KR20130026883A - 전자 장치 및 그 외부 심볼 제작 방법 - Google Patents

전자 장치 및 그 외부 심볼 제작 방법 Download PDF

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Abstract

전자 장치 외부의 심볼 제작 방법이 개시된다. 심볼 제작 방법은, 지지층을 마련하는 단계 및 지지층 상에 기설정된 심볼에 해당하는 제1 나노 격자 영역 및 기설정된 심볼의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역을 포함하는 나노 격자층을 마련하는 단계를 포함하며, 제1 나노 격자 영역 및 제2 나노 격자 영역은 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물을 포함한다.

Description

전자 장치 및 그 외부 심볼 제작 방법 { Electronic device and manufacturing method for external symbol thereof }
본 발명은 전자 장치 및 그 외부 심볼 제작 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메타 물질(Metamaterial)을 이용하는 전자 장치 및 그 외부 심볼 제작 방법에 관한 것이다.
종래에는 전자 장치의 외부 도안 또는 마크를 제작함에 있어서, 유기 염료를 이용하였다.
하지만, 유기 염료를 이용하여 도안 또는 마크를 제작하는 경우 다양한 Color(white외 Blue, Yellow 등) 표현이 어렵다는 문제점이 있었다.
또한, 글자별 다른 컬러 표현이 어렵고, 그라데이션(Gradation) 과 같은 특수 기법 표현이 불가능하다는 문제점이 있었다.
이에 따라 전자 장치의 외부 도안 또는 마크를 제작함에 있어서, 새로운 제작 방식이 요구된다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 표면 플라즈마 공명 현상에 의해 컬러를 나타내는 메타 물질을 이용하는 전자 장치 및 그 외부 심볼 제작 방법에 관한 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시 예에 따른 전자 장치 외부의 심볼 제작 방법에 있어서, 지지층을 마련하는 단계 및, 상기 지지층 상에 기설정된 심볼에 해당하는 제1 나노 격자 영역 및 상기 기설정된 심볼의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역을 포함하는 나노 격자층을 마련하는 단계를 포함하며, 상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물을 포함한다.
여기서, 상기 제1 나노 격자 영역은, 제1 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고, 상기 제2 나노 격자 영역은, 상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 나노 격자 영역은, 제1 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고, 상기 제2 나노 격자 영역은, 상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은, 상기 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물에 의한 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonanace) 현상을 이용하여 서로 상이한 컬러를 나타낼 `수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 외부에 제작된 심볼을 포함하는 전자 장치는, 지지층 및 상기 지지층 상에 형성된, 기설정된 심볼에 해당하는 제1 나노 격자 영역 및 상기 기설정된 심볼의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역을 포함하는 나노 격자층을 포함하며, 상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물을 포함한다.
여기서, 상기 제1 나노 격자 영역은, 제1 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고, 상기 제2 나노 격자 영역은, 상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함할 수 있다.
또는, 상기 제1 나노 격자 영역은, 제1 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고, 상기 제2 나노 격자 영역은, 상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은, 상기 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물에 의한 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonanace) 현상을 이용하여 서로 상이한 컬러를 나타낼 수 있다.
이에 따라 특수 인쇄 등의 방법을 사용하지 않고, 영구적인 컬러를 나타내는 심볼(도안 또는 마크)를 제작할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 전자 장치 외부의 심볼 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 나노 격자층의 구성을 설명하기 위한 도면들이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 심볼의 제작 형태를 설명하기 위한 도면이다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 일 실시 예에 따른 심볼의 제작 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 전자 장치의 외부 심볼 제작 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 전자 장치 외부의 심볼 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 심볼 제작 방법은 전자 장치(100) 외부의 심볼(10) 제작에 적용될 수 있다.
