산 단위와 벤질메타아크릴레이트 단위와의 비는 몰비로 27:73, 수산기가는 85, 폴리스티렌 환산중량평균분자량은 13,000)를 2중량부, 광중합성 모노머(KAYARAD DPHA; 닛본가야꾸 제조) 1중량부, 광개시제류로 Irgacure 369 (Ciba Specialty Chemical 사 제조) 0.1중량부, 4,4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논(호도가야 카가쿠㈜제조) 0.1중량부, Irgacure OXE01(Ciba Specialty Chemical 사 제조) 0.15중량부, Irgacure OXE02(Ciba Specialty Chemical 사 제조) 0.15중량부, 용매류로 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10.5중량부를 혼합하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
20 parts by weight of graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1, 66 parts by weight of carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2 was stirred using a homogenizer (homogenizer) for 3 minutes, and the sonication was performed for 5 minutes. It was. Here, the ratio of alkali-soluble resin (copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate: a methacrylic acid unit and a benzyl methacrylate unit is molar ratio 27:73, hydroxyl value is 85, and polystyrene conversion weight average molecular weight is 13,000 ) 2 parts by weight, 1 part by weight of a photopolymerizable monomer (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku), 0.1 part by weight of Irgacure 369 (manufactured by Ciba Specialty Chemical) as a photoinitiator, 4,4'-di (N, N'- Dimethylamino) -benzophenone (manufactured by Hodogaya Kagaku Co., Ltd.) 0.1 parts by weight, 0.15 parts by weight of Irgacure OXE01 (manufactured by Ciba Specialty Chemical), 0.15 parts by weight of Irgacure OXE02 (manufactured by Ciba Specialty Chemical), propylene glycol mono 10.5 parts by weight of methyl ether acetate was mixed to prepare a black photosensitive resin composition.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 30중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 56중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 30 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 56 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 40중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 46중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 40 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 46 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

실시예 4Example 4

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 50중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 56중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 50 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 56 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

실시예 5Example 5

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 60중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 46중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 60 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 46 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

실시예 6Example 6

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 10중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 76중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 10 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 76 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

실시예 7Example 7

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 70중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 16중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 70 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 16 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

실시예 8Example 8

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 80중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 6중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 80 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 6 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

비교예 1Comparative Example 1

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 0중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 86중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 0 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 86 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

비교예 2Comparative Example 2

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 제조예 1의 그라파이트 옥사이드 분산액(M1) 86중량부, 제조예 2의 카본블랙 분산액(M2) 0중량부를 사용하여 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, using 86 parts by weight of the graphite oxide dispersion (M1) of Preparation Example 1 and 0 parts by weight of the carbon black dispersion (M2) of Preparation Example 2.

비교예 3Comparative Example 3

한국특허공개 제2008-34547호와 같이, 유리기판 상에 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트)필름과 상기 필름 상에 잉크층이 코팅된 구조를 포함하는 터치패널.
As in Korean Patent Laid-Open No. 2008-34547, a touch panel comprising a PET (polyethylene terephthalate) film on a glass substrate and an ink layer coated on the film.

실험예Experimental Example

상기 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 2의 흑색 감광성 수지 조성물을 이용하여 블랙매트릭스를 형성하고, 이의 물성을 하기와 같은 방법을 측정하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.Black matrices were formed using the black photosensitive resin compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 2, and their physical properties were measured as shown in Table 1 below.

구체적으로 흑색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 2분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 이어서 상기 박막 위에 포토마스크를 올려놓고, 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때, 자외선 광원은 g, h, i 선을 모두 함유하는 1KW의 고압 수은등을 사용하여 100mJ/㎠의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 담궈 현상하였다. 이 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 230℃의 가열 오븐에서 20분간 가열하여 블랙매트릭스를 형성하였다. 제조된 패턴의 두께는 2.0㎛이었다.Specifically, the black photosensitive resin composition was coated on a glass substrate by spin coating, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 2 minutes to form a thin film. Subsequently, a photomask was placed on the thin film, and ultraviolet rays were irradiated with a distance of 50 µm from the photomask. In this case, the ultraviolet light source was irradiated with luminous intensity of 100mJ / cm 2 using a 1KW high-pressure mercury lamp containing g, h, and i rays, and no special optical filter was used. The thin film irradiated with ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution of pH 10.5 for 2 minutes to develop. The thin film coated glass plate was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 230 ° C. for 20 minutes to form a black matrix. The thickness of the pattern produced was 2.0 μm.

상기에서 제조된 블랙매트릭스의 광차폐율 (OD), 패턴특성, 잔사특성 및 저항특성(면저항 변화율)을 하기와 같이 측정 및 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
The light shielding ratio (OD), pattern characteristics, residue characteristics and resistance characteristics (surface resistance change rate) of the prepared black matrix were measured and evaluated as follows, and the results are shown in Table 1 below.

