KR101403242B1

KR101403242B1 - A colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same

Info

Publication number: KR101403242B1
Application number: KR1020070081997A
Authority: KR
Inventors: 김광진; 윤현진
Original assignee: 동우 화인켐 주식회사
Priority date: 2007-08-14
Filing date: 2007-08-14
Publication date: 2014-06-02
Also published as: KR20090017340A

Abstract

본 발명은 결합제 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색 재료(D) 및 용제(E)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 결합제 수지(A)는 하기 (A1) 내지 (A3) 화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 (A4)를 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지이고,The present invention provides a colored photosensitive resin composition comprising a binder resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a coloring material (D) and a solvent (E) Containing resin obtained by further reacting (A4) a copolymer obtained by copolymerizing a compound (A1) to (A3)

(A1): 이소보닐기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(A1): a compound having an isobonyl group and an unsaturated bond

(A2): (A1) 및 (A3)과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(A2): a compound having an unsaturated bond copolymerizable with (A1) and (A3)

(A3): 불포화 카르복실산(A3): unsaturated carboxylic acid

(A4): 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(A4): a compound having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule

상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 (A1), (A2) 및 (A3)의 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은, (A1)으로부터 유도되는 구성 단위는 2 내지 19몰%이고, (A2)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이며, (A3)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이고, (A4)로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기 (A3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 5 내지 60몰%인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물에 대한 것이다.The proportion of the constituent components derived from each of (A1), (A2) and (A3) to the total molar number of the constituent components of the binder resin (A) is preferably 2 to 19 mol (A3) is from 5 to 80 mol%, and the ratio of the constituent unit derived from (A4) is from 5 to 80 mol%, the constituent unit derived from (A2) Is 5 to 60 mol% based on the number of moles of the constituent components derived from the polymerizable compound.

이러한 본 발명에 의하는 경우, 고농도의 착색 재료를 함유하고 화소를 형성하는 경우에도 기판상에 현상 잔사가 발생하거나 화소부에 표면 불량 등이 발생하지 않고, 막 경도가 우수하며, 내열성, 내약품성의 문제를 해결할 수 있다.According to the present invention, even when a high-concentration coloring material is contained and a pixel is formed, development residue is generated on the substrate, no surface defect occurs in the pixel portion, and the film is excellent in hardness and heat resistance, Can be solved.

착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 A colored photosensitive resin composition, a color filter

Description

착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치{A COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display device having the colored photosensitive resin composition,

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display device having the same.

컬러필터는 촬상(撮像)소자, 액정표시장치(LCD) 등에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 급속히 확대되고 있다. 컬러 액정표시장치나 촬상소자 등에 사용되는 컬러필터는 통상 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판상에 적색, 녹색 및 청색의 각 색에 상당하는 안료를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅에 의해 균일하게 도포한 후, 가열 건조(이하, 예비 소성이라고 하는 경우도 있음)하여 형성된 도막을 노광, 현상하고, 필요에 따라 더 가열 경화(이하, 후 소성이라고 하는 경우도 있음)하는 조작을 색마다 반복하여 각 색의 화소를 형성함으로써 제조되고 있다. 이후, 액정표시장치용 컬러필터는 표면에 ITO 전극을 형성하는 공정이 이루어지고, 이 공정에서는 약 200℃ 이상의 고온에 노출된다. 또 배향막 형성시에도 200℃ 이상의 고온에 노출된다. 따라서 고온 공정 후에도 황변 및 색변화가 적은 착색 감광성 수지 조성물이 요구되고 있다.BACKGROUND ART [0002] Color filters are widely used in imaging elements, liquid crystal displays (LCDs), and the like, and their application range is rapidly expanding. A color filter used in a color liquid crystal display device, an image pickup device, or the like is a device in which a colored photosensitive resin composition containing a pigment corresponding to each color of red, green and blue is uniformly applied by spin coating on a substrate on which a black matrix is pattern- (Hereafter also referred to as post-baking) is repeated for each color to form each color, and the resulting coating film is exposed and developed by heating and drying Of the pixel. Thereafter, a color filter for a liquid crystal display device is formed with a step of forming an ITO electrode on its surface, and this step is exposed to a high temperature of about 200 캜 or more. And is exposed to a high temperature of 200 占 폚 or higher even when an alignment film is formed. Therefore, there is a demand for a colored photosensitive resin composition which exhibits little change in yellowing and color even after a high temperature process.

이와 관련하여, 일본국 특개평09-31144 공보에는 내열성이 우수하고 색 변화가 적은 수지로써 1개 이상의 고리와 불포화기를 포함하는 구조를 특징으로 하는 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다.In this connection, Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-31144 discloses a photosensitive resin composition characterized by a structure having an excellent heat resistance and a small color change and containing at least one ring and an unsaturated group.

그러나, 상기와 같은 종래기술을 그대로 도입하면 고농도의 착색 재료가 도입되는 조성에서 화소를 형성시, 후 공정 후에 패턴의 표면에 홀(Hole) 및 엠보싱 현상이 발생하여, 휘도 저하 및 표면불량의 원인이 되는 단점이 있다. However, when such a conventional technique as described above is introduced intact, holes and embossing phenomenon are generated on the surface of the pattern after the post-process when pixels are formed in a composition in which a high-concentration coloring material is introduced, .

또한, 최근에는 공정상 시간을 단축하기 위하여 적은 노광량에도 동등한 감도와 밀착성을 갖는 착색 감광성 수지 조성물이 요구되고 있으나 종래 기술을 통해서는 감도 및 밀착성이 부족하므로 요구되는 성능을 만족하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수 없다는 문제점이 있다. In recent years, a colored photosensitive resin composition having the same sensitivity and adhesion at a small exposure dose has been demanded in order to shorten the time in the process. However, since the sensitivity and adhesion are insufficient through the prior art, a colored photosensitive resin composition satisfying the required performance There is a problem that it can not be provided.

본 발명의 목적은 고농도의 착색 재료를 함유해도 고감도의 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다. 또한 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 화소를 형성할 때 기판상에 현상 잔사가 발생하거나 화소부에 표면 불량 등이 발생하지 않고, 막경도가 우수하며, 내열성, 내약품성이 우수한 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition with high sensitivity even though it contains a high concentration of coloring material. In addition, when a colored photosensitive resin composition having excellent film hardness and excellent heat resistance and chemical resistance is used without causing development residue on the substrate or causing defective surface on the pixel portion when the pixel is formed using the colored photosensitive resin composition .

또한, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 고품질의 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치를 제공하는 것이다. The present invention also provides a high-quality color filter using the colored photosensitive resin composition of the present invention and a liquid crystal display device including the same.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은, According to an aspect of the present invention,

결합제 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색 재료(D) 및 용제(E)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 결합제 수지(A)는 하기 (A1) 내지 (A3) 화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 (A4)를 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지이고, A colored photosensitive resin composition comprising a binder resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a coloring material (D) and a solvent (E) Containing resin obtained by further reacting (A4) a copolymer obtained by copolymerizing a compound (A3)

(A1): 이소보닐기 및 불포화 결합을 갖는 화합물,(A1): a compound having an isobonyl group and an unsaturated bond,

(A2): (A1) 및 (A3)과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물,(A2): a compound having an unsaturated bond capable of copolymerization with (A1) and (A3)

(A3): 불포화 카르복실산,(A3): unsaturated carboxylic acid,

(A4): 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물,(A4): a compound having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule,

상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 (A1), (A2) 및 (A3)의 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은, (A1)으로부터 유도되는 구성 단위는 2 내지 19몰%이고, (A2)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이며, (A3)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이고, (A4)로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기 (A3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 5 내지 60몰%인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.The proportion of the constituent components derived from each of (A1), (A2) and (A3) to the total molar number of the constituent components of the binder resin (A) is preferably 2 to 19 mol (A3) is from 5 to 80 mol%, and the ratio of the constituent unit derived from (A4) is from 5 to 80 mol%, the constituent unit derived from (A2) Is 5 to 60 mol% with respect to the number of moles of the constituent components derived from the photosensitive resin composition.

또한, 상기 (A2) 화합물은 시클로헥실(메타)아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.The present invention also provides a colored photosensitive resin composition, wherein the compound (A2) is cyclohexyl (meth) acrylate.

또한, 상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 (A1)과 (A2) 각각으로부터 유도되는 구성 성분 비율의 합은 30 내지 60몰%인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.The colored photosensitive resin composition according to any one of (1) to (3), wherein the sum of the proportions of constituent components derived from the above-mentioned (A1) and (A2) relative to the total molar amount of the constituent components of the binder resin (A) is 30 to 60 mol% do.