여기서, 전자 장치(100)는 도 1에서는 TV로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 모니터, 냉장고와 같은 가전 제품, 휴대 전화기, PMP, 넷북, 노트북, E-Book 단말기 등과 같은 휴대용 단말기, 전시 및 광고용 디스플레이장치 등이 될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것이 아니며, 본 발명에 따른 전자 장치에는 마크 또는 도안이 적용될 수 있는 다양한 기기가 포함될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 심볼 제작 방법은 금속 내 자유전자가 집단적으로 진동하는 플라즈몬에 의한 현상을 이용하는 것으로, 금속이 나노 크기가 되면 자유전자의 진동에 의하여 금속 표면에서 플라즈몬 공명 특성이 나타난다. 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonance)은 금속박막 표면에서 일어나는 전자들의 집단적 진동(collective charge density oscillation)이며 이에 의하여 발생하는 표면 플라즈몬파(surface plasmon wave)는 금속과 이에 인접한 유전 물질의 경계면을 따라 진행하는 표면 전자기파이다. 금속과 유전체의 경계면을 따라 진행하는 표면전자기파의 일종인 표면 플라즈몬파는 금속 표면에 입사된 특정 파장의 빛이 전반사되지 않고 표면파가 발생할 때 생기는 파에 해당한다.
이러한 표면 플라즈몬 공명 현상이 나타나는 금속은 gold, silver, copper, aluminium 등과 같은 외부 자극에 의해 전자의 방출이 쉽고 음의 유전상수를 갖는 금속들이 주로 사용될 수 있다.
본 발명에서는 이러한 표면 플라즈몬 공명 현상을 이용하여 전자 장치 외부에 제작되는 심볼에 다양한 컬러를 나타낼 수 있다. 여기서, 심볼은 텍스트, 도안 또는 마크 등을 포함할 수 있다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다양한 실시 예에 따른 나노 격자층의 구성을 설명하기 위한 도면들이다.
도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이 나노 격자 영역을 구성하는 3차원 나노 구조물의 피치를 다르게 구성하는 경우 각 나노 격자 영역이 표면 플라즈몬 공명 현상에 의해 서로 다른 컬러를 나타낼 수 있다.
도 2a에 도시된 바와 같이 본 발명에 일 실시 예에 따른 나노 격자층(120)은 지지층(110) 상에 형성된 특정 방향으로 배열되어 있는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물이 될 수 있다.
구체적으로, 나노 격자층(120)을 구성하는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물은 일정한 높이(H) 및 폭(W)을 가지고 주기적으로 배열될 수 있다. 슬릿 형상의 나노 구조물의 주기 즉, 피치(pitch)는 출사하고자 하는 빛의 컬러에 따라 상이하게 조절될 수 있다.
또는, 도 2b에 도시된 바와 같이 본 발명의 다른 실시 예에 따른 나노 격자층(120')은 지지층(110) 상에 형성된 특정 방향으로 배열되어 막대 형상의 3차원 나노 구조물이 될 수 있다.
구체적으로, 나노 격자층(120')을 구성하는 막대 형상의 3차원 나노 구조물은 일정한 높이(H) 및 폭(W)을 가지고 주기적으로 배열될 수 있다. 마찬가지로, 막대 형상의 3차원 나노 구조물의 주기 즉, 피치(pitch)는 출사하고자 하는 빛의 컬러에 따라 상이하게 조절될 수 있다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 심볼의 제작 형태를 설명하기 위한 도면이다.
도 3a에 도시된 바와 같이 전자 장치에 "SAMSUNG"이라는 마크를 제작하고자 하는 경우를 예를 들어 설명하도록 한다.
"SAMSUNG"이라는 마크에서 "M"을 제작하고자 하는 경우에 대해 설명하면, 해당 문자 M이 내부에 해당하는 제1 나노 격자 영역은 3차원 나노 구조물이 제1 피치를 갖도록 제작하고, M의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역은 3차원 나노 구조물이 제1 피치와 상이한 제2 피치를 갖도록 제작할 수 있다.
도 3b는 도 3a에 도시된 구성을 3차원 적으로 도시한 도면이다.
도 3b에 따르면, 지지층(110) 상에 도안 또는 마크를 나타내기 위한 나노 격자층(120)이 형성되고, 나노 격자층(120)은 기설정된 도안 또는 마크에 해당하는 제1 나노 격자 영역(121) 및 기설정된 도안 또는 마크의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역(122)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 나노 격자 영역 및 제2 나노 격자 영역은 서로 상이한 피치(pitch)를 갖을 수 있으며, Al, Ag 등과 같은 금속으로 제작될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
구체적으로, 기설정된 도안 또는 마크에 해당하는 "M" 내부 영역(121)은 기설정된 도안 또는 마크의 외부 영역에 해당하는 "M" 외부 영역(122)과 상이한 주기로 배열된 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하도록 제작될 수 있다. 이에 따라 서로 상이한 피치를 갖는 "M" 내부 영역과 "M" 외부 영역은 표면 플라즈마 공명 특성에 따라 각 피치에 대응되는 서로 상이한 컬러를 나타낼 수 있게 된다.
구체적으로, 제1 나노 격자 영역(121) 및 제2 나노 격자 영역(122)은 입사되는 광이 서로 상이한 컬러의 빛으로 출사되도록 서로 상이한 피치(pitch)로 배열될 수 있다. 예를 들어, 제1 나노 격자 영역(121)은 310nm의 피치로 배열되고, 제2 나노 격자 영역(122)은 220nm의 피치로 배열될 수 있다.
또한, 제1 나노 격자 영역(121)은 제2 나노 격자 영역(122)보다 큰 값의 피치(pitch)로 배열되거나, 작은 값의 피치로 배열될 수 있다.
여기서, 제1 나노 격자 영역(121) 및 제2 나노 격자 영역(122)은 상술한 바와 같이 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonanace) 현상을 이용하여 서로 상이한 컬러를 나타낼 수 있게 된다.
한편, 상술한 실시 예에서는, 제1 나노 격자 영역(121)이 제1 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고, 제2 나노 격자 영역(122)은, 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하는 것으로 설명하였지만, 3차원 나노 구조물의 형상은 이에 한정되는 것은 아니다.
즉, 3차원 나노 구조물은 슬릿 형상이 아닌 막대 형상을 갖도록 제작될 수 있으며, 이 경우에도 기설정된 도안 또는 마크의 외부 영역에 해당하는 제1 나노 격자 영역(121) 및 기설정된 도안 또는 마크의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역(122)은 서로 상이한 피치로 배열될 수 있다.
한편, 도안에 따라 나고 격자층의 주기를 변동시켜주면, 반사형 컬러 도안을 만들 수 있게 된다.