1. 광차폐율(OD)1. Light shielding rate (OD)

광학밀도측정계(엑스라이트사 제조)를 이용하여 측정하고 아래의 평가기준에 따라 평가하였다. It measured using the optical density meter (the Exlite company make), and evaluated in accordance with the following evaluation criteria.

[평가기준][Evaluation standard]

◎: 광차폐율(OD)이 4.5이상◎: Light shielding rate (OD) is 4.5 or more

○: 광차폐율(OD)이 4.0이상 4.5미만○: Light shielding rate (OD) is 4.0 or more and less than 4.5

△: 광차폐율(OD)이 3.5이상 4.0미만△: light shielding rate (OD) is 3.5 or more but less than 4.0

X: 광차폐율(OD)이 3.5미만
X: Light shielding rate (OD) is less than 3.5

2. 패턴 특성2. Pattern Characteristics

패턴을 광학현미경으로 확인하고 패턴의 직진성을 관찰하고, 아래의 평가기준에 따라 평가하였다. The pattern was confirmed by an optical microscope, the linearity of the pattern was observed, and evaluated according to the following evaluation criteria.

[평가기준][Evaluation standard]

○: 100마이크로 패턴 측정시 돌기나 뜯김 부분의 크기가 1㎛ 이상 개수가 1개 미만○: The size of the protrusion or tearing part is 1 μm or more and less than 1 when measuring 100 micro patterns

△: 100마이크로 패턴 측정시 돌기나 뜯김 부분의 크기가 1㎛ 이상 개수가 1 내지 5개 미만 (Triangle | delta): The size of a processus | protrusion or tearing part at the time of 100 micro pattern measurement of 1 micrometer or more and less than 1-5 pieces

X: 100마이크로 패턴 측정시 돌기나 뜯김 부분의 크기가 1㎛ 이상 개수가 5개 이상
X: When measuring 100 micro patterns, the size of protrusion or tearing part is 1㎛ or more and 5 or more

3. 잔사특성3. Residual Characteristics

패턴부분에서 비노광된 부분, 즉 패턴이 형성되지 않은 비노광부를 전자현미경 SEM을 사용하여 잔사의 유무를 관찰하였다. The non-exposed portion of the pattern portion, that is, the non-exposed portion where the pattern was not formed, was observed by using an electron microscope SEM.

[평가기준][Evaluation standard]

○: 잔사 미발생 ○: no residue

X: 잔사 발생
X: residue

4.4. 저항 특성(면저항 변화율)Resistance characteristics (surface resistance change rate)

블랙매트릭스를 고온 300℃의 챔버(Chamber)에 1시간 정도 열처리한 후, 면저항 측정기(MCP-HT450, 미쯔비시 社)로 저항의 저하 유/무를 확인하였다. 이때, 블랙매트릭스 제조 공정이 끝난 후 초기 면저항은 3.0×1014Ω/㎠ 이다.After the black matrix was heat-treated in a chamber at a high temperature of 300 ° C. for about 1 hour, the resistance of the resistance was checked by using a sheet resistance meter (MCP-HT450, Mitsubishi Corporation). At this time, the initial sheet resistance after the completion of the black matrix manufacturing process is 3.0 × 10 14 Ω / ㎠.

[평가기준][Evaluation standard]

◎: 면저항 변화율(ΔΩ/㎠)이 0◎: sheet resistance change rate (ΔΩ / cm 2) is 0

○: 면저항 변화율(ΔΩ/㎠)이 0 초과 내지 10 이하○: sheet resistance change rate (ΔΩ / cm 2) is greater than 0 to 10 or less

△: 면저항 변화율(ΔΩ/㎠)이 10 초과 내지 100 이하(Triangle | delta): A sheet resistance change rate ((DELTA) (ohm) / cm <2>) is more than 10-100 or less

X: 면저항 변화율(ΔΩ/㎠)이 100 초과
X: sheet resistance change rate (ΔΩ / ㎠) is over 100

구분division 광차폐율Light shielding rate 패턴특성Pattern 잔사특성Residue characteristics 면저항 변화율
(Ω/㎠)Sheet resistance change rate
(Ω / ㎠) 실시예1Example 1 ◎◎ ◎◎ ○○ ◎◎ 실시예2Example 2 ◎◎ ◎◎ ○○ ◎◎ 실시예3Example 3 ◎◎ ◎◎ ○○ ◎◎ 실시예4Example 4 ◎◎ ◎◎ ○○ ◎◎ 실시예5Example 5 ◎◎ ◎◎ ○○ ◎◎ 실시예6Example 6 ◎◎ ◎◎ ○○ ○○ 실시예7Example 7 ○○ ◎◎ ○○ ◎◎ 실시예8Example 8 ○○ ○○ ○○ ◎◎ 비교예1Comparative Example 1 ◎◎ ◎◎ ○○ XX 비교예2Comparative Example 2 XX XX XX ◎◎ 비교예3Comparative Example 3 ○○ ○○ XX △△