본 발명은 또한, 기판 상부에 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 컬러필터에 있어서, 상기 착색 감광성 수지 조성물은 전술한 착색 감광성 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 컬러필터를 제공한다. The present invention also relates to a color filter comprising a color layer formed by applying a colored photosensitive resin composition on a substrate and exposing and developing in a predetermined pattern to develop a colored photosensitive resin composition which is the aforementioned colored photosensitive resin composition Thereby providing a color filter.

본 발명은 또한, 전술한 컬러필터를 구비한 액정표시장치를 제공한다. The present invention also provides a liquid crystal display device having the color filter described above.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. 하기의 구체적 설명은 본 발명의 일 실시예에 대한 설명이므로, 비록 한정적 표현이 있더라도 특허청구범위로부터 정해지는 권리범위를 제한하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail. The following detailed description is merely an example of the present invention, and therefore, the present invention is not limited thereto.

본 발명은 결합제 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색 재료(D) 및 용제(E)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 결합제 수지(A)는 하기 (A1) 내지 (A3) 화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 (A4)를 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지이고, The present invention provides a colored photosensitive resin composition comprising a binder resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a coloring material (D) and a solvent (E) Containing resin obtained by further reacting (A4) a copolymer obtained by copolymerizing a compound (A1) to (A3)

(A3): 불포화 카르복실산,(A3): unsaturated carboxylic acid,

상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 (A1), (A2) 및 (A3)의 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은, (A1)으로부터 유도되는 구성 단위는 2 내지 19몰%이고, (A2)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이며, (A3)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이고, (A4)로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기 (A3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 5 내지 60몰%인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The proportion of the constituent components derived from each of (A1), (A2) and (A3) to the total molar number of the constituent components of the binder resin (A) is preferably 2 to 19 mol (A3) is from 5 to 80 mol%, and the ratio of the constituent unit derived from (A4) is from 5 to 80 mol%, the constituent unit derived from (A2) To 5 to 60 mol% based on the number of moles of the constituent components derived from the polymerizable monomer.

결합제 수지(A)The binder resin (A)

상기 결합제 수지(A)는 통상 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색 재료의 분산매로서 작용한다.The binder resin (A) generally has reactivity and alkali solubility due to the action of light or heat, and acts as a dispersion medium of a coloring material.

상기 결합제 수지(A)에 있어서, 이소보닐기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(A1)의 구체적인 예로서는 하기 화학식 1로 나타내지는 엔도-1,7,7-트리메틸비시클로[2,2,1]헵토-2-일기 등의 보르닐기 및 (메타)아크릴로일기를 포함하는 보르닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식모노머 또는 하기 화학식 2로 나타내지는 엑소-1,7,7-트리메틸비시클로[2,2,1]헵토-2-일기 등의 이소보닐기 및 (메타)아크릴로일기를 포함하는 이소보닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식모노머 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound (A1) having an isobonyl group and an unsaturated bond in the binder resin (A) include endo-1,7,7-trimethylbicyclo [2,2,1] hepto- 2-yl group and boron (meth) acrylate containing a (meth) acryloyl group, or an exo-1,7,7-trimethylbicyclo [2, 2,1] hept-2-yl group and isobornyl (meth) acrylate containing a (meth) acryloyl group.

<화학식 1 > &Lt; Formula 1 >

<화학식 2 >(2)

상기 결합제 수지(A)에 있어서, (A1) 및 (A3)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(A2)의 구체적인 예로서는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 올리고에틸렌글리콜모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노 포화 카르복실산 에스테르 화합물; 비닐톨루엔, 스티렌, α-메틸스티렌, α-클로로스티렌, 디비닐벤젠 등의 방향족 비닐 화합물; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르, (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크 릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the compound (A2) having an unsaturated bond copolymerizable with (A1) and (A3) in the binder resin (A) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl An unsubstituted or substituted alkyl ester of an unsaturated carboxylic acid such as an aminoethyl (meth) acrylate; (Meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (Meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) Unsaturated carboxylic acid ester compounds containing alicyclic substituents such as adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, and pinenyl (meth) acrylate; Mono-saturated carboxylic acid ester compounds of glycols such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate; Aromatic vinyl compounds such as vinyltoluene, styrene,? -Methylstyrene,? -Chlorostyrene, and divinylbenzene; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate, vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile and? -Chloroacrylonitrile; N-substituted maleimide compounds such as N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide. These may be used alone or in combination of two or more.

이 중에서, 상기 (A1) 및 (A3)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(A2)가 시클로헥실(메타)아크릴레이트인 경우에는 잔사 및 내열성이 우수하므로 보다 바람직하다.Among them, when the compound (A2) having an unsaturated bond capable of copolymerizing with the above-mentioned (A1) and (A3) is cyclohexyl (meth) acrylate, it is more preferable because it has excellent residue and heat resistance.

본 발명에 있어서, “(메타)아크릴"이란 메타크릴 및(또는) 아크릴을 포함하는 개념이다.In the present invention, " (meth) acrylic "is a concept including methacrylic and / or acrylic.

본 발명의 불포화 카르복실산(A3)로서는, 구체적으로 불포화 모노카르복실산, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등의 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 불포화 다가 카르복실산 등의 불포화 카르복실산을 들 수 있다. Examples of the unsaturated carboxylic acid (A3) of the present invention include unsaturated carboxylic acids such as unsaturated polycarboxylic acids having at least one carboxyl group in the molecule such as unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids and unsaturated tricarboxylic acids And the like.

상기 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,? -Chloroacrylic acid, cinnamic acid, and the like.

또한, 상기 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid.

상기 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The unsaturated polycarboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may also be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, such as mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxyethyl) , Phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the dicarboxylic polymer of both ends thereof, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate . These carboxyl group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 실시형태에 있어서, (A1)~(A3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기의 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰분율로 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. 상기의 구성 비율이 하기 범위에 있으면 현상성, 가용성 및 내열성의 균형이 양호하므로 바람직한 결합제 수지를 얻을 수 있다. In the embodiment of the present invention, the proportion of the constituent components derived from each of (A1) to (A3) is preferably in the following range in terms of the molar ratio with respect to the total number of moles of constituent components constituting the copolymer. When the above-mentioned composition ratio is in the range below, a good balance of developability, solubility and heat resistance is obtained, and thus a preferable binder resin can be obtained.

(A1)으로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 19몰%, 2 to 19 mol% of a constitutional unit derived from the structural unit (A1)

(A2)로부터 유도되는 구성 단위 : 5 내지 80몰%, , 5 to 80 mol% of constitutional units derived from the structural unit (A2)

(A3)로부터 유도되는 구성 단위 : 5 내지 80몰%,(A3): 5 to 80% by mole,

특히, 상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 이소보닐기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(A1)로부터 유도되는 구성 성분이 19몰%를 초과할 때는 후 공정 후에 패턴의 표면에 홀(Hole) 및 엠보싱 현상이 발생하여, 휘도 저하 및 표면불량의 원인이 된다.Particularly, when the constituent component derived from the isobonyl group and the unsaturated bond-containing compound (A1) relative to the total molar number of the constituent components of the binder resin (A) exceeds 19 mol% (Hole) and embossing phenomenon occur, which causes a decrease in luminance and surface defects.

또한, 상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 (A1)과 (A2) 각각으로 유도되는 구성 성분 비율의 합이 30 내지 60몰% 범위인 경우에는 색 특성 및 표면현상이 우수하므로 보다 바람직하다.When the sum of the proportions of the components derived from (A1) and (A2) relative to the total moles of the constituent components of the binder resin (A) is in the range of 30 to 60 mol% .

본 발명의 실시형태에 있어서, 상기 공중합체의 제조방법은 (A1) 내지 (A3)를 공중합시켜 얻어지는 경우 특별히 제한되지 않고, 종래 공지되어 있는 각종 중합방법이 사용될 수 있으며, 공지의 중합방법 중에서 용액중합법이 보다 바람직하다. 또한, 중합 온도나 중합 시간은 도입되는 단량체의 종류나 비율, 목표 공중합체 분자량 및 산가에 따라 다르지만 바람직하게는 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 동안 중합시키는 것이다. 그리고, 상기의 공정에서 중합 개시제의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있고, (A1), (A2) 및 (A3)의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있다.In the embodiment of the present invention, the method for producing the copolymer is not particularly limited when it is copolymerized with (A1) to (A3), and various conventionally known polymerization methods can be used, A polymerization method is more preferable. The polymerization temperature and the polymerization time vary depending on the type and ratio of the monomers to be introduced, the molecular weight of the target copolymer and the acid value, but preferably polymerization is carried out at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours. In the above step, a part or all of the polymerization initiator may be put in a flask, or a part or all of (A1), (A2) and (A3) may be put into a flask.