도 4a 내지 4d는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 나노 격자층의 제조 과정에 따른 단면도이다.
도 4a에 도시된 바와 같이 지지층(110) 상에 나노 격자 층(120)을 형성하기 위하여, 우선 지지층(110) 상에 나노 격자 층(120)을 적층한다. 이 경우, 스퍼터링 방식을 이용할 수 있다.
도 6b는 나노 격자층(120)을 3차원 나노 구조 형태로 식각하기 위해 패턴이 형성된 마스크를 입힌 상태의 단면도이다.
이하에서는, 나노 격자층(120)을 에칭하여 3차원 나노 구조물을 형성하기 위한 식각 공정에 대해 설명하도록 한다.
식각공정은 그 방식에 따라 크게 습식 에칭(wet etching)과 건식 에칭(dry etching)으로 구분하는데, 습식 에칭이라 함은 금속 등과 반응하여 부식시키는 산(acid) 계열의 화학 약품을 이용하여 노출되어 있는(PR pattern이 없는) 부분을 녹여 내는 것을 말하며, 건식 에칭이라 함은 이온(ion)을 가속시켜 노출부위의 물질을 떼어냄으로서 패턴을 형성하는 것을 말한다.
또한 각각의 식각 방식은 선택적(selective) 에칭과 비선택적(nonselective) 에칭으로 나뉘는데 선택적 에칭이라 함은 여러 레이어(layer) 중에서 다른 레이어에는 영향을 주지 않고 표면의 레이어에만 반응을 하여 식각하는 것을, 비선택적 에칭은 기타 다른 레이어와도 반응하여 여러 레이어를 동시에 식각하는 것을 말한다.
습식 에칭에서의 선택적 에칭은 특정 물질에만 반응하도록 몇몇 화학약품을 조합하여 식각액(etchant)를 만들어 사용함으로서 가능하며 건식 에칭의 경우 특정 물질에만 반응하는 반응성 가스를 주입함으로서 가능해 진다. 특히 건식 에칭의 경우 이온 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)나 스퍼터링(sputtering)과 같이 카그네트론(magnetron)을 이용하는 스퍼터링 에칭(sputtering etching)이 비선택적 에칭이며, 이온 가속에 반응성 가스(reactive gas)를 사용하는 RIE(reactive ion etching)는 선택적 에칭이다.
본 발명에 따른 나노 격자층(120) 식각의 경우는 습식 에칭과 건식 에칭이 모두 이용될 수 있으며, 그 중 선택적 에칭이 이용될 수 있다.
이하에서는, 에칭에 이용되는 마스크 패턴을 형성하는 방법에 대해 간략히 설명하도록 한다.
마스크(미도시)의 패턴은 리소그래피 공정으로 형성될 수 있다.
리소그래피(lithography)는 마스크를 통과한 광자(photon)나 전자, 이온 등을 사용하여 마스크를 변경시키고, 변성된 부분을 화학처리하여 원하는 패턴을 만들어 내는 과정을 말한다. 리소그래피 과정은 크게 3단계로 나눌 수 있다. 우선, 패턴을 형성하고자 하는 재료에 감광성 고분자 물질(resist)를 일정한 두께로 고르게 도포한다. 이후, 원하는 패턴이 새겨져 있는 마스크를 통과한 광자나 전자, 이온 등을 감광막에 조사하여 준다. 변성된 감광막에 적절한 화학처리(developing)하여 패턴으로 만들어 낸다.
경우에 따라서는, 리소그래피와 가공을 여러 번 반복함으로써 보다 복잡하고 세밀한 형상을 만들어 낼 수 있다.
도 4b에 도시된 바와 같이 최종적으로, 패턴이 형성된 마스크(10)를 이용하여 나노 격자층(120)를 식각한다. 여기서, 식각 방법으로는 상술한 건식 에칭 또는 습식 에칭이 이용될 수 있다.
이어서, 도 4c에 도시된 바와 같이 식각된 나노 격자층(120) 상에 남아 있는 마스크(10)를 제거한다. 여기서, 마스크 제거액으로는 알코올(alcohol)류, 글리콜(glycol)류, 에테르(ether)류, 에스테르(ester)류 및 케톤(Ketone)류 등의 유기용매가 이용될 수 있다.
도 4a 내지 도 4c에 도시된 방법으로, 도 4d에 도시된 바와 같이 3차원 나노 구조로 식각된 형태의 나노 격자층(120)를 제작할 수 있게 된다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 전자 장치의 외곽 도안 또는 마크 제작 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 5에 도시된 본 발명의 일 실시 예에 따른 전자 장치의 외부 심볼 제작 방법에 따르면, 우선 지지층을 마련한다(S510).
이어서, 지지층 상에 기설정된 심볼에 해당하는 제1 나노 격자 영역 및 기설정된 도안 또는 마크의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역을 포함하는 나노 격자층을 마련한다. 여기서, 제1 나노 격자 영역 및 제2 나노 격자 영역은 서로 상이한 피치(pitch)를 갖도록 배열되는 3차원 나노 구조물을 포함할 수 있다.
구체적으로, 제1 나노 격자 영역 및 제2 나노 격자 영역은 입사되는 광이 서로 상이한 컬러의 빛으로 출사되도록 서로 상이한 피치(pitch)로 배열될 수 있다.
즉, 제1 나노 격자 영역은 제2 나노 격자 영역보다 큰 값 또는 작은 값의 피치(pitch)로 배열될 수 있다.
여기서, 제1 나노 격자 영역은, 제1 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고, 제2 나노 격자 영역은, 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함할 수 있다.
또는, 제1 나노 격자 영역은, 제1 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고, 제2 나노 격자 영역은, 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함할 수 있다.
여기서, 나노 격자층은, 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonanace) 현상을 이용할 수 있다. 즉, 나노 격자층으로 가시~ 근적외선 빛이 입사되면, 이 빛의 전기장과 플라즈몬이 짝지어지면서 공명 현상이 발생하게 된다.
구체적으로, 나노 격자층에서 특정 파장을 제외한 광 흡수가 일어나, 선명한 컬러를 나타내게 된다. 이 때, 국소적으로 매우 증가된 전기장이 발생되며, 빛 에너지가 플라즈몬으로 변환되어 금속의 나노입자 표면에 축적되게 된다. 이에 따라 기존의 유기 염료를 대체할 수 있게 된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 특수 인쇄나 다양한 컬러 인쇄를 사용하지 않고, 글자, 그림 또는 컬러를 TV를 비롯한 가전제품 및 IT 기기의 외곽 도안 또는 마크를 제작하는데 이용할 수 있게 된다.
또한, 이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 이해되어져서는 안 될 것이다.
110: 지지층 120, 120': 나노 격자층