위 표 1과 같이 본 발명에 따라 그라파이트 옥사이드 및 카본블랙을 포함하는 착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 함유한 실시예 1 내지 8은 광차폐율, 패턴특성 및 잔사특성이 우수할 뿐만 아니라 300℃이상에서 열처리한 전/후의 면저항 변화율이 10Ω/㎠이하를 유지할 수 있음을 확인할 수 있었다.Examples 1 to 8 containing a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent containing graphite oxide and carbon black according to the present invention as shown in Table 1 have a light shielding rate, pattern characteristics, and residue characteristics. Not only was it excellent, it was confirmed that the sheet resistance change rate before and after heat treatment at 300 ° C. or more could be maintained at 10 μs / cm 2 or less.

반면에, 비교예 1은 면저항 변화율이 크고, 비교예 2는 광차폐율, 패턴특성 및 잔사특성이 낮으며, 비교예 3은 잔사특성 및 면저항 변화율이 낮음을 확인할 수 있었다.On the other hand, Comparative Example 1 has a large sheet resistance change rate, Comparative Example 2 has a low light shielding rate, pattern characteristics and residue characteristics, Comparative Example 3 was confirmed that the residue characteristics and the sheet resistance change rate is low.

Claims (7)

그라파이트 옥사이드(a1) 및 카본블랙(a2)을 포함하는 착색제(A), 알칼리 가용성 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)를 함유하고,
300℃이상에서 열처리한 전/후의 면저항 변화율이 10Ω/㎠이하인 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물.
It contains a coloring agent (A), an alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photoinitiator (D), and a solvent (E) containing graphite oxide (a1) and carbon black (a2),
The black photosensitive resin composition for touch panels whose sheet resistance change rate before and after heat processing at 300 degreeC or more is 10 kPa / cm <2> or less.
청구항 1에 있어서, 상기 그라파이트 옥사이드(a1)는 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 10 내지 80중량부 함유하는 것인 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물.
The black photosensitive resin composition for a touch panel as set forth in claim 1, wherein the graphite oxide (a1) is contained in an amount of 10 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content).
청구항 1에 있어서, 상기 카본블랙(a2)은 흑색 감광성 수지 조성물(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 6 내지 76중량부 함유하는 것인 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물.
The black photosensitive resin composition for a touch panel according to claim 1, wherein the carbon black (a2) is contained in an amount of 6 to 76 parts by weight based on 100 parts by weight of the black photosensitive resin composition (based on the solid content).
청구항 1에 있어서, 상기 그라파이트 옥사이드(a1) 및 카본블랙(a2)는 1:3 내지 3:1중량비로 함유하는 것인 흑색 감광성 수지 조성물.
The black photosensitive resin composition of claim 1, wherein the graphite oxide (a1) and the carbon black (a2) are contained in a weight ratio of 1: 3 to 3: 1.
청구항 1에 있어서, 상기 흑색 감광성 수지 조성물은 광차폐율이 4.0이상인 터치패널용 흑색 감광성 수지 조성물.
The black photosensitive resin composition for a touch panel according to claim 1, wherein the black photosensitive resin composition has a light shielding ratio of 4.0 or more.
기판의 일면 또는 양면에, 청구항 1 내지 5중 어느 한 항의 흑색 감광성 수지 조성물이 코팅된 블랙매트릭스를 포함하는 터치패널.
A touch panel comprising a black matrix coated with the black photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 5 on one or both surfaces of the substrate.
청구항 6에 있어서, 상기 블랙매트릭스는 흑색 감광성 수지 조성물을 코팅하는 단계, 소정의 패턴으로 노광하는 단계 및 현상하는 단계를 포함하여 형성된 것인 터치패널.The touch panel as set forth in claim 6, wherein the black matrix is formed by coating a black photosensitive resin composition, exposing a predetermined pattern, and developing the black photosensitive resin composition.
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KR20160003406A (en) * 2014-07-01 2016-01-11 엘지이노텍 주식회사 Touch panel
KR101860580B1 (en) * 2013-07-23 2018-05-23 동우 화인켐 주식회사 A black photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
CN112925168A (en) * 2021-02-22 2021-06-08 杭州福斯特应用材料股份有限公司 Graphene oxide enhanced photosensitive covering film composition

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