또한, 상기의 공정에서 용매를 이용하는 경우에는, 통상의 라디칼 중합 반응 시 사용되는 용매를 이용할 수 있으며, 구체적으로는 테트라히드로퓨란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 초산에틸, 초산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로포름, 디메틸설폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. When a solvent is used in the above step, a solvent used in a conventional radical polymerization reaction may be used. Specific examples thereof include tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethylethyl, diethylene glycol dimethylethyl, acetone, methyl Propylene glycol, n-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, Monomethyl ether, toluene, xylene, ethylbenzene, chloroform, dimethylsulfoxide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

또한, 상기의 공정에 사용되는 중합 개시제로는 통상 사용되는 중합 개시제를 첨가할 수 있으며, 특별히 제한되지는 않는다. 구체적으로는 디이소프로필벤젠히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물; 2,2’-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2’-아조비스(2,4-디메틸바레로니토릴), 디메틸 2,2’-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 질소 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. As the polymerization initiator to be used in the above step, a commonly used polymerization initiator may be added and is not particularly limited. Specific examples thereof include diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butylperoxide, benzoylperoxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, Organic peroxides such as 2-ethylhexanoate; Azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylbareronitolyl), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), etc. Nitrogen compounds of nitrogen and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

또한, 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 예를 들면, n-도데실머캅토, 머캅토초산, 머캅토초산메틸 등의 머캅토계 연쇄 이동제, α-메틸스티렌다이머 등을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. 상기 α-메틸스티렌다이머 또는 머캅토 화합물의 사용량은 (A1), (A2), (A3) 및 (A4)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.005 내지 5%이다. 또한, 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다. In order to control the molecular weight and the molecular weight distribution, for example, mercapto-series chain transfer agents such as n-dodecyl mercapto, mercaptoacetic acid and methyl mercaptoacetate,? -Methylstyrene dimer and the like may be used as a chain transfer agent. The amount of the? -Methylstyrene dimer or mercapto compound to be used is 0.005 to 5% by mass based on the total amount of (A1), (A2), (A3) and (A4). In addition, the above-mentioned polymerization conditions may be appropriately adjusted depending on the production equipment or the amount of heat generated by polymerization, and the method of addition and the reaction temperature.

본 발명의 상기 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(A4)에 대한 구체적인 예로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the compound (A4) having an unsaturated bond and an epoxy group in the molecule of the present invention include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclo Hexylmethyl (meth) acrylate, methylglycidyl (meth) acrylate, and the like. Of these, glycidyl (meth) acrylate is preferably used. These may be used alone or in combination of two or more.

또한, 상기 화합물(A4)로부터 유도되는 구성 단위의 비율은 상기 공중합체에 포함되는 불포화 카르복실기를 갖는 화합물(A3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 5 내지 60몰%인 것이 바람직하다. (A4)의 조성비가 상기 범위 내에 있으면 충분한 광경화성이나 열경화성이 얻어져 감도와 연필 경도가 양립되고 신뢰성이 우수하기 때문에 바람직하다.The proportion of the constituent unit derived from the compound (A4) is preferably 5 to 60 mol% based on the number of moles of the constituent component derived from the compound (A3) having an unsaturated carboxyl group contained in the copolymer. When the composition ratio of the photosensitive resin (A4) is within the above range, sufficient photo-curability and thermosetting property can be obtained, and sensitivity and pencil hardness are both compatible and the reliability is excellent.

본 발명의 실시형태에 있어서, 결합제 수지(A)는 상기의 공중합체와 상기 (A4)를, 예를 들면 하기와 같은 방법으로 반응시킴으로써 제조할 수 있다.In the embodiment of the present invention, the binder resin (A) can be produced by reacting the above copolymer with the above (A4) by, for example, the following method.

플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, 상기 공중합체 내의 (A3)로 부터 유도되는 구성 단위에 대하여 몰분율로 5 내지 60몰%의 (A4), 카르복실기와 에폭시기의 반응 촉매로서, 예를 들면 트리스디메틸아미노메틸페놀을 (A1), (A2), (A3) 및 (A4)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.01 내지 5% 및 중합금지제로서, 예를 들면 히드로퀴논을 (A1), (A2), (A3) 및 (A4)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.001 내지 5%를 플라스크내에 넣고 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 반응시킴으로써, 상기의 공중합체와 (A4)를 반응시킬 수 있다. 또한, 중합 조건과 마찬가지로 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다. (A4) of 5 to 60 mol% in terms of the mole fraction with respect to the constitutional unit derived from (A3) in the copolymer, and a reaction catalyst of a carboxyl group and an epoxy group, for example, tris (A1), (A2), (A2), (A3) and (A4) as the polymerization inhibitor and 0.01 to 5% by mass based on the total amount of (A1) (A4) can be reacted with the copolymer by reacting the copolymer at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours by adding 0.001 to 5% by mass based on the total amount of (A3) and (A4) into a flask. In addition, as in the case of the polymerization conditions, the charging method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the production facility or the amount of heat generated by polymerization.

본 발명의 결합제 수지(A)는 제한되지 않으나 그의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 3,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 바람직하다. 결합제 수지(A)의 중량평균분자량이 3,000 내지 50,000의 범위에 있으면 현상시에 막 감소가 생기기 어렵고, 현상시에 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다. The binder resin (A) of the present invention is not limited, but its weight average molecular weight in terms of polystyrene is preferably in the range of 3,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the binder resin (A) is in the range of 3,000 to 50,000, it is preferable that the film is hardly reduced at the time of development, and the non-pixel portions tend to be satisfactorily missed at the time of development.

결합제 수지(A)의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0 이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다. The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the binder resin (A) is preferably 1.5 to 6.0, more preferably 1.8 to 4.0. When the molecular weight distribution (weight-average molecular weight (Mw) / number-average molecular weight (Mn)) is 1.5 to 6.0, development is preferable.

본 발명의 결합제 수지(A)는 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하 여 5 내지 90질량%로 포함되는 것이 바람직하고, 10 내지 70질량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 범위이면 현상액에의 용해성이 충분하여 비화소 부분의 기판상에 현상 잔사가 발생하기 어렵고, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 생기기 어려워 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.The binder resin (A) of the present invention is preferably contained in an amount of 5 to 90 mass%, more preferably 10 to 70 mass%, based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition. Within this range, solubility in a developing solution is sufficient, so that development residue is not easily generated on the substrate of the non-pixel portion, the film portion of the pixel portion of the exposed portion is hardly reduced during development, and the non- .

광중합성Photopolymerization 화합물(B) The compound (B)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합성 화합물(B)은 광 및 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. 본 발명에 사용되는 광중합성 화합물(B)은 착색 감광성 수지 조성물의 현상성, 감도, 밀착성, 표면문제 등을 개량하기 위해 관능기의 구조나 관능기 수가 다른 2개 또는 그 이상의 광중합성 화합물을 혼합하여 사용할 수 있으며, 그 범위에 제한을 두지 않는다. The photopolymerizable compound (B) contained in the colored photosensitive resin composition of the present invention is a compound capable of polymerizing under the action of light and a photopolymerization initiator described later, and includes monofunctional monomers, bifunctional monomers and other polyfunctional monomers have. The photopolymerizable compound (B) used in the present invention may be prepared by mixing two or more photopolymerizable compounds having different functional groups or different functional groups in order to improve developability, sensitivity, adhesion, surface problems, and the like of the colored photosensitive resin composition And does not limit its scope.

단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. Specific examples of monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N- Money and so on.

2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and the like.

그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol Hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.

이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. Of these, multifunctional monomers having two or more functional groups are preferably used.

광중합성 화합물(B)은 결합제 수지(A) 및 광중합성 화합물(B)의 합계 100질량부에 대하여, 통상 1 내지 60질량부, 바람직하게는 5 내지 50질량부의 범위에서 사용된다. 광중합성 화합물(B)가 상기의 기준으로 1 내지 60질량부의 범위이면 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. The photopolymerizable compound (B) is used in an amount of usually 1 to 60 parts by mass, preferably 5 to 50 parts by mass based on the total 100 parts by mass of the binder resin (A) and the photopolymerizable compound (B). When the photopolymerizable compound (B) is in the range of 1 to 60 parts by mass based on the above-mentioned criteria, the strength and smoothness of the pixel portion tends to be favorable.

광중합Light curing 개시제Initiator (C)(C)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합 개시제(C)는 제한되지 않으나 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이다. 상기한 광중합 개시제(C)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 고감도이고, 이 조성물을 사용하 여 형성되는 막은 그 화소부의 강도나 표면 평활성이 양호해진다. 또한, 광중합 개시제(C)에 광중합 개시 보조제(C-1)을 병용하면, 이들을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 이 조성물을 사용하여 컬러필터를 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다. The photopolymerization initiator (C) contained in the colored photosensitive resin composition of the present invention is not limited, but is at least one compound selected from the group consisting of a triazine-based compound, an acetophenone-based compound, a nonimidazole-based compound and an oxime compound. The colored photosensitive resin composition containing the photopolymerization initiator (C) described above has a high sensitivity, and the film formed by using the composition has good strength and surface smoothness of the pixel portion. Further, when the photopolymerization initiator (C) is used in combination with the photopolymerization initiator (C-1), the colored photosensitive resin composition containing the photopolymerization initiator (C) has a higher sensitivity, and productivity is improved when the color filter is formed using the composition .