Claims (8)

  1. 전자 장치 외부의 심볼 제작 방법에 있어서,
    지지층을 마련하는 단계; 및
    상기 지지층 상에 기설정된 심볼에 해당하는 제1 나노 격자 영역 및 상기 기설정된 심볼의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역을 포함하는 나노 격자층을 마련하는 단계;를 포함하며,
    상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 심볼 제작 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 나노 격자 영역은,
    제1 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고,
    상기 제2 나노 격자 영역은,
    상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 심볼 제작 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 나노 격자 영역은,
    제1 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고,
    상기 제2 나노 격자 영역은,
    상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 심볼 제작 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은,
    상기 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물에 의한 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonanace) 현상을 이용하여 서로 상이한 컬러를 나타내는 것을 특징으로 하는 심볼 제작 방법.
  5. 외부에 제작된 심볼을 포함하는 전자 장치에 있어서,
    지지층; 및
    상기 지지층 상에 형성된, 기설정된 심볼에 해당하는 제1 나노 격자 영역 및 상기 기설정된 심볼의 외부 영역에 해당하는 제2 나노 격자 영역을 포함하는 나노 격자층;을 포함하며,
    상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 나노 격자 영역은,
    제1 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고,
    상기 제2 나노 격자 영역은,
    상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 슬릿 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 나노 격자 영역은,
    제1 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하고,
    상기 제2 나노 격자 영역은,
    상기 제1 피치와 상이한 제2 피치로 배열되는 막대 형상의 3차원 나노 구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제1 나노 격자 영역 및 상기 제2 나노 격자 영역은,
    상기 서로 상이한 피치(pitch)로 배열되는 3차원 나노 구조물에 의한 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonanace) 현상을 이용하여 서로 상이한 컬러를 나타내는 것을 특징으로 하는 전자 장치.
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