상기의 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4 Bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-1-yl) Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- Triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- L-methylethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

또한, 상기의 아세토페논계 화합물로서는, 예를들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 하기 화학식 3으로 나타내지는 화합물을 들 수 있다. Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy- 2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) 2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) -1-one, 2-benzyl- Phenyl] propan-1-one, and the like. Examples of the acetophenone-based compound include compounds represented by the following formula (3).

<화학식 3> (3)

상기 화학식 3 중, R₁ 내지 R₄는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 벤질기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 나프틸기를 나타낸다. In Formula 3, R ₁ to R ₄ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms , Or a naphthyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.

상기 화학식 3로 나타내는 화합물의 구체예로는 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the compound represented by Formula 3 include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-ethyl- 2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl-2 2-amino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl- 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one 2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino .

상기의 비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용된다. Examples of the imidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbimidazole, 2,2'-bis -Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4' Imidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, phenyl group at 4,4' An imidazole compound substituted by a haloalkoxy group, and the like. Of these, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3- 5,5'-tetraphenylbiimidazole is preferably used.

상기의 옥심 화합물로서는, 예를 들면 하기 화학식 4, 5, 6로 나타내지는 화합물을 들 수 있다. Examples of the oxime compounds include compounds represented by the following formulas (4), (5) and (6).

<화학식 4 > &Lt; Formula 4 >

<화학식 5>&Lt; Formula 5 >

<화학식 6>(6)

또한, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되고 있는 그 밖의 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수도 있다. 그 밖의 광중합 개시 제로서는, 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. Further, as long as the effect of the present invention is not impaired, other photopolymerization initiators generally used in this field may be further used in combination. Examples of other photopolymerization initiators include benzoin compounds, benzophenone compounds, thioxanone compounds, anthracene compounds, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and the like.

벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'- -Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone and 1-chloro-4-propanecioxanthone. .

안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the anthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, .

그 밖에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리 돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 그 밖의 광중합 개시제로서 들 수 있다. Other examples include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylclyoxylic acid Methyl, titanocene compounds and the like can be mentioned as other photopolymerization initiators.

또한, 광중합 개시제(C)에는 광중합 개시 보조제(C-1)을 조합하여 사용할 수도 있다. 광중합 개시 보조제(C-1)로서는 아민 화합물, 카르복실산 화합물이 바람직하게 사용된다. The photopolymerization initiator (C) may be used in combination with a photopolymerization initiator (C-1). As the photopolymerization initiation auxiliary (C-1), an amine compound or a carboxylic acid compound is preferably used.

광중합 개시 보조제(C-1) 중 아민 화합물의 구체예로서는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭:미힐러케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 아민 화합물로서는 방향족 아민 화합물이 바람직하게 사용된다. Specific examples of the amine compound in the photopolymerization initiation assistant (C-1) include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethyl paratoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4-dimethylaminobenzoic acid , 4'-bis (diethylamino) benzophenone, and the like. As the amine compound, an aromatic amine compound is preferably used.

카르복실산 화합물의 구체예로서는 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다. Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenyl And aromatic heteroacetic acids such as thioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

광중합 개시제(C)의 사용량은 결합제 수지(A) 및 광중합성 화합물(B)의 합계 100질량부에 대하여, 통상 0.1 내지 40질량부, 바람직하게는 1 내지 30질량부이고, 광중합 개시 보조제(C-1)의 사용량은 상기의 기준으로, 통상 0.1 내지 50질량부, 바람직하게는 1 내지 40질량부이다. 광중합 개시제(C)의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 또한, 광중합 개시 보조제(C-1)의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. The amount of the photopolymerization initiator (C) to be used is generally 0.1 to 40 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass, per 100 parts by mass of the total of the binder resin (A) and the photopolymerizable compound (B) -1) is used in an amount of usually 0.1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 40 parts by mass based on the above standard. When the amount of the photopolymerization initiator (C) is in the above range, the colored photosensitive resin composition becomes highly sensitive, and the strength of the pixel portion formed by using the composition and the smoothness on the surface of the pixel portion tend to be favorable . When the amount of the photopolymerization initiator (C-1) used is within the above range, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition is higher, and the productivity of the color filter formed using the composition is preferably improved.

착색 재료(D)The coloring material (D)

본 발명에서 사용되는 착색 재료(D)는 통상 안료로서 안료 분산 레지스트에 통상 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료인 것이 바람직하다. 필요에 따라 염료를 사용할 수도 있으며 본 발명에 포함된다. The coloring material (D) used in the present invention is preferably an organic pigment or an inorganic pigment usually used as a pigment in a pigment dispersion resist. Dyestuffs may also be used as needed and are included in the present invention.

무기 안료로서는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다. Examples of the inorganic pigments include metallic compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specific examples thereof include oxides of metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, And the like.

상기 유기 안료 및 무기 안료로서, 구체적으로는 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the organic pigments and inorganic pigments include pigments classified by Pigment in the Society of Dyers and Colourists, and more specifically pigments of the following color index (CI) number However, the present invention is not limited thereto.

C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185 C.I. Pigment Yellow 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71 C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264 C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242, 254, 255 and 264

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38 C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76 C.I. Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 28, 60, 64 and 76

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58

C.I. 피그먼트 브라운 28 C.I. Pigment Brown 28

C.I. 피그먼트 블랙 1 및 7 등 C.I. Pigment Black 1 and 7 Light

이들 착색 재료(D)는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 착색 재료(D)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분량을 기준으로 하여 통상 3 내지 60질량%, 바람직하게는 5 내지 55질량%의 범위이다. 착색 재료(D)의 함유량이 상기의 기준으로 3 내지 60질량%의 범위이면 박막을 형성하여 도 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사가 발생하기 어려운 경향이 있으므로 바람직하다. These coloring materials (D) may be used alone or in combination of two or more. The content of the coloring material (D) is usually in the range of 3 to 60 mass%, preferably 5 to 55 mass%, based on the total solid content in the colored photosensitive resin composition. When the content of the coloring material (D) is in the range of 3 to 60 mass% on the basis of the above criteria, even when a thin film is formed, the color density of the pixel is sufficient and the non- Which is preferable.

용제(E)Solvent (E)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 용제(E)는 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다.The solvent (E) contained in the colored photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited and various organic solvents used in the field of the colored photosensitive resin composition can be used.

그의 구체예로서는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류, γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol diethyl ether, glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Alkylene glycol alkyl ether acetates such as monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene, methyl ethyl ketone, acetone , Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin, ethyl 3-methoxypropionate, Esters such as methyl, and cyclic esters such as? -Butyrolactone.

상기의 용제 중, 도포성, 건조성면에서 바람직하게는 상기 용제 중에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산에틸이나, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 들 수 있다. Among the above solvents, organic solvents having a boiling point of 100 占 폚 to 200 占 폚 in the solvent are preferably used from the viewpoint of coatability and dryness, more preferably alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones, 3-ethoxy Propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropionate, and 3-methoxypropionate are more preferable. Examples of the solvent include propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, Methyl methoxypropionate, and the like.

이들 용제(E)는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다. These solvents (E) may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중의 용제(E)의 함유량은 그것을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 전체량에 대하여 질량 분율로, 통상 60 내지 90질량%, 바람직하게는 70 내지 85질량%이다. 용제(E)의 함유량이 상기의 기준으로 60 내지 90질량%의 범위이면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 경향이 있기 때문에 바람직하다. The content of the solvent (E) in the colored photosensitive resin composition of the present invention is usually 60 to 90% by mass, preferably 70 to 85% by mass, based on the total amount of the colored photosensitive resin composition containing the solvent. When the content of the solvent (E) is in the range of 60 to 90% by mass on the basis of the above criteria, it can be applied by a coating device such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater It is preferable since the coating property tends to be good.

첨가제(F)Additive (F)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제,　안료 분산제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제(F)를 병행하는 것도 가능하다. If necessary, the colored photosensitive resin composition of the present invention may also contain additives (F) such as fillers, other polymer compounds, curing agents, pigment dispersants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers,

충진제의 구체적인 예는 유리, 실리카, 알루미나 등이 예시된다. Specific examples of the filler include glass, silica, alumina and the like.

다른 고분자 화합물로서는 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of other polymer compounds include curable resins such as epoxy resin and maleimide resin, and thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane have.

경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제로서는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. The curing agent is used for enhancing deep curing and mechanical strength. Examples of the curing agent include an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, and an oxetane compound.

상기 경화제에서 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한　에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합 체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound in the curing agent include bisphenol A epoxy resin, hydrogenated bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, hydrogenated bisphenol F epoxy resin, novolak epoxy resin, other aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, Epoxy resin, glycidyl ester resin, glycidylamine resin, aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than the brominated derivatives, epoxy resins and brominated derivatives of such epoxy resins, butadiene (co) polymeric epoxides, Isoprene (co) polymerized epoxide, glycidyl (meth) acrylate (co) polymer, and triglycidyl isocyanurate.

상기 경화제에서 옥세탄 화합물로서는, 예를 들면, 카보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다. Examples of the oxetane compound in the curing agent include carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, and cyclohexanedicarboxylic acid bisoxetane.

상기 경화제에서 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 포함할 수 있다. 경화 보조 화합물로서는, 예를 들면, 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다. A curing auxiliary compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound together with the curing agent in the curing agent. Examples of the curing auxiliary compound include polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic anhydrides, and acid generators.

상기 카르본산 무수물류로는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명 (아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명 (리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명 (MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. 상기 경화제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다. As the carboxylic acid anhydrides, those commercially available as an epoxy resin curing agent can be used. Examples of the epoxy resin curing agents include epoxy resins such as those available under the trade names (ADEKA HARDONE EH-700) (ADEKA INDUSTRY CO., LTD.), Trade names (RICACIDO HH) Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

안료 분산제로서는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 상기의 계면 활성제로서, 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄 지방산 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다.As the pigment dispersant, commercially available surfactants can be used, and examples thereof include surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic, and amphoteric surfactants. These may be used alone or in combination of two or more. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, (Trade name) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by TOKEM PRODUCTS CO., LTD.), Mega (Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Surfon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Mitsubishi Kagaku Kogyo Co., Ltd., MEGAFAC (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Inc.), Flourad (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Asahi guard, Surflon SOLSPERSE (manufactured by Genene), EFKA (manufactured by EFKA Chemical), PB 821 (manufactured by Ajinomoto), and the like.

밀착 촉진제로서, 예를 들면 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐 트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 이들 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 상기 밀착 촉진제는 총 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직 하게는 0.05 내지 2질량%로 사용될 수 있다. Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (2-aminoethyl) (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- Methoxysilane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like. These adhesion promoters may be used alone or in combination of two or more. The total amount of the adhesion promoter is generally 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 2% by mass.

산화 방지제로서는 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등 힌더드페놀계를 들 수 있다.Specific examples of the antioxidant include hindered phenols such as 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol.

자외선 흡수제로서는 구체적으로 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole and alkoxybenzophenone.

응집 방지제로서는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.Specific examples of the anti-aggregation agent include sodium polyacrylate.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. 착색 재료(D)를 미리 용제(E)와 혼합하여 착색 재료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 결합제 수지(A)의 일부 또는 전부가 배합되는 경우도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 결합제 수지(A)의 나머지, 광중합성 화합물(B) 및 광중합 개시제(C), 필요에 따라 사용되는 그 밖의 성분, 필요에 따라 추가의 용제를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 착색 감광성 수지 조성물을 얻는다.The colored photosensitive resin composition of the present invention can be produced, for example, by the following method. The coloring material (D) is mixed with the solvent (E) in advance and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the coloring material becomes about 0.2 탆 or less. At this time, a pigment dispersant may be used if necessary, and some or all of the binder resin (A) may be blended. (A), the photopolymerizable compound (B) and the photopolymerization initiator (C), other components which are optionally used, and, if necessary, additional solvents Is further added to a predetermined concentration to obtain a desired colored photosensitive resin composition.

이하에서는 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법을 설 명한다. Hereinafter, a method of forming a pattern of a colored photosensitive resin composition according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법은, 전술한 착색 감광성 수지 조성물을 기재상에 도포하는 단계, 상기 착색 감광성 수지 조성물의 일부 영역을 선택적으로 노광하는 단계, 및 상기 착색 감광성 수지 조성물의 노광 영역 또는 비노광 영역을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진다.The method for forming a pattern of a colored photosensitive resin composition according to the present invention comprises the steps of applying the above-mentioned colored photosensitive resin composition on a substrate, selectively exposing a part of the colored photosensitive resin composition, And removing the exposed region or the non-exposed region.

그 일례로서, 이하와 같이하여 기재상에 도포하고, 광 경화 및 현상을 하여 패턴을 형성하게 되고, 블랙 매트릭스 또는 착색 화소(착색 화상)로 사용할 수 있게 된다. As an example, it is coated on a substrate as follows to form a pattern by photo-curing and development and can be used as a black matrix or a colored pixel (colored image).

우선, 본 발명의 조성물을 기재(제한되지 않음, 통상은 유리 혹은 실리콘 웨이퍼) 또는 먼저 형성된 착색 감광성 수지 조성물의 고형분을 포함하는 층 위에 도포하여 예비 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다. 이 때의 도막의 두께는 대개 1 내지 4㎛ 정도이다. 이와 같이하여 얻어진 도막에 목적하는 패턴을 얻기 위해 마스크를 통해 특정 영역에 자외선을 조사한다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 마스크와 기판이 정확히 위치가 맞도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 이후, 경화가 종료된 도막을 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광 영역을 용해시키고 현상함으로써 목적하는 패턴을 제조할 수 있게 된다. 현상 후, 필요에 따라 150 내지 230℃에서 10 내지 60분 정도의 후건조를 실시할 수 있다. First, the composition of the present invention is applied onto a substrate (including but not limited to a glass or silicon wafer) or a layer containing a solid content of a previously formed colored photosensitive resin composition and preliminarily dried to remove volatile components such as solvents, . The thickness of the coating film at this time is usually about 1 to 4 mu m. Ultraviolet rays are applied to a specific region through a mask to obtain a desired pattern on the thus obtained coating film. At this time, it is preferable to use an apparatus such as a mask aligner or a stepper so that the entire exposed portion is uniformly irradiated with parallel rays, and the mask and the substrate are accurately positioned. Thereafter, the coated film after curing is brought into contact with the aqueous alkaline solution to dissolve and expose the non-exposed region, thereby making it possible to produce a desired pattern. After development, if necessary, post-drying may be performed at about 150 to 230 DEG C for about 10 to 60 minutes.

패턴화 노광 후의 현상에 사용하는 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 포함하는 수용액이다. The developing solution used for development after patterned exposure is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant.

알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중 어느 것이어도 좋다. The alkaline compound may be either an inorganic or an organic alkaline compound.

무기 알칼리성 화합물의 구체예로서는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, Potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonia.

또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체예로서는 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoiso Propylamine, diisopropylamine, ethanolamine, and the like. These inorganic and organic alkaline compounds may be used alone or in combination of two or more.

알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 바람직한 농도는 0.01 내지 10질량%의 범위이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5질량%이다. The preferable concentration of the alkaline compound in the alkali developing solution is in the range of 0.01 to 10 mass%, more preferably 0.03 to 5 mass%.

알칼리 현상액 중의 계면 활성제는 비 이온계 계면 활성제, 음 이온계 계면 활성제 또는 양 이온계 계면 활성제 중 모두 사용할 수 있다. The surfactant in the alkaline developer may be any of a nonionic surfactant, an anionic surfactant or a cationic surfactant.

비 이온계 계면 활성제의 구체예로서는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도 체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시 에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. Specific examples of the nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, poly Oxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, polyoxyethylene alkylamines, and the like.

음 이온계 계면 활성제의 구체예로서는 라우릴알코올 황산에스테르나트륨이나 올레일알코올 황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르 염류, 라우릴 황산나트륨이나 라우릴 황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산 나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산 나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfuric acid ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate ester and sodium oleyl alcohol sulfate ester, alkylsulfates such as sodium laurylsulfate and ammonium laurylsulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate and sodium dodecylbenzenesulfonate And alkylarylsulfonic acid salts such as sodium naphthalenesulfonate.

양 이온계 계면 활성제의 구체예로서는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryltrimethylammonium chloride, and quaternary ammonium salts.

이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. Each of these surfactants may be used alone or in combination of two or more.

알칼리 현상액 중의 계면 활성제의 농도는, 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 8질량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5질량%이다. The concentration of the surfactant in the alkali developer is usually 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 8% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass.

이하에서는, 본 발명에 따른 컬러필터를 설명한다. Hereinafter, a color filter according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 컬러필터는 전술한 착색 감광성 수지 조성물을 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. The color filter according to the present invention is characterized by comprising a color layer formed by exposing and developing the above-mentioned colored photosensitive resin composition in a predetermined pattern.

착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법은 전술한 바에 의하고 자세한 설명은 생략한다. 전술한 바와 같이 착색 감광성 수지 용액의 도포, 건조, 얻어지는 건조 도막에의 패턴화 노광, 그리고 현상이라는 각 조작을 거쳐 감광성 수지 조성물 중의 착색 재료의 색에 상당하는 화소 또는 블랙 매트릭스가 얻어지고, 또한 이러한 조작을 컬러필터에 필요로 하는 색의 수만큼 반복함으로써 컬러필터를 얻을 수 있다. 컬러필터의 구성 및 제조방법은 본 기술분야에서 잘 알려져 있으므로 그에 의하고 자세한 설명은 생략한다. The pattern forming method of the colored photosensitive resin composition is described above, and a detailed description thereof will be omitted. As described above, a pixel or a black matrix corresponding to the color of the coloring material in the photosensitive resin composition is obtained through the application of the colored photosensitive resin solution, the drying, the patterned exposure to the dry film obtained, and the development. The color filter can be obtained by repeating the operation for the number of colors required for the color filter. The construction and manufacturing method of the color filter are well known in the art, and a detailed description thereof will be omitted.

컬러필터는 통상 블랙 매트릭스 및 적색, 녹색 및 청색의 3원색 화소를 기판상에 배치한 것이지만, 어느 색에 상당하는 착색 재료를 포함하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 상기의 조작을 행함으로써 그 색의 블랙 매트릭스 또는 화소를 얻고, 다른 색에 대해서도 목적하는 색에 상당하는 착색 재료를 포함하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 동일한 조작을 행하여 블랙 매트릭스 및 3원색 화소를 기판상에 배치할 수 있다. 물론, 블랙 매트릭스 및 3원색 중 어느 1색, 2색 또는 3색에만 본 발명의 감광성 수지 조성물을 적용할 수도 있다. The color filter is usually a black matrix and three primary color pixels of red, green and blue arranged on a substrate. However, by performing the above operation using the colored photosensitive resin composition of the present invention containing a coloring material corresponding to any color A black matrix or pixel of the color is obtained and the same operation is carried out by using the colored photosensitive resin composition of the present invention containing a coloring material corresponding to a target color for other colors to arrange the black matrix and the three primary color pixels on the substrate can do. Of course, the photosensitive resin composition of the present invention may be applied to only one color, two colors, or three colors of the black matrix and three primary colors.

또한, 차광층인 블랙 매트릭스는, 본 발명의 착색(흑색으로 착색됨) 감광성 수지를 사용할 수도 있으나, 예를 들면 크롬층 등으로 형성되어 있는 것도 있으므로 블랙 매트릭스의 형성에 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용할 필요는 없다. The black matrix, which is a light-shielding layer, may be a colored resin (colored in black) of the present invention, but may be formed of, for example, a chromium layer. Therefore, the colored photosensitive resin composition .

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터는 면내의 막 두께차가 적고, 예를 들면 1 내지 4㎛의 막 두께로 면내 막 두께차를 0.15㎛ 이하, 나아가 0.05㎛ 이하로 할 수 있다. 따라서, 이렇게 해서 얻어지는 컬러필터는 평활성이 우수하고, 이것을 컬러 액정표시장치에 조립함으로써 우수한 품질의 액정표시장치를 높은 수율로 제조할 수 있다. The color filter produced using the colored photosensitive resin composition of the present invention has a small difference in film thickness within the plane, and can have a thickness difference of 0.15 mu m or less, more preferably 0.05 mu m or less, for example, with a film thickness of 1 to 4 mu m . Therefore, the color filter thus obtained has excellent smoothness, and by incorporating it into a color liquid crystal display device, a liquid crystal display device of excellent quality can be manufactured with high yield.

본 발명은 전술한 컬러필터를 구비한 액정표시장치도 권리에 포함하고 있다. The present invention also includes a liquid crystal display device having the above-described color filter.

본 발명의 액정표시장치는 전술한 컬러필터를 구비한 것을 제외하고는 본 기술분야에서 알려진 구성을 포함한다. 즉, 본 발명의 컬러필터를 적용할 수 있는 액정표시장치는 모두 본 발명에 포함된다. 일례로, 박막트랜지스터(TFT소자), 화소전극 및 배향층을 구비한 대향전극기판을 소정의 간격으로 마주 향하게 하고, 이 간극부에 액정재료를 주입하여 액정층으로 한 투과형의 액정표시장치를 들 수 있다. 또한, 컬러필터의 기판과 착색층 사이에 반사층을 설치한 반사형의 액정표시장치도 있다. The liquid crystal display of the present invention includes a configuration known in the art except for the color filter described above. That is, all liquid crystal display devices to which the color filter of the present invention can be applied are included in the present invention. For example, a transmissive liquid crystal display device in which a counter electrode substrate having a thin film transistor (TFT element), a pixel electrode, and an alignment layer are faced at predetermined intervals and a liquid crystal material is injected into the gap portion to form a liquid crystal layer . There is also a reflective liquid crystal display device in which a reflective layer is provided between the substrate of the color filter and the colored layer.

또 다른 일례로, 컬러필터의 투명 전극 위에 합쳐진 TFT(박막 트랜지스터:Thin Film Transistor) 기판 및, TFT 기판이 컬러필터와 중첩하는 위치에 고정된 백라이트를 포함한 액정표시장치를 들 수 있다. 상기 TFT 기판은 컬러필터의 주변 표면을 둘러싸는 광방지 수지(light-proof resin)로 이루어진 외부 프레임,　외부 프레임 내에 부과된 네마틱 액정으로 이루어진 액정층, 액정층의 각 영역마다 제공된 다수의 화소 전극, 화소 전극이 형성된 투명 유리 기판, 및 투명 유리 기판의 노출된 표면 위에 형성된 편광판을 구비할 수 있다. As another example, a TFT (Thin Film Transistor) substrate integrated on a transparent electrode of a color filter and a liquid crystal display device including a backlight fixed at a position where the TFT substrate overlaps with a color filter can be given. The TFT substrate includes an outer frame made of a light-proof resin surrounding the peripheral surface of the color filter, a liquid crystal layer made of a nematic liquid crystal placed in the outer frame, a plurality of pixel electrodes , A transparent glass substrate on which pixel electrodes are formed, and a polarizing plate formed on the exposed surface of the transparent glass substrate.

편광판은 수직으로 가로지르는 편광 방향을 가지며, 폴리비닐알콜과 같은 유기 재료로 구성되어 있다. 다수의 화소 전극은 각각 TFT 기판의 유리 기판 위에 형성된 복수의 박막 트랜지스터와 연결되어 있다. 만일 특정의 화소 전극에 소정의 전위차가 적용되면, 소정의 전압이 특정 화소 전극과 투명 전극사이에 적용된다. 따라서, 전압에 따라 형성된 전기장이 액정층의 특정 화소 전극에 해당하는 영역의 배향을 변화시킨다. The polarizing plate has a polarization direction perpendicular to the polarizing direction and is made of an organic material such as polyvinyl alcohol. Each of the plurality of pixel electrodes is connected to a plurality of thin film transistors formed on a glass substrate of a TFT substrate. If a predetermined potential difference is applied to a specific pixel electrode, a predetermined voltage is applied between the specific pixel electrode and the transparent electrode. Accordingly, the electric field formed according to the voltage changes the orientation of the region corresponding to the specific pixel electrode of the liquid crystal layer.

본 발명에 따르면, 고농도의 착색 재료를 함유한 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 화소를 형성할 때 기판상에 현상 잔사가 발생하거나 화소부에 표면 불량 등이 발생하지 않고, 막 경도가 우수하며, 내열성, 내약품성의 문제를 해결하는 고감도의 착색 감광성 수지 조성물을 제공하므로 고품질의 컬러필터를 제공할 수 있다. According to the present invention, when a pixel is formed using a colored photosensitive resin composition containing a high-concentration coloring material, development residue is generated on the substrate, no surface defect occurs in the pixel portion, Sensitive color resin composition that solves the problem of chemical resistance, it is possible to provide a high-quality color filter.

이하와 같이, 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명하지만, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로써, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 표시되었고, 더욱이 특허청구범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 함유하고 있 다. 또한, 이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the embodiments of the present invention described below are illustrative only and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The scope of the invention is indicated by the appended claims and still includes all changes within the meaning and range of equivalency of the claims appended hereto. In the following Examples and Comparative Examples, "%" and "part" representing the content are on a mass basis unless otherwise specified.

<수지 A의 합성>　　　　　　　 &Lt; Synthesis of Resin A &

　　　　　　　　교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로트로서, 이소보닐메타크릴레이트 15부, 시클로헥실메타크릴레이트 35부, 메타크릴산 50부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 2부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 20부를 투입후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 15부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 200부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃ 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 25부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.2부, 트리에틸아민 0.4부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 85㎎KOH/g인 수지A를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 27,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was provided with 15 parts of isobornyl methacrylate, 35 parts of cyclohexyl methacrylate, 50 parts of methacrylic acid, 2 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 20 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were charged and stirred to prepare a six-part n-dodecanethiol and PGMEA 15 And the mixture was stirred and mixed. Then, 200 parts of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The mixture was heated at 110 ° C. for 1 h and maintained at 90 ° C. for 1 h. The temperature was raised to 110 ° C. for 3 h. Then, a gas introduction tube was introduced to bubbling oxygen / nitrogen gas with 5/95 (v / v) . Subsequently, 25 parts of glycidyl methacrylate, 0.2 part of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.4 part of triethylamine were charged into the flask and the reaction was continued at 110 ° C for 8 hours To obtain a resin A having a solid acid value of 85 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 27,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

<수지 B의 합성>　　　　　　　 &Lt; Synthesis of Resin B >

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로트로서, 이소보닐메타크릴레이트 15부, 시클로헥실메타크릴레이트 20부, 벤질메타크릴레이트 20부, 메타크릴산 45부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 2부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 20부를 투입후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 15부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 200부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃ 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 20부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.2부, 트리에틸아민 0.4부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 78㎎KOH/g인 수지B를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 26,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.4이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and 15 parts of isobonyl methacrylate, 20 parts of cyclohexyl methacrylate, 20 parts of benzyl methacrylate , 45 parts of methacrylic acid, 2 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 20 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were charged and stirred to prepare a n-dodecene 6 parts of a cyanthiol and 15 parts of PGMEA were added and stirred and mixed. Then, 200 parts of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The mixture was heated at 110 ° C. for 1 h and maintained at 90 ° C. for 1 h. The temperature was raised to 110 ° C. for 3 h. Then, a gas introduction tube was introduced to bubbling oxygen / nitrogen gas with 5/95 (v / v) . Subsequently, 20 parts of glycidyl methacrylate, 0.2 part of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.4 part of triethylamine were put into a flask and the reaction was continued at 110 ° C for 8 hours To obtain a resin B having a solid acid value of 78 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 26,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.4.

<수지 C의 합성>　　　　　　　 &Lt; Synthesis of resin C >

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로트로서, 이소보닐메타크릴레이트 25부, 시클로헥실메타크릴레이트 30부, 메타크릴산 45부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 2 부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 20부를 투입후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 15부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 200부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃ 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 20부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.2부, 트리에틸아민 0.4부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 77㎎KOH/g인 수지C를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 26,600이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and as a monomer dropping funnel, 25 parts of isobornyl methacrylate, 30 parts of cyclohexyl methacrylate, 45 parts of methacrylic acid, 2 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 20 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were charged and stirred to prepare a six-part n-dodecanethiol and PGMEA 15 And the mixture was stirred and mixed. Then, 200 parts of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The mixture was heated at 110 ° C. for 1 h and maintained at 90 ° C. for 1 h. The temperature was raised to 110 ° C. for 3 h. Then, a gas introduction tube was introduced to bubbling oxygen / nitrogen gas with 5/95 (v / v) . Subsequently, 20 parts of glycidyl methacrylate, 0.2 part of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.4 part of triethylamine were put into a flask and the reaction was continued at 110 ° C for 8 hours To obtain a resin C having a solid acid value of 77 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 26,600 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

<수지 D의 합성>　　　　　　　 &Lt; Synthesis of Resin D >

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로트로서, 이소보닐메타크릴레이트 40부, 시클로헥실메타크릴레이트 35부, 메타크릴산 25부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 2부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 20부를 투입후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 15부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 200부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어 서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃ 승온하여 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 70㎎KOH/g인 수지D를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 24,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.5이었다.A stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a flask equipped with a nitrogen inlet tube were provided with 40 parts of isobonyl methacrylate, 35 parts of cyclohexyl methacrylate, 25 parts of methacrylic acid, 2 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 20 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were charged and stirred to prepare a six-part n-dodecanethiol and PGMEA 15 And the mixture was stirred and mixed. Then, 200 parts of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The reaction was continued for 2 hours while keeping the temperature at 90 占 폚, the temperature was raised by 110 占 폚 after 1 hour, and the reaction was continued for 8 hours to obtain a resin D having a solid acid value of 70 mgKOH / g. The weight average molecular weight measured by GPC in terms of polystyrene was 24,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.5.

상기의 결합제 중합체의 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 측정에 대해서는 GPC법을 이용하여 이하의 조건으로 행하였다. The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the binder polymer were measured by the GPC method under the following conditions.

장치 : HLC-8120GPC(도소㈜ 제조) Apparatus: HLC-8120GPC (manufactured by TOSOH CORPORATION)

칼럼 : TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL(직렬 접속) Column: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL (Serial connection)

칼럼 온도 : 40℃ Column temperature: 40 DEG C

이동상 용매 : 테트라히드로퓨란 Mobile phase solvent: tetrahydrofuran

유속 : 1.0㎖/분 Flow rate: 1.0 ml / min

주입량 : 50㎕ Injection amount: 50 μl

검출기 : RI Detector: RI

측정 시료 농도 : 0.6 질량%(용매 = 테트라히드로퓨란) Measurement sample concentration: 0.6 mass% (solvent = tetrahydrofuran)

교정용 표준 물질 : TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소㈜ 제조) Standard materials for calibration: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by TOSOH CORPORATION)

상기에서 얻어진 중량평균분자량 및 수평균분자량의 비를 분자량 분포 (Mw/Mn)로 하였다. The ratio of the weight average molecular weight to the number average molecular weight obtained above was defined as a molecular weight distribution (Mw / Mn).

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

하기 표 1 에 기재된 각 성분 중, 미리 착색 재료(D)인 안료 및 첨가제(F)인 안료 분산제의 합계량이 안료, 안료 분산제 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 혼합물에 대하여 20질량%가 되도록 혼합하고 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 후 비드 밀을 분리하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 잔량을 포함하는 나머지 성분을 더 첨가하여 혼합함으로써 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다. (D) and the pigment dispersant (F) were mixed so as to be 20 mass% with respect to the mixture of the pigment, the pigment dispersant and the propylene glycol monomethyl ether acetate among the components described in Table 1 below After sufficiently dispersing the pigment using a bead mill, the bead mill was separated, and the remaining components including the remaining amount of propylene glycol monomethyl ether acetate were further added and mixed to obtain a colored photosensitive resin composition.

그 후, 2평방인치의 유리 기판(코닝사 제조, #1737)을 중성 세제, 물 및 알코올로 차례로 세정하고 나서 건조하였다. 이 유리 기판상에 상기의 착색 감광성 수지 조성물(표 1)을 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 노광하여 현상 공정을 생략했을 때의 후 소성 후의 막 두께가 2.0㎛가 되도록 스핀 코팅하고, 이어서 크린 오븐 중, 100℃에서 3분간 예비 건조하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 기판과 석영 유리제 포토마스크(투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1㎛에서 50㎛까지의 라인/스페이스 패턴을 가짐)의 간격을 100㎛로 하고, 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 광조사하였다. 그 후, 비 이온계 계면 활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.06%를 포함하는 수계 현상액에 상기 도막을 26℃에서 소정 시간 담가두어 현상한 뒤, 수세 후 220℃에서 30분간 건조하였다. 얻어진 화소부에서는 표면 불량을 발견할 수 없었다. 또한, 연필경도, 내약품성, 내열성이 우수하였고, 현상하여도 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량은 30mJ/㎠이었다.Thereafter, a 2-inch square glass substrate (# 1737, manufactured by Corning Incorporated) was washed with a neutral detergent, water and alcohol, and then dried. The above-mentioned colored photosensitive resin composition (Table 1) was exposed on this glass substrate at an exposure amount (365 nm) of 100 mJ / cm 2 and spin-coated so as to have a thickness of 2.0 탆 after the post-baking when the developing step was omitted, And pre-dried in a clean oven at 100 DEG C for 3 minutes. After cooling, the substrate coated with this colored photosensitive resin composition and the spacing of a quartz glass photomask (having a pattern for changing the transmittance in a stepwise manner in the range of 1 to 100% and a line / space pattern of 1 to 50 m) Was irradiated with light at an exposure dose (365 nm) of 100 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp (trade name: USH-250D) manufactured by Ushio DENKI CO., LTD. Thereafter, the coating film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.06% of potassium hydroxide at 26 DEG C for a predetermined time, developed, washed with water and dried at 220 DEG C for 30 minutes. No surface defects were found in the obtained pixel portion. In addition, pencil hardness, chemical resistance and heat resistance were excellent, and the minimum required exposure dose required to form a pattern without surface roughness was 30 mJ / cm < 2 >

[표 1][Table 1]

　착색재료(D)The coloring material (D) 　C.I. 피그먼트 레드 254C.I. Pigment Red 254 7.41부7.41 part 　C.I. 피그먼트 옐로우 150C.I. Pigment Yellow 150 0.53부0.53 part 결합제 수지(A)The binder resin (A) 　수지 A(고형분 계산)Resin A (solids content calculation) 6.59부6.59 part 광중합성 화합물(B)　The photopolymerizable compound (B) 　디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트
　(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)Dipentaerythritol hexaacrylate
(KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.71부5.71 part 광중합 개시제(C)The photopolymerization initiator (C) 　2-벤질-2-디메틸아미노-1(4-모르폴리노페닐)부타논
　(Irgacure 369; Ciba Specialty Chemical 사 제조)2-benzyl-2-dimethylamino-1 (4-morpholinophenyl) butanone
(Irgacure 369, manufactured by Ciba Specialty Chemical) 1.46부1.46 part 　4,4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논
　(EAB-F; 호도가야 카가꾸 ㈜ 제조)4,4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone
(EAB-F, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.49부0.49 part 용제(E)Solvent (E) 　프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트Propylene glycol monomethyl ether acetate 76.00부76.00 part 첨가제(F)Additive (F) 　안료 분산제(폴리에스테르계)Pigment dispersant (polyester type) 1.20부1.20 part 　에폭시 수지(SUMI-EPOXY ESCN-195XL; 스미또모 카가꾸 고교 ㈜ 제조)Epoxy resin (SUMI-EPOXY ESCN-195XL; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 0.51부0.51 part 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 0.10부0.10 part

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

실시예 1에서 수지 A를 수지 B로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The same operation as in Example 1 was carried out except that Resin A was changed to Resin B in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2 below.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

실시예 1의 수지 A를 수지 C로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 하기 표 2 에 나타내었다. The same operation as in Example 1 was carried out except that the resin A of Example 1 was changed to the resin C. [ The evaluation results are shown in Table 2 below.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

실시예 1의 수지 A를 수지 D로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 하기 표 2 에 나타내었다. The same operation as in Example 1 was carried out except that the resin A in Example 1 was changed to the resin D. [ The evaluation results are shown in Table 2 below.

[표 2][Table 2]

실시예1Example 1 실시예2Example 2 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 감도*1(mJ/cm²)Sensitivity * 1 (mJ / cm ² ) 2525 3030 4040 100100 현상 후 잔사*2Residue after development * 2 ○○ ○○ ×× ×× 표면 형상*3Surface shape * 3 ○○ ○○ ×× ×× 연필경도*4Pencil Hardness * 4 5H5H 5H5H 5H5H 4H4H 내약품성*5Chemical resistance * 5 ○○ ○○ ○○ ×× 내열성*6Heat resistance * 6 ○○ ○○ ○○ ○○

* 1 : 현상하여도 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량을 나타낸다. * 1: represents the minimum necessary exposure amount necessary to form a pattern having no surface roughness even when developed.

* 2 : ○ : 기판상 현상 잔사 없음, X : 기판상 현상 잔사 있음* 2: O: no development residue on the substrate, X: development residue on the substrate

* 3 : 230℃에서 20분 후 건조 후 화소 표면의 형상을 SEM(10,000 배율)을 이용하여 관찰하였다.* 3: After drying for 20 minutes at 230 ° C, the shape of the pixel surface was observed using SEM (10,000 magnification).

○ : 표면양호, X : 표면불량(표면에 홀(Hole) 및 엠보싱 현상 발생) ○: Good surface, X: Surface defect (Hole and embossing phenomenon on the surface)

* 4 : 포토마스크를 사용하지 않은 것 이외에는 실험예와 같이하여 경화 도막을 제조하였다. 연필 경도의 측정은 JIS K5600-5-4에 따른다.* 4: A cured coating film was prepared in the same manner as in Experimental Example except that a photomask was not used. The measurement of pencil hardness is in accordance with JIS K5600-5-4.

* 5 : 내약품성은 NMP 하에서 23℃/40분 동안 침전전후의 색 변화값(△Eab) 측정으로 평가한다.* 5: Chemical resistance is evaluated by measuring the color change value (ΔEab) before and after precipitation at 23 ° C./40 minutes under NMP.

△Eab는 CIE 1976(L*, a*, b*) 공간 표색계에 의한 아래의 채도공식에 의해 요구되는 값이다(일본 색채학회편, 신편 색채 과학핸드북(쇼와60년)p.266). △Eab={(△L)2+(△a)2+(△b)2}1/2△ Eab is a value required by the following saturation formula by the CIE 1976 (L *, a *, b *) spatial colorimetric system (Japanese Society of Color Science, New Color Science Handbook (1986) p.266). ? Eab = {(? L) 2+ (? A) 2+ (? B) 2} 1/2

○ : △Eab = 2 미만, X : △Eab = 2 초과 ?: Less than? Eab = 2, X: exceeding Eab = 2

* 6 : 내열성은 상기 표 1, 조성중 착색재료(D)를 C.I. 피그먼트 블루 15:6(7.41부)/C.I. 바이올렛 23(0.80부)로 변경 후 평가 진행하였다.* 6: Heat resistance was evaluated in the same manner as in Table 1, except that the coloring material (D) in the composition was changed to C.I. Pigment Blue 15: 6 (7.41 parts) / CI. Violet 23 (0.80 parts), and the evaluation was proceeded.

평가는 230℃ 하에서 120분 동안 가열후의 색 변화값(△Eab) 측정으로 평가한다. The evaluation is evaluated by measuring the color change value (DELTA Eab) after heating at 230 DEG C for 120 minutes.

상기 표 2로부터 본 발명의 결합제 수지를 포함하는 실시예 1, 2의 착색 감광성 수지 조성물은 고감도로 현상 후 표면불량이 없으며 막 경도, 내약품성, 내열성 문제를 해결할 수 있는 컬러필터가 얻어진다는 것을 알 수 있었다.From Table 2, it can be seen from Table 2 that the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 and 2 containing the binder resin of the present invention had a color filter capable of solving the problems of film hardness, chemical resistance and heat resistance, I could.

이에 반해 비교예 1의 착색 감광성 수지 조성물은 현상 후 잔사 및 표면불량이 발생하였고, 비교예 2의 착색 감광성 수지 조성물 또한 감도, 막 경도, 내약품성이 부족하여 고품질의 컬러필터를 얻을 수 없었다.On the other hand, the colored photosensitive resin composition of Comparative Example 1 caused residue and surface defects after development, and the colored photosensitive resin composition of Comparative Example 2 also lacked in sensitivity, film hardness, and chemical resistance, and a high quality color filter could not be obtained.

Claims

(A3): 불포화 카르복실산(A3): unsaturated carboxylic acid

상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 (A1), (A2) 및 (A3)의 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율은, The proportion of the constituent components derived from each of (A1), (A2) and (A3) to the total molar number of the constituent components of the binder resin (A)

(A1)으로부터 유도되는 구성 단위는 2 내지 19몰%이고, (A1) is from 2 to 19% by mole,

(A2)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이며, (A2) is from 5 to 80% by mole,

(A3)로부터 유도되는 구성 단위는 5 내지 80몰%이고,(A3) is from 5 to 80% by mole,

(A4)로부터 유도되는 구성 성분의 비율은 상기 (A3)로부터 유도되는 구성 성분의 몰수에 대하여 5 내지 60몰%이고, (A4) is from 5 to 60 mol% based on the number of moles of the component derived from the above (A3)

상기 (A2) 화합물은 시클로헥실(메타)아크릴레이트이고, The compound (A2) is cyclohexyl (meth) acrylate,

상기 결합제 수지(A)의 단량체에 있어서, 상기 (A1)과 (A2)의 합계가 전체 단량체 성분(100질량부) 중 30 내지 50질량부인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.Wherein the total amount of (A1) and (A2) in the monomer of the binder resin (A) is 30 to 50 parts by mass of the total monomer component (100 parts by mass).

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제1항에 있어서, 상기 결합제 수지(A)의 구성 성분의 합계 몰수에 대한 상기 (A1)과 (A2) 각각으로부터 유도되는 구성 성분 비율의 합은 30 내지 60몰%인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물. The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the sum of the proportions of constituent components derived from each of (A1) and (A2) to the total number of moles of the constituent components of the binder resin (A) is 30 to 60 mol% Resin composition.

기판 상부에 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 컬러필터에 있어서,A color filter comprising a color layer formed by applying a colored photosensitive resin composition on a substrate and exposing and developing in a predetermined pattern,

상기 착색 감광성 수지 조성물은 제1항 또는 제3항의 착색 감광성 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 컬러필터.Wherein the colored photosensitive resin composition is the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 3.

제4항의 컬러필터를 구비한 액정표시장치.A liquid crystal display device comprising the color filter of claim 4.